特許 6961550 二酸化塩素ガスの発生消滅方法および二酸化塩素ガス発生消滅用キット

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6961550

(24)【登録日】2021年10月15日

(45)【発行日】2021年11月5日

(54)【発明の名称】二酸化塩素ガスの発生消滅方法および二酸化塩素ガス発生消滅用キット

(51)【国際特許分類】

   C01B 11/02 20060101AFI20211025BHJP

   A01N 59/00 20060101ALI20211025BHJP

   A01P 1/00 20060101ALI20211025BHJP

   A01P 3/00 20060101ALI20211025BHJP

   A61L 9/01 20060101ALI20211025BHJP

   A61L 9/12 20060101ALI20211025BHJP

【ＦＩ】

   C01B11/02 F

   C01B11/02 G

   A01N59/00 A

   A01P1/00

   A01P3/00

   A61L9/01 F

   A61L9/12

【請求項の数】2

【全頁数】15

(21)【出願番号】特願2018-147030(P2018-147030)

(22)【出願日】2018年8月3日

(65)【公開番号】特開2020-19696(P2020-19696A)

(43)【公開日】2020年2月6日

【審査請求日】2018年12月27日

【審判番号】不服2020-2475(P2020-2475/J1)

【審判請求日】2020年2月25日

(73)【特許権者】

【識別番号】503214656

【氏名又は名称】株式会社アマテラ

(74)【代理人】

【識別番号】110001195

【氏名又は名称】特許業務法人深見特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】藤田 博正

(72)【発明者】

【氏名】藤田 哲悠

(72)【発明者】

【氏名】藤田 征士

(72)【発明者】

【氏名】▲高▼富 廣志

【合議体】

【審判長】 日比野 隆治

【審判官】 金 公彦

【審判官】 末松 佳記

(56)【参考文献】

【文献】 特開２０１０−７７００４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００１−１７０１４７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００９−５３５０７６（ＪＰ，Ａ）

【文献】 「二酸化塩素の自主運営基準設定のための評価について −ガス製品−」，日本二酸化塩素工業会，２０１４年３月，ｐ．１−１２

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

C01B11/02

A61L 9/00- 9/22

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

２５質量％以下の亜塩素酸塩を含む水性液であるＡ剤とガス発生剤を含む水性液であるＢ剤とを接触させることにより二酸化塩素ガスを発生させるガス発生工程と、
前記二酸化塩素ガスに１質量％以上５質量％以下の二酸化塩素還元剤を含む水性液であるＣ剤を接触させることにより前記二酸化塩素ガスを消滅させて残存する前記二酸化塩素ガスの濃度を０．１ｐｐｍ以下とする消滅工程と、を備え、
前記二酸化塩素還元剤は、エリソルビン酸およびその塩、ならびにアスコルビン酸およびその塩からなる群から選ばれる少なくとも１つを含む二酸化塩素ガスの発生消滅方法。

【請求項2】

２５質量％以下の亜塩素酸塩を含む水性液であるＡ剤と、ガス発生剤を含む水性液であるＢ剤と、１質量％以上５質量％以下の二酸化塩素還元剤を含む水性液であるＣ剤と、で構成され、
前記二酸化塩素還元剤は、エリソルビン酸およびその塩、ならびにアスコルビン酸およびその塩からなる群から選ばれる少なくとも１つを含み、
前記Ａ剤と前記Ｂ剤とを接触させることにより二酸化塩素ガスを発生させ、
前記二酸化塩素ガスに前記Ｃ剤を接触させることにより前記二酸化塩素ガスを消滅させて残存する前記二酸化塩素ガスの濃度を０．１ｐｐｍ以下とする二酸化塩素ガス発生消滅用キット。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、花粉、塵、皮屑（ひせつ）、真菌などのアレルギー誘発物質の処理、病原菌、ウイルス、有害化学物質（たとえば、タバコ煙、ホルムアルデヒド）などの有害物質の処理、環境浄化、屋内外および食品の脱臭、防カビおよび防腐などに広く使用される二酸化塩素ガスの発生消滅方法および二酸化塩素ガス発生消滅用キットに関する。

【背景技術】

【0002】

二酸化塩素（ＣｌＯ₂）は、強い酸化力を有していることから、花粉、塵、皮屑、真菌などのアレルギー誘発物質の処理、病原菌、ウイルス、有害化学物質（たとえば、タバコ煙、ホルムアルデヒド）などの有害物質の処理、環境浄化、屋内外および食品の脱臭、防カビおよび防腐などに広く使用される。このように広い用途に使用される有用な二酸化塩素を持続的に発生させる方法およびそのための組成物が提案されている。

【0003】

たとえば、特開平１１−２７８８０８号公報（特許文献１）は、溶存二酸化塩素ガス、亜塩素酸塩およびｐＨ調整剤を構成成分に有する純粋二酸化塩素液剤、上記純粋二酸化塩素液剤および高吸水性樹脂を含有するゲル状組成物、上記純粋二酸化塩素液剤および泡剤を含有する発泡性組成物、ならびに上記純粋二酸化塩素液剤、上記ゲル状組成物、および上記発泡性組成物を入れるための容器を提案する。

【0004】

また、特開２００５−２９４３０号公報（特許文献２）は、亜塩素酸塩水溶液に、有機酸または無機酸と、粉状のガス発生調節剤またはガス発生調節剤と、吸水性樹脂と、を添加し、ゲル化させて二酸化塩素ガスを持続的に発生させる二酸化塩素ガスの発生方法を提案する。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】特開平１１−２７８８０８号公報

【特許文献2】特開２００５−２９４３０号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

特開平１１−２７８８０８号公報（特許文献１）および特開２００５−２９４３０号公報（特許文献２）によれば、二酸化塩素ガスを連続的に発生させる方法が提案されているが、発生する二酸化塩素ガスは強い刺激臭を有しているため、使用後の二酸化塩素ガスによる刺激臭が問題となっている。このため、人が多く集まる場所（たとえば、室内、自動車内など）においては、花粉、塵、皮屑、真菌などのアレルギー誘発物質の処理、病原菌、ウイルス、有害化学物質（たとえば、タバコ煙、ホルムアルデヒド）などの有害物質の処理、環境浄化、屋内外および食品の脱臭、防カビおよび防腐などへの二酸化塩素ガスの使用には、使用中のみならず使用後も人の退避が必要であるなどの問題があり、多くの制約があった。

