特許 6961320 ネイルチップの製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B1)

(11)【特許番号】6961320

(24)【登録日】2021年10月15日

(45)【発行日】2021年11月5日

(54)【発明の名称】ネイルチップの製造方法

(51)【国際特許分類】

   A45D 31/00 20060101AFI20211025BHJP

【ＦＩ】

   A45D31/00

【請求項の数】6

【全頁数】8

(21)【出願番号】特願2021-112584(P2021-112584)

(22)【出願日】2021年7月7日

【審査請求日】2021年7月12日

【早期審査対象出願】

(73)【特許権者】

【識別番号】521299709

【氏名又は名称】古川 祐子

(74)【代理人】

【識別番号】100105692

【弁理士】

【氏名又は名称】明田 莞

(74)【代理人】

【識別番号】100161252

【弁理士】

【氏名又は名称】明田 佳久

(72)【発明者】

【氏名】古川 祐子

【審査官】 程塚 悠

(56)【参考文献】

【文献】 特開昭６２−２７５４０６（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１２−１９６２９２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００４−２５４８７７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 米国特許第４９６０１３８（ＵＳ，Ａ）

【文献】 特開２０１９−１５６７６８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 中国特許出願公開第１７８５１５４（ＣＮ，Ａ）

【文献】 特開昭６４−５１９３３（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ａ４５Ｄ ２９／００−３１／００

Ａ６１Ｋ ８／００

Ｇ０９Ｆ ３／００

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

ゼラチンを所定の厚みにして爪形状に成形したゼラチン製チップ基盤を成形するチップ基盤成形工程と、該ゼラチン製チップ基盤の表面にマニキュアを塗布するマニキュア塗布工程と、該塗布したマニキュアを乾燥させるマニキュア乾燥工程と、該ゼラチン製チップ基盤を湯で溶かしてゼラチン製チップ基盤を除去してマニキュア層のネイルチップを得るチップ基盤除去工程と、を少なくとも備えたことを特徴とするネイルチップの製造方法。

【請求項2】

ゼラチンを所定の厚みにして爪形状に成形したゼラチン製チップ基盤を成形するチップ基盤成形工程と、該ゼラチン製チップ基盤の表面に水性ネイルを塗布する水性ネイル塗布工程と、該塗布した水性ネイルを乾燥させる水性ネイル乾燥工程と、該ゼラチン製チップ基盤を湯で溶かしてゼラチン製チップ基盤を除去して水性ネイル層のネイルチップを得るチップ基盤除去工程と、を少なくとも備えたことを特徴とするネイルチップの製造方法。

【請求項3】

ゼラチンを所定の厚みにして爪形状に成形したゼラチン製チップ基盤を成形するチップ基盤成形工程と、該ゼラチン製チップ基盤の表面にジェルネイルを塗布するジェルネイル塗布工程と、該塗布したジェルネイルをＵＶ又はＬＥＤで硬化させるジェルネイル硬化工程と、該ゼラチン製チップ基盤を湯で溶かしてゼラチン製チップ基盤を除去してジェルネイル層のネイルチップを得るチップ基盤除去工程と、を少なくとも備えたことを特徴とするネイルチップの製造方法。

【請求項4】

前記チップ基盤成形工程の後に、前記ゼラチン製チップ基盤をネイル台に固定するネイル台固定工程を備え、かつ、前記チップ基盤除去工程の前に該ゼラチン製チップ基盤を該ネイル台から外すネイル台撤去工程と、を備えたことを特徴とする請求項１又は２又は３に記載のネイルチップの製造方法。

【請求項5】

前記ネイル台固定工程の後に、前記ゼラチン製チップ基盤の表面にベースコートを塗布するベースコート塗布工程と、次いで、該ベースコートを乾燥又は硬化させる工程と、を備えたことを特徴とする請求項４に記載のメイルチップの製造方法。

