特許 6961660 電気化学セルを動作させる方法及び電気化学セルを作製する方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6961660

(24)【登録日】2021年10月15日

(45)【発行日】2021年11月5日

(54)【発明の名称】電気化学セルを動作させる方法及び電気化学セルを作製する方法

(51)【国際特許分類】

   H01M 10/058 20100101AFI20211025BHJP

   H01M 12/06 20060101ALI20211025BHJP

   H01M 12/08 20060101ALI20211025BHJP

   H01M 10/0562 20100101ALI20211025BHJP

   H01M 10/0565 20100101ALI20211025BHJP

   H01M 10/04 20060101ALI20211025BHJP

   H01M 10/052 20100101ALI20211025BHJP

   H01M 8/10 20160101ALI20211025BHJP

   H01M 8/18 20060101ALI20211025BHJP

   H01M 8/1039 20160101ALI20211025BHJP

   H01M 8/1044 20160101ALI20211025BHJP

   H01M 8/1058 20160101ALI20211025BHJP

   H01M 8/1062 20160101ALI20211025BHJP

   H01G 11/52 20130101ALI20211025BHJP

   H01G 11/30 20130101ALI20211025BHJP

   H01M 50/409 20210101ALI20211025BHJP

【ＦＩ】

   H01M10/058

   H01M12/06 Z

   H01M12/08 K

   H01M10/0562

   H01M10/0565

   H01M10/04 Z

   H01M10/052

   H01M8/10

   H01M8/18

   H01M8/10 101

   H01M8/1039

   H01M8/1044

   H01M8/1058

   H01M8/1062

   H01G11/52

   H01G11/30

   H01M50/409

【請求項の数】14

【外国語出願】

【全頁数】82

(21)【出願番号】特願2019-201691(P2019-201691)

(22)【出願日】2019年11月6日

(62)【分割の表示】特願2018-160745(P2018-160745)の分割

【原出願日】2013年1月10日

(65)【公開番号】特開2020-43081(P2020-43081A)

(43)【公開日】2020年3月19日

【審査請求日】2019年11月26日

(31)【優先権主張番号】61/622,371

(32)【優先日】2012年4月10日

(33)【優先権主張国】US

(31)【優先権主張番号】13/545,683

(32)【優先日】2012年7月10日

(33)【優先権主張国】US

(31)【優先権主張番号】PCT/US2012/046067

(32)【優先日】2012年7月10日

(33)【優先権主張国】US

(31)【優先権主張番号】61/677,306

(32)【優先日】2012年7月30日

(33)【優先権主張国】US

(31)【優先権主張番号】61/679,584

(32)【優先日】2012年8月3日

(33)【優先権主張国】US

(73)【特許権者】

【識別番号】508032284

【氏名又は名称】カリフォルニア インスティチュート オブ テクノロジー

(74)【代理人】

【識別番号】100147485

【弁理士】

【氏名又は名称】杉村 憲司

(74)【代理人】

【識別番号】100119530

【弁理士】

【氏名又は名称】冨田 和幸

(72)【発明者】

【氏名】ファルシッド ルーミー

【審査官】 儀同 孝信

(56)【参考文献】

【文献】 特開平０９−２３１９６２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平０６−１６８７３７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開昭６２−２９１８７１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開昭６３−１５５５５２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１１−２２２２１５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００５−２５９５６６（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００８−０１６１９３（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｈ０１Ｍ １０／０５８

Ｈ０１Ｍ ５０／４０９

Ｈ０１Ｍ １２／０６

Ｈ０１Ｍ １２／０８

Ｈ０１Ｍ １０／０５６２

Ｈ０１Ｍ １０／０５６５

Ｈ０１Ｍ １０／０４

Ｈ０１Ｍ １０／０５２

Ｈ０１Ｍ ８／１０

Ｈ０１Ｍ ８／１８

Ｈ０１Ｍ ８／１０３９

Ｈ０１Ｍ ８／１０４４

Ｈ０１Ｍ ８／１０５８

Ｈ０１Ｍ ８／１０６２

Ｈ０１Ｇ １１／５２

Ｈ０１Ｇ １１／３０

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

電気化学セルを動作させる方法であって、
（ａ）正電極集電体と電子的に連通する正電極と、
負電極集電体と電子的に連通する負電極と、
前記正電極と前記負電極との間に位置決めした、イオン伝導・電子絶縁性のセパレータと、
前記正電極又は前記負電極と前記セパレータとの間に位置決めされ、外部集電極を通じて、前記正電極又は前記負電極と電子的に連通する、第１電子・イオン伝導層であって、前記外部集電極と電子的に連通する第１電子・イオン伝導層と、
前記正電極と前記負電極との間に位置決めした１つ又は複数の電解質であり、前記１つ又は複数の電解質は電荷担体を伝導可能である、電解質と、
を備える電気化学セルを準備することと、
（ｂ）前記電気化学セルの動作の間、前記外部集電極と前記正電極集電体又は前記負電極集電体とを介して前記正電極又は前記負電極を還元又は酸化して、前記正電極と前記負電極との間のデンドライト形成を防止することと、
を含む方法。

【請求項2】

請求項１に記載の方法において、前記外部集電極と前記正電極集電体とを介して前記正電極を還元又は酸化することを含む、方法。

【請求項3】

請求項１に記載の方法において、前記外部集電極と前記負電極集電体とを介して前記負電極を還元又は酸化することを含む、方法。

【請求項4】

電気化学セルを作製する方法であって、
（ａ）正電極集電体と電子的に連通する正電極を設けることと、
（ｂ）負電極集電体と電子的に連通する負電極を設けることと、
（ｃ）前記正電極と前記負電極との間に位置決めした、イオン伝導・電子絶縁性のセパレータを設けることと、
（ｄ）前記正電極又は前記負電極と前記セパレータとの間に位置決めされ、外部集電極を通じて、前記正電極又は前記負電極と電子的に連通する、第１電子・イオン伝導層であって、前記外部集電極と電子的に連通する第１電子・イオン伝導層を設けることと、
（ｅ）前記正電極と前記負電極との間に位置決めした１つ又は複数の電解質であり、前記１つ又は複数の電解質は電荷担体を伝導可能である、電解質を設けることと、
を含み、
前記電気化学セルは、当該電気化学セルの動作の間、前記外部集電極と前記正電極集電体又は前記負電極集電体とを介して前記正電極又は前記負電極を還元又は酸化して、前記正電極と前記負電極との間のデンドライト形成を防止するように構成されている、方法。

【請求項5】

請求項４に記載の方法において、前記第１電子・イオン伝導層は、前記外部集電極と前記正電極集電体とを介して前記正電極を還元又は酸化するように構成されている、方法。

【請求項6】

請求項４に記載の方法において、前記第１電子・イオン伝導層は、前記外部集電極と前記負電極集電体とを介して前記負電極を還元又は酸化するように構成されている、方法。

【請求項7】

請求項４に記載の方法において、前記第１電子・イオン伝導層は、電気化学的に活性な層である、方法。

【請求項8】

請求項４に記載の方法において、前記第１電子・イオン伝導層は、電気化学的に活性な材料を含む、方法。

【請求項9】

請求項１に記載の方法において、前記第１電子・イオン伝導層は、電気化学的に活性な層である、方法。

【請求項10】

請求項１に記載の方法において、前記第１電子・イオン伝導層は、電気化学的に活性な材料を含む、方法。

【請求項11】

請求項１に記載の方法において、前記第１電子・イオン伝導層は、炭素系物質を含む、方法。

【請求項12】

請求項１に記載の方法において、前記１つ又は複数の電解質の少なくとも１つは、固体電解質を含む、方法。

【請求項13】

請求項４に記載の方法において、前記電解質の少なくとも１つは、固体電解質を含む、方法。

【請求項14】

請求項４に記載の方法において、前記第１電子・イオン伝導層は、炭素系物質を含む、方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、電気化学システムの新規セパレータに関する。

【0002】

［関連出願の相互参照］
本願は、２０１１年７月１１日付で出願された米国仮出願第６１／５０６，４８９号、
２０１２年４月１０日付で出願された米国仮出願第６１／６２２，３７１号、及び２０１
１年７月１１日に出願された米国仮出願第６１／５０６，４８９号及び２０１２年４月１
０日に出願された米国仮出願第６１／６２２，３７１号の利益及び優先権を主張する２０
１２年７月１０日付で出願されたＰＣＴ国際出願第ＰＣＴ／ＵＳ１２／４６０６７号の利
益及び優先権を主張する２０１２年７月１０日付けで出願された米国非仮特許出願第１３
／５４５，６８３号の利益及び優先権を主張するものであり、また、本願は、２０１２年
４月１０日付で出願された米国仮出願第６１／６２２，３７１号、２０１２年７月３０日
付で出願された米国仮出願第６１／６７７，３０６号、及び２０１２年８月３日付で出願
された米国仮出願第６１／６７９，５８４号の利益及び優先権を主張するものであり、上
記出願それぞれの全体を参照により本記載に矛盾しない範囲で本明細書に援用する。

