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特許6951715半導体膜の製造方法及び半導体膜並びにドーピング用錯化合物及びドーピング方法
発明の名称 半導体膜の製造方法及び半導体膜並びにドーピング用錯化合物及びドーピング方法
出願人 株式会社ＦＬＯＳＦＩＡ （識別番号 511187214）
特許公開件数ランキング 4913 位（1件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 695 位（11件）（共同出願を含む）
出願人 国立大学法人京都大学 （識別番号 504132272）
特許公開件数ランキング 387 位（43件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 230 位（68件）（共同出願を含む）
公報番号 特許-6951715
公報発行日 2021年10月20
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6951715
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