特許 6896675 表示装置及び表示装置の製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6896675

(24)【登録日】2021年6月11日

(45)【発行日】2021年6月30日

(54)【発明の名称】表示装置及び表示装置の製造方法

(51)【国際特許分類】

   G02F 1/1335 20060101AFI20210621BHJP

   G02F 1/1339 20060101ALI20210621BHJP

【ＦＩ】

   G02F1/1335 505

   G02F1/1339 500

【請求項の数】8

【全頁数】25

(21)【出願番号】特願2018-69396(P2018-69396)

(22)【出願日】2018年3月30日

(65)【公開番号】特開2019-179196(P2019-179196A)

(43)【公開日】2019年10月17日

【審査請求日】2019年12月23日

(73)【特許権者】

【識別番号】506087819

【氏名又は名称】パナソニック液晶ディスプレイ株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110000154

【氏名又は名称】特許業務法人はるか国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】壬生 隆

(72)【発明者】

【氏名】中川 照久

【審査官】 横井 亜矢子

(56)【参考文献】

【文献】 特開平０４−３１８８１６（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１６−０３１５１３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００９−１５０９１６（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００６−０２３７３３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 米国特許出願公開第２００５／０００７５２５（ＵＳ，Ａ１）

【文献】 中国実用新案第２０３１６４５６２（ＣＮ，Ｕ）

【文献】 特開２００４−３１７６１９（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｇ０２Ｆ １／１３３，１／１３３３，１／１３３４

Ｇ０２Ｆ １／１３３９−１／１３４１，１／１３４７

Ｇ０２Ｆ １／１３３５，１／１３３６３

Ｇ０２Ｂ ５／２０−５／２８

Ｇ０９Ｆ ９／００，９／３０−９／４６

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

薄膜トランジスタ基板と、
前記薄膜トランジスタ基板と対向するよう配置された対向基板と、
前記対向基板から、前記薄膜トランジスタ基板側に突出する複数のスペーサと、
を含む表示装置であって、
前記対向基板は、
第１の開口部と、第１の方向において前記第１の開口部と隣接する第２の開口部と、前記第１の方向とは異なる第２の方向において前記第１の開口部と並んで配置される第３の開口部と、前記第１の方向において前記第３の開口部と隣接するとともに前記第２の方向において前記第２の開口部と並んで配置される第４の開口部と、を有するブラックマトリクスと、
前記第１の開口部、及び前記第２の開口部と平面視で重畳して配置された、第１の色の第１のカラーフィルタと、
前記第３の開口部、及び前記第４の開口部と平面視で重畳して配置された、第２の色の第２のカラーフィルタを更に含み、
前記第１の開口部と前記第２の開口部との間、及び、前記第３の開口部と前記第４の開口部との間の少なくとも一部と平面視で重畳して配置された、第３の色の第３のカラーフィルタと、
を含み、
前記複数のスペーサは、
通常状態で、前記薄膜トランジスタ基板の台座と接触するよう配置される複数のメインスペーサと、
通常状態で、前記薄膜トランジスタ基板の台座と距離をあけて配置される複数のサブスペーサと、
を含み、
前記複数のサブスペーサに含まれる第１のサブスペーサが、前記第１の開口部と前記第２の開口部との間において、前記第３のカラーフィルタと平面視で完全に重畳し、
前記複数のサブスペーサに含まれる第２のサブスペーサが、前記第３の開口部と前記第４の開口部との間において、前記第３のカラーフィルタと平面視で完全に重畳する、
表示装置。

【請求項2】

前記第３の開口部は、前記第２の方向において前記第１の開口部と隣接し、
前記第４の開口部は、前記第２の方向において前記第２の開口部と隣接している、
請求項１に記載の表示装置。

【請求項3】

前記ブラックマトリクスは、
前記第１の方向において互いに隣接する第５の開口部、及び第６の開口部を更に含み、
前記第３のカラーフィルタが、前記第５の開口部、前記第６の開口部、及び前記第５の開口部と前記第６の開口部との間の少なくとも一部と平面視で重畳して配置され、
前記複数のサブスペーサに含まれる第３のサブスペーサが、前記第５の開口部と前記第６の開口部との間において、前記第３のカラーフィルタと平面視で重畳して配置された、
請求項１に記載の表示装置。

【請求項4】

前記第２の方向において、前記第５の開口部と前記第１の開口部が隣接し、
前記第３のカラーフィルタが、前記第５の開口部と前記第１の開口部との間の少なくとも一部と平面視で重畳して配置され、
前記複数のサブスペーサに含まれる第４のサブスペーサが、前記第５の開口部と前記第１の開口部との間において、前記第３のカラーフィルタと平面視で重畳して配置された、
請求項３に記載の表示装置。

【請求項5】

前記第２の方向において、前記第１の開口部と前記第３の開口部が隣接し、
前記第２の方向における、前記第１の開口部と前記第５の開口部との距離が、
前記第２の方向における、前記第１の開口部と前記第３の開口部との距離よりも大きい、
請求項４に記載の表示装置。

【請求項6】

前記第１のカラーフィルタが、前記第１の開口部と前記第２の開口部との間において、前記第３のカラーフィルタと平面視で重畳して配置され、
前記第１のサブスペーサが、前記第１の開口部と前記第２の開口部との間において、前記第１のカラーフィルタ、及び前記第３のカラーフィルタと平面視で重畳して配置された、
請求項１に記載の表示装置。

【請求項7】

前記第２のカラーフィルタが、前記第１の開口部と前記第２の開口部との間において、前記第３のカラーフィルタと平面視で重畳して配置され、
前記第１のサブスペーサが、前記第１の開口部と前記第２の開口部との間において、前記第２のカラーフィルタ、及び前記第３のカラーフィルタと平面視で重畳して配置された、
請求項１に記載の表示装置。

【請求項8】

前記ブラックマトリクスは、
前記第１の方向において互いに隣接する第５の開口部、及び第６の開口部を更に含み、
前記第３のカラーフィルタが、前記第５の開口部、及び前記第６の開口部と平面視で重畳して配置され、
前記第１のカラーフィルタが、前記第５の開口部と前記第６の開口部との間の少なくとも一部と平面視で重畳して配置され、
前記複数のサブスペーサに含まれる第３のサブスペーサが、前記第５の開口部と前記第６の開口部との間において、前記第１のカラーフィルタと平面視で重畳して配置された、
請求項１に記載の表示装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、表示装置及び表示装置の製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

下記特許文献においては、薄膜トランジスタ基板と、薄膜トランジスタ基板の表示面側において、薄膜トランジスタ基板と対向するように配置された対向基板と、を含む表示装置が開示されている。対向基板には複数の開口部を有するブラックマトリクスと、当該開口部と平面視で重畳するよう配置された複数のカラーフィルタが含まれており、当該複数のカラーフィルタは、例えばストライプ状に配置されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０１４−１１９７５４号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

上記従来の構成では、表示パネルの表示面内において、当該表示面と直交する方向からの外力に対する耐性にばらつきが生じることが課題となっていた。即ち、上記従来の構成において、対向基板から薄膜トランジスタ基板側に突出する複数のスペーサを含み、ブラックマトリクス上における各カラーフィルタの厚みが異なる場合、異なるカラーフィルタに平面視で重畳するよう配置された各スペーサと、薄膜トランジスタ基板との距離が不均一となってしまう。そのため、表示パネルにおける表示面内において、当該表示面と直交する方向からの外力に対する耐性にばらつきが生じることが課題となっていた。

【0005】

本開示は、対向基板から薄膜トランジスタ基板側に突出する複数のスペーサを含む表示装置において、表示面と直交する方向からの外力に対する耐性にばらつきが生じるのを抑制することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本開示に係る表示装置は、薄膜トランジスタ基板と、前記薄膜トランジスタ基板と対向するよう配置された対向基板と、前記対向基板から、前記薄膜トランジスタ基板側に突出する複数のスペーサと、を含む表示装置であって、前記対向基板は、第１の方向において互いに隣接する第１の開口部、第２の開口部を有するブラックマトリクスと、前記第１の開口部、前記第２の開口部と平面視で重畳して配置された、第１の色の第１のカラーフィルタと、前記第１の開口部と前記第２の開口部との間の少なくとも一部と平面視で重畳して配置された、第２の色の第２のカラーフィルタと、を含み、前記複数のスペーサに含まれる第１のスペーサが、前記第１の開口部と前記第２の開口部との間において、前記第２のカラーフィルタと平面視で重畳する。