【背景技術】

【0003】

過去数十年にわたり、電気化学蓄電・変換装置は革命的な進歩を遂げ、携帯用電子装置
、航空機及び宇宙機技術、乗用車、及び生体計測を含むさまざまな分野でのこれらのシス
テムの能力を広げてきた。最新の電気化学蓄電・変換装置は、広範囲の適用要件及び動作
環境との適合性を提供するよう特別に改変した設計及び性能属性を有する。例えば、植え
込み型医療装置用の非常に低い自己放電率及び高い放電信頼性を示す高エネルギー密度電
池から、広範囲の携帯用電子装置用の長い実行時間を提供する安価な軽量充電式電池、そ
して短期間に極めて高い放電率を提供することが可能な軍事及び航空宇宙用途用の高容量
電池にわたる、高度電気化学蓄電システムが開発されてきた。

【0004】

この多様な高度電子機械蓄電・変換システムの開発及び幅広い採用にもかかわらず、こ
れらのシステムの機能性を拡張するための研究を促進することにより、さらに広範囲の装
置用途を可能にする必要に迫られている。例えば、高出力携帯用電子製品に対する需要の
大きな伸びから、より高いエネルギー密度を提供する安全で軽量の一次電池及び二次電池
の開発が大きな関心を生んでいる。さらに、家庭用電化製品及び計器の分野における小型
化に対する需要が、高性能電池のサイズ、質量、及びフォームファクタを低減するための
新規設計及び材料戦略の研究を促進し続けている。さらに、電気自動車及び航空宇宙工学
の分野の継続的な発展も、有効範囲の動作環境で良好な装置性能を可能にする機械的に堅
牢な、高信頼性の、高エネルギー密度及び高パワー密度の電池の必要性を生んでいる。

【0005】

電気化学蓄電・変換技術における最近の多くの進歩は、電池コンポーネントの新たな材
料の発見及び組み込みに直接起因する。例えば、リチウム電池技術は、少なくとも一部は
これらのシステムの新規電極及び電解質材料の発見に起因して、急速な発展を続けている
。リチウム元素は、電気化学セルでのその使用を魅力的にする独特な特性の組み合わせを
有する。第１に、これは、周期表において最も軽い金属であり、原子質量６．９４ＡＭＵ
を有する。第２に、リチウムは、非常に低い電気化学酸化／還元電位（すなわち、ＮＨＥ
（標準水素電極）に対して−３．０４５Ｖ）を有する。この独特な特性の組み合わせによ
り、リチウム系電気化学セルは非常に大きな比容量を有することができる。最新のリチウ
ムイオン二次電池は、優れた充放電特性をもたらし、したがって携帯電話及びポータブル
コンピュータ等の携帯用電子装置の電源としても幅広く採用されている。全体を参照によ
り本明細書に援用する特許文献１、特許文献２、特許文献３、及び非特許文献１は、リチ
ウム電池システム及びリチウムイオン電池システムを対象としたものである。

【0006】

電極物質、電解質組成物、及び装置の幾何学的形状の進歩は、Ｌｉ系電気化学システム
のさらなる開発を支援し続けている。例えば、２０１２年３月２９日付けで公開された特
許文献４及び２０１２年３月１５日付けで公開された特許文献５は、リチウム電池を含む
電気化学システムの３次元電極アレイ構造を開示している。

【0007】

実質的な進歩にもかかわらず、Ｌｉ系電気化学システムの継続的な開発に関連して現実
的な課題が残る。例えば、重要な問題は、一次及び二次リチウム及びリチウムイオン電池
におけるデンドライト形成に関するものである。多くの電解質中でのＬｉ析出はデンドラ
イト傾向が強く、それによりこれらのシステムには短絡、機械的破損、及び熱暴走を含む
問題が起こりやすいことが、概して知られている。デンドライト形成に関する安全上の懸
念が、目下、充電式システムにおける金属Ｌｉアノードの実装を妨げる障壁となっている
。特に二次電池に関連して、デンドライト形成に関連した安全性に取り組むために、非リ
チウムアノードとデンドライト形成に関連した問題をリアルタイムで監視可能な内部安全
システムとの開発を含む多くの戦略が追求されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0008】

【特許文献1】米国特許第６，８５２，４４６号明細書

【特許文献2】米国特許第６，３０６，５４０号明細書

【特許文献3】米国特許第６，４８９，０５５号明細書

【特許文献4】米国出願公開第２０１２／００７７０９５号明細書

【特許文献5】国際特許出願公開第２０１２／０３４０４２号明細書

【非特許文献】

【0009】

【非特許文献1】「リチウム電池科学及び技術（Lithium Batteries Science and Technology）」Gholam-Abbas Nazri and Gianfranceo Pistoia編、Kluer Academic Publishers、2004

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0010】

上記から概して認識されるように、リチウム系又はアルカリ系電池、フロー電池、スー
パーキャパシタ、及び燃料電池等の、一定範囲の用途に有用な電気化学特性を示すリチウ
ム系電気化学システムが目下必要とされている。具体的には、一次リチウム系電池及び二
次リチウム系電池の両方で良好な電気化学性能及び高い多用性を可能にするリチウム電気
化学システムが必要である。

【課題を解決するための手段】

【0011】

一態様では、本発明は、一定範囲の電気化学蓄電・変換用途に有用な電子特性、機械特
性、及び化学特性を提供する電気化学システム用のセパレータシステムを提供する。いく
つかの実施形態のセパレータシステムは、例えば、電気化学セルの壊損の防止に有用であ
り且つサイクル寿命及びエネルギー及び電力等の性能を高めるのに有用な、構造的、物理
的、及び静電的特質を提供する。一連の例は、リチウム系電池、アルカリ系電池、亜鉛系
電池、及び鉛系電池等の金属系電池におけるデンドライト形成を管理及び制御するセパレ
ータである。一実施形態では、例えば、本発明のセパレータシステムは、優れたイオン輸
送特性を支援すると同時にデンドライトが引き起こす機械的破損、電子的内部短絡及び／
又は熱暴走を防止するのに有効な障壁を提供する、多層で多孔質の幾何学的形状を有する
。別の一連の例は、複数の多孔質／有孔層と不透過性だがイオン選択性の導電膜とからな
る多層セパレータであり、多孔質層がデンドライト短絡故障及び／又は熱暴走等の内部短
絡故障を防止するのに有効な障壁を提供し、膜層がアノードに隣接した電解質をカソード
に隣接した電解質から分離するのに有効な障壁を提供して、電極及びそれらの表面及びそ
れらの電解質の汚染を防止することで、エネルギー、パワー、及びライフサイクル等のセ
ルの性能を高めることができる。これは、金属空気及びフロー電池及び半固体電池で特に
有用であり、いくつかの例は、リチウム−空気セル、リチウム水セル、及び亜鉛−空気セ
ルである。

【0012】

一実施形態では、本発明は、電気化学システム用のセパレータシステムであって、（ｉ
）第１高機械強度層であり、第１高機械強度層を貫通して第１パターンで設けた複数の開
口を有する第１高機械強度層と、（ｉｉ）第２高機械強度層であり、第２高機械強度層を
貫通して第２パターンで設けた複数の開口を有し、第２パターンは、第１高機械強度層か
ら第２高機械強度層まで垂直に延びる軸に沿った第１高機械強度層の開口と第２高機械強
度層の開口との重なりが２０％以下であるように第１パターンに対してオフセット配列を
有する第２高機械強度層とを備え、第１高機械強度層及び第２高機械強度層は、第１高機
械強度層及び第２高機械強度層に接触して設けた電解質のイオンを第１高機械強度層及び
第２高機械強度層を通して輸送可能であるように位置決めされる、セパレータシステムを
提供する。一実施形態では、例えば、第１高機械強度層及び第２高機械強度層は、相互に
直接物理的に接触していない。この態様の実施形態では、第１高機械強度層から第２高機
械強度層まで垂直に延びる軸に沿った第１高機械強度層の開口と第２高機械強度層の開口
との重なりは、１０％以下である。一実施形態では、例えば、本発明のセパレータシステ
ムは、第１高機械強度層と第２高機械強度層との間に、任意に第１高機械強度層又は第２
高機械強度層又はこれら両方に接触して設けた１つ又は複数の電解質をさらに備え、第１
高機械強度層及び第２高機械強度層は、イオン伝動性であり、電気化学システムの電解質
の輸送を任意に可能にする。

