特許 6819574 蓄電素子の製造方法及び蓄電素子の製造装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6819574

(24)【登録日】2021年1月6日

(45)【発行日】2021年1月27日

(54)【発明の名称】蓄電素子の製造方法及び蓄電素子の製造装置

(51)【国際特許分類】

   H01M 50/10 20210101AFI20210114BHJP

   H01M 50/147 20210101ALI20210114BHJP

   H01M 10/04 20060101ALI20210114BHJP

   B23K 26/14 20140101ALI20210114BHJP

   B23K 26/21 20140101ALI20210114BHJP

   H01G 11/78 20130101ALI20210114BHJP

   H01G 13/00 20130101ALI20210114BHJP

   H01G 11/84 20130101ALI20210114BHJP

【ＦＩ】

   H01M2/02 A

   H01M2/04 A

   H01M10/04 Z

   B23K26/14

   B23K26/21 P

   H01G11/78

   H01G13/00 381

   H01G11/84

【請求項の数】8

【全頁数】20

(21)【出願番号】特願2017-510050(P2017-510050)

(86)(22)【出願日】2016年3月29日

(86)【国際出願番号】JP2016060228

(87)【国際公開番号】WO2016158998

(87)【国際公開日】20161006

【審査請求日】2019年3月19日

(31)【優先権主張番号】特願2015-72970(P2015-72970)

(32)【優先日】2015年3月31日

(33)【優先権主張国】JP

(73)【特許権者】

【識別番号】507151526

【氏名又は名称】株式会社ＧＳユアサ

(74)【代理人】

【識別番号】100153224

【弁理士】

【氏名又は名称】中原 正樹

(72)【発明者】

【氏名】上林 広和

(72)【発明者】

【氏名】前田 憲利

【審査官】 高木 康晴

(56)【参考文献】

【文献】 特開２０１０−１０５０４１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第１９９９／０２５０３５（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 特開２００３−１８１６６６（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１４−２２０２８５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００３−２４５７７６（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１０−０５８１２４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平０３−１３３０５２（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｈ０１Ｍ ２／０２

Ｈ０１Ｍ ２／０４

Ｂ２３Ｋ ２６／１４

Ｂ２３Ｋ ２６／２１

Ｈ０１Ｇ １１／７８

Ｈ０１Ｇ １１／８４

Ｈ０１Ｇ １３／００

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

蓄電素子の容器に対して溶接を行う蓄電素子の製造方法であって、
前記溶接が行われる２つの溶接対象部分の間に、壁面が形成された治具を配置する配置ステップと、
前記２つの溶接対象部分に対応して、２つの異なる方向からシールドガスを前記２つの溶接対象部分に供給しながら、前記２つの溶接対象部分を溶接する溶接ステップと、を含み、
前記容器は、開口を有する本体と、前記開口を塞ぐ板状の蓋体と、を有し、
前記２つの溶接対象部分は、前記本体と前記蓋体との環状の境界部分のうちの互いに対向する２つの部分であり、
前記配置ステップでは、前記治具を、前記２つの部分の間に配置し、
前記壁面の少なくとも一部は、前記シールドガスが流れる方向に対して、当該シールドガスが流れる方向の下流側に向かうほど前記容器から遠ざかるように傾斜している
蓄電素子の製造方法。

【請求項2】

前記溶接ステップでは、前記溶接対象部分に供給されたシールドガスが前記壁面の少なくとも一部である傾斜面に沿って流れる
請求項１に記載の蓄電素子の製造方法。

【請求項3】

前記配置ステップでは、前記治具を前記容器に当接させて配置する
請求項１または２に記載の蓄電素子の製造方法。

【請求項4】

さらに、
前記治具を冷却する冷却ステップを含む
請求項１から３のいずれか１項に記載の蓄電素子の製造方法。

【請求項5】

前記溶接ステップでは、所定の位置から前記２つの溶接対象部分に向けて、照射角度を変えながらレーザビームを照射して、前記２つの溶接対象部分を溶接する
請求項１から４のいずれか１項に記載の蓄電素子の製造方法。

【請求項6】

蓄電素子の容器に対して溶接を行うための蓄電素子の製造装置であって、
前記溶接が行われる２つの溶接対象部分であって、２つの異なる方向からシールドガスが供給される前記２つの溶接対象部分の間に配置される壁面が形成された治具を備え、
前記容器は、開口を有する本体と、前記開口を塞ぐ板状の蓋体と、を備え、
前記２つの溶接対象部分は、前記本体と前記蓋体との環状の境界部分のうちの互いに対向する２つの部分であり、
前記治具は、前記２つの部分の間に配置され、
前記壁面の少なくとも一部は、前記シールドガスが流れる方向に対して、当該シールドガスが流れる方向の下流側に向かうほど前記容器から遠ざかるように傾斜している
蓄電素子の製造装置。

【請求項7】

さらに、
前記２つの溶接対象部分に、前記２つの異なる方向からシールドガスを供給する２つの吹出口を備える
請求項６に記載の蓄電素子の製造装置。

【請求項8】

前記壁面の少なくとも一部は、前記シールドガスが流れる方向に対して傾斜している
請求項６または７に記載の蓄電素子の製造装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、蓄電素子の製造方法及び蓄電素子の製造装置に関する。

【背景技術】

【0002】

従来、蓄電素子の製造において、蓄電素子の容器に対してレーザビーム溶接を行うことで容器を形成することが知られている。レーザビームを用いて溶接を行うレーザ溶接では、溶接対象部分（溶接箇所）の金属が外気に触れることによる酸化を抑制するために、シールドガスと呼ばれる不活性ガスを溶接対象部分に供給することで溶接対象部分を空気から遮断している。このように、溶接の対象となる溶接対象部分の全体をシールドガス雰囲気とするために、溶接対象部分を挟んだ両側の２方向から溶接対象部分に向けてシールドガスを供給するレーザ溶接装置が開示されている（例えば、特許文献１を参照）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０１０−１０５０４１号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

しかしながら、上記従来のレーザ溶接装置では、溶接不良を発生させるおそれがある。

【0005】

本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、溶接不良の発生を低減できる蓄電素子の製造方法などを提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

上記目的を達成するために、本発明の一態様に係る蓄電素子の製造方法は、蓄電素子の容器に対して溶接を行う蓄電素子の製造方法であって、前記溶接が行われる２つの溶接対象部分の間に、壁面が形成された治具を配置する配置ステップと、前記２つの溶接対象部分に対応して、２つの異なる方向からシールドガスを前記２つの溶接対象部分に供給しながら、前記２つの溶接対象部分を溶接する溶接ステップと、を含む。

【0007】

これによれば、２つの異なる方向から２つの溶接対象部分に向けて供給されるシールドガスのそれぞれは、各溶接対象部分付近を通過した後に、治具により、流れる方向が変更される。具体的には、容器から離れる方向に向かう。つまり、治具が２つの溶接対象部分の間に配置されることにより、シールドガスの２つの流れは、２つの溶接対象部分において合流することを抑制される。このため、２つの溶接対象部分においてシールドガスによる乱流が発生することを低減でき、２つの溶接対象部分に安定したシールドガスの雰囲気を形成しておくことができる。よって、溶接不良の発生を低減できる。

