特許第6870006号(P6870006)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特許6870006HCFC−244BBへのHCFO−1233xfのヒドロフッ素化中におけるHFC−245CBの形成を軽減する方法
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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】6870006
(24)【登録日】2021年4月16日
(45)【発行日】2021年5月12日
(54)【発明の名称】HCFC−244BBへのHCFO−1233xfのヒドロフッ素化中におけるHFC−245CBの形成を軽減する方法
(51)【国際特許分類】
   C07C 17/087 20060101AFI20210426BHJP
   C07C 19/10 20060101ALI20210426BHJP
   C07C 17/25 20060101ALI20210426BHJP
   C07C 21/18 20060101ALI20210426BHJP
   C07B 61/00 20060101ALN20210426BHJP
【FI】
   C07C17/087ZAB
   C07C19/10
   C07C17/25
   C07C21/18
   !C07B61/00 300
【請求項の数】9
【全頁数】25
(21)【出願番号】特願2019-176(P2019-176)
(22)【出願日】2019年1月4日
(62)【分割の表示】特願2016-501125(P2016-501125)の分割
【原出願日】2014年3月11日
(65)【公開番号】特開2019-70005(P2019-70005A)
(43)【公開日】2019年5月9日
【審査請求日】2019年2月4日
(31)【優先権主張番号】61/777,549
(32)【優先日】2013年3月12日
(33)【優先権主張国】US
(73)【特許権者】
【識別番号】500575824
【氏名又は名称】ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド
【氏名又は名称原語表記】Honeywell International Inc.
(74)【代理人】
【識別番号】100140109
【弁理士】
【氏名又は名称】小野 新次郎
(74)【代理人】
【識別番号】100118902
【弁理士】
【氏名又は名称】山本 修
(74)【代理人】
【識別番号】100106208
【弁理士】
【氏名又は名称】宮前 徹
(74)【代理人】
【識別番号】100120112
【弁理士】
【氏名又は名称】中西 基晴
(74)【代理人】
【識別番号】100120754
【弁理士】
【氏名又は名称】松田 豊治
(74)【代理人】
【識別番号】100168066
【弁理士】
【氏名又は名称】鈴木 雄太
(72)【発明者】
【氏名】ウォン,ハイユー
(72)【発明者】
【氏名】マーケル,ダニエル・シー
(72)【発明者】
【氏名】トゥン,シュー・スン
(72)【発明者】
【氏名】コプカリ,ハルク
【審査官】 山本 昌広
(56)【参考文献】
【文献】 特表2009−522365(JP,A)
【文献】 特開2009−227675(JP,A)
【文献】 特開2009−167187(JP,A)
【文献】 特開2010−47560(JP,A)
【文献】 特開昭52−46004(JP,A)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
C07C 17/00−21/22
C07B 61/00
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
(a)HFを、ヒドロフッ素化触媒の存在下、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを形成するのに有効な条件下において、十分な量の2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンと反応させ、ここでヒドロフッ素化触媒はかかる反応を触媒するのに十分な量で存在させ、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを、80%以上の転化率及び20%以下の1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパン選択率の両方で形成し;そして
(b)ヒドロフッ素化触媒を連続的又は定期的に反応器に少しずつ加えることによって、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを、80%以上の転化率及び20%以下の1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパン選択率の両方で形成することを維持する;
ことを含む、反応器内、ヒドロフッ素化触媒の存在下での2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンとHFの液相反応中における1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパンの形成を最小にする方法であって、
ヒドロフッ素化触媒を、ヒドロフッ素化触媒の濃度が反応器中に存在するヒドロフッ素化触媒及びHFの合計重量を基準として0.5重量%〜10重量%の範囲の量で増加するように定期的に加える方法。
【請求項2】
(a)式I、II、及び式III:
CX=CCl−CHX (式I);
CX−CCl=CH (式II);
CX−CHCl−CHX (式III);
(式中、Xは、独立して、F、Cl、Br、及びIから選択され、但し少なくとも1つのXはフッ素ではない)
から選択される構造を有する少なくとも1種類の出発化合物を含む出発組成物を与え;
(b)出発組成物を第1のヒドロフッ素化剤と接触させて、2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンを含む第1の中間体組成物を生成させ;
(c)HFを、第2のヒドロフッ素化触媒の存在下、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを形成するのに有効な条件下において十分な量の2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンと反応させ、ここで第2のヒドロフッ素化触媒はかかる反応を触媒するのに十分な量で存在させ、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを、少なくとも80%の転化率及び最大で20%の1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパン選択率の両方で形成し;
(d)第2のヒドロフッ素化触媒を定期的又は連続的に反応器に少しずつ加えることによって、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを、80%以上の転化率及び20%以下の1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパン選択率の両方で形成することを維持し;そして
(e)2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを脱塩化水素化して、2,3,3,3−テトラフルオロプロプ−1−エンを含む反応生成物を生成させる;
ことを含む、2,3,3,3−テトラフルオロプロプ−1−エンの製造方法であって、
第2のヒドロフッ素化触媒を、ヒドロフッ素化触媒の濃度が反応器中に存在するヒドロフッ素化触媒及びHFの合計重量を基準として0.5重量%〜10重量%の範囲の量で増加するように定期的に加える方法。
【請求項3】
請求項1の工程(a)又は請求項2の工程(c)における当初のヒドロフッ素化触媒濃度が、反応器中の触媒及びHFの合計重量を基準として2重量%〜50重量%の範囲である、請求項1又は2に記載の方法。
【請求項4】
請求項1の工程(a)又は請求項2の工程(c)における当初のヒドロフッ素化触媒濃度が、反応器中の触媒及びHFの合計重量を基準として10重量%〜40重量%の範囲である、請求項1又は2に記載の方法。
【請求項5】
ヒドロフッ素化触媒が、ハロゲン化アンチモン、ハロゲン化スズ、ハロゲン化タンタル、ハロゲン化チタン、ハロゲン化ニオブ、及びハロゲン化モリブデン、ハロゲン化鉄、フッ素化ハロゲン化クロム、フッ素化酸化クロム、又はこれらの組み合わせである、請求項1又は2に記載の方法。
【請求項6】
ヒドロフッ素化触媒が、SbCl、SbCl、SbF、SnCl、TaCl、TiCl、NbCl、MoCl、FeCl、SbClのフッ素化種、SbClのフッ素化種、SnClのフッ素化種、TaClのフッ素化種、TiClのフッ素化種、NbClのフッ素化種、MoClのフッ素化種、FeClのフッ素化種、又はこれらの組み合わせである、請求項1又は2に記載の方法。
【請求項7】
ヒドロフッ素化触媒が五塩化アンチモンである、請求項1又は2に記載の方法。
【請求項8】
反応を75℃〜125℃の範囲の温度で行う、請求項1又は2に記載の方法。
【請求項9】
HFと2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンとのモル比が2:1〜15:1の範囲である、請求項1又は2に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
[0001]本発明は、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパン(HCFC−244bb)を製造するための改良された方法、より詳しくは液相反応容器中において液相ヒドロフッ素化触媒の存在下で2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペン(HCFO−1233xf)とフッ化水素を反応させることによってHCFC−244bbを製造するための改良された方法に関する。HCFC−244bbは、低い地球温暖化係数を有する分子である2,3,3,3−テトラフルオロプロペン(HFO−1234yf)の製造における中間体である。
【背景技術】
【0002】
[0002]テトラフルオロプロペン(2,3,3,3−テトラフルオロプロペン(HFO−1234yf)など)のような幾つかのヒドロフルオロオレフィン(HFO)は、現在、有効な冷媒、熱伝達媒体、噴射剤、起泡剤、発泡剤、気体状誘電体、滅菌剤キャリア、重合媒体、粒状物除去流体、キャリア流体、バフ研磨剤、置換乾燥剤、及び動力サイクル作動流体であることが知られている。クロロフルオロカーボン(CFC)及びヒドロクロロフルオロカーボン(HCFC)(これらは両方とも地球のオゾン層を損傷する可能性がある)とは異なり、HFOは塩素を含まず、したがってオゾン層を脅威にさらさない。HFO−1234yfは、低い毒性を有する低地球温暖化化合物であることが示されており、したがって可動型空調における冷媒に関する益々厳しくなっている要求を満足することができる。これは、有効な冷媒、熱伝達媒体、噴射剤、起泡剤、発泡剤、気体状誘電体、滅菌剤キャリア、重合媒体、粒状物除去流体、キャリア流体、バフ研磨剤、置換乾燥剤、及び動力サイクル作動流体であることが分かっている。したがって、HFO−1234yfを含む組成物は、上述の用途の多くにおいて用いるように開発されている材料の中に含まれる。而して、テトラフロオロプロペン、特に2,3,3,3−テトラフルオロプロペンを製造するための新規な製造方法に対する必要性が存在する。
【0003】
[0003]HFOを製造する幾つかの方法が公知である。例えば、米国特許4,900,874(Iharaら)においては、水素ガスをフッ素化アルコールと接触させることによって
