特許 6870448 栽培施設に用いる細霧冷房システムおよび細霧冷房方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6870448

(24)【登録日】2021年4月19日

(45)【発行日】2021年5月12日

(54)【発明の名称】栽培施設に用いる細霧冷房システムおよび細霧冷房方法

(51)【国際特許分類】

   A01G 9/24 20060101AFI20210426BHJP

   A01G 7/00 20060101ALI20210426BHJP

【ＦＩ】

   A01G9/24 R

   A01G7/00 601Z

【請求項の数】11

【全頁数】12

(21)【出願番号】特願2017-79685(P2017-79685)

(22)【出願日】2017年4月13日

(65)【公開番号】特開2018-174804(P2018-174804A)

(43)【公開日】2018年11月15日

【審査請求日】2020年3月2日

(73)【特許権者】

【識別番号】000000099

【氏名又は名称】株式会社ＩＨＩ

(74)【代理人】

【識別番号】100083806

【弁理士】

【氏名又は名称】三好 秀和

(74)【代理人】

【識別番号】100101247

【弁理士】

【氏名又は名称】高橋 俊一

(74)【代理人】

【識別番号】100095500

【弁理士】

【氏名又は名称】伊藤 正和

(74)【代理人】

【識別番号】100098327

【弁理士】

【氏名又は名称】高松 俊雄

(72)【発明者】

【氏名】村山 浩

(72)【発明者】

【氏名】永田 宏一郎

(72)【発明者】

【氏名】徳江 和典

【審査官】 竹中 靖典

(56)【参考文献】

【文献】 特開２００３−２８９７２８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 実開昭５８−１１３３４４（ＪＰ，Ｕ）

【文献】 特開２０１７−０１２０５６（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第２０１６／１９９３５７（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 特開２０１６−１６９９０８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１５−１７３６５３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１４−１９８０１２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００５−２１４８０６（ＪＰ，Ａ）

【文献】 米国特許第０４９５６９３６（ＵＳ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ａ０１Ｇ ９／１４ − ９／２６

Ａ０１Ｇ ７／００

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

栽培施設内の温度を計測する温度センサと、
前記栽培施設内の湿度を計測する湿度センサと、
前記栽培施設内の照度を計測する照度センサと、
前記温度センサで計測された温度が所定値以上であり、前記湿度センサで計測された湿度が所定値以下であり、且つ、前記照度センサで計測された照度が所定値以上であるときに、前記栽培施設内への細霧供給処理を実行する細霧冷房装置と
と備えることを特徴とする細霧冷房システム。

【請求項2】

栽培施設内の温度を計測する温度センサと、
前記栽培施設内の湿度を計測する湿度センサと、
前記栽培施設内の照度を計測する照度センサと、
前記温度センサで計測された温度と前記湿度センサで計測された湿度とから飽差を算出し、算出した飽差が第１閾値以上であり、且つ、前記照度センサで計測された照度が所定値以上であるときに、前記栽培施設内への細霧供給処理を開始する細霧冷房装置と
と備えることを特徴とする細霧冷房システム。

【請求項3】

前記細霧冷房装置は、前記細霧供給処理を開始した後、前記温度センサで計測された温度と前記湿度センサで計測された湿度とから算出した飽差が、前記第１閾値と異なる第２閾値以下になると、前記細霧供給処理を停止する
ことを特徴とする請求項２に記載の細霧冷房システム。

【請求項4】

前記細霧冷房装置は、予め設定された時間帯内に、前記細霧供給処理を行う
ことを特徴とする請求項１〜３いずれか１項に記載の細霧冷房システム。

【請求項5】

前記細霧冷房装置は、前記細霧供給処理を実行してから所定時間は、次の細霧供給処理を実行しない
ことを特徴とする請求項１〜４いずれか１項に記載の細霧冷房システム。

【請求項6】

前記細霧冷房装置は、細霧供給処理を実行した回数を、所定期間ごとに計数する処理回数係数部をさらに備える
ことを特徴とする請求項１〜５いずれか１項に記載の細霧冷房システム。

