(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】6870341
(24)【登録日】2021年4月19日
(45)【発行日】2021年5月12日
(54)【発明の名称】耐ガンマ線反射膜
(51)【国際特許分類】
G02B 5/08 20060101AFI20210426BHJP
B32B 7/025 20190101ALI20210426BHJP
B32B 7/023 20190101ALI20210426BHJP
B32B 27/30 20060101ALI20210426BHJP
B32B 15/20 20060101ALI20210426BHJP
B32B 15/01 20060101ALI20210426BHJP
A61B 1/00 20060101ALN20210426BHJP
【FI】
G02B5/08 A
B32B7/025
B32B7/023
B32B27/30 D
B32B15/20
B32B15/01 E
!A61B1/00 717
【請求項の数】1
【全頁数】6
(21)【出願番号】特願2017-9466(P2017-9466)
(22)【出願日】2017年1月23日
(65)【公開番号】特開2018-120017(P2018-120017A)
(43)【公開日】2018年8月2日
【審査請求日】2019年12月11日
(73)【特許権者】
【識別番号】000003768
【氏名又は名称】東洋製罐グループホールディングス株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110002354
【氏名又は名称】特許業務法人平和国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】丸山 直文
(72)【発明者】
【氏名】三須 直樹
(72)【発明者】
【氏名】平川 叙夫
(72)【発明者】
【氏名】笹尾 仁美
(72)【発明者】
【氏名】竹内 務
【審査官】
菅原 奈津子
(56)【参考文献】
【文献】
特開2002−214418(JP,A)
【文献】
特開2003−121623(JP,A)
【文献】
特開2001−264523(JP,A)
【文献】
特開2011−228104(JP,A)
【文献】
特開2016−095456(JP,A)
【文献】
特開2014−071321(JP,A)
【文献】
特開昭57−013406(JP,A)
【文献】
実開平01−105901(JP,U)
【文献】
特開2007−258647(JP,A)
【文献】
特開2016−214376(JP,A)
【文献】
韓国登録特許第10−1375238(KR,B1)
【文献】
特開2010−204380(JP,A)
【文献】
特開2010−14466(JP,A)
【文献】
特開2002−341155(JP,A)
【文献】
特開2000−19019(JP,A)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
G02B 5/00− 5/136
B32B 1/00−43/00
A61B 1/00− 1/32
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
基材の鏡面研磨した表面上に形成された反射膜を備え、
前記反射膜は、
金属反射層と、
前記金属反射層の上側に形成された0.799ボルト以上の標準電極電位を有する金属又は合金で形成された保護層と
を有し、
前記基材は、光伝播部材であり、
前記反射膜は、前記光伝搬部材内を伝播してきた光を反射し、
前記基材の少なくとも一部が、フッ素樹脂製のチューブで被覆され、
前記金属反射層は、アルミニウムの蒸着膜であり、
前記保護層は、金又は銀の蒸着膜である
ことを特徴とする、耐ガンマ線反射膜。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、耐ガンマ線反射膜に関し、より詳細には、石英ガラス基材のような基材の一部表面に形成され、ガンマ線照射に対して耐性を有する耐ガンマ線反射膜に関する。
【背景技術】
【0002】
医学分野では、標準的な滅菌方法として、ガンマ線照射による医療機器の滅菌処理が行われている。ガンマ線照射により滅菌可能な光ファイバの一例が、特許文献1に記載されている。この特許文献1に記載の光ファイバには、水素含有光ファイバから外部への水素の拡散を抑制するために金属のコーティングが施されている。また、光ファイバの端面には、酸化アルミニウムなどの金属酸化物のコーティングが施されている。
【0003】
また、ガンマ線滅菌される医療機器の一例として、光干渉断層撮影法(OCT,Optical Coherence Tomography)に使用される光プローブが挙げられる。OCTでは、患者の体内に挿入した光プローブの先端から側方にコヒーレント光を出射するとともに反射光を受光し、器官内の断層画像を生成する。
なお、光プローブの多くは、器官が傷つくことを防止するため、耐薬品性が高く摩擦の少ないフッ素樹脂製のチューブで被覆されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開平11−343144号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
金属反射膜を蒸着した光ファイバ等の医療機器にガンマ線を照射すると、金属反射膜が変質し、剥離したように見える現象(以下、「剥離現象」と称する。)が発生することがある。この剥離現象について本願に係る発明者は種々の実験及び検討を重ねた結果、この剥離現象が、医療機器を被覆するフッ素樹脂製のチューブ等が存在する場合にのみ発生することを見出した。また、フッ素樹脂にガンマ線を照射したところ、フッ化物が検出された。さらに、金属反射膜が変質した部分の付着物をラマン分光測定したところ、フッ化アルミニウムのラマンスペクトルと同様に158cm
−1にピークを有するスペクトルが観測された。これらの結果から、剥離現象は、ガンマ線照射によりフッ素樹脂が僅かに分解され、発生したフッ素ラジカルが金属反射膜と反応したことによって発生したものであると考えられる。
【0006】