フッ素含有オレフィンを製造する方法が記載されている。これは比較的高い収率のプロセスであるように思われるが、高温の水素ガスを商業的スケールで取扱うことは危険である。また、現場での水素プラントの建設のように水素ガスを商業的に製造するコストは経済的に高コストである。
【0004】
[0004]米国特許2,931,840(Marquis)においては、塩化メチル及びテトラフ
ルオロエチレン又はクロロジフルオロメタンを熱分解することによってフッ素含有オレフィンを製造する方法が記載されている。このプロセスは比較的低い収率のプロセスであり、有機出発材料の非常に大きな割合が、プロセスにおいて用いる触媒を失活させる傾向がある相当量のカーボンブラックなどの望まれておらず及び/又は重要でない副生成物に転化する。
【0005】
[0005]トリフルオロアセチルアセトン及び四フッ化イオウからHFO−1234yfを製造することが記載されている(Banksら, Journal of Fluorine Chemistry, vol.82, 2
号, p.171〜174(1997)を参照)。また、米国特許5,162,594(Krespan)にお
いては、テトラフルオロエチレンを液相中で他のフッ素化エチレンと反応させてポリフルオロオレフィン生成物を生成させるプロセスが開示されている。
【0006】
[0006]米国特許8,058,486において開示されているHFO−1234yfの製造方法は、出発原材料として1,1,2,3−テトラクロロプロペン(HCO−1230xa)を用いている。このプロセスは次の3つの工程から構成される。(1)フッ素化クロミアのような固体ヒドロフッ素化触媒を充填した蒸気相反応器内において、HCO−1230xa+HF→2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペン(HCFO−1233xf)+HCl;(2)フッ素化SbClのような液体ヒドロフッ素化触媒を充填した液相反応器内において、HCFO−1233xf+HF→2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパン(HCFC−244bb);及び(3)蒸気相反応器内において、HCFC−244bb→HFO−1234yf。工程2の運転において遭遇する1つの問題点は、1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパン(HFC−245cb)が形成され、これが長期的に大きな収率損失を引き起こす可能性があることである。而して、それによってHFC−245cbの形成を減少させることができる手段に対する必要性が存在する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0007】
【特許文献1】米国特許第4,900,874号明細書
【特許文献2】米国特許第2,931,840号明細書
【特許文献3】米国特許第5,162,594号明細書
【特許文献4】米国特許第8,058,486号明細書
【非特許文献】
【0008】
【非特許文献1】Banksら, Journal of Fluorine Chemistry, vol.82, 2号, p.171〜174(1997)
【発明の概要】
【0009】
[0007]本発明は、2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペン(HCFO−1233xf)を、液相反応容器中において、液相ヒドロフッ素化触媒の存在下でフッ化水素と反応させることを含む、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパン(HCFC−244bb)の製造方法に関する。本発明は、HCFO−1233xfの転化率を約80%より高く維持し、一方同時に1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパンの形成を最小にする、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパン(HCFC−244bb)を製造するための改良された方法を提供する。他の態様においては、HCFO−1233xfの転化率は、約90%より高く、他の態様においては約95%より高い。この向上した転化率は、新しいヒドロフッ素化触媒を少しずつ定期的に加えることによって達成される。新しいヒドロフッ素化触媒の添加は連続的又は定期的に行う。
【0010】
[0008]より具体的には、本方法は、
(a)HFを、ヒドロフッ素化触媒の存在下、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを形成するのに有効な条件下において十分な量の2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンと反応させ、ここでヒドロフッ素化触媒はかかる反応を触媒するのに十分な量で存在させ、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを約80%以上の転化率で形成し、且つ1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパン選択率は約20%以下であり;そして
(b)ヒドロフッ素化触媒を連続的又は定期的に少量ずつ加えることによって、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを、約80%以上の転化率及び約20%以下の1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパン選択率の両方で形成することを維持する;
ことを含む、ヒドロフッ素化触媒の存在下での2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンとHFの液相反応中における1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパンの形成
を最小にする方法に関する。
【0011】
[0009]例えば一態様においては、1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパンの形成は、(a)HFを、ヒドロフッ素化触媒の存在下で十分な量の2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンと反応させて、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを形成し、ここでヒドロフッ素化触媒はかかる反応を触媒するのに十分な量で存在させ、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを約80%以上の転化率で形成し、且つ1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパン選択率は約20%以下であり;そして(b)ヒドロフッ素化触媒を、反応器中の触媒及びHFの合計重量の約0.5重量%〜約10重量%の範囲の量で定期的に加えることによって、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを、約80%以上の転化率及び約20%以下の1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパン選択率の両方で形成することを維持する;ことによって最小になる。一態様においては、ヒドロフッ素化触媒の添加はここに記載するように定期的であり、一方他の態様においてはヒドロフッ素化触媒の添加は連続的である。
【0012】
[0010]しかしながら、加えることができる触媒の最大量が存在する。加える最大量は、HF及び触媒の合計重量に対して98重量%である。
[0011]以下の図面は、本明細書の記載にしたがって行った場合のプロセスの結果の代表例である。本発明は図面によって限定されるように解釈すべきではない。
【図面の簡単な説明】
【0013】
図1】[0012]図1は、1233xf+HF→244bbの液相フッ素化反応においてSbCl触媒を定期的に加えることによる、時間経過に伴う1233xfの転化率及び244bbの選択率並びに245cbの選択率を示す。
【発明を実施するための形態】
【0014】
[0013]上記の一般的な記載及び以下の詳細な記載は例示及び例証のみのものであり、添付の特許請求の範囲において規定される発明を制限するものではない。任意の1つ以上の態様の他の特徴及び利益は、以下の詳細な説明及び特許請求の範囲から明らかになるであろう。
【0015】
[0014]本明細書において用いる「含む」、「含み」、「包含する」、「包含し」、「有する」、「有し」の用語、又はこれらの任意の他の変形は、非排他的な内包物をカバーするように意図される。例えば、構成要素のリストを含むプロセス、方法、物品、又は装置は、必ずしもこれらの構成要素のみに限定されず、明確にリストされていないか、或いはかかるプロセス、方法、物品、又は装置に特有の他の構成要素を含んでいてもよい。更に、明確に逆に示されていない限りにおいて、「又は」とは、排他的な「又は」ではなく包含的な「又は」を指す。例えば、条件A又はBは次の任意の1つによって満足される:Aは正しく(又は存在し)Bは虚偽(又は存在しない)である;Aは虚偽(又は存在しない)でBは正しい(又は存在する);並びにA及びBの両方とも正しい(又は存在する)。
【0016】
[0015]また、「a」又は「an」の使用は、本明細書に記載する構成要素及び成分を記載するために用いる。これは単に便宜的に行うものであり、発明の範囲の一般的な意味を与える。この記載は1つ又は少なくとも1つを含むと読むべきであり、単数形は、それが他に意図されていることが明らかでない限りにおいて複数形も包含する。
【0017】
[0016]他に定義されていない限りにおいて、本明細書において用いる全ての技術用語及び科学用語は、本発明が属する技術の当業者によって通常的に理解されるものと同じ意味を有する。本明細書に記載するものと同様又は同等の方法及び材料を本発明の幾つかの態様の実施又は試験において用いることができるが、下記においては好適な方法及び材料を
記載する。本明細書において言及する全ての刊行物、特許出願、特許、及び他の参照文献は、特定の節が引用されていない限りにおいてそれらの全部を参照として包含する。不一致の場合には、定義を含む本明細書が支配する。更に、材料、方法、及び実施例は、例示のみであり、限定することは意図しない。
【0018】
[0017]量、濃度、又は他の値若しくはパラメーターを、範囲、好ましい範囲、又はより高い好ましい値及び/又はより低い好ましい値のリストのいずれかとして与える場合には、これは、範囲が別々に開示されているかどうかにかかわらず、任意のより高い範囲限界又は好ましい値と、任意のより低い範囲限界又は好ましい値の任意の対から形成される全ての範囲を具体的に開示すると理解すべきである。本明細書において数値の範囲が示されている場合には、他に示されていない限りにおいて、この範囲はその端点及びこの範囲内の全ての整数及び小数を含むと意図される。
【0019】
[0018]本明細書において用いる「脱塩化水素化する」、「脱塩化水素化」、又は「脱塩化水素化された」という用語は、分子中の隣接する炭素上の水素及び塩素がその間に除去されるプロセスを意味する。
【0020】
[0019]本明細書において用いる「アルキル」という用語は、単独か又は組み合わさって、環式又は非環式、及び直鎖又は分岐鎖のアルキル基、例えばメチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、又はこれらの異なる異性体を包含する。これとしては、例えば、1〜6個の炭素原子を含む直鎖又は分岐鎖アルキル基、並びに3〜6個の環炭素原子及び合計で10個以下の炭素原子を含む環式アルキル基が挙げられる。
【0021】
[0020]本明細書において用いる「ヒドロフルオロオレフィン」という用語は、水素、炭素、フッ素、及び少なくとも1つの炭素−炭素二重結合を含む分子を意味する。
[0021]本明細書において用いる「フッ素化触媒」及び「ヒドロフッ素化触媒」という用語は類義であり、互換的に使用される。
【0022】