【請求項6】

前記ネイル台撤去工程の前に、前記ゼラチン製チップ基盤の表面にトップコートを塗布するトップコート塗布工程と、次いで、該トップコートを乾燥又は硬化させる工程と、を備えたことを特徴とする請求項４又は５に記載のメイルチップの製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、装着した際に超薄型なので、自然で外観がよくて、使用時にも違和感がなく、また、利き手にも塗布することができるネイルチップの製造方法に関するものである。

【背景技術】

【0002】

近年、爪に彩色を施すネイルアートが流行っている。専門店で生爪に直接施すことが行われていたが、費用が高いこともあって、自分でマニキュアやジェルネイルを塗ることも行われていた。しかし、自分の爪に直接塗る場合には、利き手に対して、利き手と反対の手では上手く塗ることができないという問題があった。また、専門店においても、家庭においても、塗ったマニキュアやジェルネイルを剥がす際に爪を削ったりするので、爪を傷めてしまうおそれがあるし、ジェルネイルが硬化する際に、ベース部の生爪も縮んでしまって巻き爪になるおそれもあった。

【0003】

そこで、従来、事前に、プラスチック製の爪にマニキュアやジェルネイルを塗布した、所謂ネイルチップが製造されており、専門店で購入して接着してもらったり、未塗装のネイルチップを購入して、自分でマニキュアやジェルネイルを塗布したりしている。例えば、装飾体がベース部形成用ジェルに埋没することによって、装飾体による凹凸が発生しない先行技術が開示されている（参考文献１）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２０２０−１７９００８号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

特許文献１の先行技術は、装飾体による凹凸が発生しないことによって、装飾体の際に汚れがこびり付かず見た目がきれいなまま維持できる点で優れているが、ネイルチップ形成用プレートを剥離する際に、ネイルチップを損傷するおそれがあるので、薄肉厚のネイルを製造できない問題があった。よって、従来型のプラスチック製ネイルチップと同様に、ネイルチップの厚みがあって、指先の外観に違和感があったり、指先の装着に違和感があるという問題があった。

【0006】

本発明は、これらの問題を解決したものであって、外観や指先の装着感が自然である薄肉厚のネイルチップを製造することができるネイルチップの製造方法を提供するものである。

【課題を解決するための手段】

【0007】

上記の目的を達成するために、本願発明の請求項１に係るネイルチップの製造方法は、ゼラチンを所定の厚みにして爪形状に成形したゼラチン製チップ基盤を成形するチップ基盤成形工程と、該ゼラチン製チップ基盤の表面にマニキュアを塗布するマニキュア塗布工程と、該塗布したマニキュアを乾燥させるマニキュア乾燥工程と、該ゼラチン製チップ基盤を湯で溶かしてゼラチン製チップ基盤を除去してマニキュア層のネイルチップを得るチップ基盤除去工程と、を少なくとも備えたことを特徴とする。

【0008】

また、本願発明の請求項２に係るネイルチップの製造方法は、ゼラチンを所定の厚みにして爪形状に成形したゼラチン製チップ基盤を成形するチップ基盤成形工程と、該ゼラチン製チップ基盤の表面に水性ネイルを塗布する水性ネイル塗布工程と、該塗布した水性ネイルを乾燥させる水性ネイル乾燥工程と、該ゼラチン製チップ基盤を湯で溶かしてゼラチン製チップ基盤を除去して水性ネイル層のネイルチップを得るチップ基盤除去工程と、を少なくとも備えたことを特徴とする。

【0009】

また、本願発明の請求項３に係るネイルチップの製造方法は、ゼラチンを所定の厚みにして爪形状に成形したゼラチン製チップ基盤を成形するチップ基盤成形工程と、該ゼラチン製チップ基盤の表面にジェルネイルを塗布するジェルネイル塗布工程と、該塗布したジェルネイルをＵＶ又はＬＥＤで硬化させるジェルネイル硬化工程と、該ゼラチン製チップ基盤を湯で溶かしてゼラチン製チップ基盤を除去してジェルネイル層のネイルチップを得るチップ基盤除去工程と、を少なくとも備えたことを特徴とする。

