ホーム > 特許ランキング > 日亜化学工業株式会社 > 特許6959557
2026年 特許公開件数ランキング 103位 251件(※)
2026年 特許取得件数ランキング 132位 172件(※)
公報発行日 2021年11月2
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6959557 ログイン済みの方はこのURLへ
[この特許公報を共有したい場合]あなたがログインしてこの特許公報を表示すれば、他の人はログインしなくてもこのURLで見ることができるようになります。
※ 共同出願を含む
知財ポータルサイト IP Force にログインすれば、この公報の全文を閲覧できます。 ログインはこちら ログイン・ユーザー登録
知財ポータルサイト IP Force にログインして確認する (無料)
【図1】本発明の一実施の形態に係る発光装置の概略上面図(a)と、そのA−A断面における概略断面図(b)である。
【図2】本発明の一実施の形態に係る発光装置が実装部材に実装された状態を示す概略斜視図である。
【図3】本発明の一実施の形態に係る発光装置の製造方法の流れの一例を示すフローチャートである。
【図4】本発明の一実施の形態に係る発光装置に使用する複合基体の概略上面図(a)と、そのB−B断面における概略断面図(b)である。
【図5】本発明の一実施の形態に係る発光装置の概略上面図(a)と、そのC−C断面における概略断面図(b)である。
【図6】本発明の一実施の形態に係る発光装置の概略上面図(a)と、そのD−D断面における概略断面図(c)と、概略側面図(b)である。
【図7】本発明の一実施の形態に係る発光装置の概略上面図(a)と、そのE−E断面における概略断面図(b)と、そのF−F断面における概略断面図(c)である。
【図8】本発明の一実施の形態に係る発光装置の概略上面図(a)と、そのG−G断面における概略断面図(c)と、概略側面図(b)である。
全ての図面はログインすると無料で閲覧できます。ログイン・ユーザー登録
[広告欄]
ログインすれば広告は減ります
ログインすれば広告は減ります