【0007】

本開示に係る表示装置の製造方法は、薄膜トランジスタ基板を準備する工程と、前記薄膜トランジスタ基板と対向するよう配置された対向基板を形成する工程と、を含む表示装置の製造方法であって、前記対向基板を形成する工程は、透光性基板の第１の主面上に、第１の開口部と、前記第１の開口部と隣接する第２の開口部と、を有するブラックマトリクスを形成する工程と、前記透光性基板の前記第１の主面側全体に、第２の色の第２のカラーフィルタ前駆体を形成する工程と、前記第１の開口部と前記第２の開口部との間の少なくとも一部の領域における前記第２のカラーフィルタ前駆体を残し、前記第１の開口部、及び前記第２の開口部から前記第２のカラーフィルタ前駆体を除去する第１のエッチング工程と、前記透光性基板の前記第１の主面側全体に前記第２の色とは異なる色のカラーフィルタ前駆体を形成する工程と、前記第１の開口部、及び前記第２の開口部に形成された前記第２の色とは異なる色の前記カラーフィルタ前駆体が残るように、前記第２の色とは異なる色の前記カラーフィルタ前駆体をエッチングする第２のエッチング工程と、を順次行う。

【発明の効果】

【0008】

本開示に係る表示装置の構成によれば、表示面と直交する方向からの外力に対する耐性にばらつきが生じるのを抑制することができる。

【図面の簡単な説明】

【0009】

【図1】図１は本開示に係る表示装置の部分的な断面図である。

【図2】図２は第１の実施形態における対向基板に含まれるブラックマトリクスを示す平面図である。

【図3】図３は第１の実施形態に係る表示装置におけるブラックマトリクスにカラーフィルタ及びスペーサが重畳配置された構成を示す平面図である。

【図4】図４は図３のＡ−Ａ線における断面を示す断面図である。

【図5】図５は第１の実施形態の他の実施例に係る表示装置におけるブラックマトリクスにカラーフィルタ及びスペーサが重畳配置された構成を示す平面図である。

【図6】図６は第１の実施形態の他の実施例に係る表示装置の断面図である。

【図7】図７は第１の実施形態の他の実施例に係る表示装置の断面図である。

【図8】図８は第１の実施形態の他の実施例に係る表示装置におけるブラックマトリクスにカラーフィルタ及びスペーサが重畳配置された構成を示す平面図である。

【図9】図９は第１の実施形態の他の実施例に係る表示装置の断面図である。

【図10】図１０は第１の実施形態の対向基板の形成工程を示すフローチャート図である。

【図11】図１１は第１の実施形態の表示装置の製造方法を示す平面図である。

【図12】図１２は第１の実施形態の表示装置の製造方法を示す平面図である。

【図13】図１３は第１の実施形態の表示装置の製造方法を示す平面図である。

【図14】図１４は第１の実施形態の表示装置の製造方法を示す平面図である。

【図15】図１５は第１の実施形態の表示装置の製造方法を示す平面図である。

【図16】図１６は第２の実施形態における対向基板に含まれるブラックマトリクスを示す平面図である。

【図17】図１７は第２の実施形態に係る表示装置におけるブラックマトリクスにカラーフィルタ及びスペーサが重畳配置された構成を示す平面図である。

【図18】図１８は図１７のＢ−Ｂ線における断面を示す断面図である。

【図19】図１９は第２の実施形態の他の実施例に係る表示装置におけるブラックマトリクスにカラーフィルタ及びスペーサが重畳配置された構成を示す平面図である。

【図20】図２０は第２の実施形態の他の実施例に係る表示装置の断面図である。

【図21】図２１は第２の実施形態の他の実施例に係る表示装置の断面図である。

【図22】図２２は第２の実施形態の他の実施例に係る表示装置におけるブラックマトリクスにカラーフィルタ及びスペーサが重畳配置された構成を示す平面図である。

【図23】図２３は第２の実施形態の対向基板の形成工程を示すフローチャート図である。

【図24】図２４は第２の実施形態の表示装置の製造方法を示す平面図である。

【図25】図２５は第２の実施形態の表示装置の製造方法を示す平面図である。

【図26】図２６は第２の実施形態の表示装置の製造方法を示す平面図である。

【図27】図２７は第２の実施形態の表示装置の製造方法を示す平面図である。

【図28】図２８は第２の実施形態の表示装置の製造方法を示す平面図である。

【発明を実施するための形態】

【0010】

本開示の表示装置１００について、図面を用いて以下に説明する。以下では、液晶表示装置を例に挙げるが、本開示に係る表示装置１００は、液晶表示装置に限定されるものではなく、例えば有機ＥＬ（エレクトロルミネセンス）表示装置等であってもよい。また、以下では、液晶表示装置の複数の形態について説明する。各実施形態において共通する構成部材及び機能については適宜説明を省略する。

【0011】

図１は、本開示における表示装置の部分的な断面図である。本開示において、表示装置１００は、薄膜トランジスタ基板２３０と、この薄膜トランジスタ基板２３０に対向する対向基板２４０とを有し、薄膜トランジスタ基板２３０と対向基板２４０との間には、液晶層２５０が配置されている。対向基板２４０の背面側には、薄膜トランジスタ基板２３０側に突出するスペーサ６０を複数有する構成としている。当該スペーサ６０には、通常状態で、薄膜トランジスタ基板２３０の表示面側に設けられた台座６２と接触するよう配置され、表示面内における薄膜トランジスタ基板２３０と対向基板２４０との距離を一定に保つ役割を果たすメインスペーサ６０Ａ（図３参照）と、台座６２と距離をあけて配置され、表示面と直交する方向からの外力の押圧荷重時に、当該荷重押圧を緩衝する役割を果たすサブスペーサ６０Ｂ（図３参照）と、が含まれる。したがって、対向基板２４０からメインスペーサ６０Ａの頂点までの高さは、対向基板２４０からサブスペーサ６０Ｂの頂点までの高さと比べて、高い。なお、スペーサ６０は、例えば樹脂などからなる絶縁膜により形成することができ、台座６２は、例えば島状の半導体膜や、金属膜を用いて構成することができる。

【0012】

［第１の実施形態］
以下、図面を用いて、本開示の第１の実施形態に係る表示装置１００について説明する。図２は、第１の実施形態における対向基板２４０に含まれるブラックマトリクスＢＭを示す平面図である。図２に示すように、ブラックマトリクスＢＭは、第１の方向、及び第１の方向に交差する第２の方向に配列された複数の開口部ＢＭＡを有している。この一つの開口部ＢＭＡが、一つの画素領域に対応し、一つの画素領域は、この開口部ＢＭＡと、開口部ＢＭＡに配置された、後述するカラーフィルタＣＦと、を含んでいる。

【0013】

本実施形態においては、ブラックマトリクスＢＭは、第１の方向において互いに隣接する第１の開口部ＢＭＡ１、第２の開口部ＢＭＡ２と、第１の方向において互いに隣接する第３の開口部ＢＭＡ３、第４の開口部ＢＭＡ４と、第１の方向において互いに隣接する第５の開口部ＢＭＡ５、第６の開口部ＢＭＡ６と、を有する。

【0014】

対向基板２４０は、ブラックマトリクスＢＭに重畳して配置されたカラーフィルタＣＦを有する。図３は、上述したブラックマトリクスＢＭに、カラーフィルタＣＦ及びスペーサ６０が重畳配置された構成を示す平面図である。図３に示すように、ブラックマトリクスＢＭの各開口部ＢＭＡには、それぞれカラーフィルタＣＦが重畳配置されており、カラーフィルタＣＦの色に応じて、各画素領域における表示色を異ならせることが可能となる。