【請求項7】

前記照度センサで計測された照度を、該当日の日射角度に基づいて補正する照度補正部をさらに備え、
前記細霧冷房装置は、前記照度補正部により補正された照度を用いて、細霧供給処理の要否を判定する
ことを特徴とする請求項１〜６いずれか１項に記載の細霧冷房システム。

【請求項8】

前記温度センサ、前記湿度センサ、および前記照度センサは、前記栽培施設内が分割された複数のエリアごとにそれぞれ設置され、
前記細霧冷房装置は、前記エリアごとに、対応する温度センサ、湿度センサ、および照度センサの計測情報に基づいて細霧供給処理の要否を判定し、細霧供給処理が必要と判定したエリアに対して細霧供給処理を実行する
ことを特徴とする請求項１〜７いずれか１項に記載の細霧冷房システム。

【請求項9】

前記細霧冷房装置は、複数の栽培施設にそれぞれ設置された前記温度センサ、前記湿度センサ、および前記照度センサのうち、予め栽培施設ごとに設定されたセンサの計測情報に基づいて細霧供給処理の要否を判定し、細霧供給処理が必要と判定された栽培施設に対して細霧供給処理を実行する
ことを特徴とする請求項１〜８いずれか１項に記載の細霧冷房システム。

【請求項10】

栽培施設内の温度を計測する温度センサと、
前記栽培施設内の湿度を計測する湿度センサと、
前記栽培施設内の照度を計測する照度センサとに接続された細霧冷房装置が、
前記温度センサで計測された温度が所定値以上であり、前記湿度センサで計測された湿度が所定値以下であり、且つ、前記照度センサで計測された照度が所定値以上であるときに、前記栽培施設内への細霧供給処理を実行する
ことを特徴とする細霧冷房方法。

【請求項11】

栽培施設内の温度を計測する温度センサと、
前記栽培施設内の湿度を計測する湿度センサと、
前記栽培施設内の照度を計測する照度センサとに接続された細霧冷房装置が、
前記温度センサで計測された温度と前記湿度センサで計測された湿度とから飽差を算出し、算出した飽差が第１閾値以上であり、且つ、前記照度センサで計測された照度が所定値以上であるときに、前記栽培施設内への細霧供給処理を開始し、前記細霧供給処理を開始した後、前記温度センサで計測された温度と前記湿度センサで計測された湿度とから算出した飽差が、前記第１閾値と異なる第２閾値以下になると、前記細霧供給処理を停止する
ことを特徴とする細霧冷房方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、栽培施設に用いる細霧冷房システムおよび細霧冷房方法に関する。

【背景技術】

【0002】

植物の栽培施設においては、栽培対象の植物に高温障害が発生することを防止し、光合成を促進させるために、温度および湿度を適正範囲に保つことが重要である。このため、従来は、施設内の温度が所定値よりも高くなったときや、湿度が所定値よりも低くなったとき、または定期的なタイミングで、霧状の水を噴霧する細霧冷房が行われている。細霧冷房を行うことで、温度を下げるとともに湿度を上昇させて、栽培施設内を好適な環境に保つことができる。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０１４−１８１５８号公報

【特許文献2】特許第５２０７５０２号公報

【特許文献3】特開２００３−２８９７２８号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

通常、植物の光合成を促進するためには、光合成が活発に行われる晴天時の昼間に湿度を上げて葉の気孔を開かせる必要がある。日射角度が大きく日照量が多い夏場は、特にその必要性が高い。一方で、光合成が行われない夜間や日照量が少ない曇天時には、高湿によるカビの発生を防ぐため、湿度を下げる必要がある。
しかし、上述したように施設内の温度や湿度に基づいて必要と判断されたタイミングやや定期的なタイミングで細霧冷房が実行されると、天候や季節による日照量の変化が考慮されず、施設内を好適な環境を提供できない場合があるという問題があった。

