特許 6799850 光学シート

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6799850

(24)【登録日】2020年11月26日

(45)【発行日】2020年12月16日

(54)【発明の名称】光学シート

(51)【国際特許分類】

   B32B 15/08 20060101AFI20201207BHJP

   B32B 7/023 20190101ALI20201207BHJP

   G02B 1/14 20150101ALI20201207BHJP

   G02B 1/115 20150101ALN20201207BHJP

【ＦＩ】

   B32B15/08 P

   B32B7/023

   G02B1/14

   !G02B1/115

【請求項の数】6

【全頁数】15

(21)【出願番号】特願2016-222419(P2016-222419)

(22)【出願日】2016年11月15日

(65)【公開番号】特開2018-79599(P2018-79599A)

(43)【公開日】2018年5月24日

【審査請求日】2019年11月5日

(73)【特許権者】

【識別番号】000242231

【氏名又は名称】北川工業株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110001036

【氏名又は名称】特許業務法人暁合同特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】古田 健

(72)【発明者】

【氏名】塩野 涼介

【審査官】 石塚 寛和

(56)【参考文献】

【文献】 特開２００１−１６６１０４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第２０１１／１１８３８３（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 国際公開第２００５／０９７４８３（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 特開２００３−０４３９３７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特表２００５−５２４１１３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００３−１３９９０７（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｂ３２Ｂ １／００−４３／００

Ｇ０２Ｂ １／１０−１／１８

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

樹脂製の芯層と、前記芯層の少なくとも片面に積層されるハードコート層とを有する基材と、
クロム系金属からなる、前記ハードコート層に積層される、厚みが０．３ｎｍ〜１．４ｎｍの密着層と、
前記密着層に積層される光調整層と、
フッ素系材料を含み、前記光調整層に積層される保護層とを備える光学シート。

【請求項2】

前記光調整層は、高屈折率層と低屈折率層との積層物からなる請求項１に記載の光学シート。

【請求項3】

前記高屈折率層は、第１高屈折率層と、第２高屈折率層とを有し、
前記低屈折率層は、第１低屈折率層と、第２低屈折率層とを有し、
前記基材側から順に、前記第１高屈折率層、前記第１低屈折率層、前記第２高屈折率層及び前記第２低屈折率層が積層される請求項２に記載の光学シート。

【請求項4】

前記密着層は、ＮｉＣｒ、又はＳＵＳからなる請求項１〜３の何れか一項に記載の光学シート。

【請求項5】

視感反射率（％）が１％未満である請求項１〜４の何れか一項に記載の光学シート。

【請求項6】

全光線透過率（％）が８５％以上である請求項１〜５の何れか一項に記載の光学シート。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、光学シートに関する。

【背景技術】

【0002】

表示装置の表示面に光学シートを貼り付けることで、周囲の映り込みの低減や、コントラストの改善等が行われている。この種の光学シートは、例えば、特許文献１に示されるように、透明な樹脂製の基材と、その基材上で支持される反射防止層とを備えたものからなる。反射防止層は、金属酸化物等からなる高屈折率層と低屈折率層とが交互に積層されたものからなり、入射した光を互いに干渉させて打ち消す光調整機能を備えている。このような反射防止層は、前記基材に対して、酸化ケイ素（ＳｉＯ_ｘ）等からなる密着層を介して積層されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２００３−１３９９０７号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

車両用の表示装置（例えば、インストルメントパネル）等に利用される光学シートには、アルカリに対する耐久性（耐アルカリ性）が要求される。しかしながら、従来の光学シートは、アルカリ溶液と接触すると、反射防止層が基材から剥離してしまい、問題となっていた。

【0005】

本発明の目的は、耐アルカリ性に優れた光学シートを提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本発明者らは、前記目的を達成すべく鋭意検討を行った結果、所定の厚みを有するクロム系金属からなる密着層で、基材と光調整層とを密着させ、かつ光調整層にフッ素系材料を含む保護層を形成すると、光学シートの耐アルカリ性が向上することを見出し、本発明の完成に至った。

【0007】

前記課題を解決するための手段は、以下の通りである。即ち、
＜１＞ 樹脂製の芯層と、前記芯層の少なくとも片面に積層されるハードコート層とを有する基材と、クロム系金属からなる、前記ハードコート層に積層される、厚みが０．３ｎｍ〜１．４ｎｍの密着層と、前記密着層に積層される光調整層と、フッ素系材料を含み、前記光調整層に積層される保護層とを備える光学シート。