[0022]本明細書において用いる「少しずつ」という用語は、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンへの2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンの転化率、及び1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパン選択率の両方を所望のレベルに維持する、反応器に加えるヒドロフッ素化触媒の量を指す。
【0023】
[0023]「所望のレベル」という用語は、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンへの2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンの転化率が約80%〜約100%の転化率の範囲の具体的な目標レベルであり、1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパン選択率が約20%〜約0%の範囲であることを意味する。
【0024】
[0024]「定期的に」又は定期的という用語、或いはこれらに対する同義語は、本発明において用いるヒドロフッ素化触媒の添加に言及する場合には、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンへの2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンの転化率が所望のレベルより低くなった時点で毎回ヒドロフッ素化触媒を反応器に加えることを意味する。
【0025】
[0025]「連続的に」又は「連続的」という用語、或いはこれらに対する同義語は、ヒドロフッ素化触媒の添加に言及する場合には、ヒドロフッ素化触媒を、添加が定期的である場合よりも明らかに少ない少量ずつ常に加えることを意味する。ヒドロフッ素化触媒を加える添加速度は本明細書に記載する。
【0026】
[0026]本方法は、2,3,3,3−テトラフルオロプロペン(HFO−1234yf)
の製造における中間工程である。これは、2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンをヒドロフッ素化して2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを形成することに関する。2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパン(HCFC−244bb)の製造は、本方法においては、2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペン(HCFO−1233xf)を、液相反応容器中及び液相ヒドロフッ素化触媒中においてフッ化水素と反応させて、それによってHCFC−244bbを生成させることを必要とする。反応はバッチ又は連続モードで行う。
【0027】
[0027]本発明方法によれば、HCFO−1233xfを2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパン(HCFC−244bb)に転化させる。一態様においては、この工程は、液相反応器内において液相中で行うことができる。ヒドロフッ素化反応のために好適な任意の反応器を本発明において用いることができる。反応は、ハステロイ−C、インコネル、モネル、及びフルオロポリマーライニング容器のようなHFの腐食作用に対して抵抗性の材料から構成する。好適な液相ヒドロフッ素化反応器は当該技術において周知である。
【0028】
[0028]任意の実質的に純粋な液相フッ素化触媒を本発明において用いることができる。実質的に純粋とは、触媒が最小量の不純物を含むことを意味する。一態様においては、これは90%より高い純度であり;他の態様においては、これは95%より高い純度であり;一方他の態様においては、これは98%より高い純度である。液相フッ素化触媒の非排他的なリストには、ルイス酸、例えば遷移金属ハロゲン化物、遷移金属酸化物、第IVb族金属ハロゲン化物、第Vb族金属ハロゲン化物、又はこれらの組み合わせが含まれる。液相フッ素化触媒の非排他的な例としては、ハロゲン化アンチモン、ハロゲン化スズ、ハロゲン化タンタル、ハロゲン化チタン、ハロゲン化ニオブ、ハロゲン化モリブデン、ハロゲン化鉄、フッ素化ハロゲン化クロム、フッ素化酸化クロム、又はこれらの組み合わせである。液相フッ素化触媒の非排他的な具体例は、SbCl、SbCl、SbF、SnCl、TaCl、TiCl、NbCl、MoCl、FeCl、SbClのフッ素化種、SbClのフッ素化種、SnClのフッ素化種、TaClのフッ素化種、TiClのフッ素化種、NbClのフッ素化種、MoClのフッ素化種、FeClのフッ素化種、又はこれらの組み合わせである。他の態様においては、フッ素化触媒は五塩化アンチモンである。
【0029】
[0029]これらの触媒は、失活してきたら、当該技術において公知の任意の手段によって容易に再生することができる。触媒を再生する1つの好適な方法は、触媒を通して塩素流を流すことを含む。例えば、液相フッ素化触媒1ポンドあたり約0.002〜約0.2ポンド/時の塩素を液相反応に加えることができる。これは、例えば、約65℃〜約100℃の温度において約1〜約2時間又は連続的に行うことができる。
【0030】
[0030]本発明の実施においては、反応器を加熱する前に、下記に記載する液相触媒をヒドロフッ素化反応器中に充填する。次に、反応器が所望の温度に達した後に、HF及びHCFO−1233xfを反応器に供給する。反応は有効な反応条件下で行う。例えば、反応は、約30℃〜約200℃の範囲の温度で行い、一方、他の態様においてはこれは約50℃〜約150℃の範囲の温度、他の態様においては約75℃〜約125℃の範囲の温度で行う。反応の圧力は、温度、用いるフッ化水素の量、及びHCFO−1233xfの転化率に応じて変化させる。好都合な運転圧力は、一態様においては約5psig〜約200psig、一方他の態様においては約30psig〜約175psig、更に他の態様においては約60psig〜約150psigの範囲である。
【0031】
[0031]HF及び2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンは、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンへ転化させるのに有効な濃度で存在させる。反応の
化学量論に基づくと、HCFO−1233xfに対するHFの必要なモル比は、少なくとも出発有機材料中の二重結合の数に等しく、他の態様においては、HCFO−1233xfに対するHFのモル比は過剰で存在させる。一態様においては、HFとHCFO−1233xfとのモル比は、約1:1〜約50:1の範囲であり、一方、他の態様においては、これは約1:1〜約30:1の範囲であり、更に他の態様においては、これは約2:1〜約15:1の範囲である。HF中の水は触媒と反応してそれを失活させる。したがって、実質的に無水のHFが好ましい。「実質的に無水」とは、HFが約0.05重量%以下の水を含むことを意味する。一態様においては、HFは約0.02重量以下の水を含む。しかしながら、当業者であれば、触媒中の水の存在は用いる触媒の量を増加させることによって補償することができることを認識するであろう。
【0032】
[0032]反応の副反応の1つは、1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパン(HFC−245cb)の形成である。1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパンの形成を最小にすることが目的である。この目的は幾つかの理由のために重要である。第1に、1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパンが形成されると2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンの収率が減少する。更に、1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパンが形成されると、2,3,3,3−テトラフルオロプロペン(HFO−1234yf)を形成するプロセス全体の効率が妨げられ、1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパンを2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパン(HCFC−244bb)から分離して、本発明において規定する全体的なプロセスの次の工程において後者の化合物を脱ハロゲン化水素化して2,3,3,3−テトラフルオロプロペン(HFO−1234yf)を形成することができるようにするために別の工程を用いなければならない。而して、この反応において形成される1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパンの量を減少させる手段を見出すことが重要である。
【0033】
[0033]本発明者らは、反応を本明細書に記載するように行うと、1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパンの形成が最小になることを見出した。より具体的には、ヒドロフッ素化触媒の存在下での2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンとHFの液相反応中における1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパンの形成は、(a)HFを、ヒドロフッ素化触媒の存在下、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを形成するのに有効な条件下において、十分な量の2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンと反応させ、ここでヒドロフッ素化触媒はかかる反応を触媒するのに十分な量で存在させ、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを、約80%以上の転化率及び約20%以下の1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパン選択率の両方で形成し;そして、(b)ヒドロフッ素化触媒を連続的又は定期的に少量ずつ加えることによって、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを、約80%以上の転化率及び約20%以下の1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパン選択率の両方で形成することを維持する;ことによって反応を行うと最小になる。一態様においては、ヒドロフッ素化触媒の添加は本明細書に記載するように定期的であり、一方他の態様においてはヒドロフッ素化触媒の添加は連続的である。
【0034】
[0034]本方法において、一態様においては、形成される2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンの量を定期的に監視して、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンの収率、又は2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンの転化率の値を求める。一態様においては、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンの収率の値が約80%以下である場合には、本明細書に記載するように追加の触媒を反応に加える。収率及び転化率の値は、当該技術において公知の技術によって、例えば反応中に形成される試料の少量のアリコートを反応器から採取し、それをガスクロマトグラフ中に注入して、GC(FID)面積によって測定される2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパン、1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパン、及び2−クロロ
