特許 6806806 金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6806806

(24)【登録日】2020年12月8日

(45)【発行日】2021年1月6日

(54)【発明の名称】金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物

(51)【国際特許分類】

   C07F 19/00 20060101AFI20201221BHJP

   C07F 5/06 20060101ALN20201221BHJP

   C07F 7/08 20060101ALN20201221BHJP

   C09J 183/07 20060101ALN20201221BHJP

   C09D 183/07 20060101ALN20201221BHJP

【ＦＩ】

   C07F19/00CSP

   !C07F5/06 D

   !C07F7/08 Y

   !C09J183/07

   !C09D183/07

【請求項の数】9

【全頁数】25

(21)【出願番号】特願2018-567263(P2018-567263)

(86)(22)【出願日】2017年6月7日

(65)【公表番号】特表2019-518777(P2019-518777A)

(43)【公表日】2019年7月4日

(86)【国際出願番号】US2017036267

(87)【国際公開番号】WO2018013261

(87)【国際公開日】20180118

【審査請求日】2018年12月21日

(31)【優先権主張番号】62/361,773

(32)【優先日】2016年7月13日

(33)【優先権主張国】US

(73)【特許権者】

【識別番号】590001418

【氏名又は名称】ダウ シリコーンズ コーポレーション

(74)【代理人】

【識別番号】100108453

【弁理士】

【氏名又は名称】村山 靖彦

(74)【代理人】

【識別番号】100110364

【弁理士】

【氏名又は名称】実広 信哉

(74)【代理人】

【識別番号】100133400

【弁理士】

【氏名又は名称】阿部 達彦

(72)【発明者】

【氏名】ドン・リー・クライヤー

(72)【発明者】

【氏名】ナングオ・リュー

(72)【発明者】

【氏名】ニック・エバン・シェファード

【審査官】 神谷 昌克

(56)【参考文献】

【文献】 国際公開第２０１５／０３３９７９（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 特開２００２−３７１１８５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特表２０１９−５１８８５２（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｃ０７Ｆ

Ｃ０９Ｄ

Ｃ０９Ｊ

ＣＡｐｌｕｓ／ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ）

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物：｛Ｒ^１−Ｓｉ（Ｒ^２）（Ｒ^３）−［Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^４）（Ｒ^５）］_ｍ−Ｏ｝_ｎ−Ｍ^１（←Ｌ）_ｏ（Ｘ^１）_ｐ （Ｉ）
［式中、Ｍ^１は、＋３の形式的な正の酸化状態δ^＋を有する金属原子Ａｌであり、下付き文字ｎは１〜δ^＋の整数であり、下付き文字ｏは０、１又は２の整数であり、各Ｌは独立して非プロトン性ルイス塩基であり、下付き文字ｐ＝（δ^＋−ｎ）であり、各Ｘ^１は独立してハロゲン化物又は非プロトン性オルガノヘテリルアニオンであり、下付き文字ｍは３〜１００の整数であり、Ｒ^１〜Ｒ^５のそれぞれは独立して、非プロトン性（Ｃ_１−Ｃ_２０）ヒドロカルビル基又は非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）ヘテロヒドロカルビル基であり、Ｒ^１〜Ｒ^５のうちの少なくとも１つは独立して、非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）アルケニル基又は非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）アルキニル基である］。

【請求項2】

下付き文字ｎが２〜δ^＋の整数である、請求項１に記載の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物。

【請求項3】

下付き文字ｏが１又は２である、請求項１又は２に記載の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物。

【請求項4】

下付き文字ｍが３〜５０の整数である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物。

【請求項5】

Ｒ^１〜Ｒ^５のそれぞれが独立して、以下の制限（ｉ）〜（ｘ）：（ｉ）Ｒ^１〜Ｒ^５のそれぞれが独立して、非プロトン性（Ｃ_１−Ｃ_２０）ヒドロカルビル基又は非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）ヘテロヒドロカルビル基であり、Ｒ^１〜Ｒ^５のうちの少なくとも１つが独立して、非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）アルケニル基である；（ｉｉ）Ｒ^１〜Ｒ^５のそれぞれが独立して、非プロトン性（Ｃ_１−Ｃ_２０）ヒドロカルビル基であり、Ｒ^１〜Ｒ^５のうちの少なくとも１つが独立して、非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）アルケニル基又は非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）アルキニル基である；（ｉｉｉ）Ｒ^１〜Ｒ^５のそれぞれが独立して、非プロトン性（Ｃ_１−Ｃ_２０）ヒドロカルビル基であり、Ｒ^１〜Ｒ^５のうちの少なくとも１つが独立して、非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）アルケニル基である；（ｉｖ）Ｒ^１〜Ｒ^５のそれぞれが独立して、非プロトン性（Ｃ_１−Ｃ_２０）ヒドロカルビル基であり、Ｒ^１〜Ｒ^５のうちの少なくとも１つが独立して、非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）アルキニル基である；（ｖ）Ｒ^１〜Ｒ^５のうちの少なくとも１つが独立して、非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）アルケニル基又は非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）アルキニル基であり、Ｒ^１〜Ｒ^５のうちの少なくとも１つが独立して、非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）ヘテロヒドロカルビル基であり、残りのＲ^１〜Ｒ^５が独立して、非プロトン性（Ｃ_１−Ｃ_２０）ヒドロカルビル基である；（ｖｉ）Ｒ^１〜Ｒ^５のうちの少なくとも１つが独立して、非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）アルケニル基であり、Ｒ^１〜Ｒ^５のうちの少なくとも１つが独立して、非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）ヘテロヒドロカルビル基であり、残りのＲ^１〜Ｒ^５が独立して、非プロトン性（Ｃ_１−Ｃ_２０）ヒドロカルビル基である；（ｖｉｉ）Ｒ^１〜Ｒ^５のうちの少なくとも２つが独立して、非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）ヘテロヒドロカルビル基である、制限（ｖ）又は（ｖｉ）；（ｖｉｉｉ）Ｒ^１〜Ｒ^５のうちの少なくとも２つが独立して、非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）アルケニル及び／又は非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）アルキニル基である、制限（ｉ）〜（ｖｉｉ）のうちのいずれか１つ；（ｉｘ）Ｒ^１〜Ｒ^５のうちの少なくとも２つが独立して、非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）アルケニル基である、制限（ｉ）〜（ｖｉｉｉ）のうちのいずれか１つ；並びに（ｘ）各非プロトン性（Ｃ_１−Ｃ_２０）ヒドロカルビル基が独立して、非プロトン性（Ｃ_１−Ｃ_２０）アルキル、非プロトン性（Ｃ_３−Ｃ_２０）シクロアルキル、及び非プロトン性（Ｃ_６−Ｃ_２０）アリール基から選択される、制限（ｉ）〜（ｉｘ）のうちのいずれか１つ、のうちのいずれか１つで定義される、請求項１〜４のいずれか一項に記載の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物。

【請求項6】

請求項１〜５のいずれか一項に記載の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物と、少なくとも１つの他の構成要素と、を含む組成物。

【請求項7】

前記少なくとも１つの他の構成要素が、式（ＶＩＩＩ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物：｛Ｒ^１−Ｓｉ（Ｒ^２）（Ｒ^３）−［Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^４）（Ｒ^５）］_ｍ−Ｏ｝_ｎ−Ｍ^３（←Ｌ）_ｏ（Ｘ^１）_ｐ（ＶＩＩＩ）［式中、Ｍ^３は、＋１〜＋６の形式的な正の酸化状態δ^＋を有するＰｔ、＋１〜＋６の形式的な正の酸化状態δ^＋を有するＰｄ、＋１〜＋６の形式的な正の酸化状態δ^＋を有するＲｈ、＋１〜＋８の形式的な正の酸化状態δ^＋を有するＲｕ、＋１〜＋４の形式的な正の酸化状態δ^＋を有するＳｎ、＋１〜＋４の形式的な正の酸化状態δ^＋を有するＴｉ、又は＋１〜＋４の形式的な正の酸化状態δ^＋を有するＺｒであり、下付き文字ｍ、ｎ、ｏ、及びｐ；並びにＬ基、Ｘ^１基、及びＲ^１〜Ｒ^５基は独立して、式（Ｉ）で上記で定義される］である、請求項６に記載の組成物。

【請求項8】

請求項６又は７に記載の組成物を硬化させた硬化生成物。

【請求項9】

請求項１に記載の式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物の製造方法であって、前記製造方法が、ｎモル当量の式（ＩＩ）のオルガノシラノール化合物：｛Ｒ^１−Ｓｉ（Ｒ^２）（Ｒ^３）−［Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^４）（Ｒ^５）］_ｍ−ＯＨ（ＩＩ）［式中、下付き文字ｍ及びｎ並びにＲ^１〜Ｒ^５基は式（Ｉ）で定義される］を、式（Ａ）の金属塩反応体：Ｍ^１（Ｘ^１）_ｑ （Ａ）、又はその溶媒和物［式中、Ｍ^１は、＋３の形式的な正の酸化状態δ^＋を有する金属原子Ａｌであり、下付き文字ｑは前記式（Ａ）中のＭ^１の形式的な正の酸化状態δ^＋であり、各Ｘ^１は独立して、ハロゲン化物又は非プロトン性オルガノヘテリルアニオンであり、式（Ａ）中の各Ｘ^１は独立して、式（Ｉ）中の各Ｘ^１と同じであるか又は異なる］と、所望により非プロトン性ルイス塩基であるＬの存在下で、接触させて、前記式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物を得る工程を含む、製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は一般に、金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物、それを含有する又はそれから調製される組成物、並びにその製造及び使用方法に関する。

【背景技術】

【0002】

現在使用されている接着剤は、あいにく、ある種の基材材料に対する接着が弱い、大気、熱、湿度及び／又は太陽光などの過酷な環境条件下で劣化若しくは分解（例えば、脆化若しくは変色）する、又は基材から層間剥離することがある。層間剥離（例えば、バブリング（ｂｕｂｂｌｉｎｇ）又は剥がれ（ｐｅｅｌｉｎｇ））の頻度又はひどさを減少させるために、一部の基材を、接着する前に前処理（例えば、プライマー処理又は予備乾燥）してもよい。あるいは接着促進剤を基材上でプライマーとして又は接着剤中で添加剤として、使用してもよい。たとえそうしても、要求の厳しい用途で使用する場合、接着剤は接着の弱さ又は経時的な不安定性を示すことがある。

【発明の概要】

【0003】

本発明は一般に、金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物、それを含有する又はそれから調製される組成物又は配合物、並びにその製造及び使用方法に関する。金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物の各分子は、少なくとも１つの金属原子及び少なくとも１つの非プロトン性オルガノシラノキシド配位子で構成される。金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物は、そのまま使用してもよく、又は接着剤、コーティング、エラストマー、封入材（ｅｎｃａｐｓｕｌａｎｔ）、ポッティング材（ｐｏｔｔａｎｔ）、及びシーラント用の様々なシリコーン配合物中の構成要素として使用してもよい。

【発明を実施するための形態】

【0004】

「発明の概要」及び「要約書」は、参照により本明細書に組み込まれる。金属原子は、アルミニウム、セリウム、鉄、バナジウム、又はこれらのいずれか２つ以上の組み合わせであってもよい。非プロトン性オルガノシラノキシド配位子は、オルガノシラノールの共役塩基形態であり、かつ非プロトン性オルガノシラノキシド配位子１個当たり平均して少なくとも１個のアニオン性官能基Ｓｉ−Ｏ⁻を含む、アニオンであり得る。非プロトン性オルガノシラノキシド配位子は、−ＯＨ、−ＮＨ、−ＳＨ、−ＰＨ、及び任意によりＳｉＨ基を含まない。金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物、組成物及び配合物は、建築、建設、消費者製品、エレクトロニクス、エネルギー、インフラストラクチャー、包装、電気通信、及び輸送などの産業における多様な用途で使用することができる。本発明を、複数の代表的で非限定的な実施形態及び実施例を開示することによって例示的に本明細書で説明する。一部の実施形態において、本発明は、以下の番号付けされた態様のいずれか１つである。

【0005】

態様１．式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物：｛Ｒ^１−Ｓｉ（Ｒ^２）（Ｒ^３）−［Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^４）（Ｒ^５）］_ｍ−Ｏ｝_ｎ−Ｍ^１（←Ｌ）_ｏ（Ｘ^１）_ｐ （Ｉ）［式中、Ｍ^１は、Ａｌの場合は＋１〜＋３、Ｃｅの場合は＋２〜＋４、Ｆｅの場合は＋１〜＋６、又はＶの場合は＋１〜＋５の形式的な正の酸化状態δ^＋を有する金属原子Ａｌ、Ｃｅ、Ｆｅ、又はＶであり、下付き文字ｎは１〜δ^＋の整数であり、下付き文字ｏは０、１又は２の整数であり、各Ｌは独立して非プロトン性ルイス塩基であり、下付き文字ｐ＝（δ^＋−ｎ）であり、各Ｘ^１は独立してハロゲン化物又は非プロトン性オルガノヘテリルアニオンであり、下付き文字ｍは３〜１００の整数であり、Ｒ^１〜Ｒ^５のそれぞれは独立して、非プロトン性（Ｃ_１−Ｃ_２０）ヒドロカルビル基又は非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）ヘテロヒドロカルビル基であり、Ｒ^１〜Ｒ^５のうちの少なくとも１つは独立して、非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）アルケニル基又は非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）アルキニル基である］。（Ｃ_２−Ｃ_２０）ヘテロヒドロカルビル基は、２〜２０個の炭素原子と、Ｎ、Ｏ、Ｓ、及びＰ；あるいは、Ｎ、Ｏ、及びＳ；あるいはＮ及びＯ；あるいはＮ；あるいはＯ；あるいはＳ；あるいはＰから選択される少なくとも１個のヘテロ原子と、を含む。