【発明の効果】

【0008】

本発明における蓄電素子の製造方法によれば、溶接対象部分に安定したシールドガスの雰囲気を形成しておくことができ、溶接不良の発生を低減できる。

【図面の簡単な説明】

【0009】

【図1】図１は、本実施の形態に係る蓄電素子の製造装置の外観を示す図である。

【図2】図２は、本実施の形態に係る蓄電素子の製造方法における治具の配置について説明するための図である。

【図3】図３は、本実施の形態に係る蓄電素子の容器の溶接経路について説明するための図である。

【図4】図４は、実施の形態に係る蓄電素子の外観を示す斜視図である。

【図5A】図５Ａは、実施の形態に係る治具を上斜め方向から見た場合の斜視図である。

【図5B】図５Ｂは、実施の形態に係る治具を下斜め方向から見た場合の斜視図である。

【図6】図６は、実施の形態に係る図１における製造装置のＶＩ−ＶＩ断面図のうちの治具周辺の一部を拡大した図である。

【図7】図７は、実施の形態に係る蓄電素子の製造方法を示すフローチャートである。

【図8】図８は、変形例に係る蓄電素子の製造装置の外観を示す図である。

【図9】図９は、図８における製造装置のＩＸ−ＩＸ断面図のうちの治具周辺の一部を拡大した図である。

【図10】図１０は、図８における製造装置のＸ−Ｘ断面図のうちの治具周辺の一部を拡大した図である。

【図11】図１１は、変形例に係る治具を、蓄電素子の所定の位置に配置した状態の外観を示す斜視図である。

【発明を実施するための形態】

【0010】

上記従来のレーザ溶接装置では、溶接不良を発生させるおそれがある。

【0011】

すなわち、従来のレーザ溶接装置では、異なる２方向から溶接対象部分に流れ込んできたシールドガス同士がぶつかり合うことで、溶接対象部分付近で乱流が発生するおそれがある。このため、溶接対象部分において、安定したシールドガスの雰囲気を形成しておくことが難しく、その結果、溶接不良を発生させるおそれがある。

【0012】

本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、安定したシールドガスの雰囲気を形成しておくことで、溶接不良の発生を低減できる蓄電素子の製造方法などを提供することを目的とする。

【0013】

上記目的を達成するために、本発明の一態様に係る蓄電素子の製造方法は、蓄電素子の容器に対して溶接を行う蓄電素子の製造方法であって、前記溶接が行われる２つの溶接対象部分の間に、壁面が形成された治具を配置する配置ステップと、前記２つの溶接対象部分に対応して、２つの異なる方向からシールドガスを前記２つの溶接対象部分に供給しながら、前記２つの溶接対象部分を溶接する溶接ステップと、を含む。

【0014】

これによれば、２つの異なる方向から２つの溶接対象部分に向けて供給されるシールドガスのそれぞれは、各溶接対象部分付近を通過した後に、治具により、流れる方向が変更される。具体的には、容器から離れる方向に向かう。つまり、治具が２つの溶接対象部分の間に配置されることにより、シールドガスの２つの流れは、２つの溶接対象部分において合流することを抑制される。このため、２つの溶接対象部分においてシールドガスによる乱流が発生することを低減でき、２つの溶接対象部分に安定したシールドガスの雰囲気を形成しておくことができる。よって、溶接不良の発生を低減できる。

【0015】

また、前記溶接ステップでは、前記溶接対象部分に供給されたシールドガスが前記壁面の少なくとも一部である傾斜面に沿って流れてもよい。

【0016】

このため、互いに異なる２方向から供給されるシールドガスの２つの流れのそれぞれを治具の壁面に沿って流れやすくすることができる。よって、乱流が発生しないように、シールドガスの２つの流れのそれぞれが流れる方向を変更することができる。これにより、２つの溶接対象部分に安定したシールドガスの雰囲気を形成しておくことができ、溶接不良の発生を低減できる。

【0017】

また、前記配置ステップでは、前記治具を前記容器に当接させて配置してもよい。

【0018】

このため、２つの方向から供給されるシールドガスの２つの流れが２つの溶接対象部分において合流することを抑制することができる。また、溶接により容器に生じた熱を治具に伝導させることができるため、２つの溶接対象部分を冷却できる。

【0019】

また、さらに、前記治具を冷却する冷却ステップを含んでもよい。

【0020】

このため、治具に熱伝導された、溶接により生じた熱を放出することができ、治具が繰り返し使用されることにより高温になることを抑制できる。これにより、蓄電素子の容器の溶接の際に、高温の治具が容器に当接することにより、蓄電素子に悪影響を与えることを抑制できる。また、治具が温度変化により劣化することを抑制できるため、治具の寿命を延ばすことができる。

【0021】

また、前記溶接ステップでは、所定の位置から前記２つの溶接対象部分に向けて、照射角度を変えながらレーザビームを照射して、前記２つの溶接対象部分を溶接してもよい。

【0022】

このため、２つの溶接対象部分がレーザビームの走査により溶接される場合であっても、２つの溶接対象部分に安定したシールドガス雰囲気を形成しておくことができる。

【0023】

また、本発明の一態様に係る蓄電素子の製造装置は、蓄電素子の容器に対して溶接を行うための蓄電素子の製造装置であって、前記溶接が行われる２つの溶接対象部分であって、２つの異なる方向からシールドガスが供給される前記２つの溶接対象部分の間に配置される壁面が形成された治具を備える。

【0024】

これによれば、２つの異なる方向から２つの溶接対象部分に向けて供給されるシールドガスのそれぞれは、各溶接対象部分付近を通過した後に、治具により、流れる方向が変更される。具体的には、容器から離れる方向に向かう。つまり、治具が２つの溶接対象部分の間に配置されることにより、シールドガスの２つの流れは、２つの溶接対象部分において合流することを抑制される。このため、２つの溶接対象部分においてシールドガスによる乱流が発生することを低減でき、２つの溶接対象部分に安定したシールドガスの雰囲気を形成しておくことができる。よって、溶接が行われた場合に、溶接不良の発生を低減できる。

【0025】

また、さらに、前記２つの溶接対象部分に、前記２つの異なる方向からシールドガスを供給する２つの吹出口を備えてもよい。

【0026】

これによれば、２つの溶接対象部分に対してシールドガスを容易に供給できる。

【0027】

また、前記壁面の少なくとも一部は、前記シールドガスが流れる方向に対して傾斜していてもよい。

【0028】

このように、２つの異なる方向から供給されるシールドガスの２つの流れのそれぞれを、治具の傾斜面に沿わせることで、当該流れの方向を変えることができる。よって、乱流が発生しないように、シールドガスの流れる方向を変更することができる。これにより、２つの溶接対象部分に安定したシールドガスの雰囲気を形成しておくことができ、溶接不良の発生を低減できる。

