特許 6886309 複合体

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6886309

(24)【登録日】2021年5月18日

(45)【発行日】2021年6月16日

(54)【発明の名称】複合体

(51)【国際特許分類】

   C08L 101/00 20060101AFI20210603BHJP

   C08K 3/34 20060101ALI20210603BHJP

【ＦＩ】

   C08L101/00

   C08K3/34

【請求項の数】5

【全頁数】122

(21)【出願番号】特願2017-29963(P2017-29963)

(22)【出願日】2017年2月21日

(65)【公開番号】特開2018-135430(P2018-135430A)

(43)【公開日】2018年8月30日

【審査請求日】2019年11月13日

(73)【特許権者】

【識別番号】000000033

【氏名又は名称】旭化成株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100079108

【弁理士】

【氏名又は名称】稲葉 良幸

(74)【代理人】

【識別番号】100109346

【弁理士】

【氏名又は名称】大貫 敏史

(74)【代理人】

【識別番号】100117189

【弁理士】

【氏名又は名称】江口 昭彦

(74)【代理人】

【識別番号】100134120

【弁理士】

【氏名又は名称】内藤 和彦

(72)【発明者】

【氏名】中村 光武

(72)【発明者】

【氏名】赤荻 隆之

【審査官】 藤井 明子

(56)【参考文献】

【文献】 米国特許第０４２４７４１６（ＵＳ，Ａ）

【文献】 特表２０１８−５０５７７２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 韓国登録特許第１０−１５５５１４９（ＫＲ，Ｂ１）

【文献】 特開平０９−０９５５２７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００３−２３８７３２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第２０１６／０６７８３９（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 特表２００８−５３５６４８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第２０１７／２２２０２８（ＷＯ，Ａ１）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｃ０８Ｌ １／００−１０１／１４

Ｃ０８Ｋ ３／００−１３／０８

Ｃ０１Ｂ ３９／４８

Ｃ０７Ｃ ２／１２

Ｂ０１Ｄ ５３／０２、５３／０４、５３／６２

Ｂ０１Ｊ ２０／１８、２０／３０

Ｂ０５Ｄ ３／００

Ｂ３２Ｂ ２７／０８

Ａ６１Ｌ ９／０１

ＣＡｐｌｕｓ／ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ）

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

ＭＷＦ型ゼオライトと樹脂とを含む、複合体。

【請求項2】

樹脂が熱可塑性樹脂である、請求項１に記載の複合体。

【請求項3】

樹脂が硬化性樹脂である、請求項１に記載の複合体。

【請求項4】

熱可塑性樹脂が、アイオノマー樹脂、エチレン−エチルアクリレート共重合樹脂、アクリロニトリル−スチレン−アクリレート共重合樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、エチレン−ビニルアルコール共重合樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル−塩素化ポリエチレン−スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル−エチレン−プロピレン−ジエン−スチレン共重合樹脂、シリコン系複合ゴム−アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、ポリ塩化ビニル／アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂、ポリアミド／アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂、ポリカーボネート／アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂、ポリカーボネート／アクリロニトリル−エチレン−プロピレン−ジエン−スチレン樹脂、ポリメタクリル酸メチル／アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン／アクリロニトリル−スチレン樹脂、塩化ビニル樹脂、塩素化ポリエチレン、酢酸繊維素樹脂、フッ素樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアリレート樹脂、熱可塑性ポリウレタン、アクリル系エラストマー、オレフィン系エラストマー、スチレン系エラストマー、ポリエーテルブロックアミド共重合樹脂、コポリエステル−エーテルエラストマー、ポリエステル系エラストマー、ポリフェニレンエーテル／ポリスチレン樹脂、ポリプロピレン／エチレン−プロピレン−ジエン樹脂、塩化ビニル−ニトリル系エラストマー、液晶樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、高密度ポリエチレン樹脂、低密度ポリエチレン樹脂、直鎖状低密度ポリエチレン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート／ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンテレフタレート／ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリカーボネート／アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂、ポリカーボネート／ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリカーボネート／ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリカーボネート／ポリエステル樹脂、ポリカーボネート／ポリスチレン樹脂、ポリカーボネート／メタクリル酸メチル−ブタジエン−スチレン樹脂、ポリカーボネート／ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート／耐衝撃性ポリスチレン樹脂、メチルメタクリレート−スチレン共重合樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート／アクリロニトリル−スチレン−アクリレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート／ポリカーボネート樹脂、ポリプロピレン樹脂、メタクリル樹脂、メチルペンテン樹脂、生分解性樹脂、バイオマス樹脂、植物由来ポリアミド樹脂、ポリ乳酸／アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂、エチレン−ブチルアクリレート共重合樹脂、エチレン−アクリル酸エステル−グリシジルアクリレート共重合樹脂、エチレン−アクリル酸エステル−無水マレイン酸共重合樹脂、ポリオレフィン−無水マレイン酸グラフト重合樹脂、コポリエステル樹脂、シンジオタクチックポリスチレン樹脂、ポリエーテルイミド、熱可塑性ポリイミド樹脂、シロキサン変性ポリエーテルイミド樹脂、エチレン−メチルメタクリレート共重合樹脂、エチレン−グリシジルメタクリレート共重合樹脂、ポリシクロヘキシレンジメチレンテレフタレート樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリブチレンナフタレート樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、シクロオレフィン系樹脂、シクロオレフィンコポリマー、エチレン−（メタ）アクリル酸メチルコポリマー、ポリエーテルケトンエーテルケトンケトン樹脂、ポリアリルエーテルケトン樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種である、請求項２に記載の複合体。

【請求項5】

硬化性樹脂が、硬化性エポキシ樹脂、硬化性ジアリルフタレート樹脂、硬化性シリコーン樹脂、硬化性フェノール樹脂、硬化性不飽和ポリエステル樹脂、硬化性ポリイミド樹脂、硬化性ポリウレタン樹脂、硬化性メラミン樹脂、硬化性尿素樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種である、請求項３に記載の複合体。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、ＭＷＦ型ゼオライトと樹脂とを含む複合体に関する。

【背景技術】

【0002】

樹脂は、いまや我々の生活になくてはならない材料の一つである。
樹脂の実利用に際し、所望の形状にするため樹脂を成型及び加工する手法が用いられる。また、所望の特性を得るべく、異なる樹脂や材料（例えば、金属）と複合化する手法が用いられる。

【0003】

樹脂は線膨張係数が大きい、言い換えると熱収縮率が大きいことが知られており、成型及び加工する際の寸法安定性が低い傾向にある。そのため、異なる樹脂や金属と複合化する際、線膨張係数が異なることが原因となり、はがれ、歪み、割れ等を生じる場合がある。
樹脂の線膨張係数を低くする方法の一つとして、フィラーを添加する方法が用いられている。

【0004】

特許文献１及び２には、フィラーとしてゼオライトを用いた樹脂と、異なる樹脂とからなるフィルムにおいて、熱収縮率をほぼ同等とすることにより、成形性やヒートシール性が改善されることが提案されている。これらは、特許文献３や非特許文献１，２から理解できるように、ゼオライトの線膨張係数が樹脂より低いことから、ゼオライトを樹脂のフィラーとして利用することで、樹脂の大きな線膨張係数を低下させることを利用していると考えられる。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】特開２００６−３２７６９０号公報

【特許文献2】特開２００６−３３４８１９号公報

【特許文献3】特開２００２−２４９３１１号公報

【非特許文献】

【0006】

【非特許文献1】Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．１９９８，６０１−６０２．

【非特許文献2】Ｃｈｅｍ．Ｍａｔｅｒ．１９９９，１１，２５０８−２５１４．

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0007】

特許文献１には、低密度ポリエチレン、又はポリプロピレンと、モレキュラーシーブ３Ａ（合成ゼオライト）とを混練した樹脂層と、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、及びアルミニウム薄膜から選ばれる材料からなるバリアー層との間の熱収縮率の差異が小さくなることが開示されている。樹脂層に用いられる樹脂とゼオライトとの線膨張係数を比較すると、ゼオライトの方が低いため、ゼオライトを用いることにより樹脂層の線膨張係数が低くなり、バリアー層との線膨張係数の差異が小さくなると考えられる。特許文献１には、樹脂層に用いる樹脂とバリアー層の材料との選択は、熱収縮率の差異が近いことから、前記の組み合わせが好適であることが記載されいる。それにも関わらずモレキュラーシーブ３Ａを４０質量％以上の含有量とする必要があった。また、高含有量とした場合には、成形性が低下、つまり成形時にしわが発生する傾向にあった。これは、モレキュラーシーブス３Ａの含有量を増やすに従い、線膨張係数が異なる領域が増加すること、すなわち、線膨張係数の均一性が低いことに起因していると考えられる。

【0008】

特許文献２には、低密度ポリエチレンと、疎水性ゼオライト、モレキュラーシーブ３Ａ（合成ゼオライト）、モレキュラーシーブ１３Ｘ（合成ゼオライト）から選ばれるゼオライトとを混練した樹脂層と、ポリプロピレンからなるバリアー層との間の熱収縮率の差異がほぼ同等であることが開示されている。樹脂層に用いられる低密度ポリエチレンと、ゼオライトの線膨張係数を比較すると、ゼオライトの方が低いため、ゼオライトを用いることにより樹脂層の線膨張係数が低くなり、バリアー層に用いたポリプロピレンとの線膨張係数の差異が小さくなると考えられる。特許文献２には、低密度ポリエチレンとポリプロピレンの選択は、互いの熱収縮率が近いことから、前記の組み合わせが好適であることが記載されている。それにも関わらずゼオライトを３０質量％以上の含有量とする必要があった。また、高含有量とした場合には、成形性が低下、つまり成形時にしわが発生する傾向にあった。これは、ゼオライトの含有量を増やすに従い、線膨張係数が異なる領域が増加すること、すなわち、線膨張係数の均一性が低いことに起因していると考えられる。

【0009】

つまり、特許文献１，２は、熱収縮率が近い特定の異なる材料の組み合わせであり、熱収縮率の差異が大きい材料間で用いるためには、より熱収縮率を低減できる、言い換えるとより線膨張係数を低減できるゼオライトを含む樹脂との複合体の実現が求められる。また、線膨張係数の均一性が高い複合体が求められる。
そこで、本発明は、上記事情を鑑みなされたものであり、低充填量であっても、低い線膨張係数を有し、該線膨張係数の均一性が高い複合体を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0010】

本発明者は、鋭意検討の結果、ＭＷＦ型ゼオライトと樹脂とを含む複合体は、低い線膨張係数を有し、該線膨張係数の均一性が高い複合体であることを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は以下のとおりである。

【0011】

［１］
ＭＷＦ型ゼオライトと樹脂とを含む、複合体。
［２］
樹脂が熱可塑性樹脂である、［１］に記載の複合体。
［３］
樹脂が硬化性樹脂である、［１］に記載の複合体。
［４］
熱可塑性樹脂が、アイオノマー樹脂、エチレン−エチルアクリレート共重合樹脂、アクリロニトリル−スチレン−アクリレート共重合樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、エチレン−ビニルアルコール共重合樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル−塩素化ポリエチレン−スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル−エチレン−プロピレン−ジエン−スチレン共重合樹脂、シリコン系複合ゴム−アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、ポリ塩化ビニル／アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂、ポリアミド／アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂、ポリカーボネート／アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂、ポリカーボネート／アクリロニトリル−エチレン−プロピレン−ジエン−スチレン樹脂、ポリメタクリル酸メチル／アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン／アクリロニトリル−スチレン樹脂、塩化ビニル樹脂、塩素化ポリエチレン、酢酸繊維素樹脂、フッ素樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアリレート樹脂、熱可塑性ポリウレタン、アクリル系エラストマー、オレフィン系エラストマー、スチレン系エラストマー、ポリエーテルブロックアミド共重合樹脂、コポリエステル−エーテルエラストマー、ポリエステル系エラストマー、ポリフェニレンエーテル／ポリスチレン樹脂、ポリプロピレン／エチレン−プロピレン−ジエン樹脂、塩化ビニル−ニトリル系エラストマー、液晶樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、高密度ポリエチレン樹脂、低密度ポリエチレン樹脂、直鎖状低密度ポリエチレン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート／ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンテレフタレート／ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリカーボネート／アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂、ポリカーボネート／ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリカーボネート／ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリカーボネート／ポリエステル樹脂、ポリカーボネート／ポリスチレン樹脂、ポリカーボネート／メタクリル酸メチル−ブタジエン−スチレン樹脂、ポリカーボネート／ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート／耐衝撃性ポリスチレン樹脂、メチルメタクリレート−スチレン共重合樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート／アクリロニトリル−スチレン−アクリレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート／ポリカーボネート樹脂、ポリプロピレン樹脂、メタクリル樹脂、メチルペンテン樹脂、生分解性樹脂、バイオマス樹脂、植物由来ポリアミド樹脂、ポリ乳酸／アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂、エチレン−ブチルアクリレート共重合樹脂、エチレン−アクリル酸エステル−グリシジルアクリレート共重合樹脂、エチレン−アクリル酸エステル−無水マレイン酸共重合樹脂、ポリオレフィン−無水マレイン酸グラフト重合樹脂、コポリエステル樹脂、シンジオタクチックポリスチレン樹脂、ポリエーテルイミド、熱可塑性ポリイミド樹脂、シロキサン変性ポリエーテルイミド樹脂、エチレン−メチルメタクリレート共重合樹脂、エチレン−グリシジルメタクリレート共重合樹脂、ポリシクロヘキシレンジメチレンテレフタレート樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリブチレンナフタレート樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、シクロオレフィン系樹脂、シクロオレフィンコポリマー、エチレン−（メタ）アクリル酸メチルコポリマー、ポリエーテルケトンエーテルケトンケトン樹脂、ポリアリルエーテルケトン樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種である、［２］に記載の複合体。
［５］
硬化性樹脂が、硬化性エポキシ樹脂、硬化性ジアリルフタレート樹脂、硬化性シリコーン樹脂、硬化性フェノール樹脂、硬化性不飽和ポリエステル樹脂、硬化性ポリイミド樹脂、硬化性ポリウレタン樹脂、硬化性メラミン樹脂、硬化性尿素樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種である、［３］に記載の複合体。

【発明の効果】

【0012】

本発明によれば、線膨張係数が小さい複合体が提供される。

【発明を実施するための形態】

【0013】

以下、本発明を実施するための形態（以下、「本実施形態」という。）について詳細に説明する。ただし、本発明は、以下の本実施形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。

【0014】

（ＭＷＦ型ゼオライト）
ＭＷＦ型ゼオライトとは、Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｚｅｏｌｉｔｅ Ａｓｓｏｃｉａｔｉｏｎ（以下、ＩＺＡ、という）が定めるゼオライトの構造を規定するコードによりＭＷＦ構造として定義されるものである。

【0015】

ＭＷＦ型ゼオライトの具体的な例としては、米国特許４，２４７，４１６（以下、特許文献４ともいう）、韓国特許１０１５５５１４９（以下、特許文献５ともいう）、Ｎａｔｕｒｅ． ２０１５， ５２４， ７４−７８（以下、非特許文献３ともいう）等に記載がある。

【0016】

本実施形態におけるＭＷＦ型ゼオライトは、特許文献４、特許文献５、非特許文献３等の文献を参照し、珪素を含むシリカ源と、アルミニウムを含むアルミ源と、アルカリ金属及びアルカリ土類金属、有機構造規定剤、水等を含む混合ゲルの組成、混合ゲル調製のための温度、時間及び撹拌方法（無撹拌を含む）、混合ゲルの熟成のための温度、時間及び撹拌方法（無撹拌を含む）、混合ゲルの水熱合成のための温度、時間及び撹拌方法（無撹拌を含む）を、ＭＷＦ型ゼオライトが得られる範囲において、任意に選択することができる。また、得られたＭＷＦ型ゼオライトの分離、乾燥、焼成に関し、一般的に用いられる方法であれば特に限定されず用いることができる。

【0017】

本実施形態におけるＭＷＦ型ゼオライトのＸ線回折装置により得られるＸ線回折パターンは、特許文献４、特許文献５、非特許文献３等に記載のある、及びＩＺＡにより示されているＸ線回折パターンを有していればよい。Ｘ線回折ピークのそれぞれの高さ、及び高さの比率が特許文献４、特許文献５、非特許文献３、及びＩＺＡにより示されているに記載のある高さ、及び高さの比率と異なるものも、本実施形態におけるＭＷＦ型ゼオライトには含まれる。

【0018】

本実施形態において、表面修飾されたＭＷＦ型ゼオライトもＭＷＦ型ゼオライトに含まれる。ここで表面修飾とは、ゼオライト表面と反応可能な化合物（以下、表面修飾剤、という）とが反応することで、ゼオライト表面に表面修飾剤が結合することを指す。

【0019】

表面修飾剤としては、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、シラザン類、シロキサン類、アルコキシシラン類、分子内にＳｉ−Ｈ構造を有するハイドロジェンシラン類、分子内にＳｉ−Ｃｌ構造を有するクロロシラン類等が挙げられる。これらは、単独で用いても、複数種を組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、種々の有機基を有する化合物の入手が容易であり、取扱い性も容易であり、ゼオライト表面との反応性が高いことから、シラザン類、及びアルコキシシラン類が好適に用いられる。

【0020】

シラザン類としては、例えば、ヘキサメチルジシラザン、ヘキサエチルジシラザン等が挙げられる。

【0021】

シロキサン類としては、例えば、ヘキサメチルジシロキサン、１，３−ジブチルテトラメチルジシロキサン、１，３−ジフェニルテトラメチルジシロキサン、１，３−ジビニルテトラメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、３−グリシドキシプロピルペンタメチルジシロキサン等が挙げられる。

【0022】

アルコキシシラン類としては、例えば、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルプロポキシシラン、フェニルジメチルメトキシシラン、クロロプロピルジメチルメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ−オクチルトリエトキシシラン、ｎ−オクチルメチルジエトキシシラン、ｎ−デシルトリメトキシシラン、ｎ−オクタデシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェネチルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、ｎ−オクタデシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（βメトキシエトキシ）シラン、γ−メタアクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−（メタアクリルオキシプロピル）メチルジメトキシシラン、γ−メタアクリルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタアクリルオキシプロピルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−（アミノプロピル）メチルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−（アミノプロピル）トリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−（アミノプロピル）トリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、ヘプタデカトリフルオロプロピルトリメトキシシラン、ｎ−デシルトリメトキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン、ビス（トリエトキシシリル）エタン、ヘキサエトキシジシロキサン等が挙げられる。

【0023】

表面修飾する方法としては、一般的に用いられる方法であれば特に限定されず、例えば、ゼオライトと、表面修飾剤と、溶媒とを含む混合物を調製し、必要に応じて加熱することにより、ゼオライト表面と表面修飾剤との反応を促進し、表面修飾する方法や、化学気相蒸着法等が挙げられる。

【0024】

（樹脂）
本実施形態における樹脂は、好ましくは熱可塑性樹脂、及び／又は硬化性樹脂である。

【0025】

（熱可塑性樹脂）
熱可塑性樹脂とは、加熱により反応が起こることなく軟化して塑性を示し、成形できるが、冷却すると固化し、冷却と過熱を繰り返した場合、組成が可逆的に保たれる樹脂である。樹脂の構造としては、直線状分子構造を有する。

【0026】

熱可塑性樹脂としては、一般的に用いられるものであれば、特に限定されないが、アイオノマー樹脂、エチレン−エチルアクリレート共重合樹脂、アクリロニトリル−スチレン−アクリレート共重合樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、エチレン−ビニルアルコール共重合樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル−塩素化ポリエチレン−スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル−エチレン−プロピレン−ジエン−スチレン共重合樹脂、シリコン系複合ゴム−アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、ポリ塩化ビニル／アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂、ポリアミド／アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂、ポリカーボネート／アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂、ポリカーボネート／アクリロニトリル−エチレン−プロピレン−ジエン−スチレン樹脂、ポリメタクリル酸メチル／アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン／アクリロニトリル−スチレン樹脂、塩化ビニル樹脂、塩素化ポリエチレン、酢酸繊維素樹脂、フッ素樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアリレート樹脂、熱可塑性ポリウレタン、アクリル系エラストマー、オレフィン系エラストマー、スチレン系エラストマー、ポリエーテルブロックアミド共重合樹脂、コポリエステル−エーテルエラストマー、ポリエステル系エラストマー、ポリフェニレンエーテル／ポリスチレン樹脂、ポリプロピレン／エチレン−プロピレン−ジエン樹脂、塩化ビニル−ニトリル系エラストマー、液晶樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、高密度ポリエチレン樹脂、低密度ポリエチレン樹脂、直鎖状低密度ポリエチレン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート／ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンテレフタレート／ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリカーボネート／アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂、ポリカーボネート／ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリカーボネート／ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリカーボネート／ポリエステル樹脂、ポリカーボネート／ポリスチレン樹脂、ポリカーボネート／メタクリル酸メチル−ブタジエン−スチレン樹脂、ポリカーボネート／ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート／耐衝撃性ポリスチレン樹脂、メチルメタクリレート−スチレン共重合樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂；

【0027】

ポリブタジエン樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート／アクリロニトリル−スチレン−アクリレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート／ポリカーボネート樹脂、ポリプロピレン樹脂、メタクリル樹脂、メチルペンテン樹脂、生分解性樹脂、バイオマス樹脂、植物由来ポリアミド樹脂、ポリ乳酸／アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂、エチレン−ブチルアクリレート共重合樹脂、エチレン−アクリル酸エステル−グリシジルアクリレート共重合樹脂、エチレン−アクリル酸エステル−無水マレイン酸共重合樹脂、ポリオレフィン−無水マレイン酸グラフト重合樹脂、コポリエステル樹脂、シンジオタクチックポリスチレン樹脂、ポリエーテルイミド、熱可塑性ポリイミド樹脂、シロキサン変性ポリエーテルイミド樹脂、エチレン−メチルメタクリレート共重合樹脂、エチレン−グリシジルメタクリレート共重合樹脂、ポリシクロヘキシレンジメチレンテレフタレート樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリブチレンナフタレート樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、シクロオレフィン系樹脂、シクロオレフィンコポリマー、エチレン−（メタ）アクリル酸メチルコポリマー、ポリエーテルケトンエーテルケトンケトン樹脂、ポリアリルエーテルケトン樹脂等が挙げられる。これら熱可塑性樹脂は、単独で用いても、複数種を組み合わせて用いてもよい。

【0028】

ポリ塩化ビニル／アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂、ポリアミド／アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂、ポリカーボネート／アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂、ポリカーボネート／アクリロニトリル−エチレン−プロピレン−ジエン−スチレン樹脂、ポリメタクリル酸メチル／アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン／アクリロニトリル−スチレン樹脂、ポリプロピレン／エチレン−プロピレン−ジエン樹脂、ポリエチレンテレフタレート／ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンテレフタレート／ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリカーボネート／ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリカーボネート／ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリカーボネート／ポリエステル樹脂、ポリカーボネート／ポリスチレン樹脂、ポリカーボネート／メタクリル酸メチル−ブタジエン−スチレン樹脂、ポリカーボネート／ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート／耐衝撃性ポリスチレン樹脂、ポリブチレンテレフタレート／アクリロニトリル−スチレン−アクリレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート／ポリカーボネート樹脂、及び、ポリ乳酸／アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂は、／で区切られた２種以上の樹脂の混合物であることを表し、市販品として入手することができる。

【0029】

熱可塑性樹脂の具体例としては、以下が挙げられる。

【0030】

アイオノマー樹脂（例えば、三井・デュポンポリケミカル株式会社製ハイミラン）、エチレン−エチルアクリレート共重合樹脂（例えば、株式会社ＮＵＣ社製ＥＥＡ樹脂、日本ポリエチレン株式会社製レクスパールＥＥＡ、三井・デュポンポリケミカル株式会社製エルバロイＡＣ）、アクリロニトリル−スチレン−アクリレート共重合樹脂（例えば、旭化成株式会社製スタイラック−ＡＢＳ、奇美実業股▲分▼有限公司製キビラック、ＳＡＢＩＣジャパン合同会社製ジーロイ、Ｓｔｙｒｏｌｕｔｉｏｎ Ｓｏｕｔｈ Ｅａｓｔ Ａｓｉａ Ｂｒａｎｃｈ製ルーランＳ、日本エイアンドエル株式会社製ダイヤラック、ＵＭＧＡＢＳ株式会社製ダイヤラック、及びＵＭＧアロイ）、アクリロニトリル−スチレン共重合樹脂（例えば、旭化成株式会社製スタイラック−ＡＳ、奇美実業股▲分▼有限公司製キビサン、新日鉄住金化学株式会社製エスチレンＡＳ、Ｓｔｙｒｏｌｕｔｉｏｎ Ｓｏｕｔｈ Ｅａｓｔ Ａｓｉａ Ｂｒａｎｃｈ製ルーラン、ダイセルポリマー株式会社製セビアンＮ、テクノポリマー株式会社製サンレックス、東レ株式会社製トヨラック、日本エイアンドエル株式会社製ライタック−Ａ）、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂（例えば、宇部丸善ポリエチレン株式会社製ＵＢＥ ＥＶＡコポリマー、株式会社ＮＵＣ製ＥＶＡ樹脂、東ソー株式会社製ウルトラセン、日本ポリエチレン株式会社製ノバテックＥＶＡ、三井・デュポンポリケミカル株式会社製エバフレックス、旭化成株式会社製サンテック−ＥＶＡ）；

【0031】

エチレン−ビニルアルコール共重合樹脂（例えば、日本合成化学工業株式会社製ソアライト、及びソアノール）、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合樹脂（例えば、旭化成株式会社製スタイラック−ＡＢＳ、奇美実業股▲分▼有限公司製ポリラック、伸日鉄住金化学株式会社製エスチレンＡＢＳ、及びエスチレンＳＥ ＡＢＳ、Ｓｔｙｒｏｌｕｔｉｏｎ Ｓｏｕｔｈ Ｅａｓｔ Ａｓｉａ Ｂｒａｎｃｈ製テルラン、ノボデュア、及びタールックス、ダイセルポリマー株式会社製セビアン、及びノバロイ、テクノポリマー株式会社製テクノＡＢＳ、エクセロイ、及びテクノＭＵＨ、電気化学工業株式会社製電化ＡＢＳ、及びマレッカ、東レ株式会社製トヨラック、及びトヨラックパレル、日本エイアンドエル株式会社製クララスチック、及びサンタック、リケンテクノス株式会社製リケンコンパウンド、ＵＭＧ ＡＢＳ株式会社製ＵＭＧ ＡＢＳ、バルクサム、ダイヤラック、及びエコペレット）、アクリロニトリル−塩素化ポリエチレン−スチレン共重合樹脂（例えば、旭化成株式会社製スタイラック−ＡＣＳ）、アクリロニトリル−エチレン−プロピレン−ジエン−スチレン共重合樹脂（例えば、テクノポリマー株式会社製テクノＡＥＳ、日本エイアンドエル株式会社製ユニブライト、ＵＭＧ ＡＢＳ株式会社製ダイヤラック）；

【0032】

シリコン系複合ゴム−アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂（例えば、テクノポリマー株式会社製エクセロイ、ＵＭＧ ＡＢＳ株式会社製ダイヤラック）、ポリ塩化ビニル／アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂（例えば、昭和化成工業株式会社製ショーワエンプレックス）、ポリアミド／アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂（例えば、Ｓｔｙｒｏｌｕｔｉｏｎ Ｓｏｕｔｈ Ｅａｓｔ Ａｓｉａ Ｂｒａｎｃｈ製ターブレンドＮ、ダイセルポリマー株式会社製ノバロイＡ、テクノポリマー株式会社製エクセロイ、及びテクノアルファロイ、東レ株式会社製トヨラックＳＸ、日本エイアンドエル株式会社製テクニエース）、ポリカーボネート／アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂（例えば、ダイセルポリマー株式会社製ノバロイＳ、テクノポリマー株式会社製エクセロイ、及びテクノアルファロイ、電気化学工業株式会社製デンカＨＳポリマー、東レ株式会社製トヨラックＰＸ、及びトヨラックＷＸ、日本エイアンドエル株式会社製テクニエース、ＵＭＧ ＡＢＳ株式会社製ＵＭＧアロイ、及びエコペレット）、ポリカーボネート／アクリロニトリル−エチレン−プロピレン−ジエン−スチレン樹脂（例えば、テクノポリマー株式会社製エクセロイ、日本エイアンドエル株式会社製テクニエース）、ポリブチレンテレフタレート／アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂（例えば、ダイセルポリマー株式会社製ノバロイＢ、テクノポリマー株式会社製エクセロイ、東レ株式会社製トヨラックＶＸ、日本エイアンドエル株式会社製テクニエース）、ポリメタクリル酸メチル／アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン／アクリロニトリル−スチレン樹脂（例えば、旭化成株式会社製スタイラック−ＡＢＳ）；

【0033】

塩化ビニル樹脂（例えば、サン・アロー化成株式会社製サナーコンパウンド、サナーモード、及びサンビック、昭和化成株式会社製カネビニールコンパウンド、エパーレ、及びエラスリット、信越ポリマー株式会社製シンエツ塩ビコンパウンド、及びシンエツＥＸＥＬＡＳＴ、プラステクノ株式会社製ポリビンコンパウンド、三菱化学株式会社製ビニカ、サンプレーン、及びサンフロスト、リケンテクノス株式会社製リケンコンパウンド、フローマスター、リフォレスト、レオニール、及びリプレックス、プラス・テク株式会社製場ネックス、ＰＸコンパウンド、及びレオマーＧ）、塩素化ポリエチレン（例えば、昭和電工株式会社製エラスレン、ダウ・ケミカル日本株式会社製タイリン）、酢酸繊維素樹脂（例えば、セルロースアセテート樹脂、セルロースエステル樹脂、セルロースアセテートブチレート樹脂、セルロースアセテートプロピオネート樹脂、であり、株式会社ダイセルファインケム製アセチ、ダイセルポリマー株式会社製セルブレンＥＣ、イーストマンケミカルジャパン株式会社製テナイト）、フッ素樹脂（例えば、旭硝子株式会社製フルオン、アルケマ株式会社製カイナー、及びカイナーフレックス、住友スリーエム株式会社製ダイニオン、セントラル硝子株式会社製セフラルソフト、ソルベイスペシャルティポリマーズジャパン株式会社製ポリミスト、ヘイラー、ハイラー、ソレフ、ソルベイン、及びアクイヴィオン、ダイキン工業株式会社製ポリフロン、ニューポリフロン、ルブロン、及びネオフロン、三井・デュポンフロロケミカル株式会社製テフゼル、テフロン（登録商標））、ポリアセタール樹脂（例えば、旭化成株式会社製テナック、インターテック株式会社製エコタール、セラニーズジャパン株式会社製ホスタフォルム、及びセルコン、デュポン株式会社製デルリン、東レインターナショナル株式会社製コセタール、ＢＡＳＦジャパン株式会社製ウルトラフォルム、ポリプラスチックス株式会社製ジュラコン、三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社製ユピタール）、ポリアミド樹脂（例えば、旭化成株式会社製レオナ、アセンドパフォーマンスマテリアルズジャパン株式会社製バイダイン、アルケマ株式会社製リルサミド、リルサンクリアー、及びハイプロロン９０、インターテック株式会社製エコアミド、宇部興産株式会社製ＵＢＥナイロン、及びウベスタ、エムスケミー・ジャパン株式会社製グリルアミド、グリボリー、及びグリロン、エンプラ株式会社製Ｅ−Ｐナイロン、株式会社クラレ製ジェネスタ、ソルベイジャパン株式会社製テクニール、テクニールスター、テクニールアロイ、及びテクニールエクステン、ソルベイスペシャルティポリマーズジャパン株式会社製アモデル、ダイセル・エボニック株式会社製ダイアミド、ベスタミド、及びトロガミド、高安株式会社製タナジン、ディーエスエムジャパンエンジニアリングプラスチックス株式会社製スタニール、ノバミッド、及びアクロン、帝中株式会社製テイチューナイロン、及びオキロン、デュポン株式会社製ザイテル、テラボウ株式会社製テラボウナイロン、東洋樹脂株式会社製トーヨーレジン、東洋紡株式会社製グラマイド、東レ株式会社製アミラン、ＢＡＳＦジャパン株式会社製ウルトラミッド、三井化学株式会社製アーレン、三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社製レニー、ユニチカ株式会社製ユニチカナイロン、及びマラーニル、ランクセス株式会社製デュレタン）；

【0034】

ポリアリレート樹脂（例えば、ユニチカ株式会社製Ｕ−ポリマー、及びアリーアロイ）、熱可塑性ポリウレタン（例えば、昭和化成工業株式会社製マキシロン、大日精化工業株式会社製レザミン、ＤＩＣ株式会社製パンデックス、ディーアイシーバイエルポリマー株式会社製パンデックス、デスモパン、及びテキシン、日本ポリウレタン工業株式会社製ミラクトラン、日本ルーブリゾール株式会社製エステン、テコフレックス、カーボタン、テコフィリック、ペレセン、アイソプラスト、パールコート、及びスタットライト、ＢＡＳＦジャパン株式会社製エラストラン）、アクリル系エラストマー（例えば、アロン化成株式会社製トライゼクト、株式会社クラレ製クラリティ）、オレフィン系エラストマー（例えば、インターテック株式会社製エコプレン、エクソンモービルジャパン合同会社製サントプレーン、及びビスタマックス、ＪＳＲ株式会社製エクセリンク、昭和化成工業株式会社製マキシロン、住友化学株式会社製エスポレックス、ダウ・ケミカル日本株式会社製エンゲージＰＯＥ、インフューズＯＢＣ、及びバーシファイ、株式会社西田技研製フルクサス、日本ポリプロ株式会社製ウェルネクス、株式会社プライムポリマー製プライムＴＰＯ、プラス・テク株式会社製アムゼル、三井化学株式会社製ミラストマー、三菱化学株式会社製ゼラス、及びサーモラン、リケンテクノス株式会社製マルチユースレオストマー、レオストマーＳＥ、オクティマーＧ、オレフレックス、及びトリニティＦＲ）；

【0035】

スチレン系エラストマー（例えば、旭化成株式会社製タフプレン、アサプレン、及びタフテック、アロン化成株式会社製エラストマーＡＲ、及びグレイザード、インターテック株式会社製エコプレン、奇美実業股▲分▼有限公司製キビトン、三菱化学株式会社製ラバロン、ＪＳＲ株式会社製ダイナロン）、スチレン−ブタジエン樹脂（例えば、株式会社クラレ製セプトン、及びハイブラー、クレイトンポリマージャパン株式会社製クレイトン、ＪＳＲ株式会社製ＪＳＲ ＴＲ、及びＪＳＲ ＳＩＳ、昭和化成工業株式会社製マキシロン、新興化成株式会社製トリブレン、及びスーパートリブレン、住友化学株式会社製エスポレックス、株式会社西田技研製フルクサス、リケンテクノス株式会社製レオストマー、アクティマー、及びＥ触感エラストマー、旭化成株式会社製アサフレックス）、ポリエーテルブロックアミド共重合樹脂（例えば、アルケマ株式会社製ペバックス、及びペバックスクリアー、宇部興産株式会社製ウベスタ エクスパ、エムスケミー・ジャパン株式会社製グリロンＥＬＸ、及びグリルフレックス、ダイセル・エボニック株式会社製ダイアミド、及びベスタミド）、コポリエステル−エーテルエラストマー（例えば、イーストマンケミカルジャパン株式会社製エクデルエラストマー）、ポリエステル系エラストマー（例えば、アロン化成株式会社製エステラール、ディーエスエムジャパンエンジニアリングプラスチックス株式会社製アーニテル、東洋紡株式会社製ペルプレン、及びグリラックス、東レ・デュポン株式会社製ハイトレル、三菱化学株式会社製プリマロイ）、ポリフェニレンエーテル／ポリスチレン樹脂（例えば、ＳＡＢＩＣジャパン合同会社製フレキシブルノリル）、ポリプロピレン／エチレン−プロピレン−ジエン樹脂（例えば、東洋紡株式会社製サーリンク）、塩化ビニル−ニトリル系エラストマー（例えば、プラス・テク株式会社製ＬＣＳ）、液晶樹脂（例えば、上野製薬株式会社製ＵＥＮＯ ＬＣＰ、ＪＸ日鉱日石エネルギー株式会社製ザイダー、住友化学株式会社製スミカスーパーＬＣＰ、セラニーズジャパン株式会社製ベクトラ、及びゼナイト、ＤＩＣ株式会社製オクタ、東レ株式会社製シベラス、ポリプラスチックス株式会社製ラペロス）；

【0036】

ポリエーテルエーテルケトン樹脂（例えば、住友化学株式会社製スミプロイＫ、ソルベイスペシャルティポリマーズジャパン株式会社製キータスパイア、及びアバスパイア、ダイセル・エボニック株式会社製ベスタキープ、ビクトレックス・ジャパン株式会社製ビクトレックスＰＥＥＫ、及びビクトレックスＰＥＥＫ−ＨＴ）、ポリサルホン樹脂、及びポリエーテルサルホン樹脂（例えば、住友化学株式会社製スミカエクセルＰＥＳ、及びスミプロイＳ、ソルベイスペシャルティポリマーズジャパン株式会社製ユーデル、ベラデル、及びレーデル、ＢＡＳＦジャパン株式会社製ウルトラゾーンＥ、ウルトラゾーンＳ、及びウルトラゾーンＰ、三井化学ファイン株式会社製ＰＥＳ）、高密度ポリエチレン樹脂（例えば、旭化成株式会社製サンテック−ＨＤ、クレオレックス、サンファインＬＨ、サンファインＳＨ、及びサンファインＵＨ、京葉ポリエチレン株式会社製ＫＥＩＹＯポリエチ、東ソー株式会社製ニポロンハード、日本ポリエチレン株式会社製ノバテックＨＤ、株式会社プライムポリマー製ハイゼックス、及びエボリューＨ、セラニーズジャパン株式会社製ＧＵＲ、三井化学株式会社製ハイゼックスミリオン、及びミペロン）、低密度ポリエチレン樹脂（例えば、旭化成株式会社製サンテック−ＬＤ、及びサンファイン−ＰＡＫ、宇部丸善ポリエチレン株式会社製ＵＢＥポリエチレン、及びＵＢＥ粉末ポリエチレン、株式会社ＮＵＣ製ＬＤＰＥ樹脂、及びノンハロゲン難燃性ＰＥ、住友化学株式会社製スミカセン、東ソー株式会社製ペトロセン、日本ポリエチレン株式会社製ノバテックＬＤ、住友精化株式会社製フローセン）、直鎖状低密度ポリエチレン樹脂（例えば、宇部丸善ポリエチレン株式会社製ユメリット、株式会社ＮＵＣ製Ｌ−ＬＤＰＥ樹脂、住友化学株式会社製スミカセン−Ｌ、スミカセンＥ、エクセレンＶＬ、及びエクセレンＦＸ、東ソー株式会社製ニポロン−Ｌ、ニポロン−Ｚ、及びルミタック、日本ポリエチレン株式会社製ノバテックＬＬ、ノバテックＣ６、及びハーモレックス、株式会社プライムポリマー製ネオゼックス、ウルトゼックス、及びエボリュー）；

【0037】

ポリエチレンテレフタレート樹脂（例えば、ウィンテックポリマー株式会社製ＦＲ−ＰＥＴ、株式会社カネカ製ハイパーライト、大洋化学株式会社製ＰＥＴコンパウンド、デュポン株式会社製ライナイト、テラボウ株式会社製テラボウレジン、東洋紡株式会社製バイロペット、ユニチカ株式会社製ユニチカポリエステル樹脂）、ポリエチレンテレフタレート／ポリカーボネート樹脂（例えば、株式会社カネカ製ハイパーライトＪＰ、東洋紡株式会社製バイロペット）、ポリエチレンテレフタレート／ポリブチレンテレフタレート樹脂（例えば、ダイセルポリマー株式会社製ノバロイＢ、東洋紡株式会社製バイロペット）、ポリカーボネート樹脂（例えば、出光興産株式会社製タフロン、及びタフロンネオ、インターテック株式会社製エコＰＣ、奇美実業股▲分▼有限公司製ワンダーライト、株式会社コテック製コテックス、ＳＡＢＩＣジャパン合同会社製レキサン、住化スタイロンポリカーボネート株式会社製カリバー、及びＳＤポリカ、帝人株式会社製パンライト、バイエルマテリアルサイエンス株式会社製マクロロン、及びアペックＨＴ、三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社製ユーピロン、ノバレックス、及びザンター）、ポリカーボネート／アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂（例えば、出光興産株式会社製タフロン、奇美実業股▲分▼有限公司製ワンダーロイ、株式会社コテック製コテックス、ＳＡＢＩＣジャパン合同会社製サイコロイ、住化スタイロンポリカーボネート株式会社製ＳＤポリカ、帝人株式会社製マルチロン、バイエルマテリアルサイエンス株式会社製バイブレンド、三菱エンジニアリングプラスチック株式会社製ユーピロン、及びザンター）、ポリカーボネート／ポリエチレンテレフタレート樹脂（例えば、住化スタイロンポリカーボネート株式会社製ＳＤポリカ、三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社製ザンターＥ）、ポリカーボネート／ポリブチレンテレフタレート樹脂（例えば、ＳＡＢＩＣジャパン合同会社製ゼノイ、及びゼノイｉＱ、住化スタイロンポリカーボネート株式会社製ＳＤポリカ）；