【0005】

本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、植物の栽培施設内を、日照量を考慮して精度よく好適な環境に制御するための細霧冷房システムおよび細霧冷房方法の提供を目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

上記目的を達成するための本発明の細霧冷房システムは、栽培施設内の温度を計測する温度センサと、前記栽培施設内の湿度を計測する湿度センサと、前記栽培施設内の照度を計測する照度センサと、前記温度センサで計測された温度が所定値以上であり、前記湿度センサで計測された湿度が所定値以下であり、且つ、前記照度センサで計測された照度が所定値以上であるときに、前記栽培施設内への細霧供給処理を実行する細霧冷房装置とを備えることを特徴とする。

【0007】

また、本発明の他の形態の細霧冷房システムは、栽培施設内の温度を計測する温度センサと、前記栽培施設内の湿度を計測する湿度センサと、前記栽培施設内の照度を計測する照度センサと、前記温度センサで計測された温度と前記湿度センサで計測された湿度とから飽差を算出し、算出した飽差が第１閾値以上であり、且つ、前記照度センサで計測された照度が所定値以上であるときに、前記栽培施設内への細霧供給処理を開始する細霧冷房装置と備えることを特徴とする。

【0008】

また、本発明の細霧冷房方法は、栽培施設内の温度を計測する温度センサと、前記栽培施設内の湿度を計測する湿度センサと、前記栽培施設内の照度を計測する照度センサとに接続された細霧冷房装置が、前記温度センサで計測された温度が所定値以上であり、前記湿度センサで計測された湿度が所定値以下であり、且つ、前記照度センサで計測された照度が所定値以上であるときに、前記栽培施設内への細霧供給処理を実行することを特徴とする。

【0009】

また、本発明の他の形態の細霧冷房方法は、栽培施設内の温度を計測する温度センサと、前記栽培施設内の湿度を計測する湿度センサと、前記栽培施設内の照度を計測する照度センサとに接続された細霧冷房装置が、前記温度センサで計測された温度と前記湿度センサで計測された湿度とから飽差を算出し、算出した飽差が第１閾値以上であり、且つ、前記照度センサで計測された照度が所定値以上であるときに、前記栽培施設内への細霧供給処理を開始し、前記細霧供給処理を開始した後、前記温度センサで計測された温度と前記湿度センサで計測された湿度とから算出した飽差が、前記第１閾値と異なる第２閾値以下になると、前記細霧供給処理を停止することを特徴とする。

【発明の効果】

【0010】

本発明の細霧冷房システムおよび細霧冷房方法によれば、植物の栽培施設内を、日照量を考慮して精度よく好適な環境に制御することができる。

【図面の簡単な説明】

【0011】

【図1】一実施形態による細霧冷房システムの構成を示す全体図である。

【図2】一実施形態による細霧冷房システムの制御装置に設定されるパラメータの設定画面の一例である。

【図3】一実施形態による細霧冷房システムに利用する制御装置で実行される細霧冷房処理(a)の動作を示すフローチャートである。

【図4】一実施形態による細霧冷房システムに利用する制御装置で実行される細霧冷房処理(b)の動作を示すフローチャートである。

【図5】一実施形態による細霧冷房システムの制御装置に設定されるパラメータの設定画面の他の例である。

【図6】他の形態による細霧冷房システムの制御装置に設定される、栽培施設ごとに設定された細霧冷房処理対象のセンサの情報の一例である。

【発明を実施するための形態】

【0012】

〈一実施形態による細霧冷房システムの構成〉
本発明の一実施形態による植物の栽培施設に用いる細霧冷房システムの構成について、図１を参照して説明する。

【0013】

本実施形態による細霧冷房システム１は、ビニールハウス等の植物の栽培施設Ａ内に設置され、栽培施設Ａ内の環境情報を取得する各種センサおよび栽培施設Ａ内に細霧を供給する第１ノズル１５−１および第２ノズル１５−２を備える。また、栽培施設Ａ内に噴霧するための水を給水管２０−１および２０−２を介して第１ノズル１５−１および第２ノズル１５−２に供給する給水機構３０を備える。さらに、栽培施設Ａ内の各種センサから出力された情報を信号線４０を介して取得し、取得した情報に基づいて給水機構３０内の機器を制御する細霧冷房装置としての制御装置５０を備える。