【0029】

また、前記容器は、矩形状の開口を有する本体と、前記開口を塞ぐ長尺板状の蓋体と、を備え、前記２つの溶接対象部分は、前記本体と前記蓋体との矩形環状の境界部分のうちの互いに対向する２つの長辺部分であり、前記治具は、前記２つの長辺部分の間に配置され、前記壁面の少なくとも一部は、前記シールドガスが流れる方向に対して、当該シールドガスが流れる方向の下流側に向かうほど前記容器から遠ざかるように傾斜していてもよい。

【0030】

これによれば、溶接対象部分である本体と蓋体との矩形環状の境界部分のうちの対向する２つの部分において、互いの間隔が短く、かつ、それぞれの溶接距離が長い部分である２つの長辺部分の間に治具を配置することになるため、２つの異なる方向から供給されるシールドガスが合流することを抑制できる。また、シールドガスが流れる方向を、容器から遠ざかる方向に変更することができるため、２つの異なる方向から供給されるシールドガスが容器の溶接対象部分において合流することを抑制できる。

【0031】

以下、図面を参照しながら、本発明の実施の形態に係る蓄電素子の製造方法及び蓄電素子の製造装置について説明する。なお、以下で説明する実施の形態は、いずれも本発明の好ましい一具体例を示すものである。以下の実施の形態で示される数値、形状、材料、構成要素、構成要素の配置位置及び接続形態等は、一例であり、本発明を限定する主旨ではない。また、以下の実施の形態における構成要素のうち、最上位概念を示す独立請求項に記載されていない構成要素については、任意の構成要素として説明される。また、各図において、寸法等は厳密に図示したものではない。

【0032】

（実施の形態）
まず、蓄電素子５００の製造装置１０について、説明する。

【0033】

図１は、実施の形態に係る蓄電素子の製造装置の外観を示す図である。図２は、実施の形態に係る治具及び複数の固定部を説明するための図である。なお、これらの図及び以降の図では、説明の便宜のため、Ｚ軸方向を上下方向として示しており、以下ではＺ軸方向を上下方向（つまり、Ｚ軸方向プラス側を上方、Ｚ軸方向マイナス側を下方）として説明している箇所があるが、実際の使用態様において、Ｚ軸方向が上下方向になるとは限らない。

【0034】

同図に示すように、蓄電素子５００の製造装置１０は、溶接部１００と、複数（本実施の形態では４つ）の吹出部２１０〜２４０と、治具３００と、複数（本実施の形態では４つ）の固定部４１０〜４４０とを備える。本実施の形態では、製造装置１０は、蓄電素子５００の容器５１０の本体５１１と蓋体５１２とを溶接するための装置である。つまり、本実施の形態では、蓄電素子５００の容器５１０の溶接される溶接対象部分５３０は、本体５１１と蓋体５１２との境界部分である。

【0035】

溶接部１００は、レーザビームＬ１（Ｌ２）を照射することにより蓄電素子５００の容器を溶接するレーザユニットである。具体的には、溶接部１００は、所定の位置Ｐ１（上方）から容器の溶接対象部分に向けて、照射角度を変えながらレーザビームを照射して、溶接対象部分を溶接する。例えば、溶接部１００は、レーザビームＬ１の角度で溶接対象部分の一部を溶接した後に、レーザビームＬ２の角度で溶接対象部分の他の一部を溶接する。溶接部１００は、例えば、角度が変更自在に設けられたミラーにレーザビームを反射させることで、溶接部１００から照射されるレーザビームの角度を変えて走査するスキャナユニット（例えばガルバノスキャナユニット）を有する。

【0036】

ここで、溶接部１００により行われる溶接経路について、図３を用いて説明する。図３は、本実施の形態に係る蓄電素子の容器の溶接経路について説明するための図である。

【0037】

本実施の形態では、溶接部１００は、図３に示すように、例えば、長辺部分５３１、短辺部分５３３、長辺部分５３２、及び短辺部分５３４の順番に、連続して溶接を行う。つまり、溶接部１００は、矩形環状の溶接対象部分５３０に対して、連続した１回のレーザビームの照射でレーザビームの角度を変えて走査を行うことで、容器５１０に対する溶接を行う。

【0038】

複数の吹出部２１０〜２４０は、シールドガスを蓄電素子５００の容器５１０の溶接対象部分５３０に向けて供給する。複数の吹出部２１０〜２４０は、溶接対象部分５３０が形成されている容器５１０の上面に対して、Ｘ軸方向の両側及びＹ軸方向の両側からシールドガスを供給する。具体的には、２つの吹出部２１０、２２０は、容器５１０のＹ軸方向の両側に配置され、容器５１０の上面の溶接対象部分５３０に向けてシールドガスをＹ軸方向の両側から供給する。また、２つの吹出部２３０、２４０は、容器５１０のＸ軸方向の両側に配置され、容器５１０の上面の溶接対象部分５３０に向けてシールドガスをＸ軸方向の両側から供給する。なお、シールドガスは、溶接箇所の金属が外気に触れることによる酸化を抑制できる不活性ガスであれば特に限定されないが、例えば、Ｎ２ガス、Ａｒガス、Ｈｅガス等である。

【0039】

複数の吹出部２１０〜２４０のそれぞれは、シールドガスが導入される導入口２１１、２２１、２３１、２４１と、シールドガスを溶接対象部分５３０に向けて吹き出す吹出口２１２、２２２、２３２、２４２とを有する。複数の吹出部２１０〜２４０のそれぞれは、導入口２１１、２２１、２３１、２４１から導入されたガスＧｉｎが吹出口２１２、２２２、２３２、２４２までの流路を流れる間に、シールドガスを整流する整流器としての機能も有する。つまり、複数の吹出部２１０〜２４０により吹き出されるガスＧｏｕｔは、複数の吹出部２１０〜２４０によって整流され、乱流が低減されたガスである。

【0040】

ここで、溶接の対象となる蓄電素子５００の構成の詳細について、図４を用いて説明する。図４は、実施の形態に係る蓄電素子の外観を示す斜視図である。

【0041】

蓄電素子５００は、電気を充電し、また、電気を放電することのできる二次電池であり、より具体的には、リチウムイオン二次電池などの非水電解質二次電池である。例えば、蓄電素子５００は、電気自動車（ＥＶ）、プラグインハイブリッド電気自動車（ＰＨＥＶ）、またはハイブリッド電気自動車（ＨＥＶ）などに適用される。なお、蓄電素子５００は、非水電解質二次電池には限定されず、非水電解質二次電池以外の二次電池であってもよいし、キャパシタであってもよい。

【0042】

図４に示すように、蓄電素子５００は、矩形筒状で底を備える本体５１１と、本体５１１の開口を閉塞する板状部材である蓋体５１２とで構成される容器５１０と、正極端子５２１と、負極端子５２２とを備える。蓋体５１２は、本体５１１の開口を閉塞した状態で、蓋体５１２の板状の外縁部が、本体５１１の開口の内壁面に対向する。本体５１１の開口には、蓋体５１２の下面を支持する段差部５１１ａ（図６参照）が設けられており、本体５１１の上端部と、蓋体５１２の上面とが同じ位置（面一）となるように構成されている。つまり、溶接対象部分５３０は、容器５１０の上面に形成されている。