【0008】

＜２＞ 前記光調整層は、高屈折率層と低屈折率層との積層物からなる前記＜１＞に記載の光学シート。

【0009】

＜３＞ 前記高屈折率層は、第１高屈折率層と、第２高屈折率層とを有し、前記基材側から順に、前記第１高屈折率層、前記第１低屈折率層、前記第２高屈折率層及び前記第２低屈折率層が積層される前記＜２＞に記載の光学シート。

【0010】

＜４＞ 前記密着層は、ＮｉＣｒ、又はＳＵＳからなる前記＜１＞〜＜３＞の何れか１つに記載の光学シート。

【0011】

＜５＞ 視感反射率（％）が１％未満である前記＜１＞〜＜４＞の何れか１つに記載の光学シート。

【0012】

＜６＞ 全光線透過率（％）が８５％以上である前記＜１＞〜＜５＞の何れか１つに記載の光学シート。

【発明の効果】

【0013】

本願発明によれば、耐アルカリ性に優れた光学シートを提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0014】

【図1】一実施形態に係る光学シートの構成を模式的に表した断面図

【図2】他の実施形態に係る光学シートの構成を模式的に表した断面図

【図3】他の実施形態に係る光学シートの構成を模式的に表した断面図

【発明を実施するための形態】

【0015】

本発明の一実施形態に係る光学シートについて、図面を参照しつつ説明する。図１は、一実施形態に係る光学シート１の構成を模式的に表した断面図である。光学シート１は、図１に示されるように、基材２、密着層３、光調整層４、及び保護層５を備えている。

【0016】

（基材）
基材２は、光透過性を有し、光調整層４等を支持する部材であり、樹脂製の芯層２１と、芯層２１の少なくとも片面に積層されるハードコート層２２とを備える。芯層２１は、光透過性に優れ、光調整層４等の他の層を支持可能であり、適度な可撓性を備えたものであれば特に制限はない。基材２の芯層２１を構成する具体的な樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）等のポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂（ＰＣ）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）等のアクリル樹脂、トリアセチルセルロース樹脂（ＴＡＣ）、シクロオレフィン樹脂（ＣＯＰ）、ポリカーボネート樹脂とポリメタクリル酸メチルの積層品（ＰＣ／ＰＭＭＡ）等が挙げられる。これらのうち、芯層２１を構成する樹脂としては、ポリエステル樹脂が好ましく、特にポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）が好ましい。

【0017】

芯層２１の厚みは、本発明の目的を損なわない限り特に制限はないが、例えば、２５μｍ〜５ｍｍが好ましい。なお、芯層２１を成膜手法により、バッチ式で成膜する場合はシート形状が好ましく、その厚みは０．５μｍ〜２ｍｍがより好ましい。また、芯層２１をロールトゥロール式で成膜する場合は、ロールフィルム形状が好ましく、その厚みは５０μｍ〜１２５μｍが好ましい。

【0018】

ハードコート層２２は、基材２と密着層３との間の密着性の確保等を目的として、芯層２１の少なくとも片面に形成される。ハードコート層２２としては、本発明の目的を損なわない限り、特に制限はないが、例えば、紫外線硬化型アクリル樹脂等の公知の透明な樹脂が利用される。なお、ハードコート層２２を芯層２１上に形成する方法としては、特に制限はなく、例えば、ハードコート層２２用の塗布液を、芯層２１上に公知の塗布方法で塗布し、適宜、塗布液を硬化（光硬化、熱硬化等）する方法等が挙げられる。前記公知の塗布方法としては、例えば、カーテンフローコート法、ディップ法、バーコート法、ドクターブレード法、リバースロールコート法、グラビアロールコート法等が挙げられる。

【0019】

本実施形態では、ハードコート層２２は、芯層２１の片面のみに形成されていたが、他の実施形態においては、芯層２１の両面にハードコート層２２が形成されてもよい。

【0020】

ハードコート層２２の厚みは、本発明の目的を損なわない限り特に制限はないが、例えば、１μｍ〜１０μｍが好ましく、１μｍ〜５μｍがより好ましい。

【0021】

なお、光調整層４等が形成されない側の基材２の表面には、粘着剤層等の他の層が形成されてもよい。

【0022】

（密着層）
密着層３は、クロム系金属の膜からなり、基材２と光調整層４とを密着させる機能等を備えている。密着層３は、基材２のハードコート層２２に積層する形で設けられる。クロム系金属は、クロム（Ｃｒ）の含有量が２０質量％以上の金属又は合金からなる。クロム系金属としては、例えば、クロム（Ｃｒ）、ＮｉＣｒ、ＳＵＳ（Ｃｒの含有量が２０質量％以上のステンレス鋼）等が挙げられる。なお、クロム系金属のうち、成膜性、耐アルカリ性、密着性等の観点より、ＮｉＣｒ、ＳＵＳが好ましく、特にＮｉＣｒが好ましい。

