特許 6807958 フッ化カルボニルの精製方法及び製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6807958

(24)【登録日】2020年12月10日

(45)【発行日】2021年1月6日

(54)【発明の名称】フッ化カルボニルの精製方法及び製造方法

(51)【国際特許分類】

   C01B 32/907 20170101AFI20201221BHJP

   B01J 27/12 20060101ALI20201221BHJP

   B01J 27/122 20060101ALI20201221BHJP

   B01J 27/125 20060101ALI20201221BHJP

【ＦＩ】

   C01B32/907

   B01J27/12 M

   B01J27/122 M

   B01J27/125 M

【請求項の数】13

【全頁数】19

(21)【出願番号】特願2018-563884(P2018-563884)

(86)(22)【出願日】2016年6月16日

(65)【公表番号】特表2019-518700(P2019-518700A)

(43)【公表日】2019年7月4日

(86)【国際出願番号】CN2016085984

(87)【国際公開番号】WO2017214923

(87)【国際公開日】20171221

【審査請求日】2018年12月6日

(73)【特許権者】

【識別番号】519321236

【氏名又は名称】ペリック スペシャル ガゼス シーオー．，エルティーディー

(74)【代理人】

【識別番号】110000084

【氏名又は名称】特許業務法人アルガ特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】蒋 玉貴

(72)【発明者】

【氏名】商 洪涛

(72)【発明者】

【氏名】孟 祥軍

(72)【発明者】

【氏名】鄭 秋艶

(72)【発明者】

【氏名】▲しー▼ 少傑

(72)【発明者】

【氏名】李 丹丹

(72)【発明者】

【氏名】楊 慶平

【審査官】 廣野 知子

(56)【参考文献】

【文献】 特表２００２−５１５０１１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 中国特許出願公開第１０５５６５３２４（ＣＮ，Ａ）

【文献】 中国特許出願公開第１０３２１３９６５（ＣＮ，Ａ）

【文献】 特開２００３−２６７７１２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 欧州特許出願公開第０２９４２３２４（ＥＰ，Ａ１）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｃ０１Ｂ ３２／００−３２／９９１

Ｂ０１Ｊ ２１／００−３８／７４

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

精製ガスをフッ化カルボニル粗生成物ガス中の不純物と−９９℃〜４９９℃の温度及び−０．０９ＭＰａ〜５ＭＰａの圧力で反応させ、フッ化カルボニル粗生成物ガス中の不純物を除去し、前記精製ガスは、ＣｌＦ、ＣｌＦ₃、ＣｌＦ₅、及びＦ₂のいずれか１種又は複数種であることを含むフッ化カルボニルの精製方法。

【請求項2】

前記反応の温度は、−４９℃〜２９９℃であり、前記反応の圧力は、−０．０５ＭＰａ〜１ＭＰａであることを特徴とする請求項１に記載の精製方法。

【請求項3】

前記反応の温度は、１℃〜１９９℃であり、前記反応の圧力は、−０．０５ＭＰａ〜１ＭＰａであることを特徴とする請求項１に記載の精製方法。

【請求項4】

前記反応は、さらに、反応終了後、蒸留、精留、又は凍結真空排気の方法により精製ガス及び反応で発生する不純物を除去することを含むことを特徴とする請求項１に記載の精製方法。

【請求項5】

前記フッ化カルボニル粗生成物ガス中の不純物は、ＣＯ₂、ＣＯ、Ｈ₂Ｏ、ＣＯＣｌ₂、Ｎ₂Ｏの不純物ガスの少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項１に記載の精製方法。

【請求項6】

前記反応は、さらに、触媒を含み、前記触媒は、セシウムのフッ化物、ナトリウムのフッ化物、カリウムのフッ化物、ユウロピウムのフッ化物、銅のフッ化物、アルミニウムのフッ化物、及び銀のフッ化物のいずれか１種又は複数種を含むことを特徴とする請求項１に記載の精製方法。

【請求項7】

前記精製ガスとフッ化カルボニル粗生成物ガスとのモル比は、１００〜０．００１： １であることを特徴とする請求項１に記載の精製方法。

【請求項8】

前記精製ガスがＣｌＦ₃及びＣｌＦ₅のいずれか１種又は複数種である請求項１〜７のいずれか１項に記載の精製方法。

【請求項9】

ＣＯ、ＣＯ₂のいずれか１種又は複数種をＣｌＦ、ＣｌＦ₃、及びＣｌＦ₅のいずれか１種又は複数種のフッ素含有ガスと−９９℃〜４９９℃の温度及び−０．０９ＭＰａ〜５ＭＰａの圧力で反応させ、フッ化カルボニルを調製する、
又は、ＣＯＦＣｌをＣｌＦ、ＣｌＦ₃、及びＣｌＦ₅のいずれか１種又は複数種のフッ素含有ガスと−９９℃〜４９９℃の温度及び−０．０９ＭＰａ〜５ＭＰａの圧力で反応させ、フッ化カルボニルを調製することを含むフッ化カルボニルの製造方法。

【請求項10】

前記反応の温度は、−４９℃〜２９９℃であり、前記反応の圧力は、−０．０５ＭＰａ〜１ＭＰａであることを特徴とする請求項９に記載の製造方法。

【請求項11】

前記反応の温度は、１℃〜１９９℃であり、前記反応の圧力は、−０．０５ＭＰａ〜１ＭＰａであることを特徴とする請求項９に記載の製造方法。

【請求項12】

前記フッ素含有ガスとＣＯ、ＣＯ₂のいずれか１種又は複数種、又はＣＯＦＣｌとのモル比は、１００〜０．００１： １であることを特徴とする請求項９に記載の製造方法。

【請求項13】

前記反応は、さらに、触媒を含み、前記触媒は、セシウムのフッ化物、ナトリウムのフッ化物、カリウムのフッ化物、ユウロピウムのフッ化物、銅のフッ化物、アルミニウムのフッ化物、及び銀のフッ化物のいずれか１種又は複数種を含むことを特徴とする請求項９に記載の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、化学工業の技術分野に関し、特に、フッ化カルボニルの精製方法及び製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

現在、半導体および液晶製造の分野において、パーフルオロカーボンをエッチングガス及びクリーニングガスとすることが多いが、上記ガスは、一般的に地球温暖化係数（ＧＷＰ， Ｇｌｏｂａｌ Ｗａｒｍｉｎｇ Ｐｏｔｅｎｔｉａｌ）値が比較的高く、温室効果を低減するために、ＧＷＰの低い代替製品を開発する必要がある。
フッ化カルボニル（ＣＯＦ_２）は、比較的低いＧＷＰを有する半導体用エッチングガス、半導体用クリーニングガス、及び有機合成におけるフッ素化剤ないし重要な中間体である。

