【実施例1】
【0021】
図1(A)は、この発明の一実施の形態として、液晶レンズとして動作する液晶光学デバイスの基本構成を断面から見た構成を示している。透明な電極21は第1の基板11の上に形成され、第2の基板12を所定の厚みを保つための図示されていないスペーサを介して重ね合わせることで液晶セルを構成する。第1の基板11と前記第2の基板12の間には、電極21と対向するように収容された、液晶分子を配向させた液晶層31を備える。
【0022】
前記第1の基板11の上に形成された電極21の前記液晶層31に接する面には液晶分子を配向させる効果を有する図示されていない配向膜が配置されている。
【0023】
また、第2の基板12の液晶層に面する側には電極群220〜229が形成されており、さらに透明な絶縁層41、及び図示されていない配向膜がそれぞれ積層されている。
【0024】
前記透明な電極21及び透明な絶縁層41の液晶層に接する面に形成された配向膜にはアンチパラレルと呼ばれる互いに逆の方向にラビング処理を行うことで、液晶分子の長軸方向に対応するダイレクタが基板面から1度程度傾いたプレティルト角と呼ばれる角度をなして配向するような状態となっている。
【0025】
図1(B)は、
図1(A)の液晶レンズを平面的に見た図であり、前記第1の基板に形成されている電極21と前記第2の基板12に形成されている電極群の中で中心の円形電極220との間に第1の電源81から第1の電圧V1を加える。また、前記電極21と第2の電極群の中で同心円状の最外部の電極229との間には第2の電源82から第2の電圧V2を印加することができるように配置されている。
【0026】
中心の円形電極220と同心円状の電極群221、〜229各々の間には前記第1の電圧による電位と第2の電圧による電位の差により流れる電流により生じる電圧降下を利用して各々の電極が所定の電位となるように、それぞれ図示されていない所定の抵抗値を有する抵抗が接続されている。なお、中心の円形電極220に電圧を加えるためには、他の電極群と絶縁された引き出し線を使用する方法や、第2の基板12に微細な穴をあけて基板外に引き出し線を通して電圧を印加する方法などを適用することができる。
【0027】
なお、中心の円形電極220と同心円状の電極群221、〜229と前記第1の基板に形成されている電極21との間にそれぞれ他の電極群と絶縁された引き出し線を使用して外部から所定の電圧を加えることで、電極群220、221、〜229各々の間に抵抗を設けることなく液晶光学デバイスを動作させることもできる。
【0028】
液晶層31には半径方向に変化する前記電位の分布による電界が加わり、液晶分子は各々の電界強度に依存して配向する。
【0029】
電圧が加えられていない初期状態として、液晶分子の長軸方向に対応するダイレクタが電極面上の配向膜面に対してプレティルト角である1度程度傾いてラビングの方向に配向しているホモジニアス配向になっている場合を考える。V1及びV2が0の場合は、ダイレクタの方向に偏光している入射光に対して液晶層における実効的な屈折率は基板面内方向で一様になっている。
【0030】
次に、液晶のしきい値以上の電圧が加わるようにV1及びV2を適宜調整すると、電圧が高い電極下では液晶のダイレクタが電極基板面から垂直方向にある角度をなして立ち上がり、電圧が低い電極下ではダイレクタが電極基板面から立ち上がる角度が小さくなる。電極基板面に対してダイレクタが傾く角度が大きくなると液晶の実効的な屈折率が小さくなり、逆に傾く角度が小さくなると共に液晶の実効的な屈折率が大きくなるので、電圧の高低に依存してダイレクタが電極基板面になす角度が異なり、その結果として液晶層内において実効的な屈折率が分布しているという状態が得られる。
【0031】
同心円状のパターン電極群の中心の円形状の電極220の電圧が最も低く、半径方向で最外部の電極229に向かって電圧が次第に高くなるような分布を有する電圧を印加すると、実効的な屈折率が中心から周辺部に向かって次第に小さくなるような屈折率分布特性となり、液晶層は液晶のダイレクタの方向に偏光した入射光に対して収束する凸レンズ機能が得られる。
【0032】