【0007】

本発明は、発生させた二酸化塩素ガスを使用後に消滅させることにより、上記問題を解決することができる二酸化塩素ガスの発生消滅方法および二酸化塩素ガス発生消滅用キットを提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0008】

本発明は、ある局面に従えば、亜塩素酸塩を含むＡ剤とガス発生剤を含むＢ剤とを接触させることにより二酸化塩素ガスを発生させるガス発生工程と、二酸化塩素ガスに二酸化塩素還元剤を含むＣ剤を接触させることにより二酸化塩素ガスを消滅させるガス消滅工程と、を備える二酸化塩素ガスの発生消滅方法である。

【0009】

本発明のかかる局面における二酸化塩素ガスの発生消滅方法において、二酸化塩素還元剤は、過酸化水素、エリソルビン酸およびその塩、ならびにアスコルビン酸およびその塩からなる群から選ばれる少なくとも１つを含むことができる。

【0010】

本発明は、別の局面に従えば、亜塩素酸塩を含むＡ剤と、ガス発生剤を含むＢ剤と、二酸化塩素還元剤を含むＣ剤と、で構成され、Ａ剤とＢ剤とを接触させることにより二酸化塩素ガスを発生させ、二酸化塩素ガスにＣ剤を接触させることにより二酸化塩素ガスを消滅させる二酸化塩素ガス発生消滅用キットである。

【0011】

本発明のかかる局面における二酸化塩素ガス発生消滅用キットにおいて、二酸化塩素還元剤は、過酸化水素、エリソルビン酸およびその塩、ならびにアスコルビン酸およびその塩からなる群から選ばれる少なくとも１つを含むことができる。

【発明の効果】

【0012】

本発明によれば、発生させた二酸化塩素ガスを使用後に消滅させることにより、使用後の二酸化塩素ガスによる刺激臭を低減できる二酸化塩素ガスの発生消滅方法および二酸化塩素ガス発生消滅用キットを提供できる。

【図面の簡単な説明】

【0013】

【図1】図１は、二酸化塩素ガスの発生消滅方法を示すフローチャートである。

【発明を実施するための形態】

【0014】

＜実施形態１：二酸化塩素ガスの発生消滅方法＞
図１を参照して、本発明のある実施形態である二酸化塩素ガスの発生消滅方法は、亜塩素酸塩を含むＡ剤とガス発生剤を含むＢ剤とを接触させることにより二酸化塩素ガスを発生させるガス発生工程Ｓ１０と、二酸化塩素ガスに二酸化塩素還元剤を含むＣ剤を接触させることにより二酸化塩素ガスを消滅させるガス消滅工程Ｓ２０と、を備える。本実施形態の二酸化塩素ガスの発生消滅方法は、上記のガス発生工程Ｓ１０と上記のガス消滅工程Ｓ２０とを備えることにより、発生させた二酸化塩素ガスを使用後に消滅させることができるため、使用後の二酸化塩素ガスによる刺激臭を低減できる。これにより、二酸化塩素ガス使用後の人の退避を早期に解除できる。ここで、二酸化塩素ガスの使用とは、被処理体の処理に有効な使用であれば特に制限はなく、二酸化塩素ガスを花粉、塵、皮屑、真菌などのアレルギー誘発物質の処理、病原菌、ウイルス、有害化学物質（たとえば、タバコ煙、ホルムアルデヒド）などの有害物質の処理、環境浄化、屋内外および食品の脱臭、防カビおよび防腐などへの広い範囲での使用を含む。

【0015】

二酸化塩素ガスについて、米国の労働安全衛生局（ＯＳＨＡ）は、１日８時間の暴露（ＰＥＬ−ＴＷＡ：時間加重平均値）で０．１ｐｐｍを暴露限界として設定している。日本においては、暴露限界に関する基準値は存在しないが、二酸化塩素ガスによる空間消毒の暫定的な安全基準と想定されている。これらのことから、二酸化塩素ガスの使用後に人の退避を解除するためには、二酸化塩素ガスの濃度を０．１ｐｐｍ以下にする必要があると考えられる。

【0016】

［ガス発生工程］
ガス発生工程Ｓ１０は、亜塩素酸塩を含むＡ剤とガス発生剤を含むＢ剤とを接触させることにより二酸化塩素ガスを発生させる工程である。かかるガス発生工程Ｓ１０により、上記使用に供する二酸化塩素ガスを効率よく発生させることができる。

【0017】

（Ａ剤）
Ａ剤は、亜塩素酸塩を含む。Ａ剤は、亜塩素酸塩を含むものであれば特に制限はないが、後述するＢ剤と効率よく接触して効率よく二酸化塩素ガスを発生させる観点から、亜塩素酸塩を含む液体であることが好ましく、亜塩素酸塩を含む水性液がより好ましい。ここで、水性液とは、亜塩素酸塩などの溶質および／または分散質を除いた溶媒および／または分散媒が水を主成分（溶媒および／または分散媒中の水の含有量が５０質量％以上）とする水性溶液および／または水性分散液をいう。Ａ液は、上記観点から、亜塩素酸塩を含む水性液であることがさらに好ましく、亜塩素酸塩水性液であることが特に好ましい。
Ａ剤に含まれる亜塩素酸塩は、後述するＢ剤に含まれるガス発生剤との接触により二酸化塩素ガスを発生させる亜塩素酸塩であれば特に制限はなく、たとえば、亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ₂）、亜塩素酸カリウム（ＫＣｌＯ²）、亜塩素酸リチウム（ＬｉＣｌＯ₂）などの水素を除く第１族元素（アルカリ金属元素）の亜塩素酸塩、亜塩素酸カルシウム（Ｃａ（ＣｌＯ₂）₂）、亜塩素酸ストロンチウム（Ｓｒ（ＣｌＯ₂）₂）、亜塩素酸バリウム（Ｂａ（ＣｌＯ₂）₂）、亜塩素酸マグネシウム（Ｍｇ（ＣｌＯ₂）₂）などの第２族元素の亜塩素酸塩などが挙げられる。これらの中で、市販されている亜塩素酸ナトリウムが入手しやすく使用上も問題がない。なお、Ａ剤は、後述するＢ剤と接触して二酸化塩素ガスを発生することが阻害されない限り、および、有害な副生成物を発生させない限り、亜塩素酸塩以外の物質を含んでいてもよい。Ａ剤に含まれる亜塩素酸塩以外の物質としては、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）などのアルカリなどが挙げられる。たとえば、８０質量％以上のＮａＣｌＯ₂を含有するシルブライト（日本カーリット社製シルブライト８０）が、Ａ剤として好適に用いられる。