【0023】

密着層（クロム系金属）３の厚みは、０．３ｎｍ〜１．４ｎｍである。密着層３の厚みがこのような範囲であると、光学シート１の耐アルカリ性、密着性等に優れるとともに、光学シート１の光透過性等が確保される。

【0024】

（光調整層）
光調整層４は、光学シート１に入射した光に対して、光学的に作用する機能（例えば、反射防止、透過光の選択等）を備えたものからなる。光学調整層４は、密着層３を介して基材２に支持される。光調整層４の一例としては、例えば、図１に示されるような、反射防止機能を備えたものが挙げられる。図１に示される光調整層４は、高屈折率層と低屈折率層とが交互に積層されたものからなる。その場合、最も基材２（密着層３）側に配される層は、高屈折率層であり、最も外側（保護層５側）に配される層は、低屈折率層となる。高屈折率層及び低屈折率層は、反射防止機能を確保し易い等の観点より、４層以上に積層されることが好ましい。

【0025】

なお、本明細書において、高屈折率層は、波長５００〜５５０ｎｍにおける光の屈折率が１．９以上の層であり、低屈折率層は、波長５００〜５５０ｎｍにおける光の屈折率が１．５以下の層である。

【0026】

高屈折率層を構成する材料としては、本発明の目的を損なわない限り特に制限はないが、例えば、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、ＳｉＯ、ＺｎＯ、Ｉｎ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５等の金属酸化物が挙げられる。また、これらの例示された材料（金属酸化物）に対して、異なる元素をドーピングしたものも、高屈折率層の材料として用いることができる。高屈折率層の厚みは、特に制限はないが、例えば、３０ｎｍ〜３００ｎｍが好ましい。

【0027】

低屈折率層を構成する材料としては、本発明の目的を損なわない限り特に制限はないが、例えば、ＳｉＯ_ｘ（１＜ｘ≦２）、ＭｇＦ_２、Ｎａ_５Ａｌ_３Ｆ_１４（チオライト）、Ｎａ_３ＡｌＦ_６（クリオライト）等が挙げられる。なお、低屈折率層については、ウェットコーティングによって形成可能であるため、上述したＳｉＯ_ｘ等の材料を含むウェットコーティング材から低屈折率層が形成されてもよい。低屈折率層の厚みは、特に制限はないが、例えば、１５ｎｍ〜１２０ｎｍが好ましい。

【0028】

ここで、図１に示されるように、基材２側から順に、高屈折率層４１、低屈折率層４２、高屈折率層４３、及び低屈折率層４４が積層された光調整層４について説明する。なお、基材２に近い方の高屈折率層４１を第１高屈折率層４１と称し、外側に配される高屈折率層４３を第２高屈折率層４３と称する。また、基材２に近い方の低屈折率層４２を第１低屈折率層４２と称し、外側に配される低屈折率層４４を第２低屈折率層４４と称する。

【0029】

図１に示される４層構造の光調整層４は、反射防止層として機能するものであり、基材２側から順に、第１高屈折率層４１、第１低屈折率層４２、第２高屈折率層４３、及び第２低屈折率層４４が積層されたものからなる。

【0030】

第１高屈折率層４１の厚みは、１０ｎｍ〜５０ｎｍが好ましく、第１低屈折率層４２の厚みは、１５ｎｍ〜４５ｎｍが好ましく、第２高屈折率層４３の厚みは、３０ｎｍ〜１３０ｎｍが好ましく、第２低屈折率層４４の厚みは、７０ｎｍ〜１２０ｎｍが好ましい。光調整層４を構成する各層の厚みがこのような範囲であると、反射防止機能等が確保される。

【0031】

（成膜方法）
密着層３、光調整層４（高屈折率層、低屈折率層）を、基材２上に成膜する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択される。成膜方法としては、例えば、真空蒸着法（電子線ビーム蒸着法、抵抗加熱蒸着法）、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビーム法、イオンアシスト法、レーザーアブレーション法等の物理的気相成長（ＰＶＤ）法、熱ＣＶＤ法、光ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法等の化学的気相成長（ＣＶＤ）法等が挙げられる。これらの中でも、物理的気相成長（ＰＶＤ）法が好ましく、基材２に対して確実に積層し易い等の理由により、スパッタリング法が特に好ましい。