逆に、最外部の電極220の電圧が最も低く半径方向で中心の円形状の電極220に向かって電圧が次第に高くなるような電圧分布となるような電圧を印加すると、実効的な屈折率が中心から周辺部に向かって次第に大きくなるような屈折率分布特性となり、液晶層は液晶のダイレクタの方向に偏光した入射光に対して発散する凹レンズ機能が得られる。
【0033】
なお、同心円状の電極群の構造により、半径方向での実効的な屈折率分布が2次関数を軸の周りで回転した放物面状となるように調整すると、収差が小さいレンズ特性を得ることができる。これらの液晶レンズの動作原理の詳細については特許文献1,特許文献2,特許文献3及び特許文献4において説明されている。
【0034】
さらに、
図1に示した構成おいて透明な絶縁層41と液晶層31との間に透明なインピーダンス層または高抵抗層を設けた場合の液晶分子の配向効果や電界の平滑効果及び光学位相差の平滑効果などの動作原理の詳細は特許文献5,6に説明されている。
【0035】
次に、具体的な実施例について説明する。
図1において、第1の基板11は300μm厚の透明ガラス板であり、液晶層31に接する内面側に、インジウム・スズ系の酸化物(ITO)からなる透明な電極21が形成されている。第2の基板12は300μm厚のガラス基板であり、第2の基板12の液晶層31に接する側には複数の透明な電極群となる中心の円形状ITO電極220及びITO電極群221〜229が同心円状に形成されている。これらの電極群220〜229の間には、各々の電極の電圧がそれぞれ
図2に示したような値となるように調整された抵抗が接続されている。また、抵抗を設ける代わりに、引き出し線を利用して各電極に
図2に示したような電圧を加えてもよい。
【0036】
最外部の同心円状の電極の幅は内側の他の電極の幅よりも広くすることもでき、さらに前記電極の内側が円形状であることが必要とされるが、全体としての形状は必ずしも同心円状ではなくてもよく、外側の形状は円形ではなく基板1の形状に合わせた任意の形状とすることもできる。
【0037】
本発明における液晶レンズでは、中心の円形電極220及び同心円状の電極群を有する第2の基板12と液晶層31の間に透明絶縁層41を配置している。また、液晶層31の液晶材料としてはRDP85475(DIC社製)を使用し、液晶層を挟む電極21及び電極群220〜229の面には図示しない配向膜としてポリイミド膜を100nm程度の厚みに塗布し、熱処理を行い安定化させた後にラビング処理が施されている。
【0038】
ラビングによる配向処理を行った場合には、一般にラビング方向に対して液晶分子の長軸方向が配向膜面から一方向に1度程度のプレティルト角と呼ばれる小さな角度傾いた配向状態となることが知られており、また対向する基板上の配向膜に対するラビングの方向をそれぞれアンチパラレルと呼ばれる逆向きとなるようにラビング処理を行った場合は、電圧を加えていない場合に液晶分子は基板面に一様にプレティルト角度傾いたホモジニアス配向状態となっている。
【0039】
なお、液晶層31を所定の厚みに保つために図示していないが直径が30μmの球状スペーサを接着剤に分散したものを用い、また図示していないが各基板の周辺部等は接着剤を用いて液晶が封止されている。
【0040】
透明絶縁膜41としては、高分子膜やガラスリボンなどを使用することができる。実施例1では所定の厚みになるようにフォトレジスト(SU8)を使用したが、他の有機系・無機系を問わず透明な絶縁材料や、または誘電率が大きな材料であっても使用することができる。
【0041】
直径が約2mmの円形領域内に各電極の幅を90μmとし、各電極間隔を30μmとした9個の同心円状の電極群及び中心に直径が150μmの円形電極を設け、液晶層には
図2のような電圧が加わるように、中心の電極220及び外側の電極229と電極21との間にそれぞれV1として0.87V、V2として2.8Vの電圧を印加した。ここで、V1及びV2はいずれも1kHzの正弦波で同位相であり、液晶材料であるRDP85475のしきい電圧は0.864Vである。また、光源としては半導体レーザ光(波長0.589nm)を用いている。ここで、同心円状の電極の幅と電極間の間隔の和は120μmとなる。
【0042】
