(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
【背景技術】
【0002】
小型で大容量の固体電解コンデンサとして、アルミニウム箔等の弁作用金属基体と、弁作用金属基体の表面に形成された誘電体層と、誘電体層の表面に形成された陰極層とを備える固体電解コンデンサが知られている。通常、陰極層は、固体電解質層、カーボン層及び銀層を含んでいる。
【0003】
このような固体電解コンデンサを製造するため、従来は、溶接により弁作用金属基体を金属製の通電治具に固定し、これを誘電体層及び固体電解質層を形成するための処理に順次付している(例えば、特許文献1参照)。
【0004】
具体的には、通電治具に固定された弁作用金属基体を化成処理液に浸漬し、通電治具に接続した給電用端子を陽極とし、化成処理液が入った容器中の電極を陰極として通電することによって誘電体層を形成することができる。その後、導電性高分子となるモノマーを含有する溶液に上記弁作用金属基体を浸漬し、通電することによって誘電体層上に固体電解質層を電気化学的に形成することができる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
しかし、溶接により弁作用金属基体を通電治具に固定する方法では、通電治具と弁作用金属基体との接合状態を目視で確認することができないため、接合状態が不安定である場合に誘電体層等を安定して形成することができないといった問題が生じる。
【0007】
なお、このような問題は、固体電解コンデンサを製造する場合に限らず、導電体からなるワークを処理液に浸漬して通電する場合に共通する問題である。
【0008】
本発明は上記の問題を解決するためになされたものであり、安定的な通電が可能な通電方法を提供することを目的とする。本発明はまた、上記通電方法に用いられる通電治具、上記通電方法を用いた化成処理方法、及び、上記化成処理方法を用いて誘電体層を形成する固体電解コンデンサの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本発明の通電方法は、一方の表面から突出した凸部を有する通電治具を準備する工程と、導電体からなり、貫通孔を有するワークを準備する工程と、上記通電治具の上記凸部を上記ワークの上記貫通孔に挿通して、上記凸部を上記貫通孔の壁面と接触させることにより、上記ワークを上記通電治具に固定する工程と、上記通電治具に固定された上記ワークを処理液に浸漬して通電する工程と、を備えることを特徴とする。
【0010】
本発明の通電方法においては、上記通電治具が2個以上の上記凸部を有するとともに、上記ワークが少なくとも上記凸部と同じ個数の貫通孔を有し、上記凸部をそれぞれ上記貫通孔の壁面と接触させることが好ましい。
【0011】
本発明の通電方法においては、上記凸部が、弾性体の弾性力によって上記通電治具の表面上をスライド可能であり、上記弾性力によって上記凸部が上記貫通孔の壁面を押圧することが好ましい。
【0012】
本発明の通電治具は、導電体からなるワークを処理液に浸漬して通電するための通電治具であって、一方の表面から突出した凸部を有し、上記凸部を上記ワークが有する貫通孔に挿通して、上記凸部を上記貫通孔の壁面と接触させることにより、上記ワークを固定することが可能であることを特徴とする。
【0013】
本発明の通電治具は、2個以上の上記凸部を有することが好ましい。
【0014】
本発明の通電治具においては、上記凸部が、弾性体の弾性力によって上記通電治具の表面上をスライド可能であり、上記弾性力によって上記凸部が上記貫通孔の壁面を押圧することが可能であることが好ましい。
【0015】
本発明の化成処理方法は、一方の表面から突出した凸部を有する通電治具を準備する工程と、弁作用金属からなり、貫通孔を有する弁作用金属基体を準備する工程と、上記通電治具の上記凸部を上記弁作用金属基体の上記貫通孔に挿通して、上記凸部を上記貫通孔の壁面と接触させることにより、上記弁作用金属基体を上記通電治具に固定する工程と、上記通電治具に固定された上記弁作用金属基体を化成処理液に浸漬して通電する工程と、を備えることを特徴とする。
【0016】
本発明の化成処理方法においては、上記通電治具が2個以上の上記凸部を有するとともに、上記弁作用金属基体が少なくとも上記凸部と同じ個数の貫通孔を有し、上記凸部をそれぞれ上記貫通孔の壁面と接触させることが好ましい。
