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エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

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  2025年 出願公開件数ランキング    第233位 35件 下降2024年:第220位 162件)

  2025年 特許取得件数ランキング    第354位 20件 下降2024年:第257位 124件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 7654141 選択 アライメントマークの局所的な歪みに基づくアライメント信号の生成 2025年 3月31日
特許 7650280 選択 位置決め装置およびリソグラフィ装置 2025年 3月24日
特許 7646628 選択 基板ホルダ、リソグラフィ装置、及び方法 2025年 3月17日
特許 7644125 選択 マスクレスリソグラフィの方法及びシステム 2025年 3月11日
特許 7644199 選択 荷電粒子遮断要素、このような要素を備えた露光装置、及びこのような露光装置を使用する方法 2025年 3月11日
特許 7639123 選択 露光パターンを測定するための計測方法および関連する計測装置 2025年 3月 4日
特許 7634936 選択 拡散接合により接合された基体を含む、部品を静電的に保持するための保持装置、およびその製造方法 2025年 2月25日
特許 7633950 選択 リソグラフィ装置の基板ハンドリングシステムおよびその方法 2025年 2月20日
特許 7631369 選択 システム、リソグラフィ装置および方法 2025年 2月18日
特許 7630515 選択 コレクタ流リング 2025年 2月17日
特許 7625017 選択 荷電粒子を放出するための放出器 2025年 1月31日
特許 7624471 選択 ペリクル及びペリクルアセンブリ 2025年 1月30日
特許 7617917 選択 放射源用容器 2025年 1月20日
特許 7617220 選択 計測装置及び基板ステージ・ハンドラ・システム 2025年 1月17日
特許 7614211 選択 粒子状デブリの軌道を変更するための偏向装置を備えるリソグラフィシステム 2025年 1月15日

22 件中 1-15 件を表示

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7654141 7650280 7646628 7644125 7644199 7639123 7634936 7633950 7631369 7630515 7625017 7624471 7617917 7617220 7614211

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