【0015】

本実施形態においては、第１の色（例えば赤色）の第１のカラーフィルタＣＦ１が、第１の開口部ＢＭＡ１、第２の開口部ＢＭＡ２と平面視で重畳して配置されている。そして、互いに隣接する第１の開口部ＢＭＡ１と第２の開口部ＢＭＡ２との間の少なくとも一部と平面視で重畳されるように、第２の色（例えば青色）の第２のカラーフィルタＣＦ２が配置されており、この第１の開口部ＢＭＡ１と第２の開口部ＢＭＡ２との間において、第２のカラーフィルタＣＦ２と平面視で重畳するように、第１のサブスペーサ６０Ｂ１が配置されている。

【0016】

また、第３の色（例えば緑色）の第３のカラーフィルタＣＦ３が、第３の開口部ＢＭＡ３、第４の開口部ＢＭＡ４と平面視で重畳して配置されている。そして、互いに隣接する第３の開口部ＢＭＡ３と第４の開口部ＢＭＡ４との間の少なくとも一部と平面視で重畳されるように、第２のカラーフィルタＣＦ２が配置されており、この第３の開口部ＢＭＡ３と第４の開口部ＢＭＡ４との間において、第２のカラーフィルタＣＦ２と平面視で重畳するように、第２のサブスペーサ６０Ｂ２が配置されている。

【0017】

そして、第２のカラーフィルタＣＦ２が、第５の開口部ＢＭＡ５、第６の開口部ＢＭＡ６、及び第５の開口部ＢＭＡ５と第６の開口部ＢＭＡ６との間の少なくとも一部と、平面視で重畳して配置されている。そして、第５の開口部ＢＭＡ５と第６の開口部ＢＭＡ６との間において、第２のカラーフィルタＣＦ２と平面視で重畳するように、第３のサブスペーサ６０Ｂ３が配置されている。

【0018】

上述した構成とすることにより、表示パネルの表示面内において、当該表示面と直交する方向からの外力に対する耐性にばらつきが生じることを抑制することができる。即ち、図３に示したＡ−Ａ線における断面を示す断面図である図４に示すように、第１のサブスペーサ６０Ｂ１、第２のサブスペーサ６０Ｂ２、及び第３のサブスペーサ６０Ｂ３が、すべて第２のカラーフィルタＣＦ２と平面視で重畳するように配置されているため、各サブスペーサ６０Ｂと、薄膜トランジスタ基板２３０との距離を均一とすることができる。その結果として、表示パネルにおける表示面内において、当該表示面と直交する方向からの外力に対する耐性にばらつきが生じることを抑制することができる。なお、図４に示すように、カラーフィルタＣＦと各サブスペーサ６０Ｂとの間には、平坦化膜６４を介在させる構成としてもよい。

【0019】

なお、図２、図３、及び図４を用いて示した例では、ブラックマトリクスＢＭが有する開口部ＢＭＡが、第２の方向において、ほぼ等間隔に配置される例を示したが、例えば図５に示すように、第２の方向において、互いに隣接する第１の開口部ＢＭＡ１と第５の開口部ＢＭＡ５との距離が、第２の方向において、互いに隣接する第１の開口部ＢＭＡ１と第３の開口部ＢＭＡ３との距離よりも大きい構成としてもよい。その場合、第２のカラーフィルタＣＦ２を、第１の開口部ＢＭＡ１と第５の開口部ＢＭＡ５との間の少なくとも一部と平面視で重畳するよう配置し、この第１の開口部ＢＭＡ１と第５の開口部ＢＭＡ５との間において、第２のカラーフィルタＣＦ２と平面視で重畳されるように、第４のサブスペーサ６０Ｂ４を配置する構成としてもよい。

【0020】

例えば、薄膜トランジスタ基板２３０が、第１の方向に延伸する複数のソース線と、第２の方向に延伸する複数のゲート線を有する場合、各ソース線は、第２の方向に隣り合う二つ開口部ＢＭＡ間を横切り、各ゲート線は、第１の方向に隣り合う二つの開口部ＢＭＡ間を横切る。更に、薄膜トランジスタ基板２３０が、各ゲート線に電気的に接続され、第１の方向に延伸するゲート引出線を有する場合、このゲート引出線は、第２の方向に隣り合う二つ開口部ＢＭＡ間を横切ることとなる。その場合、このゲート引出線とソース線が配置される二つの開口部ＢＭＡ間は、ソース線のみが配置される二つの開口部ＢＭＡ間よりも大きな面積が必要になる。そのため、図５に示した例においては、第１の開口部ＢＭＡ１と第３の開口部ＢＭＡ３との間よりも大きな距離を有する第１の開口部ＢＭＡ１と第５の開口部ＢＭＡ５との間に、ゲート引出線を配置する構成とすることが望ましい。

【0021】

なお、図３、図４、及び図５を用いて示した例では、第２のカラーフィルタＣＦ２が、各サブスペーサ６０Ｂと平面視で重畳される例を示したが、第１のカラーフィルタＣＦ１が、各サブスペーサ６０Ｂと平面視で重畳される構成としてもよく、第３のカラーフィルタＣＦ３が、各サブスペーサ６０Ｂと平面視で重畳される構成としてもよい。

【0022】

さらには、複数のカラーフィルタＣＦの積層部が、各サブスペーサ６０Ｂと平面視で重畳される構成としてもよい。例えば、図３に示したＡ−Ａ線に対応し、本実施形態における他の実施例を示す断面図である図６に示すように、第１の方向に互いに隣接する複数の開口部ＢＭＡ間（例えば、第１の開口部ＢＭＡ１と第２の開口部ＢＭＡ２との間）において、第１のカラーフィルタＣＦ１と第２のカラーフィルタＣＦ２とを重畳して配置し、第１の方向に互いに隣接する複数の開口部ＢＭＡ間において、各サブスペーサ６０Ｂ（例えば、第１のサブスペーサ６０Ｂ１）が、第１のカラーフィルタＣＦ１と第２のカラーフィルタＣＦ２の積層部と、平面視で重畳するよう配置される構成としてもよい。

【0023】

同様に、図７に示すように、第１の方向に互いに隣接する複数の開口部ＢＭＡ間（例えば、第１の開口部ＢＭＡ１と第２の開口部ＢＭＡ２との間）において、第２のカラーフィルタＣＦ２と第３のカラーフィルタＣＦ３とを重畳して配置し、第１の方向に互いに隣接する複数の開口部ＢＭＡ間において、各サブスペーサ６０Ｂ（例えば、第１のサブスペーサ６０Ｂ１）が、第２のカラーフィルタＣＦ２と第３のカラーフィルタＣＦ３の積層部と、平面視で重畳するよう配置される構成としてもよい。

【0024】

なお、上述した例においては、各サブスペーサ６０Ｂが、第２のカラーフィルタＣＦ２と重畳する構成を説明したが、サブスペーサ６０Ｂと同じ厚みを有するスペーサ６０を、メインスペーサ６０Ａとして機能させたい部分に、あえて第２のカラーフィルタＣＦ２とは異なる色のカラーフィルタＣＦを配置する構成としてもよい。例えば、図８、図９に示す構成においては、第１の方向に互いに隣接する第５の開口部ＢＭＡ５と第６の開口部ＢＭＡ６との間の一部に、第１のカラーフィルタＣＦ１を配置し、この第１のカラーフィルタＣＦ１と平面視で重畳するように、サブスペーサ６０Ｂと同じ厚みを有するメインスペーサ６０Ａを配置している。ブラックマトリクスＢＭ上における第１のカラーフィルタＣＦ１の厚みが、第２のカラーフィルタＣＦ２の厚みより大きい場合、メインスペーサ６０Ａとして、サブスペーサ６０Ｂと同じ構造のものを用いても、ブラックマトリクスＢＭからメインスペーサ６０Ａの頂点までの高さが、ブラックマトリクスＢＭからサブスペーサ６０Ｂの頂点までの高さよりも高くなる。そのため、サブスペーサ６０Ｂと同じ厚みを有するスペーサ６０を、メインスペーサ６０Ａとして機能させることが可能となる。