【0017】
本発明の化成処理方法においては、上記凸部が、弾性体の弾性力によって上記通電治具の表面上をスライド可能であり、上記弾性力によって上記凸部が上記貫通孔の壁面を押圧することが好ましい。
【0018】
本発明の固体電解コンデンサの製造方法は、本発明の化成処理方法を用いて、上記弁作用金属基体に誘電体層を形成する工程を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【0019】
本発明によれば、安定的な通電が可能な通電方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0020】
【
図1】
図1(a)は、本発明の一実施形態に係る化成処理方法に用いられる通電治具を模式的に示す断面図であり、
図1(b)は、本発明の一実施形態に係る化成処理方法に用いられる通電治具を模式的に示す上面図である。
【
図2】
図2(a)は、本発明の一実施形態に係る化成処理方法に用いられる弁作用金属基体を模式的に示す断面図であり、
図2(b)は、本発明の一実施形態に係る化成処理方法に用いられる弁作用金属基体を模式的に示す上面図である。
【
図3】
図3(a)は、弁作用金属基体を通電治具に固定した状態を模式的に示す断面図であり、
図3(b)は、弁作用金属基体を通電治具に固定した状態を模式的に示す上面図である。
【
図4】
図4は、通電治具に固定された弁作用金属基体を化成処理液に浸漬した状態を模式的に示す上面図である。
【
図5】
図5は、固体電解コンデンサの一例を模式的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0021】
以下、本発明の実施形態について具体的に説明する。
しかしながら、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲において適宜変更して適用することができる。なお、以下に記載する個々の望ましい構成を2つ以上組み合わせたものもまた本発明である。
【0022】
以下においては、本発明の通電方法の一実施形態として、固体電解コンデンサを構成する弁作用金属基体に誘電体層を形成するための化成処理方法について説明するが、本発明の通電方法は化成処理方法に限定されず、例えば、固体電解質層を形成するための方法にも適用することができる。また、本発明の通電方法は、固体電解コンデンサを製造する方法に限定されるものではなく、弁作用金属基体以外の導電体からなるワークに対しても適用することができる。なお、本発明の通電方法(化成処理方法)に用いられる通電治具もまた、本発明の1つである。
【0023】
図1(a)は、本発明の一実施形態に係る化成処理方法に用いられる通電治具を模式的に示す断面図であり、
図1(b)は、本発明の一実施形態に係る化成処理方法に用いられる通電治具を模式的に示す上面図である。
図1(a)及び
図1(b)に示す通電治具10は、一方の表面から突出した凸部11a及び11bを有している。本実施形態では、通電治具10は基板12を有しており、基板12の一方の表面から凸部11a及び11bが突出している。
【0024】
図1(a)及び
図1(b)に示す通電治具10は、さらに、凸部11aと接続されたばね13を有している。ばね13は弾性体であるため、ばね13の弾性力によって凸部11aは通電治具10の表面上をスライド可能である。
図1(a)には、凸部11aがスライド可能な向きを両矢印で示している。
【0025】
図2(a)は、本発明の一実施形態に係る化成処理方法に用いられる弁作用金属基体を模式的に示す断面図であり、
図2(b)は、本発明の一実施形態に係る化成処理方法に用いられる弁作用金属基体を模式的に示す上面図である。
図2(a)及び
図2(b)に示す弁作用金属基体20は、弁作用金属からなり、貫通孔21a及び21bを有している。本実施形態では、弁作用金属基体20は平板状であり、両側の主面を貫通する貫通孔21a及び21bを有している。貫通孔21a及び21bは、通電治具10の凸部11a及び11bに対応する位置にそれぞれ形成されている。
【0026】
図2(a)に示す弁作用金属基体20は、芯部22と、芯部22の表面に設けられた多孔質部23とからなる。