−3,3,3−トリフルオロプロペン、並びに形成される任意の他の生成物の量を比較することによって求める。
【0035】
[0035]他の態様においては、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンの収率又はそれへの転化率の値が約90%以下である場合に、追加の触媒を加える。他の態様においては、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンの収率又はそれへの転化率の値が約95%以下である場合に、追加の触媒を加える。
【0036】
[0036]追加の触媒を加える際には、一態様においては、これは反応が行われる反応器内の位置に加える。これは、一態様においては、反応器の反応物質を加える箇所と同じ側の上に加える。例えば、反応物質、即ちHF及び2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンを反応器の頂部に加える場合には、触媒は反応器の頂部に加え、即ちこれは反応器中に塔頂充填する。
【0037】
[0037]触媒を反応器に加える際には、本発明によれば、これは少しずつ連続的又は定期的に加える。一態様においては、下記において記載するように少しずつ加える際には、これは触媒の濃度が、反応器中の触媒及びHFの合計重量を基準として約10重量%以下増加するように加える。反応器中の触媒及びHFの量は反応器中に加えたHF及び触媒の量に基づくので、この量は容易に定められる。而して、例えば追加の触媒を反応器に加える場合に、加えた触媒の量が25グラムであり、加えたHFの量が75グラムである場合には、加えるべき触媒の量は、反応器中の触媒及びHFの合計重量を基準として10重量%未満である10グラム未満である。
【0038】
[0038]他の態様において、触媒を定期的に加える場合には、これは触媒及びHFの合計重量を基準として約5重量%以下の量で加える。更に他の態様において、触媒を定期的に加える場合には、これは触媒及びHFの合計重量を基準として3重量%以下の量で加える。しかしながら、触媒を定期的に加える場合には、反応器中の触媒及びHFの合計重量を基準として最小で約0.5重量%を加える。而して、一態様においては、加える触媒の量は、反応器に加えた触媒及びHFの合計重量を基準として10%、9.5%、9%、8.5%、8.0%、7.5%、7.0%、6.5%、6.0%、5.5%、5.0%、4.5%、4.0%、3.5%、3.0%、2.5%、2.0%、1.5%、1.0%、又は0.5%である。
【0039】
[0039]定期的に加えるヒドロフッ素化触媒の量は、各回、反応器中の触媒及びHFの合計重量に対して同じ割合だけ増加させることができ、又は増加させなくてよい。一態様においては、各回に加える触媒の増加は同じ割合であり、一方他の態様においては、定期的に加える増加は異なる割合である。これにかかわらず、加える触媒の量は本明細書に記載する範囲内である。各回に加える触媒の量は、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンへの2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンの転化の所望のレベルによって定まる。
【0040】
[0040]一態様においては、触媒はイオン性液体で存在する。液体イオン性ベースの触媒は当該技術において周知である。例えば、WO−2008/149011及びWO−01/81353を参照。イオン性液体ベースの触媒は、当該技術において公知の技術によって製造される。一態様においては、イオン性液体ベースの触媒は、例えば、アルミニウム、チタン、ニオブ、タンタル、スズ、アンチモン、ニッケル、亜鉛、又は鉄ベースの少なくとも1種類のハロゲン化又はオキシハロゲン化ルイス酸と、一般式Y(式中、Aは、ハロゲン化物アニオン、例えば臭化物、ヨウ化物、塩化物、又はフッ化物を示し、Yは、第4級アンモニウムカチオン、第4級ホスホニウムカチオン、又は第3級スルホニウムカチオンを示す)の塩との反応によって得られる。
【0041】
[0041]例えば、五塩化アンチモンのようなアンチモンベースのイオン性液体は、当該技術において公知の技術を用いてSbOClとテトラ−n−ブチルアンモニウムクロリドとの反応生成物から製造される。
【0042】
[0042]触媒は、バッチ式又は連続的に加えることができる。連続的に加える場合には、一態様においては、これは触媒及びHFの合計重量を基準として1時間あたり約0.03重量%以下の速度で加える。他の態様においては、これは、HF及び触媒の合計重量を基準として、1時間あたり約0.01重量%以下の速度で反応器に加え、他の態様においては、これは1時間あたり約0.005重量%以下の速度で加える。
【0043】
[0043]本発明にしたがって触媒を少しずつ加えると、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンへの2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンの転化率が著しく増加し、同時に1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパンへの選択率が所望のレベルに維持されることが見出された。特に、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンへの2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンの高い転化率、及び1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパンの低い選択率を維持しながら、反応を数十時間又は数百時間継続することができることが見出された。例えば、本発明による方法を用いると、約80%〜約98%、例えば80%、81%、82%、83%、84%、85%、86%、87%、88%、89%、90%、91%、92%、93%、94%、95%、96%、97%、98%の2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンへの2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンの転化率を達成することができる。更に、本方法を用いると、1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパンの選択率を約20%〜約0.5%の範囲、例えば20%、19%、18%、17%、16%、15%、14%、13%、12%、11%、10%、9%、8%、7%、6%、5%、4%、3%、2%、1%、0.5%、又はそれ以下にすることができる。反応は、どのレベルを所望であっても、任意のこれらのレベルを数十時間及び数百時間の間達成することができる。2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンの収率は、追加の触媒をいつ加えるかに応じてある程度まで制御される。例えば、1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパンへの選択率が5%未満である場合に触媒を加えると、収率が最大になる。而して、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンの所望の収率及びそれへの転化率は、触媒を反応にいつ加えるかに応じてある程度まで制御することができる。
【0044】
[0044]反応が一定時間進行した後に、触媒の失活が起こり始めて2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンへの2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンの転化率が減少し始める。触媒の失活が起こったら、本明細書に記載するように新しいヒドロフッ素化触媒を少しずつ反応器に加えて、HCFO−1233xf転化率を本明細書に記載するレベルに維持する。触媒の失活とは、運転時間の経過に伴ってHCFO−1233xf転化率が減少することを意味する。触媒は、一態様においては反応を停止させた後(HF及びHCFO−1233xfの両方の供給を停止した後)に加えることができる。他の態様においては、触媒は反応器圧力をある程度減少させた後に加える。幾つかの態様においては、触媒は反応器内のHF原材料の大部分を更に除去した後に加える。他の態様においては、触媒は反応を継続しながら加える。触媒は、その濃度が本明細書に記載するように少しずつ増加するように加える。
【0045】
[0045]触媒及びHFの合計重量を基準として合計で約98重量%の触媒を反応器に加えた時点で、それ以上の追加の触媒は反応器に加えない。2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンへの転化率のレベルが2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンへの所望の転化率より小さくなるまで、例えば一態様においては約80%以下、他の態様においては約90%以下、他の態様においては約95%以下になる時点まで反
応を進行させる。一態様においては、この時点において触媒を通して塩素流を流すことによって触媒を再生する。幾つかの態様においては、触媒は当該技術において公知の技術を用いて反応器から部分的又は完全に取り出し、本明細書に記載するように、新しい触媒を加え、及び/又は例えば当該技術において公知の技術を用いて残りの触媒を再生する。
【0046】
[0046]次に反応を再開する。2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンへの転化率が約80%以下、又は約90%以下、或いは約95%以下である場合には、本発明にしたがって追加の触媒を少しずつ加える。
【0047】
[0047]本発明者らはまた、ヒドロフッ素化を約50重量%以下の濃度で存在するフッ素化触媒を用いて開始すると、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンへの転化の値が増加し、1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパンの量が減少することも見出した。上記に規定したように、触媒の重量%は、反応器中の触媒及びHFの合計重量に対するフッ素化触媒の重量%である。他の態様においては、触媒は当初は約40重量%以下で存在させ、更に他の態様においては、これは約25重量%以下で存在させる。しかしながら、存在させる触媒は、始めに2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンへの2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンのヒドロフッ素化を行わせるためには最小で約2重量%の濃度である。而して、反応を開始するために、反応器中の触媒及びHFの合計重量を基準として約2重量%〜約50重量%の範囲の量のヒドロフッ素化触媒を存在させる。他の態様においては、反応器中の触媒及びHFの合計重量を基準として約10重量%〜約40重量%の範囲の量の触媒を当初に存在させ、更に他の態様においては、反応器中の触媒及びHFの合計重量を基準として約15重量%〜約25重量%の範囲の量の触媒を存在させる。例えば、一態様においては、所望の当初の触媒性能を達成するために、約50重量%以下、他の態様においては約40重量%以下、他の態様においては約25重量%以下のSb−触媒(当初の形態としてはSbCl)の濃度を用いてHCFO−1233xfのヒドロフッ素化を開始する。触媒濃度は、反応器中のSbCl触媒及びHFの合計重量中のSbCl触媒の重量%として規定される。所望の当初の触媒性能は、一態様においては約80%以上、又は他の態様においては約90%以上、及び更に他の態様においては約95%以上のHCFO−1233xf転化率として規定される。更に、これは、一態様においては約20%以下、他の態様においては約10%以下、及び更に他の態様においては約5%以下のHFC−245cb選択率として規定される。2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンへの転化率が所望の値より小さい場合には、次に本明細書に記載するように触媒濃度を少しずつ連続的又は定期的に増加させる。