【0014】

栽培施設Ａ内は、予め設定された第１エリア１０−１〜第Ｎエリアの１０−ＮのＮ個の栽培エリアに分割されている。各エリアにはそれぞれ植物が栽植されるとともに、第１温度センサ１１−１〜第Ｎ温度センサ１１−Ｎと、第１湿度センサ１２−１〜第Ｎ湿度センサ１２−Ｎと、第１照度センサ１３−１〜第Ｎ照度センサ１３−Ｎと、第１スイッチ１４−１〜第Ｎスイッチ１４−Ｎとが設置されている。以下、第１エリア１０−１〜第Ｎエリア１０−Ｎのうちのいずれであるかが特定されない場合は、エリア１０と記載する。温度センサ、湿度センサ、照度センサ、およびスイッチについても同様に、温度センサ１１、湿度センサ１２、照度センサ１３、およびスイッチ１４とする。

【0015】

第１温度センサ１１−１〜第Ｎ温度センサ１１−Ｎはそれぞれ、設置されたエリア１０−１〜１０−Ｎの温度を計測する。第１湿度センサ１２−１〜第Ｎ湿度センサ１２−Ｎはそれぞれ、設置されたエリア１０−１〜１０−Ｎの湿度を計測する。第１照度センサ１３−１〜第Ｎ照度センサ１３−Ｎはそれぞれ、設置されたエリア１０−１〜１０−Ｎの照度を計測する。第１スイッチ１４−１〜第Ｎスイッチ１４−Ｎは、栽培の作業員によりＯＮ操作されると、信号線４０を介して制御装置５０にＯＮ操作信号を出力する。

【0016】

第１ノズル１５−１および第２ノズル１５−２はそれぞれ、給水管２０−１および給水管２０−２に接続されて栽培施設Ａの上部に設置され、給水機構３０から供給される水を用いて栽培施設Ａ内に細霧を噴霧して供給する。

【0017】

給水機構３０は、水を貯留する水タンク３１と、水タンク３１から水を吸い上げるポンプ３２と、ポンプ３２と給水管２０−１および２０−２との間にそれぞれ設置される電磁弁３３−１および３３−２とを有する。電磁弁３３−１および３３−２はそれぞれ、制御装置５０からの制御により開閉する。電磁弁３３−１、３３−２が開状態になると、ポンプ３２で吸い上げられた水が対応する給水管２０−１、２０−２に供給される。

【0018】

制御装置５０は、入力部５１と、表示部５２と、情報取得部５３と、細霧冷房処理部５４と、第１電磁弁駆動部５５−１および第２電磁弁駆動部５５−２とを有する。入力部５１は、監視員の操作により入力された情報を細霧冷房処理部５４に送出する。表示部５２は、細霧冷房処理部５４から出力される情報を表示する。

【0019】

情報取得部５３は、栽培施設Ａ内の第１温度センサ１１−１〜第Ｎ温度センサ１１−Ｎ、第１湿度センサ１２−１〜第Ｎ湿度センサ１２−Ｎ、および第１照度センサ１３−１〜第Ｎ照度センサ１３−Ｎから所定時間間隔で計測情報を取得する。また、情報取得部５３は、第１スイッチ１４−１〜第Ｎスイッチ１４−Ｎから出力されるＯＮ操作信号を取得する。