【0038】

ポリカーボネート／ポリエステル樹脂（例えば、ＳＡＢＩＣジャパン合同会社製ザイレックス、住化スタイロンポリカーボネート株式会社製ＳＤポリカ、ダイセルポリマー株式会社製ノバロイＣ、帝人株式会社製パンライト、三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社製ユーピロン）、ポリカーボネート／ポリスチレン樹脂（例えば、出光興産株式会社製タフロン）、ポリカーボネート／メタクリル酸メチル−ブタジエン−スチレン樹脂（例えば、住化スタイロンポリカーボネート株式会社製ＳＤポリカ）、ポリカーボネート／ポリメチルメタクリレート樹脂（例えば、三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社製ユーピロン）、ポリスチレン樹脂（例えば、奇美実業股▲分▼有限公司製ポリレックス、Ｓｔｙｒｏｌｕｔｉｏｎ Ｓｏｕｔｈ Ｅａｓｔ Ａｓｉａ Ｂｒａｎｃｈ製Ｓｔｙｒｏｌｕｔｉｏｎ ＰＳ、ＤＩＣ株式会社製ディックスチレン、及びハイブランチ、東洋スチレン株式会社製トーヨースチロール、ＰＳジャパン株式会社製ＰＳＪ−ポリスチレン）、ポリカーボネート／耐衝撃性ポリスチレン樹脂（例えば、ダイセルポリマー株式会社製ノバロイＸ）メチルメタクリレート−スチレン共重合樹脂（奇美実業股▲分▼有限公司製アクリステックス、新日鐵住金化学株式会社製エスチレンＭＳ、エスチレンＫＭ、及びエスチレンＭＢＳ、ダイセルポリマー株式会社製セビアンＭＡＳ、電気化学工業株式会社製デンカＴＸポリマー）、ポリフェニレンエーテル樹脂（例えば、旭化成株式会社製ザイロン、ＳＡＢＩＣジャパン合同会社製ノリル、ノリルＧＴＸ、及びノリルＰＰＸ、ダイセル・エボニック株式会社製ベストラン、三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社製ユピエース、及びレマロイ）、ポリフェニレンサルファイド樹脂（例えば、出光ライオンコンポジット株式会社製カルプ、ＡＧＣマテックス株式会社製アサヒＰＰＳ、株式会社コテック製コテックＰＰＳ、ＤＩＣ株式会社製ＤＩＣ・ＰＰＳ、プリメフ、及びアモルボン、東ソー株式会社製サスティール、東洋紡株式会社製東洋紡ＰＰＳ、東レ株式会社製トレリナ、ポリプラスチックス株式会社製ジェラファイド）；

【0039】

ポリブタジエン樹脂（例えば、ＪＳＲ株式会社製ＪＳＲ ＲＢ、旭化成株式会社製ジエン、及びタフデン、宇部興産株式会社性ＵＢＥＰＯＬ、）、ポリブチレンテレフタレート樹脂（例えば、インターテック株式会社製エコＰＢＴ、ウィンテックポリマー株式会社製ジェラネックス、ＳＡＢＩＣジャパン合同会社製バロックス、及びバロックスｉＱ、セラニーズジャパン株式会社製セラネックス、デュポン株式会社製クラスティン、テラボウ株式会社製テラボウレジン、東洋紡株式会社製バイロペット、及びプラナット、東レ株式会社製トレコン、パナソニック株式会社製フルファイン、ＢＡＳＦジャパン株式会社製ウルトラデュアー、三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社製ノバデュラン、ランクセス株式会社製ポカン）、ポリブチレンテレフタレート／アクリロニトリル−スチレン−アクリレート樹脂（例えば、ＢＡＳＦジャパン株式会社製ウルトラデュアー、ランクセス株式会社製ポカン）、ポリブチレンテレフタレート／ポリカーボネート樹脂（例えば、東洋紡株式会社製バイロペット、ランクセス株式会社製ポカン）、ポリブチレンテレフタレート／ポリエチレンテレフタレート樹脂（例えば、ＢＡＳＦジャパン株式会社製ウルトラデュアー、ランクセス株式会社製ポカン）、ポリプロピレン樹脂（例えば、サンアロマー株式会社製サンアロマー、ハイファックス、アドフレックス、クオリア、及びアドシル、住友化学株式会社製住友ノーブレン、及びスミストラン、テラボウ株式会社製テラボウレジン、日本ポリプロ株式会社製ノバテックＰＰ、及びウィンテック、パナソニック株式会社製フルエース、株式会社プライムポリマー製プライムポリプロ、ポリファイン、及びモストロンＬ、ＳＡＢＩＣジャパン合同会社製スタマックス、ダイセルポリマー株式会社製プラストロン、及びダイセルＰＰ、日本ポリプロ株式会社製ファンクスター、住友精化株式会社製フローブレン）、メタクリル樹脂（例えば、旭化成株式会社製デルペット、及びデルペットＳＲ、アルケマ株式会社製アルテュグラス、奇美実業股▲分▼有限公司製アクリレックス、株式会社クラレ製パラペット、住友化学株式会社製スミペックス、三菱レイヨン株式会社製アクリペット、及びアクリペットＩＲ）、メチルペンテン樹脂（例えば、三井化学株式会社製ＴＰＸ）；

【0040】

生分解性樹脂、及びバイオマス樹脂（例えば、株式会社カネカ製アオニレックス、昭和電工株式会社製ビオノーレ、及びビオノーレスタークラ、ネイチャーワークスジャパン株式会社製インジオ、東レ株式会社製エコディア、ＢＡＳＦジャパン株式会社製エコフレックス、及びエコバイオ、三菱化学株式会社製ＧＳＰｌａ、ユニチカ株式会社製テラマック、ＪＳＲ株式会社製バイオロイ、帝人株式会社製バイオフロント、日本ユピカ株式会社製バイオマップ）、植物由来ポリアミド樹脂（例えば、アルケマ株式会社製リルサン、リルサンクリアーＲｎｅｗ、リルサンＨＴ、ペバックスＲｎｅｗ、ハイプロロン７０、ハイプロロン２１１、リルサンＴ、ハイプロロン２００、ハイプロロン１１、及びハイプロロン４００、ダイセル・エボニック株式会社製ベスタミド、ユニチカ株式会社製ゼコット）、植物由来熱可塑性ポリウレタンエラストマー（例えば、日本ルーブリゾール株式会社製パールコート、インターテック株式会社製エコＴＰＵ）、ポリ乳酸／アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂（例えば、ＵＭＧ ＡＢＳ株式会社製エコペレット、ユニチカ株式会社製テラマック）、エチレン−ブチルアクリレート共重合樹脂（例えば、アルケマ株式会社製ロトリル）、エチレン−アクリル酸エステル−グリシジルアクリレート共重合樹脂（例えば、アルケマ株式会社製ロタダー）、エチレン−アクリル酸エステル−無水マレイン酸共重合樹脂（例えば、アルケマ株式会社製ボンダイン）、ポリオレフィン−無水マレイン酸グラフト重合樹脂（例えば、アルケマ株式会社製オレバックＧ）、コポリエステル樹脂（例えば、イーストマンケミカルジャパン株式会社製イースターコポリエステル、スペクターコポリエステル、プロビスタコポリマー、デュラスターポリマー、トライタンコポリエステル、及びケイダンスコポリエステル）、シンジオタクチックポリスチレン樹脂（例えば、出光興産株式会社製ザレック）；

【0041】

ポリエーテルイミド（例えば、ＳＡＢＩＣジャパン合同会社製ウルテム）、熱可塑性ポリイミド樹脂（例えば、ＳＡＢＩＣジャパン合同会社製エクステム、デュポン株式会社製ベスペルＴＰ、三井化学株式会社製オーラム、ハンツマンアドバンスドマテリアルズ社製Ｍａｔｒｉｍｉｄ）、シロキサン変性ポリエーテルイミド樹脂（例えば、ＳＡＢＩＣジャパン合同会社製シルテム）、エチレン−メチルメタクリレート共重合樹脂（例えば、住友化学株式会社製アクリフト）、エチレン−グリシジルメタクリレート共重合樹脂（例えば、住友化学株式会社製ボンドファースト）、ポリシクロヘキシレンジメチレンテレフタレート樹脂（例えば、セラニーズジャパン株式会社製サーミックス）、ポリアミドイミド樹脂（例えば、ソルベイスペシャルティポリマーズジャパン株式会社製トーロン）、ポリエチレンナフタレート樹脂（例えば、帝人株式会社製テオネックス）、ポリブチレンナフタレート樹脂（例えば、帝人株式会社製ＰＢＮ）、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂（例えば、メルセンＨ）、ポリブチレンテレフタレート樹脂（例えば、東洋紡株式会社製バイロペット）、シクロオレフィン系樹脂（例えば、日本ゼオン株式会社製ゼオネックス、及びゼオノア、ＪＳＲ株式会社製アートン）、シクロオレフィンコポリマー（例えば、ポリプラスチックス株式会社製トパス、三井化学株式会社性アペル）、エチレン−（メタ）アクリル酸メチルコポリマー（例えば、日本ポリエチレン株式会社製レクスパールＥＭＡ、三井・デュポンポリケミカル株式会社製エルバロイＡＣ、三井化学株式会社製オーラム、及びニュクレル）、ポリエーテルケトンエーテルケトンケトン樹脂（例えば、ビクトレックス・ジャパン株式会社製ビクトレックスＳＴ）；

【0042】

ポリアリルエーテルケトン樹脂（例えば、ビクトレックス・ジャパン株式会社製ビクトレックス）、及びその他一般的に入手可能な樹脂（例えば、ダイセルポリマー株式会社製ダイセルＰＰ、ＳＡＢＩＣジャパン合同会社製スタマックス、ダイセルポリマー株式会社製プラストロン、日本ポリプロ株式会社製ファンクスター、株式会社プライムポリマー製モストロンＬ、プラス・テク株式会社製アムゼル、大塚化学株式会社製ポチコン、及びウィスタット、クラスターテクノロジー株式会社製エポクラスター、阪元薬品工業株式会社製ＭＣ樹脂、山陽化工株式会社製オパライトＳＰ、ＳＡＢＩＣジャパン合同会社製サーモコンプ、ルブリコンプ、ルブリロイ、スタットコン、スタットロイ、ファラデックス、コンデュイット、及びバートン、山陽化工株式会社製オパライトＯＰ、住友電工ファインポリマー株式会社製ガンプラ、ダイセルポリマー株式会社製プラストロン、ダイセルポリマー株式会社製セビアンＶ、ノバロイＳ、ノバロイＡ、及びノバロイＢ、高六商事株式会社製ＴＲレジン、ハイクールゲン、ＴＲＦレジン、及びリーゲンペレット、ＤＩＣ株式会社製リューレックス、電気化学工業株式会社製デンカＴＨポリマー、及びクリアレン、東ソー株式会社製メルセンＭ、日本ポリエチレン株式会社製レクスパールＥＴ、日本ポリエチレン株式会社製カーネル、プラス・テク株式会社製ライデックスエコ、ポリプラスチックス株式会社製フレクティス、三井化学株式会社製プロベスト、及びリュブマー、三井・デュポンポリケミカル株式会社製ＣＭＰＳ、ＵＭＧ ＡＢＳ株式会社製ＵＭＧ ＷＯＯＤ、リケンテクノス株式会社製リケン難燃コンパウンド、リケン摺動コンパウンド、スーパーオーム、スタティクマスター、及びリケンコンパウンド、フドー株式会社製エコフドウライト、出光ライオンコンポジット株式会社製カルプ）。

【0043】

これらの中でも、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂、酢酸繊維素樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエーテルブロックアミド共重合樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、メタクリル樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、熱可塑性ポリイミド樹脂、エチレン−ビニルアルコール共重合樹脂、フッ素樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。

【0044】

（硬化性樹脂）
硬化性樹脂とは、重合性置換基を２個以上有する化合物、又は重合性置換基を有する化合物と、重合性置換基と反応し結合を生じる反応性置換基を有する化合物との混合物であって、前記重合性置換基、及び反応性置換基の化合物中に含まれる数が、それぞれ２個以上である混合物と、必要に応じて添加される重合開始剤とを含む硬化性樹脂組成物を、熱、及び／又は光により、重合性置換間、又は重合性置換基間、及び重合性置換基と反応性置換基間で結合を生じることで、三次元構造、又は網目構造を形成することで得られる樹脂である。前記重合開始剤とは、熱、及び／又は光により、重合性置換間、又は重合性置換基間、及び重合性置換基と反応性置換基間で結合を生じ、三次元構造、又は網目構造が形成することを、促進する化合物である。また、硬化性樹脂組成物を、熱、及び／又は光により、重合性置換間、又は重合性置換基間、及び重合性置換基と反応性置換基間で結合を生じることで、三次元構造、又は網目構造を形成することを重合という。

【0045】

硬化性樹脂としては、一般的に用いられるものであれば特に限定されないが、硬化性エポキシ樹脂、硬化性ジアリルフタレート樹脂、硬化性シリコーン樹脂、硬化性フェノール樹脂、硬化性不飽和ポリエステル樹脂、硬化性ポリイミド樹脂、硬化性ポリウレタン樹脂、硬化性メラミン樹脂、硬化性尿素樹脂等が挙げられる。これら硬化性樹脂は、単独で用いても、複数種を組み合わせて用いてもよい。

【0046】

硬化性樹脂としては、これらの中でも、硬化性エポキシ樹脂、硬化性ジアリルフタレート樹脂、硬化性シリコーン樹脂、硬化性フェノール樹脂、硬化性不飽和ポリエステル樹脂、硬化性ポリイミド樹脂、硬化性ポリウレタン樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。

【0047】

（硬化性エポキシ樹脂）
硬化性エポキシ樹脂とは、重合性を有する環状エーテル骨格（３員環環状エーテル骨格をエポキシ基、４員環環状エーテル骨格をオキセタン基等）の内、エポキシ基を重合性置換基として２個以上有するエポキシ化合物と、エポキシ化合物重合開始剤と、を含む硬化性エポキシ樹脂組成物を、硬化し、得られる硬化性樹脂である。

【0048】

エポキシ化合物を具体的に例示するならば、ポリフェノール化合物のグリシジルエーテル化物である多官能エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物、各種ノボラック化合物のグリシジルエーテル化物である多官能エポキシ化合物、芳香族エポキシ化合物の核水素化物、複素環式エポキシ化合物、グリシジルエステル系エポキシ化合物、グリシジルアミン系エポキシ化合物、及びハロゲン化フェノール類をグリシジル化したエポキシ化合物、多官能脂肪族エポキシ化合物、異種重合性官能基含有エポキシ化合物等が挙げられる。これらは単独で用いても、複数を組み合わせて用いてもよい。

【0049】

（多官能エポキシ化合物）
ポリフェノール化合物のグリシジルエーテル化物である多官能エポキシ化合物は、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、具体的には、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、４，４’−ビフェノール、テトラメチルビスフェノールＡ、ジメチルビスフェノールＡ、テトラメチルビスフェノールＦ、ジメチルビスフェノールＦ、テトラメチルビスフェノールＳ、ジメチルビスフェノールＳ、テトラメチル−４，４’−ビフェノール、ジメチル−４，４’−ビフェノール、１−（４−ヒドロキシフェニル）−２−［４−（１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）エチル）フェニル］プロパン、２，２’−メチレン−ビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、トリスヒドロキシフェニルメタン、レゾルシノール、ハイドロキノン、２，６−ジ（ｔ−ブチル）ハイドロキノン、ピロガロール、ジイソプロピリデン骨格を有するフェノール類、１，１−ジ（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン等のフルオレン骨格を有するフェノール類、及びフェノール化ポリブタジエン等のポリフェノール化合物のグリシジルエーテル化物等が挙げられる。

【0050】

（脂環式エポキシ化合物）
脂環式エポキシ化合物は、脂環式エポキシ構造を有するエポキシ化合物であれば、特に限定されず、例えば、シクロヘキセンオキシド基、トリシクロデセンオキシド基又はシクロペンテンオキシド基等を有するエポキシ化合物等が挙げられる。脂環式エポキシ化合物の具体例としては、３，４−エポキシシクロヘキセニルメチル−３’，４’−オエポキシシクロヘキセンカルボキシレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシシクロヘキシルオクチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビニルシクロヘキセンジオキシド、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシル−３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサン）、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールジ（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）エーテル、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、及び１，２，８，９−ジエポキシリモネンが挙げられる。他の多官能脂環式エポキシ化合物としては、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−１−ブタノールの１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル）シクロヘキセン又は１，２−チオエポキシ−４−（２−オキシラニル）シクロヘキセン付加物等が挙げられる。

【0051】

（ノボラック化合物のグリシジルエーテル化物である多官能エポキシ化合物）
ノボラック化合物のグリシジルエーテル化物である多官能エポキシ化合物は、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、フェノール、クレゾール類、エチルフェノール類、ブチルフェノール類、オクチルフェノール類、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、及びナフトール類等の各種フェノールを原料とするノボラック化合物、キシリレン骨格含有フェノールノボラック化合物、ジシクロペンタジエン骨格含有フェノールノボラック化合物、ビフェニル骨格含有フェノールノボラック化合物、並びに、フルオレン骨格含有フェノールノボラック化合物等の各種ノボラック化合物のグリシジルエーテル化物等が挙げれる。

【0052】

（芳香族エポキシ化合物の核水素化物）
芳香族エポキシ化合物の核水素化物は、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、フェノール化合物（ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、４，４’−ビフェノール等）のチオグリシジルエーテル化物、又は各種フェノール（フェノール、クレゾール類、エチルフェノール類、ブチルフェノール類、オクチルフェノール類、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、ナフトール類等）の芳香環を核水素化したもの、並びに、ノボラック化合物のグリシジルエーテル化物の核水素化物等が挙げられる。

【0053】

（複素環式エポキシ化合物）
複素環式エポキシ化合物は、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、イソシアヌル環、及びヒダントイン環等の複素環を有する複素環式エポキシ化合物等が挙げられる。

【0054】

（グリシジルエステル系エポキシ化合物）
グリシジルエステル系エポキシ化合物は、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル及びテトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル等の、カルボン酸化合物から誘導されるエポキシ化合物等が挙げられる。

【0055】

（グリシジルアミン系エポキシ化合物）
グリシジルアミン系エポキシ化合物は、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、アニリン、トルイジン、ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン誘導体及びジアミノメチルベンゼン誘導体等のアミンをグリシジル化したエポキシ化合物等が挙げられる。

【0056】

（ハロゲン化フェノール類をグリシジル化したエポキシ化合物）
ハロゲン化フェノール類をグリシジル化したエポキシ化合物は、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、ブロム化ビスフェノールＡ、ブロム化ビスフェノールＦ、ブロム化ビスフェノールＳ、ブロム化フェノールノボラック、ブロム化クレゾールノボラック、クロル化ビスフェノールＳ、及びクロル化ビスフェノールＡ等のハロゲン化フェノール類をグリシジルエーテル化したエポキシ化合物等が挙げられる。

【0057】

（多官能脂肪族エポキシ化合物）
多官能脂肪族エポキシ化合物としては、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、具体的には、１，１−ビスエポキシメタン、１−エポキシ−１−（２，３−エポキシプロピル）メタン、１，１−ビス（２，３−エポキシプロピル）メタン、１−エポキシ−１−（２，３−エポキシプロピル）エタン、１，２−ビス（２，３−エポキシプロピル）エタン、１−エポキシ−３−（２，３−エポキシプロピル）ブタン、１，３−ビス（２，３−エポキシプロピル）プロパン、１−エポキシ−４−（２，３−エポキシプロピル）ペンタン、１，４−ビス（２，３−エポキシプロピル）ブタン、１−エポキシ−５−（２，３−エポキシプロピル）ヘキサン、テトラキス（２，３−エポキシプロピル）メタン、１，１，１−トリス（２，３−エポキシプロピル）プロパン、１，１，３−トリス（２，３−エポキシプロピル）−２−チアプロパン、１，２，４，５−ビス（２，３−エポキシプロピル）−３−チアペンタン、１，３または１，４−ビスエポキシシクロヘキサン、１，３または１，４−ビス（２，３−エポキシプロピル）シクロヘキサン、２，５−ビスエポキシ−１，４−ジチアン、２，５−ビス（２，３−エポキシプロピル）−１，４−ジチアン、４−エポキシ−１、２−シクロヘキセンオキシド、２，２−ビス［４−エポキシシクロヘキシル］プロパン、２，２−ビス［４−（２，３−エポキシプロピル）シクロヘキシル］プロパン、ビス［４−エポキシシクロヘキシル］メタン、ビス［４−（２，３−エポキシプロピル）シクロヘキシル］メタン、ビス［４−（２，３−エポキシプロピル）シクロヘキシル］スルフィド、ビス［４−エポキシシクロヘキシル］スルフィド、ビス（２，３−エポキシプロピル）エーテル、ビス［（２，３−エポキシプロピル）オキシ］メタン、１，２−ビス［（２，３−エポキシプロピル）オキシ］エタン、１，３−ビス［（２，３−エポキシプロピル）オキシ］プロパン、１，２−ビス［（２，３−エポキシプロピル）オキシ］プロパン、１−［（２，３−エポキシプロピル）オキシ］−２−［（２，３−エポキシプロピル）オキシメチル］プロパン、１，４−ビス［（２，３−エポキシプロピル）オキシ］ブタン、１，３−ビス［（２，３−エポキシプロピル）オキシ］ブタン、１−［（２，３−エポキシプロピル）オキシ］−３−［（２，３−エポキシプロピル）オキシメチル］ブタン、１，５−ビス［（２，３−エポキシプロピル）オキシ］ペンタン、１−［（２，３−エポキシプロピル）オキシ］−４−［（２，３−エポキシプロピル）オキシメチル］ペンタン、１，６−ビス［（２，３−エポキシプロピル）オキシ］ヘキサン、１−［（２，３−エポキシプロピル）オキシ］−５−［（２，３−エポキシプロピル）オキシメチル］ヘキサン、１−［（２，３−エポキシプロピル）オキシ］−２−{［２−（２，３−エポキシプロピル）オキシエチル）オキシ］エタン、１−[（２，３−エポキシプロピル）オキシ）−２−｛［２−（２−（２，３−エポキシプロピル）オキシエチル）オキシエチル］オキシ｝エタン、テトラキス［（２，３−エポキシプロピル）オキシメチル］メタン、１，１，１−トリス［（２，３−エポキシプロピル）オキシメチル）プロパン、１，５−ビス［（２，３−エポキシプロピル）オキシ］−２−［（２，３−エポキシプロピル）オキシメチル］−３−チアペンタン、１，５−ビス［（２，３−エポキシプロピル）オキシ］−２，４−ビス［（２，３−エポキシプロピル）オキシメチル］−３−チアペンタン；

【0058】

１−［（２，３−エポキシプロピル）オキシ］−２，２−ビス［（２，３−エポキシプロピル）オキシメチル］−４−チアヘキサン、１，５，６−トリス［（２，３−エポキシプロピル）オキシ］−４−［（２，３−エポキシプロピル）オキシメチル］−３−チアヘキサン、１，８−ビス［（２，３−エポキシプロピル）オキシ］−４−［（２，３−エポキシプロピル）オキシメチル］−３，６−ジチアオクタン、１，８−ビス［（２，３−エポキシプロピル）オキシ］−４，５−ビス［（２，３−エポキシプロピル）オキシメチル］−３，６−ジチアオクタン、１，８−ビス［（２，３−エポキシプロピル）オキシ］−４，４−ビス［（２，３−エポキシプロピル）オキシメチル］−３，６−ジチアオクタン、１，８−ビス［（２，３−エポキシプロピル）オキシ］−２，４，５−トリス［（２，３−エポキシプロピル）オキシメチル］−３，６−ジチアオクタン、１，８−ビス［（２，３−エポキシプロピル）オキシ］−２，５−ビス［（２，３−エポキシプロピル）オキシメチル］−３，６−ジチアオクタン、１，９−ビス［（２，３−エポキシプロピル）オキシ］−５−［（２，３−エポキシプロピル）オキシメチル］−５−{[２−（２，３−エポキシプロピル）オキシエチル]オキシメチル}−３，７−ジチアノナン、１，１０−ビス[（２，３−エポキシプロピル）オキシ]−５，６−ビス{［２−（２，３−エポキシプロピル）オキシエチル］オキシ}−３，６，９−トリチアデカン、１，１１−ビス[（２，３−エポキシプロピル）オキシ]−４，８−ビス[（２，３−エポキシプロピル）オキシメチル]−３，６，９−トリチアウンデカン、１，１１−ビス[（２，３−エポキシプロピル）オキシ]−５，７−ビス[（２，３−エポキシプロピル）オキシメチル]−３，６，９−トリチアウンデカン、１，１１−ビス[（２，３−エポキシプロピル）オキシ]−５，７−{［２−（２，３−エポキシプロピル）オキシエチル］オキシメチル}−３，６，９−トリチアウンデカン、１，１１−ビス[（２，３−エポキシプロピル）オキシ]−４，７−ビス[（２，３−エポキシプロピル）オキシメチル]−３，６，９−トリチアウンデカン、１，３または１，４−ビス[（２，３−エポキシプロピル）オキシ]シクロヘキサン、１，３または１，４−ビス[（２，３−エポキシプロピル）オキシメチル]シクロヘキサン、ビス{４−[（２，３−エポキシプロピル）オキシ]シクロヘキシル}メタン、２，２−ビス{４−[（２，３−エポキシプロピル）オキシ]シクロヘキシル}プロパン、ビス{４−[（２，３−エポキシプロピル）オキシ]シクロヘキシル}スルフィド、２，５−ビス[（２，３−エポキシプロピル）オキシメチル]−１，４−ジチアン、２，５−ビス[（２，３−エポキシプロピル）オキシエチルオキシメチル]−１，４−ジチアン、ビス（２，３−エポキシプロピル）スルフィド、ビス（２，３−エポキシプロピル）ジスルフィド、ビス（２，３−エポキシプロピル）トリスルフィド等が挙げられる。

【0059】

（異種重合性官能基含有エポキシ化合物）
異種重合性官能基含有エポキシ化合物は、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、エポキシ基と、環状エーテル構造、環状チオエーテル構造、ラクトン構造、環状カーボネート構造及びその含硫黄類縁構造、環状アセタール構造及びその含硫黄類縁構造、環状アミン構造、環状イミノエーテル構造、ラクタム構造、環状チオウレア構造、環状ホスフィナート構造、環状ホスホナイト構造、環状ホスファイト構造、ビニル構造、ビニレン構造、ビニリデン構造、アリル構造、（メタ）アクリル構造、シクロアルカン構造、イソシアネート構造からなる群より選ばれる少なくとも１種の構造と、を有する化合物である。

【0060】

エポキシ化合物重合開始剤は、熱、及び／又は光により、エポキシ化合物同士、又はエポキシ化合物同士、及びエポキシ化合物とエポキシ基と反応し結合を生じる反応性置換基を有する化合物間での重合を促進する化合物である。エポキシ化合物重合開始剤としては、一般的に用いられるものであれば特に限定されない。１種のエポキシ化合物重合開始剤を単独で用いてもよいし、複数種のエポキシ化合物重合開始剤を組み合わせて用いてもよい。

【0061】

エポキシ化合物重合開始剤の具体例としては、下記の（１）〜（１１）の化合物が挙げられる。

【0062】

（１）エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、ｓｅｃ−プロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｓｅｃ−ブチルアミン、ｉ−ブチルアミン、ｔｅｒｔ−ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、デシルアミン、ラウリルアミン、ミスチリルアミン、１，２−ジメチルヘキシルアミン、３−ペンチルアミン、２−エチルヘキシルアミン、アリルアミン、アミノエタノール、１−アミノプロパノール、２−アミノプロパノール、アミノブタノール、アミノペンタノール、アミノヘキサノール、３−エトキシプロピルアミン、３−プロポキシプロピルアミン、３−イソプロポキシプロピルアミン、３−ブトキシプロピルアミン、３−イソブトキシプロピルアミン、３−（２−エチルヘキシロキシ）プロピルアミン、アミノシクロペンタン、アミノシクロヘキサン、アミノノルボルネン、アミノメチルシクロヘキサン、アミノベンゼン、ベンジルアミン、フェネチルアミン、α−フェニルエチルアミン、ナフチルアミン及びフルフリルアミン等の１級アミン；

【0063】

エチレンジアミン、１，２−ジアミノプロパン、１，３−ジアミノプロパン、１，２−ジアミノブタン、１，３−ジアミノブタン、１，４−ジアミノブタン、１，５−ジアミノペンタン、１，６−ジアミノヘキサン、１，７−ジアミノヘプタン、１，８−ジアミノオクタン、ジメチルアミノプロピルアミン、ジエチルアミノプロピルアミン、ビス−（３−アミノプロピル）エーテル、１，２−ビス−（３−アミノプロポキシ）エタン、１，３−ビス−（３−アミノプロポキシ）−２，２’−ジメチルプロパン、アミノエチルエタノールアミン、１，２−ビスアミノシクロヘキサン、１，３−ビスアミノシクロヘキサン、１，４−ビスアミノシクロヘキサン、１，３−ビスアミノメチルシクロヘキサン、１，４−ビスアミノメチルシクロヘキサン、１，３−ビスアミノエチルシクロヘキサン、１，４−ビスアミノエチルシクロヘキサン、１，３−ビスアミノプロピルシクロヘキサン、１，４−ビスアミノプロピルシクロヘキサン、水添４，４’−ジアミノジフェニルメタン、２−アミノピペリジン、４−アミノピペリジン、２−アミノメチルピペリジン、４−アミノメチルピペリジン、２−アミノエチルピペリジン、４−アミノエチルピペリジン、Ｎ−アミノエチルピペリジン、Ｎ−アミノプロピルピペリジン、Ｎ−アミノエチルモルホリン、Ｎ−アミノプロピルモルホリン、イソホロンジアミン、メンタンジアミン、１，４−ビスアミノプロピルピペラジン、ｏ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、２，４−トリレンジアミン、２，６−トリレンジアミン、２，４−トルエンジアミン、ｍ−アミノベンジルアミン、４−クロロ−ｏ−フェニレンジアミン、テトラクロロ−ｐ−キシリレンジアミン、４−メトキシ−６−メチル−ｍ−フェニレンジアミン、ｍ−キシリレンジアミン、ｐ−キシリレンジアミン、１，５−ナフタレンジアミン、２，６−ナフタレンジアミン、ベンジジン、４，４’−ビス（ｏ−トルイジン）、ジアニシジン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、２，２−（４，４’−ジアミノジフェニル）プロパン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−チオジアニリン、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、４，４’−ジアミノジトリルスルホン、メチレンビス（ｏ−クロロアニリン）、３，９−ビス（３−アミノプロピル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、ジエチレントリアミン、イミノビスプロピルアミン、メチルイミノビスプロピルアミン、ビス（ヘキサメチレン）トリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミン、Ｎ−アミノエチルピペラジン、Ｎ−アミノプロピルピペラジン、１，４−ビス（アミノエチルピペラジン）、１，４−ビス（アミノプロピルピペラジン）及び２，６−ジアミノピリジン、ビス（３，４−ジアミノフェニル）スルホン等の１級ポリアミン；

【0064】

ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミン、ジ−ｓｅｃ−ブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジ−ｎ−ペンチルアミン、ジ−３−ペンチルアミン、ジヘキシルアミン、ジオクチルアミン、ジ（２−エチルヘキシル）アミン、メチルヘキシルアミン、ジアリルアミン、ピロリジン、ピペリジン、２−ピコリン、３−ピコリン、４−ピコリン、２，４−ルペチジン、２，６−ルペチジン、３，５−ルペチジン、ジフェニルアミン、Ｎ−メチルアニリン、Ｎ−エチルアニリン、ジベンジルアミン、メチルベンジルアミン、ジナフチルアミン、ピロール、インドリン、インドール及びモルホリン等の２級アミン；

【0065】

Ｎ，Ｎ’−ジメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−１，２−ジアミノプロパン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−１，３−ジアミノプロパン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−１，２−ジアミノブタン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−１，３−ジアミノブタン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−１，４−ジアミノブタン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−１，５−ジアミノペンタン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−１，６−ジアミノヘキサン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−１，７−ジアミノヘプタン、Ｎ，Ｎ’−ジエチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジエチル−１，２−ジアミノプロパン、Ｎ，Ｎ’−ジエチル−１，３−ジアミノプロパン、Ｎ，Ｎ’−ジエチル−１，２−ジアミノブタン、Ｎ，Ｎ’−ジエチル−１，３−ジアミノブタン、Ｎ，Ｎ’−ジエチル−１，４−ジアミノブタン、Ｎ，Ｎ’−ジエチル−１，６−ジアミノヘキサン、ピペラジン、２−メチルピペラジン、２，５−ジメチルピペラジン、２，６−ジメチルピペラジン、ホモピペラジン、１，１−ジ−（４−ピペリジル）メタン、１，２−ジ−（４−ピペリジル）エタン、１，３−ジ−（４−ピペリジル）プロパン、１，４−ジ−（４−ピペリジル）ブタン及びテトラメチルグアニジン等の２級ポリアミン；

【0066】

トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｉｓｏ−プロピルアミン、トリ−１，２−ジメチルプロピルアミン、トリ−３−メトキシプロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、トリ−ｉｓｏ−ブチルアミン、トリ−ｓｅｃ−ブチルアミン、トリ−ペンチルアミン、トリ−３−ペンチルアミン、トリ−ｎ−ヘキシルアミン、トリ−ｎ−オクチルアミン、トリ−２−エチルヘキシルアミン、トリ−ドデシルアミン、トリ−ラウリルアミン、ジシクロヘキシルエチルアミン、シクロヘキシルジエチルアミン、トリ−シクロヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルヘキシルアミン、Ｎ−メチルジヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルシクロヘキシルアミン、Ｎ−メチルジシクロヘキシルアミン、Ｎ、Ｎ−ジエチルエタノールアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルエタノールアミン、Ｎ−エチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、トリベンジルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン、ジエチルベンジルアミン、トリフェニルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ−ｐ−クレゾール、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチルフェノール、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル）フェノール、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、ピリジン、キノリン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ−メチルピペリジン及び２−（２−ジメチルアミノエトキシ）−４−メチル−１，３，２−ジオキサボルナン等の３級アミン；

【0067】

テトラメチルエチレンジアミン、ピラジン、Ｎ，Ｎ’−ジメチルピペラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（（２−ヒドロキシ）プロピル）ピペラジン、ヘキサメチレンテトラミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−１，３−ブタンアミン、２−ジメチルアミノ−２−ヒドロキシプロパン、ジエチルアミノエタノール、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリス（３−ジメチルアミノプロピル）アミン、２，４，６−トリス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル）フェノール及びヘプタメチルイソビグアニド等の３級ポリアミン；

【0068】

イミダゾール、Ｎ−メチルイミダゾール、２−メチルイミダゾール、４−メチルイミダゾール、Ｎ−エチルイミダゾール、２−エチルイミダゾール、４−エチルイミダゾール、Ｎ−ブチルイミダゾール、２−ブチルイミダゾール、Ｎ−ウンデシルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、Ｎ−フェニルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、Ｎ−ベンジルイミダゾール、２−ベンジルイミダゾール、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール、Ｎ−（２’−シアノエチル）−２−メチルイミダゾール、Ｎ−（２’−シアノエチル）−２−ウンデシルイミダゾール、Ｎ−（２’−シアノエチル）−２−フェニルイミダゾール、３，３−ビス−（２−エチル−４−メチルイミダゾリル）メタン、アルキルイミダゾールとイソシアヌル酸の付加物及びアルキルイミダゾールとホルムアルデヒドの縮合物等の各種イミダゾール類；

【0069】

１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン−７、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノネン−５、６−ジブチルアミノ−１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン−７等のアミジン類。

【0070】

（２）（１）のアミン類と、ボラン及び／又は三フッ化ホウ素との錯体（コンプレックス）。

【0071】

（３）トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリ−ｉｓｏ−プロピルホスフィン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、トリ−ｎ−ヘキシルホスフィン、トリ−ｎ−オクチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリベンジルホスフィン、トリス（２−メチルフェニル）ホスフィン、トリス（３−メチルフェニル）ホスフィン、トリス（４−メチルフェニル）ホスフィン、トリス（ジエチルアミノ）ホスフィン、トリス（４−メチルフェニル）ホスフィン、ジメチルフェニルホスフィン、ジエチルフェニルホスフィン、ジシクロヘキシルフェニルホスフィン、エチルジフェニルホスフィン、ジフェニルシクロヘキシルホスフィン及びクロロジフェニルホスフィン等のホスフィン類。

【0072】

（４）テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、テトラメチルアンモニウムアセテート、テトラエチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウムアセテート、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフルオライド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムクロライド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロマイド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムヨーダイド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムアセテート、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムボロハイドライド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムヘキサフルオロホスファイト、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムハイドロゲンサルファイト、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムテトラフルオロボーレート、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムテトラフェニルボーレート、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムパラトルエンスルフォネート、テトラ−ｎ−ヘキシルアンモニウムクロライド、テトラ−ｎ−ヘキシルアンモニウムブロマイド、テトラ−ｎ−ヘキシルアンモニウムアセテート、テトラ−ｎ−オクチルアンモニウムクロライド、テトラ−ｎ−オクチルアンモニウムブロマイド、テトラ−ｎ−オクチルアンモニウムアセテート、トリメチル−ｎ−オクチルアンモニウムクロライド、トリメチルベンジルアンモニウムクロライド、トリメチルベンジルアンモニウムブロマイド、トリエチル−ｎ−オクチルアンモニウムクロライド、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド、トリエチルベンジルアンモニウムブロマイド、トリ−ｎ−ブチル−ｎ−オクチルアンモニウムクロライド、トリ−ｎ−ブチルベンジルアンモニウムフルオライド、トリ−ｎ−ブチルベンジルアンモニウムクロライド、トリ−ｎ−ブチルベンジルアンモニウムブロマイド、トリ−ｎ−ブチルベンジルアンモニウムヨーダイド、メチルトリフェニルアンモニウムクロライド、メチルトリフェニルアンモニウムブロマイド、エチルトリフェニルアンモニウムクロライド、エチルトリフェニルアンモニウムブロマイド、ｎ−ブチルトリフェニルアンモニウムクロライド、ｎ−ブチルトリフェニルアンモニウムブロマイド、１−メチルピリジニウムブロマイド、１−エチルピリジニウムブロマイド、１−ｎ−ブチルピリジニウムブロマイド、１−ｎ−ヘキシルピリジニウムブロマイド、１−ｎ−オクチルピリジニウムブロマイド、１−ｎ−ドデシルピリジニウムブロマイド、１−ｎ−フェニルピリジニウムブロマイド、１−メチルピコリニウムブロマイド、１−エチルピコリニウムブロマイド、１−ｎ−ブチルピコリニウムブロマイド、１−ｎ−ヘキシルピコリニウムブロマイド、１−ｎ−オクチルピコリニウムブロマイド、１−ｎ−ドデシルピコリニウムブロマイド及び１−ｎ−フェニルピコリニウムブロマイド等の４級アンモニウム塩。

【0073】

（５）テトラメチルホスホニウムクロライド、テトラメチルホスホニウムブロマイド、テトラエチルホスホニウムクロライド、テトラエチルホスホニウムブロマイド、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムクロライド、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムブロマイド、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムヨーダイド、テトラ−ｎ−ヘキシルホスホニウムブロマイド、テトラ−ｎ−オクチルホスホニウムブロマイド、メチルトリフェニルホスホニウムブロマイド、メチルトリフェニルホスホニウムヨーダイド、エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド、エチルトリフェニルホスホニウムヨーダイド、ｎ−ブチルトリフェニルホスホニウムブロマイド、ｎ−ブチルトリフェニルホスホニウムヨーダイド、ｎ−ヘキシルトリフェニルホスホニウムブロマイド、ｎ−オクチルトリフェニルホスホニウムブロマイド、テトラフェニルホスホニウムブロマイド、テトラキスヒドロキシメチルホスホニウムクロライド、テトラキスヒドロキシメチルホスホニウムブロマイド、テトラキスヒドロキシエチルホスホニウムクロライド及びテトラキスヒドロキシブチルホスホニウムクロライド等のホスホニウム塩。

【0074】

（６）トリメチルスルホニウムブロマイド、トリエチルスルホニウムブロマイド、トリ−ｎ−ブチルスルホニウムクロライド、トリ−ｎ−ブチルスルホニウムブロマイド、トリ−ｎ−ブチルスルホニウムヨーダイド、トリ−ｎ−ブチルスルホニウムテトラフルオロボーレート、トリ−ｎ−ヘキシルスルホニウムブロマイド、トリ−ｎ−オクチルスルホニウムブロマイド、トリフェニルスルホニウムクロライド、トリフェニルスルホニウムブロマイド及びトリフェニルスルホニウムヨーダイド等のスルホニウム塩。

【0075】

（７）ジフェニルヨードニウムクロライド、ジフェニルヨードニウムブロマイド及びジフェニルヨードニウムヨーダイド等のヨードニウム塩。

【0076】

（８）塩酸、硫酸、硝酸、燐酸、炭酸等の鉱酸及びこれらの半エステル。

【0077】

（９）三フッ化ホウ素、及び三フッ化ホウ素のエーテラート等に代表されるルイス酸。

【0078】

（１０）有機酸及びこれらの半エステル。

【0079】

（１１）ケイ酸及び四フッ化ホウ酸。

【0080】

硬化性エポキシ樹脂組成物中のエポキシ化合物重合開始剤の含有量は、硬化の際、エポキシ基の残留が抑制される傾向にあることから、エポキシ化合物１００質量部に対して、０．１質量部以上であることが好ましく、０．５質量部以上であることがより好ましい。所望の物理特性からのバラつきが抑制できる傾向にあることから、上記エポキシ化合物重合開始剤の含有量は、１質量部以上であることがさらに好ましい。エポキシ化合物重合開始剤の残留により耐久性が低下する場合があることから、上記エポキシ化合物重合開始剤の含有量は、エポキシ化合物１００質量部に対して、１０質量部以下であることが好ましい。所望の物理特性からのバラつきが抑制できる傾向にあることから、上記エポキシ化合物重合開始剤の含有量は、５質量部以上であることがより好ましく、４質量部以下であることがさらに好ましい。

