特許6953177IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

酸化グラフェン構造物、及びその製造方法

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明は、前記従来における諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、酸化グラフェンの内部を還元し、熱伝導性に優れ、小型軽量である金属−炭素複合材料を形成可能な酸化グラフェン構造物、及びその製造方法を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、 <1> 下記式(1)、及び下記式(2)の関係を満たすことを特徴とする酸化グラフェン構造物である。 R1/R2>3.0 ・・・式(1) R2<1.0 ・・・式(2) ここで、R1は、X線光電子分光分析(XPS)による、前記酸化グラフェン構造物の一方の表面におけるC1sのスペクトルのうち、炭・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る
【発明の効果】
本発明によると、従来における前記諸問題を解決することができ、その内部に金属めっき層を有し、熱伝導性に優れ、小型軽量である金属−炭素複合材料を形成可能な酸化グラフェン構造物、及びその製造方法を提供することができる。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】図1は、本発明の酸化グラフェン構造物の一例を示す図である。

【図2】図2は、本発明の第1の実施形態の酸化グラフェン構造物の一例を示す図である。

【図3】図3は、本発明の第2の実施形態の酸化グラフェン構造物の一例を示す図である。

【図4】図4は、本発明の第3の実施形態の酸化グラフェン構造物の一例を示す図である。

【図5】図5は、本発明の第4の実施形態の酸化グラフェン構造物の一例を示す図である。

【図6】図6は、本発明の第5の実施形態の酸化グラフェン構造物の一例を示す図である。

【図7】図7は、従来技術における金属と炭素との複合材料の一例を示す図である。

【図8A】図8Aは、第1の実施形態の酸化グラフェン構造物の製造方法の一例を示す図である。

【図8B】図8Bは、第1の実施形態の酸化グラフェン構造物の製造方法の一例を示す図である。

【図8C】図8Cは、第1の実施形態の酸化グラフェン構造物の製造方法の一例を示す図である。

【図9】図9は、実施例1の酸化グラフェン構造物の断面を電界放出型電子顕微鏡(FE−SEM)により観察した写真を示す図である。

【図10】図10は、実施例1の酸化グラフェン構造物の断面を電界放出型電子顕微鏡(FE−SEM)により観察した写真を示す図である。

【図11】図11は、比較例1のめっき工程後の酸化グラフェン膜の断面を電界放出型電子顕微鏡(FE−SEM)により観察した写真を示す図である。

【図12】図12は、比較例2の酸化グラフェン構造物の断面を電界放出型電子顕微鏡(FE−SEM)により観察した写真を示す図である。

【図13】図13は、比較例3の酸化グラフェン構造物の断面を電界放出型電子顕微鏡(FE−SEM)により観察した写真を示す図である。

【図14】図14は、実施例2の酸化グラフェン構造物の断面を電界放出型電子顕微鏡(FE−SEM)により観察した写真、並びにエネルギー分散型X線分光器(EDS)により炭素原子(C)、及び銅原子(Cu)の分布を検出した写真を示す図である。

選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図

1 還元された酸化グラフェン(rGO)   2 酸化グラフェン(GO)   3 金属めっき層   4 電極   10、20、30、40、50、60 酸化グラフェン構造物

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