【0025】

なお、図８、９に示す例においては、第５の開口部ＢＭＡ５と第６の開口部ＢＭＡ６との間に配置されたスペーサ６０をメインスペーサ６０Ａとして機能させる例を示したが、他の位置に配置されたスペーサ６０をメインスペーサ６０Ａとして機能させる構成としてもよい。また、図８、９に示す例においては、メインスペーサ６０Ａと第１のカラーフィルタＣＦ１とを平面視で重畳させる構成としたが、ブラックマトリクスＢＭ上における第３のカラーフィルタＣＦ３の厚みが、第２のカラーフィルタＣＦ２の厚みより大きい場合には、メインスペーサ６０Ａと第３のカラーフィルタＣＦ３とを平面視で重畳させてもよい。さらには、メインスペーサ６０Ａと重畳するカラーフィルタＣＦのみ２層構造（例えば、第１のカラーフィルタＣＦ１と第２のカラーフィルタＣＦ２等）とし、ブラックマトリクスＢＭからのメインスペーサ６０Ａの高さをサブスペーサ６０Ｂの高さよりも高くする構成としてもよい。

【0026】

なお、図１に示した薄膜トランジスタ基板２３０、及び液晶層２５０には、周知の構成を用いることができるため、その説明を省略する。

【0027】

［表示装置の製造方法］
以下、図面を用いて、本開示の第１の実施形態に係る表示装置の製造方法について説明する。本実施形態における表示装置１００の製造方法は、図１に示した薄膜トランジスタ基板２３０を準備する工程と、薄膜トランジスタ基板２３０と対向するよう配置される対向基板２４０を形成する工程と、を含む。薄膜トランジスタ基板２３０を準備する工程については、周知の製造方法を用いることができるため、その説明を省略する。本実施形態においては、対向基板２４０を形成する工程に特徴があるため、当該工程について、以下説明する。

【0028】

図１０は、本実施形態の対向基板の形成工程を示すフローチャート図である。図１０に示すように、本実施形態の対向基板の形成工程には、ブラックマトリクス形成工程Ｓ０１０、第２のカラーフィルタ形成工程Ｓ０２０、異なる色のカラーフィルタ形成工程Ｓ０３０、第１のカラーフィルタ形成工程Ｓ０４０、第３のカラーフィルタ形成工程Ｓ０５０、平坦化膜形成工程Ｓ０６０、スペーサ形成工程Ｓ０７０が含まれている。

【0029】

［ブラックマトリクス形成工程Ｓ０１０］
ブラックマトリクス形成工程Ｓ０１０においては、対向基板に含まれるガラス基板などの透光性基板の第１の主面上全体に、黒色系の樹脂からなるレジストを塗布し、露光、現像工程を伴うフォトリソグラフィ法により、図２に示したようなブラックマトリクスＢＭを製造する。レジスト材料としては、ネガ型、ポジ型を問わず、露光、現像工程を経て、図２に示したような、複数の開口部ＢＭＡを形成することができればよい。

【0030】

本実施形態においては、透光性基板の第１の主面上に、図２に示したような、第１の方向に互いに隣接する第１の開口部ＢＭＡ１と第２の開口部ＢＭＡ２とを有するブラックマトリクスＢＭを形成する。また、本実施形態においては、ブラックマトリクスＢＭが、図２に示したような、第１の方向に互いに隣接する第３の開口部ＢＭＡ３と第４の開口部ＢＭＡ４とを有する構成としておく。

【0031】

［第２のカラーフィルタ形成工程Ｓ０２０］
次に、第２のカラーフィルタ形成工程Ｓ０２０を行う。第２のカラーフィルタ形成工程Ｓ０２０は、第２の色（例えば青色）の第２のカラーフィルタ前駆体を形成する前駆体形成工程Ｓ０２１と、第２のカラーフィルタ前駆体の一部を除去する第１のエッチング工程Ｓ０２２と、を含む。

【0032】

前駆体形成工程Ｓ０２１では、図１１に示すように、透光性基板の第１の主面側全体に、第２のカラーフィルタ前駆体ＣＦＰ２として、顔料をベースとした第２の色のカラーレジストを塗布する。この工程において、第２の色のカラーレジストは、上述した開口部ＢＭＡを有するブラックマトリクスＢＭの表面全体を覆う。

【0033】

次に、第１のエッチング工程Ｓ０２２では、露光、現像工程を伴うフォトリソグラフィ法により、図１２に示すように、第１の開口部ＢＭＡ１と第２の開口部ＢＭＡ２との間の少なくとも一部の領域における、第２のカラーフィルタ前駆体ＣＦＰ２を残し、第１の開口部ＢＭＡ１、第２の開口部ＢＭＡ２から第２のカラーフィルタ前駆体ＣＦＰ２を除去する。なお、本実施形態においては、ブラックマトリクスＢＭに形成しておいた、第３の開口部ＢＭＡ３及び第４の開口部ＢＭＡ４からも、上述した第２のカラーフィルタ前駆体ＣＦＰ２を除去する。

【0034】

上述した前駆体形成工程Ｓ０２１と、第１のエッチング工程Ｓ０２２と、を経て、図１２に示すような、第２のカラーフィルタＣＦ２を形成することができる。なお、カラーレジスト材料としては、ネガ型、ポジ型を問わず、露光、現像工程を経て、図１２に示したような、第２のカラーフィルタＣＦ２を形成することができればよい。

【0035】

［異なる色のカラーフィルタ形成工程Ｓ０３０］
次に、透光性基板の第１の主面側全体に第２の色とは異なる色のカラーフィルタを形成する工程Ｓ０３０を行う。異なる色のカラーフィルタ形成工程Ｓ０３０は、透光性基板の第１の主面側全体に、第２の色とは異なる色のカラーフィルタ前駆体を形成する工程と、第１の開口部ＢＭＡ１と第２の開口部ＢＭＡ２に形成された第２の色とは異なる色の前記カラーフィルタ前駆体が残るように、第２の色とは異なる色のカラーフィルタ前駆体をエッチングする第２のエッチング工程と、を含む。

【0036】

本実施形態においては、第２の色とは異なる色のカラーフィルタを形成する工程Ｓ０３０が、第１の色（例えば赤色）の第１のカラーフィルタ形成工程Ｓ０４０と、第３の色（例えば緑色）の第３のカラーフィルタ形成工程Ｓ０５０と、を含む。なお、この第１のカラーフィルタ形成工程Ｓ０４０と、第３のカラーフィルタ形成工程Ｓ０５０との順序関係は問わない。

【0037】

第１のカラーフィルタ形成工程Ｓ０４０は、第１のカラーフィルタ前駆体を形成する前駆体形成工程Ｓ０４１と、第１のカラーフィルタ前駆体の一部を除去するエッチング工程Ｓ０４２と、を含む。第１のカラーフィルタ前駆体を形成する前駆体形成工程Ｓ０４１は、上述した第２の色とは異なる色のカラーフィルタ前駆体を形成する工程の一部であり、第１のカラーフィルタ前駆体の一部を除去するエッチング工程Ｓ０４２は、上述した第２のエッチング工程の一部である。

【0038】

前駆体形成工程Ｓ０４１では、図１３に示すように、透光性基板の第１の主面側全体に、第１のカラーフィルタ前駆体ＣＦＰ１として、顔料をベースとした第１の色のカラーレジストを塗布する。この工程において、第１のカラーレジストは、上述した開口部ＢＭＡを有するブラックマトリクスＢＭ、及び第２のカラーフィルタＣＦ２の表面全体を覆う。

【0039】

次に、エッチング工程Ｓ０４２では、露光、現像工程を伴うフォトリソグラフィ法により、図１４に示すように、第１の開口部ＢＭＡ１と第２の開口部ＢＭＡ２とに形成された、第１のカラーフィルタ前駆体ＣＦＰ１が残るように、第１のカラーフィルタ前駆体ＣＦＰ１をエッチングする。なお、他の開口部ＢＭＡにおいて、第１の色の画素に対応する開口部ＢＭＡがあれば、当該開口部ＢＭＡに形成された第１のカラーフィルタ前駆体ＣＦＰ１を残しておいてもよい。