【0081】

エポキシ基と反応し結合を生じる反応性置換基を有する化合物は、一般的に用いられるものであれば特に限定されない。１種のエポキシ基と反応し結合を生じる反応性置換基を有する化合物を単独で用いてもよいし、複数種のエポキシ基と反応し結合を生じる反応性置換基を有する化合物を組み合わせて用いてもよい。

【0082】

エポキシ基と反応し結合を生じる反応性置換基を有する化合物としては、例えば、酸無水物系化合物、アミン系化合物、フェノール系化合物等が挙げられる。

【0083】

酸無水物系化合物の具体例としては、無水フタル酸、無水コハク酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ノルボルナン−２，３−ジカルボン酸無水物、メチルノルボルナン−２，３−ジカルボン酸無水物等が挙げられる。

【0084】

アミン系化合物の具体例としては、ジアミノジフェニルメタン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジアミノジフェニルスルホン、イソホロンジアミン、ジシアンジアミド、テトラエチレンペンタミン等が挙げられる。

【0085】

フェノール系化合物の具体例としては、ビスフェノール骨格を有する化合物、フェノール類（フェノール、アルキル置換フェノール、ナフトール、アルキル置換ナフトール、ジヒドロキシベンゼン、ジヒドロキシナフタレン等）と各種アルデヒドとの重縮合物、フェノール類と各種ジエン化合物との重合物、フェノール類と芳香族ジメチロールとの重縮合物、ビスメトキシメチルビフェニルとナフトール類若しくはフェノール類との縮合物、及びこれらの変性物等が挙げられる。

【0086】

エポキシ基と、エポキシ基と反応し結合を生じる反応性置換基との割合は、エポキシ基の物質量をエポキシ基と反応し結合を生じる反応性置換基の物質量で除した値が、０．７以上であることが好ましく、０．８以上であることがより好ましく、０．９以上であることがさらに好ましい。エポキシ基と反応し結合を生じる反応性置換基の残留が抑制される傾向にあることから、上記割合は、０．７以上であることが好ましく、同様の観点から、０．８以上であることが好ましい。所望の物理特性からのバラつきが抑制できる傾向にあることから、上記割合は、０．９以上であることがさらに好ましい。エポキシ基の物質量をエポキシ基と反応し結合を生じる反応性置換基の物質量で除した値が、１．５以下であることが好ましく、１．３以下であることがより好ましく、１．１以下であることがさらに好ましい。エポキシ基の残留が抑制される傾向にあることから、１．５以下であることが好ましく、同様の観点から、上記値は１．３以下であることが好ましい。所望の物理特性からのバラつきが抑制できる傾向にあることから、上記値は１．１以下であることがさらに好ましい。

【0087】

一般的に入手可能な硬化性エポキシ樹脂組成物を重合することよって、硬化性エポキシ樹脂を得ることができる。硬化性エポキシ樹脂組成物は、単独で用いてもよいし、複数種組み合わせて用いてもよい。

【0088】

硬化性エポキシ樹脂組成物の具体例としては、京セラケミカル株式会社製ＫＥ−２００Ｄ，ＫＥ−３００，ＫＥ−５００，ＫＥ−５２０，ＫＥ−７５０，ＫＥ−８５０，ＫＥ−１０００，ＫＥ−１１００，ＫＥ−１８００，ＫＥ−４２００、クラスターテクノロジー株式会社性エポハード（グレード番号例：ＰＥ２０２０、ＰＧ６２４）、及びエポクラスタークーリエ（グレード番号例：ＹＮＲ２３、ＹＮＲ５８、ＳＴＲ２３Ｓ）、信越化学工業株式会社製ＫＭＣ−１２０ＭＫ、ＫＭＣ−１８４、ＫＭＣ−２６０、ＫＭＣ−２８９、ＫＭＣ−２１１ＡＡ、ＫＭＣ−２５２０、ＫＭＣ−３００、ＫＭＣ−３５８０、住友ベークライト株式会社製スミコン（グレード番号例：６３０Ｈ、Ｅ５００、Ｇ５９０、Ｇ６００、Ｇ７００、Ｇ７６０、Ｇ７７０）、日新レジン株式会社製プラスセメント（グレード番号例：ＷＲ２００Ａ／Ｂ、ＷＲ−２４０ＡＮ／ＢＮ、ＷＲ−２５０Ａ／Ｂ、ＷＲ−３３０ＡＮ／ＢＮ、Ｘ−１６４３Ａ／Ｂ、ＷＲ−６５０Ａ／Ｂ、Ｘ−１６１１Ａ／Ｂ、Ｘ−１６１７Ａ／Ｂ−３、Ｘ１６１７Ａ／Ｂ補修材−３、Ｘ−０６７３Ａ／Ｂ、Ｘ−１６１５Ａ／Ｂ、Ｘ−１６１６Ａ／Ｂ、Ｘ−１６１８Ａ／Ｂ、Ｘ−１６２４Ａ／Ｂ、ＲＴ−４８０Ａ／Ｂ、Ｘ−０８７１Ａ／Ｂ、ＲＴ−４８８Ａ／Ｂ、ＲＴ−５４１Ａ／Ｂ、ＲＴ−４５２Ａ／Ｂ、ＲＴ−４５７Ａ／Ｂ、ＲＴ−４００／ＨＸ−１８、ＲＴ−４６１Ａ／Ｂ、Ｘ−０９５７Ａ／Ｂ、ＲＴ−４１０ＡＮ／Ｂ、ＲＴ−４３０Ａ／Ｂ、ＲＴ−４０３／ＨＸ−１８、ＲＴ−４５３ＡＮ／ＢＮ、ＴＣ−１２０／ＨＸ−１８、ＴＣ−１２１／ＨＸ−１８、ＴＣ−１１１Ａ／Ｂ、ＰＯＰ ＭＥＴＡＬ、ＣＥＰ−５Ａ／５Ｂ、ＣＥＰ−７Ａ／７・８・１０Ｂ、ＴＣ−７００、Ｘ−０７９９、Ｘ−１７００、Ｘ−１６４３Ｓ、Ｘ−１７４５）、クラフトレジン（グレード番号例：グレード番号例：クリスタルレジン、Ｚ−１）、日本合成化工株式会社製６００、６０５、７６０、２７００、Ｊ−１０２１、Ｊ−１０９５Ｆ、Ａ−３９１、ＴＭ−２５０、ＴＭ−２６１、ＹＤ−８０００Ｔ）、パナソニック株式会社製ＣＶ３３００、ＣＶ３４００、ＣＶ４１００、ＣＶ４２００、ＣＶ４４００、ＣＶ８４００、ＣＶ８２１０、ＣＶ８３００、ＣＶ８７１０等が挙げれる。

【0089】

（硬化性ジアリルフタレート樹脂）
硬化性ジアリルフタレート樹脂とは、アリル基を重合性置換基として２個以上有するジアリルフタレート化合物と、ジアリルフタレート化合物重合開始剤と、を含む硬化性ジアリルフタレート樹脂組成物を、硬化し、得られる硬化性樹脂である。

【0090】

ジアリルフタレート化合物とは、ジアリルオルソフタレートモノマー、ジアリルイソフタレートモノマー、ジアリルテレフタレートモノマー、前記モノマーを単独重合、又は共重合し得られるプレポリマー等が挙げられる。これらジアリルフタレート化合物は、単独で用いてもよいし、複数種のジアリルフタレート化合物を組み合わせて用いてもよい。ジアリルフタレート化合物に含まれるベンゼン環上の水素原子がフッ素、塩素、臭素、ヨウ素、炭素数１〜１０の有機基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基）で一部、又は全て置換されていてもよく、また分子内に存在する不飽和結合が一部、又は全て水添されていてもよい。

【0091】

ジアリルフタレート化合物の具体例としては、株式会社大阪ソーダ製ダイソーダップ、及びダイソーイソダップ等が挙げられる。

【0092】

ジアリルフタレート化合物重合開始剤は、熱、及び／又は光により、ジアリルフタレート化合物同士、又はジアリルフタレート化合物同士、及びジアリルフタレート化合物とアリル基と反応し結合を生じる反応性置換基を有する化合物間での重合を促進する化合物である。ジアリルフタレート化合物重合開始剤としては、一般的に用いられるものであれば特に限定されない。１種のジアリルフタレート化合物重合開始剤を単独で用いてもよいし、複数種のジアリルフタレート化合物重合開始剤を組み合わせて用いてもよい。

【0093】

ジアリルフタレート化合物重合開始剤としては、具体的には、ジクミルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルクミルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、１，１−ジ（ｔｅｒｔ−ヘキシルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、ｎ−ブチル−４，４−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）バリレート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカーボネート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキシルモノカルボネート等の過酸化物系熱重合開始剤；アセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１，１−ジクロロアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルフォリノ−プロパン−１−オン及びＮ，Ｎ−ジメチルアミノアセトフェノン等のアセトフェノン系光重合開始剤；ベンゾイン、ベンジル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル及びベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾイン系光重合開始剤；ベンゾフェノン、メチルベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン及び４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン系光重合開始剤；ベンジル、９，１０−フェナンスレンキノン等のジベンジル系光重合開始剤；２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−アミルアントラキノン及び２−アミノアントラキノン等のアントラキノン系光重合開始剤；２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン及び２，４−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン系光重合開始剤；アセトフェノンジメチルケタール及びベンジルジメチルケタール等のケタール類光重合開始剤；エチル４−ジメチルアミノベンゾエート及び２−（ジメチルアミノ）エチルベンゾエート等の安息香酸エステル系光重合開始剤；トリエチルアミン及びトリエタノールアミン等アミン系光重合開始剤；アシルフォスフィンオキサイド等のリン系光重合開始剤；チオキサントン等のイオウ系光重合開始剤；キサントン類；ヨードニウム塩化合物；アンモニウム塩化合物；アルソニウム塩化合物；スチボニウム塩化合物；オキソニウム塩化合物；セレノニウム塩化合物；並びに、スタンノニウム塩化合物；等が挙げられる。

【0094】

硬化性ジアリルフタレート樹脂組成物中のジアリルフタレート化合物重合開始剤の含有量は、硬化の際、重合性置換基の残留が抑制される傾向にあることから、ジアリルフタレート化合物１００質量部に対して、０．１質量部以上であることが好ましく、０．５質量部以上であることがより好ましい。所望の物理特性からのバラつきが抑制できる傾向にあることから、上記ジアリルフタレート化合物重合開始剤の含有量は１質量部以上であることがさらに好ましい。ジアリルフタレート化合物重合開始剤の残留により耐久性が低下する場合があることから、上記ジアリルフタレート化合物重合開始剤の含有量は、ジアリルフタレート化合物１００質量部に対して、１０質量部以下であることが好ましい。所望の物理特性からのバラつきが抑制できる傾向にあることから、上記ジアリルフタレート化合物重合開始剤の含有量は、５質量部以上であることがより好ましく、４質量部以下であることがさらに好ましい。

【0095】

光重合開始剤を用いる場合には、必要に応じて光開始助剤（例えば、トリエタノールアミン等のアミン系光開始助剤）を併用してもよい。

【0096】

アリル基と反応し結合を生じる反応性置換基を有する化合物は、一般的に用いられるものであれば特に限定されない。１種のアリル基と反応し結合を生じる反応性置換基を有する化合物は、単独で用いてもよく、複数種のアリル基と反応し結合を生じる反応性置換基を有する化合物を組み合わせて用いてもよい。

【0097】

アリル基と反応し結合を生じる反応性置換基を有する化合物としては、例えば、アリル基とチオール基との反応であるエン−チオール反応を利用する場合に用いられる２個以上のチオール基を有する化合物（以下、ポリチオール化合物、という）等が挙げられる。ポリチオール化合物は、一般的に用いられるものであれば、特に限定されず、脂肪族ポリチオール化合物、芳香族ポリチオール化合物、複素環ポリチオール化合物等が挙げられる。これらポリチオール化合物は、単独で用いても、複数種を組み合わせて用いてもよい。

【0098】

脂肪族ポリチオール化合物の具体例としては、メタンジチオール、１，２−エタンジチオール、１，２，３−プロパントリチオール、１，２−シクロヘキサンジチオール、ビス（２−メルカプトエチル）エーテル、テトラキス（メルカプトメチル）メタン、ジエチレングリコールビス（２−メルカプトアセテート）、ジエチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）、エチレングリコールビス（２−メルカプトアセテート）、エチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（２−メルカプトアセテート）、トリメチロールエタントリス（２−メルカプトアセテート）、トリメチロールエタントリス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（２−メルカプトアセテート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、ビス（メルカプトメチル）スルフィド、ビス（メルカプトメチル）ジスルフィド、ビス（メルカプトエチル）スルフィド、ビス（メルカプトエチル）ジスルフィド、ビス（メルカプトプロピル）スルフィド、ビス（メルカプトプロピル）ジスルフィド、ビス（メルカプトメチルチオ）メタン、ビス（２−メルカプトエチルチオ）メタン、ビス（３−メルカプトプロピルチオ）メタン、１，２−ビス（メルカプトメチルチオ）エタン、１，２−ビス（メルカプトエチルチオ）エタン、１，２−ビス（メルカプトプロピルチオ）エタン、１，２，３−トリス（メルカプトメチルチオ）プロパン、１，２，３−トリス（２−メルカプトエチルチオ）プロパン、１，２，３−トリス（３−メルカプトプロピルチオ）プロパン、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタン、５，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、４，７−ジメルカプト−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、４，８−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、テトラキス（２−メルカプトメチルチオメチル）メタン、テトラキス（２−メルカプトエチルチオメチル）メタン、テトラキス（３−メルカプトプロピルチオメチル）メタン、ビス（２，３−ジメルカプトプロピル）スルフィド、２，５−ジメルカプトメチル−１，４−ジチアン、２，５−ジメルカプト−１，４−ジチアン、２，５−ジメルカプトメチル−２，５−ジメチル−１，４−ジチアン、及びこれらのチオグリコール酸及びメルカプトプロピオン酸エステル、ヒドロキシメチルスルフィドビス（２−メルカプトアセテート）、ヒドロキシメチルスルフィドビス（３−メルカプトプロピオネート）、ヒドロキシエチルスルフィドビス（２−メルカプトアセテート）、ヒドロキシエチルスルフィドビス（２−メルカプトアセテート）、ヒドロキシエチルスルフィドビス（３−メルカプトプロピオネート）、ヒドロキシメチルジスルフィドビス（２−メルカプトアセテート）、ヒドロキシメチルジスルフィドビス（３−メルカプトプロピオネート）、ヒドロキシエチルジスルフィドビス（２−メルカプトアセテート）、ヒドロキシエチルジスルフィドビス（３−メルカプトプロピオネート）、２−メルカプトエチルエーテルビス（２−メルカプトアセテート）、２−メルカプトエチルエーテルビス（３−メルカプトプロピオネート）、チオジグリコール酸ビス（２−メルカプトエチルエステル）、チオジプロピオン酸ビス（２−メルカプトエチルエステル）、ジチオジグリコール酸ビス（２−メルカプトエチルエステル）、ジチオジプロピオン酸ビス（２−メルカプトエチルエステル）、１，１，３，３−テトラキス（メルカプトメチルチオ）プロパン、１，１，２，２−テトラキス（メルカプトメチルチオ）エタン、４，６−ビス（メルカプトメチルチオ）−１，３−ジチアシクロヘキサン、トリス（メルカプトメチルチオ）メタン、トリス（メルカプトエチルチオ）メタン等が挙げられる。

【0099】

芳香族ポリチオール化合物の具体例としては、１，２−ジメルカプトベンゼン、１，３−ジメルカプトベンゼン、１，４−ジメルカプトベンゼン、１，２−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，３−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，４−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，３，５−トリメルカプトベンゼン、１，３，５−トリス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，３，５−トリス（メルカプトメチレンオキシ）ベンゼン、１，３，５−トリス（メルカプトエチレンオキシ）ベンゼン、２，５−トルエンジチオール、３，４−トルエンジチオール、１，５−ナフタレンジチオール、２，６−ナフタレンジチオール等が挙げられる。

【0100】

複素環ポリチオール化合物の具体例としては、２−メチルアミノ−４，６−ジチオール−ｓｙｍ−トリアジン、３，４−チオフェンジチオール、ビスムチオール、４，６−ビス（２−メルカプトメチルチオ）−１３−ジチアン、２−（２，２−ビス（２−メルカプトメチルチオ）エチル）−１，３−ジチエタン等が挙げられる。

【0101】

アリル基とアリル基と反応し結合を生じる反応性置換基との割合は、アリル基の物質量をアリル基と反応し結合を生じる反応性置換基の物質量で除した値が、０．７以上であることが好ましく、０．８以上であることがより好ましく、０．９以上であることがさらに好ましい。アリル基と反応し結合を生じる反応性置換基の残留が抑制される傾向にあることから、上記割合は、０．７以上であることが好ましく、同様の観点から、０．８以上であることがより好ましい。所望の物理特性からのバラつきが抑制できる傾向にあることから、上記割合は、０．９以上であることがさらに好ましい。アリル基の物質量をアリル基と反応し結合を生じる反応性置換基の物質量で除した値が、１．５以下であることが好ましく、１．３以下であることがより好ましく、１．１以下であることがさらに好ましい。アリル基の残留が抑制される傾向にあることから、上記割合は、１．５以下であることが好ましく、同様の観点から、１．３以下であることがより好ましい。所望の物理特性からのバラつきが抑制できる傾向にあることから、上記割合は、１．１以下であることがさらに好ましい。

【0102】

一般的に入手可能な硬化性ジアリルフタレート樹脂組成物を重合することよって、硬化性ジアリルフタレート樹脂を得ることができる。硬化性ジアリルフタレート樹脂組成物は、単独で用いてもよく、複数種組み合わせて用いてもよい。

【0103】

硬化性ジアリルフタレート樹脂組成物の具体例としては、旭有機材工業株式会社製ＡＶライト（グレード番号例：ＤＰ３０００、ＤＰ２５００、ＤＰ３３００、ＤＰ２８００、ＤＰ７０００）、住友ベークライト株式会社製スミコン（グレード番号例：ＡＭ−１００Ａ、ＡＭ−１００Ｊ、ＡＭ−３１３０、ＡＭ−１１３、ＡＭ−３５００）、日本合成化工株式会社製Ｚ−３５０、日立化成株式会社製スタンドライト（グレード番号例：ＣＤ−Ｊ−７１０、ＣＤ−Ｆ−７１０、ＣＤ−Ｆ−８００）、フドー株式会社製ダポール（グレード番号例：Ｄ５００、Ｄ２１００Ｆ、Ｄ２１０１Ｆ、Ｄ２１０２Ｆ、Ｄ２２００Ｆ、Ｄ２５００Ｆ）等が挙げられる。

【0104】

（硬化性シリコーン樹脂）
硬化性シリコーン樹脂は、付加型シリコーン樹脂と縮合型シリコーン樹脂に大別される。付加型シリコーン樹脂とは、２個以上のＳｉ−Ｈ基を有する化合物、及び２個以上のビニル基、３，４−エポキシシクロヘキシルエチル基、又はビニル基、及び３，４−エポキシシクロヘキシルエチル基の水素原子が炭素数１〜１０の有機基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基）で置換された構造を有する化合物との少なくとも一方が３個以上である化合物の組み合わせにおいて、ヒドロシリル化反応により結合を生じ、三次元構造、又は網目構造を形成することで得られる硬化性樹脂である。付加型シリコーン樹脂組成物は、一般的には重合を促進すべく、付加型シリコーン樹脂重合開始剤を用いる。縮合型シリコーン樹脂とは、３個以上のアルコキシ構造を含有するシリル基（−Ｓｉ（−ＯＲｘ）_３）を有する化合物が加水分解することで生じるヒドロシリル基（−Ｓｉ−ＯＨ）同士が縮合することで、−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−結合を生じ、三次元構造、又は網目構造を形成することで得られる硬化性樹脂である（前記アルコキシ構造を含有するシリル基に含まれるＲｘは、全て同じでも、異なっていてもよく、炭素数１〜１０の有機基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基）を示す）。縮合型シリコーン樹脂組成物は、一般的には重合を促進すべく、縮合型シリコーン樹脂重合開始剤を用いる。

【0105】

硬化性シリコーン樹脂には、シリコーン骨格（−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−）の側鎖に重合性置換基を有する化合物を、単独、又は重合性置換基と反応し結合を生じる反応性置換基を有する化合物との混合物とし、重合することで、硬化性シリコーン樹脂を得ることもできる。前記重合性置換基は一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、エポキシ基、オキセタン基等の環状エーテル構造、環状チオエーテル構造、ラクトン構造、環状カーボネート構造、及びその含硫黄類縁構造、環状アセタール構造、及びその含硫黄類縁構造、環状アミン構造、環状イミノエーテル構造、ラクタム構造、環状チオウレア構造、環状ホスフィナート構造、環状ホスホナイト構造、環状ホスファイト構造、ビニル構造、ビニレン構造、ビニリデン構造、アリル構造、（メタ）アクリル構造、シクロアルカン構造、イソシアネート構造等が挙げれる。シリコーン骨格側鎖の重合性置換基は、単独の種類であってもよく、複数種であってもよい。

【0106】

付加型シリコーン樹脂重合開始剤としては、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、白金系金属触媒、パラジウム系金属触媒、ロジウム系金属触媒、ニッケル系金属、鉄系金属触媒、コバルト系金属触媒等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、複数種組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、白金系金属触媒が、入手しやすく、且つ良好な触媒活性を示すことから好適に用いられる傾向にある。

【0107】

白金系金属触媒の例としては、白金（白金黒を含む）、塩化白金、塩化白金酸、白金−ジビニルシロキサン錯体等の白金−オレフィン錯体（Ｋａｒｓｔｅｄｔ’ｓ触媒等）、白金−カルボニル錯体等が熱により重合する際の白金系金属触媒として挙げられる。また、（メチルシクロペンタジエニル）トリメチル白金（ＩＶ）、（シクロペンタジエニル）トリメチル白金（ＩＶ）、（１，２，３，４，５−ペンタメチルシクロペンタジエニル）トリメチル白金（ＩＶ）、（シクロペンタジエニル）ジメチルエチル白金（ＩＶ）、（シクロペンタジエニル）ジメチルアセチル白金（ＩＶ）、（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）トリメチル白金（ＩＶ）、（メトキシカルボニルシクロペンタジエニル）トリメチル白金（ＩＶ）、（ジメチルフェニルシリルシクロペンタジエニル）トリメチルシクロペンタジエニル白金（ＩＶ）等の（η５−シクロペンタジエニル）トリ（σ−アルキル）白金錯体類、トリメチル（アセチルアセトナト）白金（ＩＶ）、トリメチル（３，５−ヘプタンジオネート）白金（ＩＶ）、トリメチル（メチルアセトアセテート）白金（ＩＶ）、ビス（２，４−ペンタンジオナト）白金（ＩＩ）、ビス（２，４−へキサンジオナト）白金（ＩＩ）、ビス（２，４−へプタンジオナト）白金（ＩＩ）、ビス（３，５−ヘプタンジオナト）白金（ＩＩ）、ビス（１−フェニル−１，３−ブタンジオナト）白金（ＩＩ）、ビス（１，３−ジフェニル−１，３−プロパンジオナト）白金（ＩＩ）、ビス（ヘキサフルオロアセチルアセトナト）白金（ＩＩ）等のβ−ジケトナト白金錯体類等が挙げられる。

【0108】

縮合型シリコーン樹脂重合開始剤としては、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、ジブチルスズメトキサイド、ジブチルスズジアセテート、ジブチルスズジオクテート、ジブチルスズジラウレート、ジオクチルスズジラウレート、ジオクチルスズジオクテート、ジメチルスズジメトキサイド、ジメチルスズジアセテート等の有機スズ類、テトラプロピルチタネート、テトラブチルチタネート、テトラ−２−エチルヘキシルチタネート、ジメトキシチタンジアセチルアセトナート等の有機チタン類、ヘキシルアミン、リン酸ドデシルアミン、ジメチルヒドロキシルアミン、ジエチルヒドロキシルアミン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、テトラメチルグアニジルプロピルトリメトキシシラン、テトラメチルグアニジルプロピルメチルジメトキシシラン、テトラメチルグアニジルプロピルトリス（トリメチルシロキシ）シラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミン類、及びその塩、ベンジルトリエチルアンモニウムアセテート等の第４級アンモニウム塩類、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’，−ヘキサメチル−Ｎ’’’−（トリメチルシリルメチル）−ホスホリミディックトリアミド等のホスファゼン類等が挙げられる。

【0109】

付加型シリコーン樹脂組成物に含まれる、熱により重合する際の付加型シリコーン樹脂重合開始剤の含有量は、重合性置換基（Ｓｉ−Ｈ基、ビニル基、ビニレン基、ビニリデン基）の残留が抑制される傾向にあることから、付加型シリコーン樹脂組成物１００質量部に対して、０．０００１質量部以上であることが好ましく、０．０００５質量部以上であることがより好ましい。所望の物理特性からのバラつきが抑制できる傾向にあることから、上記含有量は、０．００１質量部以上であることがさらに好ましい。付加型シリコーン樹脂重合開始剤の残留により耐久性が低下する場合があることから、上記含有量は、付加型シリコーン樹脂組成物１００質量部に対して、２質量部以下であることが好ましい。所望の物理特性からのバラつきが抑制できる傾向にあることから、上記含有量は、１質量部以上であることがより好ましく、０．１質量部以下であることがさらに好ましい。

【0110】

付加型シリコーン樹脂組成物に含まれる、光により重合する際の付加型シリコーン樹脂重合開始剤の含有量は、重合性置換基（Ｓｉ−Ｈ基、ビニル基、ビニレン基、ビニリデン基）の残留が抑制される傾向にあることから、付加型シリコーン樹脂組成物１００質量部に対して、０．０１質量部以上であることが好ましく、０．０５質量部以上であることがより好ましい。所望の物理特性からのバラつきが抑制できる傾向にあることから、上記含有量は、０．１質量部以上であることがさらに好ましい。付加型シリコーン樹脂重合開始剤の残留により耐久性が低下する場合があることから、上記含有量は、付加型シリコーン樹脂組成物１００質量部に対して、２質量部以下であることが好ましい。所望の物理特性からのバラつきが抑制できる傾向にあることから、上記含有量は、１質量部以上であることがより好ましく、０．１質量部以下であることがさらに好ましい。

【0111】

縮合型シリコーン樹脂組成物に含まれる、縮合型シリコーン樹脂重合開始剤の含有量は、アルコキシ基やヒドロシリル基の残留が抑制される傾向にあることから、縮合型シリコーン樹脂組成物１００質量部に対して、０．００１質量部以上であることが好ましく、０．００５質量部以上であることがより好ましい。所望の物理特性からのバラつきが抑制できる傾向にあることから、上記含有量は、０．０１質量部以上であることがさらに好ましい。縮合型シリコーン樹脂重合開始剤の残留により耐久性が低下する場合があることから、上記含有量は、縮合型シリコーン樹脂組成物１００質量部に対して、２０質量部以下であることが好ましい。所望の物理特性からのバラつきが抑制できる傾向にあることから、上記含有量は、１０質量部以上であることがより好ましく、１質量部以下であることがさらに好ましい。

【0112】

付加型シリコーン樹脂組成物、及び縮合型シリコーン樹脂組成物は、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、信越化学株式会社製ＡＳＰ−１１１１Ａ／Ｂ、ＡＳＰ−１１２０Ａ／Ｂ、ＡＳＰ−２０１０、ＡＳＰ−２０１８ＳＦ、ＦＥ−５７、ＦＥ−６１、ＦＥ−１２３、ＦＥＲ−３８００−Ｄ１、ＦＥＲ−７０６１、ＦＥＲ−７０８２、ＦＥＲ−７１１０、ＦＥＲ−７２００−Ｆ７、ＫＣＲ−Ｈ２８００、ＫＣＲ−Ｍ３０００、ＫＣＲ−４０００Ｗ、ＫＥ−１２、ＫＥ−１４、ＫＥ−１７、ＫＥ−２４、ＫＥ−２６、ＫＥ−４０ＲＴＶ、ＫＥ−４１、ＫＥ−４２、ＫＥ−４４、ＫＥ−４５、ＫＥ−４５−Ｓ、ＫＥ−６６／ＣＡＴ−ＲＣ、ＫＥ−１０３／ＣＡＴ−１０３、ＫＥ−１０４Ｇｅｌ／Ｃａｔ−１０４、ＫＥ−１０６／ＣＡＴ−ＲＧ、ＫＥ−１０８／ＣＡＴ−１０８、ＫＥ−１０９−Ａ／Ｂ、ＫＥ−１１０Ｇｅｌ／Ｃａｔ−１１０、ＫＥ−１１８／ＣＡＴ−１１８−ＢＬ、ＫＥ−１１９／ＣＡＴ−ＲＰ、ＫＥ−２００／ＣＸ−２００、ＫＥ−３４７、ＫＥ−３４８、ＫＥ−４４１、ＫＥ−４４５、ＫＥ−５１３−Ａ／Ｂ、ＫＥ−５２１−Ａ／Ｂ、ＫＥ−１０１２−Ａ／Ｂ、ＫＥ−１０３１−Ａ／Ｂ、ＫＥ−１０５１Ｊ−Ａ／Ｂ、ＫＥ−１０５２（Ａ／Ｂ）、ＫＥ−１０５６、ＫＥ−１１５１、ＫＥ１２０４Ａ／Ｂ、ＫＥ１２０４ＡＬ／ＢＬ、ＫＥ−１２２２−Ａ／Ｂ、ＫＥ−１２４１、ＫＥ−１２８１−Ａ／Ｂ、ＫＥ−１３０８、ＫＥ−１３００Ｔ、ＫＥ−１３１０ＳＴ、ＫＥ−１３１０Ｔ、ＫＥ−１３１４−２、ＫＥ−１３１６、ＫＥ−１４１４、ＫＥ−１４１５、ＫＥ−１４１６、ＫＥ−１４１７、ＫＥ−１６００、ＫＥ−１６０３−Ａ／Ｂ、ＫＥ−１６０６、ＫＥ−１８００Ｔ−Ａ／Ｂ、ＫＥ−１８００Ａ／Ｂ／Ｃ、ＫＥ−１８０１−Ａ／Ｂ／Ｃ、ＫＥ１８０２Ａ／Ｂ／Ｃ、ＫＥ−１８２０、ＫＥ−１８２５、ＫＥ−１８３０、ＫＥ−１８３１、ＫＥ−１８３３、ＫＥ−１８４２、ＫＥ−１８６１−Ａ／Ｂ、ＫＥ−１８６２、ＫＥ−１８６７、ＫＥ−１８８４、ＫＥ−１８８５、ＫＥ−１８８６、ＫＥ−３４１７、ＫＥ−３４１８、ＫＥ−３４２３、ＫＥ−３４２４−Ｇ、ＫＥ−３４２７、ＫＥ−３４２８、ＫＥ−３４６６、ＫＥ−３４６７、ＫＥ−３４７５、ＫＥ−３４７９、ＫＥ−３４９０、ＫＥ−３４９１、ＫＥ−３４９２、ＫＥ−３４９３、ＫＥ−３４９４、ＫＥ−３４９５、ＫＥ−３４９７、ＫＥ−３４９８、ＫＥ−４８９０、ＫＥ−４８９５、ＫＥ−４８９６、ＫＥ−４８９７、ＫＥ−４８９８、ＫＥＲ−２０００−ＤＡＭ、ＫＥＲ−２０２０−ＤＡＭ、ＫＥＲ−２３００、ＫＥＲ−２４００、ＫＥＲ−２４６０、ＫＥＲ−２５００（Ａ／Ｂ）、ＫＥＲ−２６００（Ａ／Ｂ）、ＫＥＲ−２７００、ＫＥＲ−２９１０、ＫＥＦ−３００−Ｍ２、ＫＥＲ−３０００−Ｍ２、ＫＥＲ−３１００−Ｕ２、ＫＥＲ−３２００−Ｔ１、ＫＥＲ−３２００−Ｔ５、ＫＥＲ−３２００−Ｔ７、ＫＥＲ−３６００−Ｄ２、ＫＥＲ−４００４−Ｃ４、ＫＥＲ−４００４−Ｃ５、ＫＥＲ−４０２２−Ｄ２、ＫＥＲ−６０００、ＫＥＲ−６１００／ＣＡＴ−ＰＨ、ＫＥＲ−６０２０、ＫＥＲ−６０２０Ｆ、ＫＥＲ−６０７５、ＫＥＲ−６０７５Ｆ、ＫＥＲ−６１５０、ＫＥＲ−６２００、ＫＥＲ−６２３０Ｆ、ＫＥＲ−６５４０ＳＦ、ＫＥＲ−６５４１、Ｓ−ＢＡＲＲＩＥＲ−０１、Ｓ−ＢＡＲＲＩＥＲ−０２、ＳＣＲ−１０１１（Ａ／Ｂ）、ＳＣＲ−１０１２（Ａ／Ｂ）、ＳＣＲ−１０１６（Ａ／Ｂ）、ＳＣＲ−１０１８、ＳＣＲ−１０２１、ＳＣＲ−１０２２Ｄ、ＳＣＲ−３４００−Ｓ５、ＳＭＰ−２８００、ＳＭＰ−２８００Ｌ、ＳＭＰ−２８２０、ＳＭＰ−２８４０、Ｘ−２４−９４２６、Ｘ−３２−１６１９、Ｘ−３２−２０２０、Ｘ−３２−２２５６、Ｘ−３２−２１００−Ｔ、Ｘ−３２−２４２８−４、Ｘ−３２−２５２８、Ｘ−３２−２５５１、Ｘ−３２−２５５１Ｌ、Ｘ−３２−２８９８、Ｘ−４０−２６６７Ａ、Ｘ−４０−２７５６；

【0113】

東レ・ダウコーニング株式会社製２１７、２２０、２３３、２４９、８０４、８０５、８０６Ａ、８４０、１−２５７７、３０３７、３０７４、３１４０、３１４５、７９２０、１−２５７７、１−２６２０、ＡＹ４２−１６３、ＣＹ５２−００５、ＣＹ−５２−２０５、ＣＹ５２−２７２、ＣＹ５２−２７６、ＤＡ６５０１、ＤＡ６５０３、ＤＡ６５２３、ＤＡ６５３４、ＥＡ−３０００、ＥＡ−３５００、ＥＡ−４９００、ＥＡ−６９００、ＥＥ−１８４０、ＥＥ−９０００、ＥＥ−９１００、ＥＧ−３０００、ＥＧ−３１００、ＥＧ−３８１０、ＥＧ−６３０１、ＨＣ１０００、ＨＣ１１００、ＨＣ２０００、ＨＣ２１００、ＪＣＲ６１０１、ＪＣＲ６１０１Ｌ、ＪＣＲ６１０１ＵＰ、ＪＣＲ６１０７、ＪＣＲ６１０９、ＪＣＲ６１０９Ｓ、ＪＣＲ６１１０、ＪＣＲ６１１５、ＪＣＲ６１２２、ＪＣＲ６１２５、ＪＣＲ６１２６、ＪＣＲ６１４０、ＪＣＲ６１４６、ＪＣＲ６１６１、ＪＣＲ６１６９、ＪＣＲ６１７０、ＯＥ−６２５０、ＯＥ−６３３６、ＯＥ−６３５１、ＯＥ−６４５０、ＯＥ−６５２０、ＯＥ−６５５０、ＯＥ−６６３０、ＯＥ−６６３１、ＯＥ−６６３５、ＯＥ−６６３６、ＯＥ−６６６５Ｎ、ＯＥ−８００１、ＰｅｌｇａｎＺ、ＱＰ８−５３１４、ＳＣ１０２、ＳＣ４４７１、ＳＣ４４７６、ＳＥ７３８、ＳＥ７６０ＳＧ、ＳＥ７９７、ＳＥ９３０、ＳＥ９３１、ＳＥ９３６、ＳＥ９６０、ＳＥ９９０Ｆ、ＳＥ１７００、ＳＥ１７０１、ＳＥ１７１３、ＳＥ１７１４、ＳＥ１７２０、ＳＥ１７４０、ＳＥ１７５０、ＳＥ１８１６、ＳＥ１８１７、ＳＥ１８９６、ＳＥ４４００、ＳＥ４４０２、ＳＥ４４１０、ＳＥ４４２０、ＳＥ４４３０、ＳＥ４４００−ＬＰ、ＳＥ４４４５、ＳＥ４４５０、ＳＥ４４８５、ＳＥ４４８５Ｌ、ＳＥ４４８６、ＳＥ４４９０、ＳＥ５００６、ＳＥ５００７、ＳＥ５０１０、ＳＥ５０８８、ＳＥ９１２０、ＳＥ９１２０Ｓ、ＳＥ９１５２、ＳＥ９１５２ＨＴ、ＳＥ９１５７、ＳＥ９１６６、ＳＥ９１６８、ＳＥ９１８４、ＳＥ９１８５、ＳＥ９１８６、ＳＥ９１８６Ｌ、ＳＥ９１８７Ｌ、ＳＥ９１８８、ＳＥ９１８９、ＳＥ９２０６、ＳＨ７８０、ＳＨ８５０、ＳＲ２４００、ＳＲ２４０２、ＳＲ７０１０、ＴＣ−２０３５、ＴＣ−２３１０、ＴＣ−５０２２、ＴＣ−５０２６、ＴＣ−５３５１、ＴＣ−５６２２、ＸＲ−１５４１−００２、ＸＲ−１５４１−００４、ＸＲ−１５４１−００６、ＷＬ−５１５０、ＷＬ−５３５１、Ｚ−６０１８、ＦＯｘ−１４、ＦＯｘ−１５、ＦＯｘ−１６、Ｓｙｌｇａｒｄ１７０、Ｓｙｌｇａｒｄ１８４、Ｓｙｌｇａｒｄ５２７；