【0043】

この容器５１０は、電極体等を内部に収容後、蓋体５１２と本体５１１とが溶接されることにより、内部を密封することができるものとなっている。なお、蓋体５１２及び本体５１１の材質は、特に限定されないが、例えばステンレス鋼、アルミニウム、アルミニウム合金など溶接可能な金属であるのが好ましい。

【0044】

また、正極端子５２１及び負極端子５２２は、蓋体５１２に取り付けられている。正極端子５２１及び負極端子５２２は、蓋体５１２の上面から上方に向かって突出して形成される。正極端子５２１及び負極端子５２２は、図示しない電極体の各極に電気的に接続され、内部に蓄えられた電力を外部に出力する、または、外部からの電力を内部に蓄えるための電極端子である。

【0045】

本実施の形態では、蓄電素子５００は、容器５１０の蓋体５１２がＸ軸方向に平行な２つの長辺を有し、かつ、Ｙ軸方向に平行な２つの短辺を有する長尺板状部材である。よって、図３に示すように、容器５１０の溶接対象部分５３０は、蓋体５１２を上方から見た場合の外形と同じく、Ｘ軸方向に平行な２つの長辺部分５３１、５３２と、Ｙ軸方向に平行な２つの短辺部分５３３、５３４とを有する矩形環状の部分である。

【0046】

ここで、吹出部２１０は、長辺部分５３１に対向し、かつ、長辺部分５３１の長さよりも長い幅を有する吹出口２１２を有する。また、同様に、吹出部２２０は、長辺部分５３２に対向し、かつ、長辺部分５３２の長さよりも長い幅を有する吹出口２２２を有する。要するに、２つの吹出部２１０、２２０は、溶接対象部分５３０のＸ軸方向に平行な２つの長辺部分５３１、５３２に、２つの異なる方向からシールドガスを供給し、また、２つの長辺部分５３１、５３２の全体に亘ってシールドガスを供給する。また、２つの吹出部２１０、２２０は、互いに略同じタイミングでシールドガスを供給する。

【0047】

さらに、吹出部２３０は、短辺部分５３３に対向し、かつ、短辺部分５３３の長さよりも長い幅を有する吹出口２３２を有する。また、同様に、吹出部２４０は、短辺部分５３４に対向し、かつ、短辺部分５３４の長さよりも長い幅を有する吹出口２４２を有する。これにより、２つの吹出部２３０、２４０は、溶接対象部分５３０のＹ軸方向に平行な２つの短辺部分５３３、５３４のそれぞれに向けてシールドガスを供給し、また、２つの短辺部分５３３、５３４の全体に亘ってシールドガスを供給する。また、２つの吹出部２３０、２４０は、互いに略同じタイミングでシールドガスを供給する。

【0048】

また、２つの吹出部２１０、２２０と、２つの吹出部２３０、２４０とは、互いに略同じタイミングでシールドガスを供給する。つまり、４つの吹出部２１０、２２０、２３０、２４０は、互いに略同じタイミングで、かつ、略同じ期間中に、シールドガスを供給する。

【0049】

治具３００は、異なる複数の方向から供給されるシールドガスがぶつかり合うことを抑制するための治具である。治具３００は、図２に示すように、溶接部１００による溶接が行われる前に、蓄電素子５００の容器５１０の上面の所定の位置Ｐ２に配置される。ここで、所定の位置Ｐ２とは、２つの異なる方向からシールドガスが供給される２つの溶接対象部分（本実施の形態では、２つの長辺部分５３１、５３２）の間の位置である。また、治具３００は、図３に示すように、所定の位置Ｐ２に配置された状態で、２つの長辺部分５３１、５３２に対向する壁面Ａ１１、Ａ１２を有する。つまり、壁面Ａ１１、Ａ１２は、シールドガスを遮蔽するための壁面である。治具３００の材質は、特に限定されないが、溶接により生じた熱を放熱させることができるため、熱伝導性を有する部材であることが好ましい。また、治具３００の材質は、溶接による熱に耐える耐熱性を有する部材であることが好ましい。治具３００は、例えば、アルミニウム、アルミニウム合金、銅、銅合金などの金属であるのが好ましい。

【0050】

複数の固定部４１０〜４４０は、溶接部１００に対する蓄電素子５００の位置決めを行う治具である。具体的には、図２に示すように、２つの固定部４１０、４２０は、Ｙ軸方向で互いに対向しており、Ｙ軸方向の両側から蓄電素子５００の容器５１０の長側面を挟み込むことで、Ｙ軸方向の所定の位置に蓄電素子５００が位置するように固定する。また、２つの固定部４３０、４４０は、Ｘ軸方向で互いに対向しており、Ｘ軸方向の両側から蓄電素子５００の容器５１０の短側面を挟み込むことで、Ｘ軸方向の所定の位置に蓄電素子５００が位置するように固定する。なお、蓄電素子５００のＺ軸方向の位置は、図示しない台座に蓄電素子５００を載置することにより位置決めされる。このように、蓄電素子５００は、複数の固定部４１０〜４４０により、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、及びＺ軸方向の所定の位置に位置決めされた状態で固定されるため、蓄電素子５００を別の蓄電素子５００に変えて固定したとしても、別の蓄電素子５００と溶接部１００との位置関係を一定の関係とすることができる。

【0051】

ここで、治具３００の構成について、図５Ａ及び図５Ｂを用いて詳細に説明する。

【0052】

図５Ａは、実施の形態に係る治具を上斜め方向から見た場合の斜視図である。図５Ｂは、実施の形態に係る治具を下斜め方向から見た場合の斜視図である。

【0053】

これらの図に示すように、治具３００は、Ｚ軸方向マイナス側の基部３１０と、基部３１０からＺ軸方向プラス側に向かって突出する壁部３２０とを有する。基部３１０は、容器５１０の上面に配置されるための部位である。本実施の形態では、基部３１０は、Ｙ軸方向に面している側面を有するが、側面を有していなくてもよい。壁部３２０は、壁面Ａ１１、Ａ１２を有する。なお、治具３００の外形は、治具３００が容器５１０に配置され、容器５１０に対するレーザビームによる溶接が行われたときに、レーザビームの溶接対象部分への照射を遮らない形状であればよい。

【0054】

また、図５Ｂに示すように、治具３００は、基部３１０の下面に溝部３３０が形成されている。溝部３３０は、治具３００を、蓄電素子５００の上面に配置するときに、正極端子５２１及び負極端子５２２と干渉させずに配置するための形状である。これにより、治具３００の基部３１０の溝部３３０の内方に、正極端子５２１及び負極端子５２２を収めることができるため、治具３００の下面を容器５１０の上面に当接させた状態で治具３００を容器５１０の所定の位置Ｐ２に配置できる。このように、正極端子５２１及び負極端子５２２を治具３００の内方に収めることができるため、正極端子５２１及び負極端子５２２に対してシールドガスが当たることを抑制でき、シールドガスの流れに乱流が発生することを低減できる。