【0006】

式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物は、分子又は分子の集合体であってもよい。式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物の各金属原子は独立して、上述の金属原子の既知の正の酸化状態を表す、形式的な正の酸化状態δ^＋を有する。非プロトン性オルガノシラノキシド配位子の各アニオン性官能基Ｓｉ−Ｏ⁻は、−１に等しい形式的な負の酸化状態δ⁻を有し、非プロトン性オルガノシラノキシド配位子は、−ｙに等しい全体の形式的な負の酸化状態δ⁻を有し、ここでｙは、非プロトン性オルガノシラノキシド配位子１個当たりのアニオン性官能基Ｓｉ−Ｏ⁻の総数に等しい整数である。一部の態様において、非プロトン性オルガノシラノキシド配位子１個当たり、すなわち分子のアニオン１個当たり、１個のアニオン性官能基Ｓｉ−Ｏ⁻が存在し、δ⁻＝−ｙ＝−１である。一部の実施形態では、（−ｙ^＊−１）＝金属原子のδ^＋（式中、^＊は乗算記号である）であり、式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物は他のアニオン性配位子を含まない。他の実施形態において、（−ｙ^＊−１）＜金属原子のδ^＋であり、式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物は、ハロゲン化物及び非プロトン性オルガノヘテリルアニオンから独立して選択される、ｐ個の更なるアニオン性配位子を更に含み、ｐ＋（−ｙ^＊−１）＝δ^＋である。

【0007】

一部の態様において、少なくとも１個のＭ^１あるいは各Ｍ^１は、金属原子Ａｌ、Ｃｅ又はＦｅ；あるいはＡｌ、Ｃｅ又はＶ；あるいはＡｌ、Ｆｅ又はＶ；あるいはＣｅ、Ｆｅ又はＶである。

【0008】

態様２．Ｍ^１がＡｌであり、δ^＋が＋１又は＋２、あるいは＋１又は＋３、あるいは＋２又は＋３、あるいは＋１、あるいは＋２、あるいは＋３である、態様１に記載の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物。この化合物は、アルミニウム非プロトン性オルガノシラノキシドと呼ぶことができる。

【0009】

態様３．Ｍ^１がＣｅであり、δ^＋が＋２又は＋３、あるいは＋２又は＋４、あるいは＋３又は＋４、あるいは＋２、あるいは＋３、あるいは＋４である、態様１に記載の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物。この化合物は、セリウム非プロトン性オルガノシラノキシドと呼ぶことができる。

【0010】

態様４．Ｍ^１がＦｅであり、δ^＋が＋２〜＋６、あるいは＋１〜＋５、あるいは＋２〜＋５、あるいは＋２〜＋４、あるいは＋１又は＋２、あるいは＋２又は＋３、あるいは＋２又は＋４、あるいは＋３又は＋４、あるいは＋１、あるいは＋２、あるいは＋３、あるいは＋４、あるいは＋５、あるいは＋６である、態様１に記載の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物。この化合物は、鉄非プロトン性オルガノシラノキシドと呼ぶことができる。

【0011】

態様５．Ｍ^１がＶであり、δ^＋が＋２〜＋５、あるいは＋１〜＋４、あるいは＋２〜＋５、あるいは＋１又は＋２、あるいは＋２又は＋３、あるいは＋３又は＋４、あるいは＋４又は＋５、あるいは＋１、あるいは＋２、あるいは＋３、あるいは＋４、あるいは＋５である、態様１に記載の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物。この化合物は、バナジウム非プロトン性オルガノシラノキシドと呼ぶことができる。

【0012】

態様６．Ｍ^１がＡｌであり、δ^＋が＋３である、Ｍ^１がＣｅであり、δ^＋が＋３又は＋４である、Ｍ^１がＦｅであり、δ^＋が＋２又は＋３である、又はＭ^１がＶであり、δ^＋が＋５である、態様１〜５のいずれか１つに記載の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物。

【0013】

態様７．下付き文字ｎが２〜δ^＋の整数、あるいはδ^＋である、態様１〜５のいずれか１つに記載の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物。

【0014】

態様８．下付き文字ｏが０、あるいは１又は２、あるいは１、あるいは２の整数である、態様１〜７のいずれか１つに記載の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物。ｏが０であるとき、Ｌは存在しない。ｏが１であるとき、１個のＬが存在し、供与結合とも呼ばれる配位結合をＭ^１と形成する。ｏが２であるとき、２個の独立して選択されたＬが存在するか、又は１個の二座配位子Ｌが存在し、合計２個の配位結合をＭ^１と形成する。Ｌとしての非プロトン性ルイス塩基は中性の、１モル当たりの分子量が５０〜５００グラム（ｇ／ｍｏｌ）である電子対供与体化合物であり、アルケン、アルキン、式Ｒ_３Ｎの第三級アミン、式ＲＣＯ_２Ｒのカルボン酸エステル、式ＲＯＲのエーテル、式ＲＣ（＝Ｏ）Ｒのケトン、式ＲＳＲのチオエーテル、式（Ｒ）_３Ｐのトリヒドロカルビルホスフィン（ｔｒｉｈｙｄｒｏｃａｒｂｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）、又はこれらの対応する二官能性類似体、例えばジアミン、ジカルボン酸エステル、ジエーテル、ジケトン、ジチオエーテル、若しくはジホスフィンなど、から独立して選択することができる。

【0015】

態様９．下付き文字ｐ＝（δ^＋−ｎ）であり、下付き文字ｎが２〜δ^＋の整数、あるいはδ^＋である、態様１〜８のいずれか１つに記載の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物。

【0016】

態様１０．下付き文字ｍが、３〜５０、あるいは７０〜１００、あるいは４０〜６９、あるいは３〜３９、あるいは３〜３０、あるいは３〜２０、あるいは３〜１０、あるいは１１〜１００、あるいは１５〜１００、あるいは２０〜１００、あるいは３、あるいは４、あるいは５、あるいは６、あるいは７、あるいは８、あるいは９、あるいは１０の整数であり、あるいはｍが、３〜１００の全てから選択される１つの（ｓｅｌｅｃｔｅｄ ｆｒｏｍ ａｌｌ ｂｕｔ ｏｎｅ ｏｆ）整数である、態様１〜９のいずれか１つに記載の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物。ｍが３又は４の整数であるとき、式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物は、金属非プロトン性オリゴオルガノシラノキシド化合物と称することができる。ｍが５〜１００の整数であるとき、式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物は、金属非プロトン性ポリオルガノシラノキシド化合物と称することができる。ｍが１又は２又は＞１００であれば、式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物は、弱い接着を促進する又は接着を共促進する（ｃｏ−ｐｒｏｍｏｔｉｎｇ）効果を示す可能性があり、配合物に望ましくない物理的特性を付与する（例えば、ｍが１又は２であれば動的粘度が低くなりすぎるか又は揮発性になりすぎ、ｍが＞１００であれば動的粘度が高くなりすぎるか又はＭ^１の好ましい効果が失われる）。

【0017】

態様１１．各Ｘ^１が独立して、ハロゲン化物、あるいは非プロトン性オルガノヘテリルアニオンである、態様１〜１０のいずれか１つに記載の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物。ハロゲン化物は、フッ化物、塩化物、臭化物、又はヨウ化物；あるいはフッ化物、塩化物、又は臭化物；あるいはフッ化物又は塩化物；あるいはフッ化物；あるいは塩化物であり得る。非プロトン性オルガノヘテリルアニオンは、アルコキシド（すなわち、Ｒ^ＸＯ⁻）、カルボキシレート（すなわち、Ｒ^ＸＣ（＝Ｏ）Ｏ⁻）、オキシメート（ｏｘｉｍａｔｅ）（すなわち、Ｒ^Ｘ_２Ｃ＝ＮＯ⁻）、第二級アミノ（Ｒ^Ｘ_２Ｎ−）、又はトリヒドロカルビルシラノキシド（すなわち、Ｒ^Ｘ_３ＳｉＯ⁻）から選択することができる。各Ｒ^Ｘは独立して、（Ｃ_１−Ｃ_２０）アルキル、（Ｃ_２−Ｃ_２０）アルケニル、又は（Ｃ_６−Ｃ_２０）アリール；あるいは（Ｃ_１−Ｃ_６）アルキル又は（Ｃ_２−Ｃ_６）アルケニル；あるいは（Ｃ_１−Ｃ_６）アルキル；あるいはメチル、エチル、又はフェニル、から選択される非プロトン性（Ｃ_１−Ｃ_２０）ヒドロカルビルである。

【0018】

態様１２．Ｒ^１〜Ｒ^５のそれぞれが独立して、以下の制限（ｉ）〜（ｘ）：（ｉ）Ｒ^１〜Ｒ^５のそれぞれが独立して、非プロトン性（Ｃ_１−Ｃ_２０）ヒドロカルビル基又は非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）ヘテロヒドロカルビル基であり、Ｒ^１〜Ｒ^５のうちの少なくとも１つが独立して、非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）アルケニル基である；（ｉｉ）Ｒ^１〜Ｒ^５のそれぞれが独立して、非プロトン性（Ｃ_１−Ｃ_２０）ヒドロカルビル基であり、Ｒ^１〜Ｒ^５のうちの少なくとも１つが独立して、非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）アルケニル基又は非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）アルキニル基である；（ｉｉｉ）Ｒ^１〜Ｒ^５のそれぞれが独立して、非プロトン性（Ｃ_１−Ｃ_２０）ヒドロカルビル基であり、Ｒ^１〜Ｒ^５のうちの少なくとも１つが独立して、非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）アルケニル基である；（ｉｖ）Ｒ^１〜Ｒ^５のそれぞれが独立して、非プロトン性（Ｃ_１−Ｃ_２０）ヒドロカルビル基であり、Ｒ^１〜Ｒ^５のうちの少なくとも１つが独立して、非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）アルキニル基である；（ｖ）Ｒ^１〜Ｒ^５のうちの少なくとも１つが独立して、非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）アルケニル基又は非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）アルキニル基であり、Ｒ^１〜Ｒ^５のうちの少なくとも１つが独立して、非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）ヘテロヒドロカルビル基であり、残りのＲ^１〜Ｒ^５が独立して、非プロトン性（Ｃ_１−Ｃ_２０）ヒドロカルビル基である；（ｖｉ）Ｒ^１〜Ｒ^５のうちの少なくとも１つが独立して、非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）アルケニル基であり、Ｒ^１〜Ｒ^５のうちの少なくとも１つが独立して、非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）ヘテロヒドロカルビル基であり、残りのＲ^１〜Ｒ^５が独立して、非プロトン性（Ｃ_１−Ｃ_２０）ヒドロカルビル基である；（ｖｉｉ）Ｒ^１〜Ｒ^５のうちの少なくとも２つが独立して、非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）ヘテロヒドロカルビル基である、制限（ｖ）又は（ｖｉ）；（ｖｉｉｉ）Ｒ^１〜Ｒ^５のうちの少なくとも２つが独立して、非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）アルケニル及び／又は非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）アルキニル基である、制限（ｉ）〜（ｖｉｉ）のうちのいずれか１つ；（ｉｘ）Ｒ^１〜Ｒ^５のうちの少なくとも２つが独立して、非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）アルケニル基である、制限（ｉ）〜（ｖｉｉｉ）のうちのいずれか１つ；並びに（ｘ）各非プロトン性（Ｃ_１−Ｃ_２０）ヒドロカルビル基が独立して、非プロトン性（Ｃ_１−Ｃ_２０）アルキル、非プロトン性（Ｃ_３−Ｃ_２０）シクロアルキル、及び非プロトン性（Ｃ_６−Ｃ_２０）アリール基から選択される、制限（ｉ）〜（ｉｘ）のうちのいずれか１つ、のうちのいずれか１つで定義される、態様１〜１１のいずれか１つに記載の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物。

【0019】

好適な非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）アルケニル基の例は、非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_１０）アルケニル、非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_６）アルケニル、非置換（Ｃ_２−Ｃ_６）アルケニル、ビニル、アリル、１−ブテン−１−イル、１−ブテン−４−イル、及び１−ヘキセン−６−イルである。

【0020】

好適な非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）アルキニル基の例は、非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_１０）アルキニル、非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_６）アルキニル、非置換（Ｃ_２−Ｃ_６）アルキニル、アセチレニル、プロパルギル、１−ブチン−１−イル、１−ブチン−４−イル、及び１−ヘキシン−６−イルである。

【0021】

好適な非プロトン性（Ｃ_１−Ｃ_２０）ヒドロカルビル基の例は、非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）アルケニル；非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）アルキニル；非プロトン性（Ｃ_１−Ｃ_１０）ヒドロカルビル；非プロトン性（Ｃ_１−Ｃ_１０）アルキル；非プロトン性（Ｃ_３−Ｃ_１０）シクロアルキル；非プロトン性（Ｃ_６−Ｃ_１０）アリール；非置換（Ｃ_１−Ｃ_１０）アルキル；非置換（Ｃ_３−Ｃ_１０）シクロアルキル；非置換（Ｃ_６−Ｃ_１０）アリール；メチル；エチル；プロピル；１−メチルエチル；ブチル；１−メチルプロピル；２−メチルプロピル；１，１−ジメチルエチル；及びフェニルである。

【0022】

好適な非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）ヘテロヒドロカルビル基の例は、非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_１０）ヘテロヒドロカルビル；非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_６）ヘテロヒドロカルビル；非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_６）ヘテロアルキル；非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_６）ヘテロシクロアルキル；非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_６）ヘテロアリール；非置換（Ｃ_２−Ｃ_６）ヘテロアルキル；非置換（Ｃ_２−Ｃ_６）ヘテロシクロアルキル；非置換（Ｃ_２−Ｃ_６）ヘテロアリール；１−メトキシエチル；オキシラニル；ピペリジン−１−イル；チアゾリル；及びピリジニルである。