本発明は、かかる事情に鑑みてなされたものであり、ガンマ線照射に対して耐性を有する耐ガンマ線反射膜の提供を目的としている。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明に係る耐ガンマ線反射膜は、基材の一部表面上に形成された反射膜を備え、前記反射膜は、金属反射層と、前記金属反射層の上側に形成された0.799ボルト以上の標準電極電位を有する金属又は合金で形成された保護層とを有
し、前記基材は、光伝播部材であり、前記反射膜は、前記光伝搬部材内を伝播してきた光を反射し、前記基材の少なくとも一部が、フッ素樹脂製のチューブで被覆され、前記金属反射層は、アルミニウムの蒸着膜であり、前記保護層は、金又は銀の蒸着膜であることを特徴としている。
【発明の効果】
【0008】
本発明の耐ガンマ線反射膜は、金属反射層の上側に、0.799ボルト以上の標準電極電位を有するイオン化傾向の低い金属又は合金で形成された保護層を有する。このようにイオン化傾向の小さい金属で保護層を形成することにより、金属反射層と、ガンマ線照射により発生したフッ素ラジカルとの反応を抑制し、ガンマ線の照射による反射膜のダメージを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【0009】
【
図1】本発明の実施形態に係る耐ガンマ線反射膜の断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【0010】
以下、本発明の好ましい実施形態について、図面を参照しつつ説明する。
【0011】
図1に、本発明に係る耐ガンマ線反射膜の断面模式図を示す。同図に示すように、本実施形態の耐ガンマ線反射膜は、石英ガラス基材1の上面に形成された反射膜2を備えている。
【0012】
さらに、石英ガラス基材1は、不図示のフッ素樹脂製のチューブで被覆されている。フッ素樹脂としては、例えば、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、四フッ化エチレン・六フッ化プロピレン共重合体(FEP)、及び、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)が挙げられるが、これらに限定されない。
【0013】
石英ガラス基材1は、光ファイバや屈折率分布(Gradient Index,GRIN)レンズのような光伝播部材で構成されるのがよい。また、耐ガンマ線反射膜2は、石英ガラス基材1の鏡面研磨した表面に形成されるのがよく、耐ガンマ線反射膜2は、石英ガラス基材1の内部を伝播してきた光を反射してもよいし、外部からの光を反射してもよい。
【0014】
反射膜2は、石英ガラス基材1の上面に、アンダーコート層21、金属反射層22、中間コート層23、保護層24、及びトップコート層25を順次に蒸着することにより形成された積層構造を有している。
【0015】
アンダーコート層21は、例えば、厚さ100nmのAl
2O
3の蒸着膜で形成され、金属反射層22と石英ガラス基材1との接着性を高める効果を有することが好ましい。
【0016】
金属反射層22は、例えば、厚さ100nmのアルミニウム(Al)の蒸着膜で形成される。なお、金属反射層22は、アルミニウムに限定されず、例えば、銀(Ag)の蒸着膜を形成してもよい。
【0017】
また、中間コート層23は、例えば、厚さ100nmのSiO
2の蒸着膜で形成され、金属反射層22と保護層24との接着性を高める効果を有することが好ましい。
【0018】
さらに、トップコート層25は、例えば、厚さ50nmのTi
3O
5やMgF
2の蒸着膜で形成され、反射膜2の反射量増加の効果を有することが好ましい。
【0019】
ここで、表1に、保護層24として、種々の材料で厚さ150nmの蒸着膜を形成した場合のガンマ線耐性の試験結果を示す。ガンマ線耐性の試験にあたっては、50kGyのガンマ線を照射し、さらに、気温55℃かつ湿度95%のチャンバ内での6時間の高温高湿試験を経た後、反射膜2を観察して耐性を評価した。
【0021】
上記の表1に示すように、保護層24を、1.5Vの標準電極電位を有する金(Au)、又は0.799Vの標準電極電位を有する銀(Ag)の蒸着膜として形成した場合には、試験後も反射膜2がきれいに残っていた。
一方、保護層24を設けなかった場合、及び、保護層24を、0.345Vの標準電極電位を有する銅(Cu)、又は−0.146Vの標準電極電位を有する錫(Sn)の蒸着膜として形成した場合には、試験後に反射膜2の剥離現象が発生した。
【0022】
上記の試験結果から、0.799ボルト以上の標準電極電位を有するイオン化傾向の低い金属で保護層24を形成した場合に、剥離現象の発生が回避されている。したがって、剥離現象の発生を回避するためには、耐ガンマ線反射膜の保護層24は、0.799ボルト以上の標準電極電位を有する金属で形成することが望ましい。
なお、保護層24は、0.799ボルト以上の標準電極電位を有する、金、銀、パラジウム又は白金をベースとした合金で形成してもよい。
【0023】
以上、本発明の実施形態を説明したが、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲で種々の変更実施が可能である。例えば、上述した実施形態では、石英ガラス基材上に耐ガンマ線反射膜を形成した例を説明したが、本発明では、基材の材料はこれに限定されず、種々の材料を採用することができる。また、基材の形態も限定されない。特に、反射膜を形成する光伝播部材の表面は平面に限定されず、曲面であってもよい。
【産業上の利用可能性】
【0024】
本発明は、光干渉断層撮影法(Optical Coherence Tomography, OCT)用の光プローブをはじめとする、ガンマ線照射による滅菌処理が必要な種々の医療機器に適用して好適である。また、本発明は、ガンマ線により被曝することが予想される原子炉周辺で測定等に使用される機器や、宇宙空間において使用される機器にも適用して好適である。
【符号の説明】
【0025】
1 石英ガラス基材
2 反射膜
21 アンダーコート層
22 金属反射層
23 中間コート層
24 保護層
25 トップコート層