特許 6823026 流入部ユニットおよび沈殿槽

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6823026

(24)【登録日】2021年1月12日

(45)【発行日】2021年1月27日

(54)【発明の名称】流入部ユニットおよび沈殿槽

(51)【国際特許分類】

   B01D 21/24 20060101AFI20210114BHJP

   B01D 21/06 20060101ALI20210114BHJP

   B01D 21/01 20060101ALI20210114BHJP

【ＦＩ】

   B01D21/24 D

   B01D21/06 A

   B01D21/01 A

   B01D21/24 Z

【請求項の数】12

【全頁数】15

(21)【出願番号】特願2018-172486(P2018-172486)

(22)【出願日】2018年9月14日

(65)【公開番号】特開2020-44463(P2020-44463A)

(43)【公開日】2020年3月26日

【審査請求日】2019年11月27日

(73)【特許権者】

【識別番号】000003078

【氏名又は名称】株式会社東芝

(73)【特許権者】

【識別番号】598076591

【氏名又は名称】東芝インフラシステムズ株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110001634

【氏名又は名称】特許業務法人 志賀国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】小城 和高

(72)【発明者】

【氏名】高橋 秀昭

【審査官】 ▲高▼ 美葉子

(56)【参考文献】

【文献】 特開２０１８−７９４４０（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１８−２０２８９（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００２−１４３８４２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 実開昭６２−１７３１０（ＪＰ，Ｕ）

【文献】 特開２０１７−２０５７３２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１８−６９１４２（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｂ０１Ｄ ２１／２４

Ｂ０１Ｄ ２１／０１

Ｂ０１Ｄ ２１／０６

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

沈殿槽の掻寄板を回転させる回転シャフトの周囲に配置される流入管と、
前記流入管の外側に配置され、前記流入管の第１方向の第１端部を取り囲み、前記第１端部から前記流入管の内側に流入する被処理水を収容可能な収容部と、
前記流入管または前記回転シャフトに付着した付着物を清掃する清掃機構と、を有する、
流入部ユニット。

【請求項2】

前記流入管は、前記第１端部に切欠きを有する、
請求項１に記載の流入部ユニット。

【請求項3】

前記清掃機構は、前記回転シャフトに連結可能な連結部を有する、
請求項１または２に記載の流入部ユニット。

【請求項4】

前記清掃機構は、前記流入管の前記第１端部の内周側および外周側のうち少なくとも一方を掻き取る掻取り部を有する、
請求項１から３のいずれか１項に記載の流入部ユニット。

【請求項5】

前記掻取り部は、前記第１端部の外周面に沿って周方向に相対移動し、移動方向の面が前記第１方向を向いている、
請求項４に記載の流入部ユニット。

【請求項6】

前記清掃機構は、前記流入管の前記第１端部に流体を供給する流体供給機構を有する、
請求項１から３のいずれか１項に記載の流入部ユニット。

【請求項7】

前記流体供給機構は、
流体を貯留する貯留部と、
前記貯留部から前記第１端部に流体を供給する第１配管と、
を有する、
請求項６に記載の流入部ユニット。

【請求項8】

前記流体供給機構は、
前記貯留部から溢れた流体を回収する回収部と、
前記回収部から前記第１端部に流体を供給する第２配管と、
を有する、
請求項７に記載の流入部ユニット。

【請求項9】

前記清掃機構は、前記第１端部に流体を噴霧する流体噴霧機構を有する、
請求項１から３のいずれか１項に記載の流入部ユニット。

【請求項10】

前記清掃機構は、前記流入管の軸方向に伸び、前記流入管の内周面に沿って相対移動する流入管清掃部材を有する、
請求項１から３のいずれか１項に記載の流入部ユニット。

【請求項11】

前記清掃機構は、前記回転シャフトの軸方向に伸び、前記回転シャフトの外周面に沿って相対移動するシャフト清掃部材を有する、
請求項１から３のいずれか１項に記載の流入部ユニット。

【請求項12】

槽体と、
請求項１から請求項１１のいずれか１項に記載の流入部ユニットと、を有する、
沈殿槽。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明の実施形態は、流入部ユニットおよび沈殿槽に関する。

【背景技術】

【0002】

工業廃水などに含まれる浮遊物質等を沈降分離させる沈殿槽が知られている。沈殿槽は、沈降分離性能の低下を抑制することが望まれている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２００２−１６６２７２号公報

【特許文献2】特開２０１５−１８８７９３号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

本発明が解決しようとする課題は、沈降分離性能の低下を抑制することができる流入部ユニットおよび沈殿槽を提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0005】

実施形態の流入部ユニットは、流入管と、収容部と、清掃機構と、を持つ。流入管は、沈殿槽の掻寄板を回転させる回転シャフトの周囲に配置される。収容部は、流入管の外側に配置され、流入管の第１方向の第１端部を取り囲む。収容部は、第１端部から流入管の内側に流入する被処理水を収容可能である。清掃機構は、流入管または回転シャフトに付着した付着物を清掃する。

