特許 6843716 有機ＥＬ用溶液、有機ＥＬデバイスの製造方法および有機ＥＬデバイス

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6843716

(24)【登録日】2021年2月26日

(45)【発行日】2021年3月17日

(54)【発明の名称】有機ＥＬ用溶液、有機ＥＬデバイスの製造方法および有機ＥＬデバイス

(51)【国際特許分類】

   H05B 33/10 20060101AFI20210308BHJP

   H01L 51/50 20060101ALI20210308BHJP

   B05D 7/24 20060101ALI20210308BHJP

【ＦＩ】

   H05B33/10

   H05B33/14 A

   B05D7/24 301B

【請求項の数】4

【全頁数】11

(21)【出願番号】特願2017-168695(P2017-168695)

(22)【出願日】2017年9月1日

(65)【公開番号】特開2018-46002(P2018-46002A)

(43)【公開日】2018年3月22日

【審査請求日】2019年7月3日

(31)【優先権主張番号】特願2016-174808(P2016-174808)

(32)【優先日】2016年9月7日

(33)【優先権主張国】JP

(73)【特許権者】

【識別番号】514188173

【氏名又は名称】株式会社ＪＯＬＥＤ

(74)【代理人】

【識別番号】110001737

【氏名又は名称】特許業務法人スズエ国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】尾田 智彦

(72)【発明者】

【氏名】石野 真一郎

(72)【発明者】

【氏名】坂元 光洋

(72)【発明者】

【氏名】山内 康弘

【審査官】 辻本 寛司

(56)【参考文献】

【文献】 特開２００３−３０８９６９（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第２０１５／０１８４８０（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 特表２０１４−５０４０２１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１６−１５６０１６（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第２０１３／０８８７４４（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 米国特許出願公開第２０１１／０１８６８３２（ＵＳ，Ａ１）

【文献】 特表２０１３−５１６０５４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１１−１６５６６１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第２０１６／１２１４９８（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 特開２００８−１５９５６５（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｈ０５Ｂ ３３／１０

Ｂ０５Ｄ ７／２４

Ｈ０１Ｌ ５１／５０

ＣＡｐｌｕｓ／ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ）

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

第１有機溶媒および第２有機溶媒を少なくとも含む２種類以上の有機溶媒の混合溶媒に有機ＥＬ寄与材料が溶解している有機ＥＬ用溶液であって、
前記第１有機溶媒は、ベンジルブチレートであり、
前記第２有機溶媒は、ハンセン溶解度パラメータで規定される座標（ＨＳＰ座標）が１７．５〜１９．５（Ｊ／ｃｍ^３）^１／２の範囲内のＨｄ、０〜２．０（Ｊ／ｃｍ^３）^１／２の範囲内のＨｐおよび０．５〜２．５（Ｊ／ｃｍ^３）^１／２の範囲内のＨｈである有機ＥＬ用溶液。

【請求項2】

第１有機溶媒および第２有機溶媒を少なくとも含む２種類以上の有機溶媒の混合溶媒に有機ＥＬ寄与材料が溶解している有機ＥＬ用溶液であって、
前記第１有機溶媒は、ハンセン溶解度パラメータで規定される座標（ＨＳＰ座標）が１７．５〜１９．５（Ｊ／ｃｍ^３）^１／２の範囲内のＨｄ、３．５〜５．５（Ｊ／ｃｍ^３）^１／２の範囲内のＨｐおよび３．５〜５．５（Ｊ／ｃｍ^３）^１／２の範囲内のＨｈであり、
前記第２有機溶媒は、ジフェニルプロパンである有機ＥＬ用溶液。