【0023】

前述のＲ^１〜Ｒ^５及びＲ^Ｘ基（まとめて「Ｒ」）はいずれも、非置換であってもよく、又はハロ、非置換若しくはフルオロ置換（Ｃ_１−Ｃ_６）アルキル、非置換若しくはフルオロ置換（Ｃ_１−Ｃ_６）アルコキシ、非置換若しくはフルオロ置換（Ｃ_１−Ｃ_６）メルカプト、オキソ（＝Ｏ；アルキル基上の）、非置換若しくはフルオロ置換フェニル、非置換若しくはフルオロ置換（Ｃ_１−Ｃ_６）アシル、非置換若しくはフルオロ置換（Ｃ_１−Ｃ_６）カルボキシ、非置換若しくはフルオロ置換（Ｃ_１−Ｃ_６）アルキルＯＣ（＝Ｏ）−、非置換若しくはフルオロ置換（Ｃ_２−Ｃ_６）エポキシ、非置換ジ（（Ｃ_１−Ｃ_６）アルキル）アミノ、及びニトリル（−ＣＮ）から独立して選択される１つ以上の非プロトン性置換基で置換されていてもよい。ハロは、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、又はＩ；あるいはＦ、Ｃｌ、又はＢｒ；あるいはＦ又はＣｌ；あるいはＦ；あるいはＣｌである。特定の「Ｒ」基中に２つ以上の置換基が存在する場合、置換基の数は２〜パー置換（ｐｅｒ ｓｕｂｓｔｉｔｕｔｉｏｎ）である。典型的には、パー置換はハロ置換基、例えばトリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ又はペンタクロロエチルに限定される。典型的には、特定の「Ｒ」基中の非ハロ置換基の最大数は、その「Ｒ」基の対応する非置換型の炭素原子の数と等しい。例えば、置換（Ｃ_６）ヒドロカルビル基は、それぞれが上記の通り独立して選択される置換基を最大で６個含み得る。

【0024】

Ｒ^１〜Ｒ^５及びＲ^Ｘ基のいずれか１つ以上におけるフルオロ置換基は、式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物の２５℃での貯蔵寿命安定性（ｓｈｅｌｆ−ｌｉｆｅ ｓｔａｂｉｌｉｔｙ）を向上させ得る。あるいは、Ｒ^１〜Ｒ^５及びＲ^Ｘ基のいずれか１つ以上における非置換ジ（（Ｃ_１−Ｃ_６）アルキル）アミノ置換基は、式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物の２５℃での貯蔵寿命安定性を低下させ得る。一部の実施形態において、非置換ジ（（Ｃ_１−Ｃ_６）アルキル）アミノ置換基は、それを含む置換された式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物の分子の集合体をゲル化することを可能にし得る。基材表面のプライマー処理、又はサーマルインターフェースマテリアル（ｔｈｅｒｍａｌ ｉｎｔｅｒｆａｃｅ ｍａｔｅｒｉａｌ）として使用するための熱ゲルの形成などにおいて用いられ得る用途では、ゲル化が望ましい場合がある。ゲル化が好ましくない用途では、又は長期間の貯蔵時間を可能にするためには、非置換ジ（（Ｃ_１−Ｃ_６）アルキル）アミノ置換基を含む式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物を溶媒中で希釈し、それによりゲル化を抑制又は防止することができる。

【0025】

（Ａ）式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物は、その溶媒和物を含む。溶媒和物は、非プロトン性有機溶媒分子を更に含むこと以外は記載の式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物であると定義することができる。溶媒分子は、Ｎ、Ｏ及びＳから独立して選択される少なくとも１つのヘテロ原子を含んでもよい。好適な有機溶媒の例は、カルボン酸エステル、エーテル、及びケトンなどである。

【0026】

式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物は、その中の金属及び／又は非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）アルケニル基及び／又は非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）アルキニル基の濃度によって特徴付けることができる。あるいは、又は加えて、式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物は、非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）アルケニル基及び／又は非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）アルキニル基のモル数対金属のモル数のモル比によって特徴付けることができる。モル比は、「Ｕｎｓｕｂ／Ｍｅｔ」と略してもよく、ここで「Ｕｎｓｕｂ」は非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）アルケニル基及び非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）アルキニル基の総モル数であり、「Ｍｅｔ」は金属原子のモル数である。一部の実施形態において、Ｕｎｓｕｂ／Ｍｅｔは、１〜２δ^＋、あるいは１〜δ^＋、あるいは１、あるいは２、あるいは３である。

【0027】

態様１３．態様１〜１２のいずれか１つに記載の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物と、少なくとも１つの他の構成要素と、を含む組成物。組成物は、その中の式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物の濃度によって特徴付けることができる。濃度は、組成物の５〜＜１００重量パーセント（ｗｔ％）、あるいは１０〜＜１００ｗｔ％、あるいは２０〜＜１００ｗｔ％、あるいは５０〜＜１００ｗｔ％、あるいは６７〜＜１００ｗｔ％、あるいは７５〜＜１００ｗｔ％、あるいは９０〜＜１００ｗｔ％、あるいは５０〜８０ｗｔ％、あるいは２０〜５０ｗｔ％、あるいは９９〜＜１００ｗｔ％であり得る。ｗｔ％濃度は、組成物に添加された構成要素の量を追跡することによって決定することができる。あるいは、又は加えて、構成要素（Ａ）中の非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）アルケニル基及び非プロトン性（Ｃ_２−Ｃ_２０）アルキニル基の総濃度は、構成要素（Ａ）１グラム当たり＞０〜１０ミリモル（ｍｍｏｌ／ｇ）、あるいは＞０〜５ｍｍｏｌ／ｇ、あるいは０．５〜５ｍｍｏｌ／ｇ、あるいは１．０〜４．０ｍｍｏｌ／ｇである。あるいは、又は加えて、式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物は、その中の金属の濃度によって特徴付けることができる。金属濃度は、式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物１グラム当たり０．０１〜１００ミリモル（ｍｍｏｌ／ｇ）、あるいは０．０１〜５０ｍｍｏｌ／ｇ、あるいは０．０２０〜２０ｍｍｏｌ／ｇ、あるいは０．０５０〜１０ｍｍｏｌ／ｇ、あるいは０．１０〜５ｍｍｏｌ／ｇ、あるいは０．１５〜５ｍｍｏｌ／ｇ（ｇは式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物のｇ）であり得る。ｍｍｏｌ／ｇ金属濃度は、式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物を調製するために添加される構成要素の量を追跡することによって決定することができる。あるいは、組成物はその中の金属の濃度によって特徴付けることができる。金属濃度は、組成物の５〜＜１００モルパーセント（ｍｏｌ％）、あるいは１０〜＜１００ｍｏｌ％、あるいは２０〜＜１００ｍｏｌ％、あるいは５０〜＜１００ｍｏｌ％、あるいは６７〜＜１００ｍｏｌ％、あるいは７５〜＜１００ｍｏｌ％、あるいは９０〜＜１００ｍｏｌ％、あるいは５０〜８０ｍｏｌ％、あるいは２０〜５０ｍｏｌ％、あるいは９９〜＜１００ｍｏｌ％であり得る。金属濃度ｍｏｌ％は、組成物に添加された構成要素の量を追跡することによって決定することができる。

【0028】

組成物の少なくとも１つの他の構成要素は、式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物とは構造；相；機能；存在する場合は金属含量；存在する場合はケイ素含量；プロトン性（ｐｒｏｔｉｃｉｔｙ）；又はこれらのいずれか２つ以上の組み合わせが異なる。少なくとも１つの他の構成要素は、式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物と同じ相、あるいは異なる相であってもよい（例えば、両方が固体であってもよく、又は一方が液体であり他方が固体であってもよい）。少なくとも１つの他の構成要素は、接着促進効果がなくてもよく、あるいは接着促進効果を示してもよい。少なくとも１つの他の構成要素は、Ｓｉ原子を含まなくてもよく、あるいは含んでもよい。少なくとも１つの他の構成要素は、金属原子を含まなくてもよく、あるいは含んでもよい。少なくとも１つの他の構成要素は、非プロトン性であってもよく、あるいはプロトン性であってもよい。少なくとも１つの他の構成要素の例は、構成要素（ａ）〜（ｈ）である：（ａ）式（ＩＩ）のオルガノシラノール化合物：Ｒ^１−Ｓｉ（Ｒ^２）（Ｒ^３）−［Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^４）（Ｒ^５）］_ｍ−ＯＨ（ＩＩ）（式中、下付き文字ｍ及びＲ^１〜Ｒ^５基は式（Ｉ）で定義される）；（ｂ）式（ＩＩＩ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド配位子中間体：Ｒ^１−Ｓｉ（Ｒ^２）（Ｒ^３）−［Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^４）（Ｒ^５）］_ｍ−ＯＭ^２（←Ｌ）_ｏ（Ｘ^１）_ｐ（ＩＩＩ）（式中、下付き文字ｍ、ｏ及びｐ並びにＲ^１〜Ｒ^５基、Ｌ基及びＸ^１基は独立して、式（Ｉ）で定義され、金属原子Ｍ^２は、第１族の元素又は第２族のヘミ元素（ｈｅｍｉ−ｅｌｅｍｅｎｔ）である）；（ｃ）式（ＩＶ）のオルガノシラン−ジオール化合物：Ｈ−［Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^４）（Ｒ^５）］_ｍ−ＯＨ（ＩＶ）（式中、下付き文字ｍ及びＲ^４〜Ｒ^５基は式（Ｉ）で定義される）；（ｄ）式（Ｖ）のオルガノシラノキシド−オール化合物：Ｈ−［Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^４）（Ｒ^５）］_ｍ−ＯＭ^２（←Ｌ）_ｏ（Ｘ^１）_ｐ（Ｖ）（式中、下付き文字ｍ、ｏ及びｐ並びにＲ^４〜Ｒ^５基、Ｌ基及びＸ^１基並びに金属Ｍ^２は式（ＩＩＩ）で定義される）；（ｅ）式（ＶＩ）の二金属オルガノシラン−ジオキシド：Ｒ^６−ＯＭ^１−［Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^４）（Ｒ^５）］_ｍ−Ｏ−Ｍ^１Ｏ−Ｒ^６（ＶＩ）（式中、各Ｒ^６は独立して、｛Ｒ^１−Ｓｉ（Ｒ^２）（Ｒ^３）−又はＸ^１であり、下付き文字ｍ、金属Ｍ^１、並びにＲ^１〜Ｒ^５基及びＸ^１基は独立して、式（Ｉ）で定義される）；（ｆ）式（ＶＩＩ）の金属オルガノシラン−ジオキシド：ｃ［−［^＊Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^４）（Ｒ^５）］_ｍ−Ｏ−Ｍ^１＊］Ｏ−Ｒ^６（ＶＩＩ）（式中、「ｃ［^＊．．．^＊］」は、^＊ＯがＭ^１＊に結合している環状基を表し、各Ｒ^６は独立して、｛Ｒ^１−Ｓｉ（Ｒ^２）（Ｒ^３）−又はＸ^１であり、下付き文字ｍ、金属Ｍ^１、並びにＲ^１〜Ｒ^５基及びＸ^１基は独立して、式（Ｉ）で定義される）；及び（ｇ）式（ＶＩＩＩ）のジ−エンドキャップされた（ｄｉ−ｅｎｄｃａｐｐｅｄ）オルガノシランジオール化合物：Ｒ^１−Ｓｉ（Ｒ^２）（Ｒ^３）−［Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^４）（Ｒ^５）］_ｍ−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^２）（Ｒ^３）−Ｒ^１（ＶＩＩＩ）（式中、下付き文字ｍ及びＲ^１〜Ｒ^５基は式（Ｉ）で定義される）；並びにこれらの組み合わせ。典型的には、組成物は、ケイ素結合ヒドロキシル基（Ｓｉ−ＯＨ）を有する化合物を含まない（すなわち、存在しない）。例えば、典型的には組成物は、式（ＩＩ）、（ＩＶ）及び（Ｖ）の化合物を含まない。

【0029】

他の態様では、本発明は、式（ＶＩ）の二金属オルガノシラン−ジオキシドを含む。これらの実施形態は、式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物の代わりに、あるいはこれに加えて、式（ＶＩ）の二金属オルガノシラン−ジオキシドを含み得る。

【0030】

他の態様では、本発明は、式（ＶＩＩ）の金属オルガノシラン−ジオキシドを含む。これらの実施形態は、式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物の代わりに、あるいはこれに加えて、式（ＶＩＩ）の二金属オルガノシラン−ジオキシドを含み得る。

【0031】

組成物は、「硬化性配合物」に関して後述するように、硬化性であるように配合することができる。したがって、硬化性組成物又は配合物の少なくとも１つの他の構成要素は、構成要素（ａ）〜（ｇ）の代わりに又はこれに加えて、モノマー、プレポリマー、又は硬化性ポリマーを含み得る。一部の態様では、硬化性組成物又は配合物は、架橋剤、硬化触媒、又は両方を更に含む。硬化性組成物又は配合物は、後述するように、縮合硬化性、ヒドロシリル化硬化性及び／又はフリーラジカル硬化性であるように配合することができる。

【0032】

一部の実施形態において、Ｍ^２は、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ及びＣｓ；あるいはＬｉ、Ｎａ及びＫ；あるいはＬｉ及びＮａ；あるいはＬｉ及びＫ；あるいはＮａ及びＫ；あるいはＬｉ；あるいはＮａ；あるいはＫ、から選択される第１族の元素である。一部の実施形態において、Ｍ^２は、ヘミＭｇ（ｈｅｍｉ Ｍｇ）、ヘミＣａ、及びヘミＢａ；すなわち、０．５Ｍｇ、０．５Ｃａ、及び０．５Ｂａから選択される第２族のヘミ元素である。ｍが３又は４であるとき、オルガノシラノール化合物は、オリゴオルガノシラノール化合物と称することができ、ｍが５〜１００であるとき、オルガノシラノール化合物は、ポリオルガノシラノール化合物と称することができる。