【0040】

上述した前駆体形成工程Ｓ０４１と、エッチング工程Ｓ０４２と、を経て、図１４に示すような、第１のカラーフィルタＣＦ１を形成することができる。なお、カラーレジスト材料としては、ネガ型、ポジ型を問わず、露光、現像工程を経て、図１４に示したような、第１のカラーフィルタＣＦ１を形成することができればよい。

【0041】

第３のカラーフィルタ形成工程Ｓ０５０は、第３のカラーフィルタ前駆体を形成する前駆体形成工程Ｓ０５１と、第３のカラーフィルタ前駆体の一部を除去するエッチング工程Ｓ０５２と、を含む。第３のカラーフィルタ前駆体を形成する前駆体形成工程Ｓ０５１は、上述した第２の色とは異なる色のカラーフィルタ前駆体を形成する工程の一部であり、第３のカラーフィルタ前駆体の一部を除去するエッチング工程Ｓ０５２は、上述した第２のエッチング工程の一部である。

【0042】

前駆体形成工程Ｓ０５１では、図１５に示すように、透光性基板の第１の主面側全体に、第３のカラーフィルタ前駆体ＣＦＰ３として、顔料をベースとした第３の色のカラーレジストを塗布する。この工程において、第３のカラーレジストは、上述した開口部ＢＭＡを有するブラックマトリクスＢＭ、第２のカラーフィルタＣＦ２、及び第１のカラーフィルタＣＦ１の表面全体を覆う。

【0043】

次に、エッチング工程Ｓ０５２では、露光、現像工程を伴うフォトリソグラフィ法により、図３に示したように、第３の開口部ＢＭＡ３と第４の開口部ＢＭＡ４とに形成された、第３のカラーフィルタ前駆体ＣＦＰ３が残るように、第３のカラーフィルタ前駆体ＣＦＰ３をエッチングする。なお、他の開口部ＢＭＡにおいて、第３の色の画素に対応する開口部ＢＭＡがあれば、当該開口部ＢＭＡに形成された第３のカラーフィルタ前駆体ＣＦＰ３を残しておいてもよい。

【0044】

上述した前駆体形成工程Ｓ０５１と、エッチング工程Ｓ０５２と、を経て、図３に示したような、第３のカラーフィルタＣＦ３を形成することができる。なお、カラーレジスト材料としては、ネガ型、ポジ型を問わず、露光、現像工程を経て、図３に示したような、第３のカラーフィルタＣＦ３を形成することができればよい。

【0045】

なお、上述した第２のカラーフィルタ形成工程Ｓ０２０を、異なる色のカラーフィルタ形成工程Ｓ０３０よりも先に行うことにより、平坦性が保たれたブラックマトリクスＢＭ上に第２のカラーフィルタＣＦ２を形成することができるため、第２のカラーフィルタＣＦ２を高精度に形成することができ望ましい。即ち、図３に示すように、第１の開口部ＢＭＡ１と第２の開口部ＢＭＡ２との間、及び第３の開口部ＢＭＡ３と第４の開口部ＢＭＡ４との間に形成された第２のカラーフィルタＣＦ２の位置が、例えば第１の方向にずれてしまうことを抑制することにより、第１の色の画素領域、及び第３の色の画素領域に、第２のカラーフィルタＣＦ２が重畳してしまう可能性を低減することができ望ましい。

【0046】

［平坦化膜形成工程Ｓ０６０］
次に、平坦化膜形成工程Ｓ０６０を行う。平坦化膜形成工程Ｓ０６０では、透光性基板の第１の主面側全体に平坦化膜６４を形成する。平坦化膜形成工程Ｓ０６０は、周知の製造方法を利用することができる。平坦化膜６４は、上述した第２のカラーフィルタＣＦ２、第１のカラーフィルタＣＦ１、及び第３のカラーフィルタＣＦ３の表面全体を覆う。

【0047】

［スペーサ形成工程Ｓ０７０］
最後に、スペーサ形成工程Ｓ０７０を行う。スペーサ形成工程Ｓ０７０では、図３に示すように、第１の開口部ＢＭＡ１と第２の開口部ＢＭＡ２との間において、第２のカラーフィルタＣＦ２と平面視で重畳する第１のサブスペーサ６０Ｂ１を形成する。

【0048】

また、本実施形態においては、複数のサブスペーサ６０Ｂを、第２のカラーフィルタＣＦ２と平面視で重畳するよう形成する。具体的には、第３の開口部ＢＭＡ３と第４の開口部ＢＭＡ４との間において、第２のカラーフィルタＣＦ２と平面視で重畳する第２のサブスペーサ６０Ｂ２を形成する。第５の開口部ＢＭＡ５と第６の開口部ＢＭＡ６との間において、第２のカラーフィルタＣＦ２と平面視で重畳する第３のサブスペーサ６０Ｂ３を形成する。各サブスペーサ６０Ｂは、露光、現像工程を伴うフォトリソグラフィ法により形成することが可能である。

【0049】

上述した製造方法を採用することにより、表示パネルの表示面内において、当該表示面と直交する方向からの外力に対する耐性にばらつきが生じることを抑制することができる。即ち、図３に示したＡ−Ａ線における断面を示す断面図である図４に示すように、第１のサブスペーサ６０Ｂ１、第２のサブスペーサ６０Ｂ２、及び第３のサブスペーサ６０Ｂ３が、すべて第２のカラーフィルタＣＦ２と平面視で重畳するように配置されているため、各サブスペーサ６０Ｂと、薄膜トランジスタ基板２３０との距離を均一とすることができる。その結果として、表示パネルにおける表示面内において、当該表示面と直交する方向からの外力に対する耐性にばらつきが生じることを抑制することができる。

【0050】

［第２の実施形態］
次に、図面を用いて、本開示の第２の実施形態に係る表示装置１００について説明する。図１６は、第２の実施形態における対向基板２４０に含まれるブラックマトリクスＢＭを示す平面図である。図１６に示すように、ブラックマトリクスＢＭは、第１の方向、及び第１の方向に交差する第２の方向に配列された複数の開口部ＢＭＡを有している。この一つの開口部ＢＭＡが、一つの画素領域に対応する。

【0051】

本実施形態においては、ブラックマトリクスＢＭは、第１の開口部ＢＭＡ１と、第１の方向において第１の開口部ＢＭＡ１と隣接する第２の開口部ＢＭＡ２と、第１の方向において第１の開口部ＢＭＡ１と隣接し、第１の開口部ＢＭＡ１に対して第２の開口部ＢＭＡ２と反対側に配置された第３の開口部ＢＭＡ３と、を有する。また、ブラックマトリクスＢＭは、第１の方向において第２の開口部ＢＭＡ２と隣接し、第２の開口部ＢＭＡ２に対して第１の開口部ＢＭＡ１と反対側に配置された第５の開口部ＢＭＡ５を有する。

【0052】

対向基板２４０は、ブラックマトリクスＢＭに重畳して配置されたカラーフィルタＣＦを有する。図１７は、上述したブラックマトリクスＢＭに、カラーフィルタＣＦ及びスペーサ６０が重畳配置された構成を示す平面図である。図１７に示すように、ブラックマトリクスＢＭの各開口部ＢＭＡには、それぞれカラーフィルタＣＦが重畳配置されており、カラーフィルタＣＦの色に応じて、各画素領域における表示色を異ならせることが可能となる。

【0053】

本実施形態においては、第１の色（例えば赤色）の第１のカラーフィルタＣＦ１が、第１の開口部ＢＭＡ１と平面視で重畳して配置されている。第３の色（例えば緑色）の第３のカラーフィルタＣＦ３が、第２の開口部ＢＭＡ２と平面視で重畳して配置されている。第２の色（例えば青色）の第２のカラーフィルタＣＦ２が、第３の開口部ＢＭＡ３、及び第５の開口部ＢＭＡ５と平面視で重畳して配置されている。更に、本実施形態においては、第２のカラーフィルタＣＦ２が、第１の開口部ＢＭＡ１と第２の開口部ＢＭＡ２との間の少なくとも一部と平面視で重畳して配置されている。この第１の開口部ＢＭＡ１と第２の開口部ＢＭＡ２との間において、第２のカラーフィルタＣＦ２と平面視で重畳するように、第１のサブスペーサ６０Ｂ１が配置されている。