【0013】

一実施形態では、本発明は、電気化学システム用のセパレータシステムであって、（ｉ
）第１高機械強度層であり、第１高機械強度層を貫通して第１パターンで設けた複数の開
口を有する第１高機械強度層と、（ｉｉ）第２高機械強度層であり、第２高機械強度層を
貫通して第２パターンで設けた複数の開口を有し、第２パターンは、第１高機械強度層か
ら第２高機械強度層まで垂直に延びる軸に沿った第１高機械強度層の開口と第２高機械強
度層の開口との重なりが２０％以下であるように第１パターンに対してオフセット配列を
有する第２高機械強度層と、（ｉｉｉ）第３高機械強度層であり、第３高機械強度層を貫
通して第１パターンと同じ空間的開口配置を有する第３パターンで設けた複数の開口を有
する第３高機械強度層とを備え、第１高機械強度層、第２高機械強度層、及び第３高機械
強度層は、第１高機械強度層、第２高機械強度層、及び第３高機械強度層に接触して設け
た電解質のイオンを第１高機械強度層、第２高機械強度層、及び第３高機械強度層を通し
て輸送可能であるように位置決めされるセパレータシステムを提供する。この態様の一実
施形態では、第１高機械強度層から第２高機械強度層まで垂直に延びる軸に沿った第１高
機械強度層の開口と第２高機械強度層の開口との重なりは、１０％以下である。この説明
を通して用いられる場合、「同じ空間的開口配置」は、２つ以上の高機械強度層の開口が
高機械強度層間に垂直に延びる軸に沿って配列されるようにしたこれらの位置を指す。一
実施形態では、例えば、「同じ空間的開口配置」は、２つ以上の高機械強度層の開口が高
機械強度層間に垂直に延びる軸に沿って９０％以上重なるようにしたこれらの位置を指す
。

【0014】

一実施形態では、本発明は、電気化学システム用のセパレータシステムであって、（ｉ
）第１高機械強度層であり、第１高機械強度層を貫通して第１パターンで設けた複数の開
口を有する第１高機械強度層と、（ｉｉ）第２高機械強度層であり、第２高機械強度層を
貫通して第２パターンで設けた複数の開口を有し、第２パターンは、第１高機械強度層か
ら第２高機械強度層まで垂直に延びる軸に沿った第１高機械強度層の開口と第２高機械強
度層の開口との重なりが２０％以下であるように第１パターンに対してオフセット配列を
有する第２高機械強度層と、（ｉｉｉ）第３高機械強度層であり、第３高機械強度層を貫
通して第１パターンと同じ空間的開口配置を有する第３パターンで設けた複数の開口を有
する第３高機械強度層と、（ｉｖ）第４高機械強度層であり、第４高機械強度層を貫通し
て第２パターンと同じ空間的開口配置を有する第４パターンで設けた複数の開口を有する
第４高機械強度層とを備え、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機械強度層、
及び第４高機械強度層は、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機械強度層、及
び第４高機械強度層に接触して設けた電解質のイオンを第１高機械強度層、第２高機械強
度層、第３高機械強度層、及び第４高機械強度層を通して輸送可能であるように位置決め
されるセパレータシステムを提供する。この態様の一実施形態では、第１高機械強度層か
ら第２高機械強度層まで垂直に延びる軸に沿った第１高機械強度層の開口と第２高機械強
度層の開口との重なりは、１０％以下である。

【0015】

一実施形態では、本発明は、電気化学システム用のセパレータシステムであって、（ｉ
）第１高機械強度層であり、第１高機械強度層を貫通して第１パターンで設けた複数の開
口を有する第１高機械強度層と、（ｉｉ）第２高機械強度層であり、第２高機械強度層を
貫通して第２パターンで設けた複数の開口を有し、第２パターンは、第１高機械強度層か
ら第２高機械強度層まで垂直に延びる軸に沿った第１高機械強度層の開口と第２高機械強
度層の開口との重なりが４０％以下であるように第１パターンに対してオフセット配列を
有する第２高機械強度層と、（ｉｉｉ）第３高機械強度層であり、第３高機械強度層を貫
通して第３パターンで設けた複数の開口を有し、第３パターンは、第１層又は第２層から
第３層まで垂直に延びる軸に沿った第１高機械強度層の開口と、第２高機械強度層の開口
と、第３高機械強度層の開口との重なりが２０％以下であるように第１パターン及び第２
パターンに対してオフセット配列を有する第３高機械強度層とを備え、第１高機械強度層
、第２高機械強度層、及び第３高機械強度層は、第１高機械強度層、第２高機械強度層、
及び第３高機械強度層に接触して設けた電解質のイオンを第１高機械強度層、第２高機械
強度層、及び第３高機械強度層を通して輸送可能であるように位置決めされるセパレータ
システムを提供する。この態様の一実施形態では、第１高機械強度層から第２高機械強度
層まで垂直に延びる軸に沿った第１高機械強度層の開口と第２高機械強度層の開口との重
なりは、２０％以下であり、第１高機械強度層又は第２高機械強度層から第３高機械強度
層まで垂直に延びる軸に沿った第１高機械強度層の開口と、第２高機強度層の開口と、第
３高機械強度層の開口との重なりは、１０％以下である。

【0016】

一実施形態では、本発明は、電気化学システム用のセパレータシステムであって、（ｉ
）第１高機械強度層であり、第１高機械強度層を貫通して第１パターンで設けた複数の開
口を有する第１高機械強度層と、（ｉｉ）第２高機械強度層であり、第２高機械強度層を
貫通して第２パターンで設けた複数の開口を有し、第２パターンは、第１高機械強度層か
ら第２高機械強度層まで垂直に延びる軸に沿った第１高機械強度層の開口と第２高機械強
度層の開口との重なりが５０％以下であるように第１パターンに対してオフセット配列を
有する第２高機械強度層と、（ｉｉｉ）第３高機械強度層であり、第３高機械強度層を貫
通して第３パターンで設けた複数の開口を有し、第３パターンは、第１高機械強度層又は
第２高機械強度層から第３高機械強度層まで垂直に延びる軸に沿った第１高機械強度層の
開口と、第２高機械強度層の開口と、第３高機械強度層の開口との重なりが３０％以下で
あるように第１パターン及び第２パターンに対してオフセット配列を有する第３高機械強
度層と、（ｉｖ）第４高機械強度層であり、第４高機械強度層を貫通して第４パターンで
設けた複数の開口を有し、第４パターンは、第１高機械強度層又は第２高機械強度層から
第４高機械強度層まで垂直に延びる軸に沿った第１高機械強度層の開口と、第２高機械強
度層の開口と、第３高機械強度層の開口と、第４高機械強度層の開口との重なりが２０％
以下であるように第１パターン、第２パターン、及び第３パターンに対してオフセット配
列を有する第４高機械強度層とを備え、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機
械強度層、及び第４高機械強度層は、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機械
強度層、及び第４高機械強度層に接触して設けた電解質のイオンを第１高機械強度層、第
２高機械強度層、第３高機械強度層、及び第４高機械強度層を通して輸送可能であるよう
に位置決めされるセパレータシステムを提供する。この態様の一実施形態では、第１高機
械強度層から第２高機械強度層まで垂直に延びる軸に沿った第１高機械強度層の開口と第
２高機械強度層の開口との重なりは、３０％以下であり、第１パターン及び第２パターン
に対するオフセット配列は、第１高機械強度層又は第２高機械強度層から第３高機械強度
層まで垂直に延びる軸に沿った第１高機械強度層の開口と、第２高機強度層の開口と、第
３高機械強度層の開口との重なりが、２０％以下であるようにし、第１パターン、第２パ
ターン、及び第３パターンに対してオフセット配列は、第１高機械強度層又は第２高機械
強度層から第４高機械強度層まで垂直に延びる軸に沿った第１高機械強度層の開口と、第
２高機強度層の開口と、第３高機械強度層の開口と、第４高機械強度層の開口との重なり
が、１０％以下であるようにする。

【0017】

いくつかの実施形態では、例えば、第２高機械強度層を第１高機械強度層と第３高機械
強度層との間に設ける。いくつかの実施形態では、例えば、第１高機械強度層を第２高機
械強度層と第４高機械強度層との間に設けるか、又は第３高機械強度層を第２高機械強度
層と第４高機械強度層との間に設ける。一実施形態では、第１機械強度層及び第２機械強
度層を物理的に接触して設けないか、又は第１機械強度層、第２機械強度層、及び第３機
械強度層を物理的に接触させて設けないか、又は第１機械強度層、第２機械強度層、第３
機械強度層、及び第４機械強度層を物理的に接触して設けない。