【0033】

態様１４．態様１３に記載の組成物を硬化させた硬化生成物。

【0034】

態様１５．式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物の製造方法であって、製造方法が、ｎモル当量の式（ＩＩ）のオルガノシラノール化合物：｛Ｒ^１−Ｓｉ（Ｒ^２）（Ｒ^３）−［Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^４）（Ｒ^５）］_ｍ−ＯＨ（ＩＩ）［式中、下付き文字ｍ及びｎ並びにＲ^１〜Ｒ^５基は式（Ｉ）で定義される］を、式（Ａ）の金属塩反応体：Ｍ^１（Ｘ^１）_ｑ （Ａ）、又はその溶媒和物［式中、Ｍ^１は、Ａｌの場合は＋１〜＋３、Ｃｅの場合は＋２〜＋４、Ｆｅの場合は＋１〜＋６、又はＶの場合は＋１〜＋５の形式的な正の酸化状態δ^＋を有する金属原子Ａｌ、Ｃｅ、Ｆｅ、又はＶであり、式（Ａ）のＭ^１の金属原子は、式（Ｉ）のＭ^１の金属原子と同じであり、式（Ａ）中のＭ^１の形式的な正の酸化状態δ^＋は、式（Ｉ）中のＭ^１の形式的な正の酸化状態δ^＋と同じであるか又は異なり、下付き文字ｑ＝式（Ａ）中のＭ^１の形式的な正の酸化状態δ^＋であり、各Ｘ^１は独立して、ハロゲン化物又は非プロトン性オルガノヘテリルアニオンであり、式（Ａ）中の各Ｘ^１は独立して、式（Ｉ）中の各Ｘ^１と同じであるか又は異なる］と、所望により非プロトン性ルイス塩基であるＬの存在下で、接触させて、式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物を得る工程を含む、製造方法。

【0035】

式（ＩＩ）のオルガノシラノール化合物は、市販の供給源から入手するか、又は式（ＩＶ）のオルガノシラン−ジオール化合物：Ｈ−［Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^４）（Ｒ^５）］_ｍ−ＯＨ（ＩＶ）（式中、下付き文字ｍ及びＲ^４〜Ｒ^５基は式（ＩＶ）で定義される）を選択的にエンドキャッピングすることによって合成することができる。式（ＩＶ）のオルガノシラン−ジオール化合物は、１分子当たり平均して各末端に１個のＳｉＯＨ基を有し、この化合物を１モル当量の式Ｒ^１−Ｓｉ（Ｒ^２）（Ｒ^３）−Ｘ^１のエンドキャッパー（ｅｎｄｃａｐｐｅｒ）化合物（式中、Ｒ^１〜Ｒ^３は式（Ｉ）で定義され、Ｘ^１は独立して、ハロゲン化物又は非プロトン性オルガノヘテリルアニオンである）と接触させることによって選択的にエンドキャッピングしてもよい。非プロトン性オルガノヘテリルアニオンは、上記で定義される、例えば、アルコキシド（すなわち、Ｒ^ＸＯ⁻）、カルボキシレート（すなわち、Ｒ^ＸＣ（＝Ｏ）Ｏ⁻）、オキシメート（すなわち、Ｒ^Ｘ_２Ｃ＝ＮＯ⁻）、第二級アミノ（Ｒ^Ｘ_２Ｎ−）、又はトリヒドロカルビルシラノキシド（すなわち、Ｒ^Ｘ_３ＳｉＯ⁻）であり得る。各Ｒ^Ｘは独立して、（Ｃ_１−Ｃ_２０）アルキル、（Ｃ_２−Ｃ_２０）アルケニル、又は（Ｃ_６−Ｃ_２０）アリール；あるいは（Ｃ_１−Ｃ_６）アルキル又は（Ｃ_２−Ｃ_６）アルケニル；あるいは（Ｃ_１−Ｃ_６）アルキル；あるいはメチル、エチル、又はフェニル、から選択される非プロトン性（Ｃ_１−Ｃ_２０）ヒドロカルビルである。エンドキャッピング方法は当該技術分野において周知である。

【0036】

式（ＩＶ）のオルガノシラン−ジオール化合物：Ｈ−［Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^４）（Ｒ^５）］_ｍ−ＯＨ（ＩＶ）は、市販の供給源から入手するか、又は当該技術分野において周知の方法によって製造することができる。例えば、縮合反応条件下で、水を式（Ｂ）のジオルガノシラン：（Ｘ^１）_２ＳｉＲ^４Ｒ^５（Ｂ）（式中、Ｒ^４基及びＲ^５基は式（ＩＶ）で定義され、Ｘ^１基は独立して、上記で定義したハロゲン化物又は非プロトン性オルガノヘテリルアニオンである）と接触させることによって。

【0037】

態様１６．式（Ａ）中のＭ^１の形式的な正の酸化状態δ^＋が、式（Ｉ）中のＭ^１の形式的な正の酸化状態δ＋と異なり、製造方法が、還元又は酸化反応工程を行って、場合により金属塩反応体（Ａ）の金属Ｍ^１の形式的な正の酸化状態δ^＋を式（Ｉ）の金属オルガノシラノキシド化合物の金属Ｍ^１の形式的な正の酸化状態δ^＋に変換する、工程を更に含む、態様１５に記載の製造方法。還元又は酸化反応工程は、それぞれ還元又は酸化を行うための還元剤又は酸化剤を更に含んでもよい。式（Ａ）中のＭ^１のδ^＋が式（Ｉ）中のＭ^１のδ^＋より大きい場合、還元剤が使用される。式（Ａ）中のＭ^１のδ^＋が式（Ｉ）中のＭ^１のδ^＋未満である場合、酸化剤が使用される。還元又は酸化反応工程は、接触工程の前、その間、及び／又はその後に行われ得る。還元又は酸化反応工程は、接触工程と同じ又は異なる反応槽において行われ得る。

【0038】

態様１７．式（Ａ）中のＭ^１の形式的な正の酸化状態δ^＋が、式（Ｉ）中のＭ^１の形式的な正の酸化状態δ^＋と同じであり、製造方法が、還元又は酸化工程を更に含まなくてもよく、還元剤又は酸化剤を更に含まなくてもよい、態様１５に記載の製造方法。一部の実施形態において、式（Ａ）中の各Ｘ^１は、式（Ｉ）中のＸ^１と同じである。一部の実施形態において、式（Ａ）中のＭ^１のδ^＋は、式（Ｉ）中のＭ^１のδ^＋と同じであり、この方法は、還元又は酸化工程を更に含まず、還元剤又は酸化剤を更に含まず、各Ｘ^１は式（Ａ）及び（Ｉ）において同じである。一部の実施形態において、各Ｘ^１は、ハロゲン化物、あるいは非プロトン性オルガノヘテリルアニオン、あるいはアルコキシドである。

【0039】

式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物の製造方法は、オルガノシラノール前駆体化合物（例えば上述の式（ＩＩ）のオルガノシラノール）を、ケイ素を含まない金属塩反応体（例えば、上述の式（Ａ）の金属塩反応体）と接触させて、式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物及び後述の副生成物を含む生成物反応混合物を得る工程を含み得る。金属塩反応体（例えば、上述の式（Ａ）の金属塩反応体）は、市販の供給源から入手するか、又はその多くが当該技術分野において周知の任意の好適な方法によって合成することができる。

【0040】

接触工程は、金属が式（Ｉ）中のＭ^１と同じではない中間体金属非プロトン性オルガノシラノキシド配位子錯体を経ることなく、オルガノシラノール前駆体化合物及び金属塩反応体から直接式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物を調製する。式（Ａ）中のＸ^１が独立してハロゲン化物である場合、接触工程及び生成物反応混合物は、金属が式（Ｉ）中のＭ^１と同じ金属であるオルガノヘテリル金属などの金属非求核塩基を更に含み、生成物反応混合物は、第２の副生成物を更に含む。副生成物は、オルガノヘテリル金属に対応するオルガノヘテリル−Ｈであり、ハロゲン化物塩に対応する金属ハロゲン化物塩である。オルガノヘテリルがアルコキシドであり、ハロゲン化物が塩化物である場合、副生成物は、アルコキシドに対応するアルコール及びハロゲン化物に対応する金属塩化物である。

【0041】

あるいは、式（Ａ）中のＸ^１が独立して非プロトン性オルガノヘテリルアニオンである場合、金属が式（Ｉ）中のＭ^１と同じ金属であるオルガノヘテリル金属などの金属非求核塩基は、接触工程、及びそれにより得られる生成物反応混合物に含めなくてもよい。例えば、式（Ａ）中でＸ^１が独立してアルコキシドである場合、式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物の製造方法は、オルガノシラノール前駆体化合物（例えば上述の式（ＩＩ）のオルガノシラノール）を、ケイ素を含まない金属アルコキシド塩反応体（例えば、各Ｘ^１が独立してアルコキシドである上述の式（Ａ）の金属塩反応体）と接触させて、式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物及びアルコキシドに対応するアルコール副生成物を含む生成物反応混合物を得る工程を含み得る。

【0042】

式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物及び副生成物を含む生成物反応混合物は、「そのまま」、すなわち更に処理することなく使用してもよく、又は更に処理してもよい。生成物反応混合物の更なる処理は、そこから副生成物を除去すること、そこから溶媒を除去すること、そこから式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物を単離及び／若しくは精製すること、並びに／又は生成物反応混合物の溶媒を他の溶媒と（置き換えるために）溶媒交換すること、を含み得る。オルガノヘテリル−Ｈである副生成物、例えばアルコール、及び溶媒は、蒸発、蒸留、ストリッピング、ブロッティング（ｂｌｏｔｔｉｎｇ）、デカンテーション、摩砕（ｔｒｉｔｕｒａｔｉｎｇ）、抽出、又はこれらのいずれか２つ以上の組み合わせなどの任意の好適な技術によって生成物反応混合物から除去することができる。金属ハロゲン化物である副生成物は、ろ過又は遠心分離／デカンテーションなどの任意の好適な技術によって生成物反応混合物から除去することができる。単離及び／又は精製は、そこから式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物を沈殿又はろ過すること、あるいはそこから副生成物を沈殿又はろ過することを含み得る。沈殿は、生成物反応混合物を冷却することによって、及び／又は、沈殿させたいものが不溶性である有機液体などの不溶化添加剤を反応混合物に添加することによって、行うことができる。接触工程及び更なる処理工程は、大気及び湿気に感受性を有する材料のための従来の技術、例えば、真空ガスマニホールド機器（いわゆるシュレンクライン技術）、カニューレトランスファー（ｃａｎｎｕｌａ ｔｒａｎｓｆｅｒ）、不活性ガス雰囲気、及び無水溶媒などを使用して行ってもよい。これらの技術はよく知られている。

【0043】

代替の実施形態において、式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物の製造方法は、金属がＡｌ、Ｃｅ、Ｆｅ、又はＶでない中間体金属非プロトンオルガノシラノキシド配位子錯体を経ることを含み得る。そのような実施形態において、この方法は、オルガノシラノール前駆体化合物（例えば、上述の式（ＩＩ）のオルガノシラノール）を、有効量の第１族金属又は第２族ヘミ金属非求核塩基、例えば、第１族金属第２族ヘミ金属アルコキシド（例えば、カリウム第三級ブトキシド）、第１族金属第２族ヘミ金属第二級アミド（例えば、リチウムジイソプロピルアミド）、第１族金属第２族ヘミ金属カルボアニオン（ｃａｒｂａｎｉｏｎ）（例えば、第三級−ブチルリチウム）、第１族金属第２族ヘミ金属水素化物（例えば、ＮａＨ又はＣａＨ_２）、グリニャール試薬（例えば、臭化エチルマグネシウム）、又は第１族金属第２族ヘミ金属ジシラザン（例えば、カリウムビス（トリメチルシリル）アミド）などと事前に接触させて、金属非プロトン性オルガノシラノキシド配位子中間体及び中間体副生成物を含む中間体反応混合物を得ることを含む。中間体副生成物は、アルコキシドに対応するアルコール、第二級アミドに対応する第二級アミン、カルボアニオンに対応する炭化水素、分子状水素、グリニャール試薬に対応する炭化水素（例えば、エタン）、又はジシラザンに対応するビス（トリアルキルシリル）アミンである。第１族金属及び第２族ヘミ金属は、式（ＩＩＩ）中のＭ^２に上記で定義され得る。第１族金属は、リチウム、ナトリウム、カリウム、又はセシウムであり得る。第２族ヘミ金属は、ヘミマグネシウム又はヘミカルシウム（すなわち、０．５Ｍｇ又は０．５Ｃａ）であり得る。事前接触工程の後に、前段落で記載した接触工程が行われるが、ただし、オルガノシラノール前駆体化合物の代わりに金属非プロトン性オルガノシラノキシド配位子中間体が使用される。

【0044】

金属非プロトン性オルガノシラノキシド配位子中間体及び中間体副生成物を含有する中間体反応混合物は、「そのまま」、すなわち更に処理することなく使用してもよく、又は更に処理してもよい。中間体反応混合物の更なる処理は、全て次の接触工程の前に、そこから金属非プロトン性オルガノシラノキシド配位子中間体を単離及び／若しくは精製すること、又は中間体反応混合物を濃縮若しくは溶媒交換すること、を含み得る。単離及び／又は精製は、そこから金属非プロトン性オルガノシラノキシド配位子中間体を沈殿又はろ過すること、あるいはそこから副生成物を沈殿又はろ過することを含み得る。沈殿は、中間体反応混合物を冷却することによって、及び／又は、沈殿させたいものが不溶性である有機液体などの不溶化添加剤を中間体反応混合物に添加することによって、行うことができる。事前接触工程及び更なる処理工程は、大気及び湿気に感受性を有する材料のための従来の技術、例えば、真空ガスマニホールド機器（いわゆるシュレンクライン技術）、カニューレトランスファー、不活性ガス雰囲気、及び無水溶媒などを使用して行ってもよい。