なお、本願における液晶光学デバイスでは電極と液晶層の間に高抵抗膜等の抵抗成分が無いので、周波数特性を持たないという特徴があるが、駆動周波数が数100kHz以上など非常に高くなると液晶における誘電特性が変化する場合があり、周波数特性が生じることがあるが、数10kHz以下の周波数で駆動する場合には周波数特性を示さない。
【0043】
図1に示した構成から透明な絶縁層41を除いた単純な構成の液晶セルを作製し、
図2に示した電圧分布となる電圧を印加した場合に液晶層に生じる光学位相差分布特性について、直径方向の断面での位相差分布特性を
図3に示した。
図3から分るように、階段状の電圧分布及び各電極間を隔てる間隙での実効電圧の低下に対応した極大値を伴った階段状の複雑な光学位相差分布特性となっており、良好な光学特性を有する液晶光学デバイスを構成することが困難であった。なお、この場合は透明絶縁層の厚みと液晶層の厚みの和は液晶層の厚みだけになり30μmとなる。
【0044】
次に、
図1に示したように透明な絶縁層41を付与した構成の液晶レンズにおいて、透明絶縁層の厚みを20μmとして透明絶縁層を挿入した分だけ
図2に示した電圧分布の値を少し高くしてV1を1.4V,V2を6.8Vとした場合の液晶層に生じる光学位相差分布特性は
図4に示したようになり、透明絶縁層の厚みと液晶層の厚みの和は50μmと同心円状の電極の幅と電極間の間隔の和の値である120μmよりは小さいので、
図4では
図3に比べて凹凸の度合いはやや小さくなるが、良好な光学特性を有する液晶光学デバイスを構成することが困難であった。
【0045】
透明な絶縁層41の厚みを50μmとさらに厚くすると必要なV1とV2の値がそれぞれ2.3V,12.7Vとなり、透明絶縁層の厚みと液晶層の厚みの和が80μmと大きくなることから電位分布に対する平滑効果が次第に効果的となり、階段状の光学位相差分布の乱れが緩和されて来るが、光学位相差分布は
図5に示したように階段状の乱れが残っている特性となった。
【0046】
透明な絶縁層41の厚みをさらに120μmと厚くすると必要なV1とV2の値がそれぞれ4.2V,V2が25Vとより高くなるが、透明絶縁層の厚みと液晶層の厚みの和は150μmと同心円状電極の幅と電極間の間隔の和の値である120μmより大きくなることから、液晶層に生じる光学位相差分布特性は
図6に示したように階段状の光学位相差分布特性が平滑化され、滑らかで連続的な放物線状の位相差分布特性が得られており、極めて良好なレンズ特性を得ることができた。
【0047】
図1における電極群220〜229の間には、各々の電極の電圧がそれぞれ
図2に示したような値となるように調整された
透明な抵抗
膜が接続されているが、
前記透明な抵抗膜の厚みが一定であり、各同心円状の電極間の間隔がそれぞれ等しい場合には、透明抵抗膜の抵抗値はその幅に逆比例するので、中心から半径方向に外側に向かって所定の抵抗値の逆数となるように抵抗膜の幅を調整した。すなわち、中心の円形電極220から最外部の電極229に向かって隣接する各電極間に設けた前記透明な抵抗膜の抵抗値は、それぞれ10オーム,10オーム,15オーム,30オーム,30オーム,45オーム,60オーム,120オーム,240オームとなっており、中心から外側になるにしたがって内側に隣接する電極との間の抵抗値が等しいかより大きな抵抗値となっている。
【0048】
中心の円形電極220から最外部の電極229に向かって隣接する各電極間に設けた前記透明な抵抗膜の抵抗値は、
図2に示した各々の電極に加わる電圧と同じように変化することから、透明な抵抗膜の抵抗値が中心から半径方向の距離を変数とする高次の関数に依存する値の階段近似の値となっている。ここで、高次関数の次数は4次以上であることが好ましい。
【0049】
なお、電位分布すなわち前記透明な抵抗膜の抵抗値の分布を中心から半径方向の距離を変数とする関数で表した場合の次数を4次よりさらに高次とすると、レンズとしての光学特性をより精密な分布形状とすることが可能となる。
図2では1例として6次関数を用いた場合の電位分布を破線で示し、その各次数の係数も含めて関数の一例を欄外に示した。ここで電位分布曲線は中心対称であるので、関数の奇数次の係数は極めて小さな値となるため省略している。
【0050】