【0018】

この態様のいくつかのセパレータは、例えば、電気化学システムにおけるデンドライト
形成を管理する多層構造を提供し、複数のセパレータ層（例えば、第１高機械強度層、第
２高機械強度層、第３高機械強度層、第４高機械強度層等）が、正電極と負電極との間の
デンドライト成長が動力学的及び／又は熱力学的に不利であるようなイオン伝導率を正電
極と負電極との間で確立するマイクロチャネル又はナノチャネル等の相補的な開口パター
ンを有する。この態様のいくつかのセパレータは、例えば、正電極と負電極との間のデン
ドライト成長をもたらす直接的な直線経路を防止する多層の幾何学的形状及び物理特性を
有する障壁を提供し、これは、正電極と負電極との間のイオン輸送用の経路（単数又は複
数）のみがデンドライト成長にとって動力学的及び／又は熱力学的に不利な曲線軌道を必
要とする、多層構造を提供することによって得られる。いかなる理論に縛られずとも、デ
ンドライトに対する高強度層からの力によりデンドライト成長は減速又は停止する。電子
化学セルの各実施形態において、デンドライト成長が減速又は停止することによりセルの
性能は非常に向上する。一実施形態では、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高
機械強度層、及び／又は第４高機械強度層は、平面状であり、例えば相互に対して実質的
に平行な向きで設けられ、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機械強度層、及
び／又は第４高機械強度層の平面は、平行面に設けられる。一実施形態では、第１高機械
強度層、第２高機械強度層、第３高機械強度層、及び／又は第４高機械強度層は、中空円
筒構造であり、例えば実質的に同心状の向きで設けられ、円筒形の第１層及び第２層の曲
面が、同心状の向きで設けられる。本明細書で用いられる場合、同心状の向きから垂直に
延びる軸は、中心軸に対して垂直であり中心軸から半径方向に延びる。

【0019】

本発明のいくつかのセパレータシステムの多層の幾何学的形状は、第１層から第２層ま
で垂直に延びる軸に沿った第１パターンの開口と第２パターンの開口との選択的な重なり
を提供するオフセット配列を提供する。本発明のこの態様は、有用なイオン輸送特性を利
用すると同時に、電気化学セルの正電極と負電極との間のデンドライト形成を防止するの
に有用である。いくつかの実施形態では、用語「オフセット」は、セパレータの１つの高
機械強度層の開口が、第１高機械強度層から第２高機械強度層まで垂直に延びる軸等の１
つの層から別の層まで延びる軸に沿った別の高機械強度層の開口の位置に対してオフセッ
トしている構成を指す。いくつかの実施形態では、用語「オフセット」は、第１高機械強
度層の開口が第１高機械強度層から第２高機械強度層まで垂直に延びる軸に沿って第２高
機械強度層の開口に完全には重畳可能でないように、第１高機械強度層の第１パターンの
開口が第２高機械強度層の第２パターンの開口の位置に対してオフセットするような、高
機械強度層の開口パターンの相対的構成を指す。一実施形態では、例えば、第１高機械強
度層及び第２高機械強度層は、ナノ多孔質及び／又は微多孔質であり、第１高機械強度層
の開口が第１高機械強度層から第２高機械強度層まで垂直に延びる軸に沿って第２高機械
強度層の開口に全く重畳可能でないように配列される。一実施形態では、例えば、第１高
機械強度層から第２高機械強度層まで垂直に延びる軸に沿った第１パターン、第２パター
ン、第３パターン、及び第４パターンの２つ以上の開口の重なりは、１０％以下であり、
場合によってはいくつかの用途で１％以下である。一実施形態では、例えば、第１高機械
強度層から第２高機械強度層まで垂直に延びる軸に沿った第１パターン、第２パターン、
第３パターン、及び第４パターンの２つ以上の開口の重なりは、０％〜５％の範囲から選
択され、場合によってはいくつかの用途で０％〜１％の範囲から選択される。一実施形態
では、例えば、第１高機械強度層から第２高機械強度層まで垂直に延びる軸に沿った第１
パターン、第２パターン、第３パターン、及び第４パターンの２つ以上の開口の重なりは
、０に等しく、例えば正確に０に等しい。一実施形態では、例えば、第１高機械強度層か
ら第２高機械強度層まで垂直に延びる軸に沿った第１パターン、第２パターン、及び第３
パターンの開口の重なりは、１０％以下である。一実施形態では、例えば、第１高機械強
度層から第２高機械強度層まで垂直に延びる軸に沿った第１パターン、第２パターン、及
び第３パターンの開口の重なりは、０％〜５％の範囲から選択される。一実施形態では、
例えば、第１高機械強度層から第２高機械強度層まで垂直に延びる軸に沿った第１パター
ン、第２パターン、第３パターン、及び第４パターンの開口の重なりは、１０％以下であ
る。一実施形態では、例えば、第１高機械強度層から第２高機械強度層まで垂直に延びる
軸に沿った第１パターン、第２パターン、第３パターン、及び第４パターンの開口の重な
りは、０％〜５％の範囲から選択される。

【0020】

一実施形態では、例えば、第１パターン、第２パターン、第３パターン、及び第４パタ
ーンの２つ以上は、実質的に相補的なパターンを含む。一実施形態では、例えば、実質的
に相補的なパターンは、相互の実質的なネガ画像に対応する。本明細書で用いられる場合
、相補的なパターンは、高機械強度層の１つのパターンの開口と１つ又は複数の他のパタ
ーンの１つ又は複数の他の高機械強度層の開口との相対位置が、電気化学セルの正電極と
負電極との間のデンドライト成長を防止するよう選択される構成を指す。一実施形態では
、例えば、第１パターン及び第２パターンの実質的に相補的なパターンは、例えば、相互
のネガ画像であり、第１パターンの開口の位置が開口を有しない第２層の領域に対応する
。本発明の相補的なパターンの例として、第１層は、チェス盤の黒マスに相当する開口パ
ターンを特徴とし、第２層は、チェス盤の赤マスに相当する開口パターンを特徴とし得る
。本発明の相補的なパターンの例として、第１高機械強度層は、第１ピッチ及び開口間隔
を特徴とする第１周期開口パターンを有し、第２高機械強度層は、同じピッチ及び開口間
隔を特徴とするが第１パターンの開口の位置からオフセット又は平行移動した第２周期開
口パターンを有することで、第１高機械強度層の開口が第１高機械強度層及び第２高機械
強度層から垂直に延びる軸に沿って第２高機械強度層の開口に重畳可能でないようにする
。

【0021】

一実施形態では、３つ以上の高機械強度層を有するセパレータシステムは、同一のパタ
ーン（すなわち、非相補的パターン）を有するいくつかの高機械強度層を含み得るが、こ
れは、相補的なパターンを有する少なくとも１つの層が同一のパターンを有する高機械強
度層間に位置決めされる場合に限る。例えば、セパレータシステムは、パターンＡを有す
る１つ又は複数の高機械強度層及びパターンＢを有する１つ又は複数の高機械強度層を特
徴とすることができ、Ａ及びＢは、ＡＢＡの反復配列に従って配置された相補的なパター
ンであり、４つ以上の高機械強度層を含む多層系では、より長い配列、例えばＡＢＡＢＡ
Ｂが可能である。

【0022】

別の実施形態では、３つ以上の高機械強度層を有するセパレータシステムは、相補的な
パターンを有する高機械強度層のみを含み得る。例えば、セパレータシステムは、パター
ンＡを有する１つ又は複数の高機械強度層、パターンＢを有する１つ又は複数の高機械強
度層、及びパターンＣを有する１つ又は複数の高機械強度層を特徴とすることができ、Ａ
、Ｂ、及びＣは、ＡＢＣの反復配列に従って配置されて他の２つのパターンとそれぞれが
相補的なパターンであり、４つ以上の高機械強度層を含む多層系ではより長い配列（例え
ば、ＡＢＣＡＢＣ）及び変化をつけた配列（例えば、ＡＢＣＢＡ、ＡＢＣＡ）が可能であ
る。

【0023】

別の態様では、本発明は、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機械強度層、
及び第４高機械強度層の少なくとも１つの片側に設けた１つ又は複数の低イオン抵抗層を
さらに備えたセパレータシステムを提供する。一実施形態では、例えば、１つ又は複数の
低イオン抵抗層のそれぞれが、例えば電気化学セルの電解質用のリザーバを提供する電解
質含有リザーバである。一実施形態では、例えば、１つ又は複数の低イオン抵抗層はそれ
ぞれ独立して、２０Ωｃｍ^２以下、好ましくはいくつかの実施形態では２Ωｃｍ^２以下、
好ましくはいくつかの実施形態では１Ωｃｍ^２以下のイオン抵抗を有する。一実施形態で
は、例えば、上記１つ又は複数の低イオン抵抗層の少なくとも１つは、第１高機械強度層
、第２高機械強度層、第３高機械強度層、及び第４高機械強度層の少なくとも２つの間に
設けた電解質用の空間を提供する圧力緩衝器である。

【0024】

一実施形態では、例えば、高機械強度層の少なくとも１つ及び１つ又は複数の低イオン
抵抗層の少なくとも１つは、高機械強度層及び１つ又は複数の低イオン抵抗層の少なくと
も１つに堆積させた堆積リザーバである。一実施形態では、例えば、高機械強度層及び１
つ又は複数の低イオン抵抗層の少なくとも１つは、電気化学セルの電極に堆積させた堆積
層、例えば、電気化学セルの電解質に向いた正電極又は負電極の表面に直接堆積させた層
である。一実施形態では、例えば、１つ又は複数の低イオン抵抗層の少なくとも１つ、場
合によっては全部が、圧力、熱、又は化学的接着により、第１高機械強度層、第２高機械
強度層、第３高機械強度層、及び第４高機械強度層のいずれかの少なくとも片側に接着さ
れる。一実施形態では、例えば、１つ又は複数の低イオン抵抗層の少なくとも１つ、場合
によっては全部が、ポリマー樹脂により、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高
機械強度層、及び第４高機械強度層のいずれかの少なくとも片側に接着される。一実施形
態では、例えば、１つ又は複数の低イオン抵抗層の少なくとも１つ、場合によっては全部
が、微多孔質材料、織材、又は不織材を含む。