【図面の簡単な説明】

【0006】

【図1】第１の実施形態の沈殿槽の全体構成を示す側面断面図。

【図2】第１の実施形態の流入部ユニットの平面断面図。

【図3】第１の実施形態の流入部ユニットの側面断面図。

【図4】図３のＩＶ矢視図。

【図5】第２の実施形態の流入部ユニットの平面断面図。

【図6】第２の実施形態の流入部ユニットの側面断面図。

【図7】第３の実施形態の流入部ユニットの側面断面図。

【図8】第４の実施形態の流入部ユニットの側面断面図。

【図9】第５の実施形態の流入部ユニットの側面断面図。

【発明を実施するための形態】

【0007】

以下、実施形態の流入部ユニットおよび沈殿槽を、図面を参照して説明する。なお以下の説明では、同一または類似の機能を有する構成に同一の符号を付す。そして、それら構成の重複する説明は省略する場合がある。

【0008】

（第１の実施形態）
図１から図４を参照し、第１の実施形態について説明する。
本実施形態の沈殿槽１は、例えば、工業廃水などの被処理水に含まれる微小のＳＳ（懸濁物質または浮遊物質）を被処理水から分離させる沈殿槽であり、例えば沈降分離法が用いられる沈殿槽である。

【0009】

まず、沈殿槽１の全体構成について、図１を用いて説明する。
図１は、本実施形態の沈殿槽１の全体構成を示す断面図である。
図１に示されるように、沈殿槽１は、槽体１１、流入部ユニット１２、溢流堰１３、被処理水排出部１４、掻寄ユニット１５、および汚泥引抜管１６を有する。なお図１中では、被処理水の流れを矢印で模式的に示す。

【0010】

槽体１１は、円筒状または多角筒状などの有底の筒状に形成された容器である。槽体１１は、例えば、底壁３１と、底壁３１の周縁部から上方に向けて起立した周壁３２と、を含む。槽体１１は、筒状の周壁３２の上端部に上部開口部３３を有する。槽体１１は、内部に被処理水を貯留するとともに、フロックを沈殿させる。なお「フロック」とは、凝集作用などによって生成された塊状物を意味し、例えば浮遊物質を含む被処理水中に凝集剤などが添加されることで生じる綿くず状の塊状物を意味する。槽体１１は、例えば槽体１１の中心軸１１ｃを鉛直方向と略一致させて設置されている。また、槽体１１の底壁３１の中央部には、沈殿物を槽体１１の外部に排出する排出口３１ａが設けられている。排出口３１ａには、汚泥引抜管１６が接続されている。

【0011】

沈殿槽１の上流側には、被処理水を前処理するための凝集槽（図示略）が配置されている。凝集槽において、凝集剤が被処理水に投入される。これにより、被処理水中の特定の成分が凝集して、フロックが生成される。すなわち、被処理水はフロックを含んだ状態で沈殿槽１内に流入する。

【0012】

流入部ユニット１２は、例えば被処理水供給部１７と、分配部（収容部）１８と、流入管１９と、偏向部２１（図２参照）と、清掃機構５と、を有する。流入部ユニット１２は、槽体１１の内側（すなわち、沈殿槽１の内側）に配置される。流入部ユニット１２は、凝集槽から被処理水供給部１７を通じて供給された被処理水を、分配部１８および流入管１９を介して槽体１１内に流入させる。なお本願で言う「槽体の内側に配置される」とは、槽体１１の内側の上部開口部３３上に流入部ユニット１２の少なくとも一部が配置されることを意味する。

【0013】

図２は、第１の実施形態の流入部ユニットの説明図であり、図１のＩＩ−ＩＩ線における平面断面図である。
図２に示されるように、被処理水供給部１７は、例えば槽体１１の外側から槽体１１の内側に延びた供給配管または流入トラフなどである。本願で言う「トラフ」とは、溝を形成する構造体を意味する。本実施形態においては、被処理水供給部１７は、後述の分配部１８に接続されて、被処理水供給部１７の端部である流出端部１７ａから被処理水を分配部１８内に連続的に供給する。被処理水供給部１７の流出端部１７ａは、外周壁１８ａの内側面上に、分配部１８の中心軸１８ｃに向いた開口部を形成している。被処理水は、流出端部１７ａによって形成された開口部を通じて、分配部１８の中心軸１８ｃに向かって放出される。