【0010】

これらの構成を採用することにより、本発明に係るネイルチップの製造方法は、まず、ゼラチンを熱で溶かしてネイル形状をした鋳型に流し込んだ後、冷却し乾燥して固めて、ゼラチン製のチップ基盤を作成する。次に、該チップ基盤の表面にマニキュア又は水性ネイル又はジェルネイルを塗布して装飾を行い、その後、マニキュア若しくは水性ネイルを乾燥させて、又は、ジェルネイルをＵＶ若しくはＬＥＤを照射して硬化させて、マニキュアを又は水性ネイル又はジェルネイル固める。マニキュア又は水性ネイル又はジェルネイルを固化させた後、マニキュア又は水性ネイル又はジェルネイルが塗布されたゼラチン製チップ基盤を所定の温度のお湯に浸して、ネイルチップからゼラチンを溶かして剥離させて除去する。すると、薄肉のマニキュア層又は水性ネイル層又はジェルネイル層のみが残りネイルチップが完成する。

【0011】

本願のネイルチップの製造方法を用いると、お湯でゼラチン製チップ基盤を溶かすので、マニキュア層又は水性ネイル層又はジェルネイル層のみでできたネイルチップが破損せずに製造できる。また、製造されたネイルチップは、非常に薄肉厚なので、爪に装着しても厚みがなく自然で、外観上において違和感がなく、また、使用者の装着においても違和感がない。

【0012】

また、使用者が自分自身で、利き手をネイルする際にも、ネイルチップなので上手に装飾することができ、凝ったデザインも可能である。また、ネイルチップなので、ネイルが乾燥又は硬化するまでの間、時間を自由に使えるし、作り置きしておけば、短時間で装着することができる。

【0013】

また、本願発明の請求項４に係るネイルチップの製造方法は、請求項１又は２又は３に記載のネイルチップの製造方法において、前記チップ基盤成形工程の後に、前記ゼラチン製チップ基盤をネイル台に固定するネイル台固定工程を備え、かつ、前記チップ基盤除去工程の前に該ゼラチン製チップ基盤を該ネイル台から外すネイル台撤去工程と、を備えたことを特徴とする。また、本願発明の請求項５に係るネイルチップの製造方法は、請求項４のネイルチップの製造方法において、前記ネイル台固定工程の後に、前記ゼラチン製チップ基盤の表面にベースコートを塗布するベースコート塗布工程と、次いで、該ベースコートを乾燥又は硬化させる工程と、を備えたことを特徴とする。また、本願発明の請求項６に係るネイルチップの製造方法は、請求項４又は請求項５に記載のネイルチップの製造方法において、前記ネイル台撤去工程の前に、前記ゼラチン製チップ基盤の表面にトップコートを塗布するトップコート塗布工程と、次いで、該トップコートを乾燥又は硬化させる工程と、を備えたことを特徴とする。

【0014】

これらの構成によって、本発明に係るネイルチップの製造方法では、ベースコートやトップコートを塗布して、光沢を維持したり、ストーンを配置してネイルチップ上に固定させて、きらびやかなネイルチップに装飾することができる。よって、より高度で見た目が良いアートをネイルチップに施すことができる。

【発明の効果】

【0015】

本発明に係る請求項１から６に記載のネイルチップの製造方法によれば、非常に薄肉厚のネイルチップを、破損させずに製造できるので、その製造されたネイルチップは、外観が自然であって違和感がなく、また、装着感も自然で違和感がない。また、ネイルチップ装着の際には、既に彩色されたネイルチップを用いるので、直接爪に塗る際に必要な乾燥や硬化させる時間が不要であるし、また、作り置きもできるので、時間がない時でも凝ったネイルを爪に付けることができる。また、ゼラチン製のチップ基盤を使用して、また、ゼラチンを除去するのもお湯につけて溶かせて剥離させるだけなので、非常に、簡単かつ安価に製造することができる。