【0114】

モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製トスガード５１０／ＰＨ９１、ＥＣＣ３０１０、ＥＣＣ３０５０Ｓ、ＥＣＳ０６００、ＦＦＳＬ７０３１、ＦＦＳＬ７０４１、ＦＦＳＬ７０５１、ＦＦＳＬ７０６１、ＦＦＳＬ７０７１、ＦＱＥ２０５Ｕ、ＦＱＥ２０６Ｕ、ＦＱＥ２０７Ｕ、ＩＶＳ４３１２、ＩＶＳ４５４２、ＩＶＳ４５４６、ＩＶＳ４６２２、ＩＶＳ４６３２、ＩＶＳ４７４２、ＩＶＳ４７５２、ＩＶＳ７６２０、ＩＶＳ９５２０、ＩＶＳＧ５７７８、ＩＶＳＭ４５００、ＬＳＲ２０３０Ｊ、ＬＳＲ２０４０、ＬＳＲ２０５０、ＬＳＲ２３４５、ＬＳＲ２６４０、ＬＳＲ２６５０、ＬＳＲ２６６０、ＬＳＲ２６７０、ＬＳＲ３１８６、ＬＳＲ３２８５、ＬＳＲ３２８６、ＬＳＲ３３８６、ＬＳＲ３４８５、ＬＳＲ３４８６、ＬＳＲ３６９６、ＬＳＲ３７８５、ＬＳＲ３７８６、ＬＳＲ７００５、ＬＳＲ７０３０、ＬＳＲ７０９０、ＬＳＲ７０６０、ＬＳＲ７０７０ＦＣ、ＬＳＲ７０８０Ｊ、ＲＴＶ６１５、ＳＨＣ９００、Ｓｉｌｐｕｓ４０ＨＴ、Ｓｉｌｐｕｓ７０ＨＴ、Ｓｉｌｐｕｓ４０ＭＰ、Ｓｉｌｐｕｓ５０ＭＰ、Ｓｉｌｐｕｓ６０ＭＰ、Ｓｉｌｐｕｓ７０ＭＰ、ＴＣＭ５４０６Ｕ、ＴＣＭ５４１７Ｕ、ＴＩＡ２０７ＧＮ、ＴＩＡ２１６Ｇ、ＴＩＡ２２２Ｇ、ＴＮ３００５、ＴＮ３０８５、ＴＮ３３０５、ＴＮ３７０５、ＴＳＥ２２１、ＴＳＥ２６０、ＴＳＥ２６１、ＴＳＥ２７０、ＴＳＥ３２２、ＴＳＥ３２２Ｓ、ＴＳＥ３２５、ＴＳＥ３２６、ＴＳＥ３２６Ｍ、ＴＳＥ３５０／（ＣＥ６０、ＣＥ６０１、ＣＥ６１、ＣＥ６１１、ＣＥ６２、ＣＥ６２１）、ＴＳＥ３７０、ＴＳＥ３８２、ＴＳＥ３８４、ＴＳＥ３８５、ＴＳＥ３８７、ＴＳＥ３８８、ＴＳＥ３８９、ＴＳＥ３９８、ＴＳＥ２１８１Ｕ、ＴＳＥ２１８３Ｕ、ＴＳＥ２１８７Ｕ、ＴＳＥ２２３３Ｕ、ＴＳＥ２２６７、ＴＳＥ２２７７、ＴＳＥ２２８７、ＴＳＥ２２９７、ＴＳＥ２３２３、ＴＳＥ２４２５Ｕ、ＴＳＥ２４２７Ｕ、ＴＳＥ２５２３Ｕ、ＴＳＥ２５２７Ｕ、ＴＳＥ２５７０、ＴＳＥ２５７１、ＴＳＥ２９１１Ｕ、ＴＳＥ２９１３Ｕ、ＴＳＥ２９７１Ｕ、ＴＳＥ３０３２、ＴＳＥ３０３３、ＴＳＥ３０５１、ＴＳＥ３０６２、ＴＳＥ３０７０、ＴＳＥ３２１２、ＴＳＥ３２２１Ｓ、ＴＳＥ３２５０、ＴＳＥ３２５１、ＴＳＥ３２６１、ＴＳＥ３２８０、ＴＳＥＲ３２８１、ＴＳＥ３３３１、ＴＳＥ３３３１Ｋ、ＴＳＥ３３３５、ＴＳＥ３３６０、ＴＳＥ３３８０、ＴＳＥ３４３１、ＴＳＥ３４５０、ＴＳＥ３４５３Ｔ、ＴＳＥ３４５７Ｔ、ＴＳＥ３４５８Ｔ、ＴＳＥ３４６６、ＴＳＥ３４７７Ｔ、ＴＳＥ３４７８Ｔ、ＴＳＥ３５０２／（ＣＥ６０、ＣＥ６０１、ＣＥ６１、ＣＥ６１１、ＣＥ６２、ＣＥ６２１）、ＴＳＥ３５０４／（ＣＥ６０、ＣＥ６０１、ＣＥ６１、ＣＥ６１１、ＣＥ６２、ＣＥ６２１）、ＴＳＥ３５０８／ＣＥ６２１、ＴＳＥ３５６２、ＴＳＥ３６６０、ＴＳＥ３６６３、ＴＳＥ３６６４Ｋ、ＴＳＥ３８２６、ＴＳＥ３８４３、ＴＳＥ３８５３、ＴＳＥ３８５４ＤＳ、ＴＳＥ３８７７、ＴＳＥ３９４１Ｍ、ＴＳＥ３９４４、ＴＳＥ３９７１、ＴＳＥ３９７６、ＴＳＪ３１５５、ＴＳＪ３１７５、ＴＳＪ３１８５、ＴＳＪ３１８７、ＴＳＪ３１９５、ＵＶＨＣ１１０１、ＵＶＨＣ１１０５、ＵＶＨＣ３０００、ＵＶＨＣ７０００、ＵＶＨＣ８５５８、ＹＥ３４６５Ｕ、ＹＥ５８２２、ＸＥ１１−Ａ５１３３Ｓ、ＸＥ１１−Ｂ５３２０、ＸＥ１２−Ｂ２５４３、ＸＥ１３−Ｂ３２０８、ＸＥ１４−Ｂ５７７８、ＸＥ１４−Ｂ７８９２、ＸＥ１４−Ｃ０４４７、ＸＥ１４−Ｃ２０４２、ＸＥ１４−Ｃ２８６０、ＸＥ１４−Ｃ３４５０、ＸＥ２０−５２３、ＸＥ２０−５３１Ｕ、ＸＥ２０−５３２Ｕ、ＸＥ２０−５３３Ｕ、ＸＥ２０−８５３Ｕ、ＸＥ２０−Ａ０７８４、ＸＥ２０−Ａ１６９８、ＸＥ２０−Ａ７０１３、ＸＥ２０−Ａ７０１６、ＸＥ２０−Ｃ０５１０、ＸＥ２３−Ａ２６３７、ＸＥ２３−Ａ３２２８、ＸＥ２３−Ａ６００１、ＸＥ２３−Ａ６００１、ＸＥ２３−Ｂ２４８４等が挙げられる。これらは単独で用いても、複数種を組み合わせて用いてもよい。

【0115】

側鎖に重合性置換基を有するシリコーン化合物としては、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、信越化学株式会社製ＫＦ−１０１、ＫＦ−１０２、ＫＦ−１０５、ＫＦ−１００１、ＫＦ−１００２、ＫＦ−１００５、Ｘ−２２−１６３、Ｘ−２２−１６３Ａ、Ｘ−２２−１６３Ｂ、Ｘ−２２−１６３Ｃ、Ｘ−２２−１６４、Ｘ−２２−１６４ＡＳ、Ｘ−２２−１６４Ａ、Ｘ−２２−１６４Ｂ、Ｘ−２２−１６４Ｂ、Ｘ−２２−１６４Ｃ、Ｘ−２２−１６４Ｅ、Ｘ−２２−１６９Ｂ、Ｘ−２２−１６９ＡＳ、Ｘ−２２−３４３、Ｘ−２２−２０００、Ｘ−２２−２０４６、Ｘ−２２−２４４５、Ｘ−２２−４７４１、Ｘ−２２−９００２、Ｘ−４０−２６７０、東レ・ダウコーニング株式会社製ＢＹ１６−８３９、ＢＹ１６−８７６、ＦＺ−３７３６、Ｌ−９３００、ＳＦ８４１１、ＳＦ８４１３、ＳＦ８４２１、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製ＴＳＦ４７３０，ＹＦ３９６５等が挙げられる。これらは単独で用いても、複数種を組み合わせて用いてもよい。

【0116】

（硬化性フェノール樹脂）
硬化性フェノール樹脂は、レゾール型フェノール樹脂、ノボラック型フェノール樹脂、ビスフェノール型フェノール樹脂からなる群より選ばれる１種の化合物と、アルデヒド供給源となる化合物（以下、硬化性フェノール樹脂硬化剤）と、を含む硬化性フェノール樹脂組成物を重合することで得ることができる。

【0117】

レゾール型フェノール樹脂は、フェノール類とアルデヒド類とを、塩基性触媒の存在下で、通常、フェノール類に対するアルデヒド類のモル比（アルデヒド類／フェノール類）を１．３〜１．７として反応させて得ることができる。

【0118】

レゾール型フェノール樹脂を製造する際に用いるフェノール類は、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、キシレノール、アルキルフェノール類、カテコール、レゾルシン等が挙げられる。これらのフェノール類は単独、あるいは２種以上を混合して使用してもよい。

【0119】

レゾール型フェノール樹脂を製造する際に用いるアルデヒド類は、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド等のアルデヒド化合物、及びこれらのアルデヒド化合物の発生源となる物質、あるいはこれらのアルデヒド化合物の溶液等を用いることができる。これらのアルデヒド類は単独、あるいは２種以上を混合して使用してもよい。

【0120】

ノボラック型フェノール樹脂とは、フェノール類とアルデヒド類とを、無触媒または酸性触媒の存在下、通常、フェノール類に対するアルデヒド類のモル比（アルデヒド類／フェノール類）を０．７〜０．９として反応させて得ることができる。

【0121】

ノボラック型フェノール樹脂を製造する際に用いられるフェノール類は、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、キシレノール、アルキルフェノール類、カテコール、レゾルシン等が挙げられる。これらのフェノール類は単独、あるいは２種以上を混合して使用してもよい。

【0122】

ノボラック型フェノール樹脂を製造する際に用いられるアルデヒド類は、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド等のアルデヒド化合物、及びこれらのアルデヒド化合物の発生源となる物質、あるいはこれらのアルデヒド化合物の溶液等を用いることができる。これらのアルデヒド類は単独、あるいは２種以上を混合して使用してもよい。

【0123】

ノボラック型フェノール樹脂を製造する際、パラキシレンジメチルエーテルや、炭素原子数１以上１０以下のアルキル基、炭素原子数１以上１０以下のシクロアルキル基に相当する置換ベンゼンを用いることで、ベンゼンまたは置換ベンゼンに由来する構成単位をノボラック型フェノール樹脂に導入することができる。

【0124】

ビスフェノール型フェノール樹脂とは、一般的に用いられる製造方法で得られるものであれば特に限定されず、例えば、蓚酸、塩酸、硫酸、トルエンスルホン酸等の酸性触媒の存在下において、２個のヒドロキシフェニル基を有する化合物であるビスフェノール類を必須のモノマー成分として用い、必要に応じてフェノール類をモノマー成分に加えたモノマー成分と、アルデヒド類とを、ビスフェノール類又は、ビスフェノール類とフェノール類とからなるモノマー成分（Ｍ）に対するアルデヒド類（Ｆ）の反応モル比（Ｆ／Ｍ）を、通常０．５以上、０．９以下として反応させて得ることができる。

【0125】

また、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化マグネシウム、水酸化バリウム、水酸化カルシウム、水酸化カリウム、アンモニア、トリエチルアミン等の塩基性触媒の存在においては、２個のヒドロキシフェニル基を有する化合物であるビスフェノール類を必須のモノマー成分として用い、必要に応じてフェノール類をモノマー成分に加えたモノマー成分と、アルデヒド類とを、ビスフェノール類又は、ビスフェノール類とフェノール類とからなるモノマー成分（Ｍ）に対するアルデヒド類（Ｆ）の反応モル比（Ｆ／Ｍ）を、通常１．０以上、３．０以下として反応させて得ることができる。

【0126】

ビスフェノール型フェノール樹脂を製造する際に用いられるビスフェノール類は、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＡＰ、ビスフェノールＡＦ、ビスフェノールＢ、ビスフェノールＢＰ、ビスフェノールＣ、ビスフェノールＥ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＧ、ビスフェノールＭ、ビスフェノールＰ、ビスフェノールＰＨ、ビスフェノールＳ、ビスフェノールＴＭＣ、ビスフェノールＺ等が挙げられる。これらのビスフェノール類は単独、あるいは２種以上を混合して使用してもよい。

【0127】

ビスフェノール型フェノール樹脂を製造する際に用いられるフェノール類は、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、フェノール、オルソクレゾール、メタクレゾール、パラクレゾール、キシレノール、パラターシャリーブチルフェノール、パラオクチルフェノール、パラフェニルフェノール、レゾルシン等のフェノール類が挙げられる。これらのフェノール類は単独、あるいは２種以上を混合して使用してもよい。

【0128】

ビスフェノール型フェノール樹脂を製造する際に用いられるアルデヒド類は、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ブチルアルデヒド、アクロレイン等のアルデヒド類、又はこれらの混合物が挙げられる。これらのアルデヒド類は単独、あるいは２種以上を混合して使用してもよい。

【0129】

硬化性フェノール樹脂硬化剤は、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、ヘキサメチレンテトラミン、ヘキサメチレンテトラミンとフェノール誘導体との付加物、ヘキサメトキシメチロールメラミン、パラホルムアルデヒド、及びポリアセタール樹脂等が挙げられる。

【0130】

一般的に入手可能な硬化性フェノール樹脂組成物を重合することよって、硬化性フェノール樹脂を得ることができる。硬化性フェノール樹脂組成物は、単独で用いてもよいし、複数種組み合わせて用いてもよい。

【0131】

硬化性フェノール樹脂組成物の具体例としては、旭有機材工業株式会社製ＡＶライト（グレード番号例：５００、５２１、８１１、８２１、８１１ＮＡ、８１６ＮＡ、８１７ＮＡ、８６５０、８３７、８６１０、９５５０、５６８０、５３７０）、オタライト株式会社製オタライト（グレード番号例：ＰＦ−２０、ＰＦ−６０Ｂ、ＰＦ−６０ＨＩＩ、ＰＦ−２００、ＰＦＣ−２００、ＰＦｐ−１５８、ＰＦｐ−１５、ＰＦｐ−２５、ＰＦｐ−２００、ＰＦｐ−５００、Ｐ−１２３１、ＰＧ−１２８１、ＰＧ−８６２３、ＰＧ−８６５０、ＰＧ−８６５２、Ｐ−８６５９、ＰＧ−６８０１、ＰＧ−６５５１、ＰＧ−６５５２、ＰＧ−６５５６、ＰＧ−６５６０、ＰＧ−６５２０、ＰＧ−６５１１、ＰＧ−５５１１、ＰＧ−６４００、ＰＧ−６４５０、ＰＧ−６４５６、ＰＧ−６４３２）、京セラケミカル株式会社製テコライト（グレード番号例：ＫＭ−１３、ＫＭ−２２、ＫＭ−３６、ＫＭ−１３１Ｊ、ＫＭ−１４１ＢＧ、ＫＭ−２２０Ｊ、ＫＭ−２４５Ｇ、ＫＭ−３５０Ｇ、ＫＭ−４５０Ｊ、ＫＭ−４６０Ｊ、ＫＭ−４７０Ｊ、ＫＭ−７４７Ｊ、ＫＭ−１０００Ｊ、ＫＭ−２０００Ｇ）、住友ベークライト株式会社製スミコンＰＭ（グレード番号例：ＰＭ−８２００、ＰＭ−８２２０、ＰＭ−８７４０、ＰＭ−８８００、ＰＭ−３１３、ＰＭ−２４８８、ＰＭ−８２２６、ＰＭ−８２３５、ＰＭ−８３１５、ＰＭ−８３４０、ＰＭ−８４２５、ＰＭ−６４２、ＰＭ−９７２０、ＰＭ−９８２０、ＰＭ−９８３０、ＰＭ−９３８、ＰＭ−９７５０、ＰＭ−９６３０、ＰＭ−７６０、ＰＭ−７６６、ＰＭ−７０２１、ＰＭ−７８１、ＰＭ−９６１５、ＰＭ−９６２５、ＰＭ−９６４０、ＰＭ−９６８５Ｌ、ＰＭ−６６００、ＰＭ−６９３０Ｈ、ＰＭ−６８３０、ＰＭ−Ｖ２３０、ＰＭ−０００１、ＰＭ−５５、ＰＭ−１１９０、ＰＭ−９８４０、ＰＭ−５９００、ＰＭ−３０７５Ｋ、ＰＭ−７２５、ＰＭ−２００１、ＰＭ−２０１０、ＰＭ−５６１０、ＰＭ−５６２０、ＰＭ−６０２０、ＰＭ−６２８０、ＰＭ−６４３２、ＰＭ−６５４５、ＰＭ−６６３０、ＰＭ−８１８０Ｎ、ＰＭ−８２８０、ＰＭ−９５０１、ＰＭ−９６１０）、日本合成化工株式会社製２１０、２１５、５０Ａ、１０１Ｂ、ＺＬ−１０００、パナソニック株式会社製ＣＹ３３１２、ＣＹ３３１９、ＣＹ３９１３、ＣＹ６７１２、ＣＹ２４１０、ＣＹ４０１０、ＣＹ９４１５、ＣＹ９６１０、ＣＹ６７８６、ＣＹ６５４８、ＣＹ４２００、ＣＮ４４０４、ＣＮ６６４１、ＣＮ６７４１、ＣＮ６８５６、ＣＮ６７７１、ＣＮ６４４２、ＣＮ６５７１）、日立化成株式会社製スタンドライト（グレード番号例：ＣＰ−Ｊ−６８２０、ＣＰ−Ｊ−７０００、ＣＰ−７０１０、ＣＰ−７１１１、ＣＰ−Ｊ−８８００、ＣＰ−Ｊ−８６００、ＣＰ−Ｊ−８７００、ＣＰ−Ｊ−８２００、ＣＰ−Ｊ−１９００、ＣＰ−Ｊ−２０１０、ＣＰ−Ｊ−２１００、ＣＰ−Ｊ−２３５０、ＣＰ−Ｊ−３８７０、ＣＰ−Ｊ−６０００、ＣＰ−２３５０、ＣＰ−Ｊ−６７５０）、フドー株式会社製フドウライト（グレード番号例：Ｆ９００、Ｆ５５００Ｆ、Ｆ５６２６Ｆ、Ｆ５６５０Ｆ、Ｆ５７５０Ｆ、Ｆ５７６０Ｆ、Ｆ５７７０Ｆ、Ｆ５７７２Ｆ、Ｆ５８００Ｆ、Ｆ５９１０Ｆ、Ｆ５９８０Ｆ、Ｆ５１４０Ｆ（Ｕ−６）、Ｆ５６３６Ｆ、Ｆ５６３７、ＦＣ３４５０、ＦＣ３４５５、ＦＣ４４２０、ＦＣ７９１０）等が挙げられる。これらは単独で用いても、複数種を組み合わせて用いてもよい。

【0132】

（硬化性不飽和ポリエステル樹脂）
硬化性不飽和ポリエステル樹脂は、α，β−不飽和二塩基酸またはその無水物からなる酸成分と多価アルコールとを重縮合して得られる不飽和ポリエステル化合物と、ラジカル重合性単量体、不飽和ポリエステル化合物重合開始剤とを含む硬化性不飽和ポリエステル樹脂組成物を重合することで得ることができる。

【0133】

α，β−不飽和二塩基酸またはその無水物としては、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、ヘット酸及びこれらの酸無水物等が挙げられる。これらは単独で用いても、複数種を組み合わせて用いてもよい。

【0134】

多価アルコールとしては、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、１，４−ブテンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，５−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、２−エチル−２−メチルプロパン−１，３−ジオール、２−ブチル−２−エチルプロパン−１，３−ジオール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２，４−ジメチル−１，５−ペンタンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ヘキサンジオール、１，７−ヘプタンジオール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、３−ヒドロキシ−２，２−ジメチルプロピル−３−ヒドロキシ−２，２−ジメチルプロパノエート、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、２−メチル−１，４−ブタンジオール、グリセリン、２，５−ジヒドロキシメチルフラン、ビスフェノールＡとアルキレンオキサイドとの付加物等が挙げられる。これらは単独で用いても、複数種を組み合わせて用いてもよい。

【0135】

必要に応じて飽和二塩基酸、その無水物、又はその低級アルキルエステルを加え、不飽和ポリエステル化合物を製造することもできる。

【0136】

飽和二塩基酸、その無水物、又はその低級アルキルエステルとしては、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、ビフェニルジカルボン酸、ナフタレンジカルボン酸、５−ｔｅｒｔ−ブチル−１，３−ベンゼンジカルボン酸、これらの酸無水物、又はこれらの低級アルキルエステル（例えば、フタル酸ジメチル、テレフタル酸ジメチル、イソフタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、テレフタル酸ジエチル、イソフタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、テレフタル酸ジブチル、イソフタル酸ジブチル等）等が挙げられる。これらは単独で用いても、複数種を組み合わせて用いてもよい。

【0137】

ラジカル重合性単量体としては、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、スチレン、クロルスチレン、ビニルトルエン、ジビニルトルエン、ｐ−メチルスチレンメチルメタクリレートン等のスチレン誘導体、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル等のメタクリル酸又はアクリル酸のアルキルエステル類、β−ヒドロキシメタクリル酸エチル、β−ヒドロキシアクリル酸エチル等のメタクリル酸又はアクリル酸のヒドロキシアルキルエステル類、ジアリルフタレート、ジアリルイソフタレート、トリアリルイソシアヌレート、エチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチールプロパントリメタクリレートなどの多官能のメタクリル酸又はアクリル酸のエステル類等が挙げられる。これらは単独で用いても、複数種を組み合わせて用いてもよい。

【0138】

不飽和ポリエステル化合物重合開始剤としては、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、メチルエチルケトンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド等のケトンパーオキサイド類、ベンゾイルパーオキサイド等のジアシルパーオキサイド類、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート等のパーオキシエステル類、クメンハイドロパーオキサイド等のハイドロパーオキサイド類、ジクミルパーオキサイド等のジアルキルパーオキサイド類等が、熱による不飽和ポリエステル化合物重合開始剤として挙げられ、ベンゾフェノン、ベンジル、メチルオルソベンゾイルベンゾエート等のベンゾフェノン類、ベイゾイナルキルエーテル等のベンゾインエーテル類、ベンジルジメチルケタール、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、４−イソプロピル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、１，１−ジクロロアセトフェノン等のアセトフェノン類、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン等のチオキサントン類等が、エネルギー線による不飽和ポリエステル化合物重合開始剤として挙げられる。これらは単独で用いても、複数種を組み合わせて用いてもよい。

【0139】

硬化性不飽和ポリエステル樹脂組成物に含まれる不飽和ポリエステル化合物重合開始剤の量は、硬化性不飽和ポリエステル樹脂組成物１００質量部に対して、０．０１質量部以上であることが好ましく、０．０５質量部以上であることがより好ましく、０．１質量部以上であることがさらに好ましい。不飽和ポリエステル化合物、及びラジカル重合性単量体に含まれるビニル基の残留が抑制される傾向にあることから、上記不飽和ポリエステル化合物重合開始剤の量は、０．０１質量部以上であることが好ましく、同様の観点から、０．０５質量部以上であることがより好ましい。所望の物理特性からのバラつきが抑制できる傾向にあることから、上記不飽和ポリエステル化合物重合開始剤の量は、０．１質量部以上であることがさらに好ましい。

【0140】

硬化性不飽和ポリエステル樹脂組成物に含まれる不飽和ポリエステル化合物重合開始剤の量は、硬化性不飽和ポリエステル樹脂組成物１００質量部に対して、１０質量部以下であることが好ましく、５質量部以下であることがより好ましく、３質量部以下であることがさらに好ましい。不飽和ポリエステル化合物重合開始剤の残留が抑制される傾向にあることから、上記不飽和ポリエステル化合物重合開始剤の量は、１０質量部以下であることが好ましい。所望の物理特性からのバラつきが抑制できる傾向にあることから、上記不飽和ポリエステル化合物重合開始剤の量は、５質量部以下であることがより好ましく、同様の観点から３質量部以下であることがさらに好ましい。

【0141】

硬化性不飽和ポリエステル樹脂組成物の重合をさらに促進するため、ナフテン酸コバルト、オクチル酸コバルト、オクチル酸亜鉛、オクチル酸バナジウム、ナフテン酸銅、ナフテン酸バリウム等の金属石鹸類、バナジウムアセチルアセテート、コバルトアセチルアセテート、鉄アセチルアセトネート等の金属キレート類、アニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｐ−トルイジン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−ｐ−トルイジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンズアルデヒド、４−[Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）アミノ]ベンズアルデヒド、４−（Ｎ−メチル−Ｎ−ヒドロキシエチルアミノ）ベンズアルデヒド、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドリキシプロピル）−ｐ−トルイジン、Ｎ−エチル−ｍ−トルイジン、トリエタノールアミン、ｍ−トルイジン、ジエチレントリアミン、ピリジン、フェニリモルホリン、ピペリジン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）アニリン、ジエタノールアニリン等のＮ，Ｎ−置換アニリン、Ｎ，Ｎ−置換−ｐ−トルイジン、４−（Ｎ，Ｎ−置換アミノ）ベンズアルデヒド等のアミン類等、一般的に用いられるものを、特に限定せず用いることができる。これらは単独で用いても、複数種を組み合わせて用いてもよい。

【0142】

一般的に入手可能な硬化性不飽和ポリエステル樹脂組成物を重合することよって、硬化性ポリエステル樹脂を得ることができる。硬化性ポリエステル樹脂組成物は、単独で用いてもよいし、複数種組み合わせて用いてもよい。

【0143】

硬化性ポリエステル樹脂組成物の具体例としては、京セラケミカル株式会社製プリミックス（グレード番号例：ＡＰ−２１２、ＡＰ−２１４、ＡＰ−３０１、ＡＰ−４０１、ＡＰ−６０３、ＡＰ−７５３、ＡＰ−７８０、ＡＰ−７９０、ＡＰ−９１２Ｓ、ＡＰ−９１３Ｓ、ＸＰ−９００３）、ジャパンコンポジット株式会社製ポリホープ（グレード番号例：Ｒ１００ＮＰ／ＡＰ、Ｒ１５０ＮＰ／ＡＰ、Ｒ２００ＮＰ／ＡＰ、Ｒ３００ＮＰ／ＡＰ、Ｒ２１１０、Ｎ−３３ＰＴ、Ｇ−２２６、ＧＡ２０、Ｓ−３３４Ｌ、Ｄ２４０ＬＥ、ＷＰ２６０、Ｎ−４２３ＰＷ、Ｎ−３２５）、プロミネート（グレード番号例：Ｐ９９１、Ｈ６６００、Ｈ６６５０Ｐ、Ｈ８１００）、ポリマール、ポリマールマットＴＭ、及びポリマールマットＢＭ、昭和電工株式会社製リゴラックＢＭＣ（グレード番号例：ＲＮＣ−４１０、ＲＮＣ−４１３、ＲＮＣ−４２０、ＲＮＣ−５０５、ＲＮＣ−８４１、ＲＮＣ−４４１、ＲＮＣ−８３３、ＲＮＣ−９００、ＲＮＣ−９８０、ＲＮＣ−７０７、ＲＮＣ−９４０、ＲＮＣ−４８１、ＲＬ−４８１、ＥＶＣ−１００、ＥＶＣ−２００）、及びリゴラックＳＭＣ（グレード番号例：ＭＣ−３１００、ＭＣＳ−８００、ＭＣ−２５６）、住友ベークライト株式会社製スミコン（グレード番号例：ＴＭ−４１０１、ＴＭ−４１２０、ＴＭ−４１９５、ＴＭ−５１００、ＴＭ−ＥＰ２３０、ＴＭ−４００５）、ＤＩＣ株式会社製ディックマット（グレード番号例：１３００、２３００、２４００、２５００、５１００、９０００）、ディーエイチ・マテリアル株式会社製サンドーマ（グレード番号例：５５９５（Ａ）ＰＴ、２９１５ＰＴ、ＦＨ−１２３−Ｎ、ＮＲ２９０７（Ａ）ＰＴ、２１９８（Ａ）ＰＴ、ＬＰ−９２１−Ｎ、ＬＰ−９２４−Ｎ、ＦＧ−２８３、ＦＧ−３８７、６６８ＰＴ、ＰＣ−１８４−Ｃ、ＰＣ−３５０−Ｃ、ＴＰ−１５７、ＴＰ−２５４、ＴＰ−６００、ＴＰ−８３５、８０１０、８１０１、ＦＷ−１６６、ＦＷ−２６５、ＰＳ−５２０、ＰＳ−２８１、ＴＰ−１５３、ＴＰ−６３３−Ｎ）、日本ユピカ株式会社製ユピカ（グレード番号例：１２７０、２０３５、２０７５、２１００、６４２４、３１４０、３４６４、３５１２、３５７０、８２５０、８９４０、４０７２、４１８３、５１２６、５１３６、５１５５、２２−３４、４０８３、４５１２、５１１６、４１９０、４３００、４５２６、５０２７、５２１２、５２３０、４００１Ａ、４００７Ａ、４５１６、４５５６、４５８０、５４２３、５５２４、５８３４、５８３６、４５２１、５４２１、４７００、ＦＬＴ−１２５、ＦＬＴ−２２５、ＦＬＴ−６２５、ＦＬＨ−３５０、ＦＭＸ−５８３、８６８０ＡＰ、６４００、６５１０、６５１４、ＵＧ−３１２、ＵＧ−５１０、ＵＧ−５１４、ＦＧＴ−３１２、８５２３、８５４２、８５５３、７１１７、７１２２−ＣＬ、７１２３−ＣＬ、７５９６、７５０６、７５２７、７６７０）、ユピカＳＭＣ（グレード番号例：３０００、７０００）、ユピカＨＭＣ（グレード番号例：８０００、８１００）、バイログラス（グレード番号例：ＶＧ−２２００、ＶＧ−７１００、ＶＧ−７１１０）、及びネオポール（グレード番号例：８２５０Ｌ、８２５０Ｍ、８２５０Ｈ、８２６０、８４１１Ｌ、８４１１Ｈ、８１００）、パナソニック株式会社製ＣＥ３０１０、ＣＥ３１１０、ＣＥ５１００、ＣＥ５２００、ＣＥ５４１０、ＣＥ１１００、ＣＥ２０１０、ＣＥ２１００、ＣＥ２９１０、ＣＥ２８６０、ＣＥ２８７０、ＣＥ２８４０、ＣＥ２８５０、ＣＥ２８１０、ＣＥ２８９０、フドー株式会社製フドウプリミックス（グレード番号例：ＦＰ１００Ｆ、ＦＰ３００Ｆ、ＦＰ５５）等が挙げられる。これらは単独で用いても、複数種を組み合わせて用いてもよい。

【0144】

（硬化性ポリイミド樹脂）
硬化性ポリイミド樹脂とは、末端に重合性置換基を有するポリイミド化合物、及び／又はポリアミック酸の側鎖に重合性置換基を有する化合物と、硬化性ポリイミド樹脂重合開始剤とを含む、硬化性ポリイミド樹脂組成物を重合することにより得ることができる。

【0145】

一般的にポリイミド化合物を製造する際に用いられる化合物や方法は、特に限定されないが、例えば、ポリイミド化合物は、テトラカルボン酸、及び／又はその酸無水物と、ジアミン化合物との重縮合により得ることができる。その際、重合性置換基を有する化合物を末端封止剤として用いることで、末端に重合性置換基を有するポリイミド化合物を得ることができる。

【0146】

テトラカルボン酸、及び／又はその酸無水物としては、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸、５−（２，５−ジオキソテトラヒドロ−３−フラニル）−３−メチル−シクロヘキセン−１，２ジカルボン酸無水物、ピロメリット酸、１，２，３，４−ベンゼンテトラカルボン酸、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸、２，２’，３，３’−ビフェニルテトラカルボン酸、メチレン−４，４’−ジフタル酸、１，１−エチリデン−４，４’−ジフタル酸、２，２−プロピリデン−４，４’−ジフタル酸、１，２−エチレン−４，４’−ジフタル酸、１，３−トリメチレン−４，４’−ジフタル酸、１，４−テトラメチレン−４，４’−ジフタル酸、１，５−ペンタメチレン−４，４’−ジフタル酸、４，４’−オキシジフタル酸、チオ−４，４’−ジフタル酸、スルホニル−４，４’−ジフタル酸、１，３−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ベンゼン、１，３−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス［２−（３，４−ジカルボキシフェニル）−２−プロピル］ベンゼン、１，４−ビス［２−（３，４−ジカルボキシフェニル）−２−プロピル］ベンゼン、ビス［３−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）フェニル］メタン、ビス［４−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）フェニル］メタン、２，２−ビス［３−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）フェニル］プロパン、ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジメチルシラン、１，３−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸、１，２，５，６−ナフタレンテトラカルボン酸、３，４，９，１０−ペリレンテトラカルボン酸、２，３，６，７−アントラセンテトラカルボン酸、１，２，７，８−フェナントレンテトラカルボン酸、エチレンテトラカルボン酸、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸、１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸、シクロペンタンテトラカルボン酸、シクロヘキサン−１，２，３，４−テトラカルボン酸、シクロヘキサン−１，２，４，５−テトラカルボン酸、３，３’，４，４’−ビシクロヘキシルテトラカルボン酸、カルボニル−４，４’−ビス（シクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸）、メチレン−４，４’−ビス（シクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸）、１，２−エチレン−４，４’−ビス（シクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸）、１，１−エチリデン−４，４’−ビス（シクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸）、２，２−プロピリデン−４，４’−ビス（シクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸）、オキシ−４，４’−ビス（シクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸）、チオ−４，４’−ビス（シクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸）、スルホニル−４，４’−ビス（シクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸）、ビシクロ［２，２，２］オクト−７−エン−２，３，５，６−テトラカルボン酸、４−（２，５−ジオキソテトラヒドロフラン−３−イル）−１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−１，２−ジカルボン酸、エチレングリコール−ビス−（３，４−ジカルボン酸フェニル）エーテル、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸由来の成分、４，４’−ビフェニルビス（トリメリット酸モノエステル酸）由来の成分、９，９’−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）フルオレン、及びこれらの酸無水物等が挙げられる。これらは単独で用いても、複数種を組み合わせて用いてもよい。

【0147】

ジアミン化合物としては、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、４，４’−（又は３，４’−、３，３’−、２，４’−）ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−（又は３，３’−）ジアミノジフェニルスルフォン、４，４’−（又は３，３’−）ジアミノジフェニルスルフィド、４，４’−ベンゾフェノンジアミン、３，３’−ベンゾフェノンジアミン、４，４’−ジ（４−アミノフェノキシ）フェニルスルフォン、４，４’−ジ（３−アミノフェノキシ）フェニルスルフォン、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、２，２−ビス｛４−（４−アミノフェノキシ）フェニル｝プロパン、３，３’，５，５’−テトラメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、２，２’−ビス（４−アミノフェニル）プロパン、２，２’，６，６’−テトラメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、２，２’，６，６’−テトラトリフルオロメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、ビス｛（４−アミノフェニル）−２−プロピル｝１，４−ベンゼン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−アミノフェノキシフェニル）フルオレン、３，３’−ジメチルベンチジン、３，３’−ジメトキシベンチジン、３，５−ジアミノ安息香酸等の芳香族ジアミン、２，６−ジアミノピリジン、２，４−ジアミノピリジン、ビス（４−アミノフェニル−２−プロピル）−１，４−ベンゼン、３，３’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニル（３，３’−ＴＦＤＢ）、２，２’−ビス［３（３−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン（３−ＢＤＡＦ）、２，２’−ビス［４（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン（４−ＢＤＡＦ）、２，２’−ビス（３−アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン（３，３’−６Ｆ）、２，２’−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン（４，４’−６Ｆ）等が挙げられる。これらは単独で用いても、複数種を組み合わせて用いてもよい。

【0148】

重合性置換基を有する末端封止剤としては、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、重合性置換基を有するジカルボン酸、そのエステル化物、又はその酸無水物、重合性置換基を有する１級アミンを用いることができる。これらは単独で用いても、複数種を組み合わせて用いてもよい。また、重合性置換基としては、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、エポキシ基、オキセタン基等の環状エーテル構造、環状チオエーテル構造、ラクトン構造、環状カーボネート構造、及びその含硫黄類縁構造、環状アセタール構造、及びその含硫黄類縁構造、環状アミン構造、環状イミノエーテル構造、ラクタム構造、環状チオウレア構造、環状ホスフィナート構造、環状ホスホナイト構造、環状ホスファイト構造、ビニル構造、ビニレン構造、ビニリデン構造、アリル構造、（メタ）アクリル構造、シクロアルカン構造が挙げれる。これらは１種の構造であってもよいし、複数種を組み合わせてもよい。これらの中でも、末端に重合性置換基を有するポリイミド化合物の安定性の観点から、ビニル構造、ビニレン構造、ビニリデン構造、（メタ）アクリル構造、イソシアネート構造であることが好ましい。

【0149】

ポリアミック酸の側鎖に重合性置換基を有する化合物は、一般的に用いられる化合物や方法であれば特に限定されず、例えば、ポリアミック酸の側鎖に存在するカルボン酸と重縮合できる重合性置換基を有する化合物を用いる方法や、テトラカルボン酸、及び／又はテトラカルボン酸無水物に重合性置換基を有する化合物を反応させたのち、ジアミン化合物と重縮合する方法による得ることができる。

【0150】

ポリアミック酸の側鎖に重合性置換基を有する化合物に含まれる重合性置換基としては、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、エポキシ基、オキセタン基等の環状エーテル構造、環状チオエーテル構造、ラクトン構造、環状カーボネート構造、及びその含硫黄類縁構造、環状アセタール構造、及びその含硫黄類縁構造、環状アミン構造、環状イミノエーテル構造、ラクタム構造、環状チオウレア構造、環状ホスフィナート構造、環状ホスホナイト構造、環状ホスファイト構造、ビニル構造、ビニレン構造、ビニリデン構造、アリル構造、（メタ）アクリル構造、シクロアルカン構造、イソシアネート構造が挙げれる。これらは１種の構造であってもよいし、複数種を組み合わせてもよい。これらの中でも、ポリアミック酸の側鎖に重合性置換基を有する化合物の安定性の観点から、ビニル構造、ビニレン構造、ビニリデン構造、（メタ）アクリル構造であることが好ましい。

【0151】

硬化性ポリイミド樹脂重合開始剤としては、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、メチルエチルケトンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド等のケトンパーオキサイド類、ベンゾイルパーオキサイド等のジアシルパーオキサイド類、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート等のパーオキシエステル類、クメンハイドロパーオキサイド等のハイドロパーオキサイド類、ジクミルパーオキサイド等の自アルキルパーオキサイド類等が、熱による不飽和ポリエステル化合物重合開始剤として挙げられ、ベンゾフェノン、ベンジル、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、メチルオルソベンゾイルベンゾエート等のベンゾフェノン類、２，２’−ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンジルジメチルケタール、４−イソプロピル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、１，１−ジクロロアセトフェノン等のアセトフェノン類、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン等のチオキサントン類、ベンジル、ベンジルジメチルケタール、ベンジル−β−メトキシエチルアセタール等のベンジル類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベイゾイナルキルエーテル等のベンゾイン類、１−フェニル−１，２−ブタンジオン−２−（Ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（Ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（Ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（Ｏ−ベンゾイル）オキシム、１，３−ジフェニルプロパントリオン−２−（Ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エトキシプロパントリオン−２−（Ｏ−ベンゾイル）オキシム等のオキシム類、Ｎ−フェニルグリシン等のＮ−アリールグリシン類、ベンゾイルパークロライド等の過酸化物類、芳香族ビイミダゾール類等が挙げられる。これらは単独で用いても、複数種を組み合わせて用いてもよい。

【0152】

硬化性ポリイミド樹脂組成物に含まれる硬化性ポリイミド化合物重合開始剤の量は、硬化性ポリイミド樹脂組成物１００質量部に対して、０．１質量部以上であることが好ましく、０．５質量部以上であることがより好ましく、１質量部以上であることがさらに好ましい。硬化性ポリイミド樹脂組成物に含まれる重合性置換基の残留が抑制される傾向にあることから、上記硬化性ポリイミド化合物重合開始剤の量は、０．１質量部以上であることが好ましく、同様の観点から、０．５質量部以上であることがより好ましい。所望の物理特性からのバラつきが抑制できる傾向にあることから、上記硬化性ポリイミド化合物重合開始剤の量は、１質量部以上であることがさらに好ましい。

【0153】

硬化性ポリイミド樹脂組成物に含まれる硬化性ポリイミド化合物重合開始剤の量は、硬化性ポリイミド樹脂組成物１００質量部に対して、２０質量部以下であることが好ましく、１０質量部以下であることがより好ましく、５質量部以下であることがさらに好ましい。硬化性ポリイミド化合物重合開始剤の残留が抑制される傾向にあることから、上記硬化性ポリイミド化合物重合開始剤の量は、１０質量部以下であることが好ましい。所望の物理特性からのバラつきが抑制できる傾向にあることから、上記硬化性ポリイミド化合物重合開始剤の量は、５質量部以下であることがより好ましく、同様の観点から３質量部以下であることがさらに好ましい。

【0154】

末端に重合性置換基を有するポリイミド化合物の具体例としては、Ａｐｐｌ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．１９７２，１６，９０５．に記載のあるＰＭＲ、Ｎａｔｉｏｎａｌ Ｓｔａｒｃｈ ａｎｄ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社の末端アセチレン基ポリイミド、末端ビスマレイミドポリイミド等が挙げられる。

【0155】

一般的に入手可能な硬化性ポリイミド樹脂組成物を重合することよって、硬化性ポリイミド樹脂を得ることができる。硬化性ポリイミド樹脂組成物は、単独で用いてもよいし、複数種組み合わせて用いてもよい。

【0156】

硬化性ポリイミド樹脂組成物の具体例としては、京セラケミカル株式会社製ポリイミドイミダロイ、デュポン株式会社製ベスペル、東レ株式会社製ＴＩポリマー、丸善石油化学株式会社製ＢＡＮＩ−Ｍ、ＢＡＮＩ−Ｘ等が挙げられる。

【0157】

（硬化性ポリウレタン樹脂）
硬化性ポリウレタン樹脂は、２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物と、イソシアネート基と反応し、結合を生じる反応性置換基を有する化合物（以下、活性水素化合物）と、を含む硬化性ポリウレタン樹脂組成物を、重合することで得ることができる。また、必要に応じて、重合を促進するために、ポリイソシアネート化合物重合開始剤を含むこともできる。

【0158】

ポリイソシアネート化合物としては、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、ジイソシアネート化合物として、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート及びダイマー酸のカルボキシル基をイソシアネート基に転化したダイマージイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート類；１，４−シクロヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、１−メチル−２，４−シクロヘキサンジイソシアネート、１−メチル−２，６−シクロヘキサンジイソシアネート、４，４'−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート及び１，３−ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサン等の脂環族ジイソシアネート類；キシリレンジイソシアネート、４，４'−ジフェニルジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、４，４'−ジフェニルメタンジイソシアネート、４，４'−ジフェニルジメチルメタンジイソシアネート、４，４'−ジベンジルジイソシアネート、ジアルキルジフェニルメタンジイソシアネート、テトラアルキルジフェニルメタンジイソシアネート、１，５−ナフチレンジイソシアネート、３，３'−ジメチル−４，４'−ビフェニレンジイソシアネート、ポリメチレンポリフェニルイソシアネート、フェニレンジイソシアネート及びｍ−テトラメチルキシリレンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート；等が挙げられる。これらは単独で用いても、複数種を組み合わせて用いてもよい。

【0159】

ポリイソシアネート化合物は、ジイソシアネート化合物と、２価以上のアルコールとから得ることができる。２価以上のアルコールとしては、非重合ポリオール、及び重合ポリオール等が挙げられる。非重合ポリオールとは、重合を履歴しないポリオールであり、重合ポリオールとは、モノマーを重合して得られるポリオールである。