【0003】

現在、フッ化カルボニルの製造方法は、一般的に以下の４種類に分けられる。
１）一酸化炭素又は二酸化炭素をフッ素ガス、ジフルオロ銀（ＩＩ）などのフッ素化剤と反応させる方法であり、当該方法は、爆発が起こりやすく、かつ高価な耐食性材料が必要であり、製造されたフッ化カルボニルの収率と純度が低い。
２）ホスゲン（ＣＯＣｌ_２）をフッ化水素、三フッ化アンチモン、三フッ化ヒ素、フッ化ナトリウムなどのフッ素化剤と反応させる方法であり、当該方法が使用する原料のホスゲンは、毒性の高い物質であり、かつ製造されたフッ化カルボニルの純度が低い。
３）トリフルオロメタンを酸素ガスと反応させる方法であり、当該方法は、反応条件が過酷であり、５００℃以上の高温が必要である。
４）テトラフルオロエチレンを酸素ガスと反応させる方法であり、当該方法は、反応中において非常に大きな反応熱を生じ、爆発の危険性がある。

【0004】

また、以上の異なるＣＯＦ_２の製造方法と反応条件により製造されたフッ化カルボニルＣＯＦ_２の粗生成物ガスは、一般的に、ＨＣｌ、ＨＦ、ホスゲン（ＣＯＣｌ_２）、ＣＦ_４、ＣＯ_２、ＣＯ、Ｈ_２Ｏ、Ｎ_２Ｏ、空気中のＮ_２及びＯ_２などの不純物を含むことが多い。中でも、ＣＯＦ_２の沸点は−８４．５７℃であり、ＣＯ_２の沸点は−７８．４５℃であり、沸点が近く、沸点の差はたった約６℃と小さく、かつＣＯＦ_２とＣＯ_２分子の物理的化学的性質、分子サイズは比較的近いため、通常の吸着法、精留法による精製分離は困難である。同時にそれらはいずれもアルカリ性物質と反応しやすいために、中和による分離も困難である。現在では、国内外でＣＯＦ_２中のＣＯ_２の精製について、報告された特許はほとんどない。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

上記の問題点に鑑みて、本発明の解決しようとする技術的課題は、製造されたフッ化カルボニルガスが高純度であるフッ化カルボニルの精製方法及び製造方法を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本発明は、
精製ガスをフッ化カルボニル粗生成物ガス中の不純物と反応させ、フッ化カルボニル粗生成物ガス中の不純物を除去し、前記精製ガスは、ＣｌＦ、ＣｌＦ_３、ＣｌＦ_５、及びＦ_２のいずれか１種又は複数種であることを含む、フッ化カルボニルの精製方法を提供する。
好ましくは、前記反応の温度は、−９９℃〜４９９℃であり、前記反応の圧力は、−０．０９ＭＰａ〜５ＭＰａである。
好ましくは、前記反応の温度は、−４９℃〜２９９℃であり、前記反応の圧力は、−０．０５ＭＰａ〜１ＭＰａである。
好ましくは、前記反応の温度は、１℃〜１９９℃であり、前記反応の圧力は、−０．０５ＭＰａ〜１ＭＰａである。
好ましくは、前記反応は、さらに、反応終了後、蒸留、精留、又は凍結真空排気のような方法により精製ガス及び反応で発生する不純物を除去することを含む。
好ましくは、前記フッ化カルボニル粗生成物ガスにおける不純物は、ＣＯ_２、ＣＯ、Ｈ_２Ｏ、ＣＯＣｌ_２、Ｎ_２Ｏの不純物ガスの少なくとも１つを含む。
好ましくは、前記反応は、さらに触媒を含み、前記触媒は、セシウムのフッ化物、ナトリウムのフッ化物、カリウムのフッ化物、ユウロピウムのフッ化物、銅のフッ化物、アルミニウムのフッ化物、及び銀のフッ化物のいずれか１種又は複数種を含む。
好ましくは、前記精製ガスとフッ化カルボニル粗生成物ガスとのモル比は、１００〜０．００１： １である。

【0007】

本発明は、さらに、
ＣＯ、ＣＯ_２のいずれか１種又は複数種をフッ素含有ガスと反応させ、フッ化カルボニルを調製し、前記フッ素含有ガスは、ＣｌＦ、ＣｌＦ_３、及びＣｌＦ_５のいずれか１種又は複数種であり、
あるいは、ＣＯＦＣｌをフッ素含有ガスと反応させ、フッ化カルボニルを調製し、前記フッ素含有ガスは、ＣｌＦ、ＣｌＦ_３、ＣｌＦ_５、及びＦ_２のいずれか１種又は複数種ことを含む、フッ化カルボニルの製造方法を提供する。
好ましくは、前記反応の温度は、−９９℃〜４９９℃であり、前記反応の圧力は、−０．０９ＭＰａ〜５ＭＰａである。
好ましくは、前記反応の温度は、−４９℃〜２９９℃であり、前記反応の圧力は、−０．０５ＭＰａ〜１ＭＰａである。
好ましくは、前記反応の温度は、１℃〜１９９℃であり、前記反応の圧力は、−０．０５ＭＰａ〜１ＭＰａである。
好ましくは、前記フッ素含有ガスとＣＯ、ＣＯ_２のいずれか１種又は複数種、又はＣＯＦＣｌとのモル比は、１００〜０．００１： １である。
好ましくは、前記反応は、さらに触媒を含み、前記触媒は、セシウムのフッ化物、ナトリウムのフッ化物、カリウムのフッ化物、ユウロピウムのフッ化物、銅のフッ化物、アルミニウムのフッ化物、及び銀のフッ化物のいずれか１種又は複数種を含む。

【0008】

本発明は、従来技術と比較して、精製ガスをフッ化カルボニル粗生成物ガス中の不純物と反応させ、フッ化カルボニル粗生成物ガス中の不純物を除去し、前記精製ガスは、ＣｌＦ、ＣｌＦ_３、ＣｌＦ_５、及びＦ_２のいずれか１種又は複数種であることを含むフッ化カルボニルの精製方法を提供する。本発明が提供する精製方法は、フッ化カルボニルの反応粗生成物を精製し、ＣｌＦ、ＣｌＦ_３、ＣｌＦ_５、及びＦ_２のいずれか１種又は複数種を精製ガスとし、精製装置でフッ化カルボニルの反応粗生成物と反応させ、フッ化カルボニル以外の様々な不純物、特に、ＣＯ_２、ＣＯ、Ｈ_２Ｏ、ホスゲン（ＣＯＣｌ_２）、Ｎ_２Ｏなどの不純物を除去し、不純物の含有量を大きく低減させる。精製されたフッ化カルボニル精製ガスは、ＣＯＦ_２純度≧９９．９５％、ＣＯ_２含有量≦１５０×１０^-６（体積比）、ＣＯＣｌ_２含有量≦１５０×１０^-６（体積比）である。