【図面の簡単な説明】

【0016】

【図1】本発明の実施するための形態に係るネイルチップの製造方法で製造されたネイルチップであって、（ａ）は模式的斜視図であり、（ｂ）は模式的断面図である。

【図2】本発明の実施するための形態に係るネイルチップの製造方法に使用するゼラチン製チップ基盤であって、（ａ）は模式的斜視図であり、（ｂ）は模式的断面図である。

【図3】本発明の実施するための形態に係るネイルチップの製造方法であって、（ａ）はネイル台に固定してゼラチン製チップ基盤の表面にマニキュアを塗布した状態を示した模式的斜視図であり、（ｂ）はゼラチン製チップ基盤の表面にマニキュアを塗布した状態を示した模式的断面図である。

【図4】本発明の実施するための形態に係るネイルチップの製造方法で製造されたネイルチップを左手中指に装着した模式的斜視図である。

【図5】本発明の実施するための形態に係るネイルチップの製造方法で製造されたネイルチップを右手親指に装着した模式的斜視図である。

【図6】本発明の実施するための形態に係るネイルチップの製造方法のフロー図である。

【発明を実施するための形態】

【0017】

図６に示すように、本発明に係るネイルチップの製造方法は、少なくとも、ゼラチンを所定の厚みにして爪形状に成形したゼラチン製チップ基盤２を成形するチップ基盤成形工程と、該ゼラチン製チップ基盤２の表面に、マニキュアを塗布する工程又は水性ネイルを塗布する工程又はジェルネイルを塗布する工程と、マニキュア若しくは水性ネイルを乾燥させる工程又はジェルネイルをＵＶ若しくはＬＥＤを照射して硬化させる工程と、その後、該ゼラチン製チップ基盤２のゼラチンをお湯で溶かして剥離して除去する工程と、から構成されている。

【0018】

そして、作業効率や、ネイルチップ１の出来栄えに合わせて、ゼラチン製チップ基盤２をネイル台３に固定するネイル台固定工程や、該ゼラチン製チップ基盤２の表面に装飾がされて、乾燥又は硬化後に、該ゼラチン製チップ基盤をネイル台３から外すネイル台撤去工程、を備え、さらに、ネイルチップ１の出来栄えをよくするためにベースコートを塗布するベースコート塗布工程やトップコート塗布工程を備えている。なお、ベースコート塗布工程やトップコート塗布工程の後には、マニキュアや水性ネイルを乾燥させる乾燥工程、ジェルネイルをＵＶ又はＬＥＤを照射させて硬化させる工程を備えている。

【0019】

本発明に係るネイルチップ１の製造方法の一例を説明する。ゼラチン製チップ基盤成形工程は、所定の厚さの板ゼラチンを所定の形状に切断し、所定の温度に温めて、それぞれの指の爪の立体形状に成形し、所定の温度まで冷却して、図２に示したゼラチン製チップ基盤２の形状に固める。なお、ゼラチン製チップ基盤２が破損しない厚さの板ゼラチンを用いるのがよい。また、上記所定の温度は、４０〜４５℃ぐらいが好適である。

【0020】

次に、図３に示すように、該ゼラチン製チップ基盤２をネイル台３に固定する。これによって、ゼラチン製チップ基盤２が固定されて、ネイルを塗布する作業がしやすくなり、利き手に使うネイルチップ1の出来栄えも良くなる。

【0021】

そして、マニキュアや水性ネイルやジェルネイルでできたベースコートを、ゼラチン製チップ基盤２の表面に塗布し、その後、マニキュアや水性ネイルの場合は乾燥させて硬化させ、ジェルネイルの場合には、そのジェルネイルの性質に合わせてＵＶ又はＬＥＤを照射して硬化させる。

【0022】

その後、ベースコート上面に、マニキュア、水性ネイル、ジェルネイルでアートデザインを行い、その後、マニキュアや水性ネイルの場合は乾燥させて硬化させ、ジェルネイルの場合には、そのジェルネイルの性質に合わせてＵＶ又はＬＥＤを照射して硬化させる。