【0025】

一実施形態では、例えば、１つ又は複数の低イオン抵抗層の少なくとも１つ、場合によ
っては全部が、セラミック若しくはガラス電解質、ポリマー電解質、又は別の固体電解質
を含む。一実施形態では、例えば、低イオン抵抗層は、ナフィオン又はＺｒＯ_２又はＮＡ
ＳＩＣＯＮ又はＬＩＳＩＣＯＮ若しくはＬＩＰＯＮ等のガラス電解質、又はＰＥＯ等のポ
リマー電解質を含む。一実施形態では、例えば、１つ又は複数の低イオン抵抗層の少なく
とも１つ、場合によっては全部が、有孔セラミックセパレータ、多孔質セラミックセパレ
ータ、有孔ガラスセパレータ、多孔質ガラスセパレータ、又は有孔金属、又は有孔合金セ
パレータ、又は有孔ゴム、又はゴムメッシュ、又は金属メッシュ、又は合金メッシュを含
む。

【0026】

一実施形態では、例えば、１つ又は複数の低イオン抵抗層の少なくとも１つは、リング
又は中央開口を有するフレーム、例えば、電気化学セルに機械的支持構造、電解質リザー
バ構造、及び／又はスペーサ構造を設けるリング又はフレーム構造を含む。一実施形態で
は、例えば、１つ又は複数の低イオン抵抗層は、第１高機械強度層、第２高機械強度層、
第３高機械強度層、及び第４高機械強度層の少なくとも１つと接触した１つ又は複数のフ
レーム層を含む。一実施形態では、例えば、第１高機械強度層を第１フレーム層と第２フ
レーム層との間に設け、第２高機械強度層を第３フレーム層と第４フレーム層との間に設
けるか、又は第１高機械強度層を第１フレーム層と第２フレーム層との間に設け、第２高
機械強度層を第２フレーム層と第３フレーム層との間に設ける。一実施形態では、例えば
、１つ又は複数の低イオン抵抗層は、電気化学セルの正電極及び／又は負電極等の電気化
学システムの電極の少なくとも１つと物理的に接触した１つ又は複数のフレーム層を含む
。一実施形態では、例えば、１つ又は複数の低イオン抵抗層は、第１層と第２層との間に
設けたスペーサを備え、スペーサは、第１層と第２層とを１０ｎｍ〜１０００μｍの範囲
から選択される、場合によってはいくつかの用途で１μｍ〜１０００μｍの範囲から選択
される選択距離だけ分離する。一実施形態では、例えば、この態様のスペーサは、第１高
機械強度層と第２高機械強度層との間の選択距離を定めるリング、多孔質壁コンポーネン
トを有するフレーム構造、材料層、又は別個の材料要素配置を含む。

【0027】

一実施形態では、例えば、低イオン抵抗層のそれぞれ、場合によっては全部が独立して
、ポリマー、セラミック、木材、ガラス、鉱物、金属、合金、織材、不織材、セルロース
、木繊維、海綿体、又はそれらの組み合わせである。一実施形態では、例えば、１つ又は
複数の低イオン抵抗層はそれぞれ独立して、５０％以上の、好ましくはいくつかの用途で
７０％を超える、好ましくはいくつかの用途で９０％を超える多孔度を有する。一実施形
態では、例えば、１つ又は複数の低イオン抵抗層はそれぞれ独立して、５０％〜９５％の
範囲から選択される多孔度、好ましくはいくつかの用途で７０％〜９５％の範囲から選択
される多孔度を有する。

【0028】

一実施形態では、例えば、高機械強度層の１つの少なくとも片側は、濡れ性、例えば電
気化学セルの電解質に対する濡れ性を有する。一実施形態では、例えば、セパレータ構成
は、高機械強度層の濡れ性のある面が低イオン抵抗層を間に設けずに別の高機械強度層に
隣接して配置されることを特徴とする。一実施形態では、例えば、セパレータ構成は、高
機械強度層の濡れ性のある面が低イオン抵抗層を間に設けずに電極に隣接して配置される
ことを特徴とする。一実施形態では、例えば、セパレータは、別の低イオン抵抗層又は高
機械強度層に塗布した、又は電気化学システムの正電極又は負電極等の化学セルの電極に
塗布した、１つ又は複数の低イオン抵抗層又は高機械強度層を含む。

【0029】

別の態様では、本発明は、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機械強度層、
第４高機械強度層、又は１つ又は複数の低イオン抵抗層の少なくとも１つの片側に設けた
、１つ又は複数の化学障壁層をさらに備えるセパレータを提供する。１つ又は複数の化学
障壁を有するセパレータは、正電極及び負電極を異なる電解質に接触して設けた電気化学
システムで有用であり、したがって化学障壁（単数又は複数）は、電荷担体の輸送を可能
にする電解質の輸送は防止する。かかる構成では、化学障壁は、電極を劣化から保護する
こと及び／又は電気化学セルの正電極及び負電極で異なる電解質の使用を可能にすること
に有用である。一実施形態では、例えば、１つ又は複数の化学障壁層は独立して、１つ又
は複数の化学障壁層を通して電気化学セルの正電極又は負電極への望ましくない化学成分
の輸送を防止する。一実施形態では、例えば、１つ又は複数の化学障壁層は、１つ又は複
数の化学障壁層を通して電気化学セルの正電極又は負電極への電解質溶媒の輸送を防止す
る。一実施形態では、例えば、１つ又は複数の化学障壁層は、電気化学セルの電極の少な
くとも片側に配置した固体電解質又は固体ポリマー電解質を含む。一実施形態では、例え
ば、１つ又は複数の化学障壁層は、ＬＩＳＩＣＯＮ若しくはＮＡＳＩＣＯＮからの固体電
解質、又はポリエチレンオキシド（ＰＥＯ）を含むポリマー電解質を含む。

【0030】

一実施形態では、例えば、セパレータシステムは、負電極及び正電極を有する電気化学
セルのコンポーネントであり、１つ又は複数の化学障壁層は、イオン伝導性保護膜を含み
、保護膜は、正電極と接触した第１電解質と負電極と接触した第２電解質との間の障壁を
提供し、イオン伝導性保護膜は、負電極と第１電解質との間の接触を防止する。一実施形
態では、例えば、負電極はリチウム金属電極であり、イオン伝導性保護膜は、リチウムイ
オン電荷担体を通し、リチウム金属電極と第１電解質との間の接触を防止する。

【0031】

一実施形態では、例えば、イオン伝導性保護膜は、ガラス質又は非晶質活性金属イオン
伝導体、セラミック活性金属イオン伝導体、及びガラスセラミック活性金属イオン伝導体
からなる群から選択される材料を含む。一実施形態では、例えば、１つ又は複数の化学障
壁層は、保護膜の表面と正電極又は負電極との間に配置した固体ポリマー電解質をさらに
含む。一実施形態では、例えば、高機械強度層、１つ又は複数の低イオン抵抗層、及び１
つ又は複数の化学障壁層の少なくとも１つは、高機械強度層、１つ又は複数の低イオン抵
抗層、及び１つ又は複数の化学障壁層の少なくとも１つに堆積させた堆積層である。一実
施形態では、例えば、高機械強度層、１つ又は複数の低イオン抵抗層、及び１つ又は複数
の化学障壁層の少なくとも１つは、電気化学セルの電極に堆積させた堆積層である。一実
施形態では、例えば、セパレータは、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機械
強度層、及び第４高機械強度層、１つ又は複数の化学障壁層の少なくとも２つの組み合わ
せを、低イオン抵抗層を一切伴わずに備える。

【0032】

一態様では、セパレータは、第３高機械強度層であり、第３高機械強度層を貫通して第
３パターンで設けた複数の開口を有する第３高機械強度層をさらに備え、第３高機械強度
層は、第１高機械強度層と第２高機械強度層との間に位置決めされ、第３パターンは、第
１高機械強度層又は第２高機械強度層から第３高機機械強度層まで垂直に延びる軸に沿っ
た第１パターン又は第２パターンの開口と第３パターンの開口との重なりが２０％以下で
あるように、第１パターン又は第２パターンに対してオフセット配列を有する。一態様で
は、セパレータは、第４高機械強度層であり、第４高機械強度層を貫通して第４パターン
で設けた複数の開口を有する第４高機械強度層をさらに備え、第４高機械強度層は、第１
高機械強度層と第２高機械強度層との間に位置決めされ、第４パターンは、第１高機械強
度層又は第２高機械強度層から上記第４高機械強度層まで垂直に延びる軸に沿った第１パ
ターン、第２パターン、又は第３パターンの開口と第４パターンの開口との重なりが２０
％以下であるように、第１パターン、第２パターン、又は第３パターンに対してオフセッ
ト配列を有する。