【請求項3】

前記有機ＥＬ寄与材料は、発光材料、キャリア輸送性材料、キャリア注入性材料、またはキャリア阻止性材料である請求項１又は２に記載の有機ＥＬ用溶液。

【請求項4】

２枚の電極間に発光層を含む有機層を挟んだ構造を備える有機ＥＬデバイスの製造方法であって、請求項１〜３のいずれか１項に記載の有機ＥＬ用溶液を用いて塗布、乾燥することにより、前記有機層を形成する工程を含む有機ＥＬデバイスの製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、有機ＥＬ用溶液、有機ＥＬデバイスの製造方法および有機ＥＬデバイスに関する。

【背景技術】

【0002】

近年、固体蛍光性物質の電界発光現象を利用した発光デバイスである有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）デバイスの研究・開発が進んでいる。有機ＥＬデバイスは自発光を行うため視認性が高く、さらに完全固体素子であるため耐衝撃性に優れるなどの特徴を有する。有機ＥＬデバイスは画素電極（陽極）および共通電極（陰極）の電極対の間に、キャリア（正孔と電子）の再結合による電界発光現象を行う発光層を含む有機層を積層して構成される。有機層は、有機材料から形成され、発光層の他に、キャリア注入層、キャリア輸送層、キャリア阻止層等を含む。

【0003】

上記有機層の製法の例として、蒸着方式と塗布方式（例えば、特許文献１を参照）が存在する。塗布方式では、有機材料を溶媒に溶解させてインク（有機ＥＬ用溶液）とし、そのインクを印刷法（液滴吐出法）等で基板上に塗布する。塗布後はインクから溶媒を蒸発、乾燥させて有機層を形成する。従って、塗布方式においてはプロセスを真空容器中で行なう必要がなく、量産化の点で好ましいとされている。

【0004】

また、有機ＥＬデバイスを製造するために用いられる有機ＥＬ用溶液は、通常２種類以上の有機溶媒を混合（例えば、特許文献２を参照）することが、液滴吐出の安定性や乾燥後の膜形状の平坦性などの点で好ましいとされている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】特開２００９−２６７２９９号公報

【特許文献2】特開２０１３−１４３３２４号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

ところで、インクを印刷法等で基板上に塗布する工程において、インクは印刷装置の構成部材に接液する。また、基板上に塗布されたインクは、基板上に既に形成されている他の有機層や、色の異なるインクとの混合を避けるための隔壁層（バンク構成物）等に接液する。

【0007】

しかしながら、インクに含まれる有機溶媒には、印刷装置の構成部材を微量に溶出して印刷装置を劣化させる有機溶媒がある。また、他の有機層や隔壁層を溶解して他の有機層や隔壁層の性能を劣化させる有機溶媒もある。さらに、印刷装置の構成部材、有機層、隔壁層の成分を微量に溶出して、インク自身の性能を劣化させる有機溶媒もある。それ故、インクは、印刷装置の構成部材、基板上の他の有機層や隔壁層等と接液しても、それらを溶解して劣化させない、またはインク自身の性能を劣化させないことが求められている。

【0008】

本発明の課題は、印刷装置の構成部材に接液しても、溶液自身の性能を劣化させない有機ＥＬ用溶液を提供することである。

【0009】

本発明の他の課題は、２枚の電極間に発光層を含む有機層を挟んだ構造を備える有機ＥＬデバイスの製造方法であって、上記有機ＥＬ用溶液を用いて塗布、乾燥することにより、前記有機層を形成する工程を含む有機ＥＬデバイスの製造方法を提供することである。

【0010】

本発明の他の課題は、上記有機層が、上記有機ＥＬデバイスの製造方法で形成された有機ＥＬデバイスを提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0011】

