【図1】水素製造装置の一実施形態を示す模式図である。

【図2】水素製造装置の他の実施形態を示す模式図である。

【図3】各例の担体、担持触媒及びこれに加熱処理を施したもの（ａｇｅｄ）についてのＸ線回折パターンをそれぞれ示す図である。

【図4】試験例１２の担持触媒（ＣｕＯ／３Ａｌ_２Ｏ_３・２ＳｉＯ_２（ａｇｅｄ））についてのＸ線吸収スペクトル、及びＦＴ−ＥＸＡＦＳスペクトル（オペランド観測の結果）を示す図である。

【図5】試験例１６の担持触媒（ＣｕＯ／ＳｉＯ_２（ａｇｅｄ））についてのＸ線吸収スペクトル、及びＦＴ−ＥＸＡＦＳスペクトル（オペランド観測の結果）を示す図である。

【図6】担持触媒の存在下でアンモニアを燃焼（アンモニアと酸素との反応）させた際の、温度に対するアンモニア濃度比、Ｎ_２濃度比、Ｎ_２Ｏ濃度比、ＮＯ濃度比の各変化を示すグラフである。図６（ａ）は、担持触媒（ＣｕＯ／３Ａｌ_２Ｏ_３・２ＳｉＯ_２）についてのグラフである。図６（ｂ）は、ＣｕＯ／Ａｌ_２Ｏ_３についてのグラフである。図６（ｃ）は、ＣｕＯ／ＳｉＯ_２についてのグラフである。

【図7】担持触媒の存在下でアンモニアと一酸化窒素とを燃焼（アンモニアと一酸化窒素と酸素との反応）させた際の、温度に対するアンモニア濃度比、Ｎ_２濃度比、Ｎ_２Ｏ濃度比、ＮＯ濃度比の各変化を示すグラフである。図７（ａ）は、担持触媒（ＣｕＯ／３Ａｌ_２Ｏ_３・２ＳｉＯ_２）についてのグラフである。図７（ｂ）は、ＣｕＯ／Ａｌ_２Ｏ_３についてのグラフである。図７（ｃ）は、ＣｕＯ／ＳｉＯ_２についてのグラフである。

【図8】各例の担体、担持触媒及びこれに加熱処理を施したもの（ａｇｅｄ）についてのｉｎ−ｓｉｔｕ ＦＴ−ＩＲ（フーリエ変換型赤外分光光度計）による吸収スペクトルをそれぞれ示す図である。