【0018】

亜塩素酸塩水性液は、水性の溶媒および／または分散媒に、上記の少なくとも１つの亜塩素酸塩を所定濃度で溶解および／または分散させることにより得られる。亜塩素酸ナトリウムを水に溶解させる場合としては、液体では漂白剤として使用させる市販の２５質量％の亜塩素酸ナトリウム水溶液や、固体では市販の８６質量％品、８０質量％品、７９質量％品または７６質量％品が好適に用いられる。また、亜塩素酸塩水性液の濃度は、劇毒物および危険物に該当せず取り扱いが容易な観点から２５質量％以下であることが好ましく、１５質量％以下がより好ましく、１０質量％以下がさらに好ましい。

【0019】

（Ｂ剤）
Ｂ剤は、ガス発生剤を含む。Ｂ剤は、ガス発生剤を含むものであれば特に制限はないが、上記Ａ剤と効率よく接触して効率よく二酸化塩素ガスを発生させる観点から、ガス発生剤を含む液体であることが好ましく、ガス発生剤を含む水性液がより好ましい。ここで、水性液とは、ガス発生剤などの溶質および／または分散質を除いた溶媒および／または分散媒が水を主成分（溶媒および／または分散媒中の水の含有量が５０質量％以上）とする水性溶液および／または水性分散液をいう。Ｂ液は、上記観点から、ガス発生剤を含む水溶液またはガス発生剤を含む水分散液であることがさらに好ましく、ガス発生剤水溶液またはガス発生剤水分散液であることが特に好ましい。

【0020】

Ｂ剤に含まれるガス発生剤は、上記のＡ剤に含まれる亜塩素酸塩との接触により、二酸化塩素ガスを発生させるガス発生剤であれば特に制限はなく、たとえば、塩酸などの無機酸、クエン酸、乳酸、リンゴ酸などの有機酸などが挙げられる。これらの中で、塩酸、クエン酸などが入手しやすく使用上も問題がない。なお、Ｂ剤は、上記のＡ剤と接触して二酸化塩素ガスを発生することが阻害されない限り、および、有害な副生成物を発生させない限り、ガス発生剤以外の物質を含んでいてもよい。

【0021】

ガス発生剤水性液は、水性の溶媒および／または分散媒に、上記の少なくとも１つのガス発生剤を所定濃度で溶解および／または分散させることにより得られる。塩酸を水に溶解させる場合としては、市販の塩酸（３５質量％品）を水で希釈して、５質量％以上１５質量％以下の塩酸水溶液が好適に用いられる。クエン酸を水に溶解させる場合としては、２０質量％以上４０質量％以下のクエン酸水溶液が好適に用いられる。ここで、希釈水は、二酸化塩素ガスの発生を阻害しないかぎり特に制限はないが、不純物が少ない観点から、蒸留水、イオン交換水、ＲＯ（逆浸透）水などの精製水が好ましい。

【0022】

（Ａ剤とＢ剤との接触）
Ａ剤とＢ剤との接触により、Ａ剤に含まれる亜塩素酸塩とＢ剤に含まれるガス発生剤とが反応して二酸化塩素ガスを発生する。Ａ剤とＢ剤とを接触させる比は、特に制限はないが、効率的に反応させて効率的に二酸化塩素ガスを発生させる観点から、（Ａ剤に含まれる亜塩素酸塩）：（Ｂ剤に含まれるガス発生剤）は、モル比で、ガス発生剤が塩酸の場合は１：３から３：１までの範囲が好ましく、ガス発生剤がクエン酸の場合は１：２から４：１までの範囲が好ましい。

【0023】

Ａ剤とＢ剤とを接触させる方法は、Ａ剤に含まれる亜塩素酸塩とＢ剤に含まれるガス発生剤とが反応するように接触させる方法であれば特に制限はなく、たとえば、Ａ剤およびＢ剤のいずれもが固体の場合は、水性溶媒（水の含有量が５０質量％以上の溶媒をいう、以下同じ）および／または水性分散媒（水の含有量が５０質量％以上の分散媒をいう、以下同じ）を加えて、Ａ剤とＢ剤とを混合する方法が挙げられる。また、Ａ剤およびＢ剤のいずれか一方が水性液（水性溶液および／または水性分散液）であり、他方が固体の場合は、その水性液とその固体とを混合する方法が挙げられる。また、Ａ剤およびＢ剤がいずれもが水性液である場合は、両方の水性液を混合する方法が挙げられる。Ａ剤に含まれる亜塩素酸塩とＢ剤に含まれるガス発生剤とを効率よく反応させることにより効率的に二酸化塩素ガスを発生させる観点から、Ａ剤およびＢ剤は、いずれか一方が水性溶液であることが好ましく、いずれもが水性溶液であることがより好ましい。

【0024】

［ガス消滅工程］
ガス消滅工程Ｓ２０は、二酸化塩素ガスに二酸化塩素還元剤を含むＣ剤を接触させることにより二酸化塩素ガスを消滅させる工程である。かかるガス消滅工程Ｓ２０により、発生させて使用させた後の二酸化塩素ガスを効率的に消滅させることにより、使用後の二酸化塩素ガスによる刺激臭を低減することができる。