本発明の一つの実施形態によれば、第１有機溶媒および第２有機溶媒を少なくとも含む２種類以上の有機溶媒の混合溶媒に有機ＥＬ寄与材料が溶解している有機ＥＬ用溶液であって、前記第１有機溶媒のハンセン溶解度パラメータで規定される座標（ＨＳＰ座標）は、１７．５〜１９．５（Ｊ／ｃｍ^３）^１／２の範囲内のＨｄ、３．５〜５．５（Ｊ／ｃｍ^３）^１／２の範囲内のＨｐおよび３．５〜５．５（Ｊ／ｃｍ^３）^１／２の範囲内のＨｈであり、前記第２有機溶媒のＨＳＰ座標は、１７．５〜１９．５（Ｊ／ｃｍ^３）^１／２の範囲内のＨｄ、０〜２．０（Ｊ／ｃｍ^３）^１／２の範囲内のＨｐおよび０．５〜２．５（Ｊ／ｃｍ^３）^１／２の範囲内のＨｈである有機ＥＬ用溶液が提供される。

【図面の簡単な説明】

【0012】

【図1】図１は、本発明の実施形態に係る有機ＥＬデバイスに含まれる有機ＥＬ表示パネルの断面図である。

【図2】図２は、図１に示した有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示す断面図である。

【図3】図３は、図１に示した有機ＥＬ表示パネルの製造時の上面図である。

【図4】図４は、図１に示した有機ＥＬ表示パネルを備えた有機ＥＬデバイスの概略構成を示す模式ブロック図である。

【発明を実施するための形態】

【0013】

本発明の実施形態に係る有機ＥＬ用溶液は、第１有機溶媒および第２有機溶媒を少なくとも含む２種類以上の有機溶媒の混合溶媒に有機ＥＬ寄与材料が溶解している。第１有機溶媒のハンセン溶解度パラメータで規定される座標（ＨＳＰ座標）は、１７．５〜１９．５（Ｊ／ｃｍ^３）^１／２の範囲内のＨｄ、３．５〜５．５（Ｊ／ｃｍ^３）^１／２の範囲内のＨｐおよび３．５〜５．５（Ｊ／ｃｍ^３）^１／２の範囲内のＨｈである。第２有機溶媒のＨＳＰ座標は、１７．５〜１９．５（Ｊ／ｃｍ^３）^１／２の範囲内のＨｄ、０〜２．０（Ｊ／ｃｍ^３）^１／２の範囲内のＨｐおよび０．５〜２．５（Ｊ／ｃｍ^３）^１／２の範囲内のＨｈである。

【0014】

ハンセン溶解度パラメータ（Hansen Solubility Parameter，ＨＳＰ）は、ロンドン分散力によるエネルギー（Ｈｄ）、双極子相互作用によるエネルギー（Ｈｐ）、および水素結合によるエネルギー（Ｈｈ）の３つのパラメータで構成される。ＨＳＰは、（Ｈｄ，Ｈｐ，Ｈｈ）のように表されるベクトル量であり、ＨＳＰの３つのパラメータを座標軸とする３次元空間（ハンセン空間）上にプロットして表される。ＨＳＰは、例えばＨＳＰ座標として表すことができる。各パラメータの単位は、（Ｊ／ｃｍ^３）^１／２である。ＨＳＰについては、例えば、Charles M. HansenのHansen Solubility Parameters: A User’s Handbook, Second Editionの１〜２６頁に記載されている。

【0015】

一般的に使用される物質のＨＳＰは、データベースが構築されているため、当該データベースを参照することによって、所望の物質のＨＳＰを入手することができる。データベースにＨＳＰが登録されていない物質は、例えばHansen Solubility Parameters in Practice（ＨＳＰｉＰ）のようなコンピュータソフトウェアを用いることによって、当該物質の化学構造からＨＳＰを計算することができる。

【0016】

２以上の物質を含む混合物のＨＳＰは、各物質のＨＳＰに、混合物全体に対する各物質の体積比を乗じた値のベクトル和として算出される。

【0017】

本発明の実施形態に係る第１有機溶媒のＨＳＰ座標は、１７．５〜１９．５（Ｊ／ｃｍ^３）^１／２の範囲内のＨｄ、３．５〜５．５（Ｊ／ｃｍ^３）^１／２の範囲内のＨｐおよび３．５〜５．５（Ｊ／ｃｍ^３）^１／２の範囲内のＨｈである。