【0160】

非重合ポリオールとしては、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、２−メチル−１，２−プロパンジオール、１，５−ペンタンジオール、２−メチル−２，３−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，２−ヘキサンジオール、２，５−ヘキサンジオール、２−メチル−２，４−ペンタンジオール、２，３−ジメチル−２，３−ブタンジオール、２−エチル−ヘキサンジオール、１，２−オクタンジオール、１，２−デカンジオール、２，２，４−トリメチルペンタンジオール、２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール等のジオール類；グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジグリセリン、ジペンタエリスリトール、Ｄ−トレイトール、Ｌ−アラビニトール、リビトール、キシリトール、ソルビトール、マンニトール、ガラクチトール、ラムニトール、アラビノース、リボース、キシロース、グルコース、マンノース、ガラクトース、フルクトース、ソルボース、ラムノース、フコース、リボデソース、トレハロース、ショ糖、マルトース、セロビオース、ゲンチオビオース、ラクトース、メリビオース、ラフィノース、ゲンチアノース、メレチトース、スタキオース等の３個以上の水酸基を有するポリオール類；等が挙げられる。これらは単独で用いても、複数種を組み合わせて用いてもよい。

【0161】

重合ポリオールとしては、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、ダイマー酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等のジカルボン酸の単独または混合物と、非重合ポリオール単独または混合物との縮合反応により得られるポリエステルポリオール類；非重合ポリオール単独または混合物を用いてε−カプロラクトンを開環重合して得られるポリカプロラクトン類；エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド、シクロヘキセンオキサイド、スチレンオキサイド等のアルキレンオキサイドの単独または混合物を、非重合ポリオール、及び／又はエチレンジアミン等のポリアミン化合物の単独または混合物に付加して得られるポリエーテルポリオール類；ポリエーテルポリオール類にアクリルアミド等を重合して得られるポリマーポリオール類；ヒドロキシ基を有するエチレン性不飽和結合含有化合物の単独または混合物の重合物、及び前記ヒドロキシ基を有するエチレン性不飽和結合含有化合物の単独または混合物と、ヒドロキシ基を含まないエチレン性不飽和結合含有化合物の単独または混合物の共重合物であるアクリルポリオール類；水酸基を２個以上有するポリブタジエン、水素添加ポリブタジエン、ポリイソプレン、水素添加ポリイソプレン等のポリオレフィンポリオール類；等が挙げられる。これらは単独で用いても、複数種を組み合わせて用いてもよい。

【0162】

ヒドロキシ基を有するエチレン性不飽和結合含有化合物としては、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、アクリル酸ヒドロキシエチル、アクリル酸ヒドロキシプロピル、アクリル酸ヒドロキシブチル、メタクリル酸ヒドロキシエチル、メタクリル酸ヒドロキシプロピル、メタクリル酸ヒドロキシブチル等が挙げられる。これらは単独で用いても、複数種を組み合わせて用いてもよい。

【0163】

ヒドロキシ基を含まないエチレン性不飽和結合含有化合物としては、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸−ｎ−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸−ｎ−ヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸−２−エチルヘキシル、アクリル酸ラウリル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸フェニル等のアクリル酸エステル類、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸−ｎ−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸−ｎ−ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸−２−エチルヘキシル、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸フェニル等のメタクリル酸エステル類、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸類、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−メチレンビスアクリルアミド、ダイアセトンアクリルアミド、ダイアセトンメタクリルアミド、マレイン酸アミド、マレイミド等の不飽和アミド類、メタクリル酸グリシジル、スチレン、ビニルトルエン、酢酸ビニル、アクリロニトリル、フマル酸ジブチル等のビニル系単量体類、ビニルトリメトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、γ−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等の加水分解性シリル基を有するビニル系単量体類等が挙げられる。これらは単独で用いても、複数種を組み合わせて用いてもよい。

【0164】

ポリイソシアネートは、２個以上のジイソシアネートを重合することで得ることができる。得られるポリイソシアネートは、イソシアヌレート構造、ビウレット構造、ウレトジオン構造、オキサジアジントリオン構造、イミノオキサジアジンジオン構造、アロファネート構造、ウレタン構造、ウレア構造からなる群より選ばれる１種以上の構造を有する。

【0165】

本実施形態におけるポリイソシアネートは、イソシアネート基が熱解離性ブロック剤と反応し、ブロックイソシアネート基となった構造を有する化合物（以下、ブロックポリイソシアネート、という）も含む。熱解離性ブロック剤は、加熱によってイソシアネート基に結合した熱解離性ブロック剤が解離し、イソシアネート基が生成することを可能とする性質を有する化合物である。

【0166】

熱解離性ブロック剤としては、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、ホルムアルドオキシム、アセトアルドオキシム、アセトオキシム、メチルエチルケトンオキシム、シクロヘキサノンオキシム等のオキシム類、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、２−エチル−１−ヘキサノール、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−ブトキシエタノール等のアルコール類、アセトアニリド、酢酸アミド、ε−カプロラクタム、δ−バレロラクタム、γ−ブチロラクタム等の酸アミド類、コハク酸イミド、マレイン酸イミド等の酸イミド類、フェノール、クレゾール、エチルフェノール、ブチルフェノール、ノニルフェノール、ジノニルフェノール、スチレン化フェノール、ヒドロキシ安息香酸エステル等のフェノール類、ジフェニルアミン、アニリン、カルバゾール、ジ−ｎ−プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、イソプロピルエチルアミン等のアミン類、マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセチルアセトン等の活性メチレン類、イミダゾール、２−メチルイミダゾール等のイミダゾール類、ピラゾール、３−メチルピラゾール、３，５−ジメチルピラゾール等のピラゾール類等が挙げられる。これらは単独で用いても、複数種を組み合わせて用いてもよい。

【0167】

活性水素化合物としては、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ブチレンジアミン、トリエチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、４，４’−ジアミノジシクロヘキシルメタン、ピペラジン、２−メチルピペラジン、イソホロンジアミン等のジアミン類；ビスヘキサメチレントリアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタメチレンヘキサミン、テトラプロピレンペンタミン等の３個以上のアミノ基を有する鎖状ポリアミン類；１，４，７，１０，１３，１６−ヘキサアザシクロオクタデカン、１，４，７，１０−テトラアザシクロデカン、１，４，８，１２−テトラアザシクロペンタデカン、１，４，８，１１−テトラアザシクロテトラデカン等の環状ポリアミン類；モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、アミノエチルエタノールアミン、Ｎ−（２−ヒドロキシプロピル）エチレンジアミン、プロパノールアミン、ジプロパノールアミン、エチレングリコール−ビス−プロピルアミン、ネオペンタノールアミン、メチルエタノールアミン等のアルカノールアミン類；ビス（２−ヒドロチオエチロキシ）メタン、ジエチオエチレングリコール、ジチオエリトリトール、ジチオトレイトール等のポリチオール類；コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、ダイマー酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等のジカルボン酸の単独または混合物と、非重合ポリオール単独または混合物との縮合反応により得られるポリエステルポリオール類；

【0168】

非重合ポリオール単独または混合物を用いてε−カプロラクトンを開環重合して得られるポリカプロラクトン類；エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド、シクロヘキセンオキサイド、スチレンオキサイド等のアルキレンオキサイドの単独または混合物を、非重合ポリオール、及び／又はエチレンジアミン等のポリアミン化合物の単独または混合物に付加して得られるポリエーテルポリオール類；ポリエーテルポリオール類にアクリルアミド等を重合して得られるポリマーポリオール類；ヒドロキシ基を有するエチレン性不飽和結合含有化合物の単独または混合物の重合物、及び前記ヒドロキシ基を有するエチレン性不飽和結合含有化合物の単独または混合物と、ヒドロキシ基を含まないエチレン性不飽和結合含有化合物の単独または混合物の共重合物であるアクリルポリオール類；水酸基を２個以上有するポリブタジエン、水素添加ポリブタジエン、ポリイソプレン、水素添加ポリイソプレン等のポリオレフィンポリオール類；フルオロオレフィン単独重合またはシクロビニルエーテル、ヒドロキシアルキルビニルエーテル、モノカルボン酸ビニルエステル等のビニル類との共重合により得られる、分子内にフッ素原子を含むポリオールであるフッ素ポリオール類；ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジブチルカーボネート等のジアルキルカーボネート類；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のアルキレンカーボネート類；ジフェニルカーボネート等のジアリールカーボネート類；ホスゲンから選ばれる少なくとも１種のカーボネート化合物と、非重合ポリオールとの縮重合により得られるポリカーボネートポリオール類；ノボラック型、グリシジルエーテル型、グリコールエーテル型、脂肪族不飽和化合物のエポキシ型、脂肪酸エステルのエポキシ型、多価カルボン酸エステル型、アミノグリシジル型、β−メチルエピクロ型、環状オキシラン型、ハロゲン型、レゾルシン型のエポキシ樹脂類等が挙げられる。これらは単独で用いても、複数種を組み合わせて用いてもよい。

【0169】

ポリイソシアネート化合物重合開始剤としては、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズジアセテート、ジオクチルスズジラウレート、ジメチルスズジチオデカノエート、ビス（２−エチルヘキサン酸）スズ等のスズ系化合物類；２−エチルヘキサン酸亜鉛、ナフテン酸亜鉛等の亜鉛系化合物類；２−エチルヘキサン酸チタン、チタンジイソプロピオキシビス（２−エチルアセトナート）等のチタン系化合物類；２−エチルヘキサン酸コバルト、ナフテン酸コバルト等のコバルト系化合物類；２−エチルヘキサン酸ビスマス、ナフテン酸ビスマス等のビスマス系化合物類；ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、２−エチルヘキサン酸ジルコニル、ナフテン酸ジルコニル等のジルコニウム化合物類；等が挙げられる。これらは単独で用いても、複数種を組み合わせて用いてもよい。

【0170】

硬化性ポリウレタン樹脂組成物において、ポリイソシアネート及びブロックポリイソシアネートが有するイソシアネート基及びブロックイソシアネート基の物質量に対する、活性水素化合物の有する活性水素基の物質量の比率は、特に限定されないが、１／１０以上であることが好ましく、１／８以上であることがより好ましく、１／６以上であることがさらに好ましい。硬化性ポリウレタン樹脂とした際、未反応の活性水素化合物が残留することを抑制できる傾向にあることから、上記活性水素基の物質量の比率は、１／１０以上であることが好ましく、同様の観点から１／８以上であることがより好ましい。所望の物理特性からのバラつきが抑制できる傾向にあることから、上記活性水素基の物質量の比率は、１／６以上であることがさらに好ましい。

【0171】

硬化性ポリウレタン樹脂組成物において、ポリイソシアネート及びブロックポリイソシアネートが有するイソシアネート基及びブロックイソシアネート基の物質量に対する、活性水素化合物の有する活性水素基の物質量の比率は、特に限定されないが、１０／１以下であることが好ましく、８／１以下であることがより好ましく、６／１以下であることがさらに好ましい。硬化性ポリウレタン樹脂とした際、未反応のポリイソシアネート、及び／又はブロックポリイソシアネートが残留することを抑制できる傾向にあることから、上記活性水素基の物質量の比率は、１０／１以下であることが好ましく、同様の観点から８／１以下であることがより好ましい。所望の物理特性からのバラつきが抑制できる傾向にあることから、上記活性水素基の物質量の比率は、６／１以下であることがさらに好ましい。

【0172】

硬化性ポリウレタン樹脂組成物に含まれるポリイソシアネート化合物重合開始剤の量は、硬化性ポリウレタン樹脂組成物１００質量部に対して、０．００１質量部以上であることが好ましく、０．００３質量部以上であることがより好ましく、０．０５質量部以上であることがさらに好ましい。硬化性ポリウレタン樹脂組成物に含まれるイソシアネート基、ブロックイソシアネート基、及び活性水酸基の残留が抑制される傾向にあることから、上記ポリイソシアネート化合物重合開始剤の量は、０．００１質量部以上であることが好ましく、同様の観点から、０．００３質量部以上であることがより好ましい。所望の物理特性からのバラつきが抑制できる傾向にあることから、上記ポリイソシアネート化合物重合開始剤の量は、０．０５質量部以上であることがさらに好ましい。

【0173】

硬化性ポリウレタン樹脂組成物に含まれるポリイソシアネート化合物重合開始剤の量は、硬化性ポリウレタン樹脂組成物１００質量部に対して、５質量部以下であることが好ましく、３質量部以下であることがより好ましく、１質量部以下であることがさらに好ましい。ポリイソシアネート化合物重合開始剤の残留により耐久性が低下する場合があることから、上記ポリイソシアネート化合物重合開始剤の量は、５質量部以下であることが好ましい。所望の物理特性からのバラつきが抑制できる傾向にあることから、上記ポリイソシアネート化合物重合開始剤の量は、３質量部以下であることがより好ましく、同様の観点から１質量部以下であることがさらに好ましい。

【0174】

一般的に入手可能な硬化性ポリウレタン樹脂組成物を重合することよって、硬化性ポリウレタン樹脂を得ることができる。硬化性ポリウレタン樹脂組成物は、単独で用いてもよいし、複数種組み合わせて用いてもよい。

【0175】

硬化性ポリウレタン樹脂組成物の具体例としては、エッチ・アンド・ケー株式会社製ハイキャスト（グレード番号例；３０１２Ｗ、３０１７、３０１９、３０３０、３０９１、３１５０、３１５５、３１６６、３７５１、３０９５、３１８０、３２６３、３４３４、３４７９、３５００、３５３０、３５５０、３５７０、３６０１、３６０３、３６１０−６０、３６１５、３７４４）、日新レジン株式会社製アダプト（グレード番号例；ＲＵ−１０Ａ／Ｂ、ＲＵ−１２Ａ／Ｂ、ＲＵ−１５Ａ／Ｂ、ＲＵ−１７Ａ／Ｂ、ＲＵ−４２ＡＮ／Ｂ、ＲＵ−５１０ＡＮ／Ｂ、ＲＵ−６５０ＡＨ／Ｂ、ＲＵ−６５０ＡＳ／Ｂ、ＲＵ−７５０Ａ／Ｂ、ＲＵ−７０Ａ／ＲＵＳ−Ｂ、ＲＵ−７８Ａ／Ｂ、ＲＵ−８０Ａ／Ｂ、ＲＵ−６８Ａ／Ｂ、ＲＵ−５５０Ａ／Ｂ、ＲＵ−６１０Ａ／ＢＨ、ＲＵ−６１０Ａ／ＢＳ、ＰＵ−０１Ａ／Ｂ、ＲＵ−８５０Ａ／ＲＵＧ−Ｂ、ＲＵ−８６０Ａ／ＲＵＧ−Ｂ、ＲＵ８７０Ａ／ＲＵＧ−Ｂ、ＲＵ−８８０Ａ／ＲＵＧ−Ｂ、ＲＵ−８９０Ａ／ＲＵＧ−Ｂ、ＲＵ８４１Ａ／Ｂ、ＲＵ６３０Ａ／Ｂ、６０Ｌ、８０Ｌ、８０Ｐ、９０Ｌ、ＲＵ９１０Ａ／Ｂ、Ｅ−Ｎｏ．１、Ｅ−Ｎｏ．２、Ｅ−Ｎｏ．３）、及びクラフトレジン（グレード番号例：ホビーキャストＮＸ）、日本ポリウレタン工業株式会社製コロネート（グレード番号例：Ｃ−４０８０、Ｃ−４０９０、Ｃ−４０９５、ＤＣ−６９１２、Ｃ−４０７６、Ｃ−４０７４７、Ｃ−４０４８）、及びコロネートニッポラン（グレード番号例：Ｃ−４３６２／Ｎ−４０３８、Ｃ−４３７０／Ｎ−４３７８、Ｃ−４３７０／Ｎ−４３７９）等が挙げられる。これらは単独で用いても、複数種を組み合わせて用いてもよい。

【0176】

（硬化性メラミン樹脂）
硬化性メラミン樹脂は、メラミン類とアルデヒド類とを含む硬化性メラミン樹脂組成物を、中性ないし弱アルカリ下において反応させることで得ることができる。また、前記反応において、途中段階で取り出した化合物は（以下、硬化性メラミン樹脂中間体、という）、その後の重合により硬化性メラミン樹脂となることから、添加剤、フィラー、物性調整用化合物等を添加するため、好適に用いられる。

【0177】

メラミン類とは、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、メラミン、アミノ基の水素原子の一部がヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基等のヒドロキシアルキル基、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基等のアルコキシアルキル基等に置換されたメラミン等が挙げられる。これらは単独で用いても、複数種を組み合わせて用いてもよい。また、本実施形態においては、メラミン類として、メラミンのアミノ基の１つが水素原子、又は炭素数１〜１０の有機基に置換されたグアナミン化合物も含める。

【0178】

アルデヒド類とは、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ベンズアルデヒド、シクロヘキサンカルバルデヒド等の、炭素数１〜１０の有機基とアルデヒド基からなる化合物等が挙げられる。これらは単独で用いても、複数種を組み合わせて用いてもよい。

【0179】

メラミン類とアルデヒド類のモル比は、一般的に用いられるモル比であれば特に限定されないが、１：１〜２：１の範囲であることが好ましく、１．２：１〜１．７：１であることがより好ましい。このような範囲であることで、メラミン樹脂の硬度や加工性が両立できる傾向にある。

【0180】

成形時のクラックを改善できる傾向にあることから、さらに、フェノール類を添加し、メラミン樹脂を得ることもできる。

【0181】

フェノール類とは、一般的に用いられるものであれば特に限定されず、例えば、レゾール型フェノール樹脂、ノボラック型フェノール樹脂、ビスフェノール型フェノール樹脂等が挙げられる。これらは単独で用いても、複数種を組み合わせて用いてもよい。

【0182】

一般的に入手可能な硬化性メラミン樹脂組成物、及び硬化性メラミン樹脂中間体を含む混合物を、重合することよって、硬化性ポリウレタン樹脂を得ることができる。硬化性ポリウレタン樹脂組成物、及び硬化性メラミン樹脂中間体を含む混合物は、単独で用いてもよいし、複数種を組み合わせて用いてもよい。

【0183】

硬化性ポリウレタン樹脂組成物、及び硬化性メラミン樹脂中間体を含む混合物の具体例としては、住友ベークライト株式会社製スミコン（グレード番号例：ＭＭＣ−２００Ｊ、ＭＭＣ−５０、ＭＭＣ−１００Ｊ、ＭＭＣ−１５０Ｊ）、株式会社台和製リードライトメラミン、リードライトＭＡ、リードライトＭＳ（ソフミー）、及びリードライトメラミンフェノール、パナソニック株式会社製ミューラス（グレード番号例：ＭＢＦ−Ｇ、ＭＢＦ−Ｃ、ＭＢＦ−Ｒ）、ＭＭ−Ａ、ＭＭ−Ｓ、ＭＰ−Ａ、ＭＰ−Ｅ、ＭＥ−Ｊ等が挙げられる。

【0184】

（硬化性尿素樹脂）
硬化性尿素樹脂とは、尿素とホルムアルデヒドとを含む硬化性尿素樹脂組成物を、酸性下において反応させることで得ることができる。また、尿素とホルムアルデヒドとが反応したモノメチロール尿素やジメチロール尿素を、酸性下反応させることでも得ることができる。モノメチロール尿素やジメチロール尿素は、添加剤、フィラー、物性調整用化合物等を添加するため、好適に用いられる。

【0185】

一般的に入手可能な硬化性尿素樹脂組成物、及びモノメチロール尿素、及び／又はジメチロール尿素を含む混合物を、重合することよって、硬化性尿素樹脂を得ることができる。硬化性尿素樹脂組成物、及びモノメチロール尿素、及び／又はジメチロール尿素を含む混合物を含む混合物は、単独で用いてもよいし、複数種組み合わせて用いてもよい。

【0186】

硬化性尿素樹脂組成物、及びモノメチロール尿素、及び／又はジメチロール尿素を含む混合物を含む混合物の具体例としては、株式会社台和製リードライト、及びリードライトＵＷ、パナソニック株式会社製ＣＵ−Ａ、ＣＵ−Ｙ、ＣＵ−Ｅ、ＣＺ−Ｅ、ＣＺ−Ｔ、ＣＺ−Ｆ等が挙げられる。

【0187】

上記の硬化性樹脂を、熱により重合する際の温度・時間は、一般的に用いられる条件であれば、特に限定されず、それぞれの硬化性樹脂組成物の組成により、適宜選択することができる。また、重合する際の雰囲気は、空気、窒素、アルゴン等、一般的に用いられる雰囲気であれば特に限定されない。

【0188】

本実施形態において、上記の硬化性樹脂を、光により重合する際に用いられる光は、紫外線、近紫外線、可視光、近赤外線、赤外線、電子線等を指す。用いる光の種類は、一般的に用いられる条件であれば、特に限定されず、硬化性樹脂組成物の組成により、適宜選択することができるが、好ましくは、紫外線、及び近紫外線が用いられる。

【0189】

上記の硬化性樹脂を、光により重合する際に用いられる光の発生源は、特に限定されるものではなく、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ＵＶランプ、キセノンランプ、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、蛍光灯、タングステンランプ、アルゴンイオンレーザ、ヘリウムカドミウムレーザ、ヘリウムネオンレーザ、クリプトンイオンレーザ、各種半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、エキシマーレーザー、発光ダイオード、ＣＲＴ光源、プラズマ光源及び電子線照射器等の各種光源が挙げられる。

【0190】

上記の硬化性樹脂を、光により重合する際の光の種類、及び照射強度・時間は、一般的に用いられる条件であれば、特に限定されず、それぞれの硬化性樹脂組成物の組成により、適宜選択することができる。また、重合する際の雰囲気は、空気、窒素、アルゴン等、一般的に用いられる雰囲気であれば特に限定されない。

【0191】

ＭＷＦ型ゼオライトと樹脂とを含む複合体中のＭＷＦ型ゼオライトの含有量は、物理的に本発明の効果が発現する観点から、０質量％を超えればよく、実質的に本発明の効果を得る観点から、ＭＷＦ型ゼオライトと樹脂との合計の質量に対し、１質量％以上であることが好ましく、１０質量％以上であることがより好ましく、３０質量％以上であることがさらに好ましい。明確な理由は定かではないが、１０質量％以上においては、ゼオライト近傍に存在する樹脂の物理的性質が、樹脂単独での物理的性質と異なり、異なった物理的性質を有する樹脂同士が接触する状況が増加するため、より本発明の効果が発現するものと推察する。同様の観点から、上記ＭＷＦ型ゼオライトの含有量は、３０質量％以上であることがさらに好ましい。

【0192】

ＭＷＦ型ゼオライトと樹脂とを含む複合体中のＭＷＦ型ゼオライトの含有量は、物理的に本発明の効果が発現する観点から、１００質量％未満であればよく、実質的に本発明の効果を得る観点から、ＭＷＦ型ゼオライトと樹脂との合計の質量に対し、９９質量％以下であることが好ましく、８０質量％以下であることがより好ましく、７０質量％以下であることがさらに好ましい。８０質量％以下においては、ゼオライト表面の樹脂が覆えていない領域が減少し、そのため本発明の効果が高まる傾向にある。同様の観点から、上記ＭＷＦ型ゼオライトの含有量は、７０質量％以下であることがさらに好ましい。

【0193】

ＭＷＦ型ゼオライトと樹脂とを含む複合体を形成する方法としては、一般的にフィラーと樹脂とを含む複合体を形成する方法であれば特に限定されず、例えば、遊星型多軸押出機、同方向二軸押出機、異方向二軸押出機、単軸押出機等の押出機類；加圧ニーダー、ミキサー等のバッチ混練機類；ミキシングロール；バンバリーミキサー；等を使用して混練する方法が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、複数の方法を組み合わせて用いてもよい。

【0194】

ＭＷＦ型ゼオライトと、熱可塑性樹脂と、熱可塑性樹脂を溶解可能な溶媒と、を含む液状の混合物を調製し、溶剤を乾燥すること、又は、熱可塑性樹脂を溶解できない化合物（以下、貧溶媒、という）と接触させ析出させることで、ＭＷＦ型ゼオライトと樹脂とを含む複合体を得ることができる。前記混合物を調製する際の混合方法は、例えば、撹拌子、攪拌翼、ホモジナイザー、高圧ホモジナイザー、超高圧ホモジナイザー、超音波ホモジナイザー、ポリトロンホモジナイザー、超音波照射、自転・公転ミキサー等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、複数の方法を組み合わせて用いてもよい。

【0195】

ＭＷＦ型ゼオライトと硬化性樹脂組成物とを含む混合物が液状である場合、若しくはＭＷＦ型ゼオライトと、硬化性樹脂組成物と、硬化性樹脂組成物を溶解可能な溶媒と、を含む混合物が液状である場合にも、上記の複合体を形成する方法や混合方法を用いることで、ＭＷＦ型ゼオライトと樹脂とを含む複合体を得ることができる。

【0196】

熱可塑性樹脂を溶解可能な溶媒や、硬化性樹脂組成物を溶解可能な溶媒としては、例えば、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、イソヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン、イソオクタン、ｎ−ノナン、ｎ−デカン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン及びシクロオクタン等の飽和炭化水素化合物；ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、ナフタリン、テトラリン及びビフェニル等の芳香族炭化水素化合物；塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、塩化エチレン、トリクロロエタン、テトラクロロエタン、ペンタクロロエタン、ヘキサクロロエタン、ジクロロエチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、ジクロロプロパン、トリクロロプロパン、塩化イソプロピル、塩化ブチル、塩化ヘキシル、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、クロロトルエン及びクロロナフタリン等のハロゲン化炭化水素化合物；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ノナノール、デカノール、ウンデカノール、ドデカノール、シクロヘキサノール及びベンジルアルコール等のアルコール類；アセトン、メチルアセトン、エチルメチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルヘキシルケトン、ジエチルケトン、エチルブチルケトン、ジプロピルケトン及びジイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；並びに、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ペンチル、酢酸ヘキシル、酢酸オクチル、酢酸シクロヘキシル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息香酸ブチル及び安息香酸ベンジル等のエステル類；ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、グリセリン等のポリオール類、及び該ポリオール類の内２個の水酸基を有する化合物の多量体、並びにポリオール類；及び、前記多量体のエステル化化合物、アクリロニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類；ニトロメタン；ジメチルホルムアミド；ジメチルスルホキシド；ヘキサメチルホスホリックトリアミド；二硫化炭素；フッ素系化合物（例えば、３Ｍ社製Ｎｏｖｅｃ、旭硝子株式会社性アサヒクリン等）；等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で使用しても、複数を組み合わせて使用してもよい。

【0197】

熱可塑性樹脂を溶解可能な溶媒や、硬化性樹脂組成物を溶解可能な溶媒の使用量は、溶解できる量であれば特に限定されず、取扱い性や溶媒を乾燥する際のプロセスコスト等により適宜選択される。

【0198】

ＭＷＦ型ゼオライトと樹脂とを含む複合体を形成する際、一般的に用いられる成形方法により、所望の形状とすることもできる。例えば、押出成形、射出成形、ブロー成形、真空成形、カレンダー加工、溶剤を含む溶液を型に入れる、又はフィルムやシート状にした後、溶媒を乾燥する、又は貧溶媒により析出させる方法等が挙げられる。

【0199】

上記成形に際し、加工性が向上することから、可塑剤を用いる場合がある。可塑剤としては、一般的に用いられるものであれば、特に限定されないが、例えば、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ジ−ｎ−オクチルフタレート、ジイソノニルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジウンデシルフタレート、又は炭素原子数１０〜１３程度の高級アルコール又は混合アルコールのフタル酸エステル等のフタル酸エステル系可塑剤；ジ−２−エチルヘキシルアジペート、ジ−ｎ−オクチルアジペート、ジ−ｎ−デシルアジペート、ジイソデシルアジペート、ジ−２−エチルヘキシルアゼレート、ジブチルセバケート、ジ−２−エチルヘキシルセバケート等の脂肪族二塩基酸エステル系可塑剤；トリ−２−エチルヘキシルトリメリテート、トリ−ｎ−オクチルトリメリテート、トリデシルトリメリテート、トリイソデシルトリメリテート、ジ−ｎ−オクチル−ｎ−デシルトリメリレート等のトリメリット酸エステル系可塑剤；トリブチルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリキシリルホスフェート、トリオクチルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、トリブトキシエチルホスフェート、トリクロロエチルホスフェート、トリス（２−クロロプロピル）ホスフェート、トリス（２，３−ジクロロプロピル）ホスフェート、トリス（２，３−ジブロモプロピル）ホスフェート、トリス（ブロモクロロプロピル）ホスフェート、ビス（２，３−ジブロモプロピル）−２，３−ジクロロプロピルホスフェート、ビス（クロロプロピル）モノオクチルホスフェート等のリン酸エステル系可塑剤；２，３，３’，４’−ビフェニルテトラカルボン酸テトラヘプチルエステル等のビフェニルテトラカルボン酸テトラアルキルエステル系可塑剤；ポリエステル系高分子可塑剤；エポキシ化大豆油、エポキシ化亜麻仁油、エポキシ化綿実油、液状エポキシ樹脂等のエポキシ系可塑剤；塩素化パラフィン、五塩化ステアリン酸アルキルエステル等の塩素化脂肪酸エステル；等が挙げられる。これらは、単独で使用しても、複数を組み合わせて使用してもよい。

【0200】

ＭＷＦ型ゼオライトと樹脂とを含む複合体は、目的に応じて、各種有機樹脂、無機充填剤、着色剤、レベリング剤、滑剤、界面活性剤、シリコーン系化合物、反応性希釈剤、非反応性希釈剤、酸化防止剤及び光安定剤等を適宜含むことができる。その他、一般に樹脂用の添加剤（可塑剤、難燃剤、安定剤、帯電防止剤、耐衝撃強化剤、発泡剤、抗菌・防カビ剤、導電性フィラー、防曇剤、架橋剤等）として供される物質を含んでもよい。

【0201】

有機樹脂としては、特に限定されるものではなく、例えば、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂及びポリイミド樹脂等が挙げられる。これらは単独でも、複数種組み合わせて使用してもよい。

【0202】

無機充填材としては、例えば、シリカ類（溶融破砕シリカ、結晶破砕シリカ、球状シリカ、ヒュームドシリカ、コロイダルシリカ及び沈降性シリカ等）、シリコンカーバイド、窒化珪素、窒化ホウ素、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、硫酸カルシウム、マイカ、タルク、クレー、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、珪酸リチウムアルミニウム、珪酸ジルコニウム、チタン酸バリウム、硝子繊維、炭素繊維、及び二硫化モリブデンが挙げられる。これらは単独でも、複数を組み合わせて使用してもよい。

【0203】

着色剤は、着色を目的に使用される物質であれば特に限定されず、例えば、フタロシアニン、アゾ、ジスアゾ、キナクリドン、アントラキノン、フラバントロン、ペリノン、ペリレン、ジオキサジン、縮合アゾ及びアゾメチン系の各種有機系色素、並びに、酸化チタン、硫酸鉛、クロムエロー、ジンクエロー、クロムバーミリオン、弁殻、コバルト紫、紺青、群青、カーボンブラック、クロムグリーン、酸化クロム及びコバルトグリーン等の無機顔料等が挙げられる。これらの着色剤は単独でも、複数を組み合わせて使用してもよい。

【0204】

レベリング剤は、特に限定されず、例えば、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、及び２−エチルヘキシルアクリレート等のアクリレートから形成される分子量４０００〜１２０００のオリゴマー、エポキシ化大豆脂肪酸、エポキシ化アビエチルアルコール、水添ひまし油、並びにチタン系カップリング剤等が挙げられる。これらは単独でも、複数を組み合わせて使用してもよい。

【0205】

滑剤は、特に限定されず、パラフィンワックス、マイクロワックス及びポリエチレンワックス等の炭化水素系滑剤；ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、アラキジン酸及びベヘン酸等の高級脂肪酸系滑剤；ステアリルアミド、パルミチルアミド、オレイルアミド、メチレンビスステアロアミド及びエチレンビスステアロアミド等の高級脂肪酸アミド系滑剤；硬化ひまし油、ブチルステアレート、エチレングリコールモノステアレート及びペンタエリスリトール（モノ−，ジ−，トリ−，又はテトラ−）ステアレート等の高級脂肪酸エステル系滑剤；セチルアルコール、ステアリルアルコール、ポリエチレングリコール及びポリグリセロール等のアルコール系滑剤；ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、ベヘン酸、リシノール酸及びナフテン酸等のマグネシウム、カルシウム、カドミウム、バリウム、亜鉛及び鉛等の金属塩である金属石鹸；並びに、カルナウバロウ、カンデリラロウ、ミツロウ及びモンタンロウ等の天然ワックス；等が挙げられる。これらは単独でも、複数を組み合わせて使用してもよい。

【0206】

界面活性剤は、分子中に溶媒に対して親和性を持たない疎水基と、溶媒に対して親和性を持つ親媒基（通常は親水基）を持つ、両親媒性物質を指す。界面活性剤の種類は特に限定されるものではなく、例えば、シリコン系界面活性剤及びフッ素系界面活性剤等が挙げられる。これらは単独でも、複数を組み合わせて使用してもよい。

【0207】

シリコーン系化合物は、特に限定されず、例えば、シリコーン樹脂、シリコーン縮合物、シリコーン部分縮合物、シリコーンオイル、シランカップリング剤、シリコーンオイル、及びポリシロキサンが挙げられる。シリコーン化合物の両末端、片末端、あるいは側鎖に有機基を導入して変性されていてもよい。シリコーン系化合物の変性の方法も特に限定されず、例えば、アミノ変性、エポキシ変性、脂環式エポキシ変性、カルビノール変性、メタクリル変性、ポリエーテル変性、メルカプト変性、カルボキシル変性、フェノール変性、シラノール変性、ポリエーテル変性、ポリエーテル及び／又はメトキシ変性、並びに、ジオール変性等が挙げられる。これらは単独でも、複数を組み合わせて使用してもよい。

【0208】

反応性希釈剤は、特に限定されず、例えば、アルキルグリシジルエーテル、アルキルフェノールのモノグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１、６―ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、アルカン酸グリシジルエステル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、及びプロピレングリコールジグリシジルエーテル等が挙げられる。これらは単独でも、複数を組み合わせて使用してもよい。

【0209】

非反応性希釈剤は、特に限定されず、例えば、ベンジルアルコール、ブチルジグリコール及びプロピレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられる。これらは単独でも、複数を組み合わせて使用してもよい。

【0210】

酸化防止剤は、特に限定されるものではないが、例えば、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤及びアミン系酸化防止剤等が挙げられる。これらは、単独で使用しても、複数を組み合わせて使用してもよい。酸化防止剤の具体例としては、以下の（１）〜（４）のものが挙げられる。

【0211】

（１）フェノール系酸化防止剤：例えば、以下のアルキルフェノール類、ヒドロキノン類、チオアルキル又はチオアリール類、ベンジル化合物類、トリアジン類、β−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と一価又は多価アルコールとのエステル、β−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸と一価又は多価アルコールとのエステル、β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と一価又は多価アルコールとのエステル、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸と一価又は多価アルコールとのエステル、β−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、及びビタミン類。
（１−１）アルキルフェノール類：２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２−ｔｅｒｔ−ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシメチルフェノール、直鎖状又は分岐鎖状の側鎖を有するノニルフェノール類（例えば２，６−ジ−ノニル−４−メチルフェノール）、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルウンデカ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプタデカ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルトリデカ−１’−イル）フェノール及びそれらの混合物、４−ヒドロキシラウルアニリド、４−ヒドロキシステアルアニリド、並びにオクチルＮ−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバマート等、
（１−２）ヒドロキノン類：２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアラート、及びビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジパート等；

【0212】

（１−３）チオアルキル又はチオアリールフェノール類：２，４−ジオクチルチオメチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール、２，２’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（３，６−ジ−sec−アミルフェノール）、及び４，４’−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィド等、
（１−５）ビスフェノール類：２，２’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノール］、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２，２’−メチレンビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−ビス（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）ブチラート］、ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチル−フェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルベンジル）−６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル］テレフタラート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、及び１，１，５，５−テトラ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン等、
（１−４）ベンジル化合物類：３，５，３’，５’−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセタート、トリデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジルメルカプトアセタート、トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタラート、ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセタート、ジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロナート、ジ−オクタデシル−２−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロナート、ジ−ドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロナート、ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロナート、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、及び２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール等；

【0213】

（１−５）トリアジン類：２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌラート、１，３，５−トリス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌラート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌラート等、
（１−６）β−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と一価又は多価アルコールとのエステル：β−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と、メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、i−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌラート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、及び４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン等から選ばれる一価又は多価アルコールとのエステル、
（１−７）β−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸と一価又は多価アルコールとのエステル：β−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸と、メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、i−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌラート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン、及び３，９−ビス［２−｛３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン等から選ばれる一価又は多価アルコールとのエステル；

【0214】

（１−８）β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と一価又は多価アルコールとのエステル：β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と、メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌラート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、及び４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン等から選ばれる一価又は多価アルコールとのエステル、
（１−９）３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸と一価又は多価アルコールとのエステル：３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸と一価又は多価アルコールと、メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌラート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、及び４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンから選ばれる一価又は多価アルコールとのエステル、
（１−１０）β−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド：Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジド、及びＮ，Ｎ’−ビス［２−（３−［３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオニルオキシ）エチル］オキサミド等、
（１−１１）ビタミン類：α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロール及びそれらの混合物、トコトリエノール、並びにアスコルビン酸等；

【0215】

（２）リン系酸化防止剤：以下のホスホナート類、ホスファイト類、及びオキサホスファフェナンスレン類。
（２−１）ホスホナート類：ジメチル−２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホナート、ジエチル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホナート、ジオクタデシル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホナート、ジオクタデシル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホナート、テトラキス（２,４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４,４'−ビフェニレンジホスホナート、及び３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩等、
（２−２）ホスファイト類：トリオクチルホスファイト、トリラウリルホスファイト、トリデシルホスファイト、オクチルジフエニルホスファイト、トリス（２,４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリス（ブトキシエチル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、テトラ（トリデシル）−１,１,３−トリス（２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ブタンジホスファイト、テトラ（Ｃ12〜Ｃ15混合アルキル）−４,４'−イソプロピリデンジフェニルジホスファイト、テトラ（トリデシル）−４,４'−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）ジホスファイト、トリス（３,５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ホスファイト、トリス（モノ、ジ混合ノニルフェニル）ホスファイト、水素化−４,４'−イソプロピリデンジフェノールポリホスファイト、ビス（オクチルフェニル）−ビス［４,４'−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）］−１,６−ヘキサンジオールジホスファイト、フェニル−４,４'−イソプロピリデンジフェノール−ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２,４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２,６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、トリス［４,４'−イソプロピリデンビス（２−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）］ホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、ジ（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト）、トリス（１,３−ジ−ステアロイルオキシイソプロピル）ホスファイト、及び４,４'−イソプロピリデンビス（２−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）−ジ（ノニルフェニル）ホスファイト等、
（２−３）オキサホスファフェナンスレン類：９，１０−ジヒドロ−９− オキサ−１０−ホスファフェナンスレン−１０−オキサイド、８−クロロ−９，１０−ジヒドロ−９− オキサ−１０−ホスファフェナンスレン−１０−オキサイド、及び８−ｔ−ブチル−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナンスレン−１０−オキサイド等；

【0216】

（３）イオウ系酸化防止剤：以下のジアルキルチオプロピオネート類、オクチルチオプロピオン酸と多価アルコールとのエステル、ラウリルチオプロピオン酸と多価アルコールとのエステル、及びステアリルチオプロピオン酸と多価アルコールとのエステル。
（３−１）ジアルキルチオプロピオネート類：ジラウリルチオジプロピオネート、ジミリスチルチオジプロピオネート、及びジステアリルチオジプロピオネート等、
（３−２）オクチルチオプロピオン酸と多価アルコールとのエステル：オクチルチオプロピオン酸と、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、及びトリスヒドロキシエチルイソシアヌレート等から選ばれる多価アルコールとのエステル、
（３−３）ラウリルチオプロピオン酸と多価アルコールとのエステル：ラウリルチオプロピオン酸と、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、及びトリスヒドロキシエチルイソシアヌレートとのエステル、
（３−４）ステアリルチオプロピオン酸と多価アルコールとのエステル：ステアリルチオプロピオン酸と、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、及びトリスヒドロキシエチルイソシアヌレート等から選ばれる多価アルコールとのエステル；

【0217】

（４）アミン系酸化防止剤：Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−sec−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルファモイル）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ−sec−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−（４−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン（例えば、ｐ，ｐ’−ジ−ｔｅｒｔ−オクチルジフェニルアミン）、４−ｎ−ブチルアミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノール、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス（４−メトキシフェニル）−アミン、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ビス（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、ビス［４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル］アミン、ｔｅｒｔ−オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、モノ−及びジ−アルキル化ｔｅｒｔ−ブチル−／ｔｅｒｔ−オクチルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジ−アルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジ−アルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジ−アルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジ−アルキル化ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノ−及びジ−アルキル化ｔｅｒｔ−ブチル／ｔｅｒｔ−オクチルフェノチアジン類の混合物、モノ−及びジ−アルキル化ｔｅｒｔ−オクチルフェノチアジン類の混合物、Ｎ−アリルフェノチアジン，Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−１，４−ジアミノブタ−２−エン、Ｎ，Ｎ−ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル）ヘキサメチレンジアミン、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル）セバカート、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オン、並びに、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オール等。

【0218】

光安定剤は、特に限定されるものではないが、トリアゾール系、ベンゾフェノン系、エステル系、アクリラート系、ニッケル系、トリアジン系及びオキサミド系等の紫外線吸収剤、並びにヒンダードアミン系光安定剤等が挙げられる。これらは、単独で使用しても、複数を組み合わせて使用してもよい。酸化防止剤の具体例としては、以下の（１）〜（７）のものが挙げられる。