【0009】

本発明は、さらに、ＣＯ、ＣＯ_２のいずれか１種又は複数種をフッ素含有ガスと反応させ、フッ化カルボニルを調製する（前記フッ素含有ガスは、ＣｌＦ、ＣｌＦ_３、及びＣｌＦ_５のいずれか１種又は複数種である）、又は、ＣＯＦＣｌとフッ素含有ガスと反応させ、フッ化カルボニルを調製する（前記フッ素含有ガスは、ＣｌＦ、ＣｌＦ_３、ＣｌＦ_５、及びＦ_２のいずれか１種又は複数種である）ことを含むフッ化カルボニルの製造方法を提供する。本発明は、上記ガスを原料として使用し、調製されたフッ化カルボニルガスが、高い収率及び純度を有する。同時に、より高い安定性と経済的利益がある。

【発明を実施するための形態】

【0010】

本発明は、精製ガスをフッ化カルボニル粗生成物ガス中の不純物と反応させ、フッ化カルボニル粗生成物ガス中の不純物を除去する（上記精製ガスは、ＣｌＦ、ＣｌＦ_３、ＣｌＦ_５、及びＦ_２のいずれか１種又は複数種である）ことを含むフッ化カルボニルの精製方法を提供する。
本発明が提供する精製方法は、フッ化カルボニルの反応粗生成物を精製し、ＣｌＦ、ＣｌＦ_３、ＣｌＦ_５、及びＦ_２のいずれか１種又は複数種を精製ガスとし、フッ化カルボニル粗生成物ガスと接触させることにより、精製装置で精製ガスをフッ化カルボニルの反応粗生成物中の不純物と反応させ、フッ化カルボニル以外の様々な不純物、特に、ＣＯ_２、ＣＯ、Ｈ_２Ｏ、ホスゲン（ＣＯＣｌ_２）、Ｎ_２Ｏなどの不純物を除去し、不純物の含有量を大きく低減させ、操作プロセスが簡単であるとともに、フッ化カルボニルの収率を向上させる。

【0011】

本発明にかかるフッ化カルボニル粗生成物ガスは、ＣＯ_２、ＣＯ、Ｈ_２Ｏ、ＣＯＣｌ_２、Ｎ_２Ｏの不純物ガスを含むことが好ましく、ＣＯ_２、ＣＯＣｌ_２含有量の多いガスを含むことがより好ましい。上記不純物の含有量≦１０％（体積比）であることが好ましい。上記ＣＯ_２不純物ガスの含有量≦５％（体積比）であることがより好ましく、上記ＣＯＣｌ_２不純物ガスの含有量≦５％（体積比）であることがさらに好ましい。
本発明は、かかるＣｌＦ、ＣｌＦ_３、ＣｌＦ_５、及びＦ_２には特に制限はないが、当該分野における通常のＣｌＦ、ＣｌＦ_３、ＣｌＦ_５、及びＦ_２であればよい。

【0012】

上記精製ガスは、単独で用いてもよいし、順番に用いてもよく、例えば、本発明における幾つかの具体的な実施例において、まず、三フッ化塩素（ＣｌＦ_３）で精製し、さらに、一フッ化塩素（ＣｌＦ）で精製し、本発明における他の幾つかの実施例において、まず、一フッ化塩素（ＣｌＦ）で精製し、さらに、三フッ化塩素（ＣｌＦ_３）で精製する。
ここで、常圧下（１０１．３２５ｋＰａ）、ＣＯＦ_２の沸点は−８４．５７℃であり、ホスゲン（ＣＯＣｌ_２）の沸点は７．５６℃であり、ＣＯ_２の沸点は−７８．４５℃であり、ＣＯの沸点は−１９１．４５℃であり、Ｈ_２の沸点は−２５２．７６℃であり、Ｈ_２Ｏの沸点は１００℃であり、Ｏ_２の沸点は−１８２．９８℃であり、Ｃｌ_２の沸点は−３４．０３℃であり、ＣｌＦ_３の沸点は１１．７５℃であり、ＣｌＦの沸点は−１００．１℃であり、ＣｌＦ_５の沸点は−１３．１ ℃であり、Ｆ_２の沸点は−１８８．２℃である。精製ガスにより精製された後、フッ化カルボニル粗生成物ガス中の複数種の不純物は反応して除去され、特に、ＣＯ_２などの分離しにくい不純物と精製ガスとは反応して精製しやすい不純物となる。

【0013】

上記反応中において、かかる反応の温度は、−９９℃〜４９９℃であることが好ましく、−４９℃〜２９９℃であることがより好ましく、１℃〜１９９℃であることが最も好ましく、かかる反応の圧力は、−０．０９ＭＰａ〜５ＭＰａであることがことが好ましく、−０．０５ＭＰａ〜１ＭＰａであることがより好ましい。かかる圧力の数値は、ゲージ圧である。
好ましくは、かかるＣｌＦ、ＣｌＦ_３、ＣｌＦ_５、及びＦ_２のいずれか１種又は複数種、即ち精製ガスの全量とフッ化カルボニル粗生成物ガスとのモル比は、１００〜０．００１： １であり、より好ましくは、５０〜０．１： １である。

【0014】

反応終了後で得られたものは、フッ化カルボニル精製ガスと残った精製ガスと反応副生成物との混合物であり、本発明は、さらに通常の蒸留、精留、又は凍結真空排気の方法により、残った精製ガス及び反応中において発生する不純物を除去することが好ましい。
本発明は、好ましくは、上記反応が、さらに、セシウムのフッ化物（好ましくは、ＣｓＦ）、ナトリウムのフッ化物（好ましくは、ＮａＦ）、カリウムのフッ化物（好ましくは、ＫＦ）、ユウロピウムのフッ化物（好ましくは、ＥｕＦ_３）、銅のフッ化物（好ましくは、ＣｕＦ_２）、アルミニウムのフッ化物（好ましくは、ＡｌＦ_３）和銀のフッ化物（好ましくは、ＡｇＦ）のいずれか１種又は複数種を含むことが好ましい触媒を含む。

【0015】

本発明は、上記触媒の用量には特に制限はないが、触媒の通常の用量であってもよいし、又は実験に従って自分で決定されてもよい。
本発明で得られたフッ化カルボニル精製ガスは、ＣＯＦ_２の純度≧９９．９５％、ＣＯ_２含有量≦１５０×１０^-６（体積比）、ＣＯＣｌ_２含有量≦１５０×１０^-６（体積比）である。