【0054】

また、第２のカラーフィルタＣＦ２が、第１の開口部ＢＭＡ１と第３の開口部ＢＭＡ３との間の少なくとも一部と平面視で重畳して配置されており、この第１の開口部ＢＭＡ１と第３の開口部ＢＭＡ３との間において、第２のカラーフィルタＣＦ２と平面視で重畳するように、第２のサブスペーサ６０Ｂ２が配置されている。

【0055】

さらに、本実施形態においては、第２のカラーフィルタＣＦ２が、第５の開口部ＢＭＡ５と第２の開口部ＢＭＡ２との間の少なくとも一部と平面視で重畳して配置されている。この第５の開口部ＢＭＡ５と第２の開口部ＢＭＡ２との間において、第２のカラーフィルタＣＦ２と平面視で重畳するように、第３のサブスペーサ６０Ｂ３が配置されている。

【0056】

上述した構成とすることにより、表示パネルの表示面内において、当該表示面と直交する方向からの外力に対する耐性にばらつきが生じることを抑制することができる。即ち、図１７に示したＢ−Ｂ線における断面を示す断面図である図１８に示すように、第１のサブスペーサ６０Ｂ１、第２のサブスペーサ６０Ｂ２、及び第３のサブスペーサ６０Ｂ３が、すべて第２のカラーフィルタＣＦ２と平面視で重畳するように配置されているため、各サブスペーサ６０Ｂと、薄膜トランジスタ基板２３０との距離を均一とすることができる。その結果として、表示パネルにおける表示面内において、当該表示面と直交する方向からの外力に対する耐性にばらつきが生じることを抑制することができる。なお、図１８に示すように、カラーフィルタＣＦと各サブスペーサ６０Ｂとの間には、平坦化膜６４を介在させる構成としてもよい。

【0057】

なお、図１６、図１７、及び図１８を用いて示した例では、ブラックマトリクスＢＭが有する開口部ＢＭＡが、第１の方向において、ほぼ等間隔に配置される例を示したが、例えば図１９に示すように、第１の方向において、互いに隣接する第１の開口部ＢＭＡ１と第３の開口部ＢＭＡ３との距離が、第１の方向において、互いに隣接する第１の開口部ＢＭＡ１と第２の開口部ＢＭＡ２との距離よりも大きい構成としてもよい。

【0058】

例えば、薄膜トランジスタ基板２３０が、第２の方向に延伸する複数のソース線と、第１の方向に延伸する複数のゲート線を有する場合、各ソース線は、第１の方向に隣り合う二つ開口部ＢＭＡ間を横切り、各ゲート線は、第２の方向に隣り合う二つの開口部ＢＭＡ間を横切る。更に、薄膜トランジスタ基板２３０が、各ゲート線に電気的に接続され、第２の方向に延伸するゲート引出線を有する場合、このゲート引出線は、第１の方向に隣り合う二つ開口部ＢＭＡ間を横切ることとなる。その場合、このゲート引出線とソース線が配置される二つの開口部ＢＭＡ間は、ソース線のみが配置される二つの開口部ＢＭＡ間よりも大きな面積が必要になる。そのため、図１９に示した例においては、第１の開口部ＢＭＡ１と第２の開口部ＢＭＡ２との間よりも大きな距離を有する第１の開口部ＢＭＡ１と第３の開口部ＢＭＡ３との間に、ゲート引出線を配置する構成とすることが望ましい。

【0059】

なお、図１６、図１７、及び図１８を用いて示した例では、第２のカラーフィルタＣＦ２が、各サブスペーサ６０Ｂと平面視で重畳される例を示したが、第１のカラーフィルタＣＦ１が、各サブスペーサ６０Ｂと平面視で重畳される構成としてもよく、第３のカラーフィルタＣＦ３が、各サブスペーサ６０Ｂと平面視で重畳される構成としてもよい。

【0060】

さらには、複数のカラーフィルタＣＦの積層部が、各サブスペーサ６０Ｂと平面視で重畳される構成としてもよい。例えば、図１７に示したＢ−Ｂ線に対応し、本実施形態における他の実施例を示す断面図である図２０に示すように、第１の方向に互いに隣接する複数の開口部ＢＭＡ間（例えば、第１の開口部ＢＭＡ１と第２の開口部ＢＭＡ２との間）において、第１のカラーフィルタＣＦ１と第２のカラーフィルタＣＦ２とを重畳して配置し、第１の方向に互いに隣接する複数の開口部ＢＭＡ間において、各サブスペーサ６０Ｂ（例えば、第１のサブスペーサ６０Ｂ１）が、第１のカラーフィルタＣＦ１と第２のカラーフィルタＣＦ２の積層部と、平面視で重畳するよう配置される構成としてもよい。

【0061】

同様に、図２１に示すように、第１の方向に互いに隣接する複数の開口部ＢＭＡ間（例えば、第１の開口部ＢＭＡ１と第３の開口部ＢＭＡ３との間）において、第２のカラーフィルタＣＦ２と第３のカラーフィルタＣＦ３とを重畳して配置し、第１の方向に互いに隣接する複数の開口部ＢＭＡ間において、各サブスペーサ６０Ｂ（例えば、第２のサブスペーサ６０Ｂ２）が、第２のカラーフィルタＣＦ２と第３のカラーフィルタＣＦ３の積層部と、平面視で重畳するよう配置される構成としてもよい。

【0062】

なお、上述した例においては、各サブスペーサ６０Ｂが、第２のカラーフィルタＣＦ２と重畳する構成を説明したが、サブスペーサ６０Ｂと同じ厚みを有するスペーサ６０を、メインスペーサ６０Ａとして機能させたい部分に、あえて第２のカラーフィルタＣＦ２とは異なる色のカラーフィルタＣＦを配置する構成としてもよい。例えば、図２２に示す構成においては、ブラックマトリクスＢＭが、第１の方向と交差する第２の方向において、第３の開口部ＢＭＡ３と隣接する第４の開口部ＢＭＡ４を更に含み、第３の開口部ＢＭＡ３と第４の開口部ＢＭＡ４との間の一部に、第１のカラーフィルタＣＦ１を配置している。そして、第３の開口部ＢＭＡ３と第４の開口部ＢＭＡ４との間において、第１のカラーフィルタＣＦ１と平面視で重畳するように、サブスペーサ６０Ｂと同じ厚みを有するメインスペーサ６０Ａを配置している。ブラックマトリクスＢＭ上における第１のカラーフィルタＣＦ１の厚みが、第２のカラーフィルタＣＦ２の厚みより大きい場合、メインスペーサ６０Ａとして、サブスペーサ６０Ｂと同じ構造のものを用いても、ブラックマトリクスＢＭからメインスペーサ６０Ａの頂点までの高さが、ブラックマトリクスＢＭからサブスペーサ６０Ｂの頂点までの高さよりも高くなる。そのため、サブスペーサ６０Ｂと同じ厚みを有するスペーサ６０を、メインスペーサ６０Ａとして機能させることが可能となる。

【0063】

なお、図２２に示す例においては、第３の開口部ＢＭＡ３と第４の開口部ＢＭＡ４との間に配置されたスペーサ６０をメインスペーサ６０Ａとして機能させる例を示したが、他の位置に配置されたスペーサ６０をメインスペーサ６０Ａとして機能させる構成としてもよい。また、図２２に示す例においては、メインスペーサ６０Ａと第１のカラーフィルタＣＦ１とを平面視で重畳させる構成としたが、ブラックマトリクスＢＭ上における第３のカラーフィルタＣＦ３の厚みが、第２のカラーフィルタＣＦ２の厚みより大きい場合には、メインスペーサ６０Ａと第３のカラーフィルタＣＦ３とを平面視で重畳させてもよい。さらには、メインスペーサ６０Ａと重畳するカラーフィルタＣＦのみ２層構造（例えば、第１のカラーフィルタＣＦ１と第２のカラーフィルタＣＦ２等）とし、ブラックマトリクスＢＭからのメインスペーサ６０Ａの高さをサブスペーサ６０Ｂの高さよりも高くする構成としてもよい。