【0014】

分配部１８は、「分散トラフ」または「流入プール」とも称される。本実施形態において分配部１８は、円筒形の外周壁１８ａおよびリング状の底壁によって形成された所定の容積を有するトラフである。なお、分配部１８は、円筒形とは異なった形状、例えば多角筒形とすることも可能である。分配部１８は、槽体１１の内側に配置される。分配部１８の中心軸１８ｃは、槽体１１の中心軸１１ｃと略一致している。分配部１８の大きさは、被処理水の必要処理量や槽体１１の大きさに応じて、適宜設定可能である。被処理水供給部１７から分配部１８に流入した被処理水は、分配部１８内を流れることで後述の流入管１９の周方向に分配される。

【0015】

偏向部２１は、分配部１８内において流出端部１７ａと、後述する堰２０との間に設けられる。偏向部２１は、流出端部１７ａの近傍に位置した例えばバッフル板である。偏向部２１は、被処理水の放出方向から見て、少なくとも部分的に流出端部１７ａとオーバーラップして、被処理水の放出方向に対して水平面内で所定の角度を有するように配置されている。これにより、分配部１８内に流入した被処理水は偏向部２１に衝突する。衝突した被処理水の流れは、分配部１８の外周壁１８ａの周方向に沿うように向きを変え、分配部１８内を旋回する向き（流入管１９の周りを旋回する向き）の流れを形成する。本願でいう「旋回する向き」とは、中心軸１８ｃからの径方向の距離が一定に保たれる場合に限らず、旋回するに従い徐々に中心軸１８ｃに近づく渦巻状の向きも含む。

【0016】

流入管１９は、「センターウェル」または「フィードウェル」とも称され、例えば円筒状または多角筒状などの筒状に形成されている。流入管１９は、分配部１８の内側に配置される。すなわち分配部１８は、流入管１９の径方向の外側に配置される。図１に示されるように、流入管１９の中心軸１９ｃは、分配部１８の中心軸１８ｃおよび槽体１１の中心軸１１ｃと略一致している。流入管１９の大きさは、被処理水の必要処理量や槽体１１の大きさに応じて、適宜設定可能である。

【0017】

流入管１９の上方向（第１方向）の第１端部１９ｅは、分配部１８の底面よりも上方に突出して、分配部１８内に堰２０を形成している。堰２０の高さは、少なくとも分配部１８の外周壁１８ａよりも低く、且つ溢流堰１３よりも高く形成される。後述するように、堰２０の第１端部１９ｅには、切欠きが形成されている。分配部１８内に流入した被処理水は、分配部１８内を流れた後に、堰２０に近づくに従って整流される。次いで、整流された被処理水はフロックとともに堰２０を乗り越えて流入管１９内に流入する。
このように分配部１８は、流入管１９の第１端部１９ｅを取り囲む。分配部１８は、第１端部１９ｅから流入管１９に流入する被処理水を収容可能である。

【0018】

流入管１９の下端１９ａは、槽体１１の底壁３１から離れている。すなわち、流入管１９の下端１９ａと槽体１１の底壁３１との間には、被処理水が水平方向に分散して流れる流路が形成されている。また、流入管１９の下端１９ａは、流入管１９の内部を槽体１１内に連通させる開口部（流入口）１９ｂを有する。被処理水供給部１７から分配部１８を介して流入管１９内に供給された被処理水は、流入管１９内を下方に向けて流れ、流入管１９の下端１９ａの開口部１９ｂから槽体１１内に供給される。流入管１９から槽体１１内に供給された被処理水は、槽体１１の周壁３２の内壁面と流入管１９の外周面との間をゆっくりと上昇する。例えばこの過程で、フロックの一部が被処理水から分離して沈殿する。

【0019】

溢流堰１３は、槽体１１の上部に設けられている。溢流堰１３は、この溢流堰１３の上端から溢れた被処理水を収容できるように槽体１１内に溝状に設けられている。例えば、溢流堰１３は、槽体１１の周壁３２の内壁面３２ａに沿って設けられている。溢流堰１３は、フロックの分離除去が行われて清浄化された被処理水を被処理水排出部１４に流出させる。

【0020】

被処理水排出部１４は、例えば溢流堰１３の内部に連通するとともに槽体１１の外側に伸びた流出トラフ（または排出配管など）である。被処理水排出部１４は、溢流堰１３の上端から溢れた被処理水を槽体１１の外部に流出させる。槽体１１の外部に流出した被処理水は、例えばさらに別の処理が行われて、ユースポイントに送出される。