【0032】

また、スパッタリング法としては、成膜速度の観点より、金属を成膜する場合は、ＤＣ電源を用いたマグネトロンスパッタリング法が好ましく、導電性の金属酸化物を成膜する場合は、ＤＣｐｕｌｓｅ電源を用いた反応性スパッタリング法が好ましく、絶縁性の高いＳｉＯ_ｘを成膜する場合は、ＭＦ電源を用いたデュアルマグネトロンカソードによる反応性スパッタリング法が好ましい。なお、スパッタリング法により多層成膜する場合、１つのチャンバで複数のターゲットから交互又は順番に成膜する１チャンバ法であってもよいし、複数のチャンバで連続的に成膜するマルチチャンバ法であってもよいが、生産性及び材料コンタミネーションを防止する等の観点より、マルチチャンバ法が好ましい。

【0033】

なお、上述したように、光調整層４を構成する低屈折率層については、上記成膜方法に加え、ウェットコーティングにより形成することが可能である。特に、光調整層４の最表面に位置する低屈折率層（例えば、第２低屈折率層４４）については、ウェットコーティングによって形成してもよい。

【0034】

（保護層）
保護層５は、フッ素系材料を含み、光調整層４の外側（つまり、基材２の反対側）に積層されるものである。保護層５は、上述した密着層３と共に使用されることで、光学シート１に対して、優れた耐アルカリ性を付与することができる。また、保護層５は、光学シート１の使用時や製造過程において、ユーザや作業者等が、光学シート１に触れた際に、光学シート１の表面に油分等の汚れが付着するのを防止する機能も備えている。保護層５としては、例えば、フッ素コーティング剤からなる膜が利用される。フッ素コーティング剤を塗布する方法としては、公知の塗布方法が利用される。

【0035】

保護層５の厚みとしては、本発明の目的を損なわない限り、特に制限はないが、例えば、５ｎｍ〜２０ｎｍが好ましい。

【0036】

（その他の層）
光学シート１は、本発明の目的を損なわない限り、粘着剤層、バリア層、中間層等の他の層を備えてもよい。

【0037】

（光学シートの総厚み）
光学シートの総厚みは、２５μｍ〜５ｍｍであってもよい。

【0038】

（他の光学シート）
図２は、他の実施形態に係る光学シート１Ａの構成を模式的に表した断面図である。図２の光学シート１Ａは、光調整層４Ａ以外の基本的な構成は、上記実施形態と同様である。光学シート１Ａの光調整層４Ａは、上記実施形態の光調整層４とは異なり、基材２側から順に、低屈折率層４４Ａ、高屈折率層４３Ａ、低屈折率層４２Ａ、及び高屈折率層４１Ａが積層されたものからなる。そのため、光学シート１Ａの密着層３は、基材２のハードコート層２２と、光調整層４Ａの低屈折率層４４Ａとの間に介在される。また、光学シート１Ａの保護層５は、光調整層４Ａの高屈折率層４１Ａに積層される。このような構成の光調整層４Ａは、特定の光を反射させる等の機能を備えている。本発明は、このような光調整層４Ａを有する光学シート１Ａであってもよい。

【0039】

（効果・用途等）
本発明の光学シートは、所定の厚みを有するクロム系金属からなる密着層を備えることで、基材と光調整層との間の密着性に優れる。また、本発明の光学シートは、前記密着層と保護層とを備えることで、耐アルカリ性に優れる。光学シートの耐アルカリ性の評価方法は、後述する。本発明の光学シートは、アルカリ溶液と接触しても、アルカリ溶液に対する耐久性に優れるため、反射特性の劣化が抑制される。そのため、光学シートを構成する各層が剥離せず、しかも光学的な性能（視感反射率、全光線透過率等）が確保される。なお、本発明の光学シートは、アルカリ溶液以外の耐溶剤性にも優れている。

【0040】

本発明の光学シートのうち、光調整層が反射防止層として機能する光学シートの視感反射率（％）は、１％未満（好ましくは、０．５％以下、より好ましくは０．４％以下）であり、反射防止性に優れる。なお、視感反射率（％）の測定方法は後述する。

