【図1A】例示的なターゲットに変換されるターゲット材料の小滴を示す。

【図1B】図１Ａのターゲットを生成する例示的な波形のプロットである。

【図1C】ターゲット材料に衝突する２つの放射パルスの側面図を示す。

【図1D】ＥＵＶ光源の例示的な波形のプロットである。

【図2A】レーザ生成プラズマ極端紫外線光源のブロック図である。

【図2B】図２Ａの光源に使用することができるドライブレーザシステムの例のブロック図である。

【図3A】別のレーザ生成プラズマ極端紫外線（ＥＵＶ）光源、及びＥＵＶ光源に結合したリソグラフィツールの上面図である。

【図3B】異なる３つの時間における図３ＡのＥＵＶ出力光源の真空チャンバの上面図である。

【図3C】異なる３つの時間における図３ＡのＥＵＶ出力光源の真空チャンバの上面図である。

【図3D】異なる３つの時間における図３ＡのＥＵＶ出力光源の真空チャンバの上面図である。

【図4】ＥＵＶ光を生成する例示的なプロセスの流れ図である。

【図5】ＥＵＶ出力光を生成する別の例示的な波形のプロットである。

【図6A】図５の波形との相互作用を通してターゲットに変形されるターゲット材料小滴の側面図である。

【図6B】図５の波形との相互作用を通してターゲットに変形されるターゲット材料小滴の側面図である。

【図6C】図５の波形との相互作用を通してターゲットに変形されるターゲット材料小滴の側面図である。

【図6D】図５の波形との相互作用を通してターゲットに変形されるターゲット材料小滴の側面図である。

【図6E】図５の波形との相互作用を通してターゲットに変形されるターゲット材料小滴の側面図である。

【図6F】図６Ｃの中間ターゲットの側面図である。

【図6G】図６Ｃの中間ターゲットの側面図である。

【図7】ＥＵＶ光を生成する別の例示的な波形のプロットである。

【図8A】図７の波形との相互作用を通してターゲットに変形されるターゲット材料小滴の側面図である。

【図8B】図７の波形との相互作用を通してターゲットに変形されるターゲット材料小滴の側面図である。

【図8C】図７の波形との相互作用を通してターゲットに変形されるターゲット材料小滴の側面図である。

【図8D】図７の波形との相互作用を通してターゲットに変形されるターゲット材料小滴の側面図である。

【図8E】図７の波形との相互作用を通してターゲットに変形されるターゲット材料小滴の側面図である。

【図9】ＥＵＶ光を生成する別の例示的な波形のプロットである。

【図10A】図９の波形との相互作用を通してターゲットに変形されるターゲット材料小滴の側面図である。

【図10B】図９の波形との相互作用を通してターゲットに変形されるターゲット材料小滴の側面図である。

【図10C】図９の波形との相互作用を通してターゲットに変形されるターゲット材料小滴の側面図である。

【図10D】図９の波形との相互作用を通してターゲットに変形されるターゲット材料小滴の側面図である。

【図10E】図９の波形との相互作用を通してターゲットに変形されるターゲット材料小滴の側面図である。