【0021】

掻寄ユニット１５は、回転シャフト４１と、駆動モータ４２と、支持部材４３と、複数の掻寄板４４と、を有する。回転シャフト４１は、槽体１１の中心部（流入管１９の中心部）に配置されている。回転シャフト４１は、流入管１９の中心軸１９ｃの軸方向において、流入管１９を貫通している。すなわち流入管１９は、回転シャフト４１の周囲に配置される。なお「流入管の中心軸の軸方向」とは、流入管１９の中心軸１９ｃと略平行な方向である。駆動モータ４２は、直接または伝達機構などを介して回転シャフト４１に接続され、回転シャフト４１を回転させる。支持部材４３は、回転シャフト４１の下端に連結されて径方向に伸びている。複数の掻寄板４４は、支持部材４３に取り付けられている。すなわち、回転シャフト４１は沈殿槽１の掻寄板４４を回転させる。複数の掻寄板４４は、支持部材４３から槽体１１の底壁３１に向けて設けられている。このような構成の掻寄ユニット１５によれば、駆動モータ４２によって回転シャフト４１が回転されることで、支持部材４３および複数の掻寄板４４が回転する。これにより、槽体１１の底壁３１に沈殿した沈殿物が底壁３１の中央部に向けて掻寄せられる。掻寄られた沈殿物は、底壁３１の中央部に設けられた排出口３１ａおよび汚泥引抜管１６を通じて槽体１１の外部に排出される。

【0022】

清掃機構５について詳しく説明する。
図３は、図２のＩＩＩ−ＩＩＩ線における側面断面図である。図４は、図３のＩＶ矢視図である。図４に示されるように、流入管１９の上方向（第１方向）の第１端部１９ｅには、「Ｖノッチ」とも称される複数の切欠き１９ｖが形成される。切欠き１９ｖは、上方向から下方向に向かって先細るＶ字状に形成される。複数の切欠き１９ｖが、流入管１９の周方向に連続して形成される。複数の切欠き１９ｖは、分配部１８から流入管１９に流入する被処理水を、流入管１９の周方向において均等に分配する。

【0023】

被処理水に含まれるフロックＦは、流入管１９の第１端部１９ｅを乗り越えて流入管１９に流入する。フロックＦの一部が、第１端部１９ｅの切欠き１９ｖに付着する場合がある。フロックＦが切欠き１９ｖに付着すると、流入管１９の周方向において被処理水を均等に流入管１９に流入させることが困難になる。これにより、沈殿槽１の内部において局所的な被処理水の高速流が発生し、沈殿槽１の内部における被処理水の実質的滞留時間が減少する。その結果、沈殿槽１の沈降分離性能が低下する。またフロックＦは、流入管１９の内周面や回転シャフト４１の外周面にも付着する。この場合にも、沈殿槽１の内部において被処理水が均等に低速で流通することが妨げられるので、沈殿槽１の沈降分離性能が低下する。

【0024】

また、フロックＦが切欠き１９ｖに付着すると、後続するフロックが第１端部１９ｅを乗り越えて流入管１９に流入することが困難になる。これにより、フロックＦが分配部１８に堆積し、分配部１８における被処理水の安定した流通を妨げる。その結果、流入管１９の周方向において被処理水を均等に流入管１９に流入させることが困難になる。
そこで清掃機構５は、流入管１９または回転シャフト４１に付着したフロックＦを清掃する。

【0025】

第１の実施形態の流入部ユニット１２は、清掃機構５として掻取り機構５０を有する。掻取り機構５０は、流入管１９の第１端部１９ｅの内周側および外周側を掻き取る。図２に示されるように、掻取り機構５０は、連結部５１と、アーム５２と、掻取り部５４と、を有する。

【0026】

連結部５１は、掻取り機構５０を回転シャフト４１に連結可能である。例えば連結部５１は、回転シャフト４１を径方向に挟持するクランプ機構である。掻取り機構５０が連結部６１により回転シャフト４１に連結されると、掻取り機構５０は回転シャフト４１と共に回転する。
アーム５２は、連結部５１に接続される。アーム５２は、連結部５１から回転シャフト４１の径方向の外側に向かって伸びる。

【0027】

掻取り部５４は、アーム５２の先端に装着される。掻取り部５４は、内側掻取り部５４ａと、外側掻取り部５４ｂと、を有する。
内側掻取り部５４ａは、図３に示されるように、流入管１９の内側に配置される。内側掻取り部５４ａは、支持板５５ａと、ゴム板５６ａと、を有する。支持板５５ａは、金属材料等で形成される。支持板５５ａの上端部は、アーム５２に接続される。ゴム板５６ａは、支持板５５ａの下半部に装着される。ゴム板５６ａは、流入管１９の軸方向および径方向と平行に配置される。ゴム板５６ａの上端部は、流入管１９の第１端部１９ｅの上方に配置される。ゴム板５６ａの下端部は、第１端部１９ｅに形成された切欠きの下方に配置される。ゴム板５６ａは、流入管１９の内周面に当接するか、流入管１９の内周面から僅かに離れて配置される。僅かに離れて配置される場合は、支持板５５ａの材料を樹脂等（例えばポリ塩化ビニルなど）にして、ゴム板５６ａを用いなくてもよい。