【0045】

本明細書に記載の接触工程は独立して、典型的には、有機溶媒又はポリジメチルシロキサン流体などの溶媒中で行われるため、反応混合物は典型的には溶媒を更に含む。好適な非プロトン性有機溶媒の例は、イソアルカン、トルエン、キシレンなどの炭化水素；テトラヒドロフラン及びジオキサンなどのエーテル；２−プロパノール及び１−ブタノールなどのアルコール；メチルエチルケトンなどのケトン；並びにピリジンである。一部の態様では、溶媒は非プロトン性であるか、又はプロトン性である。接触工程は、−５０℃〜１５０℃などの任意の好適な温度で、１分〜１日などの任意の好適な期間にわたって、行うことができる。一般に、接触温度が高いほど期間は短い。

【0046】

式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物は、そのまま使用してもよく、又はシリコーン配合物及び有機配合物を含む様々な配合物中の構成要素として使用してもよい。このような配合物の例は、それぞれがシリコーン配合物及び有機配合物を含む接着剤、コーティング、エラストマー、封入材、ポッティング材、及びシーラントである。そのまま使用される式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物の実施形態は、プライマー、充填剤、処理剤、又は縮合反応触媒として使用され得る。プライマーは、接着、コーティング、エラストマー、封入（ｅｎｃａｐｓｕｌａｔｉｎｇ）、ポッティング、又はシーリング（ｓｅａｌｉｎｇ）を必要とする基材上に使用され得る。充填剤処理剤は、未処理の充填剤に使用され得る。式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物で処理され得る未処理の充填剤の例は、シリカ、窒化ホウ素、アルミナ、及び二酸化ジルコニウム；あるいはシリカ、窒化ホウ素、及びアルミナ；あるいはシリカ及び窒化ホウ素；あるいはシリカ及びアルミナ；あるいはシリカ；あるいは窒化ホウ素；あるいはアルミナ；あるいは二酸化ジルコニウムである。式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物で処理され得る未処理の充填剤の更なる例は、金属粉末、セラミック粒子、及びこれらの混合物である。式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物で処理され得る未処理の充填剤の更なる例は、カーボンナノチューブ（例えば、単層又は多層）、粉末状ダイヤモンド、粉末状グラファイト、グラフェン、及びカーボンブラックなどの炭素粒子である。金属粉末の例は、アルミニウム、コバルト、銅、金、鉄、ニッケル、パラジウム、白金、銀、スズ、チタン、亜鉛、及びこれらのいずれか２種以上の合金の粉末である。金属粒子は、金属酸化物又は金属窒化物表面層を有してもよい。金属粒子は、非金属コア（例えば、ガラスビーズ又は球）及びその表面に配置された外側金属シェルを含むコア−シェル粒子であってもよい。セラミック粒子の例は、酸化亜鉛；アルミナ；窒化アルミニウム若しくは窒化ホウ素などの窒化物；酸化アルミニウム、酸化ベリリウム、酸化銅、酸化マグネシウム、酸化ニッケル、酸化銀、酸化亜鉛、若しくはこれらのいずれか２種以上の組み合わせなどの金属酸化物；アルミニウム三水和物、若しくは水酸化マグネシウムなどの金属水酸化物；オニキス、炭化ケイ素若しくは炭化タングステンなどの金属炭化物；又はチタン酸バリウムなどの金属チタン酸塩である。セラミック粒子は、金属酸化物若しくは金属窒化物表面層、又は支持体材料を有する金属粒子を含む金属粒子とは、少なくとも１つの特徴、構造、機能、反応性又は特性が異なる。縮合反応触媒は、モノマー、プレポリマー、及び／又は硬化性ポリマーの硬化を触媒するために使用され得る。式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物によって硬化が触媒され得るモノマー、プレポリマー、又は硬化性ポリマーの例は、ウレタン、ＳｉＯＨ官能性シラン、及びＳｉＯＨ官能性オルガノシロキサンである。ウレタンモノマー、プレポリマー又は硬化性ポリマーの硬化により、縮合硬化ポリウレタンが得られる。ＳｉＯＨ官能性シラン又はオルガノシロキサンプレポリマー又は硬化性ポリマーの硬化により、縮合硬化ポリオルガノシロキサンが得られる。未処理の充填剤は、形状が立方体状、薄片状、粒状、不規則形状、針状、粉末、棒状、球状、又は立方体状、薄片状、粒状、不規則形状、針状、粉末、棒状、及び球状のうちのいずれか２つ以上の混合物であってもよい。

【0047】

シリコーン配合物中の構成要素として使用される式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物の実施形態は、例えば、接着剤、コーティング、エラストマー、封入材、ポッティング材、又はシーラント配合物において、接着促進剤又は共促進剤として機能し得る。配合物は、式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物を含まないこと以外は同一の配合物と比較して、基材に対する接着を強化することが予期される。接着剤、コーティング、エラストマー、封入材、ポッティング材又はシーラント配合物は、接着、コーティング、エラストマー機能、封入、ポッティング、又はシーリングを必要とする基材に適用され得る。接着促進剤として使用される式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物の実施形態は、基材に対する接着剤、コーティング、エラストマー、封入材、ポッティング材、又はシーラント配合物の接着を強化するように機能し得る。

【0048】

接着共促進剤として使用される式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物の実施形態において、配合物は式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物以外の接着促進剤である更なる構成要素、例えば従来の接着促進剤などを更に含んでもよい。接着共促進剤として機能する場合、式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物は、接着剤、コーティング、エラストマー、封入材、ポッティング材又はシーラント配合物の基材に対する接着を相乗的に強めるように、従来の接着促進剤の接着促進効果を強化し得る。いずれの実施形態においても、基材は未処理（むき出し）であってもよく、又はそこに接着剤、コーティング、封入材、又はシーラント配合物を適用する前にプライマー処理してもよい。プライマー処理された基材は、式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物と同じであっても又は異なってもよいプライマーで前処理された基材であり、前処理は適用工程の前に行われる。

【0049】

一部の態様において、式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物と、少なくとも１つの他の構成要素と、を含む組成物は、接着剤配合物、コーティング配合物、エラストマー配合物、封入材配合物、ポッティング材配合物、又はシーラント配合物として使用される。一部の態様において、配合物は有機配合物（例えば、エポキシ系接着剤配合物）である。他の態様において、配合物は、シリコーン接着剤配合物、シリコーンコーティング配合物、シリコーンエラストマー配合物、シリコーン封入材配合物、シリコーンポッティング材配合物、又はシリコーンシーラント配合物などのシリコーン配合物である。有機又はシリコーン接着剤配合物は、感圧性接着剤配合物であってもよい。

【0050】

配合物を用いて接着、コーティング、封入、ポッティング、又は封止するために好適な基材材料としては、ケイ酸塩ガラス、金属、有機ポリマー、ポリオルガノシロキサン、木材、紙、並びにケイ素及び炭化ケイ素などの半導体材料が挙げられる。接着、コーティング、封入、ポッティング、又はシーリングを必要とする基材は、容器、布地、プラスチックフィルム、紙、プリント回路基板、機械の、車両の、若しくは製造物品の構造部材、又はテキスタイルであり得る。

【0051】

配合物は、建築、建設、消費者製品、エレクトロニクス、エネルギー、インフラストラクチャー、包装、電気通信、及び輸送などの様々な産業において有用である。例えば、接着剤配合物は、光起電セルモジュールにおいて、光起電セルをサブストレート又はスーパーストレート（ｓｕｐｅｒｓｔｒａｔｅ）に接着するための結合層として使用することができる。コーティング配合物を使用して、自動車用途などの車両用途におけるエアバッグをコーティングしてもよい。エラストマー配合物は、電子デバイスの振動抑制構成要素として使用してもよい。封入材配合物は、発光ダイオード（ＬＥＤ）などの固体光源、光起電若しくは太陽パネル若しくは電池などの光起電デバイス、又はプリント回路などの電子デバイスを封入するために使用してもよい。ポッティング材配合物は、マイクロインバータなどの電力変換器構成要素をポッティングするために使用してもよい。シーラント配合物は、スマートフォン又は薄型テレビのフレームにディスプレイパネルを封止するために使用してもよい。

【0052】

先に述べたように、組成物は、硬化性シリコーン配合物などの硬化性配合物となるように配合してもよい。硬化性シリコーン配合物は、縮合硬化性、ヒドロシリル化硬化性、フリーラジカル硬化性、又はデュアル硬化性（ｄｕａｌ−ｃｕｒａｂｌｅ）であるように配合することができる。一部の態様において、シリコーン配合物は、縮合硬化性及び／又はフリーラジカル硬化性、あるいはヒドロシリル化硬化性及び／又はフリーラジカル硬化性；あるいは縮合硬化性及び／又はヒドロシリル化硬化性、あるいは縮合硬化性、あるいはヒドロシリル化硬化性、あるいはフリーラジカル硬化性、あるいはデュアル硬化性である。デュアル硬化性配合物は、縮合及びフリーラジカル硬化機構又はヒドロシリル化及びフリーラジカル硬化機構によって硬化可能であり得る。フリーラジカル硬化は、放射線硬化、過酸化物硬化、又は両方を含み得る。硬化速度は、配合物に熱、圧力、又は両方を加えることによって高めることができる。

【0053】

硬化性シリコーン配合物の少なくとも１つの他の構成要素は、構成要素（ａ）〜（ｇ）の代わりに又はこれに加えて、モノマー、プレポリマー、又は硬化性ポリマーを含み得る。硬化の際、モノマー、プレポリマー又は硬化性ポリマーは、より大きいモル質量のポリマーに化学的に変換され、その後、ネットワークに変換される。一部の態様において、硬化性シリコーン配合物は、架橋剤、硬化触媒、又は両方を更に含む。架橋剤は、ネットワークを形成するために使用され得る。これらの前述の構成要素は、使用される所期の硬化機構に基づいて選択される。例えば、ヒドロシリル化硬化させるためには、モノマー、プレポリマー又は硬化性ポリマーはケイ素結合不飽和脂肪族基を含み得、架橋剤はケイ素結合水素原子（ＳｉＨ基）を含み得る。例えば、フリーラジカル硬化させるためには、モノマー、プレポリマー又は硬化性ポリマー及び架橋剤は独立して、ケイ素結合不飽和脂肪族基を含み得る。縮合硬化のためには、モノマー、プレポリマー又は硬化性ポリマー及び架橋剤は独立して、ケイ素結合加水分解性基を含み得る。デュアル硬化のためには、モノマー、プレポリマー又は硬化性ポリマーは、２種の異なるタイプの硬化性基を含み得る。

【0054】

フリーラジカル硬化は、硬化を開始させるために放射線及び／又は過酸化物を使用する。放射線は、紫外線を含み得る。過酸化物は、無機又は有機過酸化物であってもよい。無機過酸化物は、ヒドロペルオキシドであり得る。有機過酸化物は、ペルオキシカルボン酸エステル又はペルオキシカルボン酸無水物であり得る。

【0055】

縮合硬化は、硬化剤としての水、及び所望により縮合反応触媒を使用する。典型的な縮合反応触媒はスズ（Ｓｎ）化合物である。ヒドロシリル化硬化は、ヒドロシリル化触媒及び／又は架橋剤を使用する。ヒドロシリル化触媒は典型的には、白金、ロジウム、ルテニウム、又はパラジウムに基づいている。典型的には、ヒドロシリル化触媒はＰｔ触媒である。他の態様では、組成物は、チタン及び／又はジルコニウム非プロトン性オルガノシラノキシド化合物を更に含み得る。

【0056】

したがって、一部の実施形態において、本発明は、式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物と式（ＶＩＩＩ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物：｛Ｒ^１−Ｓｉ（Ｒ^２）（Ｒ^３）−［Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^４）（Ｒ^５）］_ｍ−Ｏ｝_ｎ−Ｍ^３（←Ｌ）_ｏ（Ｘ^１）_ｐ（ＶＩＩＩ）［式中、Ｍ^３は、＋１〜＋６の形式的な正の酸化状態δ^＋を有するＰｔ、＋１〜＋６の形式的な正の酸化状態δ^＋を有するＰｄ、＋１〜＋６の形式的な正の酸化状態δ^＋を有するＲｈ、＋１〜＋８の形式的な正の酸化状態δ^＋を有するＲｕ、＋１〜＋４の形式的な正の酸化状態δ^＋を有するＳｎ、＋１〜＋４の形式的な正の酸化状態δ^＋を有するＴｉ、又は＋１〜＋４の形式的な正の酸化状態δ^＋を有するＺｒであり、下付き文字ｍ、ｎ、ｏ、及びｐ；並びにＬ基、Ｘ^１基、及びＲ^１〜Ｒ^５基は独立して、式（Ｉ）で上記で定義される］との混合物を更に含む。式（ＶＩＩＩ）の一部の態様において、Ｐｔのδ^＋は＋２又は＋４、Ｐｄのδ^＋は＋２又は＋４、Ｒｕのδ^＋は＋３又は＋４、Ｒｈのδ^＋は＋３、Ｓｎのδ^＋は＋２又は＋４、Ｔｉのδ^＋は＋４、Ｚｒのδ^＋は＋４である。混合物の一部の態様において、式（ＶＩＩＩ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物において、Ｍ^３はＰｔ、Ｐｄ、Ｒｈ又はＲｕ；あるいはＰｔ又はＲｈ；あるいはＰｔ、あるいはＰｄ、あるいはＲｈ、あるいはＲｕであり、Ｍ^３はＳｎ、Ｔｉ、又はＺｒのいずれでもない。混合物の他の態様において、式（ＶＩＩＩ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物において、Ｍ^３はＳｎ、Ｔｉ、又はＺｒ；あるいはＳｎ又はＴｉ；あるいはＳｎ又はＺｒ；あるいはＴｉ又はＺｒ；あるいはＳｎ、あるいはＴｉ、あるいはＺｒであり、Ｍ^３はＰｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、又はＲｕのいずれでもない。架橋剤は、１分子当たり平均して２個以上のケイ素結合水素原子（ＳｉＨ基）を有するオルガノシロキサンであり得る。式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物は、態様１〜１１のいずれか１つに記載され得る。