【0219】

（１）トリアゾール類：２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］、２−［３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換生成物等；
（２）ベンゾフェノン系：４−デシルオキシ、４−ベンジルオキシ、４，２’，４’−トリヒドロキシ及び２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体類等、
（３）エステル系：４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルサリチラート、サリチル酸フェニル、サリチル酸オクチルフェニル、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾアート、ヘキサデシル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾアート、オクタデシル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾアート、及び２−メチル−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾアート等；

【0220】

（４）アクリラート系：エチル−α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリラート、イソオクチル−α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリラート、メチル−α−カルボメトキシシンナマート、メチル−α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナマート、ブチル−α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナマート、メチル−α−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナマート及びＮ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン等、
（５）ニッケル系：ｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミン及びＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンのような追加のリガンドを有する又は有さない、１：１又は１：２錯体（例えば、２，２’−チオビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］のニッケル錯体）、ニッケルジブチルジチオカルバマート、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジルリン酸のモノアルキルエステル（例えば、メチル又はエチルエステル）のニッケル塩、ケトキシム類のニッケル錯体（例えば、２−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯体）、並びに、追加のリガンドを有する又は有さない、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体等、
（６）トリアジン系：２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、及び２−｛２−ヒドロキシ−４−［３−（２−エチルヘキシル−１−オキシ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ］フェニル｝−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン等；

【0221】

（７）オキサミド系：４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキサニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキサニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−エトキサニリド及びこれと２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキサニリドとの混合物、ｏ−及びｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物、並びにｏ−及びｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物等、
（８）ヒンダードアミン系：ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバカート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシナート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバカート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバカート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロナート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−ｔｅｒｔ−オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの直鎖又は環式縮合物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセタート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシラート、１，１’−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル）マロナート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバカート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシナート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの直鎖又は環式縮合物；

【0222】

２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合物、２−クロロ−４，６−ジ−（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、５−（２−エチルヘキサノイル）−オキシメチル−３，３，５−トリメチル−２−モルホリノン、１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピル）−４−オクタデカノイルオキシー２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１，３，５−トリス（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチルピペラジン−３−オン−４−イル）アミノ）−ｓ−トリアジン、１，３，５−トリス（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペラジン−３−オン−４−イル）アミノ）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス［（１−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−ピペリジン−４−イル）ブチルアミノ］−６−クロロ−ｓ−トリアジンとＮ，Ｎ’−ビス（３−アミノプロピル）エチレンジアミン）との反応生成物、４−ヘキサデシルオキシ−及び４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの混合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−シクロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合物、１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジン、その他に４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンとの縮合物、１，６−ヘキサンジアミンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジン、その他にＮ，Ｎ−ジブチルアミンと４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンとの縮合物、Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４．５］デカン；５−（２−エチルヘキサノイル）オキシメチル−３，３，５−トリメチル−２−モルホリノン、７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ−［４，５］デカンとエピクロロヒドリンとの反応生成物、１，１−ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）−２−（４−メトキシフェニル）エテン、Ｎ，Ｎ’−ビス−ホルミル−Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、４−メトキシメチレンマロン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ヒドロキシピペリジンとのジエステル、ポリ［メチルプロピル−３−オキシ−４−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）］シロキサン、並びに、マイレン酸無水物α−オレフィンコポリマーと２，２，６，６−テトラメチル−４−アミノピペリジン又は１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−アミノピペリジンとの反応生成物等。

【0223】

ＭＷＦ型ゼオライトと樹脂とを含む複合体の用途は、特に限定されるものではなく、例えば、食品包装材料、及び医療包装材料（単層フィルム、ラミネートフィルム、積層フィルム、臭気バリア材、抗菌性フィルム等）、緩衝材、断熱材、電子材料（碍子類、交流変圧器、開閉機器等の注型及び回路ユニット、各種部品のパッケージ、ＩＣ・ＬＥＤ・半導体・有機ＥＬの周辺材料［封止材、レンズ材、基板材、ダイボンド材、接着フィルム、チップコート材、積層板、光ファイバー、光導波路、光フィルター、電子部品用の接着剤、コート材、シール材、絶縁材、フォトレジスト、エンキャップ材、ポッティング材、光ディスクの光透過層や層間絶縁層、導光板、反射防止膜等］、発電器、モーター等の回転機コイル、巻線含浸、プリント配線基板、積層板、絶縁ボード、中型碍子類、コイル類、コネクター、ターミナル、各種ケース類、電気部品類、フレキシブルプリント基板等の基板フィルム、センサ、画像形成装置等）、電池材料（蓄電池の電極又はその被覆保護材、二次電池用多孔膜、二次電池用セパレータ、二次電池用吸着剤、燃料電池の部材（固体高分子電解質、固体高分子ゲル膜、固体高分子電解質膜）、電池素子外装材、電池パック等）、塗料（防蝕塗料、メンテナンス、船舶塗装、耐蝕ライニング、自動車・家電製品用プライマー、飲料・ビール缶、外面ラッカー、押出チューブ塗装、一般防蝕塗装、メンテナンス途装、木工製品用ラッカー、自動車用電着プライマー、その他工業用電着塗装、飲料・ビール缶内面ラッカー、コイルコーティング、ドラム・缶内面塗装、耐酸ライニング、ワイヤーエナメル、絶縁塗料、自動車用プライマー、各種金属製品の美装兼防蝕塗装、パイプ内外面塗装、電気部品絶縁塗装、抗菌性塗料等）、複合材料（化学プラント用パイプ・タンク類、航空機材、自動車部材、各種スポーツ用品、炭素繊維複合材料、アラミド繊維複合材料等）、土木建築材料（床材、舗装材、メンブレン、滑り止め兼薄層舗装、コンクリート打ち継ぎ・かさ上げ、アンカー埋め込み接着、プレキャストコンクリート接合、タイル接着、コンクリート構造物の亀裂補修、台座のグラウト・レベリング、上下水道施設の防蝕・防水塗装、タンク類の耐蝕積層ライニング、鉄構造物の防蝕塗装、建築物外壁のマスチック塗装等）、接着剤（金属・ガラス・陶磁器・セメントコンクリート・木材・プラスチック等の同種又は異種材質の接着剤、自動車・鉄道車両・航空機等の組み立て用接着剤、プレハブ用複合パネル製造用接着剤等：一液型、二液型、シートタイプを含む。）、人工土壌等）、航空機・自動車・プラスチック成形の治工具（プレス型、ストレッチドダイ、マッチドダイ等樹脂型、真空成形・ブロー成型用モールド、マスターモデル、鋳物用パターン、積層治工具、各種検査用治工具等）、改質剤・安定剤（繊維の樹脂加工、ポリ塩化ビニル用安定剤、合成ゴムへの添加剤、土壌改質剤、洗浄剤改質剤等）、ゴムの改質剤、イオン交換体、吸着材、洗浄剤等として用いることができる。

【実施例】

【0224】

以下に本実施形態を具体的に説明した実施例を例示する。本発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定されるものではない。

【0225】

（合成例１：ＭＷＦ型ゼオライトの合成）
水７１．５質量部、アルカリ金属源及びＯＨ⁻源（水酸化ナトリウム、和光純薬工業株式会社製試薬特級）０．７７質量部、アルミ源（アルミン酸ナトリウム、和光純薬工業株式会社製和光一級）１．９質量部を混合し、溶解させ溶液を得た。この溶液にシリカ源（コロイダルシリカ、Ｇｒａｃｅ社製Ｌｕｄｏｘ ＡＳ−４０）１２．５質量部と有機構造規定剤としてテトラエチルアンモニウムブロミド（東京化成工業株式会社製）１３．３質量部を添加して混合し、２４時間撹拌することで混合ゲルを調製した。混合ゲルの組成は、シリカ源に含まれるＳｉ、アルミ源に含まれるＡｌ、及びアルカリ金属源に含まれるアルカリ金属の酸化物としてのモル量（以下、[ＳｉＯ_２]、[Ａｌ_２Ｏ_３]、[Ｎａ_２Ｏ]、とする）、ＯＨ⁻源に含まれるＯＨ⁻のモル量（以下、[ＯＨ⁻]、とする）、水のモル量（以下、[Ｈ_２Ｏ]、とする）、有機構造規定剤のモル量（以下、[ＳＤＡ]、とする）を用いた場合、[ＳｉＯ_２]／[Ａｌ_２Ｏ_３]＝７．２、[Ｎａ_２Ｏ]／[Ａｌ_２Ｏ_３]＝１．８、[Ｈ_２Ｏ]／[Ａｌ_２Ｏ_３]＝３８０、[ＯＨ⁻]／[ＳｉＯ_２]＝０．２３、[ＳＤＡ]／[Ａｌ_２Ｏ_３]＝５．５であった。混合ゲルをポリテトラフルオロエチレン樹脂内筒の入った２００ｍＬのステンレス製オートクレーブに仕込み、上下撹拌回転数２０ｒｐｍで保持しながら１１５℃で７日間水熱合成し、生成物をろ過して１２０℃で乾燥した後、粉末状のＭＷＦ型ゼオライトを得た。得られたＭＷＦ型ゼオライトのＸ線回折装置により得られるＸ線回折パターンは、ＩＺＡにより示されているＸ線解析パターンと、同様であった。なお、用いたＸ線解析装置、及び条件は以下に示すとおりであった。
Ｘ線回折装置（ＸＲＤ）：リガク社製粉末Ｘ線回折装置「ＲＩＮＴ２５００型」（商品名）
Ｘ線源：Ｃｕ管球（４０ｋＶ、２００ｍＡ）
測定範囲：５〜６０°（０．０２°／ｓｔｅｐ）
測定速度：０．２°／分
スリット幅（散乱、発散、受光）：１°、１°、０．１５ｍｍ

【0226】

（合成例２）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライトを、電気炉（ヤマト科学株式会社製、ＦＰ４１０）にて４５０℃２４時間空気下、熱処理をした。得られたＭＷＦ型ゼオライトのＸ線回折装置により得られるＸ線回折パターンは、合成例１と同様のＸ線回折パターンを有していた。

【0227】

（ＭＷＦ型ゼオライトとアクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂との複合体の作製）
（実施例１）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト１質量部、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂（ダイセルポリマー株式会社製セビアンＶ３００）９９質量部を用い、二軸押出機（東芝機械社製ＴＥＭ４８−ＳＳ）にて２００℃２００ｒｐｍで溶融混練し、複合体を得た。得られた複合体を、シリンダー温度２００℃、金型温度５０℃に設定した射出成形機（東芝機械社製ＥＣ７５ＮＩＩ）にて、長さ８０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの成形体を得た。成形体を切断し、長さ１０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの試験片とした。該試験片１０個を用い、線膨張係数を、熱応力歪測定装置（セイコー電子工業株式会社製ＴＭＡ／ＳＳ１５０Ｃ）にて、測定した。結果、５０℃〜７０℃での線膨張係数の平均は、８８×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．２×１０^−６／Ｋであった。なお、線膨張係数を測定する際の条件は以下に示すとおりであった。
モード：圧縮（プローブ断面積：９．６２ｍｍ^２）
荷重 ：３７．７１ｍＮ（応力：約４０ｇｆ／ｃｍ^２相当）
雰囲気：空気

【0228】

（実施例２）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト１０質量部、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂（ダイセルポリマー株式会社製セビアンＶ３００）９０質量部としたこと以外は、実施例１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、７９×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．９×１０^−６／Ｋであった。

【0229】

（実施例３）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト３０質量部、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂（ダイセルポリマー株式会社製セビアンＶ３００）７０質量部としたこと以外は、実施例１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、５６×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．４×１０^−６／Ｋであった。

【0230】

（実施例４）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト５０質量部、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂（ダイセルポリマー株式会社製セビアンＶ３００）５０質量部としたこと以外は、実施例１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、２８×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．７×１０^−６／Ｋであった。

【0231】

（実施例５）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト７０質量部、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂（ダイセルポリマー株式会社製セビアンＶ３００）３０質量部としたこと以外は、実施例１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、３２×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．６×１０^−６／Ｋであった。

【0232】

（比較例１）
ＭＷＦ型ゼオライトを用いなかったこと以外は、実施例１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、９０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．２×１０^−６／Ｋであった。

【0233】

（比較例２）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、８９×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．７×１０^−６／Ｋであった。

【0234】

（比較例３）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例２と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、８２×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は４．０×１０^−６／Ｋであった。

【0235】

（比較例４）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例３と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、６３×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は４．９×１０^−６／Ｋであった。

【0236】

（比較例５）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例４と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、５９×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は６．８×１０^−６／Ｋであった。

【0237】

（比較例６）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例５と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、９０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は７．７×１０^−６／Ｋであった。

【0238】

（比較例７）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、モレキュラーシーブ１３Ｘ（ユニオン昭和株式会社製）を用いたこと以外は、実施例４と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、６１×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は６．６×１０^−６／Ｋであった。

【0239】

（比較例８）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ハイシリカゼオライト（ＵＯＰ社製ＡＢＳＣＥＮＴＳ３０００）を用いたこと以外は、実施例４と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、６３×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は７．０×１０^−６／Ｋであった。

【0240】

上記実施例１〜５、及び比較例１〜８の結果を以下の表１、及び表２に示す。

【0241】

【表1】

【0242】

【表2】

【0243】

表１、表２に示すように、本実施例に係る、ＭＷＦ型ゼオライトと、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂との複合体は、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂のみや、一般的なゼオライトであるＬＴＡ型ゼオライト、モレキュラーシーブ１３Ｘ、又はハイシリカゼオライトとアクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂との複合体と比較して、低い線膨張係数を有し、標準偏差が低いことから高い均一性を有することが確認された。

【0244】

（ＭＷＦ型ゼオライトと酢酸繊維素樹脂との複合体の作製）
（実施例６）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト１質量部、酢酸繊維素樹脂（ダイセルファインケム株式会社製アセチ２２）９９質量部を用い、二軸押出機（東芝機械社製ＴＥＭ４８−ＳＳ）にて１９０℃、２００ｒｐｍで溶融混練し、複合体を得た。得られた複合体を、シリンダー温度１９０℃、金型温度５０℃に設定した射出成形機（東芝機械社製ＥＣ７５ＮＩＩ）にて、長さ８０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの成形体を得た。成形体を切断し、長さ１０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの試験片とした。該試験片１０個を用い、線膨張係数を、熱応力歪測定装置（セイコー電子工業株式会社製ＴＭＡ／ＳＳ１５０Ｃ）にて、測定した。結果、３０〜５０℃での線膨張係数の平均は、７８×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．９×１０^−６／Ｋであった。なお、線膨張係数を測定する際の条件は、実施例１と同様とした。

【0245】

（実施例７）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト１０質量部、酢酸繊維素樹脂（ダイセルファインケム株式会社製アセチ２２）９０質量部としたこと以外は、実施例６と同様に実施した。得られた試験片の３０〜５０℃での線膨張係数の平均は、７０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．７×１０^−６／Ｋであった。

【0246】

（実施例８）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト３０質量部、酢酸繊維素樹脂（ダイセルファインケム株式会社製アセチ２２）７０質量部としたこと以外は、実施例６と同様に実施した。得られた試験片の３０〜５０℃での線膨張係数の平均は、４８×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．２×１０^−６／Ｋであった。

【0247】

（実施例９）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト５０質量部、酢酸繊維素樹脂（ダイセルファインケム株式会社製アセチ２２）５０質量部としたこと以外は、実施例６と同様に実施した。得られた試験片の３０℃〜５０℃での線膨張係数の平均は、２２×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．５×１０^−６／Ｋであった。

【0248】

（実施例１０）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト７０質量部、酢酸繊維素樹脂（ダイセルファインケム株式会社製アセチ２２）３０質量部としたこと以外は、実施例６と同様に実施した。得られた試験片の３０〜５０℃での線膨張係数の平均は、２８×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．４×１０^−６／Ｋであった。

【0249】

（比較例９）
ＭＷＦ型ゼオライトを用いなかったこと以外は、実施例６と同様に実施した。得られた試験片の３０〜５０℃での線膨張係数の平均は、８０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．０×１０^−６／Ｋであった。

【0250】

（比較例１０）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例６と同様に実施した。得られた試験片の３０〜５０℃での線膨張係数の平均は、７９×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．４×１０^−６／Ｋであった。

【0251】

（比較例１１）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例７と同様に実施した。得られた試験片の３０〜５０℃での線膨張係数の平均は、７２×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は３．７×１０^−６／Ｋであった。

【0252】

（比較例１２）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例８と同様に実施した。得られた試験片の３０〜５０℃での線膨張係数の平均は、５６×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は４．７×１０^−６／Ｋであった。

【0253】

（比較例１３）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例９と同様に実施した。得られた試験片の３０〜５０℃での線膨張係数の平均は、５０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．５×１０^−６／Ｋであった。

【0254】

（比較例１４）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１０と同様に実施した。得られた試験片の３０〜５０℃での線膨張係数の平均は、６８×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は７．０×１０^−６／Ｋであった。

【0255】

（比較例１５）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、モレキュラーシーブ１３Ｘ（ユニオン昭和株式会社製）を用いたこと以外は、実施例９と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、５２×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．７×１０^−６／Ｋであった。

【0256】

（比較例１６）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ハイシリカゼオライト（ＵＯＰ社製ＡＢＳＣＥＮＴＳ３０００）を用いたこと以外は、実施例９と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、５４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．７×１０^−６／Ｋであった。

【0257】

上記実施例６〜１０、及び比較例９〜１６の結果を以下の表３、及び表４に示す。

【0258】

【表3】

【0259】

【表4】

【0260】

表３、表４に示すように、本実施例に係る、ＭＷＦ型ゼオライトと酢酸繊維素樹脂との複合体は、酢酸繊維素樹脂のみや、一般的なゼオライトであるＬＴＡ型ゼオライト、モレキュラーシーブ１３Ｘ、又はハイシリカゼオライトと酢酸繊維素樹脂との複合体と比較して、低い線膨張係数を有し、標準偏差が低いことから高い均一性を有することが確認された。

【0261】

（ＭＷＦ型ゼオライトとポリアセタール樹脂との複合体の作製）
（実施例１１）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト１質量部、ポリアセタール樹脂（デュポン株式会社製デルリン１００）９９質量部を用い、二軸押出機（東芝機械社製ＴＥＭ４８−ＳＳ）にて２１５℃４００ｒｐｍで溶融混練し、複合体を得た。得られた複合体を、シリンダー温度２１５℃、金型温度１００℃に設定した射出成形機（東芝機械社製ＥＣ７５ＮＩＩ）にて、長さ８０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの成形体を得た。成形体を切断し、長さ１０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの試験片とした。該試験片１０個を用い、線膨張係数を、熱応力歪測定装置（セイコー電子工業株式会社製ＴＭＡ／ＳＳ１５０Ｃ）にて、測定した。結果、５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１０８×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．６×１０^−６／Ｋであった。なお、線膨張係数を測定する際の条件は、実施例１と同様とした。

【0262】

（実施例１２）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト１０質量部、ポリアセタール樹脂（旭化成株式会社製テナック８５２０）９０質量部としたこと以外は、実施例１１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、９８×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．４×１０^−６／Ｋであった。

【0263】

（実施例１３）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト３０質量部、ポリアセタール樹脂（旭化成株式会社製テナック８５２０）７０質量部としたこと以外は、実施例１１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、７１×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．７×１０^−６／Ｋであった。

【0264】

（実施例１４）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト５０質量部、ポリアセタール樹脂（旭化成株式会社製テナック８５２０）５０質量部としたこと以外は、実施例１１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、４０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．０×１０^−６／Ｋであった。

【0265】

（実施例１５）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト７０質量部、ポリアセタール樹脂（旭化成株式会社製テナック８５２０）３０質量部としたこと以外は、実施例１１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、４０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．０×１０^−６／Ｋであった。

【0266】

（比較例１７）
ＭＷＦ型ゼオライトを用いなかったこと以外は、実施例１１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１１０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．７×１０^−６／Ｋであった。

【0267】

（比較例１８）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１０９×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は３．３×１０^−６／Ｋであった。

【0268】

（比較例１９）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１２と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１００×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は４．５×１０^−６／Ｋであった。

【0269】

（比較例２０）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１３と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、８４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．５×１０^−６／Ｋであった。

【0270】

（比較例２１）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１４と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、７４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は６．２×１０^−６／Ｋであった。

【0271】

（比較例２２）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１５と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、９８×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は８．０×１０^−６／Ｋであった。

【0272】

（比較例２３）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、モレキュラーシーブ１３Ｘ（ユニオン昭和株式会社製）を用いたこと以外は、実施例１４と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、７９×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は６．５×１０^−６／Ｋであった。

【0273】

（比較例２４）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ハイシリカゼオライト（ＵＯＰ社製ＡＢＳＣＥＮＴＳ３０００）を用いたこと以外は、実施例１４と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、７５×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は６．３×１０^−６／Ｋであった。

【0274】

上記実施例１１〜１５、及び比較例１７〜２４の結果を以下の表５、及び表６に示す。

【0275】

【表5】

【0276】

【表6】

【0277】

表５、表６に示すように、本実施例に係る、ＭＷＦ型ゼオライトとポリアセタール樹脂との複合体は、ポリアセタール樹脂のみや、一般的なゼオライトであるＬＴＡ型ゼオライト、モレキュラーシーブ１３Ｘ、又はハイシリカゼオライトとポリアセタール樹脂との複合体と比較して、低い線膨張係数を有し、標準偏差が低いことから高い均一性を有することが確認された。

【0278】

（ＭＷＦ型ゼオライトとポリアミド樹脂との複合体の作製）
（実施例１６）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト１質量部、ポリアミド樹脂（デュポン株式会社製ザイテル１０１Ｌ）９９質量部を用い、二軸押出機（東芝機械社製ＴＥＭ４８−ＳＳ）にて２８５℃４００ｒｐｍで溶融混練し、複合体を得た。得られた複合体を、シリンダー温度２８５℃、金型温度７０℃に設定した射出成形機（東芝機械社製ＥＣ７５ＮＩＩ）にて、長さ８０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの成形体を得た。成形体を切断し、長さ１０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの試験片とした。該試験片１０個を用いて、線膨張係数を、熱応力歪測定装置（セイコー電子工業株式会社製ＴＭＡ／ＳＳ１５０Ｃ）にて、測定した。結果、１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、９８×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．４×１０^−６／Ｋであった。なお、線膨張係数を測定する際の条件は、実施例１と同様とした。

【0279】

（実施例１７）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト１０質量部、ポリアミド樹脂（デュポン株式会社製ザイテル１０１Ｌ）９０質量部としたこと以外は、実施例１６と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、８５×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．１×１０^−６／Ｋであった。

【0280】

（実施例１８）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト３０質量部、ポリアミド樹脂（デュポン株式会社製ザイテル１０１Ｌ）７０質量部としたこと以外は、実施例１６と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、５１×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．２×１０^−６／Ｋであった。

【0281】

（実施例１９）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト５０質量部、ポリアミド樹脂（デュポン株式会社製ザイテル１０１Ｌ）５０質量部としたこと以外は、実施例１６と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、１２×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．３×１０^−６／Ｋであった。

【0282】

（実施例２０）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト７０質量部、ポリアミド樹脂（デュポン株式会社製ザイテル１０１Ｌ）３０質量部としたこと以外は、実施例１６と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、３×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．１×１０^−６／Ｋであった。

【0283】

（比較例２５）
ＭＷＦ型ゼオライトを用いなかったこと以外は、実施例１６と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、１００×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．４×１０^−６／Ｋであった。

【0284】

（比較例２６）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１６と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、９９×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は３．０×１０^−６／Ｋであった。

【0285】

（比較例２７）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１７と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、９４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は４．３×１０^−６／Ｋであった。

【0286】

（比較例２８）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１８と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、８０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．４×１０^−６／Ｋであった。

【0287】

（比較例２９）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１９と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、６４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．９×１０^−６／Ｋであった。

【0288】

（比較例３０）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例２０と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、８１×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は７．４×１０^−６／Ｋであった。

【0289】

（比較例３１）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、モレキュラーシーブ１３Ｘ（ユニオン昭和株式会社製）を用いたこと以外は、実施例１９と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、６５×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．７×１０^−６／Ｋであった。

【0290】

（比較例３２）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ハイシリカゼオライト（ＵＯＰ社製ＡＢＳＣＥＮＴＳ３０００）を用いたこと以外は、実施例１９と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、６７×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．８×１０^−６／Ｋであった。

【0291】

上記実施例１６〜２０、及び比較例２５〜３２の結果を以下の表７、及び表８に示す。

【0292】

【表7】

【0293】

【表8】

【0294】

表７、８に示すように、本実施例に係る、ＭＷＦ型ゼオライトとポリアミド樹脂との複合体は、ポリアミド樹脂や、一般的なゼオライトであるＬＴＡ型ゼオライト、モレキュラーシーブ１３Ｘ、又はハイシリカゼオライトとポリアミド樹脂との複合体と比較して、低い線膨張係数を有し、標準偏差が低いことから高い均一性を有することが確認された。

【0295】

（ＭＷＦ型ゼオライトとポリエーテルブロックアミド共重合樹脂との複合体の作製）
（実施例２１）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト１質量部、ポリエーテルブロックアミド共重合樹脂（アルケマ株式会社製ペバックス７２３３）９９質量部を用い、二軸押出機（東芝機械社製ＴＥＭ４８−ＳＳ）にて２６０℃２００ｒｐｍで溶融混練し、複合体を得た。得られた複合体を、シリンダー温度２６０℃、金型温度４５℃に設定した射出成形機（東芝機械社製ＥＣ７５ＮＩＩ）にて、長さ８０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの成形体を得た。成形体を切断し、長さ１０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの試験片とした。該試験片１０個を用い、線膨張係数を、熱応力歪測定装置（セイコー電子工業株式会社製ＴＭＡ／ＳＳ１５０Ｃ）にて、測定した。結果、５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１１８×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．９×１０^−６／Ｋであった。なお、線膨張係数を測定する際の条件は、実施例１と同様とした。

【0296】

（実施例２２）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト１０質量部、ポリエーテルブロックアミド共重合樹脂（アルケマ株式会社製ペバックス７２３３）９０質量部としたこと以外は、実施例２１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１０７×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．６×１０^−６／Ｋであった。

【0297】

（実施例２３）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト３０質量部、ポリエーテルブロックアミド共重合樹脂（アルケマ株式会社製ペバックス７２３３）７０質量部としたこと以外は、実施例２１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、７９×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．９×１０^−６／Ｋであった。

【0298】

（実施例２４）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト５０質量部、ポリエーテルブロックアミド共重合樹脂（アルケマ株式会社製ペバックス７２３３）５０質量部としたこと以外は、実施例２１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、４６×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．１×１０^−６／Ｋであった。

【0299】

（実施例２５）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト７０質量部、ポリエーテルブロックアミド共重合樹脂（アルケマ株式会社製ペバックス７２３３）３０質量部としたこと以外は、実施例２１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、４４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．１×１０^−６／Ｋであった。

【0300】

（比較例３３）
ＭＷＦ型ゼオライトを用いなかったこと以外は、実施例２１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１２０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．９×１０^−６／Ｋであった。

【0301】

（比較例３４）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例２１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１１９×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は３．６×１０^−６／Ｋであった。

【0302】

（比較例３５）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例２２と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１１０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は４．８×１０^−６／Ｋであった。

【0303】

（比較例３６）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例２３と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、８７×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．６×１０^−６／Ｋであった。

【0304】

（比較例３７）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例２４と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、８５×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は６．４×１０^−６／Ｋであった。

【0305】

（比較例３８）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例２５と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１０１×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は８．０×１０^−６／Ｋであった。

【0306】

（比較例３９）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、モレキュラーシーブ１３Ｘ（ユニオン昭和株式会社製）を用いたこと以外は、実施例２４と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、９２×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は６．２×１０^−６／Ｋであった。

【0307】

（比較例４０）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ハイシリカゼオライト（ＵＯＰ社製ＡＢＳＣＥＮＴＳ３０００）を用いたこと以外は、実施例２４と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、８９×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は６．５×１０^−６／Ｋであった。

【0308】

上記実施例２１〜２５、及び比較例３３〜４０の結果を以下の表９、及び表１０に示す。

【0309】

【表9】

【0310】

【表10】

【0311】

表９、表１０に示すように、本実施例に係る、ＭＷＦ型ゼオライトとポリエーテルブロックアミド共重合樹脂との複合体は、ポリエーテルブロックアミド共重合樹脂や、一般的なゼオライトであるＬＴＡ型ゼオライト、モレキュラーシーブ１３Ｘ、又はハイシリカゼオライトとポリエーテルブロックアミド共重合樹脂との複合体と比較して、低い線膨張係数を有し、標準偏差が低いことから高い均一性を有することが確認された。

【0312】

（ＭＷＦ型ゼオライトとポリエーテルエーテルケトン樹脂との複合体の作製）
（実施例２６）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト１質量部、ポリエーテルエーテルケトン樹脂（ビクトレックス・ジャパン株式会社製ＶＩＣＴＲＥＸ ＰＥＥＫ３８１Ｇ）９９質量部を用い、二軸押出機（東芝機械社製ＴＥＭ４８−ＳＳ）にて３６０℃２００ｒｐｍで溶融混練し、複合体を得た。得られた複合体を、シリンダー温度３６０℃、金型温度１９０℃に設定した射出成形機（東芝機械社製ＥＣ７５ＮＩＩ）にて、長さ８０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの成形体を得た。成形体を切断し、長さ１０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの試験片とした。該試験片１０個を用い、線膨張係数を、熱応力歪測定装置（セイコー電子工業株式会社製ＴＭＡ／ＳＳ１５０Ｃ）にて、測定した。結果、１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、１１７×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．９×１０^−６／Ｋであった。なお、線膨張係数を測定する際の条件は、実施例１と同様とした。

【0313】

（実施例２７）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト１０質量部、ポリエーテルエーテルケトン樹脂（ビクトレックス・ジャパン株式会社製ＶＩＣＴＲＥＸ ＰＥＥＫ３８１Ｇ）９０質量部としたこと以外は、実施例２６と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、１０３×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．５×１０^−６／Ｋであった。

【0314】

（実施例２８）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト３０質量部、ポリエーテルエーテルケトン樹脂（ビクトレックス・ジャパン株式会社製ＶＩＣＴＲＥＸ ＰＥＥＫ３８１Ｇ）７０質量部としたこと以外は、実施例２６と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、６７×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．６×１０^−６／Ｋであった。

【0315】

（実施例２９）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト５０質量部、ポリエーテルエーテルケトン樹脂（ビクトレックス・ジャパン株式会社製ＶＩＣＴＲＥＸ ＰＥＥＫ３８１Ｇ）５０質量部としたこと以外は、実施例２６と同様に実施した。得られた試験片の１５０℃〜１８０℃での線膨張係数の平均は、２４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．６×１０^−６／Ｋであった。

【0316】

（実施例３０）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト７０質量部、ポリエーテルエーテルケトン樹脂（ビクトレックス・ジャパン株式会社製ＶＩＣＴＲＥＸ ＰＥＥＫ３８１Ｇ）３０質量部としたこと以外は、実施例２６と同様に実施した。得られた試験片の１５０℃〜１８０℃での線膨張係数の平均は、１１×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．３×１０^−６／Ｋであった。

【0317】

（比較例４１）
ＭＷＦ型ゼオライトを用いなかったこと以外は、実施例２６と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、１２０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．９×１０^−６／Ｋであった。

【0318】

（比較例４２）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例２６と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、１１９×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は３．６×１０^−６／Ｋであった。

【0319】

（比較例４３）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例２７と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、１１２×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は４．９×１０^−６／Ｋであった。

【0320】

（比較例４４）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例２８と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、９６×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．９×１０^−６／Ｋであった。

【0321】

（比較例４５）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例２９と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、７６×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は６．３×１０^−６／Ｋであった。

【0322】

（比較例４６）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例３０と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、８９×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は７．７×１０^−６／Ｋであった。

【0323】

（比較例４７）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、モレキュラーシーブ１３Ｘ（ユニオン昭和株式会社製）を用いたこと以外は、実施例２９と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、８４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は６．２×１０^−６／Ｋであった。

【0324】

（比較例４８）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ハイシリカゼオライト（ＵＯＰ社製ＡＢＳＣＥＮＴＳ３０００）を用いたこと以外は、実施例２９と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、７７×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は６．５×１０^−６／Ｋであった。

【0325】

上記実施例２６〜３０、及び比較例４１〜４８の結果を以下の表１１、及び表１２に示す。

【0326】

【表11】

【0327】

【表12】

【0328】

表１１、１２に示すように、本実施例に係る、ＭＷＦ型ゼオライトと、ポリエーテルエーテルケトン樹脂との複合体は、ポリエーテルエーテルケトン樹脂や、一般的なゼオライトであるＬＴＡ型ゼオライト、モレキュラーシーブ１３Ｘ、又はハイシリカゼオライトとポリエーテルエーテルケトン樹脂との複合体と比較して、低い線膨張係数を有し、標準偏差が低いことから高い均一性を有することが確認された。

【0329】

（ＭＷＦ型ゼオライトとポリエーテルサルホン樹脂との複合体の作製）
（実施例３１）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト１質量部、ポリエーテルサルホン樹脂（ＢＡＳＦジャパン株式会社製ウルトラゾーンＥ００１０）９９質量部を用い、二軸押出機（東芝機械社製ＴＥＭ４８−ＳＳ）にて３７０℃２００ｒｐｍで溶融混練し、複合体を得た。得られた複合体を、シリンダー温度３７０℃、金型温度１６０℃に設定した射出成形機（東芝機械社製ＥＣ７５ＮＩＩ）にて、長さ８０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの成形体を得た。成形体を切断し、長さ１０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの試験片とした。該試験片１０個を用い、線膨張係数を、熱応力歪測定装置（セイコー電子工業株式会社製ＴＭＡ／ＳＳ１５０Ｃ）にて、測定した。結果、１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、５０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．２×１０^−６／Ｋであった。なお、線膨張係数を測定する際の条件は、実施例１と同様とした。

【0330】

（実施例３２）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト１０質量部、ポリエーテルサルホン樹脂（ＢＡＳＦジャパン株式会社製ウルトラゾーンＥ００１０）９０質量部としたこと以外は、実施例３１と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、４０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．０×１０^−６／Ｋであった。

【0331】

（実施例３３）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト３０質量部、ポリエーテルサルホン樹脂（ＢＡＳＦジャパン株式会社製ウルトラゾーンＥ００１０）７０質量部としたこと以外は、実施例３１と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、１４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．３×１０^−６／Ｋであった。

【0332】

（実施例３４）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト５０質量部、ポリエーテルサルホン樹脂（ＢＡＳＦジャパン株式会社製ウルトラゾーンＥ００１０）５０質量部としたこと以外は、実施例３１と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、−１７×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．４×１０^−６／Ｋであった。

【0333】

（実施例３５）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト７０質量部、ポリエーテルサルホン樹脂（ＢＡＳＦジャパン株式会社製ウルトラゾーンＥ００１０）３０質量部としたこと以外は、実施例３１と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、−１６×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．７×１０^−６／Ｋであった。

【0334】

（比較例４９）
ＭＷＦ型ゼオライトを用いなかったこと以外は、実施例３１と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、５２×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．３×１０^−６／Ｋであった。

【0335】

（比較例５０）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例３１と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、５２×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．６×１０^−６／Ｋであった。

【0336】

（比較例５１）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例３２と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、４９×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は３．０×１０^−６／Ｋであった。

【0337】

（比較例５２）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例３３と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、４３×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は４．３×１０^−６／Ｋであった。

【0338】

（比較例５３）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例３４と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、３５×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．１×１０^−６／Ｋであった。

【0339】

（比較例５４）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例３５と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、６３×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は６．９×１０^−６／Ｋであった。

【0340】

（比較例５５）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、モレキュラーシーブ１３Ｘ（ユニオン昭和株式会社製）を用いたこと以外は、実施例３４と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、３７×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は４．８×１０^−６／Ｋであった。

【0341】

（比較例５６）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ハイシリカゼオライト（ＵＯＰ社製ＡＢＳＣＥＮＴＳ３０００）を用いたこと以外は、実施例３４と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、４１×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．２×１０^−６／Ｋであった。

【0342】

上記実施例３１〜３５、及び比較例４９〜５６の結果を以下の表１３、及び表１４に示す。

【0343】

【表13】

【0344】

【表14】

【0345】

表１３、表１４に示すように、本実施例に係る、ＭＷＦ型ゼオライトと、ポリエーテルサルホン樹脂との複合体は、ポリエーテルサルホン樹脂や、一般的なゼオライトであるＬＴＡ型ゼオライト、モレキュラーシーブ１３Ｘ、又はハイシリカゼオライトとポリエーテルサルホン樹脂との複合体と比較して、低い線膨張係数を有し、標準偏差が低いことから高い均一性を有することが確認された。

【0346】

（ＭＷＦ型ゼオライトとポリエチレンテレフタレート樹脂との複合体の作製）
（実施例３６）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト１質量部、ポリエチレンテレフタレート樹脂（ユニチカ株式会社製ＭＡ−２１０１Ｍ）９９質量部を用い、二軸押出機（東芝機械社製ＴＥＭ４８−ＳＳ）にて２８０℃２００ｒｐｍで溶融混練し、複合体を得た。得られた複合体を、シリンダー温度２８０℃、金型温度１０℃に設定した射出成形機（東芝機械社製ＥＣ７５ＮＩＩ）にて、長さ８０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの成形体を得た。成形体を切断し、長さ１０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの試験片とした。該試験片１０個を用い、線膨張係数を、熱応力歪測定装置（セイコー電子工業株式会社製ＴＭＡ／ＳＳ１５０Ｃ）にて、測定した。結果、１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、７８×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．９×１０^−６／Ｋであった。なお、線膨張係数を測定する際の条件は、実施例１と同様とした。

【0347】

（実施例３７）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト１０質量部、ポリエチレンテレフタレート樹脂（ユニチカ株式会社製ＭＡ−２１０１Ｍ）９０質量部としたこと以外は、実施例３６と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、６６×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．６×１０^−６／Ｋであった。

【0348】

（実施例３８）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト３０質量部、ポリエチレンテレフタレート樹脂（ユニチカ株式会社製ＭＡ−２１０１Ｍ）７０質量部としたこと以外は、実施例３６と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、３６×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．９×１０^−６／Ｋであった。

【0349】

（実施例３９）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト５０質量部、ポリエチレンテレフタレート樹脂（ユニチカ株式会社製ＭＡ−２１０１Ｍ）５０質量部としたこと以外は、実施例３６と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、０／Ｋであった。また、標準偏差は０．０５×１０^−６／Ｋであった。

【0350】

（実施例４０）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト７０質量部、ポリエチレンテレフタレート樹脂（ユニチカ株式会社製ＭＡ−２１０１Ｍ）３０質量部としたこと以外は、実施例３６と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、−５×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．１×１０^−６／Ｋであった。

【0351】

（比較例５７）
ＭＷＦ型ゼオライトを用いなかったこと以外は、実施例３６と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、８０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．０×１０^−６／Ｋであった。

【0352】

（比較例５８）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例３６と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、８０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．４×１０^−６／Ｋであった。

【0353】

（比較例５９）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例３７と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、７５×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は３．８×１０^−６／Ｋであった。

【0354】

（比較例６０）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例３８と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、６４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は４．９×１０^−６／Ｋであった。

【0355】

（比較例６１）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例３９と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数は、５２×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．６×１０^−６／Ｋであった。

【0356】

（比較例６２）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例４０と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、７４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は７．２×１０^−６／Ｋであった。

【0357】

（比較例６３）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、モレキュラーシーブ１３Ｘ（ユニオン昭和株式会社製）を用いたこと以外は、実施例３９と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、５４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．８×１０^−６／Ｋであった。

【0358】

（比較例６４）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ハイシリカゼオライト（ＵＯＰ社製ＡＢＳＣＥＮＴＳ３０００）を用いたこと以外は、実施例３９と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、５６×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．５×１０^−６／Ｋであった。

【0359】

上記実施例３６〜４０、及び比較例５７〜６４の結果を以下の表１５、及び表１６に示す。

【0360】

【表15】

【0361】

【表16】

【0362】

表１５、表１６に示すように、本実施例に係る、ＭＷＦ型ゼオライトと、ポリエチレンテレフタレート樹脂との複合体は、ポリエチレンテレフタレート樹脂や、一般的なゼオライトであるＬＴＡ型ゼオライト、モレキュラーシーブ１３Ｘ、又はハイシリカゼオライトとポリエチレンテレフタレート樹脂との複合体と比較して、低い線膨張係数を有し、標準偏差が低いことから高い均一性を有することが確認された。

【0363】

（ＭＷＦ型ゼオライトとポリカーボネート樹脂との複合体の作製）
（実施例４１）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト１質量部、ポリカーボネート樹脂（三菱エンジニアリングプラスチック株式会社製ノバレックス７０２２Ｒ）９９質量部を用い、二軸押出機（東芝機械社製ＴＥＭ４８−ＳＳ）にて２８０℃２００ｒｐｍで溶融混練し、複合体を得た。得られた複合体を、シリンダー温度２８０℃、金型温度９０℃に設定した射出成形機（東芝機械社製ＥＣ７５ＮＩＩ）にて、長さ８０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの成形体を得た。成形体を切断し、長さ１０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの試験片とした。該試験片１０個を用いて、線膨張係数を、熱応力歪測定装置（セイコー電子工業株式会社製ＴＭＡ／ＳＳ１５０Ｃ）にて、測定した。結果、５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、６４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．６×１０^−６／Ｋであった。なお、線膨張係数を測定する際の条件は、実施例１と同様とした。