【0018】

第１有機溶媒の例は、エチルフェニルアセテート、ｍ−トリルアセテート、ｏ−トリルアセテート、ｏ−メチルベンジルアセテート、プロピルフェニルアセテート、２−フェニルプロピルアセテート、スチラリルアセテート、メチルフェニルアセテート、メチルフェニルカルビニルアセテート、メチルベンジルアセテート、３−フェニルプロピルアセテート、アリルフェニルアセテート、ベンジルブチレート、ｏ−クレジルイソブチレート、クレジルブチレート、ｐ−クレジルイソブチレート、ｐ−アニシルイソブチレート、メチル４−フェニルブチレート、ベンジルプロピオネート、フェネチルプロピオネート、スチラリルプロピオネート、シンナミルプロピオネート、ｐ−クレジルプロピオネート、ｐ−メチルアニソール、ｍ−メチルアニソール、ｏ−メチルアニソール、２，４−ジメチルアニソール、ｏ−ビニルアニソール、４−エチルアニソール、フェニルアセトアルデヒドエチレンアセタール、ベンズアルデヒドプロピレンアセタール、２−（α−メチルベンジル）−１，３−ジオキソラン、シンナムアルデヒドジメチルアセタール、ｏ−ジエトキシベンゼン、ｐ−メトキシスチレン、２−エトキシナフタレン、４−アリルアニソール、３，４−ジメトキシスチレン、１−エトキシナフタレン、オクチルメトキシシンナム、２，５−ジメトキシスチレン、２，６−ジメトキシスチレン、１−メトキシ−４−プロポキシベンゼン、ベンジルメチルエーテル、ブチルフェニルエーテル、エチルフェニルエーテル、ベンジルエチルエーテル、フェニルイソプロピルエーテル、フェニルプロピルエーテル、アリルフェニルエーテル、フェニルビニルエーテル、アネトール、ジヒドロアネトール、ベンザルアセトン、フェニルエチリデンアセトン、２−（４−イソプロピルフェニル）プロパナール、３−（４−イソプロピルフェニル）プロパナール等が挙げられる。第１有機溶媒は、上述した範囲内のＨＳＰであれば、２種類以上の混合溶媒であってもよい。本発明はかかる例示のみに限定されるものではない。

【0019】

本発明の実施形態に係る第１有機溶媒は、好ましくはジメチルアニソールである。

【0020】

本発明の実施形態に係る第２有機溶媒のＨＳＰ座標は、１７．５〜１９．５（Ｊ／ｃｍ^３）^１／２の範囲内のＨｄ、０〜２．０（Ｊ／ｃｍ^３）^１／２の範囲内のＨｐおよび０．５〜２．５（Ｊ／ｃｍ^３）^１／２の範囲内のＨｈである。

【0021】

第２有機溶媒の例は、メシチレン、シクロヘキシルベンゼン、トルエン、ベンゼン、ｐ−ジエチルベンゼン、エチルベンゼン、ｏ−ｎ−ブチルトルエン、１，２−ジエチルベンゼン、１，２，３，４−テトラメチルベンゼン、１，２，３，５−テトラメチルベンゼン、１，１−ジフェニルペンタン、１，１−ジフェニルヘキサン、３−（１−メチルエテニル）トルエン、１−メチル−３−プロピルベンゼン、１−メチル−４−（１−メチルエチル）−２−（１−プロペニル）ベンゼン、ペンタメチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、１，２，４−トリメチルベンゼン、２，２−ジフェニルプロパン、２−エチルジフェニルメタン、１，４−ジメチルテトラリン、カラメネン、１−ブチル−１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン、３−エチルジフェニルメタン、１，１−ジフェニルプロパン、３−エチルビフェニル、３−メチルジフェニルメタン、１，１−ジフェニルブタン、３，３’−ジメチルビフェニル、３，３’，４，４’−テトラメチルビフェニル、３，３’，５，５’−テトラメチルビフェニル、ジエチルビフェニル、（Ｓ）−１，２−ジヒドロ−４，７−ジメチル−１−イソプロピルナフタレン、（Ｓ）−１，２−ジヒドロ−１，６−ジメチル−４−イソプロピルナフタレン等が挙げられる。第２有機溶媒は、上述した範囲内のＨＳＰであれば、２種類以上の混合溶媒であってもよい。本発明はかかる例示のみに限定されるものではない。