【0057】

配合物は、１成分型配合物（１−ｐａｒｔ ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ）として、又は２成分型配合物（２−ｐａｒｔ ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ）などの多成分型配合物として配合してもよい。配合物の構成要素は、振とう又は撹拌などによって一緒に機械的にかき混ぜることなどの、任意の好適な手段によって一緒に混合することができる。配合物は、接着剤、コーティング、エラストマー化（ｅｌａｓｔｏｍｅｒｉｚｉｎｇ）、封入、ポッティング、又はシーリング用途などの特定の用途での使用に関する説明書と共にそのまま包装してもよい。多成分型配合物は、複数のパッケージ中に包装してもよく、説明書は、特定の用途において使用する前に他の部分（ｐａｒｔ）と合わせるための指示を更に含んでもよい。式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物を別個の部分に、他の構成要素を他の部分に保持し、その後、用途において使用する直前にこれらの部分を互いに混合してもよい。多成分配合物は、２０℃〜４０℃などの任意の好適な温度で貯蔵され得る。

【0058】

１成分型配合物において式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物を使用する場合、１成分型配合物は、−２０℃〜２０℃などのより低温で貯蔵され得る。一部の実施形態において、式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物は、１成分型又は多成分型配合物においてｉｎ ｓｉｔｕで製造され得る。例えば、式（ＩＩ）のオルガノシラノール化合物：｛Ｒ^１−Ｓｉ（Ｒ^２）（Ｒ^３）−［Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^４）（Ｒ^５）］_ｍ−ＯＨ（ＩＩ）を１つの部分に、モノマー、プレポリマー又は硬化性ポリマー及び架橋剤などの他の構成要素を別の部分に、触媒を更に別の部分に保持してもよく、式（Ａ）の金属塩反応体：Ｍ^１（Ｘ^１）_ｑ（Ａ）を第４の部分に保持してもよく、その後、配合物を使用する直前に、第１及び第４の部分を加熱しながら合わせて、ｉｎ ｓｉｔｕで式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシロキサン化合物を形成してもよく、アルコールなどの副生成物を除去してもよく、その後、得られる生成物を他の部分と合わせて配合物を得てもよい。

【0059】

本発明の実施形態はまた、硬化性配合物を硬化させることによって調製される硬化生成物も含む。一部の態様において、硬化生成物は、硬化性有機配合物（例えば、硬化性エポキシ配合物）を硬化させることによって調製される硬化有機生成物である。他の態様では、硬化生成物は、硬化性シリコーン配合物のいずれか１つを硬化させることによって調製される硬化シリコーン生成物である。硬化は、７０℃〜２００℃、あるいは８０℃〜１５０℃、あるいは９０℃〜１２０℃の硬化温度で硬化性シリコーン配合物を加熱することによって実施することができる。有利には、硬化は、硬化シリコーン生成物が気泡を含まない硬化シリコーン生成物を生成することができる。

【0060】

有利には、硬化性シリコーン配合物を硬化させることによって調製される本発明の硬化シリコーン生成物は、硬化シリコーン生成物が基材に対して良好に接着するために、基材の表面に存在する含水率に対する向上した耐性を有し得る。このことは、特に基材表面の含水率が＞０ｗｔ％〜≦１．８ｗｔ％である場合、本発明の硬化性シリコーン配合物をそこに適用する前に基材の表面を予備乾燥する必要がないであろうことを意味する。対称的に、式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物を含まないこと以外は同一の比較（非発明）硬化性シリコーン配合物の硬化生成物は、同じ含水率を有する基材表面に対して顕著に弱い接着を有し得る。

【0061】

有利には、硬化性シリコーン配合物を硬化させることによって調製される本発明の硬化シリコーン生成物の接着は、硬化性シリコーン配合物がヒドロシリル化硬化性又はフリーラジカル硬化性などの付加硬化性配合物である場合に更に向上し得る。ヒドロシリル化硬化性シリコーン配合物をヒドロシリル化硬化させることによって調製されるヒドロシリル化硬化シリコーン生成物によって基材に対する接着を達成するためには、７０℃〜１２０℃、あるいは８０℃〜１１０℃、あるいは９０℃〜１００℃の比較的低い接着生成温度（ａｄｈｅｓｉｏｎ−ｐｒｏｄｕｃｉｎｇ ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ）での加熱で十分であり得る。対称的に、式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物を含まないこと以外は同一の比較（非発明）ヒドロシリル化硬化性シリコーン配合物は、≧１４０℃のより高い接着生成温度を必要とし得る。本発明のヒドロシリル化硬化性シリコーン配合物が白金ヒドロシリル化触媒を含有する場合、接着の向上は更に強化され、熱に対する安定性は有利に高まり得、一方、非発明ヒドロシリル化硬化性シリコーン配合物がチタン酸テトラブチルなどのチタン触媒を含有し、低い熱安定性を示し得る。

【0062】

式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物は、シリコーンプレポリマー若しくは硬化性シリコーンポリマー、例えばジメチルシリコーンをベースとするプレポリマー及び硬化性ポリマーなど、又はメチル、フェニルシリコーンなどの他のシリコーン材料との適合性を高めることを可能にする液体であってもよい。この適合性により、有利には、硬化性シリコーン配合物、及びそれを硬化させることによって調製される硬化シリコーン生成物を光学的に透明にすること、配合物及び用途のフレキシブルな設計を可能となる。

【0063】

一部の実施形態において、式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物は、後述の実施例１Ａ、１ＡＡ、１Ｂ〜１Ｇ、２Ａ〜２Ｅ、３Ａ〜３Ｅ、及び４Ａのいずれか１つ、又はいずれか２つの組み合わせであり得る。

【0064】

実施例の任意の１つの述べられた特徴若しくは限定、任意の１つの述べられたマーカッシュの亜属（ｓｕｂｇｅｎｕｓ）若しくは種（ｓｐｅｃｉｅｓ）、又は範囲若しくは部分範囲の任意の１つの述べられた数が、依拠されてもよく、請求項の補正のための適切な根拠を提供するように、この説明は意図的に記載されている。特徴又は限定の列挙の後に続く「及びその溶媒和物」及び「又はこれらのいずれか２つ以上の組み合わせ」などの包括的な表現は、その特徴又は限定のそれぞれ１つに対して独立して適用され、また、別個の特徴又は限定として存在する。

【0065】

本明細書で特に定義されていない限り、言及された一般的な用語は下記の意味を有する。あるいは（ａｌｔｅｒｎａｔｉｖｅｌｙ）は、異なる実施形態の前に置かれる。冠詞「ａ」、「ａｎ」、及び「ｔｈｅ」は各々、１つ以上を指す。いずれの比較例も、例示の目的でのみ使用され、先行技術ではないものとする。「含まない（ｆｒｅｅ ｏｆ）」又は「存在しない（ｌａｃｋ）」は、全く存在しないこと、あるいは、例えば核磁気共鳴（ＮＭＲ）分光法（例えば、^１Ｈ−ＮＭＲ、^１３Ｃ−ＮＭＲ、又は^２９Ｓｉ−ＮＭＲ）又はフーリエ変換赤外線（ＩＲ）分光法を使用して検出できないことを意味する。「本発明」及び「本発明の」は、代表的な実施形態又は態様を意味し、本発明全体を意味するわけではないものとする。ＩＵＰＡＣは、国際純正応用化学連合（Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｕｎｉｏｎ ｏｆ Ｐｕｒｅ ａｎｄ Ａｐｐｌｉｅｄ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）（ＩＵＰＡＣ Ｓｅｃｒｅｔａｒｉａｔ，Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｔｒｉａｎｇｌｅ Ｐａｒｋ，Ｎｏｒｔｈ Ｃａｒｏｌｉｎａ，ＵＳＡ）である。要素Ａ及びＢのマーカッシュ群は、「Ａ及びＢから選択される要素」；「Ａ及びＢからなる群から選択される要素」；又は「要素Ａ又はＢ」として同等に表現することができる。各要素は独立して、属の亜属又は種であり得る。「であってもよい、し得る、ことができる、ことがある（ｍａｙ）」は、可能な選択肢を与えるものであり、必須ではない。「作動可能な（ｏｐｅｒａｔｉｖｅ）」は、機能的に可能又は有効であることを意味する。所望による、任意の（所望により、任意に）（ｏｐｔｉｏｎａｌ（ｌｙ））とは、存在しない（又は除外される）か、あるいは存在する（又は含まれる）ことを意味する。特性は、その測定のための標準的な試験方法及び条件（例えば、粘度：２３℃及び１０１．３ｋＰａ）を用いて測定される。整数の範囲が小数値を含まないことを除いて、範囲は、端点、部分範囲、並びにその中に包含される整数値及び／又は小数値を含む。構成要素の混合物からある構成要素を除去することは、その誘導体／生成物がその後、混合物の他の構成要素から物理的に分離されない限り、その構成要素を選択的に誘導体化／反応させて誘導体／生成物を形成することを含まない。

【0066】

本明細書で特に定義されていない限り、言及されている化学的専門用語は、ＩＵＰＡＣによって、又は、ＩＵＰＡＣにない用語は、Ｈａｗｌｅｙ’ｓ ＣＯＮＤＥＮＳＥＤ ＣＨＥＭＩＣＡＬ ＤＩＣＴＩＯＮＡＲＹ，１１^ｔｈ ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｎ．Ｉｒｖｉｎｇ Ｓａｘ＆Ｒｉｃｈａｒｄ Ｊ．Ｌｅｗｉｓ，Ｓｒ．，１９８７（Ｖａｎ Ｎｏｓｔｒａｎｄ Ｒｅｉｎｈｏｌｄ）によって、定義されている意味を有する。いくつかのＩＵＰＡＣ用語は、ＩＵＰＡＣ．Ｃｏｍｐｅｎｄｉｕｍ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｔｅｒｍｉｎｏｌｏｇｙ，２ｎｄ ｅｄ．（ｔｈｅ「Ｇｏｌｄ Ｂｏｏｋ」）．Ｃｏｍｐｉｌｅｄ ｂｙ Ａ．Ｄ．ＭｃＮａｕｇｈｔ ａｎｄ Ａ．Ｗｉｌｋｉｎｓｏｎ．Ｂｌａｃｋｗｅｌｌ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎｓ，Ｏｘｆｏｒｄ（１９９７）．ＸＭＬ ｏｎ−ｌｉｎｅ ｃｏｒｒｅｃｔｅｄ ｖｅｒｓｉｏｎ：ｈｔｔｐ：／／ｇｏｌｄｂｏｏｋ．ｉｕｐａｃ．ｏｒｇ（２００６−）ｃｒｅａｔｅｄ ｂｙ Ｍ．Ｎｉｃ，Ｊ．Ｊｉｒａｔ，Ｂ．Ｋｏｓａｔａ；ｕｐｄａｔｅｓ ｃｏｍｐｉｌｅｄ ｂｙ Ａ．Ｊｅｎｋｉｎｓ．ＩＳＢＮ ０−９６７８５５０−９−８．ｄｏｉ：１０．１３５１／ｇｏｌｄｂｏｏｋにおいて見いだされる。非プロトン性は、−ＯＨ基、−ＮＨ基、−ＳＨ基、及び−ＰＨ基を含まないことを意味する。重量平均分子量（「Ｍ_ｗ」）などのポリマーの平均分子量は、ポリスチレン標準物質を用いたゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）を使用して決定する。化学元素及び化学元素の族は、元素の周期表（２０１３年５月０１日版）においてＩＵＰＡＣによって公開されているものを意味するものとする。化合物は、分子又はそのような分子の集合体を意味するものとし、組成物は、２種以上の異なる化合物の混合物を意味するものとし、この混合物は非硬化性であるように構成されてもよく、あるいは硬化性であるように構成されてもよく、配合物は、音響学的、化学的、電気的、磁気的、機械的、光学的、物理的、放射線学的、若しくは熱的特性、又はこれらのいずれか２つ以上の組み合わせなどの特定の材料特性を有するように特定の用途のために構成された組成物を意味するものとする。硬化オルガノシロキサンなどの硬化生成物は、それを製造するために使用される特定の反応体及び硬化条件に応じて変わる可能性がある構造を有し得る。この可変性は無制限ではないが、反応体の構造（例えば、骨格及び／又は硬化性基構造）並びに硬化の化学的性質及び条件に応じて制限される。１成分型の配合物は、硬化生成物を生成するために必要な割合で全ての構成要素を含む混合物を意味する。１成分型配合物は、硬化プロセスを開始する、加速させる、又は完了するために、水分（縮合硬化の場合）、熱（付加硬化の場合）、又は光（付加硬化の場合）などの外的要因を使用し得る。２成分型の配合物は、異なる反応性構成要素を２つの別個の補完的な区分に分けて、硬化の早期開始を防止する系を意味する。例えば、主要部分（ｐｒｉｍａｒｙ ｐａｒｔ）には触媒ではなくモノマー、プレポリマー、又は硬化性ポリマーが含まれ得、補助部分（ｓｅｃｏｎｄａｒｙ ｐａｒｔ）には、モノマー、プレポリマー又は硬化性ポリマーではなく硬化触媒が含まれ得る。硬化の開始は、主要部分と補助部分を一緒に合わせて１成分型配合物を形成することによって実現される。「置換された」は、水素の代わりに、パー置換を含む１個以上の置換基を有することを意味する。各置換基は独立して、ハロゲン原子、−ＮＨ_２、−ＮＨＲ、−ＮＲ_２、−ＮＯ_２、−ＯＨ、−ＯＲ、オキソ（＝Ｏ）、−ＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＨ、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ、−ＳＨ、−ＳＲ、−ＳＳＨ、−ＳＳＲ、−ＳＣ（＝Ｏ）Ｒ、−ＳＯ_２Ｒ、−ＯＳＯ_２Ｒ、−ＳｉＲ_３、又は−Ｓｉ（ＯＲ）_３であり得、式中、各Ｒは独立して、非置換（Ｃ_１−Ｃ_３０）ヒドロカルビル、あるいは（Ｃ_１−Ｃ_６）ヒドロカルビルである。ハロゲン原子は、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、又はＩ；あるいはＦ、Ｃｌ、又はＢｒ；あるいはＦ又はＣｌ；あるいはＦ；あるいはＣｌである。各置換基、あるいは全ての置換基は非プロトン性、あるいはプロトン性であってもよい。ビヒクルは、担体、希釈剤、分散剤、貯蔵媒体、上清、又は他の材料のための溶媒としての役割を果たす液体を意味する。