【0048】
[0048]得られるHCFC−244bb、並びに未転化のHCFO−1233xf及びHFは、中和及び蒸留のような当該技術において公知の任意の分離又は精製法を用いて反応混合物から回収することができる。HCFC−244bbは、純粋な形態、或いは場合によっては用いたHCFC−244bb製造工程からの全流出物を有する部分的に純粋な形態又は不純形態で、2,3,3,3−テトラフルオロプロペン:HFO−1234yfの製造における中間体として用いることができる。本発明方法は、バッチ又は連続モードのいずれかで行うことができる。連続プロセスにおいては、反応器が所望の温度に達した後に、HCFO−1233xf及びHFを好ましくは反応器に同時に供給する。ヒドロフッ素化反応の温度及び圧力は、バッチ及び連続モードの運転のいずれに関しても実質的に同等に保持する。滞留時間又は接触時間は、約1秒間〜約2時間、好ましくは約5秒間〜約1時間、より好ましくは約10秒間〜約30分間で変化する。上記に記載の滞留時間内にヒドロフッ素化を行うために十分な量の触媒を存在させなければならない。連続モードの運転においては、HF、HCFO−1233xf、及びHCFC−244bbを、反応器から連続的に取り出す。
【0049】
[0049]本発明にしたがって触媒を加える際には、上記に記載の他のパラメーターは同等に維持すると理解される。より具体的には、温度、圧力、HCFO−1233xfに対するHFのモル比、及び上記で議論した任意の他のパラメーターは、本明細書に記載する範囲内である。本発明は、加える新しい触媒が反応器中に元々か又は従前の添加で存在する触媒と同じであるか又は異なることを意図する。しかしながら、一態様においては、加える触媒は元々存在しているものと同じであり、触媒のそれぞれの添加において、加える触媒はこの反応のために反応器内に元々存在しているものと同じである。
【0050】
[0050]上記に記載のように、本発明のフッ素化プロセスは、2,3,3,3−テトラフルオロプロペン(HFO−1234yf)などのテトラフルオロプロペンを製造するための中間プロセスである。
【0051】
【化1】
【0052】
[0051]反応の第1工程においては、クロロヒドロカーボンを、触媒の存在下において、
フッ素化条件下でHFと反応させてCFCCl=CH(HCFO−1233xf)を生成させる。それぞれ異なる出発材料を用いる3種類の別の反応が与えられる。1つの反応においては、1,1,2,3−テトラクロロプロペンが出発材料であり;第2の反応に
おいては、2,3,3,3−テトラクロロプロペンが出発材料であり;一方第3の反応においては、1,1,1,2,3−ペンタクロロプロパンが出発材料である。第3の別法においては、1,1,1,2,3−ペンタクロロプロパンをフッ素化するだけでなく、この反応物質をまた脱塩化水素化して2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペン(HCFO−1233xf)を生成させる。反応の第2工程は、触媒の存在下でHCFO−1233xfをフッ素化して2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパン(HCFC−244bb)を生成させることである。第3の反応工程は、HCFC−244bbを脱塩化水素化して2,3,3,3−テトラフルオロプロペン(HFO−1234yf)を生成させることである。
【0053】
[0052]本方法の第2工程においては、2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペン(1233xf)をヒドロフッ素化して2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパン(244bb)を形成し、これを次に脱塩化水素化して冷媒の2,3,3,3−テトラフルオロプロペン(HFO−1234yf)を形成する。本方法の効果の1つは、1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパン(245cb)の形成を最小にすることである。これは、245cbが形成されると2,3,3,3−テトラフルオロプロペン(HFO−1234yf)を形成するための脱塩化水素化反応を阻害して、それを行うのがより困難になるからである。しかしながら、反応を上記に記載の反応条件下に保持することによって、本方法は1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパン(245cb)及びCFCHClCHF(1,1,1,3−テトラフルオロ−2−クロロプロパン)の形成を最小にし、所望の生成物のCFCClFCHの形成を最大にする。
【0054】
[0053]而して、本方法の他の形態は、2,3,3,3−テトラフルオロプロペン(HFO−1234yf)などのテトラフルオロプロペンを製造することである。
[0054]一態様によれば、本発明は、式I:
CX=CCl−CHX (式I);
CX−CCl=CH (式II);
CX−CHCl−CHX (式III);
(式中、Xは、独立して、F、Cl、Br、及びIから選択され、但し少なくとも1つのXはフッ素ではない)
にしたがう出発材料を用いて2,3,3,3−テトラフルオロプロプ−1−エンを生成させる製造方法を包含する。幾つかの態様においては、式Iの1種類又は複数の化合物は少なくとも1つの塩素を含むか、Xの大部分は塩素であるか、或いは全てのXは塩素である。幾つかの態様においては、式Iの1種類又は複数の化合物として、1,1,2,3−テトラクロロプロペン(HCO−1230xa)が挙げられる
[0055]本方法は、一般に少なくとも3つの反応工程を含む。第1工程においては、式I(例えば1,1,2,3−テトラクロロプロペン)の出発組成物を、第1の蒸気相反応器(フッ素化反応器)内において無水HFと反応させて、2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペン(1233xf)及びHClの混合物を生成させる。幾つかの態様においては、反応は、蒸気相中、フッ素化酸化クロムなど(しかしながらこれに限定されない)の蒸気相触媒の存在下において行う。触媒は、触媒の状態に応じて使用前に無水フッ化水素:HF(フッ化水素ガス)で活性化する必要がある可能性がある(又は活性化する必要はない可能性がある)。
【0055】
[0056]蒸気相触媒としてフッ素化酸化クロムを開示するが、本発明はこの態様に限定されない。当該技術において公知の任意のフッ素化触媒を、このプロセスにおいて用いることができる。好適な触媒としては、クロム、アルミニウム、コバルト、マンガン、ニッケル、及び鉄の酸化物、水酸化物、ハロゲン化物、オキシハロゲン化物、これらの無機塩、及びこれらの混合物が挙げられるが、これらに限定されず、これらのいずれも場合によってはフッ素化されていてよい。一態様においては、触媒は例えばCrのような酸化
クロムである。共触媒を存在させることもできる。第1のフッ素化工程のために好適な触媒の組合せとしては、非排他的にCr、FeCl/C、Cr/Al、Cr/AlF、Cr/炭素、CoCl/Cr/Al、NiCl/Cr/Al、CoCl/AlF、NiCl/AlF、及びこれらの混合物が挙げられる。一態様においては、フッ素化反応のために酸化クロムを共触媒と共に存在させる。酸化クロム/酸化アルミニウム触媒は、米国特許5,155,082(その内容を参照として本明細書中に包含する)に記載されている。クロム触媒はまた、米国特許3,258,500(その内容も参照として本明細書中に包含する)にも記載されている。他の態様においては、結晶質酸化クロム又はアモルファス酸化クロムのようなクロム(III)酸化物を触媒として用い、一方本発明の他の形態においては、このフッ素化工程のための触媒はアモルファス酸化クロムである。第1のフッ素化工程において用いられる1つのかかる酸化クロム触媒は、米国特許3,258,500に記載されている活性化酸化クロムゲル触媒である。酸化クロム(Cr)は商業的に入手可能な材料であり、種々の粒径で購入することができる。
【0056】
[0057]本発明による第1のフッ素化反応は、大気圧下で行うことができる。他の態様においては、この反応は大気圧より低いか又は高い圧力下で行うことができる。例えば、このプロセスは、一態様においては約0psig〜約200psig、他の態様においては約2psig〜約150psig、他の態様においては約5psig〜約100psigの範囲の圧力で行うことができる。
【0057】
[0058]第1のフッ素化反応は、1233xfに転化させるのに有効な条件下で行う。一態様においては、このプロセスの温度は、約150℃〜約400℃、他の態様においては約180℃〜約400℃の範囲であってよい。他の態様においては、このプロセスの温度は約180℃〜約400℃の範囲であり、一方他の態様においては、プロセスの温度は約200℃〜約300℃で行う。
【0058】
[0059]式Iの化合物が1,1,2,3−テトラクロロプロペン(HCO−1230xa)である場合には、反応の工程1におけるHFと1230xaとのモル比は、約1:1〜約50:1、幾つかの態様においては約10:1〜約20:1の範囲である。HFとHCO−1230xaの間の反応は、約150℃〜約400℃(幾つかの態様においては約180℃〜約300℃)の温度、及び約0psig〜約200psig(幾つかの態様においては約5psig〜約100psig)の圧力で行う。1230xaと触媒との接触時間は、約1秒間〜約60秒間の範囲であってよいが、より長い時間又はより短い時間を用いることができる。
【0059】
[0060]このプロセスの第2の工程は、本明細書に記載するように2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペン(HCFO−1233xf)をヒドロフッ素化して2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパン(HCFC−244bb)を形成することである。通常は、生成する2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパン(HCFC−244bb)をまず生成物混合物から回収し、次に、次の工程のための原材料として用いる。
【0060】
[0061]本プロセスの第3の工程は、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパン(HCFC−244bb)の脱塩化水素化である。1234yf製造の第3工程においては、244bbを第2の蒸気相反応器(脱塩化水素化反応器)に供給し、脱塩化水素化して所望の生成物の2,3,3,3−テトラフルオロプロプ−1−エン(1234yf)を生成させる。この反応器は、HCFC−244bbを接触脱塩化水素化してHFO−1234yfを生成させることができる触媒を含む。
【0061】
[0062]触媒は、バルク若しくは担持形態の金属ハロゲン化物、ハロゲン化金属酸化物、中性(又は0の酸化状態)の金属又は金属合金、或いは活性炭であってよい。
