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公報発行日 2020年12月9
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【図1】例示的な実施形態による集積回路製造システムのブロック図である。
【図2】一例によるマイクロレンズウェハの断面図である。
【図3】一例による光検出器ウェハにボンディングされるマイクロレンズウェハの断面図である。
【図4】一例による基板が除去された光検出器ウェハにボンディングされるマイクロレンズウェハの断面図である。
【図5】一例による光検出器を伴う光検出器ウェハにボンディングされるマイクロレンズウェハの断面図である。
【図6】一例による読み出し集積回路ウェハにボンディングされる光検出器ウェハの断面図である。
【図7】例示的な実施形態による光検出器の断面図である。
【図8】例示的な実施形態による光学ウェハの平面図である。
【図9】例示的な実施形態によるセンサチップ組立体を製造するための高レベル処理のフローチャートである。
【図10】例示的な実施形態によるセンサチップ組立体を製造するための処理のフローチャートである。
【図11】例示的な実施形態による、光検出器ウェハ上に光検出器を形成する処理のフローチャートである。
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