【0067】

本明細書中のいずれの化合物も、天然存在形態及び／又は同位体濃縮された形態を含めて、全てのその同位体形態を含む。同位体濃縮された形態は、同位体濃縮された形態の検出が治療又は検査に役立つ医療又は偽造防止用途などの、更なる用途を有し得る。

【0068】

一部の態様において、本明細書に記載されている任意の組成物又は配合物は、元素周期表の第１族〜第１８族の化学元素のうちの任意の１つ以上を含み得る。他の態様では、少なくとも１つのそのような化学元素は、そのような除外がその組成物又は配合物の存在を否定する場合を除き、組成物又は配合物から特に除外される。例えば、Ｓｉ原子はケイ素化合物から除外されず、炭素原子は有機基から除外されない。一部の態様において、除外されない元素は、Ｓｉ、Ｏ、Ｈ、Ｃ、Ｎ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、及びＩ；あるいはＳｉ、Ｏ、Ｈ、Ｃ、Ｆ、及びＣｌである。

【0069】

本発明は、以下の非限定的な実施例によって更に説明され、本発明の実施形態は、この非限定的な実施例の特徴及び限定の任意の組み合わせを含み得る。周囲温度は別段の表示がない限り、約２３℃である。

【実施例】

【0070】

^２９Ｓｉ−ＮＭＲ装置及び溶媒：Ｖａｒｉａｎ ４００ ＭＨｚ Ｍｅｒｃｕｒｙ分光計を使用した。Ｃ_６Ｄ_６を溶媒として使用した。実施例において使用する−ＯＨ含量という用語は、生成物の総重量（又はモル）の百分率としてのＨＯ−基の重量（又はモル）を意味し、ここでは、ケイ素原子に結合しているＨＯ−基のみが含まれている。

【0071】

調製１、２、３、４、５、６、及び７：実施例の式（ＩＩ）のオルガノシラノール化合物の合成。

【0072】

調製１：２５０ｍＬの三口フラスコ中で、１０１．６グラム（ｇ）のジ（ＯＨ末端）−ＰＤＭＳ流体（Ｇｅｌｅｓｔ ＤＭＳ−Ｓ１２；「ＰＤＭＳ」はポリジメチルシロキサンを意味する）を、３３．２ｇの１，２−ジビニル−１，１，２，２−テトラメチルジシラザンと混合した。０．１ｇのトリフルオロ酢酸（ＴＦＡ）を添加して反応を触媒した。混合物を室温で８０分間撹拌した後、約３０℃で２時間にわたって１〜３ｍｍＨｇの減圧で、ロータリーエバポレーターを使用して揮発物を除去した。残留物である（揮発物ではない）所望の生成物が透明な液体（１１４．２ｇ）として生成した。^２９Ｓｉ ＮＭＲに基づいて、生成物は、３．２ｗｔ％の−ＯＨ含量、及び５．５ｗｔ％のＶｉ含量を有しており、５０ｗｔ％を超える下記式のシリコーン流体：Ｖｉ（Ｍｅ）_２Ｓｉ［ＯＳｉ（Ｍｅ）_２］_ｎＯＨ（式中、ｎは５又は６であり、Ｖｉはビニルであり、Ｍｅはメチルである）を含んでいた。

【0073】

調製２：１リットルの三口フラスコ中で、４０４．３ｇのジ（ＯＨ−末端）−ポリ（ジメチル）（ビニル，メチル）シロキサン流体（Ｄｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ（登録商標）４−７０４２流体）を、８０．０ｇの１，１，１，２，２，２−ヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＺ）と混合した。０．２ｇのＴＦＡを添加して反応を触媒した。氷浴を用いて熱を除去し、温度を３０℃未満に維持した。３時間後、約３０℃で２時間にわたって１〜３ｍｍＨｇの減圧で、ロータリーエバポレーターを使用して揮発物を除去した。残留物である（揮発物ではない）所望の生成物が透明な液体（４４７．９ｇ）として生成し、これは４．７ｗｔ％の−ＯＨ含量を有することを^２９Ｓｉ ＮＭＲで測定し、物質収支が保存されることを想定して１０．２ｗｔ％のＶｉ含量を有すると算出された。生成物は、５０％を超える下記式のシリコーン流体：（Ｍｅ）_３Ｓｉ［ＯＳｉ（Ｍｅ）（Ｖｉ）］_ｎＯＨ（式中、ｎは約４であり、Ｖｉはビニルであり、Ｍｅはメチルである）を含む。

【0074】

調製３（予測的（ｐｒｏｐｈｅｔｉｃ））：１リットルの三口フラスコ中で、４０５．２ｇのジ（ＯＨ−末端）−ＰＤＭＳ流体を７９．９ｇの１，２−ジメチル−１，１，２，２−テトラビニルジシラザンと混合する。０．２８ｇのＴＦＡを添加して反応を触媒する。水浴を用いて熱を除去し、温度を３０℃未満に維持する。２．５時間後、２５℃〜３０℃で５．５時間にわたって１〜３ｍｍＨｇの減圧で、ロータリーエバポレーターを使用して揮発物を除去する。残留物である（揮発物ではない）所望の生成物が透明な液体（４２７．５ｇ）として生成し、これが３．２５ｗｔ％の−ＯＨ含量、及び２ｗｔ％のＶｉ含量を有することを^２９Ｓｉ ＮＭＲで測定する。生成物は、５０％を超える下記式のシリコーン流体：Ｖｉ（Ｍｅ）_２Ｓｉ［ＯＳｉ（Ｍｅ）_２］_ｎＯＨ（式中、ｎは５又は６であり、Ｖｉはビニルであり、Ｍｅはメチルである）を含む。

【0075】

調製４：２５０ｍＬの三口フラスコ中で、１０３．７ｇのジ（ＯＨ−末端）−ポリ（フェニル，メチル）シロキサン（Ｄｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ（登録商標）ＰＢ流体）を、１５．３８ｇの１，２−ジビニル−１，１，２，２−テトラメチルジシラザンと混合した。３滴のＴＦＡを添加して反応を触媒した。混合物を室温で２時間撹拌した後、６５℃で１時間にわたって１〜３ｍｍＨｇの減圧で、ロータリーエバポレーターを使用して揮発物を除去した。残留物である（揮発物ではない）所望の生成物が透明な液体（１１１．０ｇ）として生成し、これが２．８４ｗｔ％の−ＯＨ含量、及び２．９８ｗｔ％のＶｉ含量を有することを^２９Ｓｉ ＮＭＲで測定した。生成物は、５０％を超える下記式のシリコーン流体：Ｖｉ（Ｍｅ）_２Ｓｉ［ＯＳｉ（Ｍｅ）（Ｐｈ）］_ｎＯＨ（式中、ｎは４又は５であり、Ｐｈはフェニルであり、Ｖｉはビニルであり、Ｍｅはメチルである）を含む。

【0076】

調製５〜７：ジ（ＯＨ−末端）−ポリジオルガノシロキサンとジシラザンとの反応後に副生成物アンモニア（ＮＨ_３）を除去する代替方法：

【0077】

調製５：５００ｍＬの三口フラスコ中で、１３４．６ｇのジ（ＯＨ−末端）−ポリ（フェニル，メチル）シロキサン（Ｄｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ（登録商標）ＰＢ流体）を、１３４．６ｇのトルエン及び１６．３ｇのＨＭＤＺと混合した。０．１ｇのＴＦＡを添加して反応を触媒した。混合物を室温で３０分間にわたって撹拌した後、これを分液漏斗に移した。分液漏斗に２６０ｇのヘプタンを添加し、得られる溶液を、水洗液のｐＨ値がｐＨ６〜ｐＨ７になるまで２５０ｇの水で４回洗浄し、３回目の水洗工程で０．２ｇの酢酸を添加してｐＨを調整した。溶液を無水硫酸ナトリウム上で乾燥することによってヘプタン溶液中に残存する残留水を除去し、５０〜６０℃で２時間にわたって１〜３ｍｍＨｇの減圧で、ロータリーエバポレーターを使用して揮発物を除去した。残留物である（揮発物ではない）所望の生成物が透明な液体（１３８．１ｇ）として生成し、これが３．３２ｗｔ％の−ＯＨ含量、及び０ｗｔ％のＶｉ含量を有することを^２９Ｓｉ ＮＭＲで測定した。生成物は、５０ｗｔ％を超える下記式のシリコーン流体：（Ｍｅ）_３Ｓｉ［ＯＳｉ（Ｍｅ）（Ｐｈ）］_ｎＯＨ（式中、ｎは４又は５であり、Ｐｈはフェニルであり、Ｍｅはメチルである）を含んでいた。

【0078】

調製６：１リットルの三口フラスコ中で、４３２ｇのジ（ＯＨ−末端）−ポリ（フェニル，メチル）シロキサン（Ｄｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ（登録商標）ＰＢ流体）を、３２０ｇのヘプタン及び６４．６ｇの１，２−ジビニル−１，１，２，２−テトラメチルジシラザンと混合した。２．０ｇのＴＦＡを添加して反応を触媒した。混合物を室温で１．５時間にわたって撹拌した後、これを分液漏斗に移した。溶液を５００ｇのブライン（ＮａＣｌ水溶液）で２回、１．０ｇの酢酸で酸性化した水５００ｇで１回、その後、５００ｇの中性ｐＨの水で１回、洗浄した。無水硫酸ナトリウム上で溶液を乾燥することによってヘプタン溶液から残留水を除去した。５５℃で２時間にわたって１〜３ｍｍＨｇの減圧で、ロータリーエバポレーターを使用して揮発物を除去した。残留物である（揮発物ではない）所望の生成物が透明な液体（４２５．１ｇ）として生成し、これが４．０９ｗｔ％の−ＯＨ含量、及び１．５５ｗｔ％のＶｉ含量を有することを^２９Ｓｉ ＮＭＲで測定した。生成物は、５０ｗｔ％を超える下記式のシリコーン流体：Ｖｉ（Ｍｅ）_２Ｓｉ［ＯＳｉ（Ｍｅ）（Ｐｈ）］_ｎＯＨ（式中、ｎは４又は５であり、Ｐｈはフェニルであり、Ｖｉはビニルであり、Ｍｅはメチルである）を含んでいた。

【0079】

調製７：２リットルの三口フラスコ中で、７０３．８ｇのジ（ＯＨ−末端）−ＰＤＭＳ流体（Ｇｅｌｅｓｔ ＤＭＳ−Ｓ１２）を５３．６ｇの１，２−ジビニル−１，１，２，２−テトラメチルジシラザンと混合した。１．３５ｇのＴＦＡを添加して反応を触媒した。混合物を室温で２時間にわたって撹拌した後、これを分液漏斗に移した。１６０ｇのヘプタンを混合物に添加し、このヘプタン溶液を、ａ）６．０ｇの酢酸を含有するブライン４２０ｇ；ｂ）１．０ｇの酢酸を含有するブライン４２０ｇ；ｃ）１．０ｇの酢酸を含有する水４２０ｇ；及びｄ）ｐＨ中性の水４２０ｇ、で連続して洗浄した。無水硫酸ナトリウム上で溶液を乾燥することによってヘプタン溶液から残留水を除去した。３０℃で２時間にわたって１〜３ｍｍＨｇの減圧で、ロータリーエバポレーターを使用して揮発物を除去した。残留物である（揮発物ではない）所望の生成物が透明な液体（７０６．１ｇ）として生成し、これが５．７８ｗｔ％の−ＯＨ含量、及び３．２２ｗｔ％のＶｉ含量を有することを^２９Ｓｉ ＮＭＲで測定した。生成物は、５０％を超える下記式のシリコーン流体：Ｖｉ（Ｍｅ）_２Ｓｉ［ＯＳｉ（Ｍｅ）_２］_ｎＯＨ（式中、ｎは５又は６であり、Ｖｉはビニルであり、Ｍｅはメチルである）を含んでいた。

【0080】

実施例１Ａ、１ＡＡ、１Ｂ、１Ｃ、１Ｄ、１Ｅ、２Ａ、２Ｂ、２Ｃ、２Ｄ、２Ｅ、３Ａ、３Ｂ、３Ｃ、３Ｄ、３Ｅ、４Ａ、及び５Ａ：式（Ｉ）の金属非プロトン性オルガノシラノキシド化合物の例の合成。