【0055】

なお、溝部３３０は、正極端子５２１及び負極端子５２２のＸ軸方向の両側の側面（正極端子５２１のＸ軸方向マイナス側の側面、及び、負極端子５２２のＸ軸方向プラス側の側面）及びＹ軸方向の両側の側面に当接することで、治具３００のＸ軸方向及びＹ軸方向の位置決めがされるような大きさであることが好ましい。この場合、溝部３３０の大きさは、正極端子５２１及び負極端子５２２のＸ軸方向の両側の側面及びＹ軸方向の両側の側面との間に所定の隙間が生じるような大きさであればよい。また、溝部３３０の深さは、正極端子５２１及び負極端子５２２の高さよりも大きければよい。なお、後述する図６では、上記の所定の隙間は省略して図示している。このように、治具３００が容器５１０の所定の位置Ｐ２に配置された状態で正極端子５２１及び負極端子５２２に接触しない大きさに溝部３３０を形成することで、レーザ溶接の熱が正極端子５２１及び負極端子５２２に伝わることを抑制できる。

【0056】

なお、レーザ溶接の熱が伝わらない対策が行われる場合には、治具３００が正極端子５２１及び負極端子５２２に接触する構成であってもよい。レーザ溶接の熱が伝わらない対策とは、例えば、治具３００が容器５１０の所定の位置Ｐ２配置された状態で、治具３００の溝部３３０と正極端子５２１及び負極端子５２２との間に断熱材を設けることである。つまり、治具３００は、溝部３３０の表面に沿って設けられた断熱材を有していてもよい。

【0057】

次に、治具３００を蓄電素子５００の容器５１０の所定の位置Ｐ２に配置した状態で、複数の吹出部２１０〜２４０からシールドガスを供給した場合のシールドガスの流れについて、図６を用いて説明する。

【0058】

図６は、実施の形態に係る図１における製造装置のＶＩ−ＶＩ断面図のうちの治具周辺の一部を拡大した図である。

【0059】

図６に示すように、Ｙ軸方向に対向して配置される２つの吹出部２１０、２２０は、Ｙ軸方向で溶接対象部分５３０を挟んだ状態で、溶接対象部分５３０に向けてシールドガスを供給する。つまり、２つの吹出部２１０、２２０は、互いに異なる２方向から２つの溶接対象部分に向けてシールドガスを供給する。具体的には、蓄電素子５００のＹ軸方向マイナス側に配置される吹出部２１０は、溶接対象部分５３０のうちのＹ軸方向マイナス側の一部である長辺部分５３１に向けてシールドガスを供給する。また、蓄電素子５００のＹ軸方向プラス側に配置される吹出部２２０は、溶接対象部分５３０のうちのＹ軸方向プラス側の一部である長辺部分５３２に向けてシールドガスを供給する。

【0060】

また、２つの吹出部２１０、２２０は、溶接対象部分５３０が形成されている蓄電素子５００の容器５１０の上面から所定の間隔の高さの空間に対してシールドガスを供給する。具体的には、２つの吹出部２１０、２２０は、シールドガスを吹き出すための吹出口２１２、２２２の下端が容器５１０の上面と同じ高さになるように配置されている。一般的に、開口から吹き出されたガスの流れは、流れの幅方向に拡散するため、開口の大きさよりも大きな幅の流れとなる。つまり、開口である吹出口２１２、２２２の下端を容器５１０の上面と同じ高さになるように配置することで、シールドガスが容器５１０の上面に確実に接触しながら流れることを実現している。

【0061】

なお、図６を用いて説明した上記のことは、Ｘ軸方向に対向して配置される２つの吹出部２３０、２４０に対しても同様に言える。

【0062】

ここで、吹出部２１０によって供給されたシールドガスの流れＦ１１は、長辺部分５３１の上方を通過した後で、治具３００の壁部３２０の壁面Ａ１１に当たる。これにより、水平方向（Ｙ軸方向）に沿って流れていたシールドガスの流れＦ１１は、壁面Ａ１１に沿って、流れる方向が変更され、上方（Ｚ軸方向プラス側）に向かう。同様に、吹出部２２０によって供給されたシールドガスの流れＦ１２は、長辺部分５３２の上方を通過した後で、治具３００の壁部３２０の壁面Ａ１２に当たる。これにより、水平方向（Ｙ軸方向）に沿って流れていたシールドガスの流れＦ１２は、壁面Ａ１２に沿って、流れる方向が変更され、上方（Ｚ軸方向プラス側）に向かう。

【0063】

つまり、吹出部２１０、２２０から吹き出されたシールドガスは、治具３００によって、流れる方向が所定の角度（本実施の形態では９０度）だけ変更されて流れる。これにより、シールドガスは、少なくとも治具３００のＺ軸方向プラス側の端部まで治具３００の表面に沿って流れる。

【0064】

また、２つの異なる方向から吹き出されたシールドガスは、治具３００によって流れる方向が変更されることで、互いに同一の方向（Ｚ軸方向プラス側）に流れる。このように、治具３００は、２つの異なる方向から吹き出されたシールドガスが流れる方向を揃えることができるため、２つの異なる方向から吹き出されたシールドガスがぶつかり合うことで乱流が発生することを効果的に抑制できる。

【0065】

ここで、図６に示すように、治具３００の壁部３２０は、Ｚ軸方向プラス側に向かうにつれて、壁面Ａ１１及び壁面Ａ１２の間隔が短くなるように、形成されている。つまり、壁面Ａ１１、Ａ１２の一部は、シールドガスが流れるＹ軸方向に対して傾斜している。具体的には、壁面Ａ１１、Ａ１２の一部は、シールドガスが流れる方向に対して、当該シールドガスが流れる方向の下流側に向かうほど蓋体５１２から遠ざかるように傾斜している。

【0066】

また、本実施の形態では、壁面Ａ１１及び壁面Ａ１２は、Ｚ軸方向マイナス側の部分よりもＺ軸方向プラス側の部分が急峻に立設されように形成されており、Ｚ軸方向プラス側の部分において、蓋体５１２に対して略直交するように形成されている。つまり、傾斜面は、湾曲した曲面であり、壁面Ａ１１及び壁面Ａ１２の内側に凸になるようにカーブしているとも言える。

【0067】

また、治具３００は、容器５１０の所定の位置Ｐ２に配置された状態で、容器５１０の上面からの高さが、複数の吹出部２１０〜２４０の吹出口２１２、２２２、２３２、２４２の高さよりも高い構成である。これにより、吹出口２１２、２２２、２３２、２４２から吹き出されたシールドガスが、溶接対象部分５３０においてぶつかり合うことを抑制できる。

【0068】

次に、以上のように構成された治具３００を用いた蓄電素子の製造方法について、図７を用いて説明する。図７は、実施の形態に係る蓄電素子の製造方法を示すフローチャートである。なお、蓄電素子５００の製造方法では、既に、複数の固定部４１０〜４４０によって、蓄電素子５００の位置決めが為されているものとする。