【0016】

本発明は、さらに、
ＣＯ、ＣＯ_２のいずれか１種又は複数種をフッ素含有ガスと反応させ、フッ化カルボニルを調製し、上記フッ素含有ガスは、ＣｌＦ、ＣｌＦ_３、及びＣｌＦ_５のいずれか１種又は複数種であり、
或いは、ＣＯＦＣｌをフッ素含有ガスと反応させ、フッ化カルボニルを調製し、上記フッ素含有ガスは、ＣｌＦ、ＣｌＦ_３、ＣｌＦ_５、及びＦ_２のいずれか１種又は複数種であることを含むフッ化カルボニルの製造方法を提供する。

【0017】

本発明は、ＣＯ、ＣＯ_２、及びＣＯＦＣｌのいずれか１種又は複数種、並びにＣｌＦ、ＣｌＦ_３、ＣｌＦ_５、及びＦ_２のいずれか１種又は複数種を原料として、調製されたフッ化カルボニルガスが、高い収率及び純度を有する。同時に、より高い安全性と経済的利益がある。
本発明は、上記ＣＯ、ＣＯ_２、及びＣＯＦＣｌには特に制限はないが、当該分野における通常のＣＯ、ＣＯ_２、及びＣＯＦＣｌであればよい。
本発明は上記ＣｌＦ、ＣｌＦ_３、ＣｌＦ_５、及びＦ_２には特に制限はないが、当該分野における通常のＣｌＦ、ＣｌＦ_３、ＣｌＦ_５、及びＦ_２であればよい。

【0018】

上記ＣｌＦ、ＣｌＦ_３、ＣｌＦ_５、及びＦ_２原料ガスは、単独で用いてもよいし、順番に用いてもよく、例えば、本発明における幾つかの具体的な実施例において、まず、三フッ化塩素（ＣｌＦ_３）を使用して調製し、さらに一フッ化塩素（ＣｌＦ）を使用して調製し、本発明における他の幾つかの実施例において、まず、一フッ化塩素（ＣｌＦ）を使用して調製し、さらに三フッ化塩素（ＣｌＦ_３）を使用して調製する。

【0019】

上記反応中において、かかる反応の温度は、−９９℃〜４９９℃であることが好ましく、−４９℃〜２９９℃であることがより好ましく、１℃〜１９９℃である最も好ましく、かかる反応の圧力は、−０．０９ＭＰａ〜５ＭＰａであることが好ましく、−０．０５ＭＰａ〜１ＭＰａであることがより好ましい。上記圧力の数値は、ゲージ圧である。
好ましくは、かかるＣｌＦ、ＣｌＦ_３、及びＣｌＦ_５のいずれか１種又は複数種、即ちフッ素含有ガスの全量とＣＯ、ＣＯ_２のいずれか１種又は複数種とのモル比は、１００〜０．００１： １であることが好ましく、５０〜１： １であることがより好ましい。

【0020】

上記ＣｌＦ、ＣｌＦ_３、ＣｌＦ_５、及びＦ_２のいずれか１種又は複数種、即ちフッ素含有ガスの全量とＣＯＦＣｌとのモル比は、１００〜０．００１： １であることが好ましく、５０〜１： １であることがより好ましい。
反応終了後で得られたものは、フッ化カルボニル精製ガスと残た原料ガスと反応で発生する他のガスとの混合物であり、本発明は、通常の蒸留、精留、又は凍結真空排気の方法により残た原料ガス及び反応で発生する他のガスを除去することが好ましい。

【0021】

本発明では、好ましくは、上記反応が、さらに、セシウムのフッ化物（好ましくは、ＣｓＦ）、ナトリウムのフッ化物（好ましくは、ＮａＦ）、カリウムのフッ化物（好ましくは、ＫＦ）、ユウロピウムのフッ化物（好ましくは、ＥｕＦ_３）、銅のフッ化物（好ましくは、ＣｕＦ_２）、アルミニウムのフッ化物（好ましくは、ＡｌＦ_３）、及び銀のフッ化物（好ましくは、ＡｇＦ）のいずれか１種又は複数種を含むことが好ましい触媒を含む。
本発明は、上記触媒の用量には特に制限はないが、触媒の通常の用量であってもよく、又は実験に従って自分で決定してもよい。

【0022】

本発明は、調製されたフッ化カルボニルの用途には特に制限はないが、例えば、半導体製造装置のクリーニングガス及びエッチングガス、有機合成におけるフッ素化剤、原料、中間体などの他の広い分野に用いられることが好ましい。中でも、純度が高いため、半導体製造装置のクリーニングガス及びエッチングガスにさらに適用することができる。エッチング及びクリーニング条件は、プラズマエッチング、気相エッチング、イオンビームエッチング、マイクロ波エッチング、反応性エッチングなどのエッチング条件、及び対応するクリーニング条件であってもよい。上記フッ化カルボニルは、単独又は他のエッチングガス、クリーニングガスと混合物として用いてもよく、他のガスは、例えば、三フッ化窒素（ＮＦ_３）、四フッ化炭素（ＣＦ_４）、ヘキサフルオロエタン（Ｃ_２Ｆ_６）、オクタフルオロプロパン（Ｃ_３Ｆ_８）、オクタフルオロシクロブタン（Ｃ_４Ｆ_８）、１、３-ブタジエン、フッ化水素（ＨＦ）、塩化水素（ＨＣｌ）、臭化水素（ＨＢｒ）、塩素ガス（Ｃｌ_２）、六フッ化硫黄（ＳＦ_６）、四フッ化ケイ素（ＳｉＦ_４）、ＣＨＦ_３、ＣＣｌＦ_３、Ｃ_２ＣｌＦ_５、ＢＣｌ_３、ＨＦＣｌ_２、フッ素ガス（Ｆ_２）などのガス、及び上記ガスと不活性ガス、希釈用ガス（例えば、Ｈｅ、Ｎ_２、Ａｒ、Ｏ_２、Ｈ_２など）との混合ガスである。混合する量の割合は特に制限されず、用途に応じて適宜選択することができる。

【0023】

以下、本発明をさらに説明するために、本発明が提供するフッ化カルボニルの精製方法及び製造方法を、実施例を用いて詳細に説明する。
本発明において、上記圧力とは、特に言及しなければ、いずれもゲージ圧を意味する。
収率とは、ある生成物の理論収量に対する実際に得られた収量の割合を意味する。収率の計算は、使用量が不足である原料に基づいて計算する。
ここで、実施例１〜２４は、フッ化カルボニル粗生成物ガスの精製プロセスの実施例であり、実験の必要に応じて上記特定の不純物を含むフッ化カルボニル粗生成物ガスを配合する。中でも、フッ化カルボニル粗生成物ガス中のＣＯ_２、ＣＯ、ホスゲン（ＣＯＣｌ_２）、Ｎ_２Ｏ不純物の含有量は、それぞれ２００×１０^-６（体積比）である。