【0023】

ストーンを配置する場合には、マニキュアや水性ネイルの場合は半乾燥させて少し硬化させ、ジェルネイルの場合には、そのジェルネイルの性質に合わせてＵＶ又はＬＥＤを照射して少し硬化させてから、ストンを配置し、その後再び、マニキュアや水性ネイルの場合は、完全に乾燥させ、ジェルネイルの場合には、ＵＶ又はＬＥＤを照射して完全に硬化させる。

【0024】

最後に、マニキュア、水性ネイル、ジェルネイルでできたトップコートをアートデザインされ装飾されたそれぞれのゼラチン製チップ基盤２の表面に塗布し、その後、マニキュアや水性ネイルの場合は乾燥させて硬化させ、ジェルネイルの場合には、そのジェルネイルの性質に合わせてＵＶ又はＬＥＤを照射して硬化させて固める。

【0025】

完全に硬化し終われば、アートデザインされ装飾されたゼラチン製チップ基盤２をネイル台３から外して、ゼラチン製チップ基盤２を所定の温度のお湯に浸けて、ゼラチンを溶かして剥離させて除去する。すると、図１に示す、マニキュアのみ、又は、水性ネイルのみ、又は、ジェルネイルのみ、のネイルチップ1（ストーンを含む）が完成する。なお、上記所定の温度は、３５〜４５℃ぐらいが好適である。また、水性ネイルを用いても長時間お湯に浸けなければ、ネイルチップ1に悪影響なく、ゼラチン製チップ基盤２を剥離除去できる。

【0026】

また、本発明に係るネイルチップ１の製造方法で製造されたネイルチップ１の使用方法の一例を図１、図４、図５、を用いて説明する。指１０の生爪１１の表面に、接着剤を塗布して、ネイルチップ１をピンセットで挟んで所定の位置に持っていき、表面からゆっくりと力を掛けて、生爪１０に隙間なく接着して固定する。

【0027】

逆に、ネイルチップ１を剥がす際には、接着剤はがし液を、ネイルチップ1と生爪１０との間にしみ込ませてから棒を使って、生爪１０を傷めずに剥がすことができる。なお、機械を使ってネイルチップ１を削ることもできる。

【0028】

本発明に係るネイルチップの製造方法を用いれば、破損させずに、非常に薄肉厚のネイルチップを製造できる。また、ネイルチップ1を装着の際には、既にネイルのアートができているので、乾燥や硬化させる時間が不要であり時間を自由に使える。また、時間に余裕のある時に、作り置きもできる。また、ゼラチン製のチップ基盤２を使用するだけで、ゼラチンを除去するのもお湯につけて、溶かせて剥離させるだけなので、非常に、簡単かつ安価に製造することができる。

【0029】

また、本発明に係るネイルチップの製造方法で製造されたネイルチップ1を用いれば、非常に薄肉厚なので自然であり、外観がよくて違和感がなく、また、装着も違和感がない。また、直接、ジェルネイルを生爪１０に塗布して、硬化させないので、巻き爪にもならない。また、ネイルサロンで用いれば、施術の時間短縮や、施術量の増加が見込める。

【産業上の利用可能性】

【0030】

爪の装飾の分野に広く利用することができる。

【符号の説明】

【0031】

１：ネイルチップ
２：ゼラチン製チップ基盤
３：ネイル台
１０：指
１１：生爪

【要約】

【課題】外観や指先の装着感が自然である薄肉厚のネイルチップを製造することができるネイルチップの製造方法を提供する。
【解決手段】ゼラチンを所定の厚みにして爪形状に成形したゼラチン製チップ基盤を成形するチップ基盤成形工程と、該ゼラチン製チップ基盤の表面にマニキュアを塗布するマニキュア塗布工程と、該塗布したマニキュアを乾燥させるマニキュア乾燥工程と、該ゼラチン製チップ基盤を湯で溶かしてゼラチン製チップ基盤を除去してマニキュア層のネイルチップを得るチップ基盤除去工程と、を少なくとも備えたことを特徴とする。
【選択図】図６

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】