【0069】

まず、蓄電素子５００の容器５１０の上面の所定の位置Ｐ２に治具３００を配置する（Ｓ１０：配置ステップ）。具体的には、容器５１０の溶接される２つの長辺部分５３１、５３２の間に、壁面Ａ１１、Ａ１２が形成された治具３００を配置する。配置ステップＳ１０では、治具３００を２つの長辺部分５３１、５３２の間に当接させて配置することが好ましい。なお、配置ステップＳ１０は、製造装置１０が行ってもよいし、作業者（人）が行ってもよい。例えば、製造装置１０が、治具３００を容器５１０の所定の位置Ｐ２に移動させるための機構を有していれば、製造装置１０が配置ステップＳ１０を行ってもよい。

【0070】

次に、シールドガスを溶接対象部分５３０に向けて供給しながら、溶接対象部分５３０を溶接する（Ｓ２０：溶接ステップ）。具体的には、複数の吹出部２１０〜２４０により、互いに異なる４方向から溶接対象部分５３０のうちの２つの長辺部分５３１、５３２及び２つの短辺部分５３３、５３４のそれぞれに向けてシールドガスを供給する。なお、溶接ステップＳ２０では、溶接対象部分に供給されたシールドガスは、治具３００の傾斜面（曲面）に当たることで、傾斜面に沿って流れる。そして、シールドガスが供給された状態で、溶接部１００が、溶接対象部分５３０を溶接する。

【0071】

以上のように、本発明の実施の形態に係る蓄電素子５００の製造方法によれば、溶接が行われる２つの長辺部分５３１、５３２の間に壁面が形成された治具３００を配置し、２つの異なる方向からシールドガスを２つの長辺部分５３１、５３２に供給しながら、２つの長辺部分５３１、５３２を溶接する。

【0072】

つまり、２つの異なる方向から２つの長辺部分５３１、５３２に向けて供給されるシールドガスの流れＦ１１、Ｆ１２のそれぞれは、各長辺部分５３１、５３２を通過した後に、治具３００の各壁面Ａ１１、Ａ１２により流れる方向が変更される。具体的には、容器５１０から離れる方向に向かう。つまり、治具３００が２つの長辺部分５３１、５３２の間に配置されることにより、シールドガスの２つの流れＦ１１、Ｆ１２は、２つの長辺部分５３１、５３２において合流することを抑制される。このため、２つの長辺部分５３１、５３２においてシールドガスによる乱流が発生することを低減でき、２つの長辺部分５３１、５３２に安定したシールドガスの雰囲気を形成しておくことができる。よって、溶接不良の発生を低減できる。

【0073】

また、溶接ステップＳ２０では、溶接対象部分５３０に供給されたシールドガスが治具３００の壁面Ａ１１、Ａ１２の一部である傾斜面に沿って流れる。このため、２つの異なる方向から供給されるシールドガスの２つの流れＦ１１、Ｆ１２のそれぞれを治具３００の各壁面Ａ１１、Ａ１２に沿って流れやすくすることができる。よって、乱流が発生しないように、シールドガスの２つの流れＦ１１、Ｆ１２のそれぞれが流れる方向を変更することができる。これにより、２つの長辺部分５３１、５３２に安定したシールドガスの雰囲気を形成しておくことができ、溶接不良の発生を低減できる。

【0074】

また、配置ステップＳ１０では、治具３００を容器５１０に当接させて配置する。このため、２つの方向から供給されるシールドガスの２つの流れＦ１１、Ｆ１２が２つの長辺部分５３１、５３２において合流することを、抑制することができる。また、溶接により容器５１０に生じた熱を治具３００に伝導させることができるため、２つの溶接対象部分を冷却できる。

【0075】

また、溶接ステップＳ２０では、所定の位置から２つの長辺部分５３１、５３２に向けて、照射角度を変えながらレーザビームＬ１を照射して、２つの長辺部分５３１、５３２を溶接する。

【0076】

従来、トーチやワークが移動する場合、シールドガスを吹き出すガスノズルをレーザヘッドなどに取り付けることにより、レーザビームの移動に合わせて、ガスノズルが追従し、溶接されている部分にシールドガスを供給していた。近年においては、レーザ溶接は、トーチやワークが移動して溶接するのではなく、例えば、ガルバノスキャナによる溶接が主流となってきている。ガルバノスキャナによる溶接の場合、内部に搭載されたミラーの動作により、レーザビームが照射される。この場合、ガスノズルをレーザビームに追従させて移動させるのは難しいため、ワークの周囲からシールドガスを供給する必要がある。

【0077】

しかしながらシールドガスをワークの周囲から供給する場合、供給するシールドガス同士がぶつかり合い、ガスの流れが乱流となっていたので、溶接箇所における溶融池のシールドが不十分となる部分が発生する場合があり、溶接品質に悪影響を与えていた。このように、２つの長辺部分５３１、５３２がレーザビームＬ１の走査による溶接であって、２つの異なる方向からシールドガスが供給される溶接であっても、２つの長辺部分５３１、５３２の間に治具３００を配置しているため、２つの長辺部分５３１、５３２に安定したシールドガス雰囲気を形成しておくことができる。

【0078】

また、２つの長辺部分５３１、５３２に、２つの異なる方向からシールドガスを供給する２つの吹出口２１２、２２２を備える。これによれば、２つの長辺部分５３１、５３２に対してシールドガスを容易に供給できる。

【0079】

また、壁面Ａ１１、Ａ１２の一部は、シールドガスが流れる方向に対して傾斜している。このように、２つの異なる方向から供給されるシールドガスの２つの流れのそれぞれを、治具３００の傾斜面に沿わせることで、当該流れの方向を変えるため、当該流れが、治具の壁面に当たることにより生じる乱流の発生を低減できる。これにより、２つの長辺部分５３１、５３２に安定したシールドガスの雰囲気を形成しておくことができ、溶接不良の発生を低減できる。

【0080】

また、容器５１０は、矩形状の開口を有する本体５１１と、開口を塞ぐ長尺板状の蓋体５１２と、を備え、２つの溶接対象部分は、本体５１１と蓋体５１２との矩形環状の境界部分（溶接対象部分５３０）のうちの互いに対向する２つの長辺部分５３１、５３２であり、治具３００は、２つの長辺部分５３１、５３２の間に配置される。つまり、溶接対象部分５３０である本体５１１と蓋体５１２との矩形環状の境界部分のうちの対向する２つの部分において、互いの間隔が短く、かつ、それぞれの溶接距離が長い部分である２つの長辺部分５３１、５３２の間に治具を配置することになるため、２つの異なる方向から供給されるシールドガスが合流することを抑制できる。

【0081】

また、壁面Ａ１１、Ａ１２の一部は、シールドガスが流れる方向に対して、当該シールドガスが流れる方向の下流側に向かうほど容器５１０から遠ざかるように傾斜している。つまり、シールドガスが流れる方向を、容器５１０から遠ざかる方向に変更することができるため、２つの異なる方向から供給されるシールドガスが容器５１０の２つの長辺部分５３１、５３２において合流することを抑制できる。

【0082】

以上、本発明の実施の形態に係る蓄電素子５００の製造方法及び蓄電素子５００の製造装置１０について説明したが、本発明は、上記実施の形態に限定されるものではない。つまり、今回開示された実施の形態は全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味及び範囲内での全ての変更が含まれることが意図される。