【0028】

図４に示されるように、回転シャフト４１の回転に伴って、掻取り機構５０は矢印５０ｒの方向に移動する。内側掻取り部５４ａは、第１端部１９ｅの内周面に沿って矢印５０ｒの方向に移動する。内側掻取り部５４ａのゴム板５６ａは、切欠き１９ｖに付着したフロックＦを第１端部１９ｅの内周側で掻き取る。ゴム板５６ａで掻き取られたフロックＦは、流入管１９の内側に落下する。したがって、第１端部１９ｅに付着したフロックＦが清掃される。

【0029】

外側掻取り部５４ｂは、流入管１９の外側に配置される。外側掻取り部５４ｂも、内側掻取り部５４ａと同様に、支持板５５ｂと、ゴム板５６ｂと、を有する。ゴム板５６ｂは、流入管１９の外周面に当接するか、流入管１９の外周面から僅かに離れて配置される。流入管１９の外周面から僅かに離れて配置される場合は、支持板５５ｂの材料を樹脂等（例えばポリ塩化ビニルなど）にして、ゴム板５６ｂを用いなくてもよい。外側掻取り部５４ｂは、流入管１９の外周面に沿って矢印５０ｒの方向に移動する。外側掻取り部５４ｂは、第１端部１９ｅの切欠き１９ｖに付着したフロックＦを第１端部１９ｅの外周側で掻き取る。外側掻取り部５４ｂのゴム板５６ｂは、移動方向の面５６ｓが上方向を向いて配置される。これにより、ゴム板５６ｂで掻き取られたフロックＦは、切欠き１９ｖを乗り越えて流入管１９の内側に落下する。したがって、第１端部１９ｅに付着したフロックＦが清掃される。

【0030】

以上に説明されたように、第１の実施形態の流入部ユニット１２は清掃機構５を有する。清掃機構５は、流入管１９または回転シャフト４１に付着したフロックを清掃する。これにより、流入部ユニット１２における被処理水の流通が、付着したフロックによって阻害され難くなる。そのため、沈殿槽１の内部において被処理水が均等に低速で流通する。したがって、沈殿槽１の沈降分離性能の低下を抑制することができる。

【0031】

流入管１９は、第１端部１９ｅに切欠き１９ｖを有する。切欠き１９ｖにフロックが付着しやすい場合でも、清掃機構５により切欠き１９ｖに付着したフロックが清掃される。
清掃機構５は、回転シャフト４１に連結可能な連結部５１を有する。清掃機構５は、回転シャフト４１とともに回転しながら、流入管１９を全周にわたって清掃する。これにより、複数の清掃機構５を設ける必要がないので、装置コストが抑制される。

【0032】

第１の実施形態の流入部ユニット１２は、清掃機構５として掻取り機構５０を有する。掻取り機構５０は、流入管１９の第１端部１９ｅの内周側および外周側のうち少なくとも一方を掻き取る。掻取り機構５０が第１端部１９ｅを掻き取ると、第１端部１９ｅに付着したフロックが清掃される。これにより、流入管１９の周方向において被処理水が均等に流入管１９に流入する。そのため沈殿槽１の内部において、局所的に被処理水の高速流が発生することなく、被処理水が均等に低速で流通する。したがって、沈殿槽１の沈降分離性能の低下を抑制することができる。また掻取り機構５０は低コストで形成される。

【0033】

第１の実施形態の掻取り機構５０は、内側掻取り部５４ａおよび外側掻取り部５４ｂを共に有する。これに対して掻取り機構５０は、内側掻取り部５４ａおよび外側掻取り部５４ｂのうちいずれか一方のみを有してもよい。
第１の実施形態の掻取り機構５０は、ゴム板５６ａ，５６ｂを有する。これに対して掻取り機構５０は、ブラシ類を有してもよい。

【0034】

（第２の実施形態）
図５および図６を参照し、第２の実施形態について説明する。
図５は、第２の実施形態の流入部ユニット２１２の説明図であり、図１のＩＩ−ＩＩ線に相当する部分における平面断面図である。図６は、図５のＶＩ−ＶＩ線における側面断面図である。
図６に示されるように、第２の実施形態の流入部ユニット２１２は、清掃機構５として流体供給機構６０を有する点で、第１の実施形態と異なる。第２の実施形態のうち、第１の実施形態と同様の部分の説明は省略される。

【0035】

流体供給機構６０は、流入管１９の第１端部１９ｅに流体を供給する。流体供給機構６０は、連結部６１と、アーム６２と、貯留部６４と、導入配管６９と、第１配管６５と、回収部６６と、第２配管６７と、を有する。
連結部６１は、流体供給機構６０を回転シャフト４１に連結可能である。流体供給機構６０が連結部６１により回転シャフト４１に連結されると、流体供給機構６０は回転シャフト４１と共に回転する。
アーム６２は、連結部６１と貯留部６４とを接続する。