【0020】

細霧冷房処理部５４は、第１温度センサ１１−１〜第Ｎ温度センサ１１−Ｎ、第１湿度センサ１２−１〜第Ｎ湿度センサ１２−Ｎ、および第１照度センサ１３−１〜第Ｎ照度センサ１３−Ｎから取得した計測情報と、予め設定されたパラメータとに基づいて、現在、栽培施設Ａ内に細霧冷房が必要であるか否かを判定する。細霧冷房が必要であると判定したときには、第１電磁弁駆動部５５−１および第２電磁弁駆動部５５−２に、駆動指令を送出する。

【0021】

第１電磁弁駆動部５５−１および第２電磁弁駆動部５５−２は、細霧冷房処理部５４から駆動指示を取得すると、対応する電磁弁３３−１、３３−２が所定時間、開状態になるように駆動する。

【0022】

〈一実施形態による細霧冷房システムの動作〉
次に、本実施形態による細霧冷房システム１により栽培施設Ａ内に細霧冷房を行う際の動作について説明する。

【0023】

まず、監視員により制御装置５０の入力部５１から、細霧冷房の処理に用いられるパラメータが入力される。各種パラメータの設定を行う際は、例えば図２のように表示部５２に表示されたパラメータ設定画面が用いられる。

【0024】

図２のパラメータ設定画面には、監視員により入力された、細霧冷房の対象である運転時間および細霧冷房の対象外である休止時間として設定された値と、細霧冷房の運転対象とする照度、相対湿度、温度、および飽差の条件として設定された値が表示されている。

【0025】

図２においては、運転時間が7:00〜16：30、休止時間が870分（16:30〜翌日7:00）であり、運転対象の照度が50,000lux以上、相対湿度が50％以下、温度が25℃以上、飽差6g/m³（第１の飽差閾値）以上であることが設定されている。また、飽差5ｇ/ｍ³（第２の飽差閾値）以下が運転停止条件であることが設定されている。

【0026】

ここで、運転時間は、日の出時刻および日の入り時刻に合わせて日毎に算出して設定し、植物が光合成を行う昼間に適切に細霧冷房処理が実行されるようにしてもよい。例えば、運転時間を日の出時刻の３０分後から日の入り時刻の６０分前までとすることを監視員が入力しておき、細霧冷房処理部５４において現在の月日情報および当該栽培施設Ａの位置情報に基づいて、外部機関から日の出時刻および日の入り時刻を取得し運転時間を算出して設定するようにしてもよい。

【0027】

制御装置５０では、このように設定されたパラメータに基づいて、細霧冷房処理(a)または(b)が実行される。まず、細霧冷房処理(a)について、図３のフローチャートを参照して説明する。

【0028】

まず、制御装置５０の細霧冷房処理部５４において、予め設定された細霧冷房の対象時間帯の開始時刻7:00が到来したか否かが監視される（Ｓ１）。そして、時刻7:00が到来したと判断されると（Ｓ１の「YES」）、情報取得部５３において、栽培施設Ａ内の第１温度センサ１１−１〜第Ｎ温度センサ１１−Ｎ、第１湿度センサ１２−１〜第Ｎ湿度センサ１２−Ｎ、および第１照度センサ１３−１〜第Ｎ照度センサ１３−Ｎで計測された計測値が取得される（Ｓ２）。

【0029】

そして、情報取得部５３で取得された情報と、予め設定された各種パラメータとに基づいて、細霧冷房処理部５４において、栽培施設Ａ内に細霧冷房が必要であるか否かが判定される。具体的には、第１エリア１０−１〜第Ｎエリア１０−Ｎのうち、温度センサ１１で計測された温度が25℃以上であり、対応する湿度センサ１２で計測された相対湿度が50％以下であり、且つ、対応する照度センサ１３で計測された照度が50,000lux以上の条件を満たすエリアがあれば、栽培施設Ａ内に細霧冷房が必要であると判定される（Ｓ３）。