[0063]金属ハロゲン化物又は金属酸化物触媒としては、一価、二価、及び三価金属のハロゲン化物、酸化物、並びにこれらの混合物/組み合わせを挙げることができるが、これらに限定されない。構成成分の金属としては、Cr3+、Fe3+、Mg2+、Ca2+、Ni2+、Zn2+、Pd2+、Li、Na、K、及びCsが挙げられるが、これらに限定されない。構成成分のハロゲンとしては、F、Cl、Br、及びIが挙げられるが、これらに限定されない。有用な一価又は二価金属のハロゲン化物の例としては、LiF、NaF、KF、CsF、MgF、CaF、LiCl、NaCl、KCl、及びCsClが挙げられるが、これらに限定されない。ハロゲン化処理としては、従来技術において公知の任意のもの、特にハロゲン化源としてHF、F、HCl、Cl、HBr、Br、HI、及びIを用いるものを挙げることができる。
【0062】
中性、即ち0価の金属、金属合金、及びこれらの混合物を用いる場合には、有用な金属としては、Pd、Pt、Rh、Fe、Co、Ni、Cu、Mo、Cr、Mn、及び合金又は混合物としての上記の組合せが挙げられるが、これらに限定されない。触媒は担持又は非担持であってよい。金属合金の有用な例としては、SS316、モネル400、インコネル825
、インコネル600、及びインコネル625が挙げられるが、これらに限定されない。一態様においては、脱塩化水素化は、上述の合金から形成される反応器内で固体触媒を添加せずに行うことができる。
【0063】
[0064]脱塩化水素化反応は有効な条件下で行う。本発明の幾つかの態様においては、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパン(HCFC−244bb)を約200℃〜約700℃の温度で行って、2,3,3,3−テトラフルオロプロペン(HFO−1234yf)を含む生成物混合物を生成させる。他の態様においては、脱塩化水素化反応に関する反応温度は約300〜550℃である。一態様においては、反応圧力は約0〜約150psigの範囲である。
【0064】
[0065]反応器流出流は苛性スクラバー又は蒸留カラムに供給し、HClの副生成物を除去して酸を含まない有機生成物を生成させることができ、これは場合によっては当該技術において公知の精製技術の1つ又は任意の組み合わせを用いて更なる精製にかけることができる。
【0065】
[0066]本発明の幾つかの態様においては、脱塩化水素化プロセスは、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパン(HCFC−244bb)を塩基水溶液と反応させて、2,3,3,3−テトラフルオロプロペン(HFO−1234yf)を含む生成物混合物を生成させることによって行う。本明細書において用いる塩基水溶液とは、主として7より高いpHを有する水性液体である液体であり;この液体は、溶液、分散液、エマルジョン、懸濁液などであってよい。本発明の幾つかの態様においては、塩基水溶液は8以上のpHを有する。本発明の幾つかの態様においては、塩基水溶液は10以上のpHを有する。本発明の幾つかの態様においては、塩基水溶液を形成するために無機塩基を用いる。かかる無機塩基は、アルカリ、アルカリ土類金属、及びこれらの混合物の水酸化物、酸化物、カーボネート、及びホスフェート塩からなる群から選択することができる。幾つかの態様においては、かかる無機塩基は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、又はこれらの混合物である。本発明の幾つかの態様においては、塩基水溶液は、式:NROH(式中、それぞれのRは、独立して、H、C〜C16アルキル基、アラルキル基、又は置換アルキル基であり、但し、全てのRが水素ではない)の第4級水酸化アンモニウムの水溶液である。本発明において有用なNROH化合物の例は、テトラ−n−ブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ−n−プロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルア
ンモニウムヒドロキシド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、及び水酸化コリンである。場合によっては、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパン(HCFC−244bb)を、有機溶媒の存在下で塩基水溶液と反応させる。本発明の幾つかの態様においては、有機溶媒は、ベンゼン及びその誘導体、アルコール、アルキル及びアリールハロゲン化物、アルキル及びアリールニトリル、アルキル、アルコキシ、及びアリールエーテル、エーテル、アミド、ケトン、スルホキシド、ホスフェートエステル、及びこれらの混合物からなる群から選択される。場合によっては、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパン(HCFC−244bb)を、相間移動触媒の存在下で塩基水溶液と反応させる。本明細書において用いる相間移動触媒とは、イオン性化合物の水相又は固相から有機相中への移動を促進する物質を意味する。相間移動触媒は、水溶性反応成分と水不溶性反応成分との間の反応を促進する。本発明の幾つかの態様においては、相間移動触媒は、クラウンエーテル、オニウム塩、クリプタンド、ポリアルキレングリコール、並びにこれらの混合物及び誘導体からなる群から選択される。相間移動触媒はイオン性又は中性であってよい。
【0066】
[0067]本発明の幾つかの態様の方法を適用する際に用いる反応器、充填材、蒸留カラム、及びこれらの関連する供給ライン、流出物ライン、及び関連するユニットは、腐食に対して抵抗性の材料から構成することができる。通常の構成材料としては、テフロン(登録商標)材料及びガラスが挙げられる。通常の構成材料としてはまた、特にオーステナイトタイプのステンレススチール、モネル(登録商標)ニッケル−銅合金、ハステロイ(登録商標)ニッケルベース合金、及びインコネル(登録商標)ニッケル−クロム合金のような周知の高ニッケル合金、並びに銅クラッド鋼も挙げられる。
【実施例】
【0067】
[0068]以下は本発明の実施例であり、限定と解釈すべきではない。
実施例1:
[0069]以下の2つの実験のために、内径2インチの触媒ストリッパー(触媒が反応器システムから離脱しないようにした充填カラム)を装備したテフロン(登録商標)ライニング液相反応器(テフロンは、E.I. du Pont de Nemours & Coの登録商標である)を用いた。反応器の寸法は、内径2.75インチ×長さ36インチである。
【0068】
[0070]520グラムのSbCl触媒及び5ポンドのHFを反応器に加えて、触媒の約19重量%の濃度を与えた。反応器を100psigの圧力において87〜90℃に加熱し、この時点でHF及び有機化合物の供給を開始した。有機化合物(2.0GC面積%のHFC−245cb、5.0GC面積%のHCFC−244bb、及び92.9GC面積%のHCFO−1233xf供給材料)は0.6ポンド/時で供給し、HFは0.4ポンド/時で供給した。反応をこれらの条件下において約10時間継続した。スクラバーの後の反応器流出物を、実験中に合計で9回サンプリングした。生成したHFC−245cbの量は、当初の約7.0GC面積%から最終的に4.9GC面積%へ減少し、未転化のHCFO−1233xfの量は、当初の6.5GC面積%から最終的に4.7GC面積%へ僅かに減少し、これは触媒の性能が運転時間の経過に伴って徐々に向上したことを示す。
【0069】
比較例1:
[0071]実施例に記載したものと同じ液相反応器を用いた。4175グラムのSbCl及び5ポンドのHFを反応器に加えて、触媒の約65重量%の濃度を与えた。有機化合物(98GC面積%のHCFO−1233xf供給材料)を0.408ポンド/時で供給し、HFを0.495ポンド/時で供給した。この実験のための反応器温度範囲は78〜91℃であり、圧力範囲は85psig〜115psigであった。反応を約136時間連続的に運転した。第1の実験と同様に、スクラバーの後の反応器流出流をGC分析のためにサンプリングした。結果は、運転2.5時間後において、HCFO−1233xf転化
率は97.7%であり、HFC−245cb及びHCFC−244bbへの選択率はそれぞれ40.2及び52.8%であったことを示す。
【0070】
[0072]要約すると、実施例1及び比較例1の結果は、当初の触媒濃度は当初のHFC−245cb選択率に対して大きな影響を与え、低い触媒濃度を用いることによって低い当初のHFC−245cb選択率を認めることができることを示す。
【0071】
実施例2:
[0073]実施例1に記載のものと同じ液相反応器を用いた。0.98kgのSbCl触媒を充填し、接触フッ素化工程中に7ポンドのHFを加えた。次に、85〜90℃、100psig、並びに0.5〜0.6ポンド/時の有機化合物及び0.3〜0.4ポンド/時のHFの平均供給速度(約4/1のHF/HCFO−1233xfのモル比)の条件下でHCFO−1233xfのヒドロフッ素化を開始した。運転37時間後において、0.19kgの新しいSbCl触媒を反応器中に塔頂充填して、触媒濃度を当初の約24%から約27%にした(約3%の増加である)。次に、反応を再開した。反応器流出物試料のGC分析によって、HCFO−1233xf転化率は、約36.6%(36時間目)から、0.19kgの新しいSbCl触媒の塔頂充填後に約94.8%(38時間目)へ増加し、一方で、HFC−245cb選択率は約0.04%から約1.32%へ僅かしか増加しなかったことが示される。運転228時間後において、0.06kgの新しいSbCl触媒を反応器中に塔頂充填して、触媒濃度を約27%の従前の値から約28%にした(約1%の増加である)。次に、反応を再開した。反応器流出物試料のGC分析は、HCFO−1233xf転化率は、約78.5%(229時間目)から、0.06kgの新しいSbCl触媒の塔頂充填後に94.5%(232時間目)へ増加し、一方で、HFC−245cb選択率は約0.08%から約0.16%へ僅かしか増加しなかったことを示す。
【0072】
比較例2:
[0074]実施例1に記載のものと同じ液相反応器を用いた。
[0075]0.86kgのSbCl触媒を充填し、接触フッ素化工程中に7ポンドのHFを加えた。次に、85〜90℃、100psig、並びに0.5〜0.6ポンド/時の有機化合物及び0.3〜0.4ポンド/時のHFの平均供給速度(約4/1のHF/HCFO−1233xfのモル比)の条件下でHCFO−1233xfのヒドロフッ素化を開始した。運転110時間後において、0.62kgの新しいSbCl触媒を反応器中に塔頂充填して、触媒濃度を当初の約21%から約35%にした(およそ14%の増加)。次に、反応を再開した。反応器流出物試料のGC分析によって、HCFO−1233xf転化率は、約71.4%(108時間目)から、0.62kgの新しいSbCl触媒の塔頂充填後に96.5%(111時間目)へ増加し、一方で、HFC−245cb選択率は0.1%から21.6%へ急速に増加したことが示される。
【0073】
[0076]要約すると、実施例2及び比較例2の結果は、小さい触媒増加速度を用いることによって、触媒を塔頂充填した際のHFC−245cb選択率の急速な増加を回避することができることを示す。
【0074】
実施例3:
[0077]以下の実験のために、内径2インチの触媒ストリッパー(触媒が反応器システムから離脱しないようにした充填カラム)を装備したテフロン(登録商標)ライニング液相反応器(テフロンは、E.I. du Pont de Nemours & Coの登録商標である)を用いた。反応器の寸法は、内径3.75インチ×長さ36インチであり、低RPMの撹拌機を装備している。反応器は、反応容器を取り囲むジャケットに水蒸気を加えることによって加熱した。
【0075】
[0078]まず675グラムのSbCl及び2725グラムの無水HFを反応器に充填して(20重量%SbCl)、ゆっくりと撹拌した。次に、反応器を約100psigの圧力において水蒸気で約90℃に加熱した。約0.4ポンド/時の速度での無水HFの連続供給を開始し、次に約0.9ポンド/時の速度でのHCFO−1233xfの連続供給を開始した。反応生成物及び若干の未反応のHFを触媒ストリッパーカラムの頂部から連続的に排出して、ここで定期的にGCによって分析した。245cb選択率は、当初は23%であり、128時間で<5%、180時間で<2%に低下した。1233xf転化率は、当初は約97%であり、初めの350時間の間は比較的安定(平均で96.6%)に維持され、この時点において徐々にではあるが顕著に減少し始め、400時間後において減少速度が更に加速した。運転の初めの468時間の部分の長さに関する1233xfの平均転化率は95.97%であり、一方、245cb及び244bbの平均選択率はそれぞれ3.80%及び96.14%であった。