【0036】

貯留部６４は流体を貯留する。例えば貯留部６４は、リング状のトラフである。貯留部６４は、回転シャフト４１と同軸状に配置される。
導入配管６９は、流体を貯留部６４に導入する。例えば流体は、沈殿槽１の被処理水排出部１４（図１参照）から流出した被処理水の一部である。

【0037】

第１配管６５は、貯留部６４から流入管１９の第１端部１９ｅに流体を落水させて供給する。第１配管６５は、貯留部６４の周方向の少なくとも１箇所に配置される。図５の例では、一対の第１配管６５が、回転シャフト４１を挟んで貯留部６４の両側に配置される。図６に示されるように、第１配管６５の上端部は、貯留部６４の内側の底部に開口する。第１配管６５の下端部は、第１端部１９ｅの外周側の上方から第１端部１９ｅに向けて配置される。第１配管６５は、第１端部１９ｅの外周側から第１端部１９ｅに向かって流体を供給する。これにより、第１端部１９ｅに付着したフロックが流入管１９の内側に落下する。

【0038】

回収部６６は、貯留部６４から溢れた流体を回収する。回収部６６は、貯留部６４の周方向の少なくとも一部に形成される。図５の例では、一対の回収部６６が、回転シャフト４１を挟んで貯留部６４の両側に形成される。回収部６６は、貯留部６４の径方向の内側および外側のうち少なくとも一方に形成される。図５の例では、一対の回収部６６が貯留部６４の径方向の外側に配置される。図６に示されるように、回収部６６との接続部分における貯留部６４の外周壁６４ｂの高さは、他の部分における外周壁６４ａの高さに比べて低い。貯留部６４に導入された流体は、外周壁６４ｂの高さを越えると回収部６６に溢れる。貯留部６４に貯留される流体の水位は、外周壁６４ｂの高さに保持される。これにより、第１配管６５から第１端部１９ｅに供給される流体の流量が一定に保持される。

【0039】

第２配管６７は、回収部６６から第１端部１９ｅに流体を供給する。これにより、回収部６６に回収された流体が有効活用される。第２配管６７は、第１端部１９ｅの外周側から第１端部１９ｅに向かって流体を供給する。これにより、第１端部１９ｅに付着したフロックが流入管１９の内側に落下する。

【0040】

以上に説明されたように、第２の実施形態の流入部ユニット２１２は、清掃機構５として流体供給機構６０を有する。流体供給機構６０は、流入管１９の第１端部１９ｅに流体を供給する。第１端部１９ｅに流体が供給されると、第１端部１９ｅに付着したフロックが清掃される。これにより、流入管１９の周方向において被処理水が均等に流入管１９に流入する。そのため沈殿槽１の内部において、被処理水が均等に低速で流通する。したがって、沈殿槽１の沈降分離性能の低下を抑制することができる。

【0041】

流体供給機構６０は、貯留部６４と、第１配管６５と、を有する。貯留部６４は流体を貯留する。第１配管６５は、貯留部６４から第１端部１９ｅに流体を供給する。これにより、流体供給機構６０が低コストで形成される。

【0042】

第２の実施形態の流体供給機構６０は、貯留部６４の径方向の外側に回収部６６を有する。これに対して流体供給機構６０は、貯留部６４の径方向の内側に回収部６６を有してもよい。
第２の実施形態の流体供給機構６０は、第１端部１９ｅの外周側の上方から第１端部１９ｅに向かって流体を供給する。これに対して流体供給機構６０は、第１端部１９ｅの内周側の上方から第１端部１９ｅに向かって流体を供給してもよい。また流体供給機構６０は、第１端部１９ｅの真上から第１端部１９ｅに向かって流体を供給してもよい。

【0043】

（第３の実施形態）
図７を参照し、第３の実施形態について説明する。
図７は、第３の実施形態の流入部ユニット３１２の説明図であり、図２のＩＩＩ−ＩＩＩ線に相当する部分における側面断面図である。
図７に示されるように、第３の実施形態の流入部ユニット３１２は、清掃機構５として流体噴霧機構７０を有する点で、第１の実施形態と異なる。第３の実施形態のうち、第１の実施形態と同様の部分の説明は省略される。

【0044】

流体噴霧機構７０は、流入管１９の第１端部１９ｅに流体を噴霧する。流体噴霧機構７０は、連結部７１と、アーム７２と、導入配管７９と、スプレー７４と、を有する。
連結部７１は、流体噴霧機構７０を回転シャフト４１に連結可能である。
アーム７２は、連結部７１から回転シャフト４１の径方向の外側に向かって伸びる。

【0045】

導入配管７９は、流体をスプレー７４に導入する。例えば流体は、沈殿槽１の被処理水排出部１４（図１参照）から流出した被処理水の一部である。流体は、ポンプ（不図示）等により導入配管７９を介してスプレー７４に供給される。
スプレー７４は、流入管１９の第１端部１９ｅに向かって流体を噴霧する。スプレー７４は、第１端部１９ｅの外周側の上方に配置される。スプレー７４は、流入管１９の外周側から第１端部１９ｅに向かって流体を噴霧する。これにより、第１端部１９ｅに付着したフロックが流入管１９の内側に落下する。

