特許6844798光学装置、及び光学装置の汚染防止方法

発明の名称　光学装置、及び光学装置の汚染防止方法

出願人　レーザーテック株式会社　（識別番号 115902）

　　　　特許公開件数ランキング 528 位（17件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 515 位（15件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-6844798

公報発行日　2021年3月17

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6844798

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