【0025】

（Ｃ剤）
使用後の二酸化塩素ガスの消滅に用いられるＣ剤は、二酸化塩素還元剤を含む。Ｃ剤は、二酸化塩素還元剤を含むものであれば特に制限はないが、二酸化塩素ガスに効率よく接触して効率よく二酸化塩素ガスを消滅させる観点から、二酸化塩素還元剤を含む液体であることが好ましく、二酸化塩素還元剤を含む水性液がより好ましい。ここで、水性液とは、二酸化塩素還元剤などの溶質および／または分散質を除いた溶媒および／または分散媒が水を主成分（溶媒および／または分散媒中の水の含有量が５０質量％以上）とする水性溶液および／または水性分散液をいう。Ｃ液は、上記観点から、二酸化塩素還元剤を含む水性溶液が好ましく、二酸化塩素還元剤水性溶液がより好ましい。

【0026】

Ｃ剤に含まれる二酸化塩素還元剤は、二酸化塩素を還元することにより二酸化塩素ガスを消滅する二酸化塩素還元剤であれば特に制限はなく、過酸化水素、エリソルビン酸およびその塩、アスコルビン酸およびその塩などが挙げられる。二酸化塩素を還元する能力が高いため二酸化塩素ガスの刺激臭を抑制する能力が高く、当該二酸化塩素還元剤自体の毒性が低く、かつ二酸化塩素を還元する際にも有毒物質の発生がなく安全性が高い観点から、二酸化塩素還元剤は、過酸化水素、エリソルビン酸およびその塩、ならびにアスコルビン酸およびその塩からなる群から選ばれる少なくとも１つを含むことが好ましい。さらに、二酸化塩素還元剤は、二酸化塩素を還元する際にも有毒物質の発生がないことによる安全性がより高い観点から、過酸化水素がより好ましく、二酸化塩素を還元する能力がより高いとともに当該二酸化塩素還元剤自体が食品添加物であることによる安全性がより高い観点から、エリソルビン酸およびその塩、ならびにアスコルビン酸およびその塩からなる群から選ばれる少なくとも１つが好ましい。ここで、エリソルビン酸塩は、二酸化塩素の還元を阻害しないかぎり特に制限はないが、入手が容易な観点からエリソルビン酸ナトリウム、エリソルビン酸カリウムなどのエリソルビン酸アルカリ金属塩が好ましい。また、アスコルビン酸塩は、二酸化塩素の還元を阻害しないかぎり特に制限はないが、入手が容易な観点からアスコルビン酸ナトリウム、アスコルビン酸カリウムなどのアスコルビン酸アルカリ金属塩が好ましい。さらにアスコルビン酸には、互いに鏡像異性体であるＤ体のＤ−アスコルビン酸とＬ体のＬ−アスコルビン酸（ビタミンＣ）とがあり、入手が容易な観点から、Ｌ−アスコルビン酸がより好ましい。なお、Ｃ剤は、二酸化塩素を還元することにより二酸化塩素ガスを消滅することが阻害されない限り、および、有害な副生成物を発生させない限り、二酸化塩素還元剤以外の物質を含んでいてもよい。

【0027】

ここで、還元剤として一般的に用いられる亜硫酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウムは、弱酸性雰囲気中で有毒な二酸化硫黄ガス、亜硫酸ガス、硫化水素ガスなどを発生させる場合があるため、好ましくない。また、強い還元剤である塩酸ヒドロキシルアミンは、蒸気の毒性が高く、また高温に加熱されると爆発の危険性があるため、好ましくない。

【0028】

二酸化塩素還元剤水性液は、水性の溶媒および／または分散媒に、上記の少なくとも１つの二酸化塩素還元剤を所定濃度で溶解および／または分散させることにより得られる。過酸化水素を水に溶解させる場合としては、１質量％以上５質量以下の過酸化水素水溶液（過酸化水素水）が好適に用いられる。エリソルビン酸またはその塩を水に溶解させる場合としては、１質量％以上５質量％以下のエリソルビン酸またはその塩の水溶液が好適に用いられる。アスコルビン酸またはその塩を水に溶解させる場合としては、１質量％以上５質量％以下のアスコルビン酸またはその塩の水溶液が好適に用いられる。

【0029】

（二酸化塩素ガスとＣ剤との接触）
Ａ剤とＢ剤との接触により二酸化塩素ガスが発生する。発生した二酸化塩素ガスは空気中に発散して被処理体（アレルギー誘発物質、有害物質など）の処理に使用される。使用後の二酸化塩素ガスとＣ剤とを接触させることにより、二酸化塩素ガスを還元により消滅させて、二酸化塩素ガスによる刺激臭を低減できる。特に発生した使用後の二酸化塩素ガスが多い場合は、発生した二酸化塩素ガスとＣ剤との接触により、二酸化塩素ガスによる刺激臭を大きく低減できる。これにより、二酸化塩素ガス使用後の人の退避を早期に解除できる。

【0030】

発生した二酸化塩素ガスとＣ剤とを接触させる比は、特に制限はないが、効率的に二酸化塩素ガスを消滅させる観点から、（Ａ剤とＢ剤との接触により発生した二酸化塩素）：（Ｃ剤に含まれる二酸化塩素還元剤）が、モル比で、１００：１から１：３までの範囲が好ましく、５０：１から２：３までの範囲が好ましい。このようにＡ剤とＢ剤との接触により発生した二酸化塩素に対するＣ剤に含まれる二酸化塩素還元剤の好適なモル比の範囲が広いのは、二酸化塩素ガスを発生および消滅させる空間の大きさによって二酸化塩素ガスと二酸化塩素還元剤との接触効率が大きく異なるからである。二酸化塩素ガスを発生および消滅させる空間が大きくなるほど、二酸化塩素ガスおよび二酸化塩素還元剤の空間への拡散および壁への吸着が大きくなることにより、二酸化塩素ガスと二酸化塩素還元剤との接触効率が低下するため、Ａ剤とＢ剤との接触により発生した二酸化塩素に対するＣ剤に含まれる二酸化塩素還元剤の好適なモル比が大きくなる。また、過酸化水素は、エリソルビン酸およびその塩ならびにアスコルビン酸およびその塩に比べて二酸化塩素の還元力が小さいため、Ａ剤とＢ剤との接触により発生した二酸化塩素に対するＣ剤に含まれる二酸化塩素還元剤の好適なモル比が大きくなる。