【0033】

本発明の多層セパレータシステムの層は、特定の用途に有用な機械特性を提供するよう
構成され、多種多様な機構及び装置構成を介して取り付けられ得る。一実施形態では、例
えば、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機械強度層、第４高機械強度層、低
イオン抵抗層、フレーム層、スペーサ、化学障壁層、又はそれらの組み合わせの少なくと
も一部、場合によっては全部が、圧力、加熱、接着剤塗布、化学接着材、プラズマ処理、
又はそれらの任意の組み合わせにより相互に少なくとも部分的に取り付けられる。一実施
形態では、例えば、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機械強度層、第４高機
械強度層、低イオン抵抗層、フレーム層、スペーサ、化学障壁層、又はそれらの組み合わ
せの少なくとも一部、場合によっては全部が、接着剤、エポキシ、セメント、ＰＴＦＥ、
固体電解質、ゲル電解質、ポリマー電解質、シリコーン接着剤、アクリル接着剤、シアノ
アクリレート、スタイキャスト１２６６、デルタボンド１５１、ＰＶＤＦ、ＰＶＡ、ＬＩ
ＰＯＮ、ＬＩＳＩＣＯＮ、ＰＥ−ＰＰ−ＰＶＤＦ、テトラメチルアンモニウムヒドロキシ
ド五水和物（ＣＨ_３）_４ＮＯＨ・５Ｈ_２Ｏ、ポリ（エチレンオキシド）（ＰＥＯ）、エピ
クロヒドリン及びエチレンオキシドＰ（ＥＣＨ−ｃｏ−ＥＯ）及びポリ（ビニルアルコー
ル）のコポリマー、ガラス繊維ポリマー電解質、硫化亜鉛、二酸化シリコン、カプトンテ
ープ、ポリエチレンオキシド又はポリプロピレノキシド、又はコポリマー、ＰＶＤＦ−ｃ
ｏ−ＨＦＰ Ｂｉ_２Ｏ_３、フッ素非含有バインダ又は芳香族バインダ、ポリアクリル酸リ
チウム、又はそれらの組み合わせにより相互に少なくとも部分的に取り付けられる。

【0034】

一実施形態では、本発明は、１つ又は複数の固体電解質層をさらに備えたセパレータシ
ステムを提供し、上記１つ又は複数の固体電解質層は、例えば水分子、ＣＯ_２、Ｏ_２、又
は空気が上記セパレータシステムを通して輸送されるのを防止し、ＬＩＳＩＣＯＮ又はＮ
ＡＳＩＣＯＮを含む。

【0035】

一態様では、本発明のセパレータは、電気化学セルの電解質等の１つ又は複数の電解質
をさらに備え、これは、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機械強度層、第４
高機械強度層、低イオン抵抗層、フレーム層、スペーサ、化学障壁層、又はそれらの任意
の組み合わせの少なくとも一部と任意に物理的に接触する。一実施形態では、例えば、セ
パレータシステムは、正電極及び負電極を有する電気化学セルのコンポーネントであり、
セパレータは、正電極と負電極との間に設けた電解質をさらに備え、電解質は、第１高機
械強度層、第２高機械強度層、第３高機械強度層、及び第４高機械強度層のいずれかと接
触する。一実施形態では、例えば、セパレータシステムは、正電極及び負電極を有する電
気化学セルのコンポーネントであり、セパレータは、正電極と負電極との間に設けた第１
電解質及び第２電解質をさらに備え、第１電解質は、第２電解質とは異なる組成を有し、
第１電解質は、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機械強度層、及び第４高機
械強度層のいずれかと接触し、第２電解質は、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第
３高機械強度層、及び第４高機械強度層のいずれかと接触し、その場合に、不透過性のイ
オン伝導層が間にあることにより、又は親水性若しくは疎水性の挙動又は密度等の異なる
化学的性質及び物理的性質により、第１電解質と第２電解質とは相互に混ざり合わない。

【0036】

第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機械強度層、及び第４高機械強度層等の
セパレータシステムのコンポーネントの物理特性、化学特性、及び電子特性の選択は、高
い電気抵抗、高いイオン伝導率、及び有用な機械的特質の組み合わせ等、電気化学セルに
おける用途に有用な正味のセパレータ特性を提供するよう選択される。

【0037】

一実施形態では、例えば、第１開口パターンは、３０％以上の、好ましくはいくつかの
用途で４０％を超える第１高機械強度層の第１多孔度を提供し、且つ／又は第２開口パタ
ーンは、３０％以上の、好ましくはいくつかの用途で４０％を超える第２高機械強度層の
第２多孔度を提供する。一実施形態では、例えば、第１開口パターンは、３０％以上の、
好ましくはいくつかの用途で４０％を超える第１高機械強度層の第１多孔度を提供し、又
は第２開口パターンは、３０％以上の、好ましくはいくつかの用途で４０％を超える第２
高機械強度層の第２多孔度を提供し、又は第３開口パターンは、３０％以上の、好ましく
はいくつかの用途で４０％を超える第３高機械強度層の第３多孔度を提供し、又は第４開
口パターンは、３０％以上の、好ましくはいくつかの用途で４０％を超える第４高機械強
度層の第４多孔度を提供する。一実施形態では、例えば、第１開口パターンは、３０％〜
７０％、好ましくはいくつかの用途で４０％〜７０％の範囲から選択される第１高機械強
度層の多孔度を提供し、第２開口パターンは、３０％〜７０％、好ましくはいくつかの用
途で４０％〜７０％の範囲から選択される第２高機械強度層の多孔度を提供する。一実施
形態では、例えば、第１開口パターンは、３０％〜７０％、好ましくはいくつかの用途で
４０％〜７０％の範囲から選択される第１高機械強度層の多孔度を提供し、又は第２開口
パターンは、３０％〜７０％、好ましくはいくつかの用途で４０％〜７０％の範囲から選
択される第２高機械強度層の多孔度を提供し、又は第３開口パターンは、３０％〜７０％
、好ましくはいくつかの用途で４０％〜７０％の範囲から選択される第３高機械強度層の
多孔度を提供し、又は第４開口パターンは、３０％〜７０％、好ましくはいくつかの用途
で４０％〜７０％の範囲から選択される第４高機械強度層の多孔度を提供する。

【0038】

高機械強度層の開口の一定範囲の幾何学的形状、形状、向き、及びパターンが、本発明
のセパレータで有用である。一実施形態では、例えば、第１高機械強度層、第２高機械強
度層、第３高機械強度層、又は第４高機械強度層のいずれかの開口は独立して、円形、平
行四辺形、矩形、正方形、三角形、楕円形、四角形、五角形、六角形、及びそれらの任意
の組み合わせからなる群から選択される断面形状を有する。一実施形態では、例えば、高
機械強度層の開口は、２０μｍ以上、場合によっていくつかの実施形態では５０μｍ以上
、場合によってはいくつかの実施形態で２００μｍ以上、場合によってはいくつかの実施
形態で５００μｍ以上の少なくとも１つの横寸法（例えば、長さ、幅、直径等）を有する
。一実施形態では、例えば、高機械強度層の開口は、１μｍ〜１ｍｍ、場合によってはい
くつかの用途で２００μｍ〜１ｍｍの少なくとも１つの横寸法を有する。一実施形態では
、例えば、高機械強度層の開口は、２００μｍ以下、場合によってはいくつかの用途で１
０μｍ以下、場合によってはいくつかの用途で１μｍ以下の少なくとも１つの横寸法を有
する。一実施形態では、例えば、第１パターン、第２パターン、第３パターン、又は第４
パターンのいずれかは独立して、対称開口パターン又は非対称開口パターンである。一実
施形態では、例えば、第１パターン、第２パターン、第３パターン、又は第４パターンの
いずれかは独立して、無作為ではない開口パターンを含む。

【0039】

一実施形態では、例えば、第１開口パターン、第２開口パターン、第３開口パターン、
又は第４開口パターンのいずれかは独立して、レーザ切断、リソグラフィ、エッチング、
鋳造、穿孔、成形、打ち抜き、パターニング、塗布、及びそれらの任意の組み合わせから
なる群から選択されるプロセスにより形成される。

