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公報発行日 2021年10月13
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【図1】本中性子半導体検出器を示す断面図である。
【図2】図1の中性子半導体検出器の積層体を示す斜視図である。
【図3】図2の積層体の平面視における部分的な顕微鏡写真である。
【図4】図1の中性子半導体検出器のI層における中性子検出の原理を説明するための模式図である。
【図5】実施例に係る中性子半導体検出器のP層とN層との間における電流電圧特性を測定した結果を示すグラフである。
【図6】実施例に係る中性子半導体検出器においてI層へのα線の入射に応じた電気信号を測定した結果を示すグラフである。
【図7】実施例に係る中性子半導体検出器と比較例に係る中性子半導体検出器とのそれぞれにおいて各I層へのα線の入射に応じた各電気信号を測定した結果を比較して示すグラフである。
【図8】比較例に係る中性子半導体検出器を示す断面図である。
【図9】比較例に係る中性子半導体検出器においてGaNで形成されたI層への中性子の入射に応じた電気信号を測定した結果を示すグラフである。
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