【0046】

フロックが壊れやすい場合には、流体の噴霧によりフロックが壊れて細分化される。細分化されたフロックは、沈殿槽１の内部で沈降しにくいので、沈殿槽１の沈降分離性能を低下させる。そこでスプレー７４は、第１端部１９ｅの内周側の上方に配置されてもよい。このスプレー７４は、流入管１９の内周側から第１端部１９ｅに向かって流体を噴霧する。細分化されたフロックは、第１端部１９ｅから分配部１８に戻されて、分配部１８で再成長する。再成長したフロックは、第１端部１９ｅを乗り越えて流入管１９の内側に流入する。再成長したフロックは沈殿槽１の内部で沈降しやすいので、沈殿槽１の沈降分離性能の低下が抑制される。

【0047】

流体噴霧機構７０は、流体の噴霧により細分化されたフロックを発生させる。そこで流体噴霧機構７０は、時間を置いて運転されることが望ましい。例えば、第１端部１９ｅに相当量のフロックが付着した場合に、流体噴霧機構７０が運転される。

【0048】

以上に説明されたように、第３の実施形態の流入部ユニット３１２は、清掃機構５として流体噴霧機構７０を有する。流体噴霧機構７０は、流入管１９の第１端部１９ｅに流体を噴霧する。第１端部１９ｅに流体が噴霧されると、第１端部１９ｅに付着したフロックが清掃される。これにより、流入管１９の周方向において被処理水が均等に流入管１９に流入する。そのため沈殿槽１の内部において、被処理水が均等に低速で流通する。したがって、沈殿槽１の沈降分離性能の低下を抑制することができる。

【0049】

（第４の実施形態）
図８を参照し、第４の実施形態について説明する。
図８は、第４の実施形態の流入部ユニット４１２の説明図であり、図２のＩＩＩ−ＩＩＩ線に相当する部分における側面断面図である。
図８に示されるように、第４の実施形態の流入部ユニット４１２は、清掃機構５として流入管内清掃機構８０を有する点で、第１の実施形態と異なる。第４の実施形態のうち、第１の実施形態と同様の部分の説明は省略される。

【0050】

流入管内清掃機構８０は、流入管１９の内周面および回転シャフト４１の外周面に付着したフロックを清掃する。流入管内清掃機構８０は、連結部８１と、アーム８２と、流入管清掃部材８４と、シャフト清掃部材８６と、を有する。
連結部８１は、流入管内清掃機構８０を回転シャフト４１に連結可能である。
アーム８２は、連結部８１から回転シャフト４１の径方向の外側に向かって伸びる。

【0051】

流入管清掃部材８４は、線状の金属材料や硬化樹脂などで形成される。流入管清掃部材８４は、流入管１９の軸方向に沿って伸びる。流入管清掃部材８４の上端部は、アーム８２に接続される。流入管清掃部材８４の下端部は、流入管１９の下端部の近くまで伸びる。流入管清掃部材８４は、流入管１９の内周面に当接するか、流入管１９の内周面から僅かに離れて配置される。

【0052】

回転シャフト４１の回転に伴って、アーム８２および流入管清掃部材８４が回転する。これにより流入管清掃部材８４は、流入管１９の内周面に沿って相対移動する。第１端部１９ｅを乗り越えて流入管１９の内側に流入したフロックの一部は、流入管１９の内周面に付着する。流入管清掃部材８４は、流入管１９の内周面に付着したフロックを清掃する。

【0053】

シャフト清掃部材８６は、線状の金属材料や硬化樹脂などで形成される。シャフト清掃部材８６の第１端部（下端部）は、流入管１９の下端部の外周面に固定される。シャフト清掃部材８６は、流入管１９の下端部から下方向に伸び、径方向の内側に向かって折れ曲がる。シャフト清掃部材８６は、回転シャフト４１の近くで上方向に折れ曲がり、回転シャフト４１の軸方向に沿って伸びる。シャフト清掃部材８６の第２端部（上端部）は、沈殿槽１の水面となる位置（すなわち、図１に示される溢流堰１３の上端位置）の近くまで伸びる。シャフト清掃部材８６は、回転シャフト４１の外周面に当接するか、回転シャフト４１の外周面から僅かに離れて配置される。

【0054】

回転シャフト４１が回転すると、流入管１９に固定されたシャフト清掃部材８６は、回転シャフト４１の外周面に沿って相対移動する。第１端部１９ｅを乗り越えて流入管１９の内側に流入したフロックの一部は、回転シャフト４１の外周面に付着する。シャフト清掃部材８６は、回転シャフト４１の外周面に付着したフロックを清掃する。