【0041】

また、本発明の光学シートは、全光線透過率（％）が８５％以上であり、光透過性（特に、可視光透過性）に優れる。なお、全光線透過率（％）の測定方法は後述する。

【0042】

本発明の光学シートは、例えば、自動車等の乗り物のディスプレイ、インストルメントパネル、メーターパネル、カーナビゲーションシステム等の表示面や、スマートフォン、タブレット端末等の携帯型機器の表示面等に貼り付けて、反射防止やそれ以外の目的で用いることができる。また、本発明の光学シートは、その他の表示装置の表示面や、光透過性を有する部材（例えば、窓ガラス等のガラス製品）に貼り付けて使用することができる。

【0043】

（他の光学シート１Ｂ）
図３は、他の実施形態に係る光学シート１Ｂの構成を模式的に表した断面図である。図３の光学シート１Ｂは、上記実施形態と同じ基材２、及び密着層３を備えている。光学シート１Ｂの光調整層４Ｂは、上記実施形態と同様、高屈折率層４１Ｂ，４３Ｂと低屈折率層４２Ｂ，４４Ｂとが交互に積層されてなる反射防止機能を備えたものからなる。ただし、光調整層４Ｂを構成する４層のうち、最も外側に配される低屈折率層４４Ｂ中には、非相溶性のフッ素系材料が添加されている。つまり、光調整層４Ｂを構成する層のうち、最も外側に配される層の中に、フッ素系材料を配合することで、最も外側に配される層（低屈折率層４４Ｂ）が、上述したような保護層５（図１等参照）としても機能する。そのため、光学シート１Ｂでは、光調整層４Ｂ上に、保護層５（図１等参照）を設ける必要がなくなる。このような構成の光学シート１Ｂであっても、本発明の技術的効果（耐アルカリ性等）が得られる。

【実施例】

【0044】

以下、実施例に基づいて本発明を更に詳細に説明する。なお、本発明はこれらの実施例により何ら限定されるものではない。

【0045】

なお、以下に示される実施例、及び比較例におけるスパッタリングによる成膜では、ロール・トウ・ロール方式のマグネトロンスパッタリング装置を用いた。また、スパッタリング装置の各チャンバー内に供給されるガス（例えば、アルゴンガス、窒素ガス）の流量は、所定のマスフローコントローラを用いて、適宜、調節した。

【0046】

〔実施例１〕
基材として、ＰＥＴからなる芯層（厚み：５０μｍ）の両面にハードコート層（紫外線硬化型アクリル樹脂、厚み：２μｍ）が形成されているＨＣ付きＰＥＴ（総厚み：５２μｍ）を用意した。そのＨＣ付きＰＥＴの片面上に、スパッタリングにより、ＮｉＣｒの膜からなる密着層を形成した。次いで、密着層上に、スパッタリングにより、酸化ニオブ（Ｖ）（Ｎｂ_２Ｏ_５）の膜からなる第１高屈折率層を形成した。続いて、第１高屈折率層上に、スパッタリングにより、酸化ケイ素（ＳｉＯ_ｘ、１＜ｘ≦２）の膜からなる第１低屈折率層を形成した。そして更に、第１低屈折率層上に、スパッタリングにより、酸化ニオブ（Ｖ）（Ｎｂ_２Ｏ_５）の膜からなる第２高屈折率層を形成した。そして更に、第２高屈折率層上に、スパッタリングにより、酸化ケイ素（ＳｉＯ_ｘ、１＜ｘ≦２）の膜からなる第２低屈折率層を形成した。このようにして、基材（ＨＣ付きＰＥＴ）上に、スパッタリングにより、密着層、第１高屈折率層、第１低屈折率層、第２高屈折率層及び第２低屈折率層を形成した。実施例１におけるスパッタリングの成膜条件は、以下の通りである。

【0047】

＜成膜条件：密着層＞
ターゲット：Ｎｉ−２０Ｃｒターゲット（住友金属鉱山社製）、成膜圧力：０．４Ｐａ、ＤＣパワー：０．２Ｗ／ｃｍ^２
＜成膜条件：第１高屈折率層＞
ターゲット：導電性Ｎｂ_２Ｏ_５ターゲット（三菱マテリアル社製）、成膜圧力：０．３Ｐａ、ＤＣパワー：２．５Ｗ／ｃｍ^２
＜成膜条件：第１低屈折率層＞
ターゲット：Ｓｉターゲット（アルバック社製）、成膜圧力：０．３Ｐａ、ＤＣパワー：１．９Ｗ／ｃｍ^２
＜成膜条件：第２高屈折率層＞
ターゲット：導電性Ｎｂ_２Ｏ_５ターゲット（三菱マテリアル社製）、成膜圧力：０．３Ｐａ、ＤＣパワー：２．５Ｗ／ｃｍ^２
＜成膜条件：第２低屈折率層＞
ターゲット：Ｓｉターゲット（アルバック社製）、成膜圧力：０．３Ｐａ、ＤＣパワー：１．９Ｗ／ｃｍ^２