【実施例】

【0024】

実施例１
ＣＯＦ_２粗生成物ガス５モルを乾燥された５Ｌのステンレス製反応釜に導入し、その後、三フッ化塩素を導入して反応させ、ＣｌＦ_３とフッ化カルボニル粗生成物ガスとのモル比は、１：１である。反応温度は４９９℃であり、反応圧力は５ＭＰａであり、上記反応釜の排気口から反応生成物を排出し、温度が−１１０℃の低温冷却トラップに導入し、凍結真空排気の方法により不純物を除去し、精製されたガスをフッ化カルボニル精製ガスの貯蔵タンクに収集し、精製されたガスを検出した。
具体的には、精製されたガスをガスクロマトグラフ−質量分析計（ＧＣ−ＭＳ、型番：株式会社島津製作所製ＧＣ−２０１４）とフーリエ変換赤外分光光度計（ＦＴ−ＩＲ、型番：Ｎｉｃｏｌｅｔ６７００）に導入し、その組成を分析した。収集されたガスは、ＧＣ−ＭＳ及びＦＴ−ＩＲによりフッ化カルボニルと確認され、ガスクロマトグラフのデータ結果の主成分の積分面積から主成分の純度を算出した。

【0025】

ここで、ガスクロマトグラフによる測定には、Ｐｏｒａｐａｋカラム、モレキュラーシーブ１３Ｘカラムを使用し、キャリアガスとしてＨｅガスを使用し、ＴＣＤ検出器を使用し、Ｈｅキャリアガスの流速が６０ｍＬ／ｍｉｎであり、カラム温度が２３℃であり、注入口温度が６０℃であり、ＴＣＤ温度が６０℃である。ガスクロマトグラムの最大のピークは、フッ化カルボニルに由来するピークである。
精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は９９．９５％であり、不純物ＣＯ_２含有量＜５０×１０^-６（体積比）、ＣＯＣｌ_２含有量＜５０×１０^-６（体積比）、ＣＯ含有量＜５×１０^-６（体積比）、Ｎ_２Ｏ含有量＜５×１０^-６（体積比）であることが明らかになった。

【0026】

実施例２
反応釜において、反応温度は−９９℃であり、反応圧力は−０．０９ＭＰａであり、反応中において、触媒としてセシウムのフッ化物（ＣｓＦ）２ｇを使用し、ＣｌＦ_３とフッ化カルボニル粗生成物ガスとのモル比は１０００：１となった以外は、実施例１と同様にした。
実施例１の検出条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は９９．９５％であり、不純物ＣＯ_２含有量＜１５０×１０^-６（体積比）、ＣＯＣｌ_２含有量＜１５０×１０^-６（体積比）、ＣＯ含有量＜１５×１０^-６（体積比）、Ｎ_２Ｏ含有量＜１５×１０^-６（体積比）であることが明らかになった。

【0027】

実施例３
反応釜において、反応温度は２９９℃であり、反応圧力は１ＭＰａであり、触媒としてナトリウムのフッ化物（ＮａＦ）２ｇを使用し、ＣｌＦ_３とフッ化カルボニル粗生成物ガスとのモル比は０．００１：１となった以外は、実施例１と同様にした。
実施例１の検出条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は９９．９５％であり、不純物ＣＯ_２含有量＜７０×１０^-６（体積比）、ＣＯＣｌ_２含有量＜７０×１０^-６（体積比）、ＣＯ含有量＜７×１０^-６（体積比）、Ｎ_２Ｏ含有量＜７×１０^-６（体積比）であることが明らかになった。

【0028】

実施例４
反応釜において、反応温度は１９９℃であり、反応圧力は−０．０５ＭＰａであり、触媒としてカリウムのフッ化物（ＫＦ）２ｇを使用した以外は、実施例１と同様にした。
実施例１の検出条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は９９．９５％であり、不純物ＣＯ_２含有量＜８０×１０^-６（体積比）、ＣＯＣｌ_２含有量＜８０×１０^-６（体積比）、ＣＯ含有量＜８×１０^-６（体積比）、Ｎ_２Ｏ含有量＜８×１０^-６（体積比）であることが明らかになった。

【0029】

実施例５
反応釜において、反応温度は１℃であり、反応圧力は１ＭＰａであり、触媒としてユウロピウムのフッ化物（ＥｕＦ_３）２ｇを使用した以外は、実施例１と同様にした。
実施例１の検出条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は９９．９５％であり、不純物ＣＯ_２含有量＜１００×１０^-６（体積比）、ＣＯＣｌ_２含有量＜１００×１０^-６（体積比）、ＣＯ含有量＜１０×１０^-６（体積比）、Ｎ_２Ｏ含有量＜１０×１０^-６（体積比）であることが明らかになった。

【0030】

実施例６
反応釜において、反応温度は−４９℃であり、反応圧力は５ＭＰａであり、触媒として銅のフッ化物（ＣｕＦ_２）２ｇを使用した以外は、実施例１と同様にした。
実施例１の検出条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は９９．９５％であり、不純物ＣＯ_２含有量＜１２０×１０^-６（体積比）、ＣＯＣｌ_２含有量＜１２０×１０^-６（体積比）、ＣＯ含有量＜１２×１０^-６（体積比）、Ｎ_２Ｏ含有量＜１２×１０^-６（体積比）であることが明らかになった。

【0031】

実施例７
ＣＯＦ_２粗生成物ガス５モルを乾燥の５Ｌのステンレス製反応釜に導入し、その後、一フッ化塩素５モルを導入して反応させ、反応温度は４９９℃であり、反応圧力は５ＭＰａであり、実施例１と同様にした。
実施例１の検出条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は９９．９５％であり、不純物ＣＯ_２含有量＜５０×１０^-６（体積比）、ＣＯＣｌ_２含有量＜５０×１０^-６（体積比）、ＣＯ含有量＜５×１０^-６（体積比）、Ｎ_２Ｏ含有量＜５×１０^-６（体積比）であることが明らかになった。

【0032】

実施例８
ＣＯＦ_２粗生成物ガス５モルを乾燥の５Ｌのステンレス製反応釜に導入し、その後、一フッ化塩素５モルを導入して反応させ、反応中において触媒としてアルミニウムのフッ化物（ＡｌＦ_３）２ｇを使用した以外は、実施例２と同様にした。
実施例２の検出条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は９９．９５％であり、不純物ＣＯ_２含有量＜１５０×１０^-６（体積比）、ＣＯＣｌ_２含有量＜１５０×１０^-６（体積比）、ＣＯ含有量＜１５×１０^-６（体積比）、Ｎ_２Ｏ含有量＜１５×１０^-６（体積比）であることが明らかになった。