【0364】

（実施例４２）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト１０質量部、ポリカーボネート樹脂（三菱エンジニアリングプラスチック株式会社製ノバレックス７０２２Ｒ）９０質量部としたこと以外は、実施例４１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、５７×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．４×１０^−６／Ｋであった。

【0365】

（実施例４３）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト３０質量部、ポリカーボネート樹脂（三菱エンジニアリングプラスチック株式会社製ノバレックス７０２２Ｒ）７０質量部としたこと以外は、実施例４１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、３７×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．９×１０^−６／Ｋであった。

【0366】

（実施例４４）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト５０質量部、ポリカーボネート樹脂（三菱エンジニアリングプラスチック株式会社製ノバレックス７０２２Ｒ）５０質量部としたこと以外は、実施例４１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．３×１０^−６／Ｋであった。

【0367】

（実施例４５）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト７０質量部、ポリカーボネート樹脂（三菱エンジニアリングプラスチック株式会社製ノバレックス７０２２Ｒ）３０質量部としたこと以外は、実施例４１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、２３×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．１×１０^−６／Ｋであった。

【0368】

（比較例６５）
ＭＷＦ型ゼオライトを用いなかったこと以外は、実施例４１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、６６×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．６×１０^−６／Ｋであった。

【0369】

（比較例６６）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例４１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、６５×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．０×１０^−６／Ｋであった。

【0370】

（比較例６７）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例４２と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、５９×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は３．３×１０^−６／Ｋであった。

【0371】

（比較例６８）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例４３と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、４５×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は４．４×１０^−６／Ｋであった。

【0372】

（比較例６９）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例４４と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、４０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．２×１０^−６／Ｋであった。

【0373】

（比較例７０）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例４５と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、４４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は６．３×１０^−６／Ｋであった。

【0374】

（比較例７１）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、モレキュラーシーブ１３Ｘ（ユニオン昭和株式会社製）を用いたこと以外は、実施例４４と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、４４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は４．９×１０^−６／Ｋであった。

【0375】

（比較例７２）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ハイシリカゼオライト（ＵＯＰ社製ＡＢＳＣＥＮＴＳ３０００）を用いたこと以外は、実施例４４と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、４２×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．３×１０^−６／Ｋであった。

【0376】

上記実施例４１〜４５、及び比較例６５〜７２の結果を以下の表１７、及び表１８に示す。

【0377】

【表17】

【0378】

【表18】

【0379】

表１７、表１８に示すように、本実施例に係る、ＭＷＦ型ゼオライトと、ポリカーボネート樹脂との複合体は、ポリカーボネート樹脂や、一般的なゼオライトであるＬＴＡ型ゼオライト、モレキュラーシーブ１３Ｘ、又はハイシリカゼオライトとポリカーボネート樹脂との複合体と比較して、低い線膨張係数を有し、標準偏差が低いことから高い均一性を有することが確認された。

【0380】

（ＭＷＦ型ゼオライトとポリスチレン樹脂との複合体の作製）
（実施例４６）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト１質量部、ポリスチレン樹脂（東洋スチレン株式会社製トーヨースチロールＸＬ１）９９質量部を用い、二軸押出機（東芝機械社製ＴＥＭ４８−ＳＳ）にて２１０℃２００ｒｐｍで溶融混練し、複合体を得た。得られた複合体を、シリンダー温度２１０℃、金型温度４０℃に設定した射出成形機（東芝機械社製ＥＣ７５ＮＩＩ）にて、長さ８０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの成形体を得た。成形体を切断し、長さ１０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの試験片とした。該試験片１０個を用いて、線膨張係数を、熱応力歪測定装置（セイコー電子工業株式会社製ＴＭＡ／ＳＳ１５０Ｃ）にて、測定した。結果、５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、６８×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．７×１０^−６／Ｋであった。なお、線膨張係数を測定する際の条件は、実施例１と同様とした。

【0381】

（実施例４７）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト１０質量部、ポリスチレン樹脂（東洋スチレン株式会社製トーヨースチロールＸＬ１）９０質量部としたこと以外は、実施例４６と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、６１×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．５×１０^−６／Ｋであった。

【0382】

（実施例４８）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト３０質量部、ポリスチレン樹脂（東洋スチレン株式会社製トーヨースチロールＸＬ１）７０質量部としたこと以外は、実施例４６と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、４０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．０×１０^−６／Ｋであった。

【0383】

（実施例４９）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト５０質量部、ポリスチレン樹脂（東洋スチレン株式会社製トーヨースチロールＸＬ１）５０質量部としたこと以外は、実施例４６と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１６×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．４×１０^−６／Ｋであった。

【0384】

（実施例５０）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト７０質量部、ポリスチレン樹脂（東洋スチレン株式会社製トーヨースチロールＸＬ１）３０質量部としたこと以外は、実施例４６と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、２５×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．２×１０^−６／Ｋであった。

【0385】

（比較例７３）
ＭＷＦ型ゼオライトを用いなかったこと以外は、実施例４６と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、７０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．７×１０^−６／Ｋであった。

【0386】

（比較例７４）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例４６と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、６９×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．１×１０^−６／Ｋであった。

【0387】

（比較例７５）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例４７と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、６３×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は３．４×１０^−６／Ｋであった。

【0388】

（比較例７６）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例４８と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、５３×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は４．６×１０^−６／Ｋであった。

【0389】

（比較例７７）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例４９と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数は、４５×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．４×１０^−６／Ｋであった。

【0390】

（比較例７８）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例５０と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、６４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は６．９×１０^−６／Ｋであった。

【0391】

（比較例７９）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、モレキュラーシーブ１３Ｘ（ユニオン昭和株式会社製）を用いたこと以外は、実施例４９と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、４７×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．１×１０^−６／Ｋであった。

【0392】

（比較例８０）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ハイシリカゼオライト（ＵＯＰ社製ＡＢＳＣＥＮＴＳ３０００）を用いたこと以外は、実施例４９と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、５０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．６×１０^−６／Ｋであった。

【0393】

上記実施例４６〜５０、及び比較例７３〜８０の結果を以下の表１９、及び表２０に示す。

【0394】

【表19】

【0395】

【表20】

【0396】

表１９、表２０に示すように、本実施例に係る、ＭＷＦ型ゼオライトと、ポリスチレン樹脂との複合体は、ポリスチレン樹脂や、一般的なゼオライトであるＬＴＡ型ゼオライト、モレキュラーシーブ１３Ｘ、又はハイシリカゼオライトとポリスチレン樹脂との複合体と比較して、低い線膨張係数を有し、標準偏差が低いことから高い均一性を有することが確認された。

【0397】

（ＭＷＦ型ゼオライトとポリフェニレンエーテル樹脂との複合体の作製）
（実施例５１）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト１質量部、ポリフェニレンエーテル樹脂（ＳＡＢＩＣジャパン合同会社製ノリル７３１）９９質量部を用い、二軸押出機（東芝機械社製ＴＥＭ４８−ＳＳ）にて２９０℃２５０ｒｐｍで溶融混練し、複合体を得た。得られた複合体を、シリンダー温度２９０℃、金型温度９０℃に設定した射出成形機（東芝機械社製ＥＣ７５ＮＩＩ）にて、長さ８０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの成形体を得た。成形体を切断し、長さ１０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの試験片とした。該試験片１０個を用いて、線膨張係数を、熱応力歪測定装置（セイコー電子工業株式会社製ＴＭＡ／ＳＳ１５０Ｃ）にて、測定した。結果、５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、５８×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．４×１０^−６／Ｋであった。なお、線膨張係数を測定する際の条件は、実施例１と同様とした。

【0398】

（実施例５２）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト１０質量部、ポリフェニレンエーテル樹脂（ＳＡＢＩＣジャパン合同会社製ノリル７３１）９０質量部としたこと以外は、実施例５１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、５１×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．２×１０^−６／Ｋであった。

【0399】

（実施例５３）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト３０質量部、ポリフェニレンエーテル樹脂（ＳＡＢＩＣジャパン合同会社製ノリル７３１）７０質量部としたこと以外は、実施例５１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、３２×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．８×１０^−６／Ｋであった。

【0400】

（実施例５４）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト５０質量部、ポリフェニレンエーテル樹脂（ＳＡＢＩＣジャパン合同会社製ノリル７３１）５０質量部としたこと以外は、実施例５１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．２×１０^−６／Ｋであった。

【0401】

（実施例５５）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト７０質量部、ポリフェニレンエーテル樹脂（ＳＡＢＩＣジャパン合同会社製ノリル７３１）３０質量部としたこと以外は、実施例５１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、２１×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．０×１０^−６／Ｋであった。

【0402】

（比較例８１）
ＭＷＦ型ゼオライトを用いなかったこと以外は、実施例５１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、６０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．５×１０^−６／Ｋであった。

【0403】

（比較例８２）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例５１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、５９×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．８×１０^−６／Ｋであった。

【0404】

（比較例８３）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例５２と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、５４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は３．１×１０^−６／Ｋであった。

【0405】

（比較例８４）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例５３と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、４０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は４．２×１０^−６／Ｋであった。

【0406】

（比較例８５）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例５４と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、３９×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．０×１０^−６／Ｋであった。

【0407】

（比較例８６）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例５５と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、６０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は６．８×１０^−６／Ｋであった。

【0408】

（比較例８７）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、モレキュラーシーブ１３Ｘ（ユニオン昭和株式会社製）を用いたこと以外は、実施例５４と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、４１×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．１×１０^−６／Ｋであった。

【0409】

（比較例８８）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ハイシリカゼオライト（ＵＯＰ社製ＡＢＳＣＥＮＴＳ３０００）を用いたこと以外は、実施例５４と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、４５×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．２×１０^−６／Ｋであった。

【0410】

上記実施例５１〜５５、及び比較例８１〜８８の結果を以下の表２１、及び表２２に示す。

【0411】

【表21】

【0412】

【表22】

【0413】

表２１、表２２に示すように、本実施例に係る、ＭＷＦ型ゼオライトと、ポリフェニレンエーテル樹脂との複合体は、ポリフェニレンエーテル樹脂や、一般的なゼオライトであるＬＴＡ型ゼオライト、モレキュラーシーブ１３Ｘ、又はハイシリカゼオライトとポリフェニレンエーテル樹脂との複合体と比較して、低い線膨張係数を有し、標準偏差が低いことから高い均一性を有することが確認された。

【0414】

（ＭＷＦ型ゼオライトとポリフェニレンサルファイド樹脂との複合体の作製）
（実施例５６）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト１質量部、ポリフェニレンサルファイド樹脂（東レ株式会社製トレリナＡ９００）９９質量部を用い、二軸押出機（東芝機械社製ＴＥＭ４８−ＳＳ）にて３１０℃２５０ｒｐｍで溶融混練し、複合体を得た。得られた複合体を、シリンダー温度３１０℃、金型温度１４０℃に設定した射出成形機（東芝機械社製ＥＣ７５ＮＩＩ）にて、長さ８０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの成形体を得た。成形体を切断し、長さ１０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの試験片とした。該試験片１０個を用い、線膨張係数を、熱応力歪測定装置（セイコー電子工業株式会社製ＴＭＡ／ＳＳ１５０Ｃ）にて、測定した。結果、１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、６２×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．５×１０^−６／Ｋであった。なお、線膨張係数を測定する際の条件は、実施例１と同様とした。

【0415】

（実施例５７）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト１０質量部、ポリフェニレンサルファイド樹脂（東レ株式会社製トレリナＡ９００）９０質量部としたこと以外は、実施例５６と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、５１×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．２×１０^−６／Ｋであった。

【0416】

（実施例５８）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト３０質量部、ポリフェニレンサルファイド樹脂（東レ株式会社製トレリナＡ９００）７０質量部としたこと以外は、実施例５６と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、２３×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．６×１０^−６／Ｋであった。

【0417】

（実施例５９）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト５０質量部、ポリフェニレンサルファイド樹脂（東レ株式会社製トレリナＡ９００）５０質量部としたこと以外は、実施例５６と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、−１０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．２×１０^−６／Ｋであった。

【0418】

（実施例６０）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト７０質量部、ポリフェニレンサルファイド樹脂（東レ株式会社製トレリナＡ９００）３０質量部としたこと以外は、実施例５６と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、−１１×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．９×１０^−６／Ｋであった。

【0419】

（比較例８９）
ＭＷＦ型ゼオライトを用いなかったこと以外は、実施例５６と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、６４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．６×１０^−６／Ｋであった。

【0420】

（比較例９０）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例５６と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、６４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．９×１０^−６／Ｋであった。

【0421】

（比較例９１）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例５７と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、６０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は３．３×１０^−６／Ｋであった。

【0422】

（比較例９２）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例５８と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、５２×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は４．６×１０^−６／Ｋであった。

【0423】

（比較例９３）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例５９と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、４２×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．３×１０^−６／Ｋであった。

【0424】

（比較例９４）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例６０と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、６７×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は７．０×１０^−６／Ｋであった。
（比較例９５）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、モレキュラーシーブ１３Ｘ（ユニオン昭和株式会社製）を用いたこと以外は、実施例５９と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、４４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．１×１０^−６／Ｋであった。

【0425】

（比較例９６）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ハイシリカゼオライト（ＵＯＰ社製ＡＢＳＣＥＮＴＳ３０００）を用いたこと以外は、実施例５９と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、４７×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．０×１０^−６／Ｋであった。

【0426】

上記実施例５６〜６０、及び比較例８９〜９６の結果を以下の表２３、及び表２４に示す。

【0427】

【表23】

【0428】

【表24】

【0429】

表２３、表２４に示すように、本実施例に係る、ＭＷＦ型ゼオライトと、ポリフェニレンサルファイド樹脂との複合体は、ポリフェニレンサルファイド樹脂や、一般的なゼオライトであるＬＴＡ型ゼオライト、モレキュラーシーブ１３Ｘ、又はハイシリカゼオライトとポリフェニレンサルファイド樹脂との複合体と比較して、低い線膨張係数を有し、標準偏差が低いことから高い均一性を有することが確認された。

【0430】

（ＭＷＦ型ゼオライトとポリブチレンテレフタレート樹脂との複合体の作製）
（実施例６１）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト１質量部、ポリブチレンテレフタレート樹脂（デュポン株式会社製クラスティンＳ６００Ｆ１０）９９質量部を用い、二軸押出機（東芝機械社製ＴＥＭ４８−ＳＳ）にて２５０℃２５０ｒｐｍで溶融混練し、複合体を得た。得られた複合体を、シリンダー温度２５０℃、金型温度８０℃に設定した射出成形機（東芝機械社製ＥＣ７５ＮＩＩ）にて、長さ８０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの成形体を得た。成形体を切断し、長さ１０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの試験片とした。該試験片１０個を用い、線膨張係数を、熱応力歪測定装置（セイコー電子工業株式会社製ＴＭＡ／ＳＳ１５０Ｃ）にて、測定した。結果、１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、１１７×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．９×１０^−６／Ｋであった。なお、線膨張係数を測定する際の条件は、実施例１と同様とした。

【0431】

（実施例６２）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト１０質量部、ポリブチレンテレフタレート樹脂（デュポン株式会社製クラスティンＳ６００Ｆ１０）９０質量部としたこと以外は、実施例６１と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、１０３×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．５×１０^−６／Ｋであった。

【0432】

（実施例６３）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト３０質量部、ポリブチレンテレフタレート樹脂（デュポン株式会社製クラスティンＳ６００Ｆ１０）７０質量部としたこと以外は、実施例６１と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、６７×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．６×１０^−６／Ｋであった。

【0433】

（実施例６４）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト５０質量部、ポリブチレンテレフタレート樹脂（デュポン株式会社製クラスティンＳ６００Ｆ１０）５０質量部としたこと以外は、実施例６１と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、２４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．６×１０^−６／Ｋであった。

【0434】

（実施例６５）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト７０質量部、ポリブチレンテレフタレート樹脂（デュポン株式会社製クラスティンＳ６００Ｆ１０）３０質量部としたこと以外は、実施例６１と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、１１×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．３×１０^−６／Ｋであった。

【0435】

（比較例９７）
ＭＷＦ型ゼオライトを用いなかったこと以外は、実施例６１と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、１２０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．９×１０^−６／Ｋであった。

【0436】

（比較例９８）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例６１と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、１１９×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は３．６×１０^−６／Ｋであった。

【0437】

（比較例９９）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例６２と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、１１２×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は４．９×１０^−６／Ｋであった。

【0438】

（比較例１００）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例６３と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、９６×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．９×１０^−６／Ｋであった。

【0439】

（比較例１０１）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例６４と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、７６×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は６．３×１０^−６／Ｋであった。

【0440】

（比較例１０２）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例６５と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、８９×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は７．７×１０^−６／Ｋであった。

【0441】

（比較例１０３）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、モレキュラーシーブ１３Ｘ（ユニオン昭和株式会社製）を用いたこと以外は、実施例６４と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、８２×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は６．０×１０^−６／Ｋであった。

【0442】

（比較例１０４）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ハイシリカゼオライト（ＵＯＰ社製ＡＢＳＣＥＮＴＳ３０００）を用いたこと以外は、実施例６４と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、８３×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は６．４×１０^−６／Ｋであった。

【0443】

上記実施例６１〜６５、及び比較例９７〜１０４の結果を以下の表２５、及び表２６に示す。

【0444】

【表25】

【0445】

【表26】

【0446】

表２５、表２６に示すように、本実施例に係る、ＭＷＦ型ゼオライトと、ポリブチレンテレフタレート樹脂との複合体は、ポリブチレンテレフタレート樹脂や、一般的なゼオライトであるＬＴＡ型ゼオライト、モレキュラーシーブ１３Ｘ、又はハイシリカゼオライトとポリブチレンテレフタレート樹脂との複合体と比較して、低い線膨張係数を有し、標準偏差が低いことから高い均一性を有することが確認された。

【0447】

（ＭＷＦ型ゼオライトとメタクリル樹脂との複合体の作製）
（実施例６６）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト１質量部、メタクリル樹脂（株式会社クラレ製パラペットＧ）９９質量部を用い、二軸押出機（東芝機械社製ＴＥＭ４８−ＳＳ）にて２１０℃１００ｒｐｍで溶融混練し、複合体を得た。得られた複合体を、シリンダー温度２１０℃、金型温度５０℃に設定した射出成形機（東芝機械社製ＥＣ７５ＮＩＩ）にて、長さ８０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの成形体を得た。成形体を切断し、長さ１０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの試験片とした。該試験片１０個を用い、線膨張係数を、熱応力歪測定装置（セイコー電子工業株式会社製ＴＭＡ／ＳＳ１５０Ｃ）にて、測定した。結果、５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、５８×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．４×１０^−６／Ｋであった。なお、線膨張係数を測定する際の条件は、実施例１と同様とした。

【0448】

（実施例６７）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト１０質量部、メタクリル樹脂（株式会社クラレ製パラペットＧ）９０質量部としたこと以外は、実施例６６と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、５１×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．２×１０^−６／Ｋであった。

【0449】

（実施例６８）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト３０質量部、メタクリル樹脂（株式会社クラレ製パラペットＧ）７０質量部としたこと以外は、実施例６６と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、３２×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．８×１０^−６／Ｋであった。

【0450】

（実施例６９）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト５０質量部、メタクリル樹脂（株式会社クラレ製パラペットＧ）５０質量部としたこと以外は、実施例６６と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．２×１０^−６／Ｋであった。

【0451】

（実施例７０）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト７０質量部、メタクリル樹脂（株式会社クラレ製パラペットＧ）３０質量部としたこと以外は、実施例６６と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、２１×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．０×１０^−６／Ｋであった。

【0452】

（比較例１０５）
ＭＷＦ型ゼオライトを用いなかったこと以外は、実施例６６と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、６０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．５×１０^−６／Ｋであった。

【0453】

（比較例１０６）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例６６と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、５９×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．８×１０^−６／Ｋであった。

【0454】

（比較例１０７）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例６７と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、５４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は３．１×１０^−６／Ｋであった。

【0455】

（比較例１０８）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例６８と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、４２×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は４．３×１０^−６／Ｋであった。

【0456】

（比較例１０９）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例６９と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、３９×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．１×１０^−６／Ｋであった。

【0457】

（比較例１１０）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例７０と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、４２×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は６．３×１０^−６／Ｋであった。

【0458】

（比較例１１１）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、モレキュラーシーブ１３Ｘ（ユニオン昭和株式会社製）を用いたこと以外は、実施例６９と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、４１×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は４．７×１０^−６／Ｋであった。

【0459】

（比較例１１２）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ハイシリカゼオライト（ＵＯＰ社製ＡＢＳＣＥＮＴＳ３０００）を用いたこと以外は、実施例６９と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、４３×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．２×１０^−６／Ｋであった。

【0460】

上記実施例６６〜７０、及び比較例１０５〜１１２の結果を以下の表２７、及び表２８に示す。

【0461】

【表27】

【0462】

【表28】

【0463】

表２７、表２８に示すように、本実施例に係る、ＭＷＦ型ゼオライトと、メタクリル樹脂との複合体は、メタクリル樹脂や、一般的なゼオライトであるＬＴＡ型ゼオライト、モレキュラーシーブ１３Ｘ、又はハイシリカゼオライトとメタクリル樹脂との複合体と比較して、低い線膨張係数を有し、標準偏差が低いことから高い均一性を有することが確認された。

【0464】

（ＭＷＦ型ゼオライトとシクロオレフィン系樹脂との複合体の作製）
（実施例７１）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト１質量部、シクロオレフィン系樹脂（日本ゼオン株式会社製ゼオノア１０２０Ｒ）９９質量部を用い、二軸押出機（東芝機械社製ＴＥＭ４８−ＳＳ）にて２８０℃２００ｒｐｍで溶融混練し、複合体を得た。得られた複合体を、シリンダー温度２８０℃、金型温度５０℃に設定した射出成形機（東芝機械社製ＥＣ７５ＮＩＩ）にて、長さ８０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの成形体を得た。成形体を切断し、長さ１０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの試験片とした。該試験片１０個を用い、線膨張係数を、熱応力歪測定装置（セイコー電子工業株式会社製ＴＭＡ／ＳＳ１５０Ｃ）にて、測定した。結果、５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、６８×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．７×１０^−６／Ｋであった。なお、線膨張係数を測定する際の条件は、実施例１と同様とした。

【0465】

（実施例７２）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト１０質量部、シクロオレフィン系樹脂（日本ゼオン株式会社製ゼオノア１０２０Ｒ）９０質量部としたこと以外は、実施例７１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、６１×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．５×１０^−６／Ｋであった。

【0466】

（実施例７３）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト３０質量部、シクロオレフィン系樹脂（日本ゼオン株式会社製ゼオノア１０２０Ｒ）７０質量部としたこと以外は、実施例７１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、４０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．０×１０^−６／Ｋであった。

【0467】

（実施例７４）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト５０質量部、シクロオレフィン系樹脂（日本ゼオン株式会社製ゼオノア１０２０Ｒ）５０質量部としたこと以外は、実施例７１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１６×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．４×１０^−６／Ｋであった。

【0468】

（実施例７５）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト７０質量部、シクロオレフィン系樹脂（日本ゼオン株式会社製ゼオノア１０２０Ｒ）３０質量部としたこと以外は、実施例７１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、２５×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．２×１０^−６／Ｋであった。

【0469】

（比較例１１３）
ＭＷＦ型ゼオライトを用いなかったこと以外は、実施例７１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、７０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．７×１０^−６／Ｋであった。

【0470】

（比較例１１４）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例７１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、６９×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．１×１０^−６／Ｋであった。

【0471】

（比較例１１５）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例７２と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、６３×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は３．４×１０^−６／Ｋであった。

【0472】

（比較例１１６）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例７３と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、５０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は４．５×１０^−６／Ｋであった。

【0473】

（比較例１１７）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例７４と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数は、４７×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．３×１０^−６／Ｋであった。

【0474】

（比較例１１８）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例７５と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、６４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は６．９×１０^−６／Ｋであった。

【0475】

（比較例１１９）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、モレキュラーシーブ１３Ｘ（ユニオン昭和株式会社製）を用いたこと以外は、実施例７４と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、４９×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．０×１０^−６／Ｋであった。

【0476】

（比較例１２０）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ハイシリカゼオライト（ＵＯＰ社製ＡＢＳＣＥＮＴＳ３０００）を用いたこと以外は、実施例７４と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、５２×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．５×１０^−６／Ｋであった。

【0477】

上記実施例７１〜７５、及び比較例１１３〜１２０の結果を以下の表２９、及び表３０に示す。

【0478】

【表29】

【0479】

【表30】

【0480】

表２９、表３０に示すように、本実施例に係る、ＭＷＦ型ゼオライトと、シクロオレフィン系樹脂との複合体は、シクロオレフィン系樹脂や、一般的なゼオライトであるＬＴＡ型ゼオライト、モレキュラーシーブ１３Ｘ、又はハイシリカゼオライトとシクロオレフィン系樹脂との複合体と比較して、低い線膨張係数を有し、標準偏差が低いことから高い均一性を有することが確認された。

【0481】

（ＭＷＦ型ゼオライトとポリエチレン樹脂との複合体の作製）
（実施例７６）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト１質量部、ポリエチレン樹脂（三井化学株式会社製ミベロンＸＭ−２２０）９９質量部を用い、ヘンシェルミキサー（日本コークス工業株式会社製ＦＭ７５Ｌ）にて乾式混合し、得られた混合物を、内径１００ｍｍ、深さ１００ｍｍの円筒型金型に仕込み、蓋をして密閉した。圧縮成型機（株式会社神藤金属工業所製ＳＦＡ−２０）を用い、金型温度１８０℃、面圧力２５Ｋｇｆ／ｃｍ^２にて８時間圧縮成形して、直径１００ｍｍ、高さ５０ｍｍの複合体を得た。複合体を、切削加工し、長さ１０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの試験片とした。該試験片１０個を用い、の線膨張係数を、熱応力歪測定装置（セイコー電子工業株式会社製ＴＭＡ／ＳＳ１５０Ｃ）にて、測定した。結果、５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１４８×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は３．６×１０^−６／Ｋであった。なお、線膨張係数を測定する際の条件は、実施例１と同様とした。

【0482】

（実施例７７）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト１０質量部、ポリエチレン樹脂（三井化学株式会社製ミベロンＸＭ−２２０）９０質量部としたこと以外は、実施例７６と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１３５×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は３．３×１０^−６／Ｋであった。

【0483】

（実施例７８）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト３０質量部、ポリエチレン樹脂（三井化学株式会社製ミベロンＸＭ−２２０）７０質量部としたこと以外は、実施例７６と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１０２×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．５×１０^−６／Ｋであった。

【0484】

（実施例７９）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト５０質量部、ポリエチレン樹脂（三井化学株式会社製ミベロンＸＭ−２２０）５０質量部としたこと以外は、実施例７６と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、６４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．６×１０^−６／Ｋであった。

【0485】

（実施例８０）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト７０質量部、ポリエチレン樹脂（三井化学株式会社製ミベロンＸＭ−２２０）３０質量部としたこと以外は、実施例７６と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、５６×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．４×１０^−６／Ｋであった。

【0486】

（比較例１２１）
ＭＷＦ型ゼオライトを用いなかったこと以外は、実施例７６と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１５０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は３．７×１０^−６／Ｋであった。

【0487】

（比較例１２２）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例７６と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１４９×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は４．５×１０^−６／Ｋであった。

【0488】

（比較例１２３）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例７７と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１３８×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．７×１０^−６／Ｋであった。

【0489】

（比較例１２４）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例７８と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１１５×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は６．５×１０^−６／Ｋであった。

【0490】

（比較例１２５）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例７９と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１１２×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は７．４×１０^−６／Ｋであった。

【0491】

（比較例１２６）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例８０と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１１３×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は８．４×１０^−６／Ｋであった。

【0492】

（比較例１２７）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、モレキュラーシーブ１３Ｘ（ユニオン昭和株式会社製）を用いたこと以外は、実施例７９と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１１７×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は７．０×１０^−６／Ｋであった。

【0493】

（比較例１２８）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ハイシリカゼオライト（ＵＯＰ社製ＡＢＳＣＥＮＴＳ３０００）を用いたこと以外は、実施例７９と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１１７×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は７．６×１０^−６／Ｋであった。

【0494】

上記実施例７６〜８０、及び比較例１２１〜１２８の結果を以下の表３１、及び表３２に示す。

【0495】

【表31】

【0496】

【表32】

【0497】

表３１、表３２に示すように、本実施例に係る、ＭＷＦ型ゼオライトと、ポリエチレン樹脂との複合体は、ポリエチレン樹脂や、一般的なゼオライトであるＬＴＡ型ゼオライト、モレキュラーシーブ１３Ｘ、又はハイシリカゼオライトとポリエチレン樹脂との複合体と比較して、低い線膨張係数を有し、標準偏差が低いことから高い均一性を有することが確認された。

【0498】

（ＭＷＦ型ゼオライトとポリエーテルイミド樹脂との複合体の作製）
（実施例８１）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト１質量部、ポリエーテルイミド樹脂（ＳＡＢＩＣジャパン合同会社製ウルテム１０００）９９質量部を用い、ヘンシェルミキサー（日本コークス工業株式会社製ＦＭ７５Ｌ）にて乾式混合し、得られた混合物を、内径１００ｍｍ、深さ１００ｍｍの円筒型金型に仕込み、蓋をして密閉した。圧縮成型機（株式会社神藤金属工業所製ＳＦＡ−２０）を用い、金型温度３４０℃、面圧力３０Ｋｇｆ／ｃｍ^２にて８時間圧縮成形して、直径１００ｍｍ、高さ５０ｍｍの複合体を得た。複合体を、切削加工し、長さ１０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの試験片とした。該試験片１０個を用い、線膨張係数を、熱応力歪測定装置（セイコー電子工業株式会社製ＴＭＡ／ＳＳ１５０Ｃ）にて、測定した。結果、１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、５４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．３×１０^−６／Ｋであった。なお、線膨張係数を測定する際の条件は、実施例１と同様とした。

【0499】

（実施例８２）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト１０質量部、ポリエーテルイミド樹脂（ＳＡＢＩＣジャパン合同会社製ウルテム１０００）９０質量部としたこと以外は、実施例８１と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、４４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．１×１０^−６／Ｋであった。

【0500】

（実施例８３）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト３０質量部、ポリエーテルイミド樹脂（ＳＡＢＩＣジャパン合同会社製ウルテム１０００）７０質量部としたこと以外は、実施例８１と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、１７×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．４×１０^−６／Ｋであった。

【0501】

（実施例８４）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト５０質量部、ポリエーテルイミド樹脂（ＳＡＢＩＣジャパン合同会社製ウルテム１０００）５０質量部としたこと以外は、実施例８１と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、−１４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．３×１０^−６／Ｋであった。

【0502】

（実施例８５）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト７０質量部、ポリエーテルイミド樹脂（ＳＡＢＩＣジャパン合同会社製ウルテム１０００）３０質量部としたこと以外は、実施例８１と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、−１４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．８×１０^−６／Ｋであった。

【0503】

（比較例１２９）
ＭＷＦ型ゼオライトを用いなかったこと以外は、実施例８１と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、５６×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．４×１０^−６／Ｋであった。

【0504】

（比較例１３０）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例８１と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、５６×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．７×１０^−６／Ｋであった。

【0505】

（比較例１３１）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例８２と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、５３×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は３．１×１０^−６／Ｋであった。

【0506】

（比較例１３２）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例８３と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、４６×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は４．４×１０^−６／Ｋであった。

【0507】

（比較例１３３）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例８４と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、３８×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．１×１０^−６／Ｋであった。

【0508】

（比較例１３４）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例８５と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、６４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は６．９×１０^−６／Ｋであった。

【0509】

（比較１３５）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、モレキュラーシーブ１３Ｘ（ユニオン昭和株式会社製）を用いたこと以外は、実施例８４と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、４３×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は４．８×１０^−６／Ｋであった。

【0510】

（比較例１３６）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ハイシリカゼオライト（ＵＯＰ社製ＡＢＳＣＥＮＴＳ３０００）を用いたこと以外は、実施例８４と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、４０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．４×１０^−６／Ｋであった。

【0511】

上記実施例８１〜８５、及び比較例１２９〜１３６の結果を以下の表３３、及び表３４に示す。

【0512】

【表33】

【0513】

【表34】

【0514】

表３３、表３４に示すように、本実施例に係る、ＭＷＦ型ゼオライトと、ポリエーテルイミド樹脂との複合体は、ポリエーテルイミド樹脂や、一般的なゼオライトであるＬＴＡ型ゼオライト、モレキュラーシーブ１３Ｘ、又はハイシリカゼオライトとポリエーテルイミド樹脂との複合体と比較して、低い線膨張係数を有し、標準偏差が低いことから高い均一性を有することが確認された。

【0515】

（ＭＷＦ型ゼオライトと熱可塑性ポリイミド樹脂との複合体の作製）
（実施例８６）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト１質量部、熱可塑性ポリイミド樹脂（ＳＡＢＩＣジャパン合同会社製エクステムＸＨ１００５）９９質量部を用い、ヘンシェルミキサー（日本コークス工業株式会社製ＦＭ７５Ｌ）にて乾式混合し、得られた混合物を、内径１００ｍｍ、深さ１００ｍｍの円筒型金型に仕込み、蓋をして密閉した。圧縮成型機（株式会社神藤金属工業所製ＳＦＡ−２０）を用い、金型温度３２０℃、面圧力３０Ｋｇｆ／ｃｍ^２にて８時間圧縮成形して、直径１００ｍｍ、高さ５０ｍｍの複合体を得た。複合体を、切削加工し、長さ１０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの試験片とした。該試験片１０個を用い、線膨張係数を、熱応力歪測定装置（セイコー電子工業株式会社製ＴＭＡ／ＳＳ１５０Ｃ）にて、測定した。結果、１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、４８×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．２×１０^−６／Ｋであった。なお、線膨張係数を測定する際の条件は、実施例１と同様とした。

【0516】

（実施例８７）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト１０質量部、熱可塑性ポリイミド樹脂（ＳＡＢＩＣジャパン合同会社製エクステムＸＨ１００５）９０質量部としたこと以外は、実施例８６と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、３８×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．９×１０^−６／Ｋであった。

【0517】

（実施例８８）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト３０質量部、熱可塑性ポリイミド樹脂（ＳＡＢＩＣジャパン合同会社製エクステムＸＨ１００５）７０質量部としたこと以外は、実施例８６と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、１２×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．３×１０^−６／Ｋであった。

【0518】

（実施例８９）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト５０質量部、熱可塑性ポリイミド樹脂（ＳＡＢＩＣジャパン合同会社製エクステムＸＨ１００５）５０質量部としたこと以外は、実施例８６と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、−１８×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．４×１０^−６／Ｋであった。

【0519】

（実施例９０）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト７０質量部、熱可塑性ポリイミド樹脂（ＳＡＢＩＣジャパン合同会社製エクステムＸＨ１００５）３０質量部としたこと以外は、実施例８６と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、−１６×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．７×１０^−６／Ｋであった。

【0520】

（比較例１３７）
ＭＷＦ型ゼオライトを用いなかったこと以外は、実施例８６と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、５０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．２×１０^−６／Ｋであった。

【0521】

（比較例１３８）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例８６と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、５０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．５×１０^−６／Ｋであった。

【0522】

（比較例１３９）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例８７と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、４７×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．９×１０^−６／Ｋであった。

【0523】

（比較例１４０）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例８８と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、４１×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は４．２×１０^−６／Ｋであった。

【0524】

（比較例１４１）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例８９と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、３４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．０×１０^−６／Ｋであった。

【0525】

（比較例１４２）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例９０と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数は、６２×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は６．９×１０^−６／Ｋであった。

【0526】

（比較例１４３）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、モレキュラーシーブ１３Ｘ（ユニオン昭和株式会社製）を用いたこと以外は、実施例８９と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、３６×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．２×１０^−６／Ｋであった。

【0527】

（比較例１４４）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ハイシリカゼオライト（ＵＯＰ社製ＡＢＳＣＥＮＴＳ３０００）を用いたこと以外は、実施例８９と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、３８×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．２×１０^−６／Ｋであった。

【0528】

上記実施例８６〜９０、及び比較例１３７〜１４４の結果を以下の表３５、及び表３６に示す。

【0529】

【表35】

【0530】

【表36】

【0531】

表３５、表３６に示すように、本実施例に係る、ＭＷＦ型ゼオライトと、熱可塑性ポリイミド樹脂との複合体は、熱可塑性ポリイミド樹脂や、一般的なゼオライトであるＬＴＡ型ゼオライト、モレキュラーシーブ１３Ｘ、又はハイシリカゼオライトと熱可塑性ポリイミド樹脂との複合体と比較して、低い線膨張係数を有し、標準偏差が低いことから高い均一性を有することが確認された。

【0532】

（ＭＷＦ型ゼオライトと硬化性エポキシ樹脂との複合体の作製）
（実施例９１）
エポキシ化合物（三菱化学株式会社製ｊＥＲ８２８）５５．２質量部、酸無水物（新日本理化株式会社製リカシッドＭＨ−７００Ｇ）４４．５質量部、エポキシ化合物重合開始剤（サンアプロ株式会社製Ｕ−ＣＡＴ５００３）０．２９２質量部、テトラヒドロフラン（和光純薬工業株式会社製試薬特級）８００質量部を容器に入れ、自転・公転ミキサー（株式会社シンキー製ＡＲＥ−５００）にて、２０００ｒｐｍ１０分間混合することで、硬化性エポキシ樹脂組成物を調製した。合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト１質量部、前記硬化性エポキシ樹脂組成物８９１質量部を用い、自転・公転ミキサー（株式会社シンキー製ＡＲＥ−５００）にて、２０００ｒｐｍ１０分間混合することで、混合物を得た。該混合物を直径１００ｍｍ、高さ１００ｍｍのポリテトラフルオロエチレン容器に入れ、真空乾燥機にて、低沸点成分を除去した。真空乾燥機の条件は、以下とした。
真空乾燥機：東京理化器械株式会社製、ＶＯＳ−４５１Ｄ
真空ポンプ：アルバック機工株式会社製、小型油回転真空ポンプ ＧＣＤ−２０１Ｘ
（１）室温にて、真空乾燥機の真空バルブ、及び窒素導入可能としたパージバルブの開度を調整し、−０．０２ＭＰａ（ゲージ圧）まで減圧し、５℃／分の昇温速度で６０℃とし、５時間保持した。
（２）パージバルブを閉じ、真空バルブを全開とし、２時間保持した。
（３）室温まで冷却し、真空バルブを全閉とし、パージバルブを開け、常圧とした。
真空乾燥機から取り出したポリテトラフルオロエチレン容器を、３０℃に保持したオーブン（エスペック株式会社製ＳＰＨＨ−４０２）に入れ、１２０℃まで５℃／分で昇温し、３時間保持した。その後、１５０℃まで５℃／分で昇温し、２時間保持し、室温まで冷却した。ポリテトラフルオロエチレン容器をオーブンから取り出し、直径１００ｍｍの複合体を得た。複合体を、切削加工し、長さ１０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの試験片とした。該試験片１０個を用い、線膨張係数を、熱応力歪測定装置（セイコー電子工業株式会社製ＴＭＡ／ＳＳ１５０Ｃ）にて、測定した。結果、５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、６８×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．７×１０^−６／Ｋであった。なお、線膨張係数を測定する際の条件は、実施例１と同様とした。

【0533】

（実施例９２）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト１０質量部、硬化性エポキシ樹脂組成物８１０質量部としたこと以外は、実施例９１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、６１×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．５×１０^−６／Ｋであった。

【0534】

（実施例９３）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト３０質量部、硬化性エポキシ樹脂組成物６３０質量部としたこと以外は、実施例９１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、４０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．０×１０^−６／Ｋであった。

【0535】

（実施例９４）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト５０質量部、硬化性エポキシ樹脂組成物４５０質量部としたこと以外は、実施例９１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１６×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．４×１０^−６／Ｋであった。

【0536】

（実施例９５）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト７０質量部、硬化性エポキシ樹脂組成物２７０質量部としたこと以外は、実施例９１と同様に実施した。得られた試験片の８０℃〜１００℃での線膨張係数の平均は、−１２×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．９×１０^−６／Ｋであった。

【0537】

（実施例９６）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト８０質量部、硬化性エポキシ樹脂組成物１８０質量部としたこと以外は、実施例９１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、４６×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．５×１０^−６／Ｋであった。

【0538】

（比較例１４５）
ＭＷＦ型ゼオライトを用いなかったこと以外は、実施例９１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、７０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．７×１０^−６／Ｋであった。

【0539】

（比較例１４６）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例９１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、６９×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．１×１０^−６／Ｋであった。

【0540】

（比較例１４７）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例９２と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、６３×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は３．４×１０^−６／Ｋであった。

【0541】

（比較例１４８）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例９３と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、５３×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は４．６×１０^−６／Ｋであった。

【0542】

（比較例１４９）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例９４と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、４８×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．３×１０^−６／Ｋであった。

【0543】

（比較例１５０）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例９５と同様に実施した。得られた試験片の８０℃〜１００℃での線膨張係数の平均は、６４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は６．９×１０^−６／Ｋであった。

【0544】

（比較例１５１）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例９６と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、８９×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は７．７×１０^−６／Ｋであった。

【0545】

（比較例１５２）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、モレキュラーシーブ１３Ｘ（ユニオン昭和株式会社製）を用いたこと以外は、実施例９４と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、５２×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．２×１０^−６／Ｋであった。