【0030】

上記条件を満たすエリアがあり、細霧冷房が必要であると判定されたときには（Ｓ３の「YES」）、電磁弁駆動部５５−１および５３−２に対し、駆動指令が出力される。電磁弁駆動部５５−１および５３−２は、駆動指令を取得すると、それぞれ対応する電磁弁３３−１および３３−２を所定時間（例えば１０秒）、開状態にするように駆動する（Ｓ４）。

【0031】

電磁弁駆動部５５−１および５３−２により電磁弁３３−１および３３−２が開状態になっている間は、水タンク３１からポンプ３２で吸い上げられた水が給水管２０−１および２０−２に供給され、それぞれ対応する第１ノズル１５−１および第２ノズル１５−２から、栽培施設Ａ内に細霧が供給される。供給される細霧の量は、水の供給時間（電磁弁の開時間）、ノズルの径、ポンプの動力、および電磁弁３３の開度等により、調整可能である。

【0032】

次に、ステップＳ２で各センサの計測情報を取得してから所定時間（例えば、１分）が経過したか否かが監視される（Ｓ５）。各センサの計測情報を取得してから所定時間が経過すると（Ｓ５の「YES」）、ステップＳ２に戻り、各センサから新たな計測情報が取得されてステップＳ３、Ｓ４の処理が実行される。

【0033】

また、ステップＳ３において、上記条件を満たすエリアがなく、栽培施設１０内に細霧冷房が必要ないと判定されたときには（Ｓ３の「NO」）、ステップＳ４による細霧供給処理は実行されずにステップＳ５に移行する。
その後、細霧冷房の対象時間帯の終了時刻16:30が到来したとき（Ｓ６の「YES」）には、ステップＳ１に戻り、翌日の細霧冷房の対象時間帯が到来するまで各センサの計測情報の取得処理は停止される。以上で、細霧冷房処理(a)の説明を終了する。

【0034】

また、図２のように設定されたパラメータに基づいて、制御装置５０において実行される細霧冷房処理(b)について、図４のフローチャートを参照して説明する。
まず、細霧冷房処理(a)と同様に細霧冷房の対象時間帯の開始時刻7:00が到来したと判断されると（Ｓ１１の「YES」）、情報取得部５３において、栽培施設Ａ内の第１温度センサ１１−１〜第Ｎ温度センサ１１−Ｎ、第１湿度センサ１２−１〜第Ｎ湿度センサ１２−Ｎ、および第１照度センサ１３−１〜第Ｎ照度センサ１３−Ｎで計測された計測値が取得される（Ｓ１２）。

【0035】

次に、細霧冷房処理部５４において、取得した第１温度センサ１１−１〜第Ｎ温度センサ１１−Ｎおよび第１湿度センサ１２−１〜第Ｎ湿度センサ１２−Ｎの計測値に基づいて、各エリアの飽差が算出される。そして、算出された飽差が第１の飽差閾値の6g/m³以上であり、且つ、対応する照度センサ１３で計測された照度が50,000lux以上の条件を満たすエリアがあれば、栽培施設Ａ内に細霧冷房が必要であると判定される（Ｓ１３）。細霧冷房の要否の判断に飽差を用いることにより、温度と湿度との関係性を考慮して精度の高い判断を行うことができる。

【0036】

上記条件を満たすエリアがあり、細霧冷房が必要であると判定されたときには（Ｓ３の「YES」）、電磁弁駆動部５５−１および５３−２に対し、駆動指令が出力される。電磁弁駆動部５５−１および５３−２は、駆動指令を取得すると、それぞれ対応する電磁弁３３−１および３３−２を開状態にするように駆動する（Ｓ１４）。

【0037】

電磁弁駆動部５５−１および５３−２により電磁弁３３−１および３３−２が開状態になると、水タンク３１からポンプ３２で吸い上げられた水が給水管２０−１および２０−２に供給され、それぞれ対応する第１ノズル１５−１および第２ノズル１５−２から、栽培施設Ａ内への細霧の供給が開始される。