【0033】

実施例９
ＣＯＦ_２粗生成物ガス５モルを乾燥の５Ｌのステンレス製反応釜に導入し、その後、一フッ化塩素５モルを導入して反応させ、反応中において触媒として銀のフッ化物（ＡｇＦ）２ｇを使用した以外は、実施例３と同様にした。
実施例３の検出条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は９９．９５％であり、不純物ＣＯ_２含有量＜７０×１０^-６（体積比）、ＣＯＣｌ_２含有量＜７０×１０^-６（体積比）、ＣＯ含有量＜７×１０^-６（体積比）、Ｎ_２Ｏ含有量＜７×１０^-６（体積比）であることが明らかになった。

【0034】

実施例１０
ＣＯＦ_２粗生成物ガス５モルを乾燥の５Ｌのステンレス製反応釜に導入し、その後、一フッ化塩素５モルを導入して反応させ、反応中において触媒としてセシウムのフッ化物（ＣｓＦ）２ｇを使用した以外は、実施例４と同様にした。
実施例４の検出条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は９９．９５％であり、不純物ＣＯ_２含有量＜８０×１０^-６（体積比）、ＣＯＣｌ_２含有量＜８０×１０^-６（体積比）、ＣＯ含有量＜８×１０^-６（体積比）、Ｎ_２Ｏ含有量＜８×１０^-６（体積比）であることが明らかになった。

【0035】

実施例１１
ＣＯＦ_２粗生成物ガス５モルを乾燥の５Ｌのステンレス製反応釜に導入し、その後、一フッ化塩素５モルを導入して反応させ、反応中において触媒としてナトリウムのフッ化物（ＮａＦ）２ｇを使用した以外は、実施例５と同様にした。
実施例５の条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は９９．９５％であり、不純物ＣＯ_２含有量＜１００×１０^-６（体積比）、ＣＯＣｌ_２含有量＜１００×１０^-６（体積比）、ＣＯ含有量＜１０×１０^-６（体積比）、Ｎ_２Ｏ含有量＜１０×１０^-６（体積比）であることが明らかになった。

【0036】

実施例１２
ＣＯＦ_２粗生成物ガス５モルを乾燥の５Ｌのステンレス製反応釜に導入し、その後、一フッ化塩素５モルを導入して反応させ、反応中において触媒としてカリウムのフッ化物（ＫＦ）２ｇを使用した以外は、実施例６と同様にした。
実施例６の検出条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は９９．９５％であり、不純物ＣＯ_２含有量＜１２０×１０^-６（体積比）、ＣＯＣｌ_２含有量＜１２０×１０^-６（体積比）、ＣＯ含有量＜１２×１０^-６（体積比）、Ｎ_２Ｏ含有量＜１２×１０^-６（体積比）であることが明らかになった。

【0037】

実施例１３
ＣＯＦ_２粗生成物ガス５モルを乾燥の５Ｌのステンレス製反応釜に導入し、その後、五フッ化塩素５モルを導入して反応させた以外は、実施例１と同様にした。
実施例１の条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は９９．９５％であり、不純物ＣＯ_２含有量＜５０×１０^-６（体積比）、ＣＯＣｌ_２含有量＜５０×１０^-６（体積比）、ＣＯ含有量＜５×１０^-６（体積比）、Ｎ_２Ｏ含有量＜５×１０^-６（体積比）であることが明らかになった。

【0038】

実施例１４
ＣＯＦ_２粗生成物ガス５モルを乾燥の５Ｌのステンレス製反応釜に導入し、その後、五フッ化塩素５モルを導入して反応させ、反応中において触媒としてユウロピウムのフッ化物（ＥｕＦ_３）２ｇを使用した以外は、実施例２と同様にした。
実施例２の検出条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は９９．９５％であり、不純物ＣＯ_２含有量＜１５０×１０^-６（体積比）、ＣＯＣｌ_２含有量＜１５０×１０^-６（体積比）、ＣＯ含有量＜１５×１０^-６（体積比）、Ｎ_２Ｏ含有量＜１５×１０^-６（体積比）であることが明らかになった。

【0039】

実施例１５
ＣＯＦ_２粗生成物ガス５モルを乾燥の５Ｌのステンレス製反応釜に導入し、その後、五フッ化塩素５モルを導入して反応させ、反応中において触媒として銅のフッ化物（ＣｕＦ_２）２ｇを使用した以外は、実施例３と同様にした。
実施例３の検出条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は９９．９５％であり、不純物ＣＯ_２含有量＜７０×１０^-６（体積比）、ＣＯＣｌ_２含有量＜７０×１０^-６（体積比）、ＣＯ含有量＜７×１０^-６（体積比）、Ｎ_２Ｏ含有量＜７×１０^-６（体積比）であることが明らかになった。

【0040】

実施例１６
ＣＯＦ_２粗生成物ガス５モルを乾燥の５Ｌのステンレス製反応釜に導入し、その後、五フッ化塩素５モルを導入して反応させ、反応中において触媒としてセシウムのフッ化物（ＣｓＦ）２ｇを使用した以外は、実施例４と同様にした。
実施例４の検出条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は９９．９５％であり、不純物ＣＯ_２含有量＜８０×１０^-６（体積比）、ＣＯＣｌ_２含有量＜８０×１０^-６（体積比）、ＣＯ含有量＜８×１０^-６（体積比）、Ｎ_２Ｏ含有量＜８×１０^-６（体積比）であることが明らかになった。

【0041】

実施例１７
ＣＯＦ_２粗生成物ガス５モルを乾燥の５Ｌのステンレス製反応釜に導入し、その後、五フッ化塩素５モルを導入して反応させ、反応中において触媒としてアルミニウムのフッ化物（ＡｌＦ_３）２ｇを使用した以外は、実施例５と同様にした。
実施例５の検出条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は９９．９５％であり、不純物ＣＯ_２含有量＜１００×１０^-６（体積比）、ＣＯＣｌ_２含有量＜１００×１０^-６（体積比）、ＣＯ含有量＜１０×１０^-６（体積比）、Ｎ_２Ｏ含有量＜１０×１０^-６（体積比）であることが明らかになった。

【0042】

実施例１８
ＣＯＦ_２粗生成物ガス５モルを乾燥の５Ｌのステンレス製反応釜に導入し、その後、五フッ化塩素５モルを導入して反応させ、反応中において触媒として銀のフッ化物（ＡｇＦ）２ｇを使用した以外は、実施例６と同様にした。
実施例６の検出条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は９９．９５％であり、不純物ＣＯ_２含有量＜１２０×１０^-６（体積比）、ＣＯＣｌ_２含有量＜１２０×１０^-６（体積比）、ＣＯ含有量＜１２×１０^-６（体積比）、 Ｎ_２Ｏ含有量＜１２×１０^-６（体積比）であることが明らかになった。