【0546】

（比較例１５３）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ハイシリカゼオライト（ＵＯＰ社製ＡＢＳＣＥＮＴＳ３０００）を用いたこと以外は、実施例９４と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、５０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．０×１０^−６／Ｋであった。

【0547】

上記実施例９１〜９６、及び比較例１４５〜１５３の結果を以下の表３７、及び表３８に示す。

【0548】

【表37】

【0549】

【表38】

【0550】

表３７、表３８に示すように、本実施例に係る、ＭＷＦ型ゼオライトと、硬化性エポキシ樹脂との複合体は、硬化性エポキシ樹脂や、一般的なゼオライトであるＬＴＡ型ゼオライト、モレキュラーシーブ１３Ｘ、又はハイシリカゼオライトと硬化性エポキシ樹脂との複合体と比較して、低い線膨張係数を有し、標準偏差が低いことから高い均一性を有することが確認された。

【0551】

（ＭＷＦ型ゼオライトと硬化性ジアリルフタレート樹脂との複合体の作製）
（実施例９７）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト１質量部、ジアリルフタレート化合物（ダイソー株式会社製ダイソーイソダップ）９６質量部、ジアリルフタレート化合物重合開始剤（日本化薬株式会社製ジクミルパーオキサイド）３質量部を、８０℃のロール式混練装置（関西ロール株式会社製６インチロール）にて混合し、混合物を得た。得られた混合物を、粉砕し、内径１００ｍｍ、深さ１００ｍｍの円筒型金型に仕込み、蓋をして密閉した。圧縮成型機（株式会社神藤金属工業所製ＳＦＡ−２０）を用い、金型温度１６０℃、面圧力１００Ｋｇｆ／ｃｍ^２にて５分間圧縮成形して、直径１００ｍｍ、高さ５０ｍｍの複合体を得た。複合体を、切削加工し、長さ１０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの試験片とした。該試験片１０個を用い、線膨張係数を、熱応力歪測定装置（セイコー電子工業株式会社製ＴＭＡ／ＳＳ１５０Ｃ）にて、測定した。結果、５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、７３×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．８×１０^−６／Ｋであった。なお、線膨張係数を測定する際の条件は、実施例１と同様とした。

【0552】

（実施例９８）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト１０質量部、ジアリルフタレート化合物（ダイソー株式会社製ダイソーイソダップ）８７質量部、ジアリルフタレート化合物重合開始剤（日本化薬株式会社製ジクミルパーオキサイド）３質量部としたこと以外は、実施例９７と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、６５×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．６×１０^−６／Ｋであった。

【0553】

（実施例９９）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト３０質量部、ジアリルフタレート化合物（ダイソー株式会社製ダイソーイソダップ）６８質量部、ジアリルフタレート化合物重合開始剤（日本化薬株式会社製ジクミルパーオキサイド）２質量部としたこと以外は、実施例９７と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、４４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．１×１０^−６／Ｋであった。

【0554】

（実施例１００）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト５０質量部、ジアリルフタレート化合物（ダイソー株式会社製ダイソーイソダップ）４９質量部、ジアリルフタレート化合物重合開始剤（日本化薬株式会社製ジクミルパーオキサイド）１質量部としたこと以外は、実施例９７と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１９×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．５×１０^−６／Ｋであった。

【0555】

（実施例１０１）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト７０質量部、ジアリルフタレート化合物（ダイソー株式会社製ダイソーイソダップ）２９質量部、ジアリルフタレート化合物重合開始剤（日本化薬株式会社製ジクミルパーオキサイド）０．９質量部としたこと以外は、実施例９７と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、２７×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．４×１０^−６／Ｋであった。

【0556】

（比較例１５４）
ＭＷＦ型ゼオライトを用いなかったこと以外は、実施例９７と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、７５×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．８×１０^−６／Ｋであった。

【0557】

（比較例１５５）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例９７と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、７４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．２×１０^−６／Ｋであった。

【0558】

（比較例１５６）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例９８と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、６８×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は３．５×１０^−６／Ｋであった。

【0559】

（比較例１５７）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例９９と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、５７×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は４．７×１０^−６／Ｋであった。

【0560】

（比較例１５８）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１００と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、５３×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．４×１０^−６／Ｋであった。

【0561】

（比較例１５９）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１０１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、６６×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は７．０×１０^−６／Ｋであった。

【0562】

（比較例１６０）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、モレキュラーシーブ１３Ｘ（ユニオン昭和株式会社製）を用いたこと以外は、実施例１００と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、５９×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．３×１０^−６／Ｋであった。

【0563】

（比較例１６１）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ハイシリカゼオライト（ＵＯＰ社製ＡＢＳＣＥＮＴＳ３０００）を用いたこと以外は、実施例１００と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、５６×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．５×１０^−６／Ｋであった。

【0564】

上記実施例９７〜１０１、及び比較例１５４〜１６１の結果を以下の表３９、及び表４０に示す。

【0565】

【表39】

【0566】

【表40】

【0567】

表３９、表４０に示すように、本実施例に係る、ＭＷＦ型ゼオライトと、硬化性ジアリルフタレート樹脂との複合体は、硬化性ジアリルフタレート樹脂や、一般的なゼオライトであるＬＴＡ型ゼオライト、モレキュラーシーブ１３Ｘ、又はハイシリカゼオライトと硬化性ジアリルフタレート樹脂との複合体と比較して、低い線膨張係数を有し、標準偏差が低いことから高い均一性を有することが確認された。

【0568】

（ＭＷＦ型ゼオライトと硬化性シリコーン樹脂との複合体の作製）
（実施例１０２）
硬化性シリコーン樹脂組成物（東レ・ダウコーニング株式会社製Ｓｙｌｇａｒｄ１８４）１００質量部、トルエン（和光純薬工業株式会社製試薬特級）８００質量部を容器に入れ、自転・公転ミキサー（株式会社シンキー製ＡＲＥ−５００）にて、２０００ｒｐｍ１０分間混合することで、硬化性シリコーン樹脂組成物を調製した。合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト１質量部、前記硬化性シリコーン樹脂組成物８９１質量部を用い、自転・公転ミキサー（株式会社シンキー製ＡＲＥ−５００）にて、２０００ｒｐｍ１０分間混合することで、混合物を得た。該混合物を直径１００ｍｍ、高さ１００ｍｍのポリテトラフルオロエチレン容器に入れ、真空乾燥機にて、低沸点成分を除去した。真空乾燥機の条件は、以下とした。
真空乾燥機：東京理化器械株式会社製、ＶＯＳ−４５１Ｄ
真空ポンプ：アルバック機工株式会社製、小型油回転真空ポンプ ＧＣＤ−２０１Ｘ
（１）室温にて、真空乾燥機の真空バルブを全開とし、５℃／分の昇温速度で６０℃とし、５時間保持した。
（２）室温まで冷却し、真空バルブを全閉とし、窒素導入可能としたパージバルブを開け、常圧とした。
真空乾燥機から取り出したポリテトラフルオロエチレン樹脂容器を、３０℃に保持したオーブン（エスペック株式会社製ＳＰＨＨ−４０２）に入れ、１００℃まで５℃／分で昇温し、１時間保持した。その後、１２５℃まで５℃／分で昇温し、１時間保持し、１５０℃まで５℃／分で昇温し、１時間保持し、室温まで冷却した。ポリテトラフルオロエチレン樹脂容器をオーブンから取り出し、直径１００ｍｍの複合体を得た。複合体を、切削加工し、長さ１０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの試験片とした。該試験片１０個を用い、線膨張係数を、熱応力歪測定装置（セイコー電子工業株式会社製ＴＭＡ／ＳＳ１５０Ｃ）にて、測定した。結果、５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、２９７×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は７．３×１０^−６／Ｋであった。なお、線膨張係数を測定する際の条件は、実施例１と同様とした。

【0569】

（実施例１０３）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト１０質量部、硬化性シリコーン樹脂組成物８１０質量部としたこと以外は、実施例１０２と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、２７５×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は６．７×１０^−６／Ｋであった。

【0570】

（実施例１０４）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト３０質量部、硬化性シリコーン樹脂組成物６３０質量部としたこと以外は、実施例１０２と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、２１９×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．４×１０^−６／Ｋであった。

【0571】

（実施例１０５）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト５０質量部、硬化性シリコーン樹脂組成物４５０質量部としたこと以外は、実施例１０２と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１５４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は３．８×１０^−６／Ｋであった。

【0572】

（実施例１０６）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト７０質量部、硬化性シリコーン樹脂組成物２７０質量部としたこと以外は、実施例１０２と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、７８×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．９×１０^−６／Ｋであった。

【0573】

（実施例１０７）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト８０質量部、硬化性シリコーン樹脂組成物１８０質量部としたこと以外は、実施例１０２と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、２３４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は６．７×１０^−６／Ｋであった。

【0574】

（比較例１６２）
ＭＷＦ型ゼオライトを用いなかったこと以外は、実施例１０２と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、３００×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は７．３×１０^−６／Ｋであった。

【0575】

（比較例１６３）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１０２と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、２９８×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は９．０×１０^−６／Ｋであった。

【0576】

（比較例１６４）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１０３と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、２７７×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は９．８×１０^−６／Ｋであった。

【0577】

（比較例１６５）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１０４と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、２４７×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１０×１０^−６／Ｋであった。

【0578】

（比較例１６６）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１０５と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、２３８×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１１×１０^−６／Ｋであった。

【0579】

（比較例１６７）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１０６と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、２５９×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１３×１０^−６／Ｋであった。

【0580】

（比較例１６８）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１０７と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、２８８×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１４×１０^−６／Ｋであった。

【0581】

（比較例１６９）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、モレキュラーシーブ１３Ｘ（ユニオン昭和株式会社製）を用いたこと以外は、実施例１０５と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、２３８×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１１×１０^−６／Ｋであった。

【0582】

（比較例１７０）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ハイシリカゼオライト（ＵＯＰ社製ＡＢＳＣＥＮＴＳ３０００）を用いたこと以外は、実施例１０５と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、２４３×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１１×１０^−６／Ｋであった。

【0583】

上記実施例１０２〜１０７、及び比較例１６２〜１７０の結果を以下の表４１、及び表４２に示す。

【0584】

【表41】

【0585】

【表42】

【0586】

表４１、表４２に示すように、本実施例に係る、ＭＷＦ型ゼオライトと、硬化性シリコーン樹脂との複合体は、硬化性シリコーン樹脂や、一般的なゼオライトであるＬＴＡ型ゼオライト、モレキュラーシーブ１３Ｘ、又はハイシリカゼオライトと硬化性シリコーン樹脂との複合体と比較して、低い線膨張係数を有し、標準偏差が低いことから高い均一性を有することが確認された。

【0587】

（ＭＷＦ型ゼオライトと硬化性フェノール樹脂との複合体の作製）
（実施例１０８）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト１質量部、ノボラック型フェノール化合物（パナソニック電工株式会社製ＰＡＲ）９４質量部、硬化性フェノール樹脂硬化剤（三井東圧株式会社製ヘキサメチルテトラミン）５質量部を、１１０℃のロール式混練装置（関西ロール株式会社製６インチロール）にて混合し、混合物を得た。得られた混合物を、粉砕し、内径１００ｍｍ、深さ１００ｍｍの円筒型金型に仕込み、蓋をして密閉した。圧縮成型機（株式会社神藤金属工業所製ＳＦＡ−２０）を用い、金型温度１６５℃、面圧力１００Ｋｇｆ／ｃｍ^２にて５分間圧縮成形して、直径１００ｍｍ、高さ５０ｍｍの複合体を得た。複合体を、切削加工し、長さ１０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの試験片とした。該試験片１０個を用い、線膨張係数を、熱応力歪測定装置（セイコー電子工業株式会社製ＴＭＡ／ＳＳ１５０Ｃ）にて、測定した。結果、５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、２０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．５×１０^−６／Ｋであった。なお、線膨張係数を測定する際の条件は、実施例１と同様とした。

【0588】

（実施例１０９）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト１０質量部、ノボラック型フェノール化合物（パナソニック電工株式会社製ＰＡＲ）８６質量部、硬化性フェノール樹脂硬化剤（三井東圧株式会社製ヘキサメチルテトラミン）４質量部としたこと以外は、実施例１０８と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１６×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．０×１０^−６／Ｋであった。

【0589】

（実施例１１０）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト３０質量部、ノボラック型フェノール化合物（パナソニック電工株式会社製ＰＡＲ）６７質量部、硬化性フェノール樹脂硬化剤（三井東圧株式会社製ヘキサメチルテトラミン）３質量部としたこと以外は、実施例１０８と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、３×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．４×１０^−６／Ｋであった。

【0590】

（実施例１１１）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト５０質量部、ノボラック型フェノール化合物（パナソニック電工株式会社製ＰＡＲ）４８質量部、硬化性フェノール樹脂硬化剤（三井東圧株式会社製ヘキサメチルテトラミン）２質量部としたこと以外は、実施例１０８と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、−３×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．１×１０^−６／Ｋであった。

【0591】

（実施例１１２）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト７０質量部、ノボラック型フェノール化合物（パナソニック電工株式会社製ＰＡＲ）２９質量部、硬化性フェノール樹脂硬化剤（三井東圧株式会社製ヘキサメチルテトラミン）１質量部としたこと以外は、実施例１０８と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、６×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．７×１０^−６／Ｋであった。

【0592】

（比較例１７１）
ＭＷＦ型ゼオライトを用いなかったこと以外は、実施例１０８と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、２２×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．５×１０^−６／Ｋであった。

【0593】

（比較例１７２）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１０８と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、２２×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．７×１０^−６／Ｋであった。

【0594】

（比較例１７３）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１０９と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１９×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．１×１０^−６／Ｋであった。

【0595】

（比較例１７４）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１１０と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１５×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は３．０×１０^−６／Ｋであった。

【0596】

（比較例１７５）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１１１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は３．４×１０^−６／Ｋであった。

【0597】

（比較例１７６）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１１２と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、２７×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は３．８×１０^−６／Ｋであった。

【0598】

（比較例１７７）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、モレキュラーシーブ１３Ｘ（ユニオン昭和株式会社製）を用いたこと以外は、実施例１１１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１６×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は３．２×１０^−６／Ｋであった。

【0599】

（比較例１７８）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ハイシリカゼオライト（ＵＯＰ社製ＡＢＳＣＥＮＴＳ３０００）を用いたこと以外は、実施例１１１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１５×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は３．４×１０^−６／Ｋであった。

【0600】

上記実施例１０８〜１１２、及び比較例１７１〜１７８の結果を以下の表４３、及び表４４に示す。

【0601】

【表43】

【0602】

【表44】

【0603】

表４３、表４４に示すように、本実施例に係る、ＭＷＦ型ゼオライトと、硬化性フェノール樹脂との複合体は、硬化性フェノール樹脂や、一般的なゼオライトであるＬＴＡ型ゼオライト、モレキュラーシーブ１３Ｘ、又はハイシリカゼオライトと硬化性フェノール樹脂との複合体と比較して、低い線膨張係数を有し、標準偏差が低いことから高い均一性を有することが確認された。

【0604】

（ＭＷＦ型ゼオライトと硬化性不飽和ポリエステル樹脂との複合体の作製）
（実施例１１３）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト１質量部、不飽和ポリエステル化合物（日本ユピカ株式会社製ユピカ７１２３）９６質量部、不飽和ポリエステル化合物重合開始剤（日油株式会社製パーブチルＺ）３質量部を、室温の双腕式ニーダー（株式会社トーシン製ＴＫ１）にて混合し、混合物を得た。得られた混合物を、内径１００ｍｍ、深さ１００ｍｍの円筒型金型に仕込み、蓋をして密閉した。圧縮成型機（株式会社神藤金属工業所製ＳＦＡ−２０）を用い、金型温度１６０℃、面圧力１００Ｋｇｆ／ｃｍ^２にて５分間圧縮成形して、直径１００ｍｍ、高さ５０ｍｍの複合体を得た。複合体を、切削加工し、長さ１０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの試験片とした。該試験片を１０個用い、線膨張係数を、熱応力歪測定装置（セイコー電子工業株式会社製ＴＭＡ／ＳＳ１５０Ｃ）にて、測定した。結果、５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、２８×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．７×１０^−６／Ｋであった。なお、線膨張係数を測定する際の条件は、実施例１と同様とした。

【0605】

（実施例１１４）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト１０質量部、不飽和ポリエステル化合物（日本ユピカ株式会社製ユピカ７１２３）８７質量部、不飽和ポリエステル化合物重合開始剤（日油株式会社製パーブチルＺ）３質量部としたこと以外は、実施例１１３と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、２３×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．２×１０^−６／Ｋであった。

【0606】

（実施例１１５）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト３０質量部、不飽和ポリエステル化合物（日本ユピカ株式会社製ユピカ７１２３）６８質量部、不飽和ポリエステル化合物重合開始剤（日油株式会社製パーブチルＺ）２質量部としたこと以外は、実施例１１３と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、９×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．５×１０^−６／Ｋであった。

【0607】

（実施例１１６）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト５０質量部、不飽和ポリエステル化合物（日本ユピカ株式会社製ユピカ７１２３）４９質量部、不飽和ポリエステル化合物重合開始剤（日油株式会社製パーブチルＺ）１質量部としたこと以外は、実施例１１３と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、−２×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．０５×１０^−６／Ｋであった。

【0608】

（実施例１１７）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト７０質量部、不飽和ポリエステル化合物（日本ユピカ株式会社製ユピカ７１２３）２９質量部、不飽和ポリエステル化合物重合開始剤（日油株式会社製パーブチルＺ）０．９質量部としたこと以外は、実施例１１３と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、９×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．８×１０^−６／Ｋであった。

【0609】

（比較例１７９）
ＭＷＦ型ゼオライトを用いなかったこと以外は、実施例１１３と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、３０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．７×１０^−６／Ｋであった。

【0610】

（比較例１８０）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１１３と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、３０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．９×１０^−６／Ｋであった。

【0611】

（比較例１８１）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１１４と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、２６×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．３×１０^−６／Ｋであった。

【0612】

（比較例１８２）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１１５と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１７×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は３．０×１０^−６／Ｋであった。

【0613】

（比較例１８３）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１１６と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１７×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は３．５×１０^−６／Ｋであった。

【0614】

（比較例１８４）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１１７と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、３０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は３．９×１０^−６／Ｋであった。

【0615】

（比較例１８５）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、モレキュラーシーブ１３Ｘ（ユニオン昭和株式会社製）を用いたこと以外は、実施例１１６と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１５×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は３．２×１０^−６／Ｋであった。

【0616】

（比較例１８６）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ハイシリカゼオライト（ＵＯＰ社製ＡＢＳＣＥＮＴＳ３０００）を用いたこと以外は、実施例１１６と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１８×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は３．４×１０^−６／Ｋであった。

【0617】

上記実施例１１３〜１１７、及び比較例１７９〜１８６の結果を以下の表４５、及び表４６に示す。

【0618】

【表45】

【0619】

【表46】

【0620】

表４５、表４６に示すように、本実施例に係る、ＭＷＦ型ゼオライトと、硬化性不飽和ポリエステル樹脂との複合体は、硬化性不飽和ポリエステル樹脂や、一般的なゼオライトであるＬＴＡ型ゼオライト、モレキュラーシーブ１３Ｘ、又はハイシリカゼオライトと硬化性不飽和ポリエステル樹脂との複合体と比較して、低い線膨張係数を有し、標準偏差が低いことから高い均一性を有することが確認された。

【0621】

（ＭＷＦ型ゼオライトと硬化性ポリイミド樹脂との複合体の作製）
（実施例１１８）
ポリイミド化合物（丸善石油化学株式会社製ＢＡＮＩ−Ｘ）９８質量部、ｐ−トルエンスルホン酸水溶液（硬化性ポリイミド樹脂重合開始剤である和光純薬工業株式会社製ｐ−トルエンスルホン酸一水和物（特級グレード）２質量部と、和光純薬工業株式会社製超純水（ＬＣ／ＭＳ用）１２質量部とからなる水溶液）１４質量部、テトラヒドロフラン（和光純薬工業株式会社製試薬特級）７８８質量部を容器に入れ、自転・公転ミキサー（株式会社シンキー製ＡＲＥ−５００）にて、２０００ｒｐｍ１０分間混合することで、硬化性ポリイミド樹脂組成物を調製した。合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト１質量部、前記硬化性ポリイミド樹脂組成物８９１質量部を用い、自転・公転ミキサー（株式会社シンキー製ＡＲＥ−５００）にて、２０００ｒｐｍ１０分間混合することで、混合物を得た。該混合物を直径１００ｍｍ、高さ１００ｍｍのポリテトラフルオロエチレン樹脂容器に入れ、真空乾燥機にて、低沸点成分を除去した。真空乾燥機の条件は、以下とした。
真空乾燥機：東京理化器械株式会社製、ＶＯＳ−４５１Ｄ
真空ポンプ：アルバック機工株式会社製、小型油回転真空ポンプ ＧＣＤ−２０１Ｘ
（１）室温にて、真空乾燥機の真空バルブ、及び窒素導入可能としたパージバルブの開度を調整し、−０．０２ＭＰａ（ゲージ圧）まで減圧し、５℃／分の昇温速度で６０℃とし、５時間保持した。
（２）パージバルブを閉じ、真空バルブを全開とし、２時間保持した。
（３）室温まで冷却し、真空バルブを全閉とし、パージバルブを開け、常圧とした。
真空乾燥機から取り出したポリテトラフルオロエチレン樹脂容器を、３０℃に保持したオーブン（エスペック株式会社製ＳＰＨＨ−４０２）に入れ、２５０℃まで５℃／分で昇温し、２４時間保持した。その後、室温まで冷却した。ポリテトラフルオロエチレン樹脂容器をオーブンから取り出し、直径１００ｍｍの複合体を得た。複合体を、切削加工し、長さ１０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの試験片とした。該試験片１０個を用い、線膨張係数を、熱応力歪測定装置（セイコー電子工業株式会社製ＴＭＡ／ＳＳ１５０Ｃ）にて、測定した。結果、１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、４６×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．１×１０^−６／Ｋであった。なお、線膨張係数を測定する際の条件は、実施例１と同様とした。

【0622】

（実施例１１９）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト１０質量部、硬化性ポリイミド樹脂組成物８１０質量部としたこと以外は、実施例１１８と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、３６×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．５×１０^−６／Ｋであった。

【0623】

（実施例１２０）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト３０質量部、硬化性ポリイミド樹脂組成物６３０質量部としたこと以外は、実施例１１８と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、１１×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．６×１０^−６／Ｋであった。

【0624】

（実施例１２１）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト５０質量部、硬化性ポリイミド樹脂組成物４５０質量部としたこと以外は、実施例１１８と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、−１９×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．５×１０^−６／Ｋであった。

【0625】

（実施例１２２）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト７０質量部、硬化性ポリイミド樹脂組成物２７０質量部としたこと以外は、実施例１１８と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、−１７×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．０×１０^−６／Ｋであった。

【0626】

（実施例１２３）
合成例２で得られたＭＷＦ型ゼオライト８０質量部、硬化性ポリイミド樹脂組成物１８０質量部としたこと以外は、実施例１１８と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、３８×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．５×１０^−６／Ｋであった。

【0627】

（比較例１８７）
ＭＷＦ型ゼオライトを用いなかったこと以外は、実施例１１８と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、４８×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．２×１０^−６／Ｋであった。

【0628】

（比較例１８８）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１１８と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、４８×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．４×１０^−６／Ｋであった。

【0629】

（比較例１８９）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１１９と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、４５×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．９×１０^−６／Ｋであった。

【0630】

（比較例１９０）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１２０と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、４１×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は４．２×１０^−６／Ｋであった。

【0631】

（比較例１９１）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１２１と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、４０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．２×１０^−６／Ｋであった。

【0632】

（比較例１９２）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１２２と同様に実施した。得られた試験片の１５０〜１８０℃での線膨張係数の平均は、４３×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は６．３×１０^−６／Ｋであった。

【0633】

（比較例１９３）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１２３と同様に実施した。得られた試験片の１５０℃〜１８０℃での線膨張係数の平均は、５０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は６．５×１０^−６／Ｋであった。

【0634】

（比較例１９４）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、モレキュラーシーブ１３Ｘ（ユニオン昭和株式会社製）を用いたこと以外は、実施例１２１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、４２×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．５×１０^−６／Ｋであった。

【0635】

（比較例１９５）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ハイシリカゼオライト（ＵＯＰ社製ＡＢＳＣＥＮＴＳ３０００）を用いたこと以外は、実施例１２１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、４１×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．０×１０^−６／Ｋであった。

【0636】

上記実施例１１８〜１２３、及び比較例１８７〜１９５の結果を以下の表４７、及び表４８に示す。

【0637】

【表47】

【0638】

【表48】

【0639】

表４７、表４８に示すように、本実施例に係る、ＭＷＦ型ゼオライトと、硬化性ポリイミド樹脂との複合体は、硬化性ポリイミド樹脂や、一般的なゼオライトであるＬＴＡ型ゼオライト、モレキュラーシーブ１３Ｘ、又はハイシリカゼオライトと硬化性ポリイミド樹脂との複合体と比較して、低い線膨張係数を有し、標準偏差が低いことから高い均一性を有することが確認された。

【0640】

（ＭＷＦ型ゼオライトと硬化性ポリウレタン樹脂との複合体の作製）
（実施例１２４）
硬化性ポリウレタン樹脂組成物（日新レジン株式会社製ＲＵ−８０）１００質量部、酢酸エチル（和光純薬工業株式会社製試薬特級）８００質量部を容器に入れ、自転・公転ミキサー（株式会社シンキー製ＡＲＥ−５００）にて、２０００ｒｐｍ１０分間混合することで、硬化性ポリウレタン樹脂組成物を調製した。合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト１質量部、前記硬化性ポリウレタン樹脂組成物８９１質量部を用い、自転・公転ミキサー（株式会社シンキー製ＡＲＥ−５００）にて、２０００ｒｐｍ１０分間混合することで、混合物を得た。該混合物を直径１００ｍｍ、高さ１００ｍｍのポリテトラフルオロエチレン容器に入れ、真空乾燥機にて、低沸点成分を除去した。真空乾燥機の条件は、以下とした。
真空乾燥機：東京理化器械株式会社製、ＶＯＳ−４５１Ｄ
真空ポンプ：アルバック機工株式会社製、小型油回転真空ポンプ ＧＣＤ−２０１Ｘ
（１）室温にて、真空乾燥機の真空バルブを全開とし、５℃／分の昇温速度で４０℃とし、５時間保持した。
（２）室温まで冷却し、真空バルブを全閉とし、窒素導入可能としたパージバルブを開け、常圧とした。
真空乾燥機から取り出したポリテトラフルオロエチレン樹脂容器を、３０℃に保持したオーブン（エスペック株式会社製ＳＰＨＨ−４０２）に入れ、８０℃まで５℃／分で昇温し、１時間保持した。その後、１５０℃まで５℃／分で昇温し、１時間保持し、室温まで冷却した。ポリテトラフルオロエチレン樹脂容器をオーブンから取り出し、直径１００ｍｍの複合体を得た。複合体を、切削加工し、長さ１０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの試験片とした。該試験片１０個を用い、線膨張係数を、熱応力歪測定装置（セイコー電子工業株式会社製ＴＭＡ／ＳＳ１５０Ｃ）にて、測定した。結果、５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、９８×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は３．４×１０^−６／Ｋであった。なお、線膨張係数を測定する際の条件は、実施例１と同様とした。

【0641】

（実施例１２５）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト１０質量部、硬化性ポリウレタン樹脂組成物８１０質量部としたこと以外は、実施例１２４と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、８９×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．８×１０^−６／Ｋであった。

【0642】

（実施例１２６）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト３０質量部、硬化性ポリウレタン樹脂組成物６３０質量部としたこと以外は、実施例１２４と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、６３×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．８×１０^−６／Ｋであった。

【0643】

（実施例１２７）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト５０質量部、硬化性ポリウレタン樹脂組成物４５０質量部としたこと以外は、実施例１２４と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、３４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．８×１０^−６／Ｋであった。

【0644】

（実施例１２８）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト７０質量部、硬化性ポリウレタン樹脂組成物２７０質量部としたこと以外は、実施例１２４と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、０／Ｋであった。また、標準偏差は０．６×１０^−６／Ｋであった。

【0645】

（実施例１２９）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト８０質量部、硬化性ポリウレタン樹脂組成物１８０質量部としたこと以外は、実施例１２４と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、７２×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．４×１０^−６／Ｋであった。

【0646】

（比較例１９６）
ＭＷＦ型ゼオライトを用いなかったこと以外は、実施例１２４と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１００×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は３．４×１０^−６／Ｋであった。

【0647】

（比較例１９７）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１２４と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、９９×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は４．０×１０^−６／Ｋであった。

【0648】

（比較例１９８）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１２５と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、９１×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は４．２×１０^−６／Ｋであった。

【0649】

（比較例１９９）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１２６と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、８３×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．５×１０^−６／Ｋであった。

【0650】

（比較例２００）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１２７と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、８０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は６．４×１０^−６／Ｋであった。

【0651】

（比較例２０１）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１２８と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、８１×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は７．４×１０^−６／Ｋであった。

【0652】

（比較例２０２）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１２９と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、９７×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は７．９×１０^−６／Ｋであった。

【0653】

（比較例２０３）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、モレキュラーシーブ１３Ｘ（ユニオン昭和株式会社製）を用いたこと以外は、実施例１２７と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、８１×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は６．１×１０^−６／Ｋであった。

【0654】

（比較例２０４）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ハイシリカゼオライト（ＵＯＰ社製ＡＢＳＣＥＮＴＳ３０００）を用いたこと以外は、実施例１２７と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、８４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は６．１×１０^−６／Ｋであった。

【0655】

上記実施例１２４〜１２９、及び比較例１９６〜２０４の結果を以下の表４９、及び表５０に示す。

【0656】

【表49】

【0657】

【表50】

【0658】

表４９、表５０に示すように、本実施例に係る、ＭＷＦ型ゼオライトと、硬化性ポリウレタン樹脂との複合体は、硬化性ポリウレタン樹脂や、一般的なゼオライトであるＬＴＡ型ゼオライト、モレキュラーシーブ１３Ｘ、又はハイシリカゼオライトと硬化性ポリウレタン樹脂との複合体と比較して、低い線膨張係数を有し、標準偏差が低いことから高い均一性を有することが確認された。

【0659】

（ＭＷＦ型ゼオライトとエチレン−ビニルアルコール共重合樹脂との複合体の作製）
（実施例１３０）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト１質量部、エチレン−ビニルアルコール共重合樹脂（日本合成化学株式会社製ソアライトＭ）９９質量部を用い、二軸押出機（東芝機械社製ＴＥＭ４８−ＳＳ）にて２２０℃２００ｒｐｍで溶融混練し、複合体を得た。得られた複合体を、シリンダー温度２２０℃、金型温度７０℃に設定した射出成形機（東芝機械社製ＥＣ７５ＮＩＩ）にて、長さ８０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの成形体を得た。成形体を切断し、長さ１０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの試験片とした。該試験片１０個を用い、線膨張係数を、熱応力歪測定装置（セイコー電子工業株式会社製ＴＭＡ／ＳＳ１５０Ｃ）にて、測定した。結果、５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、３８×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．９×１０^−６／Ｋであった。なお、線膨張係数を測定する際の条件は、実施例１と同様とした。

【0660】

（実施例１３１）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト１０質量部、エチレン−ビニルアルコール共重合樹脂（日本合成化学株式会社製ソアライトＭ）９０質量部としたこと以外は、実施例１３０と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、３３×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．４×１０^−６／Ｋであった。

【0661】

（実施例１３２）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト３０質量部、エチレン−ビニルアルコール共重合樹脂（日本合成化学株式会社製ソアライトＭ）７０質量部としたこと以外は、実施例１３０と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１７×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．７×１０^−６／Ｋであった。

【0662】

（実施例１３３）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト５０質量部、エチレン−ビニルアルコール共重合樹脂（日本合成化学株式会社製ソアライトＭ）５０質量部としたこと以外は、実施例１３０と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、−２×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．０５×１０^−６／Ｋであった。

【0663】

（実施例１３４）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト７０質量部、エチレン−ビニルアルコール共重合樹脂（日本合成化学株式会社製ソアライトＭ）３０質量部としたこと以外は、実施例１３０と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１３×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は０．９×１０^−６／Ｋであった。

【0664】

（比較例２０５）
ＭＷＦ型ゼオライトを用いなかったこと以外は、実施例１３０と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、４０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差２．０×１０^−６／Ｋであった。

【0665】

（比較例２０６）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１３０と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、４０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．２×１０^−６／Ｋであった。

【0666】

（比較例２０７）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１３１と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、３５×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．６×１０^−６／Ｋであった。

【0667】

（比較例２０８）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１３２と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、２４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は３．７×１０^−６／Ｋであった。

【0668】

（比較例２０９）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１３３と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、２２×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は４．７×１０^−６／Ｋであった。

【0669】

（比較例２１０）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１３４と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、３４×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は６．０×１０^−６／Ｋであった。

【0670】

（比較例２１１）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、モレキュラーシーブ１３Ｘ（ユニオン昭和株式会社製）を用いたこと以外は、実施例１３３と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、２３×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は４．４×１０^−６／Ｋであった。

【0671】

（比較例２１２）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ハイシリカゼオライト（ＵＯＰ社製ＡＢＳＣＥＮＴＳ３０００）を用いたこと以外は、実施例１３３と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、２２×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．０×１０^−６／Ｋであった。

【0672】

上記実施例１３０〜１３４、及び比較例２０５〜２１２の結果を以下の表５１、及び表５２に示す。

【0673】

【表51】

【0674】

【表52】

【0675】

表５１、表５２に示すように、本実施例に係る、ＭＷＦ型ゼオライトと、エチレン−ビニルアルコール共重合樹脂との複合体は、エチレン−ビニルアルコール共重合樹脂や、一般的なゼオライトであるＬＴＡ型ゼオライト、モレキュラーシーブ１３Ｘ、又はハイシリカゼオライトとエチレン−ビニルアルコール共重合樹脂との複合体と比較して、低い線膨張係数を有し、標準偏差が低いことから高い均一性を有することが確認された。

【0676】

（ＭＷＦ型ゼオライトとフッ素樹脂との複合体の作製）
（実施例１３５）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト１質量部、フッ素樹脂（アルケマ株式会社製カイナー４６０）９９質量部を用い、二軸押出機（東芝機械社製ＴＥＭ４８−ＳＳ）にて２３０℃２５０ｒｐｍで溶融混練し、複合体を得た。得られた複合体を、シリンダー温度２３０℃、金型温度７０℃に設定した射出成形機（東芝機械社製ＥＣ７５ＮＩＩ）にて、長さ８０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの成形体を得た。成形体を切断し、長さ１０ｍｍ、幅１０ｍｍ、厚さ４ｍｍの試験片とした。該試験片１０個を用い、線膨張係数を、熱応力歪測定装置（セイコー電子工業株式会社製ＴＭＡ／ＳＳ１５０Ｃ）にて、測定した。結果、５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１０６×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は３．３×１０^−６／Ｋであった。なお、線膨張係数を測定する際の条件は、実施例１と同様とした。

【0677】

（実施例１３６）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト１０質量部、フッ素樹脂（アルケマ株式会社製カイナー４６０）９０質量部としたこと以外は、実施例１３５と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、９６×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．９×１０^−６／Ｋであった。

【0678】

（実施例１３７）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト３０質量部、フッ素樹脂（アルケマ株式会社製カイナー４６０）７０質量部としたこと以外は、実施例１３５と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、７０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は２．０×１０^−６／Ｋであった。

【0679】

（実施例１３８）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト５０質量部、フッ素樹脂（アルケマ株式会社製カイナー４６０）５０質量部としたこと以外は、実施例１３５と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、３９×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．０×１０^−６／Ｋであった。

【0680】

（実施例１３９）
合成例１で得られたＭＷＦ型ゼオライト７０質量部、フッ素樹脂（アルケマ株式会社製カイナー４６０）３０質量部としたこと以外は、実施例１３５と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、３９×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は１．６×１０^−６／Ｋであった。

【0681】

（比較例２１３）
ＭＷＦ型ゼオライトを用いなかったこと以外は、実施例１３５と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１０８×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差３．６×１０^−６／Ｋであった。

【0682】

（比較例２１４）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１３５と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、１０７×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は４．２×１０^−６／Ｋであった。

【0683】

（比較例２１５）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１３６と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、９８×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は４．５×１０^−６／Ｋであった。

【0684】

（比較例２１６）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１３７と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、７７×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．３×１０^−６／Ｋであった。

【0685】

（比較例２１７）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１３８と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、６３×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．９×１０^−６／Ｋであった。

【0686】

（比較例２１８）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ＬＴＡ型ゼオライト（水澤化学株式会社製シルトンＭ）を用いたこと以外は、実施例１３９と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、６０×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は６．８×１０^−６／Ｋであった。

【0687】

（比較例２１９）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、モレキュラーシーブ１３Ｘ（ユニオン昭和株式会社製）を用いたこと以外は、実施例１３８と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、６１×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は５．６×１０^−６／Ｋであった。

【0688】

（比較例２２０）
ＭＷＦ型ゼオライトに変えて、ハイシリカゼオライト（ＵＯＰ社製ＡＢＳＣＥＮＴＳ３０００）を用いたこと以外は、実施例１３８と同様に実施した。得られた試験片の５０〜７０℃での線膨張係数の平均は、６６×１０^−６／Ｋであった。また、標準偏差は６．２×１０^−６／Ｋであった。

【0689】

上記実施例１３５〜１３９、及び比較例２１３〜２２０の結果を以下の表５３、及び表５４に示す。

【0690】

【表53】

【0691】

【表54】

【0692】

表５３、表５４に示すように、本実施例に係る、ＭＷＦ型ゼオライトと、フッ素樹脂との複合体は、フッ素樹脂や、一般的なゼオライトであるＬＴＡ型ゼオライト、モレキュラーシーブ１３Ｘ、又はハイシリカゼオライトとフッ素樹脂との複合体と比較して、低い線膨張係数を有し、標準偏差が低いことから高い均一性を有することが確認された。

【産業上の利用可能性】

【0693】

本発明のＭＷＦ型ゼオライトと樹脂とを含む複合体は、食品包装材料、及び医療包装材料（単層フィルム、ラミネートフィルム、積層フィルム、臭気バリア材、抗菌性フィルム等）、緩衝材、断熱材、電子材料（碍子類、交流変圧器、開閉機器等の注型及び回路ユニット、各種部品のパッケージ、ＩＣ・ＬＥＤ・半導体・有機ＥＬの周辺材料［封止材、レンズ材、基板材、ダイボンド材、接着フィルム、チップコート材、積層板、光ファイバー、光導波路、光フィルター、電子部品用の接着剤、コート材、シール材、絶縁材、フォトレジスト、エンキャップ材、ポッティング材、光ディスクの光透過層や層間絶縁層、導光板、反射防止膜等］、発電器、モーター等の回転機コイル、巻線含浸、プリント配線基板、積層板、絶縁ボード、中型碍子類、コイル類、コネクター、ターミナル、各種ケース類、電気部品類、フレキシブルプリント基板等の基板フィルム、センサ、画像形成装置等）、電池材料（蓄電池の電極又はその被覆保護材、二次電池用多孔膜、二次電池用セパレータ、二次電池用吸着剤、燃料電池の部材（固体高分子電解質、固体高分子ゲル膜、固体高分子電解質膜）、電池素子外装材、電池パック等）、塗料（防蝕塗料、メンテナンス、船舶塗装、耐蝕ライニング、自動車・家電製品用プライマー、飲料・ビール缶、外面ラッカー、押出チューブ塗装、一般防蝕塗装、メンテナンス途装、木工製品用ラッカー、自動車用電着プライマー、その他工業用電着塗装、飲料・ビール缶内面ラッカー、コイルコーティング、ドラム・缶内面塗装、耐酸ライニング、ワイヤーエナメル、絶縁塗料、自動車用プライマー、各種金属製品の美装兼防蝕塗装、パイプ内外面塗装、電気部品絶縁塗装、抗菌性塗料等）、複合材料（化学プラント用パイプ・タンク類、航空機材、自動車部材、各種スポーツ用品、炭素繊維複合材料、アラミド繊維複合材料等）、土木建築材料（床材、舗装材、メンブレン、滑り止め兼薄層舗装、コンクリート打ち継ぎ・かさ上げ、アンカー埋め込み接着、プレキャストコンクリート接合、タイル接着、コンクリート構造物の亀裂補修、台座のグラウト・レベリング、上下水道施設の防蝕・防水塗装、タンク類の耐蝕積層ライニング、鉄構造物の防蝕塗装、建築物外壁のマスチック塗装等）、接着剤（金属・ガラス・陶磁器・セメントコンクリート・木材・プラスチック等の同種又は異種材質の接着剤、自動車・鉄道車両・航空機等の組み立て用接着剤、プレハブ用複合パネル製造用接着剤等：一液型、二液型、シートタイプを含む。）、人工土壌等）、航空機・自動車・プラスチック成形の治工具（プレス型、ストレッチドダイ、マッチドダイ等樹脂型、真空成形・ブロー成型用モールド、マスターモデル、鋳物用パターン、積層治工具、各種検査用治工具等）、改質剤・安定剤（繊維の樹脂加工、ポリ塩化ビニル用安定剤、合成ゴムへの添加剤、土壌改質剤、洗浄剤改質剤等）、ゴムの改質剤、イオン交換体、吸着材、洗浄剤として産業上利用の可能性を有する。