【0031】

発生した二酸化塩素ガスとＣ剤とを接触させる方法は、特に制限はないが、発生した後空気中に発散した二酸化塩素ガスと効率よく接触して効率よく二酸化塩素ガスを消滅させる観点から、発生した後空気中に飛散した二酸化塩素ガスにＣ剤をミスト状にして接触させる方法、たとえば二酸化塩素ガスにＣ剤を噴霧する方法が好ましい。また、上記観点から、Ｃ剤は二酸化塩素還元剤を含む水性溶液であることが好ましく、二酸化塩素還元剤水性溶液であることがより好ましい。

【0032】

発生した二酸化塩素ガスとＣ剤とを接触させる回数は、特に制限はないが、発生した後空気中に発散した二酸化塩素ガスと効率よく接触して効率よく二酸化塩素ガスを消滅させる観点から、複数回であることが好ましい。特に、二酸化塩素ガスが存在する空間が大きいほど、また、二酸化塩素ガスの濃度が高いほど、Ｃ剤と接触させる回数は多いことが好ましい。

【0033】

＜実施形態２：二酸化塩素ガス発生消滅用キット＞
図１を参照して、本発明の別の実施形態である二酸化塩素ガス発生消滅用キットは、亜塩素酸塩を含むＡ剤と、ガス発生剤を含むＢ剤と、二酸化塩素還元剤を含むＣ剤と、で構成され、Ａ剤とＢ剤とを接触させることにより二酸化塩素ガスを発生させ、二酸化塩素ガスにＣ剤を接触させることにより二酸化塩素ガスを消滅させる。本実施形態の二酸化塩素ガス発生消滅用キットは、上記のＡ剤、Ｂ剤、およびＣ剤で構成され、それらを一定の順序で接触させることにより、発生させた二酸化塩素ガスを使用後に消滅させることができるため、使用後の二酸化塩素ガスによる刺激臭を低減できる。ここで、二酸化塩素ガスの使用とは、被処理体の処理に有効な使用であれば特に制限はなく、二酸化塩素ガスを花粉、塵、皮屑、真菌などのアレルギー誘発物質の処理、病原菌、ウイルス、有害化学物質（たとえば、タバコ煙、ホルムアルデヒド）などの有害物質の処理、環境浄化、屋内外および食品の脱臭、防カビおよび防腐などへの広い範囲での使用を含む。

【0034】

本実施形態の二酸化塩素ガス発生消滅用キットを構成するＡ剤、Ｂ剤、およびＣ剤、Ａ剤とＢ剤との接触による二酸化塩素ガスの発生、ならびに二酸化塩素ガスとＣ剤との接触による二酸化塩素ガスの消滅は、実施形態１の二酸化塩素ガスの発生消滅方法において説明したＡ剤、Ｂ剤、およびＣ剤、ガス発生工程、ならびにガス消滅工程と同じであるため、それらの説明を繰り返さない。

【実施例】

【0035】

（実施例１）
本実施例は、３人のパネラー全てが強く認めるタバコなどによる悪臭がある乗用車（テスラ社製モデルＳ）内でエアコンを「中」で動作させることによる空気循環雰囲気下において、Ａ剤とＢ剤との接触によるＣｌＯ₂ガス（二酸化塩素ガス、以下同じ）の発生ならびに発生したＣｌＯ₂ガスとＣ剤との接触によるＣｌＯ₂ガスの消滅を行なったものである。

【0036】

１．ＣｌＯ₂ガス発生消滅用キットの作製
Ａ剤として２５質量％の亜塩素酸ナトリウム水溶液１０ｇと、Ｂ剤として１０質量％の塩酸水溶液１７ｇと、Ｃ剤として２．５質量％のエリソルビン酸ナトリウム水溶液３００ｇと、を準備した。Ｃ剤を３００ｇとしたのは、トリガー式噴霧器に入れて噴霧させるためであり、ＣｌＯ₂ガスを消滅させてその濃度を０．１ｐｐｍ以下にするのに必要なＣ剤の量は後述のように極めて少量であった。

【0037】

２．Ａ剤とＢ剤との接触によるＣｌＯ₂ガスの発生
底面が５８ｍｍ×５８ｍｍで開口面が８３ｍｍ×８３ｍｍで高さが３０ｍｍの逆正四角錐台形状のＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）製容器内で、Ａ剤の全量とＢ剤の全量とを混合させることにより接触させてＣｌＯ₂ガスを発生させた。Ａ剤とＢ剤との混合により接触させた時からの経過時間と上記乗用車内のＣｌＯ₂ガスの濃度を表１にまとめた。ＣｌＯ₂ガスの濃度は、１．０ｐｐｍ以上の濃度について北川式検知管を用いて測定し、１．０ｐｐｍ未満の濃度についてはガステック低濃度検知管のＮｏ．２３ＭまたはＮｏ．２３Ｌを用いて測定した。ＣｌＯ₂ガスの濃度測定は、上記乗用車内の気密性を確保した状態で上記の検知管の測定部を上記乗用車内に挿入することにより行った。

【0038】

３．発生したＣｌＯ₂ガスとＣ剤との接触によるＣｌＯ₂ガスの消滅
上記のＡ剤とＢ剤との混合により接触させた時から９０分間経過時にＣｌＯ₂ガス濃度を測定した後に、発生したＣｌＯ₂ガスが残存している上記乗用車内から接触後のＡ剤およびＢ剤を取出すとともに、トリガー式噴霧器に入れたＣ剤を上記乗用車内で５回（全体で４．７５ｇ）噴霧した。上記のＡ剤とＢ剤との混合により接触させた時から９５分間経過後（すなわちＣ剤の噴霧時から５分間経過後）における乗用車内のＣｌＯ₂ガス濃度を表１に示した。表１に示すように、このときのＣｌＯ₂ガスの濃度は、０．０５ｐｐｍであり、米国の労働安全衛生局（ＯＳＨＡ）が設定する８時間暴露（ＰＥＬ−ＴＷＡ）における許容暴露濃度である０．１ｐｐｍ以下であった。このとき、上記乗用車内のＣｌＯ₂ガスによる刺激臭は、３人のパネラー全てがごくわずかに認めるが不快を感じない程度まで低減していた。また、このとき、乗用車内のタバコなどによる悪臭は、３人のパネラー全てが認めず、消失していた。なお、エアコンのドレイン臭についても、３人のパネラー全てが認めず、消失していた。