【0076】
[0079]469時間(この時点で1233xfの転化率が約92%に減少した)の後に、反応器から原材料を排出することなく、109グラムのSbCl塔頂充填物を反応器に加えた。再開すると、1233xf転化率は当初は96.4%であり、245cb選択率は2.0%へ急上昇し、それぞれ運転のこの部分の長さにわたって徐々に減少した。最初の触媒塔頂充填の後、1233xfの転化率が92%より低い値に減少する前まで、反応器は230時間運転された。この230時間に関して、1233xf転化率は平均で95.1%であり、245cb及び244bbの選択率は平均でそれぞれ0.62%及び99.36%であった。元の反応温度及び圧力と一緒に、約0.4ポンド/時の速度での無水HF、及び約0.9ポンド/時の速度でのHCFO−1233xfの連続供給を維持した。この時点において、この実験に関する総運転時間は699時間であった。
【0077】
[0080]699時間(この時点で1233xfの転化率が約92%に減少した)の後に、反応器から原材料を排出することなく、101グラムのSbCl塔頂充填物を反応器に加えた。触媒の塔頂充填の後は、まず1232xfを含まない1233xf供給材料を供給材料として用いた。再開すると、1233xf転化率は当初は96.5%であり、245cb選択率は1.5%へ急上昇し、それぞれ運転のこの部分の長さにわたって徐々に減少した。2番目の触媒塔頂充填の後、1233xfの転化率が92%より低い値に減少する前まで、反応器は162時間運転された。この162時間に関して、1233xf転化率は平均で95.1%であり、245cb及び244bbの選択率は平均でそれぞれ0.65%及び99.32%であった。元の反応温度及び圧力と一緒に、約0.4ポンド/時の速度での無水HF、及び約0.9ポンド/時の速度でのHCFO−1233xfの連続供給を維持した。この時点において、この実験に関する総運転時間は861時間であった。
【0078】
[0081]861時間(この時点で1233xfの転化率が約92%に減少した)の後に、反応器から原材料を排出することなく、109グラムのSbCl塔頂充填物を反応器に加えた。再開すると、1233xf転化率は当初は96.4%であり、245cb選択率は1.3%へ急上昇し、それぞれ運転のこの部分の長さにわたって徐々に減少した。3番目の触媒塔頂充填の後、1233xfの転化率が92%より低い値に減少する前まで、反応器は166時間運転された。この166時間に関して、1233xf転化率は平均で95.0%であり、245cb及び244bbの選択率は平均でそれぞれ0.55%及び99.42%であった。元の反応温度及び圧力と一緒に、約0.4ポンド/時の速度での無水HF、及び約0.9ポンド/時の速度でのHCFO−1233xfの連続供給を維持した。この時点において、この実験に関する総運転時間は1027時間であった。
【0079】
[0082]1027時間(この時点で1233xfの転化率が約92%に減少した)の後に
、反応器から原材料を排出することなく、124グラムのSbCl塔頂充填物を反応器に加えた。再開すると、1233xf転化率は当初は96.4%であり、245cb選択率は2.1%へ急上昇し、それぞれ運転のこの部分の長さにわたって徐々に減少した。4番目の触媒塔頂充填の後、1233xfの転化率が92%より低い値に減少する前まで、反応器は226時間運転された。この230時間に関して、1233xf転化率は平均で95.15%であり、245cb及び244bbの選択率は平均でそれぞれ0.81%及び99.16%であった。元の反応温度及び圧力と一緒に、約0.4ポンド/時の速度での無水HF、及び約0.9ポンド/時の速度でのHCFO−1233xfの連続供給を維持した。この実験に関する総運転時間は1253時間であった。1233xf転化率、主要生成物の245cb及び244bbに関する選択率データ、並びに実験中に起こった事象を、図1において見ることができる。
【0080】
実施例4:
実施例3に関して用いたものと同じ反応器を第2の実験のために用いた。まず715グラムのSbCl及び2850グラムの無水HFを反応器に充填して(20重量%SbCl)、ゆっくりと撹拌した。次に、反応器を約100psigの圧力において水蒸気で約90℃に加熱した。約0.5ポンド/時の速度での無水HFの連続供給を開始し、次に約1.1ポンド/時の速度でのHCFO−1233xfの連続供給を開始した。反応生成物及び若干の未反応のHFを触媒ストリッパーカラムの頂部から連続的に排出して、ここで定期的にGCによって分析した。245cb選択率は、当初は21%であり、140時間で<5%に低下し、205時間で<2%に低下した。反対に、245cb選択率が減少するにつれて、244bb選択率は約78.5%から>98%へ増加した。1233xf転化率は、当初は約97.3%であり、初めの205時間の間は比較的安定(平均で97%)に維持された。この時点において、新しいSbCl触媒の連続共供給を約0.6グラム/時の速度で開始して、反応器の蒸気空間中に供給した。この触媒添加速度を用いると、実験を継続した次の500時間の間に、245cbの選択率は<2%で維持され、一方、1233xf転化率は約97%で一定に維持された。
【0081】
[0083]多くの形態及び態様を上記に記載したが、これらは単なる例示であり、限定ではない。本明細書を読んだ後は、当業者であれば、発明の範囲から逸脱することなく他の形態及び態様が可能であることを認識する。
本発明は以下の実施態様を含む。
(1)(a)HFを、ヒドロフッ素化触媒の存在下、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを形成するのに有効な条件下において、十分な量の2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンと反応させ、ここでヒドロフッ素化触媒はかかる反応を触媒するのに十分な量で存在させ、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを、80%以上の転化率及び20%以下の1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパン選択率の両方で形成し;そして
(b)ヒドロフッ素化触媒を連続的又は定期的に反応器に少しずつ加えることによって、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを、80%以上の転化率及び20%以下の1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパン選択率の両方で形成することを維持する;
ことを含む、反応器内、ヒドロフッ素化触媒の存在下での2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンとHFの液相反応中における1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパンの形成を最小にする方法。
(2)ヒドロフッ素化触媒を、反応器中に存在するヒドロフッ素化触媒及びHFの合計重量を基準として0.5重量%〜10重量%の範囲の量で定期的に加える、(1)に記載の方法。
(3)工程(a)における当初の触媒濃度が、反応器中の触媒及びHFの合計重量を基準として2重量%〜50重量%の範囲である、(1)に記載の方法。
(4)工程(a)における当初の触媒濃度が、反応器中の触媒及びHFの合計重量を基準として10重量%〜40重量%の範囲である、(1)に記載の方法。
(5)工程(a)における当初の触媒濃度が、反応器中の触媒及びHFの合計重量を基準として15重量%〜25重量%の範囲である、(1)に記載の方法。
(6)触媒を、反応器中のHF及び触媒の合計重量を基準として1重量%〜5重量%以下の範囲の量で定期的に加える、(2)に記載の方法。
(7)触媒を、反応器中のHF及び触媒の合計重量を基準として2重量%〜3重量%の範囲の量で定期的に加える、(2)に記載の方法。
(8)ヒドロフッ素化触媒が、ハロゲン化アンチモン、ハロゲン化スズ、ハロゲン化タンタル、ハロゲン化チタン、ハロゲン化ニオブ、及びハロゲン化モリブデン、ハロゲン化鉄、フッ素化ハロゲン化クロム、フッ素化酸化クロム、又はこれらの組み合わせである、(1)に記載の方法。
(9)ヒドロフッ素化触媒が、SbCl、SbCl、SbF、SnCl、TaCl、TiCl、NbCl、MoCl、FeCl、SbClのフッ素化種、SbClのフッ素化種、SnClのフッ素化種、TaClのフッ素化種、TiClのフッ素化種、NbClのフッ素化種、MoClのフッ素化種、FeClのフッ素化種、又はこれらの組み合わせである、(8)に記載の方法。
(10)反応を30℃〜200℃の範囲の温度で行う、(1)に記載の方法。
(11)反応を50℃〜150℃の範囲の温度で行う、(1)に記載の方法。
(12)反応を75℃〜125℃の範囲の温度で行う、(1)に記載の方法。
(13)反応を5psig〜200psigの範囲の圧力で行う、(1)に記載の方法。
(14)反応を30psig〜175psigの範囲の圧力で行う、(1)に記載の方法。
(15)反応を60psig〜150psigの範囲の圧力で行う、(1)に記載の方法。
(16)HFと2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンとのモル比が1:1〜50:1の範囲である、(1)に記載の方法。
(17)HFと2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンとのモル比が1:1〜30:1の範囲である、(1)に記載の方法。
(18)HFと2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンとのモル比が2:1〜15:1の範囲である、(1)に記載の方法。
(19)(a)HFを、五塩化アンチモンから選択されるヒドロフッ素化触媒の存在下、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを形成するのに有効な条件下において、十分な量の2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンと反応させ、ここでヒドロフッ素化触媒はかかる反応を触媒するのに十分な量で存在させ、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを、80%以上の転化率及び20%以下の1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパン選択率の両方で形成し;そして
(b)ヒドロフッ素化触媒を定期的又は連続的に少しずつ加えることによって、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを、80%以上の転化率及び20%以下の1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパン選択率の両方で形成することを維持する;
ことを含む、反応器内で行うヒドロフッ素化触媒の存在下での2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンとHFの液相反応中における1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパンの形成を最小にする方法。
(20)ヒドロフッ素化触媒を、反応器中の触媒及びHFの合計重量を基準として0.5重量%〜10重量%の範囲の量で定期的に加える、(19)に記載の方法。
(21)工程(a)における当初の触媒濃度が、反応器中の触媒及びHFの合計重量を基準として2重量%〜50重量%の範囲である、(19)に記載の方法。
