特許6928238IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

発光素子の製造方法

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

しかしながら、した製造方法では、研磨液などを用いて基板を溝部に達するまで研磨し、基板を複数の発光素子に個片化するときに、溝部から研磨液が半導体構造側に流れ込み、半導体構造が損傷し歩留りを低下させてしまう虞がある。そこで、本発明は、研磨液が半導体構造側に流れ込むことを低減し、歩留りを向上させた発光素子の製造方法を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明の一態様に係る発光素子の製造方法は、導電性を有する基板と、基板の上面側に設けられた金属からなる接合層と、接合層の上面側に設けられた第1配線電極と、第1配線電極の上面側に設けられ複数の開口部を有する絶縁層と、絶縁層の上面側に設けられ開口部にて第1配線電極と導通するように設けられた複数の発光セルと、絶縁層及び複数の発光セルを覆うように設けられた保護層と、が設けられたウェハを準備するウェハ準・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る
【発明の効果】
以上の構成とすることにより、粘着性シートと接着用部材との接着力を高め、個片化時において、発光セルの上面側に研磨液が流れ込むことを低減できるため、発光セルの損傷を抑制し、基板を複数の発光素子に歩留りよく個片化することができる。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】実施形態1に係る発光素子の製造方法に用いるウェハ100を模式的に示す上面図である。

【図2】実施形態1に係る発光素子の製造方法に用いるウェハ100を模式的に示す要部拡大上面図である。

【図3A】実施形態1に係る発光素子の製造方法におけるウェハ準備工程を説明するためにウェハの一部を拡大して示す上面図である。

【図3B】実施形態1に係る発光素子の製造方法におけるウェハ準備工程を説明するために、図3AのIIIB−IIIB線における断面を模式的に示す断面図である。

【図4A】実施形態1に係る発光素子の製造方法における溝部形成工程を説明するためにウェハの一部を拡大して示す上面図である。

【図4B】実施形態1に係る発光素子の製造方法における溝部形成工程を説明するために、図4AのIVB−IVB線における断面を模式的に示す断面図である。

【図5A】実施形態1に係る発光素子の製造方法における接着用部材形成工程を説明するためにウェハの一部を拡大して示す上面図である。

【図5B】実施形態1に係る発光素子の製造方法における接着用部材形成工程を説明するために、図5AのVB−VB線における断面を模式的に示す断面図である。

【図6A】実施形態1に係る発光素子の製造方法における粘着性シート配置工程を説明するためにウェハの一部を拡大して示す上面図である。

【図6B】実施形態1に係る発光素子の製造方法における粘着性シート配置工程を説明するために、図6AのVIB−VIB線における断面を模式的に示す断面図である。

【図7A】実施形態1に係る発光素子の製造方法における個片化工程を説明するためにウェハの一部を拡大して示す上面図である。

【図7B】実施形態1に係る発光素子の製造方法における個片化工程を説明するために、図7AのVIIB−VIIB線における断面を模式的に示す断面図である。

【図8】実施形態1に係る発光素子の製造方法により得られる発光素子を模式的に示す断面図であり、図7AのVIII−VIII線における断面を示す。

【図9A】実施形態2に係る発光素子の製造方法におけるウェハ準備工程を説明するためにウェハの一部を拡大して示す上面図である。

【図9B】実施形態2に係る発光素子の製造方法におけるウェハ準備工程を説明するために、図3AのIIIB−IIIB線における断面を模式的に示す断面図である。

【図10A】実施形態2に係る発光素子の製造方法における接着用部材形成工程を説明するためにウェハの一部を拡大して示す上面図である。

【図10B】実施形態2に係る発光素子の製造方法における接着用部材形成工程を説明するために、図10AのXB−XB線における断面を模式的に示す断面図である。

【図11A】実施形態2に係る発光素子の製造方法における溝部形成工程を説明するためにウェハの一部を拡大して示す上面図である。

【図11B】実施形態2に係る発光素子の製造方法における溝部形成工程を説明するために、図11AのIVB−IVB線における断面を模式的に示す断面図である。

【図12A】実施形態2に係る発光素子の製造方法における粘着性シート配置工程を説明するためにウェハの一部を拡大して示す上面図である。

【図12B】実施形態2に係る発光素子の製造方法における粘着性シート配置工程を説明するために、図12AのXIIB−XIIB線における断面を模式的に示す断面図である。

【図13A】実施形態2に係る発光素子の製造方法における個片化工程を説明するためにウェハの一部を拡大して示す上面図である。

【図13B】実施形態2に係る発光素子の製造方法における個片化工程を説明するために、図13AのXIIIB−XIIIB線における断面を模式的に示す断面図である。

選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図

100 ウェハ   10 基板   11 接合層   12 導電部材   13a 第1配線電極   13b 第2配線電極   14 発光セル   141 第1導電型半導体層   142 第2導電型半導体層   143 活性層   15 第1絶縁層   151 第1開口部   152 第2開口部   153 第3開口部   16 第2絶縁層   17 コンタクト電極   18 保護層   19 パッド電極   20 溝部   30 個片化予定線   40 接着用部材   50 粘着性シート   60 研磨液   90 発光素子

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