【0055】

前述したアーム８２および流入管清掃部材８４は回転シャフト４１と共に回転するが、流入管１９に固定されたシャフト清掃部材８６は回転しない。アーム８２および流入管清掃部材８４は、流入管１９の上方および内周面に沿って配置される。シャフト清掃部材８６は、流入管１９の下方および回転シャフト４１に沿って配置される。そのため、アーム８２および流入管清掃部材８４が回転しても、シャフト清掃部材８６と衝突しない。

【0056】

以上に説明されたように、第４の実施形態の流入部ユニット４１２は、清掃機構５として流入管内清掃機構８０を有する。流入管内清掃機構８０は、流入管清掃部材８４と、シャフト清掃部材８６と、を有する。流入管清掃部材８４は、流入管１９の内周面に付着したフロックを清掃する。シャフト清掃部材８６は、回転シャフト４１の外周面に付着したフロックを清掃する。これにより、流入管１９の内部において、被処理水が均等に低速で流通する。したがって、沈殿槽１の沈降分離性能の低下を抑制することができる。

【0057】

第４の実施形態の流入部ユニット４１２は、流入管清掃部材８４およびシャフト清掃部材８６を共に有する。これに対して流入部ユニットは、流入管清掃部材８４およびシャフト清掃部材８６のうち、いずれか一方のみを有してもよい。

【0058】

（第５の実施形態）
図９を参照し、第５の実施形態について説明する。
図９は、第５の実施形態の流入部ユニット５１２の側面断面図である。
図９に示されるように、第５の実施形態の流入部ユニット５１２は、清掃機構５として掻取り機構５０、流体供給機構６０および流入管内清掃機構８０を共に有する点で、前述した各実施形態と異なる。第５の実施形態のうち、前述した各実施形態と同様の部分の説明は省略される。

【0059】

掻取り機構５０、流体供給機構６０および流入管内清掃機構８０の構成は、前述した各実施形態と同様である。流体供給機構６０の第１配管６５は、掻取り機構５０の内側掻取り部５４ａと外側掻取り部５４ｂとの間に流体を供給する。掻取り機構５０のアーム５２は、流入管内清掃機構８０のアーム８２を兼ねている。

【0060】

掻取り機構５０は、流入管１９の第１端部１９ｅの内周面および外周面を掻き取って、第１端部１９ｅに付着したフロックを清掃する。流体供給機構６０は、第１端部１９ｅに流体を供給して、第１端部１９ｅの内周面と外周面との間に残るフロックを清掃する。流入管内清掃機構８０は、流入管１９の内周面および回転シャフト４１の外周面に付着したフロックを清掃する。これにより、流入管１９および回転シャフト４１に付着したフロックの大部分が清掃される。そのため、沈殿槽１の内部において被処理水が均等に低速で流通する。したがって、沈殿槽１の沈降分離性能の低下を抑制することができる。

【0061】

第５の実施形態の流入部ユニット５１２は、清掃機構５として掻取り機構５０、流体供給機構６０および流入管内清掃機構８０を共に有する。これに加えて流入部ユニットは、流体噴霧機構７０をさらに有してもよい。また流入部ユニットは、掻取り機構５０、流体供給機構６０、流体噴霧機構７０および流入管内清掃機構８０のうち、いずれか２つまたは３つを共に有してもよい。

【0062】

実施形態の清掃機構５は、連結部により回転シャフト４１に連結され、回転シャフト４１と共に回転する。これに対して清掃機構５は、回転シャフト４１から独立して回転してもよい。また清掃機構５は回転せずに、流入管１９に対して複数の清掃機構５が相対的に固定されてもよい。
実施形態の流入管１９は、第１端部１９ｅに切欠き１９ｖを有する。これに対して流入管１９は、第１端部１９ｅにスリットを有してもよい。また流入管１９は、切欠き１９ｖやスリットのない平坦な第１端部１９ｅを有してもよい。

【0063】

以上説明した少なくともひとつの実施形態によれば、清掃機構５を持つことにより、沈殿槽１の沈降分離性能の低下を抑制することができる。

【0064】

本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。

【符号の説明】

【0065】

Ｆ…フロック（付着物）、１…沈殿槽、５…清掃機構、１１…槽体、１２，２１２，３１２，４１２，５１２…流入部ユニット、１８…分配部（収容部）、１９…流入管、１９ｅ…第１端部、１９ｖ…切欠き、４１…回転シャフト、４４…掻寄板、５１，６１，７１，８１…連結部、５４…掻取り部、５６ｓ…面、５０…掻取り機構、６０…流体供給機構、６４…貯留部、６５…第１配管、６６…回収部、６７…第２配管、７０…流体噴霧機構、８０…流入管内清掃機構、８４…流入管清掃部材、８６…シャフト清掃部材。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】