【0081】

実施例１Ａ：２．７０ｇのアルミニウムｓｅｃ−ブトキシド溶液（ｓｅｃ−ブタノール中７０％）を、８．０ｇのトルエン及び１５．７０ｇの調製１の生成物シリコーン流体と混合した。混合物を室温で３０分間撹拌した後、約５０℃で２時間にわたって１〜３ｍｍＨｇの減圧で、ロータリーエバポレーターを使用して揮発物を除去した。残留物である（揮発物ではない）所望の生成物が透明な液体（１４．２ｇ）として生成し、物質収支が保存されることを想定して、これは生成物１グラム当たり０．５４ミリモルＡｌ（ｍｍｏｌ／ｇ；１．４６ｗｔ％）のＡｌ含量及び２．０ｍｍｏｌ／ｇ（５．４ｗｔ％）のＶｉ含量を有すると算出された。

【0082】

実施例１ＡＡ：３．６８ｇのアルミニウムｓｅｃ−ブトキシド溶液（ｓｅｃ−ブタノール中７０％）を、１３．０ｇのトルエン及び１７．１ｇの調製１の生成物シリコーン流体と混合した。混合物を室温で３０分間撹拌した後、約５０℃で２時間にわたって１〜３ｍｍＨｇの減圧で、ロータリーエバポレーターを使用して揮発物を除去した。残留物である（揮発物ではない）所望の生成物が透明な液体（１５．６ｇ）として生成し、物質収支が保存されることを想定して、これは０．６７ｍｍｏｌ／ｇ（１．８１ｗｔ％）のＡｌ含量及び２．０ｍｍｏｌ／ｇ（５．４ｗｔ％）のＶｉ含量を有すると算出された。

【0083】

実施例１Ｂ：１．９０ｇのチタンテトライソプロポキシド（ＴＰＴ）を８．０ｇのトルエン及び１６．３５ｇの調製１のシリコーン流体と混合した。混合物を室温で３０分間撹拌した後、約５０℃で２時間にわたって１〜３ｍｍＨｇの減圧で、ロータリーエバポレーターを使用して揮発物を除去した。残留物である（揮発物ではない）所望の生成物が透明な液体（１５．１５ｇ）として生成し、物質収支が保存されることを想定して、これは０．４４ｍｍｏｌ／ｇ（２．１ｗｔ％）のＴｉ含量及び２．０ｍｍｏｌ／ｇ（５．４ｗｔ％）のＶｉ含量を有すると算出された。

【0084】

実施例１Ｃ：３５ｇのジルコニウムｎ−プロポキシド（ＮＰＺ）溶液（ｎ−プロパノール中７０％）を８．０ｇのトルエン及び１５．６０ｇの調製１のシリコーン流体と混合した。混合物を室温で３０分間撹拌した後、約５０℃で２時間にわたって１〜３ｍｍＨｇの減圧で、ロータリーエバポレーターを使用して揮発物を除去した。残留物である（揮発物ではない）所望の生成物が透明な液体（１４．４ｇ）として生成し、物質収支が保存されることを想定して、これは０．３５ｍｍｏｌ／ｇ（３．２ｗｔ％）のＺｒ含量及び２．０ｍｍｏｌ／ｇ（５．４ｗｔ％）のＶｉ含量を有すると算出された。

【0085】

実施例１Ｄ（予測的）：５ｇの実施例１Ａの生成物を、５ｇの実施例１Ｂの生成物と混合して、１０ｇの所望の生成物（残留物）を透明な液体として得、物質収支が保存されることを想定して、これは０．２７ｍｍｏｌ／ｇ（０．７３ｗｔ％）のＡｌ含量、０．２２ｍｍｏｌ／ｇ（１．０５ｗｔ％）のＴｉ含量、及び２．０ｍｍｏｌ／ｇ（５．４ｗｔ％）のＶｉ含量を有すると算出される。

【0086】

実施例１Ｅ（予測的）：５ｇの実施例１Ａの生成物を、５ｇの実施例１Ｃの生成物と混合して、１０ｇの所望の生成物（残留物）を透明な液体として得、物質収支が保存されることを想定して、０．２７ｍｍｏｌ／ｇ（０．７３ｗｔ％）のＡｌ含量、０．１７ｍｍｏｌ／ｇ（１．６ｗｔ％）のＺｒ含量、及び２．０ｍｍｏｌ／ｇ（５．４ｗｔ％）のＶｉ含量を有すると算出される。

【0087】

実施例１Ｆ（予測的）：２．７０ｇのアルミニウムｓｅｃ−ブトキシド溶液の代わりに２．７０ｇの鉄ｓｅｃ−ブトキシド溶液（ｓｅｃ−ブタノール中７０％）を使用することを除いて、実施例１Ａの手順を繰り返す。残留物である（揮発物ではない）所望の生成物が透明な液体（１４．２ｇ）として生成し、物質収支が保存されることを想定して、これは０．５４ｍｍｏｌ／ｇ（３．１ｗｔ％）のＦｅ含量及び２．０ｍｍｏｌ／ｇ（５．４ｗｔ％）のＶｉ含量を有すると算出される。

【0088】

実施例１Ｇ（予測的）：２．７０ｇのアルミニウムｓｅｃ−ブトキシド溶液の代わりに２．７０ｇのバナジウムｓｅｃ−ブトキシド溶液（ｓｅｃ−ブタノール中７０％）を使用することを除いて、実施例１Ａの手順を繰り返す。残留物である（揮発物ではない）所望の生成物が透明な液体（１４．２ｇ）として生成し、物質収支が保存されることを想定して、これは０．５４ｍｍｏｌ／ｇ（２．７５ｗｔ％）のＶ含量及び２．０ｍｍｏｌ／ｇ（５．４ｗｔ％）のＶｉ含量を有すると算出される。

【0089】

実施例２Ａ：２８．２ｇのアルミニウムｓｅｃ−ブトキシド溶液（ｓｅｃ−ブタノール中７０％）を、３０．０ｇのトルエン及び１０９．５ｇの調製２のシリコーン流体と混合した。混合物を室温で３０分間撹拌した後、６０℃〜７０℃で２時間にわたって１〜３ｍｍＨｇの減圧で、ロータリーエバポレーターを使用して揮発物を除去した。残留物である（揮発物ではない）所望の生成物が透明な液体（１０１．６ｇ）として生成し、物質収支が保存されることを想定して、これは０．７８ｍｍｏｌ／ｇ（２．１ｗｔ％）のＡｌ含量及び３．６ｍｍｏｌ／ｇ（９．７ｗｔ％）のＶｉ含量を有すると算出された。

【0090】

実施例２Ｂ：１２．８ｇのチタンテトライソプロポキシド（ＴＰＴ）を１０．０ｇのトルエン及び１０２．５ｇの調製２のシリコーン流体と混合した。混合物を室温で３０分間撹拌した後、６０℃〜７０℃で２時間にわたって１〜３ｍｍＨｇの減圧で、ロータリーエバポレーターを使用して揮発物を除去した。残留物である（揮発物ではない）所望の生成物が透明な液体（８８．３ｇ）として生成し、物質収支が保存されることを想定して、これは０．５０ｍｍｏｌ／ｇ（２．４ｗｔ％）のＴｉ含量及び３．６ｍｍｏｌ／ｇ（９．７ｗｔ％）のＶｉ含量を有すると算出された。

【0091】

実施例２Ｃ：２４．５ｇのジルコニウムｎ−プロポキシド（ＮＰＺ）溶液（ｎ−プロパノール中７０％）を３０ｇのトルエン及び１１９．６ｇの調製２のシリコーン流体と混合した。混合物を室温で３０分間撹拌した後、６０℃〜７０℃で２時間にわたって１〜３ｍｍＨｇで、ロータリーエバポレーターを使用して揮発物を除去した。残留物である（揮発物ではない）所望の生成物が透明な液体（１０２．７ｇ）として生成し、物質収支が保存されることを想定して、これは０．５０ｍｍｏｌ／ｇ（４．５ｗｔ％）のＺｒ含量及び３．５ｍｍｏｌ／ｇ（９．５ｗｔ％）のＶｉ含量を有すると算出された。

【0092】

実施例２Ｄ（予測的）：９ｇの実施例２Ａの生成物を、１ｇの実施例２Ｂの生成物と混合して、１０ｇの所望の生成物（残留物）を透明な液体として得、物質収支が保存されることを想定して、これは０．７０ｍｍｏｌ／ｇ（１．９ｗｔ％）のＡｌ含量、０．０５ｍｍｏｌ／ｇ（０．２４ｗｔ％）のＴｉ含量、及び３．６ｍｍｏｌ／ｇ（９．７ｗｔ％）のＶｉ含量を有すると算出される。

【0093】

実施例２Ｅ（予測的）：９ｇの実施例２Ａの生成物を、５ｇの実施例２Ｃの生成物と混合して、１０ｇの所望の生成物（残留物）を透明な液体として得、物質収支が保存されることを想定して、これは０．７０ｍｍｏｌ／ｇ（１．９ｗｔ％）のＡｌ含量、０．０５ｍｍｏｌ／ｇ（０．４５ｗｔ％）のＺｒ含量、及び３．５ｍｍｏｌ／ｇ（９．６ｗｔ％）のＶｉ含量を有すると算出される。

【0094】

実施例３Ａ（予測的）：２９．０ｇのアルミニウムｓｅｃ−ブトキシド溶液（ｓｅｃ−ブタノール中７５％）を、１０ｇのトルエン及び１４９．９ｇの調製３の生成物シリコーン流体と混合する。混合物を室温で３０分間撹拌した後、６０℃〜７０℃で２時間にわたって１〜３ｍｍＨｇの減圧で、ロータリーエバポレーターを使用して揮発物を除去する。残留物である（揮発物ではない）所望の生成物が透明な液体（１３２．８ｇ）として生成し、物質収支が保存されることを想定して、これは０．６６ｍｍｏｌ／ｇ（１．８ｗｔ％）のＡｌ含量及び０．７ｍｍｏｌ／ｇ（２ｗｔ％）のＶｉ含量を有すると算出される。

【0095】

実施例３Ｂ（予測的）：１６．０ｇのチタンテトライソプロポキシド（ＴＰＴ）を１１９．１ｇの部分的にキャッピングされたＯＨ−末端シリコーン流体（調製３）と混合する。混合物を室温で３０分間撹拌した後、６０℃〜７０℃で２時間にわたって１〜３ｍｍＨｇで、ロータリーエバポレーターを使用して揮発物を除去する。残留物である（揮発物ではない）所望の生成物が透明な液体（１０７．８ｇ）として生成し、物質収支が保存されることを想定して、これは０．５１ｍｍｏｌ／ｇ（２．４ｗｔ％）のＴｉ含量及び０．７ｍｍｏｌ／ｇ（２ｗｔ％）のＶｉ含量を有すると算出される。

【0096】

実施例３Ｃ（予測的）：２８．６ｇのジルコニウムｎ−プロポキシド（ＮＰＺ）溶液（ｎ−プロパノール中７０％）を５ｇのトルエン及び１３０．０ｇの調製３のシリコーン流体と混合する。混合物を室温で３０分間撹拌した後、６０℃〜７０℃で２時間にわたって１〜３ｍｍＨｇの減圧で、ロータリーエバポレーターを使用して揮発物を除去する。残留物である（揮発物ではない）所望の生成物が透明な液体（１２０．７ｇ）として生成し、物質収支が保存されることを想定して、これは０．５０ｍｍｏｌ／ｇ（４．５ｗｔ％）のＺｒ含量及び０．７ｍｍｏｌ／ｇ（２ｗｔ％）のＶｉ含量を有すると算出される。

【0097】

実施例３Ｄ（予測的）：８ｇの実施例３Ａの生成物を、２ｇの実施例３Ｃの生成物と混合して、１０ｇの所望の生成物（残留物）を透明な液体として得、物質収支が保存されることを想定して、これは０．５３ｍｍｏｌ／ｇ（１．４ｗｔ％）のＡｌ含量、０．１４０ｍｍｏｌ／ｇ（０．５ｗｔ％）のＴｉ含量、及び０．７ｍｍｏｌ／ｇ（２ｗｔ％）のＶｉ含量を有すると算出される。

【0098】

実施例３Ｅ（予測的）：８ｇの実施例３Ａの生成物を、２ｇの実施例３Ｂの生成物と混合して、１０ｇの所望の生成物（残留物）を透明な液体として得、物質収支が保存されることを想定して、これは０．５３ｍｍｏｌ／ｇ（１．４ｗｔ％）のＡｌ含量、０．１０ｍｍｏｌ／ｇ（０．９ｗｔ％）のＺｒ含量、及び０．７ｍｍｏｌ／ｇ（２ｗｔ％）のＶｉ含量を有すると算出される。

【0099】

実施例４Ａ：１．８２ｇのアルミニウムｓｅｃ−ブトキシド溶液（ｓｅｃ−ブタノール中７５％）を、２０．３ｇの調製４のシリコーン流体と混合した。混合物を室温で３０分間撹拌した後、７５℃で２．５時間にわたって１〜３ｍｍＨｇの減圧で、ロータリーエバポレーターを使用して揮発物を除去した。所望の生成物（残留物）を透明な液体（１９．６ｇ）として生成し、物質収支が保存されることを想定して、これは０．２８ｍｍｏｌ／ｇ（０．７５ｗｔ％）のＡｌ含量及び１．１ｍｍｏｌ／ｇ（２．９ｗｔ％）のＶｉ含量を有すると算出された。

【0100】

以下の特許請求の範囲は、参照により本明細書に組み込まれ、「請求項（「ｃｌａｉｍ」及び「ｃｌａｉｍｓ」）」という用語はそれぞれ「態様（「ａｓｐｅｃｔ」又は「ａｓｐｅｃｔｓ」）」という用語に置き換えられる。本発明の実施形態はまた、これらの得られた番号付けされた態様も包含する。