特許6948668IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

中性子半導体検出器

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

上述したような中性子検出器では、中性子が入射する側の最表層であるコンバータ層に中性子が入射し、当該中性子がコンバータ層に含有されるBと反応することで、あらゆる方向にα線が生成される。生成されたα線のうち、その直下の検出部に向かって進行するα線のみが検出部に入射する。したがって、このような中性子検出器では、コンバータ層への中性子の入射に応じて生成されるα線のうちのごく一部のα線のみしか検出されないため、中性子の検出効率が良くない。 そこで、本発明は、中性子の入射位置を特定可能としつつ、中性子の検出効率を向上させることができる中性子半導体検出器を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明に係る中性子半導体検出器は、基板と、基板上に形成されたP型半導体の窒化ガリウム(GaN)を含むP層と、P層上に形成され、GaNとホウ素(B)とを混晶させた真性半導体のBGaNを含むI層と、I層上に形成されたN型半導体のGaNを含むN層と、P層に電気的に接続された第1電極と、N層に電気的に接続され、N層上に配列された複数の第2電極と、を備える。
【発明の効果】
本発明によれば、中性子の入射位置を特定可能としつつ、中性子の検出効率を向上させることが可能となる。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】本中性子半導体検出器を示す断面図である。

【図2】図1の中性子半導体検出器の積層体を示す斜視図である。

【図3】図2の積層体の平面視における部分的な顕微鏡写真である。

【図4】図1の中性子半導体検出器のI層における中性子検出の原理を説明するための模式図である。

【図5】実施例に係る中性子半導体検出器のP層とN層との間における電流電圧特性を測定した結果を示すグラフである。

【図6】実施例に係る中性子半導体検出器においてI層へのα線の入射に応じた電気信号を測定した結果を示すグラフである。

【図7】実施例に係る中性子半導体検出器と比較例に係る中性子半導体検出器とのそれぞれにおいて各I層へのα線の入射に応じた各電気信号を測定した結果を比較して示すグラフである。

【図8】比較例に係る中性子半導体検出器を示す断面図である。

【図9】比較例に係る中性子半導体検出器においてGaNで形成されたI層への中性子の入射に応じた電気信号を測定した結果を示すグラフである。

選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図

1…中性子半導体検出器、11…サファイア基板(基板)、12…GaNバッファー層(基板)、13…P層、14…I層、15…N層、21…第1電極、22…第2電極、32…信号読取回路。

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