【0040】

一実施形態では、第１高機械強度層、及び／又は第２高機械強度層、及び／又は第３高
機械強度層、及び／又は第４高機械強度層は、非導電性であり、例えば、これらの層の１
つ又は複数は、電気化学セル等の電気化学システムの正電極と負電極との間の直接電気接
触を防止するために電子絶縁性材料を含む。電子絶縁性の高機械強度層は、カプトン、ポ
リエステル、Ａｌ_２Ｏ_３、ポリエチレン、ポリプロピレン、繊維状セルロース、及び／又
はＰＥ及びＰＰコーティング等の電子絶縁体で塗布した金属層等の、一定範囲の電子絶縁
性材料を含み得る。一実施形態では、第１高機械強度層、及び／又は第２高機械強度層、
及び／又は第３高機械強度層、及び／又は第４高機械強度層の少なくとも１つは、例えば
導電性であり、これらの層の１つ又は複数は、電子絶縁性材料を含み、これらの層の１つ
又は複数は、導電性材料を含む。第１高機械強度層、及び／又は第２高機械強度層、及び
／又は第３高機械強度層、及び／又は第４高機械強度層は、形状記憶ポリマー等の形状記
憶特性を特徴とする材料、又は超弾性の特性を特徴とする材料を含む。

【0041】

一実施形態では、例えば、第１高機械強度層及び第２高機械強度層は、相互に完全に物
理的に接触せず、例えば、電解質にイオン輸送をさせるために第１高機械強度層と第２高
機械強度層との間に少なくともある程度の空間がある構成で設けられ、例えば、第１高機
械強度層及び第２高機械強度層がいくつかの点で物理的に取り付けられるがいくつかの他
の点では間に空間を有するように相互に接触した粗面を有することにより設けられる。一
実施形態では、第１高機械強度層及び第２高機械強度層は、物理的に接触しないか、又は
物理的に完全に接触しない。一実施形態では、例えば、第１高機械強度層及び第２高機械
強度層の少なくとも一部は、２０ｎｍ〜２ｍｍの範囲から選択される距離だけ分離される
。一実施形態では、例えば、第１高機械強度層又は第２高機械強度層の少なくとも一部は
、２０ｎｍ〜２ｍｍの範囲から選択される距離だけ第３高機械強度層又は第４高機械強度
層から分離される。

【0042】

一実施形態では、例えば、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機械強度層、
第４高機械強度層、１つ又は複数の低イオン抵抗層、及び１つ又は複数の化学障壁層のい
ずれか、場合によっては全部が独立して、１０ｎｍ〜１ｍｍの範囲で選択される、場合に
よってはいくつかの用途で１μｍ〜５００μｍの範囲で選択される、場合によってはいく
つかの用途で１０ｎｍ〜５０μｍの範囲で選択される平均厚を有する。一実施形態では、
例えば、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機械強度層、第４高機械強度層、
１つ又は複数の低イオン抵抗層、及び１つ又は複数の化学障壁層のいずれか、場合によっ
ては全部が独立して、５μｍ〜１ｍｍの範囲で選択される、場合によってはいくつかの用
途で２５μｍ〜５ｍｍの範囲で選択される、場合によってはいくつかの用途で１００μｍ
〜２ｍｍの範囲で選択される、場合によってはいくつかの用途で５００μｍ〜１ｍｍの範
囲で選択される平均厚を有する。一実施形態では、例えば、第１高機械強度層、第２高機
械強度層、第３高機械強度層、第４高機械強度層、１つ又は複数の低イオン抵抗層、及び
１つ又は複数の化学障壁層のいずれか、場合によっては全部が独立して、１０ｎｍ〜２μ
ｍの範囲で選択される、又は２μｍ〜５０μｍの範囲で選択される平均厚を有する。

【0043】

一実施形態では、例えば、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機械強度層、
及び第４高機械強度層のいずれか、場合によっては全部が独立して、５００ＭＰａ〜５０
０ＧＰａの範囲で選択されるヤング率を有する。一実施形態では、例えば、第１高機械強
度層、第２高機械強度層、第３高機械強度層、及び第４高機械強度層のいずれか、場合に
よっては全部が独立して、５ＭＰａ〜１０００ＧＰａの範囲で選択される降伏強度を有す
る。一実施形態では、例えば、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機械強度層
、及び第４高機械強度層のいずれか、場合によっては全部が独立して、０．００５Ｎ〜１
０Ｎの範囲で選択される引裂強度、好ましくはいくつかの用途で０．０１Ｎを超える引裂
強度を有する。一実施形態では、例えば、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高
機械強度層、及び第４高機械強度層のいずれか、場合によっては全部が独立して、１０Ｎ
〜５００Ｎの範囲で選択される初期引裂強度、好ましくはいくつかの用途で５０Ｎを超え
る初期引裂強度を有する。一実施形態では、例えば、第１高機械強度層、第２高機械強度
層、第３高機械強度層、及び第４高機械強度層のいずれか、場合によっては全部が独立し
て、５０ＭＰａ〜２ＧＰａの範囲で選択される引張強度を有する。一実施形態では、例え
ば、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機械強度層、及び第４高機械強度層の
いずれか、場合によっては全部が独立して、１０Ｎｃｍ〜１０００Ｎｃｍの範囲で選択さ
れる衝撃強度を有する。

【0044】

一実施形態では、例えば、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機械強度層、
及び第４高機械強度層のいずれか、場合によっては全部が独立して、平行構成で設けた平
面層を含む。一実施形態では、例えば、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機
械強度層、及び第４高機械強度層のいずれか、場合によっては全部が独立して、同心状構
成で設けた中空円筒層を含む。一実施形態では、例えば、第１高機械強度層、第２高機械
強度層、第３高機械強度層、第４高機械強度層、１つ又は複数の低イオン抵抗層、及び１
つ又は複数の化学障壁層のいずれか、場合によっては全部が、耐薬品性材料を含む。一実
施形態では、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機械強度層、第４高機械強度
層、１つ又は複数の低イオン抵抗層、及び１つ又は複数の化学障壁層は独立して、それに
接触して設けた電解質と化学的に適合性があり、且つ／又は独立して、それに接触して設
けた電極と化学的に適合性がある。

【0045】

一実施形態では、例えば、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機械強度層、
及び第４高機械強度層のいずれか、場合によっては全部が独立して、１００℃以上の融点
を有する材料を含む。一実施形態では、例えば、高機械強度層の少なくとも２つは、少な
くとも３０℃の差を有する異なる溶融温度を有し、場合によっては、高機械強度層の溶融
温度の差は、層の１つを溶融させることにより電気化学セルの２つの電極間のイオン経路
が閉じる遮断機構を提供するか、又は代替的に、高機械強度層の溶融温度の差は、層の１
つを溶融させることにより電気化学セルの２つの電極間のイオン経路が閉じる遮断機構を
提供しない。一実施形態では、例えば、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機
械強度層、及び第４高機械強度層のいずれか、場合によっては全部が独立して、５０ｐｐ
ｍ／℃以下の熱膨張率を有する材料を含む。

【0046】

本発明のセパレータシステムの第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機械強度
層、及び第４高機械強度層は、電気化学セルのタイプ等の特定の用途向けに選択された一
定範囲の材料を含み得る。一実施形態では、例えば、第１高機械強度層、第２高機械強度
層、第３高機械強度層、及び第４高機械強度層は独立して、耐薬品性材料を含む。一実施
形態では、例えば、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機械強度層、及び第４
高機械強度層は独立して、熱的に安定な材料を含む。一実施形態では、例えば、第１高機
械強度層、第２高機械強度層、第３高機械強度層、及び第４高機械強度層のいずれか、場
合によっては全部が独立して、ポリマー、金属、合金、セラミック、木材、ガラス、半導
体、織材、及び不織材からなる群から選択される１つ又は複数の材料を含む。一実施形態
では、例えば、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機械強度層、及び第４高機
械強度層のいずれか、場合によっては全部が独立して、５０以上の誘電率を有する材料を
含む。一実施形態では、例えば、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機械強度
層、及び第４高機械強度層のいずれか、場合によっては全部が独立して、導電材料を含む
。一実施形態では、例えば、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機械強度層、
及び第４高機械強度層のいずれか、場合によっては全部が独立して、ゲル電解質、固体電
解質、及びポリマー電解質からなる群から選択される１つ又は複数の材料を含む。一実施
形態では、例えば、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機械強度層、及び第４
高機械強度層のいずれか、場合によっては全部が独立して、ポリアクリル酸（ＰＡＡ）、
架橋ポリエチレン（ＰＥＸ、ＸＬＰＥ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリエチレンテレフタ
レート（ＰＥＴ、ＰＥＴＥ）、ポリフェニルエーテル（ＰＰＥ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶ
Ｃ）、ポリ塩化ビニリデン（ＰＶＤＣ）、ポリ乳酸（ＰＬＡ）、ポリプロピレン（ＰＰ）
、ポリブチレン（ＰＢ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリアミド（ＰＡ）
、ポリイミド（ＰＩ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴ
ＦＥ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリウレタン（ＰＵ）、ポリエステル（ＰＥ）、アクリ
ロニトリルブタジエンスチレン（ＡＢＳ）、ポリ（メチルメタクリレート）（ＰＭＭＡ）
、ポリオキシメチレン（ＰＯＭ）、ポリスルホン（ＰＥＳ）、スチレン−アクリロニトリ
ル（ＳＡＮ）、エチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）、スチレン無水マレイン酸（ＳＭＡ）、Ｐ
ＶＤＦ、ＰＥＯ、ＬＩＰＯＮ、ＬＩＳＩＣＯＮ、ナフィオン、ＺｒＯ_２、ＮＡＳＩＣＯＮ
、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド五水和物（ＣＨ_３）_４ＮＯＨ・５Ｈ_２Ｏ、ポリ
（エチレンオキシド）（ＰＥＯ）、エピクロヒドリン及びエチレンオキシドＰ（ＥＣＨ−
ｃｏ−ＥＯ）及びポリ（ビニルアルコール）のコポリマー、ＰＥＯ−ＰＶＡ−ガラス繊維
ポリマー電解質、硫化亜鉛、二酸化ケイ素、ＰＶＡ及びＰＳＡ、ＰＶＡ／Ｖ６／ＰＳＳ、
ＰＶＡＮ６（ＰＳＳ＋ＰＡＡ）、Ｖ６／ＰＶＡ（ＰＳＳ＋ＰＡＡ）、ＰＶＭＰＳＳ＋ＰＡ
Ａ（３５％））／（ＰＳＳ＋ＰＡＡ（３５％））、（ＰＳＳ＋ＰＡＡ（３５％））／ＰＶ
Ａ／（ＰＳＳ＋ＰＡＡ（３５％））、又は（ＰＳＳ＋ＰＡＡ（３５％））／（ＰＶＡ（１
０％）＋ＰＳＳ（２０％）対ＰＶＡ））／（ＰＳＳ＋ＰＡＡ（３５％））ポリエチレング
リコール、ポリプロピレングリコール、ポリブチレングリコール、アクリルポリエチレン
グリコール、アクリルポリプロピレングリコール、アルキルポリブチレングリコール、そ
のコポリマー、ＰＥＯ材料、又はＰＶＡ材料、及びそれらの組み合わせから選択される１
つ又は複数の材料を含む。