【0039】

【表1】

【0040】

（実施例２）
本実施例は、３人のパネラー全てが強く認めるタバコなどによる悪臭がある乗用車（トヨタ社製アクア）内でエアコンを「中（表示値２４）」で動作させることによる空気循環雰囲気下において、Ａ剤とＢ剤との接触によるＣｌＯ₂ガスの発生ならびに発生したＣｌＯ₂ガスとＣ剤との接触によるＣｌＯ₂ガスの消滅を行なったものである。

【0041】

１．ＣｌＯ₂ガス発生消滅用キットの作製
Ａ剤として２５質量％の亜塩素酸ナトリウム水溶液１０ｇと、Ｂ剤として１０質量％の塩酸水溶液１７ｇと、Ｃ剤として２．５質量％のＬ−アスコルビン酸水溶液３００ｇと、を準備した。ここで、Ｃ剤を３００ｇとしたのは、トリガー式噴霧器に入れて噴霧させるためであり、ＣｌＯ₂ガスを消滅させてその濃度を０．１ｐｐｍ以下にするのに必要なＣ剤の量は後述のように極めて少量であった。

【0042】

２．Ａ剤とＢ剤との接触によるＣｌＯ₂ガスの発生
実施例１と同じ形状および大きさのＰＥＴ製容器内で、Ａ剤の全量とＢ剤の全量とを混合させることにより接触させてＣｌＯ₂ガスを発生させた。Ａ剤とＢ剤との混合により接触させた時からの経過時間と上記乗用車内のＣｌＯ₂ガスの濃度を表２にまとめた。ＣｌＯ₂ガスの濃度は、１．０ｐｐｍ以上の濃度について北川式検知管を用いて測定し、１．０ｐｐｍ未満の濃度についてはガステック低濃度検知管のＮｏ．２３ＭまたはＮｏ．２３Ｌを用いて測定した。ＣｌＯ₂ガスの濃度測定は、上記乗用車内の気密性を確保した状態で上記の検知管の測定部を上記乗用車内に挿入することにより行った。

【0043】

３．発生したＣｌＯ₂ガスとＣ剤との接触によるＣｌＯ₂ガスの消滅
上記のＡ剤とＢ剤との混合により接触させた時から９０分間経過時にＣｌＯ₂ガス濃度を測定した後に、発生したＣｌＯ₂ガスが残存している上記乗用車内から接触後のＡ剤およびＢ剤を取出すとともに、トリガー式噴霧器に入れたＣ剤を上記乗用車内で５回（全体で４．７５ｇ）噴霧した。上記のＡ剤とＢ剤との混合により接触させた時から９５分間経過後（すなわちＣ剤の噴霧時から５分間経過後）における上記乗用車内のＣｌＯ₂ガス濃度を表２に示した。表２に示すように、このときのＣｌＯ₂ガスの濃度は、０．０５ｐｐｍであり、米国の労働安全衛生局（ＯＳＨＡ）が設定する８時間暴露（ＰＥＬ−ＴＷＡ）における許容暴露濃度である０．１ｐｐｍ以下であった。このとき、上記乗用車内のＣｌＯ₂ガスによる刺激臭は、３人のパネラー全てがごくわずかに認めるが不快を感じない程度まで低減していた。また、このとき、上記乗用車内のタバコなどによる悪臭は、３人のパネラー全てが認めず、消失していた。なお、エアコンのドレイン臭についても、３人のパネラー全てが認めず、消失していた。

【0044】

【表2】

【0045】

（実施例３）
本実施例は、３人のパネラー全てが強く認めるホルムアルデヒドによる悪臭がある６畳室（容量２１．７ｍ³：２．９３ｍ×３．３７ｍ×２．２ｍ）内において、Ａ剤とＢ剤との接触によるＣｌＯ₂ガスの発生ならびに発生したＣｌＯ₂ガスとＣ剤との接触によるＣｌＯ₂ガスの消滅を行なったものである。

【0046】

１．ＣｌＯ₂ガス発生消滅用キットの作製
Ａ剤として２５質量％の亜塩素酸ナトリウム水溶液１８ｇと、Ｂ剤として３０質量％のクエン酸水溶液３０ｇと、Ｃ剤として２．５質量％のエリソルビン酸ナトリウム水溶液３００ｇと、を準備した。Ｃ剤を３００ｇとしたのは、トリガー式噴霧器に入れて噴霧させるためであり、ＣｌＯ₂ガスを消滅させてその濃度を０．１ｐｐｍ以下にするのに必要なＣ剤の量は後述のように少量であった。

【0047】

２．Ａ剤とＢ剤との接触によるＣｌＯ₂ガスの発生
実施例１と同じ形状および大きさのＰＥＴ製容器内で、Ａ剤の全量とＢ剤の全量とを混合させることにより接触させてＣｌＯ₂ガスを発生させた。Ａ剤とＢ剤との混合により接触させた時からの経過時間と６畳室内のＣｌＯ₂ガスの濃度を表３にまとめた。ＣｌＯ₂ガスの濃度は、１．０ｐｐｍ以上の濃度について北川式検知管を用いて測定し、１．０ｐｐｍ未満の濃度についてはガステック低濃度検知管のＮｏ．２３ＭまたはＮｏ．２３Ｌを用いて測定した。