【0022】

本発明の実施形態に係る第２有機溶媒は、好ましくはジフェニルプロパンである。

【0023】

本発明の実施形態に係る有機ＥＬ用溶液は、第１有機溶媒および第２有機溶媒の他に、本発明の目的が阻害されない範囲内で、必要により他の溶媒が追加されていてもよい。

【0024】

有機ＥＬ寄与材料は、有機ＥＬに寄与する有機材料であり、有機ＥＬ材料（Ｒ、ＧおよびＢの発光材料）、キャリア輸送性材料（電子輸送性材料、正孔輸送性材料）、キャリア注入性材料（電子注入性材料、正孔注入性材料）およびキャリア阻止性材料（電子阻止性材料、正孔阻止性材料）を含む。

【0025】

本発明の実施形態に係る有機ＥＬ寄与材料は、例えば発光材料、キャリア輸送性材料、キャリア注入性材料、またはキャリア阻止性材料である。

【0026】

発光材料の例は、Ｆ８−ｃｏ−Ｆ６（Ｆ８（ポリジオクチルフルオレン）とＦ６（ポリジヘキシルフルオレン）との共重合体）、オキシノイド化合物、ペリレン化合物、ピロロピロール化合物、ナフタレン化合物、アントラセン化合物、フルオレン化合物、フルオランテン化合物、テトラセン化合物、ピレン化合物、コロネン化合物、キノロン化合物およびアザキノロン化合物、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、ローダミン化合物、クリセン化合物、フェナントレン化合物、シクロペンタジエン化合物、スチルベン化合物、ジフェニルキノン化合物、スチリル化合物、ブタジエン化合物、ジシアノメチレンピラン化合物、ジシアノメチレンチオピラン化合物、フルオレセイン化合物、ピリリウム化合物、チアピリリウム化合物、セレナピリリウム化合物、テルロピリリウム化合物、芳香族アルダジエン化合物、オリゴフェニレン化合物、チオキサンテン化合物、シアニン化合物、アクリジン化合物、８−ヒドロキシキノリン化合物の金属錯体、２−ビピリジン化合物の金属錯体、シッフ塩基とＩＩＩ族金属との鎖体、オキシン金属錯体、希土類錯体等の蛍光物質が挙げられる。これら化合物や錯体は、単独で用いてもよいし、複数を混合して用いてもよい。本発明はかかる例示のみに限定されるものではない。

【0027】

正孔輸送性材料の例は、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、ポリフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、ブタジエン化合物、ポリスチレン誘導体、ヒドラゾン誘導体、トリフェニルメタン誘導体、テトラフェニルベンジン誘導体等が挙げられる。これら化合物や錯体は、単独で用いてもよいし、複数を混合して用いてもよい。また、正孔輸送性材料は、電子阻止性材料として用いてもよい。本発明はかかる例示のみに限定されるものではない。

【0028】

電子輸送性材料の例は、フェナントロリン誘導体、ピリジン誘導体、テトラジン誘導体、オキサジアゾール誘導体等のヘテロ環を有する化合物、またはトリス（８−ヒドロキシキノリナート）アルミニウム錯体（Ａｌｑ_３）等の金属錯体等が挙げられる。また、電子輸送性材料は、正孔阻止性材料として用いてもよい。これら化合物や錯体は、単独で用いてもよいし、複数を混合して用いてもよい。また、正孔輸送性材料は、電子阻止性材料として用いてもよい。本発明はかかる例示のみに限定されるものではない。