【0064】

［表示装置の製造方法］
以下、図面を用いて、本開示の第２の実施形態に係る表示装置の製造方法について説明する。本実施形態における表示装置１００の製造方法は、図１に示した薄膜トランジスタ基板２３０を準備する工程と、薄膜トランジスタ基板２３０と対向するよう配置される対向基板２４０を形成する工程と、を含む。薄膜トランジスタ基板２３０を準備する工程については、周知の製造方法を用いることができるため、その説明を省略する。本実施形態においては、対向基板２４０を形成する工程に特徴があるため、当該工程について、以下説明する。

【0065】

図２３は、本実施形態の対向基板の形成工程を示すフローチャート図である。図２３に示すように、本実施形態の対向基板の形成工程には、ブラックマトリクス形成工程Ｓ１１０、第２のカラーフィルタ形成工程Ｓ１２０、異なる色のカラーフィルタ形成工程Ｓ１３０、第１のカラーフィルタ形成工程Ｓ１４０、第３のカラーフィルタ形成工程Ｓ１５０、平坦化膜形成工程Ｓ１６０、スペーサ形成工程Ｓ１７０が含まれている。

【0066】

［ブラックマトリクス形成工程Ｓ１１０］
ブラックマトリクス形成工程Ｓ１１０においては、対向基板に含まれるガラス基板などの透光性基板の第１の主面上全体に、黒色系の樹脂からなるレジストを塗布し、露光、現像工程を伴うフォトリソグラフィ法により、図１６に示したようなブラックマトリクスＢＭを製造する。レジスト材料としては、ネガ型、ポジ型を問わず、露光、現像工程を経て、図１６に示したような、複数の開口部ＢＭＡを形成することができればよい。

【0067】

本実施形態においては、透光性基板の第１の主面上に、図１６に示したような、第１の開口部ＢＭＡ１と、第１の方向において第１の開口部ＢＭＡ１と隣接する第２の開口部ＢＭＡ２と、第１の方向において第１の開口部ＢＭＡ１と隣接し、第１の開口部ＢＭＡ１に対して第２の開口部ＢＭＡ２と反対側に配置された第３の開口部ＢＭＡ３と、第１の方向において第２の開口部ＢＭＡ２と隣接し、第２の開口部ＢＭＡ２に対して第１の開口部ＢＭＡ１と反対側に配置された第５の開口部ＢＭＡ５と、を有するブラックマトリクスＢＭを形成する。

【0068】

［第２のカラーフィルタ形成工程Ｓ１２０］
次に、第２のカラーフィルタ形成工程Ｓ１２０を行う。第２のカラーフィルタ形成工程Ｓ１２０は、第２の色（例えば青色）の第２のカラーフィルタ前駆体を形成する前駆体形成工程Ｓ１２１と、第２のカラーフィルタ前駆体の一部を除去する第１のエッチング工程Ｓ１２２と、を含む。

【0069】

前駆体形成工程Ｓ１２１では、図２４に示すように、透光性基板の第１の主面側全体に、第２のカラーフィルタ前駆体ＣＦＰ２として、顔料をベースとした第２の色のカラーレジストを塗布する。この工程において、第２の色のカラーレジストは、上述した開口部ＢＭＡを有するブラックマトリクスＢＭの表面全体を覆う。

【0070】

次に、第１のエッチング工程Ｓ１２２では、露光、現像工程を伴うフォトリソグラフィ法により、図２５に示すように、第１の開口部ＢＭＡ１と第２の開口部ＢＭＡ２との間の少なくとも一部の領域における、第２のカラーフィルタ前駆体ＣＦＰ２を残して、第１の開口部ＢＭＡ１、第２の開口部ＢＭＡ２から第２のカラーフィルタ前駆体ＣＦＰ２を除去する。

【0071】

上述した前駆体形成工程Ｓ１２１と、第１のエッチング工程Ｓ１２２と、を経て、図２５に示すような、第２のカラーフィルタＣＦ２を形成することができる。なお、カラーレジスト材料としては、ネガ型、ポジ型を問わず、露光、現像工程を経て、図２５に示したような、第２のカラーフィルタＣＦ２を形成することができればよい。

【0072】

［異なる色のカラーフィルタ形成工程Ｓ１３０］
次に、透光性基板の第１の主面側全体に第２の色とは異なる色のカラーフィルタを形成する工程Ｓ１３０を行う。異なる色のカラーフィルタ形成工程Ｓ１３０は、透光性基板の第１の主面側全体に、第２の色とは異なる色のカラーフィルタ前駆体を形成する工程と、第１の開口部ＢＭＡ１と第２の開口部ＢＭＡ２に形成された第２の色とは異なる色の前記カラーフィルタ前駆体が残るように、第２の色とは異なる色のカラーフィルタ前駆体をエッチングする第２のエッチング工程と、を含む。

【0073】

本実施形態においては、第２の色とは異なる色のカラーフィルタを形成する工程Ｓ１３０が、第１の色（例えば赤色）の第１のカラーフィルタ形成工程Ｓ１４０と、第３の色（例えば緑色）の第３のカラーフィルタ形成工程Ｓ１５０と、を含む。なお、この第１のカラーフィルタ形成工程Ｓ１４０と、第３のカラーフィルタ形成工程Ｓ１５０との順序関係は問わない。

【0074】

第１のカラーフィルタ形成工程Ｓ１４０は、第１のカラーフィルタ前駆体を形成する前駆体形成工程Ｓ１４１と、第１のカラーフィルタ前駆体の一部を除去するエッチング工程Ｓ１４２と、を含む。第１のカラーフィルタ前駆体を形成する前駆体形成工程Ｓ１４１は、上述した第２の色とは異なる色のカラーフィルタ前駆体を形成する工程の一部であり、第１のカラーフィルタ前駆体の一部を除去するエッチング工程Ｓ１４２は、上述した第２のエッチング工程の一部である。

【0075】

前駆体形成工程Ｓ１４１では、図２６に示すように、透光性基板の第１の主面側全体に、第１のカラーフィルタ前駆体ＣＦＰ１として、顔料をベースとした第１の色のカラーレジストを塗布する。この工程において、第１のカラーレジストは、上述した開口部ＢＭＡを有するブラックマトリクスＢＭ、及び第２のカラーフィルタＣＦ２の表面全体を覆う。

【0076】

次に、エッチング工程Ｓ１４２では、露光、現像工程を伴うフォトリソグラフィ法により、図２７に示すように、第１の開口部ＢＭＡ１に形成された、第１のカラーフィルタ前駆体ＣＦＰ１が残るように、第１のカラーフィルタ前駆体ＣＦＰ１をエッチングする。なお、他の開口部ＢＭＡにおいて、第１の色の画素に対応する開口部ＢＭＡがあれば、当該開口部ＢＭＡに形成された第１のカラーフィルタ前駆体ＣＦＰ１を残しておいてもよい。

【0077】

上述した前駆体形成工程Ｓ１４１と、エッチング工程Ｓ１４２と、を経て、図２７に示すような、第１のカラーフィルタＣＦ１を形成することができる。なお、カラーレジスト材料としては、ネガ型、ポジ型を問わず、露光、現像工程を経て、図２７に示したような、第１のカラーフィルタＣＦ１を形成することができればよい。

【0078】

第３のカラーフィルタ形成工程Ｓ１５０は、第３のカラーフィルタ前駆体を形成する前駆体形成工程Ｓ１５１と、第３のカラーフィルタ前駆体の一部を除去するエッチング工程Ｓ１５２と、を含む。第３のカラーフィルタ前駆体を形成する前駆体形成工程Ｓ１５１は、上述した第２の色とは異なる色のカラーフィルタ前駆体を形成する工程の一部であり、第３のカラーフィルタ前駆体の一部を除去するエッチング工程Ｓ１５２は、上述した第２のエッチング工程の一部である。