【0038】

その後、所定時間間隔（例えば数秒間隔）で第１温度センサ１１−１〜第Ｎ温度センサ１１−Ｎおよび第１湿度センサ１２−１〜第Ｎ湿度センサ１２−Ｎの計測値が取得され、細霧冷房処理部５４において各エリアの飽差が算出されて、飽差が第２の飽差閾値の5ｇ/ｍ³以下であるか否かが監視される（Ｓ１５）。

【0039】

そして、全てのエリアの飽差が5ｇ/ｍ³以下であると判定されると（Ｓ１５の「YES」）、電磁弁駆動部５５−１および５３−２に対し、運転停止指令が出力される。電磁弁駆動部５５−１および５３−２は、運転停止指令を取得すると、それぞれ対応する電磁弁３３−１および３３−２を閉状態にして、細霧の供給を停止する（Ｓ１６）。ここで、第２の飽差閾値を第１の飽差閾値よりも高い値で設定しておくことにより、過剰な加湿を防ぐことができる。一方、第２の飽差閾値を第１の飽差閾値よりも低い値で設定しておくことにより、過剰な除湿を防ぐことができる。

【0040】

次に、ステップＳ１２で各センサの計測情報を取得してから所定時間（例えば、１０分）が経過したか否かが監視される（Ｓ１７）。各センサの計測情報を取得してから所定時間が経過すると（Ｓ１７の「YES」）、ステップＳ１２に戻り、各センサから新たな計測情報が取得されてステップＳ１３〜Ｓ１６の処理が実行される。

【0041】

また、ステップＳ１３において、上記条件を満たすエリアがなく、栽培施設１０内に細霧冷房が必要ないと判定されたときには（Ｓ１３の「NO」）、ステップＳ１４〜Ｓ１６による細霧供給処理は実行されずにステップＳ１７に移行する。

【0042】

その後、細霧冷房の対象時間帯の終了時刻16:30が到来したとき（Ｓ６の「YES」）には、ステップＳ１に戻り、翌日の細霧冷房の対象時間帯が到来するまで各センサの計測情報の取得処理は停止される。以上で、細霧冷房処理(b)の説明を終了する。

【0043】

また、これらの細霧冷房処理(a)、(b)とは別個に、作業者が植物の状態を見て細霧冷房が必要と判断し、第１スイッチ１４−１〜第Ｎスイッチ１４−ＮのいずれかをＯＮ操作すると、信号線４０を介して制御装置５０にＯＮ操作信号が出力される。制御装置５０では、ＯＮ操作信号が情報取得部５３を介して細霧冷房処理部５４で取得されると、第１電磁弁駆動部５５−１、第２電磁弁駆動部５５−２が駆動される。そして、第１電磁弁３３−１および第２電磁弁３３−２が所定時間、開状態になり、細霧冷房が実行される。

【0044】

以上の実施形態によれば、植物の栽培施設内を、日照量の多い晴天時の昼間には湿度を上げて植物の光合成を促進させ、夜間や日照量の少ない曇天時には湿度を下げてカビの発生を防止することで、好適な環境に保つことができる。また、作業員の判断に応じて、植物の生育状態に合わせて好適な環境にすることができる。

【0045】

上述した実施形態において、制御装置５０に設定しておくパラメータを、時間帯ごとに異なる値で設定してもよい。例えば図５に示すように、運転時間7:00〜16:30の中の、時間帯7:00〜10:00に運転対象とする照度を30,000luxとし、時間帯10:00〜14:00に運転対象とする照度を50,000luxとし、時間帯14:00〜16:30に運転対象とする照度を30,000luxとしてもよい。このように時間帯ごとに異なるパラメータを設定することにより、さらに精度よく対象とする植物の生育に応じた細霧冷房を行うことができる。