【0029】

正孔注入性材料の例は、ＭｏＯｘ（酸化モリブデン）、ＷＯｘ（酸化タングステン）もしくはＭｏｘＷｙＯｚ（モリブデン−タングステン酸化物）等の金属酸化物（ｘ、ｙおよびｚは、正数である）、金属窒化物または金属酸窒化物等が挙げられる。

【0030】

電子注入性材料の例は、リチウム、ナトリウム等のアルカリ金属、マグネシウム、カルシウム等のアルカリ土類金属、フッ化リチウム、酸化リチウム等のアルカリ金属またはアルカリ土類金属の無機化合物、８−キノリノールリチウム等のアルカリ金属またはアルカリ土類金属を中心金属とする有機金属錯体等が挙げられる。本発明はかかる例示のみに限定されるものではない。

【0031】

本発明の実施形態に係る有機ＥＬ用溶液は、印刷装置の構成部材に接液しても、溶液自身の性能を劣化しない。具体的には、有機ＥＬ用溶液は、印刷装置の構成部材に接液しても、自身に含まれる有機ＥＬ寄与材料の性能が劣化しない。また、有機ＥＬ用溶液は、基板上に既に形成された他の有機層等と接液しても、それらを溶解して劣化させず、溶液自身の性能も劣化しない。そのため、実施形態に係る有機ＥＬ用溶液を液滴吐出法等で基板上に塗布し、乾燥させることによって、性能を劣化させずに有機層を形成することができる。

【0032】

本発明の実施形態に係る有機ＥＬデバイスの製造方法は、２枚の電極間に発光層を含む有機層を挟んだ構造を備える有機ＥＬデバイスの製造方法であって、実施形態の有機ＥＬ用溶液を用いて塗布、乾燥することにより、前記有機層を形成する工程を含む。

【0033】

以下、実施形態に係る有機ＥＬデバイスの製造方法について説明するが、まず、図１を参照して、その製造方法により形成される有機ＥＬ表示パネル１の構成について説明する。なお、有機ＥＬ表示パネル１は、実施形態に係る有機ＥＬデバイスに組み込まれる。

【0034】

図１は、有機ＥＬ表示パネル１の断面図である。なお、図１には、有機ＥＬ表示パネル１の２画素（６サブ画素）分が示されている。

【0035】

有機ＥＬ表示パネル１は、ガラス基板、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）層、平坦化膜層等を含むＴＦＴ基板１１と、ＴＦＴ基板１１上に形成された隔壁層１２とを備える。なお、薄膜トランジスタおよび平坦化膜の構成は周知のものを使用しているため、ここでは図示しない。隔壁層１２の膜厚は１μｍ程度であり、その断面形状は順テーパー状である。

【0036】

隣り合う隔壁層１２の間にあるサブ画素領域には、Ａｌのような金属からなる陽極（第１電極）１３と、正孔注入層１４と、発光材料からなる発光層１５Ｒ、１５Ｇ、１５Ｂ（以下、区別の必要が無いときには、「発光層１５」と総称する）とが積層されている。さらに、隔壁層１２および発光層１５を覆うような電子注入層１６と、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）のような透明材料からなる陰極（第２電極）１７と、ＳｉＮ、ＳｉＯＮのような光透過性材料からなる封止層１８とが順に積層されている。有機ＥＬ表示パネル１では、Ｒ、Ｇ、Ｂの３つのサブ画素の組み合わせを１画素としている。また、サブ画素領域の発光色がＲ、Ｇ、Ｂとそれぞれ異なるのは、発光層１５の発光材料の違いによる。

【0037】

次に、図２および図３を参照して、有機ＥＬ表示パネル１の製造方法を説明する。
図２の（ａ）〜（ｄ）は、有機ＥＬ表示パネル１の製造工程を示す断面図であり、図３は、図２の（ｂ）の上面図である。なお、図３におけるＡ−Ａ’断面が、図２の（ｂ）である。