【0048】

続いて、第２低屈折率層上に、フッ素コーティング剤（製品名「デュラサーフ ＤＳ−２５０４Ｐ」（ハーベス社製）を塗布して、フッ素系材料を含む保護層を形成した。

【0049】

このようにして、基材（ＨＣ付きＰＥＴ）上に、各層を形成して実施例１の光学シートを作製した。この光学シートを構成する密着層の厚みは０．４ｎｍであり、第１高屈折率層の厚みは１５ｎｍであり、第１低屈折率層の厚みは３０ｎｍであり、第２高屈折率層の厚みは１１０ｎｍであり、第２低屈折率層の厚みは９０ｎｍであり、保護層の厚みは５ｎｍであった。各層の厚みは、蛍光Ｘ線分析（リガク社製、ＺＳＸ−１００ｅ）等によって測定した。なお、以降の実施例、比較例についても同様にして、各層の厚みを測定した。

【0050】

〔実施例２〕
成膜条件を適宜、調節して、密着層の厚みを０．６ｎｍに変更したこと以外は、実施例１と同様にして、実施例２の光学シートを作製した。

【0051】

〔実施例３〕
成膜条件を適宜、調節して、密着層の厚みを１．３ｎｍに変更したこと以外は、実施例１と同様にして、実施例３の光学シートを作製した。

【0052】

〔実施例４〕
密着層として、以下に示される成膜条件に基づいて形成されるＳＵＳ（Ｃｒ含有率：２４〜２６質量％）からなる膜（厚み０．６ｎｍ）に変更したこと以外は、実施例１と同様にして、実施例４の光学シートを作製した。
＜成膜条件：密着層＞
ターゲット：ＳＵＳ３１０Ｓターゲット（ＹＡＫＩＮ川崎社製）、成膜圧力：０．４Ｐａ、ＤＣパワー：０．２Ｗ／ｃｍ^２

【0053】

〔比較例１〕
密着層を形成せずに、基材上に第１高屈折率層等を形成したこと、及び保護層を形成しないこと以外は、実施例１と同様にして比較例１の光学シートを作製した。

【0054】

〔比較例２〕
保護層を形成しないこと以外は、実施例１と同様にして比較例２の光学シートを作製した。

【0055】

〔比較例３〕
密着層を形成せずに、基材上に第１高屈折率層等を形成したこと以外は、実施例１と同様にして比較例３の光学シートを作製した。

【0056】

〔比較例４〕
成膜条件を適宜、調節して、密着層の厚みを０．１ｎｍに変更したこと以外は、実施例１と同様にして、比較例４の光学シートを作製した。

【0057】

〔比較例５〕
成膜条件を適宜、調節して、密着層の厚みを０．２ｎｍに変更したこと以外は、実施例１と同様にして、比較例５の光学シートを作製した。

【0058】

〔比較例６〕
成膜条件を適宜、調節して、密着層の厚みを１．５ｎｍに変更したこと以外は、実施例１と同様にして、比較例６の光学シートを作製した。

【0059】

〔比較例７〕
チャンバー内に酸素ガスを供給し、かつ成膜条件を適宜、調節して、密着層として、酸素が導入されたＮｉＣｒ（ＮｉＣｒ＋Ｏ_２）の膜（厚み８．３ｎｍ）に変更したこと以外は、実施例１と同様にして、比較例７の光学シートを作製した。

【0060】

〔比較例８〕
密着層として、以下に示される成膜条件に基づいて形成される酸化ケイ素（ＳｉＯ_ｘ、１＜Ｘ≦２）からなる膜（厚み１０．０ｎｍ）に変更したこと以外は、実施例１と同様にして、比較例８の光学シートを作製した。
＜成膜条件：密着層＞
ターゲット：Ｓｉターゲット（アルバック社製）、成膜圧力：０．３Ｐａ、ＤＣパワー：１．９Ｗ／ｃｍ^２

【0061】

〔比較例９〕
密着層として、以下に示される成膜条件に基づいて形成されるジルコニウム（Ｚｒ）からなる膜（厚み１．５ｎｍ）に変更したこと以外は、実施例１と同様にして、比較例９の光学シートを作製した。
＜成膜条件：密着層＞
ターゲット：Ｚｒターゲット（ニラコ社製）、成膜圧力：０．４Ｐａ、ＤＣパワー：０．５Ｗ／ｃｍ^２