【0083】

例えば、上記実施の形態では、Ｙ軸方向に対して傾斜した面を含む壁面Ａ１１、Ａ１２を有する治具３００を採用しているが、これに限らずに、図８〜１０に示すように、Ｙ軸方向に対して傾斜した面を含む壁面Ａ２１、Ａ２２に、さらに、Ｘ軸方向に対して傾斜した面を含む壁面Ａ２３、Ａ２４を有する治具３００ａを採用してもよい。

【0084】

図８は、変形例に係る蓄電素子の製造装置の外観を示す図である。図９は、図８における製造装置のＩＸ−ＩＸ断面図のうちの治具周辺の一部を拡大した図である。図１０は、図８における製造装置のＸ−Ｘ断面図のうちの治具周辺の一部を拡大した図である。なお、図８の製造装置１０ａの治具３００ａ以外の構成は、上記で説明した製造装置１０の治具３００以外の構成と同様であるため同じ符号を付し、説明を省略する。

【0085】

図９に示すように、治具３００ａは、Ｚ軸方向プラス側に向かうにつれて、壁面Ａ２１及び壁面Ａ２２の間隔が短くなるように、形成されている。つまり、治具３００ａは、シールドガスが流れるＹ軸方向に対して傾斜した面を有する。また、図１０に示すように、治具３００ａは、Ｚ軸プラス側に向かうにつれて、壁面Ａ２３及び壁面Ａ２４の間隔が短くなるように、形成されている。つまり、治具３００ａは、シールドガスが流れるＸ軸方向に対して傾斜した面を有する。

【0086】

このような外形を有する治具３００ａを用いると、４方向から溶接対象部分５３０に供給されるシールドガスは、図９及び図１０に示すように流れる。

【0087】

図９に示すように、吹出部２１０によって供給されたシールドガスの流れＦ２１は、長辺部分５３１の上方を通過した後で、治具３００ａの壁面Ａ２１に当たる。これにより、水平方向（Ｙ軸方向）に沿って流れていたシールドガスの流れＦ２１は、壁面Ａ２１に沿って、流れる方向が変更され、上方（Ｚ軸方向プラス側）に向かう。同様に、吹出部２２０によって供給されたシールドガスの流れＦ２２は、長辺部分５３２の上方を通過した後で、治具３００ａの壁面Ａ２２に当たる。これにより、水平方向（Ｙ軸方向）に沿って流れていたシールドガスの流れＦ２２は、壁面Ａ２２に沿って、流れる方向が変更され、上方（Ｚ軸方向プラス側）に向かう。

【0088】

また、図１０に示すように、吹出部２３０によって供給されたシールドガスの流れＦ２３は、短辺部分５３３の上方を通過した後で、治具３００ａの壁面Ａ２３に当たる。これにより、水平方向（Ｘ軸方向）に沿って流れていたシールドガスの流れＦ２３は、壁面Ａ２３に沿って上方（Ｚ軸方向プラス側）に向かう。同様に、吹出部２４０によって供給されたシールドガスの流れＦ２４は、短辺部分５３４の上方を通過した後で、治具３００ａの壁面Ａ２４に当たる。これにより、水平方向（Ｘ軸方向）に沿って流れていたシールドガスの流れＦ２４は、壁面Ａ２４に沿って上方（Ｚ軸方向プラス側）に向かう。

【0089】

つまり、吹出部２１０、２２０、２３０、２４０から吹き出されたシールドガスは、治具３００ａによって、流れる方向が所定の角度（本実施の形態では９０度）だけ変更されて流れる。これにより、シールドガスは、少なくとも治具３００ａのＺ軸方向プラス側の端部まで治具３００ａの表面に沿って流れる。

【0090】

また、４つの異なる方向から吹き出されたシールドガスは、治具３００ａによって流れる方向が変更されることで、互いに同一の方向（Ｚ軸方向プラス側）に流れる。このように、治具３００ａは、４つの異なる方向から吹き出されたシールドガスが流れる方向を揃えることができるため、４つの異なる方向から吹き出されたシールドガスがぶつかり合うことで乱流が発生することを効果的に抑制できる。

【0091】

このように、異なる４方向に対向する壁面Ａ２１〜Ａ２４を有する治具３００ａを用いることで、異なる４方向から供給されるシールドガスの流れを上方に向けることができる。このため、シールドガス同士が溶接対象部分５３０において合流することを抑制でき、溶接対象部分において乱流が発生することを低減できる。

【0092】

また、上記実施の形態に係る蓄電素子の製造方法は、配置ステップＳ１０及び溶接ステップＳ２０の２ステップで構成されるが、さらに、治具３００、３００ａを冷却する冷却ステップを含んでもよい。例えば、治具のＹ軸方向の壁面に凹凸を設けることにより、熱伝達特性を向上させ、シールドガスとの熱交換がより行われるように構成し、シールドガスにより冷却されるようにしてもよい。具体的には、シールドガスが流れる方向に沿った溝を設けることにより、熱伝達特性を向上させた治具を採用してもよい。また、製造装置に治具を保持する部位がある場合には、治具を保持する部位に水などの冷媒を流すことにより、治具を冷却してもよい。また、例えば、治具自体に水などの冷媒を流すための流路を形成して、冷媒により治具を冷却してもよい。よって、冷却ステップは、溶接ステップが行われているときに、行われてもよいし、別のタイミングで行われてもよい。

【0093】

このようにさらに治具を冷却することにより、治具に熱伝導された、溶接により生じた熱を外部に放出することができ、治具が繰り返し使用されることにより高温になることを抑制できる。このため、蓄電素子の容器の溶接の際に、高温の治具が容器に当接することにより蓄電素子に悪影響を与えることを抑制できる。また、治具が温度変化により劣化することを抑制できるため、治具の寿命を延ばすことができる。

【0094】

また、上記実施の形態では、治具３００は、容器５１０の所定の位置Ｐ２に配置された状態で、正極端子５２１及び負極端子５２２の両方を内包する溝部３３０が形成されているが、溝部３３０に限らずに、正極端子５２１及び負極端子５２２のそれぞれを内包する２つの凹部が形成されていてもよい。また、正極端子５２１及び負極端子５２２だけでなく、蓄電素子の蓋部から外方に向かって突出している部位があれば、当該部位を内包するための溝部または凹部が形成されていてもよい。

【0095】

また、上記実施の形態では、蓄電素子５００の容器５１０の溶接される溶接対象部分５３０は、本体５１１と蓋体５１２との境界部分であるが、これに限らずに、容器がその他の部位において溶接される場合にはその他の部位にも本発明の蓄電素子の製造方法及び蓄電素子の製造装置を適用できる。例えば、本発明は、容器の側面を形成するために、溶接を行う場合にも適用できるし、容器の底面を形成するために、溶接を行う場合にも適用できる。

【0096】

また、上記実施の形態では、４つの吹出部２１０〜２４０がそれぞれ、溶接対象部分５３０の４つの部分５３１〜５３４に対してシールドガスを供給することにより、溶接対象部分５３０にシールドガスの雰囲気を形成しているが、４つの吹出部２１０〜２４０によりシールドガスを供給しなくてもよい。例えば、２つの吹出部２１０、２２０のみが、溶接対象部分５３０のうちの２つの長辺部分５３１、５３２に対してシールドガスを供給する構成であってもよい。つまり、溶接ステップでは、２つの溶接対象部分に対応して、２つの異なる方向からシールドガスを２つの溶接対象部分に供給しながら、２つの溶接対象部分を溶接すればよい。