【0038】

図２の（ａ）に示すように、まず、ＴＦＴ基板１１と、隔壁層１２と、陽極１３と、正孔注入層１４とを備えた基板１０を準備する。

【0039】

図２の（ｂ）に示すように、基板１０上のすべてのサブ画素領域における、隔壁層１２に囲まれた凹部に、インクジェット法を用いた印刷方式で発光層１５の材料である有機ＥＬ用溶液を塗布し、乾燥させることにより、発光層１５を形成する。図３に示すように、隔壁層１２は発光層１５を囲んでいる。また、発光層１５が見えている領域が、それぞれのサブ画素領域に相当する。一般的な２０インチの有機ＥＬ表示パネルで、１２８０×７６８画素が均等な距離で配置されている場合、サブ画素領域のサイズは（６４μｍ×２３４μｍ）程度となる。

【0040】

図２の（ｃ）に示すように、隔壁層１２および発光層１５を覆うような電子注入層１６と陰極１７とを形成する。

【0041】

図２の（ｄ）に示すように、陰極１７上に封止層１８を形成すると、有機ＥＬ表示パネル１が完成する。

【0042】

なお、陰極１７および封止層１８については公知の有機発光デバイス技術における一般的な部材と形成技術を用いる。

【0043】

次に、図４を参照して、実施形態に係る有機ＥＬデバイス４０の構成を説明する。
図４は、有機ＥＬ表示パネル１を備えた有機ＥＬデバイス４０の概略構成を示す模式ブロック図である。

【0044】

図４に示すように、有機ＥＬ表示パネル１は、駆動回路３１に電気的に接続され、駆動回路３１は制御回路３２により制御される。有機ＥＬ表示パネル１の電気的接続については、公知の通りである。このようにして、有機ＥＬ表示パネル１を備えた有機ＥＬデバイス４０を製造できる。言い換えると、有機ＥＬデバイスの有機層は、上述した製造方法で形成される。

【実施例】

【0045】

以下、本発明を実施例により説明する。

【0046】

〔有機溶媒の準備〕
表１に示す有機溶媒Ａ〜Ｆを準備した。各有機溶媒のＨＳＰ座標も併せて示す。

【表1】

【0047】

〔有機ＥＬ寄与材料（溶質）の準備〕
アントラセン系の発光材料を溶質として準備した。

【0048】

〔有機ＥＬ用溶液の調製〕
表２に示す組合せの各混合溶媒と、前記溶質とを大気雰囲気下、温度６０℃、振とう器中で１００ｒｐｍ、２４時間撹拌して、溶質を溶解させ、２．０重量％の有機ＥＬ用溶液（Ｎｏ．１〜Ｎｏ．１３）を調製した。なお、２種類の有機溶媒の混合比率は５０：５０（重量％比）とした。

【0049】

〔評価方法〕
このように調製したＮｏ．１〜Ｎｏ．１３の有機ＥＬ用溶液を、印刷装置にセットし、印刷装置から吐出して、印刷装置の構成部材に接液させたものと、接液させていないものをそれぞれ準備した。続いて、脱気処理した後に、各有機ＥＬ用溶液の蛍光量子収率（ＰＬＱＥ）を、蛍光量子収率測定装置を用いて測定した。

【0050】

次に、Ｎｏ．１〜Ｎｏ．１３の有機ＥＬ用溶液のＰＬＱＥ変化率（％）を、次の式
［ＰＬＱＥ変化率］＝（［印刷装置の構成部材に接液させた有機ＥＬ用溶液のＰＬＱＥ］／［接液させていない有機ＥＬ用溶液のＰＬＱＥ］）×１００％
によって、算出した。