【0062】

〔比較例１０〕
密着層として、以下に示される成膜条件に基づいて形成されるアルミニウム（Ａｌ）からなる膜（厚み０．７ｎｍ）に変更したこと以外は、実施例１と同様にして、比較例１０の光学シートを作製した。
＜成膜条件：密着層＞
ターゲット：Ａｌ（Ａ５０５２）ターゲット（青山特殊鋼社製）、成膜圧力：０．４Ｐａ、ＤＣパワー：０．４Ｗ／ｃｍ^２

【0063】

〔比較例１１〕
密着層として、以下に示される成膜条件に基づいて形成される銀銅合金（ＡｇＣｕ）からなる膜（厚み２．６ｎｍ）に変更したこと以外は、実施例１と同様にして、比較例１１の光学シートを作製した。
＜成膜条件：密着層＞
ターゲット：ＡｇＣｕ（Ｃｕ：１１質量％）ターゲット（住友金属鉱山社製）、成膜圧力：０．４Ｐａ、ＤＣパワー：０．１Ｗ／ｃｍ^２

【0064】

実施例１〜４及び比較例１〜１１の各光学シートについて、以下に示される評価１〜４を行った。

【0065】

〔評価１：密着性〕
実施例１〜４及び比較例１〜１１の各光学シートについて、碁盤目試験（クロスカット試験）を行って密着性を評価した。試験方法は、以下の通りである。

【0066】

（煮沸前の場合）
各光学シートを、保護層側（保護層を備えていない比較例１，２は、第２低屈折率層側）から、カッターナイフを用いて１００マス（１マス：１ｍｍ×１ｍｍ）の碁盤目状に切り込んだ。次いで、その切り込まれた膜を覆うように粘着テープを貼り付けた。その際、粘着テープが膜に密着するように、粘着テープを消しゴムで擦って膜に貼り付けた。その後、粘着テープを貼り付けた状態で１〜２分間放置してから、粘着テープの端を持って膜面に対して直角に保った状態から、瞬間的に粘着テープを膜から引き剥がした。密着性（碁盤目試験）の評価基準は、以下の通りである。結果は、表１に示した。

【0067】

＜評価基準＞
１００マス中、１００マスすべてが剥離しなかった場合
・・・密着性良好「〇」
１００マス中、１つ以上のマスが剥離した場合
・・・密着性不十分「×」

【0068】

（１時間煮沸後の場合）
各光学シートを、１時間煮沸し、その後の各光学シートについて、上述した煮沸前の場合と同様に、碁盤目試験を行った。結果は、表１に示した。なお、上述した煮沸前の場合において、既に密着性不十分と評価されたものについては、１時間煮沸後の碁盤目試験は行わなかった。試験を行わなかった場合を、表１では、「−」と表記した。

【0069】

〔評価２：視感反射率〕
実施例１〜４及び比較例１〜１１の各光学シートについて、後述する耐アルカリ性の評価を行う前に、視感反射率（％）を測定した。測定方法は、ＪＩＳＴ７３３０に準拠し測定装置（ＵＨ４２５０、日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて行った。視感反射率（％）は、光学シートの保護層側から測定した。なお、裏面反射の影響を除くために、光学シートは、裏面が黒塗りされた状態で測定された。結果は、表１に示した。

【0070】

〔評価３：全光線透過率〕
実施例１〜４及び比較例１〜１１の各光学シートについて、後述する耐アルカリ性の評価を行う前に、ＪＩＳ Ｋ７３７５に準拠して全光線透過率（％）を測定した。結果は、表１に示した。

【0071】

〔評価４：耐アルカリ性〕
実施例１〜４及び比較例１〜１１の各光学シートについて、以下に示されるように、水酸化ナトリウム水溶液に浸漬した後の剥離の有無、及び浸漬後の視感反射率（％）の結果より、耐アルカリ性を評価した。

【0072】

（浸漬）
光学シートを、水酸化ナトリウム水溶液（濃度：０．４質量％）に、２３±２℃の環境下で、６時間浸漬した。その後、光学シートを水洗して、光学シートの高屈折率層（Ｎｂ_２Ｏ_５）の総厚み（第１高屈折率層の厚み＋第２高屈折率層の厚み）、低屈折率層（ＳｉＯ_ｘ）の総厚み（第１低屈折率層の厚み＋第２低屈折率層の厚み）、及び密着層の厚みを測定して、光学シートを構成する各層の剥離の有無を確認した。剥離がなかった場合、表１において、「なし」と表記し、剥離があった場合、「有」と表記した。なお、浸漬前及び浸漬後における光学シートの高屈折率層（Ｎｂ_２Ｏ_５）の総厚み、光学シートの低屈折率層（ＳｉＯ_ｘ）の総厚み、及び密着層の厚みは、表２に示した。