【0048】

３．発生したＣｌＯ₂ガスとＣ剤との接触によるＣｌＯ₂ガスの消滅
上記のＡ剤とＢ剤との混合により接触させた時から６．２５時間経過後に、発生したＣｌＯ₂ガスが残存している上記６畳室内から接触後のＡ剤およびＢ剤を取出すとともに、トリガー式噴霧器に入れたＣ剤を上記６畳室内で３５回（全体で３３．２５ｇ）噴霧した（Ｃ剤の１次噴霧という、以下同じ）。ここで、Ｃ剤の１次噴霧は以下の要領で行なった。上記６畳室内を、出入口ドアから奥に向かって、それぞれ同じ大きさの領域の表領域、中領域、および奥領域に分けて、奥領域の表側から奥側に向けて均一に広がるように１５回それぞれ異なる場所で噴霧し、中領域の表側から奥側に向けて均一に広がるように１０回それぞれ異なる場所で噴霧し、表領域の奥側から表側に向けて均一に広がるように１０回それぞれ異なる場所で噴霧した。上記のＡ剤とＢ剤との混合により接触させた時から７．２５時間経過後（すなわちＣ剤の１次噴霧時から１時間経過後）における上記６畳室内のＣｌＯ₂ガス濃度は、表３に示すように、０．７５ｐｐｍに低減した。

【0049】

次に、Ａ剤とＢ剤との混合により接触させた時から７．５時間経過後に、上記Ｃ剤を上記６畳室内で１０回（全体で９．５ｇ）噴霧した（Ｃ剤の２次噴霧という、以下同じ）。ここで、Ｃ剤の２次噴霧は、上記奥領域の表側から奥側に向けて均一に広がるように４回それぞれ異なる場所で噴霧し、中領域の表側から奥側に向けて均一に広がるように３回それぞれ異なる場所で噴霧し、表領域の奥側から表側に向けて均一に広がるように３回それぞれ異なる場所で噴霧した。上記のＡ剤とＢ剤との混合により接触させた時から８．５時間経過後（すなわちＣ剤の２次噴霧時から１時間経過後）における上記６畳室内のＣｌＯ₂ガス濃度は、表３に示すように、０．１０ｐｐｍに低減し、米国の労働安全衛生局（ＯＳＨＡ）が設定する８時間暴露（ＰＥＬ−ＴＷＡ）における許容暴露濃度の上限である０．１ｐｐｍｍまで低減した。

【0050】

さらに、Ａ剤とＢ剤との混合により接触させた時から８．７５時間経過後に、上記Ｃ剤を上記６畳室内でＣ剤を２回（全体で１．９ｇ）噴霧した（Ｃ剤の３次噴霧という、以下同じ）。ここで、Ｃ剤の３次噴霧は以下の要領で行なった。上記６畳室内を、出入口ドアから奥に向かって、それぞれ同じ大きさの領域の表側領域および奥側領域に分けて、奥側領域の表側から奥側に向けて１回噴霧し、表側領域の奥側から表側に向けて１回噴霧した。上記のＡ剤とＢ剤との混合により接触させた時から９．０時間経過後（すなわちＣ剤の３次噴霧時から０．２５時間経過後）における上記６畳室内のＣｌＯ₂ガス濃度は、表３に示すように、０．０５ｐｐｍに低減し、米国の労働安全衛生局（ＯＳＨＡ）が設定する８時間暴露（ＰＥＬ−ＴＷＡ）における許容暴露濃度である０．１ｐｐｍ以下であった。このとき、上記６畳室内のＣｌＯ₂ガスによる刺激臭は、３人のパネラーが全てがごくわずかに認めるが不快を感じない程度まで低減していた。また、このとき、上記６畳室内のホルムアルデヒドによる悪臭は、３人のパネラー全てが認めず、消失していた。なお、エアコンのドレイン臭についても、３人のパネラー全てが認めず、消失していた。

【0051】

【表3】

【0052】

（実施例４）
本実施例は、３人のパネラー全てが強く認めるホルムアルデヒドによる悪臭がある６畳室（容量２１．７ｍ³：２．９３ｍ×３．３７ｍ×２．２ｍ）内において、Ａ剤とＢ剤との接触によるＣｌＯ₂ガスの発生ならびに発生したＣｌＯ₂ガスとＣ剤との接触によるＣｌＯ₂ガスの消滅を行なったものである。

【0053】

１．ＣｌＯ₂ガス発生消滅用キットの作製
Ａ剤として２５質量％の亜塩素酸ナトリウム水溶液１８ｇと、Ｂ剤として３０質量％のクエン酸水溶液３０ｇと、Ｃ剤として３．０質量／体積％（ｗ／ｖ％とも表記する。１００ｍＬの水溶液中に３ｇの過酸化水素が存在する濃度をいう）の過酸化水素水溶液（健栄製薬社製オキシドール）３００ｇと、を準備した。Ｃ剤を３００ｇとしたのは、トリガー式噴霧器に入れて噴霧させるためであり、ＣｌＯ₂ガスを消滅させてその濃度を０．１ｐｐｍ以下にするのに必要なＣ剤の量は後述のように極めて少量であった。

【0054】

２．Ａ剤とＢ剤との接触によるＣｌＯ₂ガスの発生
実施例１と同じ形状および大きさのＰＥＴ製容器内で、Ａ剤の全量とＢ剤の全量とを混合させることにより接触させてＣｌＯ₂ガスを発生させた。Ａ剤とＢ剤との混合により接触させた時からの経過時間と６畳室内のＣｌＯ₂ガスの濃度を表４にまとめた。ＣｌＯ₂ガスの濃度は、１．０ｐｐｍ以上の濃度について北川式検知管を用いて測定し、１．０ｐｐｍ未満の濃度についてはガステック低濃度検知管のＮｏ．２３ＭまたはＮｏ．２３Ｌを用いて測定した。