【0051】

Ｎｏ．１〜Ｎｏ．１３の有機ＥＬ用溶液のＰＬＱＥ変化率を３段階で評価した。評価結果は、ａ＞ｂ＞ｃとして、ａはＰＬＱＥ変化率が９０％以上であって、有機ＥＬ用溶液の性能が劣化していないか、劣化していても劣化の程度が小さい。ｂはＰＬＱＥ変化率が６０％以上、９０％未満である。ｃはＰＬＱＥ変化率が６０％未満であって、有機ＥＬ用溶液の劣化の程度が大きい。結果は表２に示した。

【表2】

【0052】

〔結果〕
表２のＮｏ．１，２，５，６に示すように、第１有機溶媒と第２有機溶媒の混合溶媒を含む有機ＥＬ用溶液は、いずれもＰＬＱＥ変化率が１００％を超えている。言い換えると、実施形態にかかる有機ＥＬ用溶液は、印刷装置の構成部材に接液しても、溶液自身の性能が劣化していないことがわかる。

【0053】

また、第１有機溶媒、第２有機溶媒のどちらか一方、または第１有機溶媒と第２有機溶媒のいずれも含まない有機ＥＬ用溶液は、いずれもＰＬＱＥ変化率が１００％未満である。比較例として第１有機溶媒と第２有機溶媒のＨＳＰを満たさないＥとＦの溶媒として用いた場合、ＰＬＱＥ変化率はいずれも低下することがわかった。

【0054】

以上、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定するものではない。これらの新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これらの実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
以下に、本願出願の当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
［１］
第１有機溶媒および第２有機溶媒を少なくとも含む２種類以上の有機溶媒の混合溶媒に有機ＥＬ寄与材料が溶解している有機ＥＬ用溶液であって、
前記第１有機溶媒のハンセン溶解度パラメータで規定される座標（ＨＳＰ座標）は、１７．５〜１９．５（Ｊ／ｃｍ^３）^１／２の範囲内のＨｄ、３．５〜５．５（Ｊ／ｃｍ^３）^１／２の範囲内のＨｐおよび３．５〜５．５（Ｊ／ｃｍ^３）^１／２の範囲内のＨｈであり、
前記第２有機溶媒のＨＳＰ座標は、１７．５〜１９．５（Ｊ／ｃｍ^３）^１／２の範囲内のＨｄ、０〜２．０（Ｊ／ｃｍ^３）^１／２の範囲内のＨｐおよび０．５〜２．５（Ｊ／ｃｍ^３）^１／２の範囲内のＨｈである有機ＥＬ用溶液。
［２］
前記第１有機溶媒は、ジメチルアニソールである［１］に記載の有機ＥＬ用溶液。
［３］
前記第２有機溶媒は、ジフェニルプロパンである［１］または［２］に記載の有機ＥＬ用溶液。
［４］
前記有機ＥＬ寄与材料は、発光材料、キャリア輸送性材料、キャリア注入性材料、またはキャリア阻止性材料である［１］から［３］までのいずれか１つに記載の有機ＥＬ用溶液。
［５］
２枚の電極間に発光層を含む有機層を挟んだ構造を備える有機ＥＬデバイスの製造方法であって、［１］〜［４］のいずれか１つに記載の有機ＥＬ用溶液を用いて塗布、乾燥することにより、前記有機層を形成する工程を含む有機ＥＬデバイスの製造方法。
［６］
２枚の電極間に発光層を含む有機層を挟んだ構造を備える有機ＥＬデバイスであって、前記有機層が［１］〜［４］のいずれか１つに記載の有機ＥＬ用溶液を用いて塗布、乾燥することにより形成される有機ＥＬデバイス。

【符号の説明】

【0055】

１ 有機ＥＬ表示パネル
１１ ＴＦＴ基板
１２ 隔壁層
１３ 陽極（第１電極）
１４ 正孔注入層
１５ 発光層
１６ 電子注入層
１７ 陰極（第２電極）
１８ 封止層
４０ 有機ＥＬデバイス

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】