【0097】

また、上記実施の形態では、溶接対象部分５３０の２つの長辺部分５３１、５３２は、所定の間隔をおいて平行であるが、所定の間隔をおいて離れていれば平行でなくてもよい。また、溶接対象部分５３０は、略長方形状であるが、これに限らずに、長円形状、楕円形状、円形状であってもよい。

【0098】

また、上記実施の形態では、蓋体５１２が本体５１１の開口の内壁面と対向するように配置され、容器５１０の上面に溶接対象部分５３０が形成される構成であり、上方向（Ｚ軸方向）からレーザビームを走査することにより溶接しているが、これに限らない。例えば、蓋体が本体部の上端の上に配置され、水平方向（Ｘ軸方向及びＹ軸方向）からレーザビームを照射することにより溶接する容器に適用してもよい。なお、この場合は、レーザビームを照射する溶接部が容器の水平方向側方の複数に設けることで、レーザビームを複数の方向から走査することが考えられる。また、レーザビームを走査する方式でなくてもよく、レーザビームを照射するレーザヘッドを移動させて溶接する方式にも適用できるし、また、容器が固定されている台座自体を動かすことにより溶接する方式にも適用できる。また、容器の蓋体の側方の全体に上方向から照射されたレーザビームを水平方向に反射させるためのミラーを設けておけば、上記実施の形態の上方向からレーザビームを照射する方式でも実現できる。

【0099】

また、上記実施の形態及びその変形例では、治具３００、３００ａの壁面Ａ１１、Ａ１２、Ａ２１〜Ａ２４は、シールドガスの流れ方向に対して傾斜しているが、傾斜していなくてもよい。つまり、異なる方向から供給されるシールドガス同士が溶接対象部分において合流されることを抑制できる治具であれば、シールドガスの流れ方向に対して垂直な壁面を有する治具であってもよい。

【0100】

また、上記実施の形態及びその変形例では、複数の吹出部２１０〜２４０は、蓄電素子５００の容器５１０の溶接対象部分５３０に向けて、Ｘ軸方向の両側及びＹ軸方向の両側からＸ軸方向またはＹ軸方向に沿った方向にシールドガスを供給するとしたが、Ｘ軸方向またはＹ軸方向に沿った方向にシールドガスを供給しなくてもよい。

【0101】

例えば、複数の吹出部２１０〜２４０は、溶接対象部分５３０に向けて、Ｘ軸方向の両側及びＹ軸方向の両側、かつ、Ｚ軸方向プラス側の位置（つまり斜め上方）からシールドガスを供給してもよい。また、複数の吹出部２１０〜２４０は、例えば、溶接対象部分５３０に向けて、Ｘ軸方向の両側及びＹ軸方向の両側、かつ、Ｚ軸方向マイナス側（つまり斜め下方）からシールドガスを供給してもよい。

【0102】

また、複数の吹出部２１０〜２４０のうち２つの吹出部２１０、２２０は、例えば、溶接対象部分５３０の長辺部分５３１、５３２が延びる方向に対して斜めに交差する方向（斜め横方向）からシールドガスを供給してもよい。また、同様に、複数の吹出部２１０〜２４０のうちの残りの２つの吹出部２３０、２４０は、例えば、溶接対象部分５３０の短辺部分５３３、５３４が延びる方向に対して斜めに交差する方向（斜め横方向）からシールドガスを供給してもよい。

【0103】

上記のように、吹出部２１０〜２４０が溶接対象部分５３０に対して斜め上方、斜め下方、または斜め横方向からシールドガスを供給する場合であっても、治具３００、３００ａは、異なる方向から供給されるシールドガス同士が溶接対象部分５３０において合流されることを抑制できる。

【0104】

また、上記実施の形態及びその変形例では、治具３００、３００ａは、中実の部材であるが、Ｙ軸方向の両側に面を有する部材であれば、中実の部材でなくてもよいし、溶接対象部分５３０の２つの長辺部分５３１、５３２のそれぞれに対応した壁面を有する２つの壁が形成されている部材であってもよい。

【0105】

また、上記実施の形態及びその変形例では、治具３００、３００ａは、蓄電素子５００の正極端子５２１及び負極端子５２２を覆うような構成であるが、これに限らない。例えば、図１１に示す蓄電素子５００ａのように、容器５１０のＹ軸方向における幅に対して大きな割合を占める正極端子５２１ａ及び負極端子５２２ａを備える蓄電素子５００ａの場合には、正極端子５２１ａ及び負極端子５２２ａを覆うように治具を構成してしまうと、溶接対象部分５３０に治具が干渉してしまいレーザ溶接することができない。このため、このような正極端子５２１ａ及び負極端子５２２ａに対応させるために、治具３００に形成した溝部３３０の代わりに、正極端子５２１ａ及び負極端子５２２ａを収納するための２つの溝部３３０ｂが形成された基部３１０ｂを有する治具３００ｂを採用してもよい。なお、この場合の２つの溝部３３０ｂは、その両端が治具３００ｂのＹ軸方向において開放されている形状である。このような形状の治具３００ｂであっても、治具３００ｂには、シールドガスを遮蔽するための壁面Ａ３１、Ａ３２が形成されているため、シールドガスの２つの流れが２つの長辺部分５３１、５３２において合流することを抑制できる。なお、図１１は、変形例に係る治具を、蓄電素子の所定の位置に配置した状態の外観を示す斜視図である。

【0106】

また、上記実施の形態及びその変形例が備える各構成要素を任意に組み合わせて構築される形態も、本発明の範囲内に含まれる。

【産業上の利用可能性】

【0107】

本発明は、溶接対象部分に安定したシールドガスの雰囲気を形成しておくことができ、溶接不良の発生を低減できる蓄電素子の製造方法などとして有用である。

【符号の説明】

【0108】

１０、１０ａ 製造装置
１００ 溶接部
２１０、２２０、２３０、２４０ 吹出部
２１１、２２１、２３１、２４１ 導入口
２１２、２２２、２３２、２４２ 吹出口
３００、３００ａ、３００ｂ 治具
３１０、３１０ｂ 基部
３２０ 壁部
３３０、３３０ｂ 溝部
４１０、４２０、４３０、４４０ 固定部
５００、５００ａ 蓄電素子
５１０ 容器
５１１ 本体
５１１ａ 段差部
５１２ 蓋体
５２１、５２１ａ 正極端子
５２２、５２２ａ 負極端子
５３０ 溶接対象部分
５３１、５３２ 長辺部分
５３３、５３４ 短辺部分
Ａ１１、Ａ１２、Ａ２１〜Ａ２４、Ａ３１、Ａ３２ 壁面
Ｆ１１、Ｆ１２、Ｆ２１、Ｆ２２ シールドガスの流れ
Ｐ１、Ｐ２ 所定の位置

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5A】

【図5B】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】