【0055】

３．発生したＣｌＯ₂ガスとＣ剤との接触によるＣｌＯ₂ガスの消滅
上記のＡ剤とＢ剤との混合により接触させた時から６．３３時間経過後に、発生したＣｌＯ₂ガスが残存している上記６畳室内から接触後のＡ剤およびＢ剤を取出すとともに、トリガー式噴霧器に入れたＣ剤を上記６畳室内で３５回（全体で２５．９ｇ）噴霧した（Ｃ剤の１次噴霧という、以下同じ）。ここで、Ｃ剤の１次噴霧は以下の要領で行なった。上記６畳室内を、出入口ドアから奥に向かって、それぞれ同じ大きさの領域の表領域、中領域、および奥領域に分けて、奥領域の表側から奥側に向けて均一に広がるように１５回それぞれ異なる場所で噴霧し、中領域の表側から奥側に向けて均一に広がるように１０回それぞれ異なる場所で噴霧し、表領域の奥側から表側に向けて均一に広がるように１０回それぞれ異なる場所で噴霧した。上記のＡ剤とＢ剤との混合により接触させた時から７．３５時間経過後（すなわちＣ剤の１次噴霧時から１．０２時間経過後）における上記６畳室内のＣｌＯ₂ガス濃度は、表４に示すように、１．４０ｐｐｍに低減した。

【0056】

次に、Ａ剤とＢ剤との混合により接触させた時から７．７５時間経過後に、上記Ｃ剤を上記６畳室内で１０回（全体で７．４ｇ）噴霧した（Ｃ剤の２次噴霧という、以下同じ）。ここで、Ｃ剤の２次噴霧は、上記奥領域の表側から奥側に向けて均一に広がるように４回それぞれ異なる場所で噴霧し、中領域の表側から奥側に向けて均一に広がるように３回それぞれ異なる場所で噴霧し、表領域の奥側から表側に向けて均一に広がるように３回それぞれ異なる場所で噴霧した。上記のＡ剤とＢ剤との混合により接触させた時から８．８５時間経過後（すなわちＣ剤の２次噴霧時から１．１時間経過後）における上記６畳室内のＣｌＯ₂ガス濃度は、表４に示すように、０．５５ｐｐｍに低減した。

【0057】

さらに、Ａ剤とＢ剤との混合により接触させた時から９．０時間経過後に、上記Ｃ剤を上記６畳室内で１０回（全体で７．４ｇ）噴霧した（Ｃ剤の３次噴霧という、以下同じ）。ここで、Ｃ剤の３次噴霧は、記奥領域の表側から奥側に向けて均一に広がるように４回それぞれ異なる場所で噴霧し、中領域の表側から奥側に向けて均一に広がるように３回それぞれ異なる場所で噴霧し、表領域の奥側から表側に向けて均一に広がるように３回それぞれ異なる場所で噴霧した。上記のＡ剤とＢ剤との混合により接触させた時から１０．０時間経過後（すなわちＣ剤の３次噴霧時から１．０時間経過後）における上記６畳室内のＣｌＯ₂ガス濃度は、表４に示すように、０．２３ｐｐｍに低減した。

【0058】

さらに、Ａ剤とＢ剤との混合により接触させた時から１０．０５時間経過後に、上記Ｃ上記６畳室内でＣ剤を１０回（全体で７．４ｇ）噴霧した（Ｃ剤の４次噴霧という、以下同じ）。ここで、Ｃ剤の４次噴霧は、記奥領域の表側から奥側に向けて均一に広がるように４回それぞれ異なる場所で噴霧し、中領域の表側から奥側に向けて均一に広がるように３回それぞれ異なる場所で噴霧し、表領域の奥側から表側に向けて均一に広がるように３回それぞれ異なる場所で噴霧した。上記のＡ剤とＢ剤との混合により接触させた時から１１．０時間経過後（すなわちＣ剤の４次噴霧時から０．９５時間経過後）における上記６畳室内のＣｌＯ₂ガス濃度は、表４に示すように、０．０５ｐｐｍに低減し、米国の労働安全衛生局（ＯＳＨＡ）が設定する８時間暴露（ＰＥＬ−ＴＷＡ）における許容暴露濃度である０．１ｐｐｍ以下であった。このとき、上記６畳室内のＣｌＯ₂ガスによる刺激臭は、３人のパネラーが全てがごくわずかに認めるが不快を感じない程度まで低減していた。また、このとき、上記６畳室内のホルムアルデヒドによる悪臭は、３人のパネラー全てが認めず、消失していた。なお、エアコンのドレイン臭についても、３人のパネラー全てが認めず、消失していた。

【0059】

【表4】

【0060】

実施例１−４について表１−４のそれぞれに示すように、亜塩素酸塩を含むＡ剤と、ガス発生剤を含むＢ剤と、二酸化塩素還元剤を含むＣ剤と、で構成され、Ａ剤とＢ剤とを接触させることによりＣｌＯ₂ガスを発生させ、ＣｌＯ₂ガスに、Ｃ剤を接触させることによりＣｌＯ₂ガスを消滅させるＣｌＯ₂ガス発生消滅用キット、ならびに、亜塩素酸塩を含むＡ剤とガス発生剤を含むＢ剤とを接触させることによりＣｌＯ₂ガスを発生させるガス発生工程と、ＣｌＯ₂ガスに二酸化塩素還元剤を含むＣ剤を接触させることによりＣｌＯ₂ガスを消滅させるガス消滅工程と、を備えるＣｌＯ₂ガスの発生消滅方法によれば、発生させたＣｌＯ₂ガスを使用後に消滅させることにより、使用後のＣｌＯ₂ガスによる刺激臭を低減できる。このため、ＣｌＯ₂ガスの使用後は人の退避などの問題がなく、人が多く集まる室内および自動車内などであっても、花粉、塵、皮屑、真菌などのアレルギー誘発物質の処理、病原菌、ウイルス、有害化学物質（たとえば、タバコ煙、ホルムアルデヒド）などの有害物質の処理、環境浄化、脱臭、防カビおよび防腐などの処理にＣｌＯ₂ガスを広く使用することができる。

【0061】

上記実施例１−４に示すように、発生したＣｌＯ₂ガスにＣ剤を接触させることにより、ＣｌＯ₂ガスを消滅させて、ＣｌＯ₂ガスによる刺激臭を低減することができた。

【0062】

今回開示された実施の形態および実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。

【符号の説明】

【0063】

Ｓ１０ ガス発生工程、Ｓ２０ ガス消滅工程。

【図1】