【0043】

実施例１９
ＣＯＦ_２粗生成物ガス５モルを乾燥の５Ｌのステンレス製反応釜に導入し、その後、フッ素ガス５モルを導入して反応させた以外は、実施例１と同様にした。
実施例１の条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は９９．９５％であり、不純物ＣＯ_２含有量＜５０×１０^-６（体積比）、ＣＯＣｌ_２含有量＜５０×１０^-６（体積比）、ＣＯ含有量＜５×１０^-６（体積比）、Ｎ_２Ｏ含有量＜５×１０^-６（体積比）であることが明らかになった。

【0044】

実施例２０
ＣＯＦ_２粗生成物ガス５モルを乾燥の５Ｌのステンレス製反応釜に導入し、その後、フッ素ガス５モルを導入して反応させ、反応中において触媒としてユウロピウムのフッ化物（ＥｕＦ_３）２ｇを使用した以外は、実施例２と同様にした。
実施例２の検出条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は９９．９５％であり、不純物ＣＯ_２含有量＜１５０×１０^-６（体積比）、ＣＯＣｌ_２含有量＜１５０×１０^-６（体積比）、ＣＯ含有量＜１５× １０^-６（体積比）、Ｎ_２Ｏ含有量＜１５×１０^-６（体積比）であることが明らかになった。

【0045】

実施例２１
ＣＯＦ_２粗生成物ガス５モルを乾燥の５Ｌのステンレス製反応釜に導入し、その後、フッ素ガス５モルを導入して反応させ、反応中において触媒として銅のフッ化物（ＣｕＦ_２）２ｇを使用した以外は、実施例３と同様にした。
実施例３の検出条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は９９．９５％であり、不純物ＣＯ_２含有量＜７０×１０^-６（体積比）、ＣＯＣｌ_２含有量＜７０×１０^-６（体積比）、ＣＯ含有量＜７×１０^-６（体積比）、Ｎ_２Ｏ含有量＜７×１０^-６（体積比）であることが明らかになった。

【0046】

実施例２２
ＣＯＦ_２粗生成物ガス５モルを乾燥の５Ｌのステンレス製反応釜に導入し、その後、フッ素ガス５モルを導入して反応させ、反応中において触媒としてセシウムのフッ化物（ＣｓＦ）２ｇを使用した以外は、実施例４と同様にした。
実施例４の検出条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は９９．９５％であり、不純物ＣＯ_２含有量＜８０×１０^-６（体積比）、ＣＯＣｌ_２含有量＜８０×１０^-６（体積比）、ＣＯ含有量＜８×１０^-６（体積比）、Ｎ_２Ｏ含有量＜８×１０^-６（体積比）であることが明らかになった。

【0047】

実施例２３
ＣＯＦ_２粗生成物ガス５モルを乾燥の５Ｌのステンレス製反応釜に導入し、その後、フッ素ガス５モルを導入して反応させ、反応中において触媒としてアルミニウムのフッ化物（ＡｌＦ_３）２ｇを使用した以外は、実施例５と同様にした。
実施例５の検出条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は９９．９５％であり、不純物ＣＯ_２含有量＜１００×１０^-６（体積比）、ＣＯＣｌ_２含有量＜１００×１０^-６（体積比）、ＣＯ含有量＜１０×１０^-６（体積比）、Ｎ_２Ｏ含有量＜１０×１０^-６（体積比）であることが明らかになった。

【0048】

実施例２４
ＣＯＦ_２粗生成物ガス５モルを乾燥の５Ｌのステンレス製反応釜に導入し、その後、フッ素ガス５モルを導入して反応させ、反応中において触媒として銀のフッ化物（ＡｇＦ）２ｇを使用した以外は、実施例６と同様にした。
実施例６の検出条件で精製ガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、純度は９９．９％であり、不純物ＣＯ_２含有量＜１２０×１０^-６（体積比）、ＣＯＣｌ_２含有量＜１２０×１０^-６（体積比）、ＣＯ含有量＜１２×１０^-６（体積比）、Ｎ_２Ｏ含有量＜１２×１０^-６（体積比）であることが明らかになった。

【0049】

【表1】

【0050】

【表2】

【0051】

実施例２５
ＣＯ ５モルを乾燥の５Ｌのステンレス製反応釜に導入し、その後、三フッ化塩素を導入し、ＣｌＦ_３とＣＯガスとのモル比は１：１であり、反応釜において、反応温度は４９９℃であり、反応圧力は５ＭＰａであり、上記反応釜の排気口から反応生成物を排出し、温度が-１１０℃の低温冷却トラップに導入し、凍結真空排気の方法により不純物を除去し、精製されたガスをフッ化カルボニル精製ガスの貯蔵タンクに収集し、調製されたガスを検出した。
具体的には、精製されたガスをガスクロマトグラフ-質量分析計（ＧＣ−ＭＳ、型番：株式会社島津製作所製ＧＣ−２０１４）とフーリエ変換赤外分光光度計（ＦＴ−ＩＲ、型番：Ｎｉｃｏｌｅｔ６７００）に導入し、その組成を分析した。収集されたガスは、ＧＣ-ＭＳ及びＦＴ-ＩＲによりフッ化カルボニルと確認され、ガスクロマトグラフのデータ結果の主成分の積分面積により主成分の純度を算出した。
ガスクロマトグラフによる測定には、Ｐｏｒａｐａｋカラム、モレキュラーシーブ １３Ｘ カラムを使用し、キャリアガスとしてＨｅガスを使用し、ＴＣＤ検出器を使用し、Ｈｅキャリアガスの流速が６０ｍＬ／ｍｉｎであり、カラム温度が２３℃であり、注入口温度が６０ ℃であり、ＴＣＤ温度が６０℃である。ガスクロマトグラムの最大のピークは、フッ化カルボニルに由来するピークである。
調製されたガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、収率は９５％であり、純度は９６％であることが明らかになった。

【0052】

実施例２６
反応釜において、反応温度は−９９℃であり、反応圧力は−０．０９ＭＰａであり、反応中において触媒としてセシウムのフッ化物２ｇを使用し、ＣｌＦ_３とＣＯガスとのモル比は１００：１となった以外は、実施例２５と同様にした。
調製されたガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、収率は８３％であり、純度は８８％であることが明らかになった。

【0053】

実施例２７
ＣＯ_２ ５モルを乾燥の５Ｌのステンレス製反応釜に導入し、その後、５モルの三フッ化塩素を導入し、反応中において触媒としてナトリウムのフッ化物（ＮａＦ）２ｇを使用し、ＣｌＦ_３とＣＯ_２ガスとのモル比は０．００１：１となった以外は、実施例２５と同様にした。
調製されたガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、収率は３５％であり、純度は７０％であることが明らかになった。