【0079】

前駆体形成工程Ｓ１５１では、図２８に示すように、透光性基板の第１の主面側全体に、第３のカラーフィルタ前駆体ＣＦＰ３として、顔料をベースとした第３の色のカラーレジストを塗布する。この工程において、第３のカラーレジストは、上述した開口部ＢＭＡを有するブラックマトリクスＢＭ、第２のカラーフィルタＣＦ２、及び第１のカラーフィルタＣＦ１の表面全体を覆う。

【0080】

次に、エッチング工程Ｓ１５２では、露光、現像工程を伴うフォトリソグラフィ法により、図１７に示したように、第２の開口部ＢＭＡ２に形成された、第３のカラーフィルタ前駆体ＣＦＰ３が残るように、第３のカラーフィルタ前駆体ＣＦＰ３をエッチングする。なお、他の開口部ＢＭＡにおいて、第３の色の画素に対応する開口部ＢＭＡがあれば、当該開口部ＢＭＡに形成された第３のカラーフィルタ前駆体ＣＦＰ３を残しておいてもよい。

【0081】

上述した前駆体形成工程Ｓ１５１と、エッチング工程Ｓ１５２と、を経て、図１７に示したような、第３のカラーフィルタＣＦ３を形成することができる。なお、カラーレジスト材料としては、ネガ型、ポジ型を問わず、露光、現像工程を経て、図１７に示したような、第３のカラーフィルタＣＦ３を形成することができればよい。

【0082】

なお、上述した第２のカラーフィルタ形成工程Ｓ１２０を、異なる色のカラーフィルタ形成工程Ｓ１３０よりも先に行うことにより、平坦性が保たれたブラックマトリクスＢＭ上に第２のカラーフィルタＣＦ２を形成することができるため、第２のカラーフィルタＣＦ２を高精度に形成することができ望ましい。即ち、図１７に示すように、第１の開口部ＢＭＡ１と第２の開口部ＢＭＡ２との間、第２の開口部ＢＭＡ２と第５の開口部ＢＭＡ５との間、及び第１の開口部ＢＭＡ１と第３の開口部ＢＭＡ３との間に形成された第２のカラーフィルタＣＦ２の位置が、例えば第１の方向にずれてしまうことを抑制することにより、第１の色の画素領域、及び第３の色の画素領域に、第２のカラーフィルタＣＦ２が重畳してしまう可能性を低減することができ望ましい。

【0083】

［平坦化膜形成工程Ｓ１６０］
次に、平坦化膜形成工程Ｓ１６０を行う。平坦化膜形成工程Ｓ１６０では、透光性基板の第１の主面側全体に平坦化膜６４を形成する。平坦化膜形成工程Ｓ１６０は、周知の製造方法を利用することができる。平坦化膜６４は、上述した第２のカラーフィルタＣＦ２、第１のカラーフィルタＣＦ１、及び第３のカラーフィルタＣＦ３の表面全体を覆う。

【0084】

［スペーサ形成工程Ｓ１７０］
最後に、スペーサ形成工程Ｓ１７０を行う。スペーサ形成工程Ｓ１７０では、図１７に示すように、第１の開口部ＢＭＡ１と第２の開口部ＢＭＡ２との間において、第２のカラーフィルタＣＦ２と平面視で重畳する第１のサブスペーサ６０Ｂ１を形成する。

【0085】

また、本実施形態においては、複数のサブスペーサ６０Ｂを、第２のカラーフィルタＣＦ２と平面視で重畳するよう形成する。具体的には、第１の開口部ＢＭＡ１と第３の開口部ＢＭＡ３との間において、第２のカラーフィルタＣＦ２と平面視で重畳する第２のサブスペーサ６０Ｂ２を形成する。また、第２の開口部ＢＭＡ２と第５の開口部ＢＭＡ５との間において、第２のカラーフィルタＣＦ２と平面視で重畳する第２のサブスペーサ６０Ｂ３を形成する。各サブスペーサ６０Ｂは、露光、現像工程を伴うフォトリソグラフィ法により形成することが可能である。

【0086】

上述した製造方法を採用することにより、表示パネルの表示面内において、当該表示面と直交する方向からの外力に対する耐性にばらつきが生じることを抑制することができる。即ち、図１７に示したＢ−Ｂ線における断面を示す断面図である図１８に示すように、第１のサブスペーサ６０Ｂ１、及び第２のサブスペーサ６０Ｂ２が、すべて第２のカラーフィルタＣＦ２と平面視で重畳するように配置されているため、各サブスペーサ６０Ｂと、薄膜トランジスタ基板２３０との距離を均一とすることができる。その結果として、表示パネルにおける表示面内において、当該表示面と直交する方向からの外力に対する耐性にばらつきが生じることを抑制することができる。

【0087】

なお、上記各実施形態に係る表示装置は、互いの構成を組み合わせることもできる。また、各表示装置は、様々な形態の表示装置に適用することもできる。

【0088】

以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記各実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で上記各実施形態から当業者が適宜変更した形態も本発明の技術的範囲に含まれることは言うまでもない。

【符号の説明】

【0089】

１００ 表示装置、６０ スペーサ、６０Ｂ サブスペーサ、６０Ｂ１ 第１のサブスペーサ、６０Ｂ２ 第２のサブスペーサ、６０Ｂ３ 第３のサブスペーサ、６０Ｂ４ 第４のサブスペーサ、６０Ａ メインスペーサ、６２ 台座、６４ 平坦化膜、２３０ 薄膜トランジスタ基板、２４０ 対向基板、２５０ 液晶層、ＢＭ ブラックマトリクス、ＢＭＡ 開口部、ＢＭＡ１ 第１の開口部、ＢＭＡ２ 第２の開口部、ＢＭＡ３ 第３の開口部、ＢＭＡ４ 第４の開口部、ＢＭＡ５ 第５の開口部、ＢＭＡ６ 第６の開口部、ＣＦ カラーフィルタ、ＣＦ１ 第１のカラーフィルタ、ＣＦ２ 第２のカラーフィルタ、ＣＦ３ 第３のカラーフィルタ、ＣＦＰ１ 第１のカラーフィルタ前駆体、ＣＦＰ２ 第２のカラーフィルタ前駆体、ＣＦＰ３ 第３のカラーフィルタ前駆体、Ｓ０１０ ブラックマトリクス形成工程、Ｓ０２０ 第２のカラーフィルタ形成工程、Ｓ０２１ 前駆体形成工程、Ｓ０２２ 第１のエッチング工程、Ｓ０３０ 異なる色のカラーフィルタ形成工程、Ｓ０４０ 第１のカラーフィルタ形成工程、Ｓ０４１ 前駆体形成工程、Ｓ０４２ エッチング工程、Ｓ０５０ 第３のカラーフィルタ形成工程、Ｓ０５１ 前駆体形成工程、Ｓ０５２ エッチング工程、Ｓ０６０ 平坦化膜形成工程、Ｓ０７０ スペーサ形成工程、Ｓ１１０ ブラックマトリクス形成工程、Ｓ１２０ 第２のカラーフィルタ形成工程、Ｓ１２１ 前駆体形成工程、Ｓ１２２ 第１のエッチング工程、Ｓ１３０ 異なる色のカラーフィルタ形成工程、Ｓ１４０ 第１のカラーフィルタ形成工程、Ｓ１４１ 前駆体形成工程、Ｓ１４２ エッチング工程、Ｓ１５０ 第３のカラーフィルタ形成工程、Ｓ１５１ 前駆体形成工程、Ｓ１５２ エッチング工程、Ｓ１６０ 平坦化膜形成工程、Ｓ１７０ スペーサ形成工程。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17】

【図18】

【図19】

【図20】

【図21】

【図22】

【図23】

【図24】

【図25】

【図26】

【図27】

【図28】