図2(a)に示す弁作用金属基体20では、芯部22の両方の表面に多孔質部23が設けられているが、芯部22の一方の表面に多孔質部23が設けられていてもよい。
【0027】
弁作用金属は、いわゆる弁作用を示す金属であり、例えば、アルミニウム、タンタル、ニオブ、チタン、ジルコニウム等の金属単体、又は、これらの金属を含む合金等が挙げられる。これらの中では、アルミニウム又はアルミニウム合金が好ましい。
【0028】
弁作用金属基体の形状は、平板状であることが好ましく、箔状であることがより好ましい。弁作用金属基体は、芯部の表面に多孔質部を有している構造であることが好ましく、芯部の表面にエッチング層等の多孔質層が設けられていることがより好ましい。本発明においては、弁作用金属基体を通電治具に固定した状態で、エッチング層等の多孔質層を形成してもよい。
【0029】
図3(a)は、弁作用金属基体を通電治具に固定した状態を模式的に示す断面図であり、
図3(b)は、弁作用金属基体を通電治具に固定した状態を模式的に示す上面図である。
図3(a)及び
図3(b)に示すように、通電治具10の凸部11a及び11bをそれぞれ弁作用金属基体20の貫通孔21a及び21bに挿通して、凸部11a及び11bをそれぞれ貫通孔21a及び21bの壁面と接触させることにより、弁作用金属基体20を通電治具10に固定している。
図3(a)及び
図3(b)には、凸部11aと貫通孔21aとの接触部分A、及び、凸部11bと貫通孔21bとの接触部分Bを示している。
【0030】
本実施形態においては、ばね13の弾性力によって凸部11aが通電治具10の表面上をスライド可能であるため、上記弾性力によって凸部11aが貫通孔21aの壁面を押圧している。その結果、凸部11aと貫通孔21a、及び、凸部11bと貫通孔21bとが確実に接触するため、弁作用金属基体20を通電治具10に安定して固定することができる。
【0031】
図4は、通電治具に固定された弁作用金属基体を化成処理液に浸漬した状態を模式的に示す上面図である。
図4に示すように、通電治具10に固定された弁作用金属基体20を化成処理液30に浸漬する。化成処理液としては、例えば、アジピン酸アンモニウム等を含む水溶液が用いられる。
【0032】
通電治具10に接続した給電用端子(図示せず)を陽極とし、化成処理液30が入った容器中の電極(図示せず)を陰極として、接触部分A及びBを通して通電することにより、酸化皮膜からなる誘電体層を弁作用金属基体20の多孔質部23に形成することができる。
【0033】
本発明においては、通電治具の凸部を弁作用金属基体の貫通孔に挿通して、凸部を貫通孔の壁面と接触させることにより、弁作用金属基体を通電治具に固定することを特徴としている。そのため、溶接により弁作用金属基体を通電治具に固定する場合と異なり、通電治具と弁作用金属基体との接合状態を目視で確認することができる。したがって、安定した接合状態で通電を行いやすいため、安定的な通電が可能となる。
【0034】
また、弁作用金属基体の表面には、予め化成膜が形成されている場合がある。このような場合であっても、弁作用金属基体に貫通孔を形成することによって、抵抗の低い金属面を貫通孔の壁面に露出させることができる。したがって、本発明においては、抵抗の低い金属面と通電治具の凸部を接触させて通電を行うことができるため、安定的な通電が可能となる。
【0035】
さらに、溶接により弁作用金属基体を通電治具に固定する場合と比べて、通電治具へのダメージが小さいため、品質の安定化が期待できる。
【0036】
本発明において、通電治具は、少なくとも1個の凸部を有していればよいが、2個以上の凸部を有することが好ましい。凸部が設けられる位置は特に限定されない。
【0037】
本発明において、凸部の形状及び大きさは、貫通孔に挿通できるものであれば特に限定されない。また、凸部の材質についても、通電が可能であれば特に限定されない。
【0038】
本発明において、凸部がスライド可能である場合、弾性体としては、例えば、ばね、ゴム等が挙げられる。凸部がスライド可能な向きは、特に限定されない。通電治具が2個以上の凸部を有する場合、1個の凸部がスライド可能であってもよいし、2個以上の凸部がスライド可能であってもよい。2個以上の凸部がスライド可能である場合、弾性体の種類は同じであってもよいし、異なっていてもよい。