【0054】

実施例２８
ＣＯ_２ ５モルを乾燥の５Ｌのステンレス製反応釜に導入し、その後、５モルの三フッ化塩素を導入し、反応中において触媒としてカリウムのフッ化物（ＫＦ）２ｇを使用した以外は、実施例２６と同様にした。
調製されたガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、収率は４２％であり、純度は７４％であることが明らかになった。

【0055】

実施例２９
ＣＯＦＣｌ ５モルを乾燥の５Ｌのステンレス製反応釜に導入し、その後、５モルの三フッ化塩素を導入し、反応中において触媒としてユウロピウムのフッ化物ＥｕＦ_３ ２ｇを使用した以外は、実施例２５と同様にした。
調製されたガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、収率は８５％、純度は９０％であることが明らかになった。

【0056】

実施例３０
ＣＯＦＣｌ ５モルを乾燥の５Ｌのステンレス製反応釜に導入し、その後、５モルの三フッ化塩素を導入し、反応中において触媒として銅のフッ化物（ＣｕＦ_２）２ｇを使用した以外は、実施例２６と同様にした。
調製されたガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、収率は８４％であり、純度は８９％であることが明らかになった。

【0057】

実施例３１
ＣＯ ５モルを乾燥の５Ｌのステンレス製反応釜に導入し、その後、一フッ化塩素５モルを導入し、反応中において触媒としてアルミニウムのフッ化物（ＡｌＦ_３）２ｇを使用した以外は、実施例２５と同様にした。
調製されたガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、収率は８０％であり、純度は９２％であることが明らかになった。

【0058】

実施例３２
ＣＯ ５モルを乾燥の５Ｌのステンレス製反応釜に導入し、その後、一フッ化塩素５モルを導入し、反応中において触媒として銀のフッ化物（ＡｇＦ）２ｇを使用した以外は、実施例２６と同様にした。
調製されたガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、収率は７３％であり、純度は８８％であることが明らかになった。

【0059】

実施例３３
ＣＯ_２ ５モルを乾燥の５Ｌのステンレス製反応釜に導入し、その後、一フッ化塩素５モルを導入し、反応中において触媒としてセシウムのフッ化物（ＣｓＦ）２ｇを使用した以外は、実施例３１と同様にした。
調製されたガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、収率は４０％であり、純度は７０％であることが明らかになった。

【0060】

実施例３４
ＣＯ_２ ５モルを乾燥の５Ｌのステンレス製反応釜に導入し、その後、一フッ化塩素５モルを導入し、反応中において触媒としてナトリウムのフッ化物（ＮａＦ）２ｇを使用した以外は、実施例３２と同様にした。
調製されたガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、収率は４５％であり、純度は７２％であることが明らかになった。

【0061】

実施例３５
ＣＯＦＣｌ ５モルを乾燥の５Ｌのステンレス製反応釜に導入し、その後、一フッ化塩素５モルを導入し、反応中において触媒としてカリウムのフッ化物２ｇを使用した以外は、実施例３１と同様にした。
調製されたガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、収率は７７％であり、純度は９０％であることが明らかになった。

【0062】

実施例３６
ＣＯＦＣｌ ５モルを乾燥の５Ｌのステンレス製反応釜に導入し、その後、一フッ化塩素５モルを導入し、反応中において触媒を使用しなかった以外は、実施例３２と同様にした。
調製されたガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、収率は７６％であり、純度は８９％であることが明らかになった。

【0063】

実施例３７
ＣＯ ５モルを乾燥の５Ｌのステンレス製反応釜に導入し、その後、五フッ化塩素５モルを導入し、反応中において触媒としてセシウムのフッ化物（ＣｓＦ）２ｇを使用した以外は、実施例２５と同様にした。
調製されたガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、収率は９５％であり、純度は９６％であることが明らかになった。

【0064】

実施例３８
ＣＯ ５モルを乾燥の５Ｌのステンレス製反応釜に導入し、その後、五フッ化塩素５モルを導入し、反応中において触媒としてユウロピウムのフッ化物（ＥｕＦ_３）２ｇを使用した以外は、実施例２６と同様にした。
調製されたガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、収率は８１％であり、純度は８８％であることが明らかになった。

【0065】

実施例３９
ＣＯ_２ ５モルを乾燥の５Ｌのステンレス製反応釜に導入し、その後、五フッ化塩素５モルを導入し、反応中において触媒として銅のフッ化物（ＣｕＦ_２）２ｇを使用した以外は、実施例３７と同様にした。
調製されたガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、収率は４４％であり、純度は７０％であることが明らかになった。

【0066】

実施例４０
ＣＯ_２ ５モルを乾燥の５Ｌのステンレス製反応釜に導入し、その後、五フッ化塩素５モルを導入し、反応中において触媒としてアルミニウムのフッ化物（ＡｌＦ_３）２ｇを使用した以外は、実施例３８と同様にした。
調製されたガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、収率は４０％であり、純度は７２％であることが明らかになった。

【0067】

実施例４１
ＣＯＦＣｌ ５モルを乾燥の５Ｌのステンレス製反応釜に導入し、その後、五フッ化塩素５モルを導入し、反応中において触媒を使用しなかった以外は、実施例３７と同様にした。
調製されたガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、収率は８３％であり、純度は９０％であることが明らかになった。

【0068】

実施例４２
ＣＯＦＣｌ ５モルを乾燥の５Ｌのステンレス製反応釜に導入し、その後、五フッ化塩素５モルを導入し、反応中において触媒として銀のフッ化物２ｇを使用した以外は、実施例３８と同様にした。
調製されたガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、収率は８２％であり、純度は８９％であることが明らかになった。

【0069】

実施例４３
ＣＯＦＣｌ ５モルを乾燥の５Ｌのステンレス製反応釜に導入し、その後、フッ素ガス５モルを導入し、反応中において触媒を使用しなかった以外は、実施例２５と同様にした。
調製されたガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、収率は８１％であり、純度は８８％であることが明らかになった。

【0070】

実施例４４
ＣＯＦＣｌ ５モルを乾燥の５Ｌのステンレス製反応釜に導入し、その後、フッ素ガス５モルを導入し、反応中において触媒として銀のフッ化物２ｇを使用した以外は、実施例２６と同様にした。
調製されたガスを検出したところ、精製ガスはフッ化カルボニルであり、収率は８０％であり、純度は８７％であることが明らかになった。

【0071】

【表3】

【0072】

【表4】

【0073】

上記実施例により、本発明が調製するフッ化カルボニルは、比較的に高い収率、及び純度を有する。
以上、実施例の説明は本発明の方法及びその主旨の理解を助けるためのものに過ぎない。なお、当業者にとっては、本発明は、その原理から逸脱することなく、若干の改良及び修飾も可能であり、それらの改良及び修飾はいずれも本発明の特許請求の範囲によって保護される範囲に包含される。