前述したように、前記透明な抵抗膜の厚みが一定であり、各同心円状の電極間の間隔がそれぞれ等しい場合には、透明抵抗膜の抵抗値はその幅に逆比例するので、中心から半径方向に外側に向かって所定の抵抗値の逆数となるように抵抗膜の幅を調整することで
図2に示したような電圧分布を得ることができる。また、抵抗膜の幅の逆数が4次関数や6次関数などの高次の関数に依存する値の階段近似の値となるようにすることもできる。
【0051】
本実施例では、第2の基板の電極群と液晶層の間に透明絶縁層により一定の距離を設けることにより、階段状の電圧の分布が平滑化されて液晶層には滑らかに分布した電圧が加わるため、光学位相差分布も平滑化されて滑らかになり、良好なレンズ特性が得られる。さらに、電極群と液晶層の間には透明絶縁層のみが存在し他のインピーダンス層や抵抗層などが無いことから、基本的に駆動電圧の周波数に依存しないので、広範な周波数域で動作させることが可能である。
【0052】
絶縁層が厚いほど電圧分布の平滑化の効果が大きくなるが、一方では絶縁膜の厚みが厚いほど駆動電圧が高くなるので、低電圧駆動を行うためには同心円状電極の幅及び隣接する電極間の間隔を狭くすること、すなわち同心円状電極の本数を増やすことによって必要な絶縁層の厚みを薄くすることが望ましい。
【実施例8】
【0072】
さらに、第2の基板面に透明な中心対称の電極群の代わりに複数の一方向に延伸した透明な帯状の電極群を配置し、第1の基板に配置した共通となる第1の電極とそれぞれの帯状の電極との間に光学位相差分布特性が直線状に変化するように階段状となる電圧を印加することで、入射光の方向を偏向するような機能を有する光学デバイスを実現することができる。
【0073】
他の実施例と同様にRDP85475液晶を使用し、液晶層厚を30μm、透明絶縁層厚を60μm、帯状の電極の幅を45μm、電極間隔を15μm、開口幅を0.57mmとした。さらに、両端の帯状電極から隣接する帯状電極を介して他の端の帯状電極間に透明な抵抗膜を接続し、前記両端の帯状電極と共通電極となる第1の電極との間にそれぞれ1.5V、15Vの電圧を印加すると、約1度の偏向角を有する光偏向デバイスを得ることができた。
【0074】
この場合も透明な絶縁層の厚み及び液晶層の厚みの和を90μm、電極幅と電極間隔の和を60μmと設定していることから、階段状ではなく滑らかな直線状の光学位相差分布特性が得られている。
【0075】
透明な帯状電極群の各電極間に配置した透明な抵抗膜の抵抗値が片側の帯状電極から他の端に向かって距離を変数とする概略3次以上の関数に依存する値またはその階段近似の値とすると直線状の光学位相差分布特性が得られる。
【0076】
さらに、前記の液晶光偏向デバイスを複数個配置したフレネル構造とすることで、有効開口幅を広くすることができる。前記開口幅が0.57mmの液晶光偏向デバイスを5個配置したフレネル構造の液晶光偏向デバイスを作製した。この場合の開口幅は2.85mmで偏向角は約1度であった。
【0077】
またさらに、各フレネル部の境界における電極を透明な絶縁層の液晶側に配置することで駆動電圧を低くすることもできる。前記電極を透明な絶縁層の中で液晶層から15µmの位置に配置すると最も高い電圧値であった15Vが4Vとなり、駆動電圧の低電圧化を行うことができた。
【0078】
本発明によると、駆動電極と液晶層の間に透明な高抵抗層やインピーダンス層が無いことから、駆動電圧の周波数に依存せず、長期間安定な動作が実現される。さらに、光学位相差分布特性が滑らかとなり、光学特性が優れた大口径の液晶レンズや光偏向デバイスのみならず、種々の光学デバイス等にも適用することが可能である。
【0079】
また、この発明は、上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して擬態化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素適宜な組み合わせにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよく、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。