【0046】

また、上述した実施形態において、制御装置５０では、細霧供給処理を実行してから所定時間（例えば数分間）は、次の細霧供給処理を実行しないように設定してもよい。このように設定しておくことにより、細霧供給処理による施設内環境の変化が各センサの計測値に反映されるまでにタイムラグがあった場合にも、過度に加湿されることを防ぐことができる。

【0047】

また、上述した実施形態において、制御装置５０に、細霧供給処理を実行した回数を所定期間（例えば１か月）ごとに計数する処理回数係数部をさらに備えるようにしてもよい。所定回数係数部で計数された回数の情報は、例えば、次の年の同時期のパラメータの設定の際に参照させることができる。

【0048】

また、上述した実施形態において、制御装置５０に、情報取得部５３から取得された各エリアの第１照度センサ１３−１〜第Ｎ照度センサ１３−Ｎの計測情報を、該当日の日射角度に基づいて補正する照度補正部をさらに備えるようにしてもよい。例えば、下記の式（１）により照度センサの計測情報を補正することにより、日光の差し込み角度の影響を考慮して、細霧供給処理の要否を適切に判断することができる。ここで、日射角度は、例えば、該当日の、その地域の最大日射角度であり、太陽の南中高度を用いてもよい。

【0049】

［数１］
照度補正値＝照度生値（照度センサによる計測値）÷sin（日射角度）×正規化定数
式（１）
上記式（１）において、日ごとの日射角度は、外部機関から取得することが可能である。

【0050】

上述した実施形態においては、栽培施設Ａ内に２本のノズルを設置した場合について説明したが、この数には限定されず、栽培施設の大きさに応じてさらに多くのノズルを設置してもよい。例えば、エリアごとにノズル１５を設置するとともに、対応する数の給水管２０および電磁弁３３を設置し、細霧冷房処理部５４において、細霧供給処理が必要と判定したエリアの電磁弁３３を駆動させることで、必要なエリアに対して集中的に細霧供給処理を実行するようにしてもよい。ここで、必要なエリアごとに、設定パラメータを変えてもよい。

【0051】

また、上述した実施形態においては、制御装置５０が１つの栽培施設Ａに対する細霧冷房を管理する場合について説明したが、複数の栽培施設に対する管理を行うようにしてもよい。この場合、栽培施設ごとに、細霧冷房の要否の判断対象とするセンサを予め設定しておくことで、効率よく細霧冷房処理を行うようにすることができる。

【0052】

例えば、図６に示すように、細霧供給処理の要否の判断対象として、ハウスAの栽培施設については、施設内の識別情報＃１、＃２、＃４の温度センサ、湿度センサ、および照度センサを設定し、ハウスBの栽培施設については、施設内の識別情報＃１、＃３の温度センサ、湿度センサ、および照度センサを設定し、これら以外のハウスCの栽培施設については標準版として、各施設内の識別情報＃１、＃２の温度センサ、湿度センサ、および照度センサを設定しておくことで、栽培施設の設置位置や栽培している植物の種類等に応じて効率よく細霧冷房処理を行うことができる。

【符号の説明】

【0053】

１ 細霧冷房システム
１０−１〜１０−Ｎ 第１エリア〜第Ｎエリア
１１−１〜１１−Ｎ 第１温度センサ〜第Ｎ温度センサ
１２−１〜１２−Ｎ 第１湿度センサ〜第Ｎ湿度センサ
１３−１〜１３−Ｎ 第１照度センサ〜第Ｎ照度センサ
１４−１〜１４−Ｎ 第１スイッチ〜第Ｎスイッチ
１５−１、１５−２ ノズル
２０−１、２０−２ 給水管
３０ 給水機構
３１ 水タンク
３２ ポンプ
３３−１、３３−２ 電磁弁
４０ 信号線
５０ 制御装置（細霧冷房装置）
５１ 入力部
５２ 表示部
５３ 情報取得部
５４ 細霧冷房処理部
５５−１、５５−２ 第１電磁弁駆動部、第２電磁弁駆動部

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】