【0039】
本発明においては、通電治具が弾性体を有しておらず、すべての凸部がスライド可能でなくてもよい。このような場合であっても、例えば重力によって凸部を貫通孔の壁面と接触させることが可能である。
【0040】
本発明において、通電治具は、凸部以外に、弁作用金属基体等のワークを固定するための機構を有していてもよい。
【0041】
本発明において、通電治具が基板を有する場合、基板の形状及び材質等は特に限定されない。
【0042】
本発明において、弁作用金属基体等のワークが有する貫通孔の個数は、少なくとも凸部と同じ個数であることが好ましい。貫通孔の個数が凸部と少なくとも同じ個数であれば、凸部をそれぞれ貫通孔の壁面と接触させることができる。また、貫通孔の形状及び大きさは、凸部が挿通できるものであれば特に限定されない。なお、1個の貫通孔に2個以上の凸部を挿通してもよい。
【0043】
本発明において、固体電解コンデンサを製造する場合、貫通孔は、コンデンサ素子を構成しない箇所に設けられていることが好ましい。この場合、必要な処理が完了した後に、コンデンサ素子を構成する部分と貫通孔が設けられている部分とを分離すればよい。
【0044】
上述したように、本発明においては、弁作用金属基体等のワークに貫通孔を形成することによって、抵抗の低い金属面を貫通孔の壁面に露出させることができる。
【0045】
本発明においては、上記の化成処理方法を用いて弁作用金属基体に誘電体層を形成することができる。その後、誘電体層の表面に陰極層を形成することにより、固体電解コンデンサを製造することができる。陰極層としては、誘電体層の表面に固体電解質層を形成することが好ましく、固体電解質層の表面に集電層を形成することがより好ましい。本発明においては、弁作用金属基体を通電治具に固定したまま、陰極層を形成することができる。
【0046】
固体電解質層を形成する方法としては、例えば、3,4−エチレンジオキシチオフェン等のモノマーを含む処理液を用いて、誘電体層の表面にポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)等の重合膜を形成する方法や、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)等のポリマーの分散液を誘電体層の表面に塗布して乾燥させる方法等が挙げられる。重合膜を形成する方法としては、本発明の通電方法を用いることができる。
【0047】
集電層として、カーボン層及び銀層を順次積層して形成することが好ましいが、カーボン層のみを形成してもよく、銀層のみを形成してもよい。例えば、カーボンペーストを塗布及び乾燥させた後に、銀ペーストを塗布及び乾燥させることにより、カーボン層及び銀層を形成することができる。
【0048】
陰極層を形成した後、弁作用金属基体を通電治具から外し、必要に応じて、コンデンサ素子を構成する部分と貫通孔が設けられている部分とを分離すればよい。以上により、固体電解コンデンサが得られる。
【0049】
図5は、固体電解コンデンサの一例を模式的に示す断面図である。
図5に示す固体電解コンデンサ100は、弁作用金属基体120が複数枚積層された積層体110によって構成されており、弁作用金属基体120の表面には誘電体層121が形成されている。弁作用金属基体120は、所定の位置に設けられた絶縁部130により陽極部131と陰極部132とに区分されている。陰極部132の誘電体層121の表面は、陰極層122により被覆されている。
図5に示す固体電解コンデンサ100では、陰極層122は、固体電解質層122aと集電層122bとを備えている。陽極部131の弁作用金属基体120には陽極端子141が接続されており、陰極部132の陰極層122には、陰極端子142が接続されている。積層体110は、外装体143により被覆されている。
【0050】
本発明においては、複数個のコンデンサ素子に対して一括して化成処理を行うことも可能である。この場合、それぞれがコンデンサ素子となる複数個の弁作用金属基体を1個の通電治具に固定してもよいし、複数個のコンデンサ素子となる1個の弁作用金属基体を1個の通電治具に固定してもよい。後者の方法では、必要な処理が完了した後に、それぞれのコンデンサ素子に分離すればよい。