【0073】

（視感反射率）
上記のように水酸化ナトリウム水溶液に６時間浸漬した後の光学シートについて、剥離がなかった場合のみ、視感反射率（％）を測定した。視感反射率の測定方法は、耐アルカリ性の評価を行う前に行ったものと同様である。結果は、表１に示した。

【0074】

（耐アルカリ性の有無の判定）
上記のように６時間浸漬した後に、剥離がなく、しかも視感反射率が１％以下の場合、「耐アルカリ性に優れる」と判定した。表１では、「耐アルカリ性に優れる」を「〇」と表記した。また、６時間浸漬した後に、剥離がないものの、視感反射率が１％を超える場合、耐アルカリ性なし」と判定した。表１では、この場合の「耐アルカリ性なし」を「△」と表記した。また、６時間浸漬した後に、剥離が発生した場合、「耐アルカリ性なし」と判定した。表１では、この場合の「耐アルカリ性なし」を「×」と表記した。

【0075】

【表1】

【0076】

【表2】

【0077】

表１に示されるように、実施例１〜４の光学シートは、耐アルカリ性に優れることが確かめられた。実施例１〜４の光学シートは、所定の厚みの密着層を備えることで、水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した際に、基材（ＨＣ付きＰＥＴ）が膨潤して多少、変形しても、密着層の作用により、基材と密着層との界面での剥離、及び密着層と第１高屈折率層との間で剥離が抑えられているものと推測される。また、実施例１〜４の光学シートは、フッ素系材料を含む保護層（フッ素コート）を備えることで、水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した際に、第２低屈折率層等が水溶液中に溶出すること等が抑制され、視感反射率の低下が抑制されているものと推測される。

【0078】

比較例１は、密着層及び保護層を備えていない光シートであり、比較例２は、保護層を備えていない光学シートであり、比較例３は、密着層を備えていない光学シートである。これらの光学シートのように、密着層及び／又は保護層を備えていないと、耐アルカリ性が得られないことが確かめられた。なお、保護層を備えていない比較例２の光学シートでは、ＳｉＯ_ｘからなる第２低屈折率層が水酸化ナトリウム溶液に溶出することで、視感反射率が高くなったものと推測される。また、密着層を備えていない比較例３では、第１高屈折率層と基材との間で剥離が生じたものと推測される。密着層及び保護層を備えていない比較例１では、第２低屈折率層の溶出、及び第１高屈折率層と基材との間での剥離が生じたものと推測される。

【0079】

比較例４，５は、密着層の厚みが、実施例よりも小さい場合である。このように、密着層の厚みが小さいと、そもそも密着性が得られないことが確かめられた。

【0080】

比較例６は、密着層の厚みが、実施例よりも大きい場合である。このように、密着層の厚みが大きいと、全光線透過率（％）が８５％を下回り、光透過性が劣ることが確かめられた。

【0081】

比較例７は、密着層として、ＮｉＣｒに酸素を導入したものを用いた場合である。比較例７では、密着性がなく、しかも耐アルカリ性がない結果となった。

【0082】

比較例８は、密着層として、ＳｉＯ_ｘを用いたものである。比較例８では、耐アルカリ性が得られないことが確かめられた。

【0083】

比較例９は、密着層として、Ｚｒを用いたものである。比較例９では、耐アルカリ性が得られず、そもそも密着性にも劣ることが確かめられた。

【0084】

比較例１０は、密着層として、Ａｌを用いたものである。比較例１０では、耐アルカリ性が得られないことが確かめられた。また、全光線透過率も８５％を下回り、光透過性が劣ることが確かめられた。

【0085】

比較例１１は、密着層として、ＡｇＣｕを用いたものである。比較例１１では、耐アルカリ性が得られず、しかも、視感反射率が１％を超え、全光線透過率も８５％を下回る結果となった。

【符号の説明】

【0086】

１…光学シート、２…基材、２１…芯層、２２…ハードコート層、３…密着層、４…光調整層、４１…高屈折率層（第１高屈折率層）、４２…低屈折率層（第１低屈折率層）、４３…高屈折率層（第２高屈折率層）、４４…低屈折率層（第２低屈折率層）、５…保護層

【図1】

【図2】

【図3】