(22)工程(a)における当初の触媒濃度が、反応器中の触媒及びHFの合計重量を基準として10重量%〜40重量%の範囲である、(19)に記載の方法。
(23)工程(a)における当初の触媒濃度が、反応器中の触媒及びHFの合計重量を基準として15重量%〜25重量%の範囲である、(19)に記載の方法。
(24)触媒を、反応器中のHF及び触媒の合計重量を基準として1重量%〜5重量%の範囲の量で定期的に加える、(19)に記載の方法。
(25)触媒を、反応器中のHF及び触媒の合計重量を基準として2重量%〜3重量%の範囲の量で定期的に加える、(19)に記載の方法。
(26)反応を30℃〜200℃の範囲の温度で行う、(19)に記載の方法。
(27)反応を50℃〜150℃の範囲の温度で行う、(19)に記載の方法。
(28)反応を75℃〜125℃の範囲の温度で行う、(19)に記載の方法。
(29)反応を5psig〜200psigの範囲の圧力で行う、(19)に記載の方法。
(30)反応を30psig〜175psigの範囲の圧力で行う、(19)に記載の方法。
(31)反応を60psig〜150psigの範囲の圧力で行う、(19)に記載の方法。
(32)HFと2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンとのモル比が1:1〜50:1の範囲である、(19)に記載の方法。
(33)HFと2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンとのモル比が1:1〜30:1の範囲である、(19)に記載の方法。
(34)HFと2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンとのモル比が2:1〜15:1の範囲である、(19)に記載の方法。
(35)(a)式I、II、及び式III:
CX=CCl−CHX (式I);
CX−CCl=CH (式II);
CX−CHCl−CHX (式III);
(式中、Xは、独立して、F、Cl、Br、及びIから選択され、但し少なくとも1つのXはフッ素ではない)
から選択される構造を有する少なくとも1種類の出発化合物を含む出発組成物を与え;
(b)出発組成物を第1のヒドロフッ素化剤と接触させて、2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンを含む第1の中間体組成物を生成させ;
(c)HFを、第2のヒドロフッ素化触媒の存在下、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを形成するのに有効な条件下において十分な量の2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンと反応させ、ここで第2のヒドロフッ素化触媒はかかる反応を触媒するのに十分な量で存在させ、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを、少なくとも80%の転化率及び最大で20%の1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパン選択率の両方で形成し;
(d)第2のヒドロフッ素化触媒を定期的又は連続的に反応器に少しずつ加えることによって、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを、80%以上の転化率及び20%以下の1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパン選択率の両方で形成することを維持し;そして
(e)2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを脱塩化水素化して、2,3,3,3−テトラフルオロプロプ−1−エンを含む反応生成物を生成させる;
ことを含む、2,3,3,3−テトラフルオロプロプ−1−エンの製造方法。
(36)第2のヒドロフッ素化触媒を、反応器中に存在するヒドロフッ素化触媒及びHFの合計重量を基準として0.5重量%〜10重量%の範囲の量で定期的に加える、(35)に記載の方法。
(37)工程(c)における第2のヒドロフッ素化触媒の当初の濃度が、反応器中の触媒及びHFの合計重量を基準として2重量%〜50重量%の範囲である、(35)に記載の方法。
(38)工程(c)における第2のヒドロフッ素化触媒の当初の濃度が、反応器中の触媒及びHFの合計重量を基準として10重量%〜40重量%の範囲である、(35)に記載の方法。
(39)工程(c)における第2のヒドロフッ素化触媒の当初の濃度が、反応器中の触媒及びHFの合計重量を基準として15重量%〜25重量%の範囲である、(35)に記載の方法。
(40)第2のヒドロフッ素化触媒を、反応器中のHF及び触媒の合計重量を基準として1重量%〜5重量%以下の範囲の量で定期的に加える、(36)に記載の方法。
(41)第2のヒドロフッ素化触媒を、反応器中のHF及び触媒の合計重量を基準として2重量%〜3重量%以下の範囲の量で定期的に加える、(40)に記載の方法。
(42)ヒドロフッ素化触媒を、触媒及びHFの合計重量を基準として1時間あたり0.03重量%以下の速度で連続的に加える、(1)に記載の方法。
(43)ヒドロフッ素化触媒を、触媒及びHFの合計重量を基準として1時間あたり0.01重量%以下の速度で加える、(42)に記載の方法。
(44)ヒドロフッ素化触媒を、触媒及びHFの合計重量を基準として1時間あたり0.005重量%以下の速度で加える、(43)に記載の方法。
(45)ヒドロフッ素化触媒を、触媒及びHFの合計重量を基準として1時間あたり0.03重量%以下の速度で加える、(19)に記載の方法。
(46)ヒドロフッ素化触媒を、触媒及びHFの合計重量を基準として1時間あたり0.01重量%以下の速度で加える、(45)に記載の方法。
(47)ヒドロフッ素化触媒を、触媒及びHFの合計重量を基準として1時間あたり0.005重量%以下の速度で加える、(46)に記載の方法。
(48)第2のヒドロフッ素化触媒を、触媒及びHFの合計重量を基準として1時間あたり0.03重量%以下の速度で加える、(35)に記載の方法。
(49)第2のヒドロフッ素化触媒を、触媒及びHFの合計重量を基準として1時間あたり0.01重量%以下の速度で加える、(48)に記載の方法。
(50)第2のヒドロフッ素化触媒を、触媒及びHFの合計重量を基準として1時間あたり0.005重量%以下の速度で加える、(49)に記載の方法。
本発明は以下の他の実施態様を含む。
(1)(a)HFを、ヒドロフッ素化触媒の存在下、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを形成するのに有効な条件下において、十分な量の2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンと反応させ、ここでヒドロフッ素化触媒はかかる反応を触媒するのに十分な量で存在させ、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを、80%以上の転化率及び20%以下の1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパン選択率の両方で形成し;そして
(b)ヒドロフッ素化触媒を連続的又は定期的に反応器に少しずつ加えることによって、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを、80%以上の転化率及び20%以下の1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパン選択率の両方で形成することを維持する;
ことを含む、反応器内、ヒドロフッ素化触媒の存在下での2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンとHFの液相反応中における1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパンの形成を最小にする方法であって、
ヒドロフッ素化触媒を、反応器中に存在するヒドロフッ素化触媒及びHFの合計重量を基準として0.5重量%〜10重量%の範囲の量で定期的に加える方法。
(2)工程(a)における当初の触媒濃度が、反応器中の触媒及びHFの合計重量を基準として2重量%〜50重量%の範囲である、(1)に記載の方法。
(3)工程(a)における当初の触媒濃度が、反応器中の触媒及びHFの合計重量を基準として10重量%〜40重量%の範囲である、(1)に記載の方法。
(4)ヒドロフッ素化触媒が、ハロゲン化アンチモン、ハロゲン化スズ、ハロゲン化タンタル、ハロゲン化チタン、ハロゲン化ニオブ、及びハロゲン化モリブデン、ハロゲン化鉄、フッ素化ハロゲン化クロム、フッ素化酸化クロム、又はこれらの組み合わせである、(1)に記載の方法。
(5)ヒドロフッ素化触媒が、SbCl、SbCl、SbF、SnCl、TaCl、TiCl、NbCl、MoCl、FeCl、SbClのフッ素化種、SbClのフッ素化種、SnClのフッ素化種、TaClのフッ素化種、TiClのフッ素化種、NbClのフッ素化種、MoClのフッ素化種、FeClのフッ素化種、又はこれらの組み合わせである、(1)に記載の方法。
(6)ヒドロフッ素化触媒が五塩化アンチモンである、(1)に記載の方法。
(7)反応を30℃〜200℃の範囲の温度で行う、(1)に記載の方法。
(8)HFと2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンとのモル比が1:1〜30:1の範囲である、(1)に記載の方法。
(9)(a)式I、II、及び式III:
CX=CCl−CHX (式I);
CX−CCl=CH (式II);
CX−CHCl−CHX (式III);
(式中、Xは、独立して、F、Cl、Br、及びIから選択され、但し少なくとも1つのXはフッ素ではない)
から選択される構造を有する少なくとも1種類の出発化合物を含む出発組成物を与え;
(b)出発組成物を第1のヒドロフッ素化剤と接触させて、2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンを含む第1の中間体組成物を生成させ;
(c)HFを、第2のヒドロフッ素化触媒の存在下、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを形成するのに有効な条件下において十分な量の2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンと反応させ、ここで第2のヒドロフッ素化触媒はかかる反応を触媒するのに十分な量で存在させ、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを、少なくとも80%の転化率及び最大で20%の1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパン選択率の両方で形成し;
(d)第2のヒドロフッ素化触媒を定期的又は連続的に反応器に少しずつ加えることによって、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを、80%以上の転化率及び20%以下の1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロパン選択率の両方で形成することを維持し;そして
(e)2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを脱塩化水素化して、2,3,3,3−テトラフルオロプロプ−1−エンを含む反応生成物を生成させる;
ことを含む、2,3,3,3−テトラフルオロプロプ−1−エンの製造方法であって、
第2のヒドロフッ素化触媒を、反応器中に存在するヒドロフッ素化触媒及びHFの合計重量を基準として0.5重量%〜10重量%の範囲の量で定期的に加える方法。
(10)ヒドロフッ素化触媒を、触媒及びHFの合計重量を基準として1時間あたり0.03重量%以下の速度で連続的に加える、(1)に記載の方法。
図1