【0047】

一実施形態では、例えば、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機械強度層、
及び第４高機械強度層のいずれかの表面は、電解質に対する濡れ性を有する。一実施形態
では、例えば、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機械強度層、及び第４高機
械強度層のいずれかの表面に、電解質に対して濡れ性のあるコーティングを塗布する。一
実施形態では、例えば、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機械強度層、及び
第４高機械強度層のいずれかの表面の少なくとも一部に、任意に表面の１０％未満を覆う
接着剤コーティングを塗布する。一実施形態では、例えば、第１高機械強度層、第２高機
械強度層、第３高機械強度層、及び第４高機械強度層のいずれかの表面の少なくとも一部
に、５μｍ未満の厚さを有する接着剤コーティングを塗布する。一実施形態では、例えば
、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機械強度層、及び第４高機械強度層のい
ずれかの少なくとも１つの表面は、１ｎｍ〜１００ｎｍの範囲から選択されるｒｍｓ（二
乗平均）を特徴とする表面粗さ等の表面粗さを有し、第１高機械強度層、第２高機械強度
層、第３高機械強度層、又は第４高機械強度層の少なくとも一部の間に電解質用の空間を
提供する。一実施形態では、例えば、セパレータシステムは、正電極及び負電極を有する
電気化学セルにおけるコンポーネントであり、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第
３高機械強度層、及び第４高機械強度層のいずれかの少なくとも１つの表面は、１ｎｍ〜
１０００ｎｍの範囲から選択されるｒｍｓを特徴とする表面粗さ等の表面粗さを有し、第
１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機械強度層、又は第４高機械強度層と電気化
学セルの正電極又は負電極との間に電解質用の空間を提供する。一実施形態では、例えば
、表面粗さは、高機械強度層の２つの少なくとも一部間に、又は高機械強度層の少なくと
も一部と正電極又は負電極との間に、５ｎｍ〜５マイクロメートルの範囲から選択される
距離を提供する。

【0048】

一態様では、本発明は、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機械強度層、第
４高機械強度層、低イオン抵抗層、フレーム層、スペーサ、化学障壁層の少なくともいく
つか、又はそれらの任意の組み合わせが、高い表面エネルギー、好ましくはいくつかの用
途で１０ｍＪ／ｍ^２以上の表面エネルギーを有するセパレータシステムを提供する。一実
施形態では、例えば、これらのコンポーネントのいずれかの表面エネルギーは、電解質に
対する層の濡れ性を向上させる。一実施形態では、例えば、これらのコンポーネントのい
ずれかの表面エネルギーは、相互又は電気化学セルの電極に対する層の取り付けに役立つ
。

【0049】

一態様では、セパレータは、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機械強度層
、及び第４高機械強度層のいずれかに設けた１つ又は複数のコーティングをさらに備える
。一実施形態では、例えば、１つ又は複数のコーティングは独立して、１つ又は複数の非
導電性コーティングを含む。一実施形態では、例えば、１つ又は複数のコーティングは独
立して、１つ又は複数の疎水性コーティング及び／又は親水性コーティングを含む。一実
施形態では、例えば、１つ又は複数のコーティングは独立して、ポリエチレングリコール
を含む。一実施形態では、例えば、１つ又は複数のコーティングは、電気化学セルの正電
極から負電極への物質輸送を防止する。一実施形態では、例えば、１つ又は複数のコーテ
ィングは独立して、１０ｎｍ〜２μｍの範囲から選択される厚さを有する。一実施形態で
は、例えば、セパレータは、硫黄系カソードを有する電気化学セル用であり、１つ又は複
数のコーティングは、疎水性のポリスルフィドを弾いて電気化学セルの性能及びサイクル
寿命を向上させる。一実施形態では、疎水性又は親水性コーティングを、硫黄系カソード
Ｌｉ電池に設ける。最新の硫黄系カソードＬｉ電池の問題は、電気化学反応が電解質にお
いて分解し、したがって電解質を通して硫黄電極からＬｉ電極への材料（媒介ポリスルフ
ィド）の通過に起因した著しい容量損失があり得ることである。この問題を防止するため
に、特定の実施形態のセパレータには、疎水性のポリスルフィドを弾くことで材料通過及
び容量損失を妨げるポリエチレングリコール材料（親水性）を塗布する。本発明の実施形
態におけるコーティングの使用は、いわば、例えばリチウム−空気及びリチウム水電気化
学セルにおけるセパレータの疎水性コーティングにより、Ｌｉアノードを水分から保護す
るのにも有用である。

【0050】

一実施形態では、例えば、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機械強度層、
及び第４高機械強度層のいずれかは独立して、Ａｌ、Ｎｉ、Ｃｕ、及びステンレス鋼から
なる群から任意に選択される金属層である。一実施形態では、例えば、コーティングは、
ＰＴＦＥ、ＰＥ、ＰＰ、ＰＶＣ、又はポリイミドを任意に含む非導電性コーティングであ
る。

【0051】

本発明は、一定範囲の電気化学システムで有用なセパレータシステムを含む。一実施形
態では、例えば、本発明は、一次電気化学セル又は二次電気化学セル用のセパレータシス
テムを提供する。一実施形態では、例えば、本発明は、リチウム電池、アルカリ電池、亜
鉛電池、又は鉛蓄電池用のセパレータシステムを提供する。一実施形態では、例えば、本
発明は、リチウム金属−空気電池、リチウムイオン電池、リチウム空気電池、Ｆｅ−空気
電池、Ａｌ−空気電池、又は亜鉛−空気電池用のセパレータシステムを提供する。一実施
形態では、例えば、本発明は、燃料電池、フロー電池システム、半固体電池、３Ｄ電池、
ナノ電池、マイクロ電池、又は電気化学キャパシタ用のセパレータシステムを提供する。

【0052】

別の態様では、本発明は、（ｉ）負電極と、（ｉｉ）正電極と、（ｉｉｉ）正電極と負
電極との間に設けた第１電解質と、（ｉｖ）電解質と接触して負電極と正電極との間に設
けた本発明のセパレータシステムとを備えた電気化学セルであって、セパレータシステム
は、電解質のイオンを正電極と負電極との間で輸送可能であるよう位置決めされる電気化
学セルを提供する。一態様では、セパレータシステムは、正電極と負電極との間の電気接
触を防止する。当業者には理解されるように、本明細書に記載のセパレータシステムのい
ずれを電気化学セル等の本発明の電気化学システムに用いてもよい。

【0053】

一実施形態では、例えば、セパレータシステムは、正電極及び負電極と物理的に接触し
て設けられる。一実施形態では、例えば、セパレータシステムは、正電極と負電極との間
に１×１０^−３Ｓ／ｃｍ以上の、場合によってはいくつかの用途で好ましくは１×１０^−
２Ｓ／ｃｍを超えるイオン伝導率を提供する。一実施形態では、例えば、セパレータシス
テムは、正電極から負電極まで０．５Ωｃｍ^２〜２５Ωｃｍ^２の範囲で選択される、好ま
しくはいくつかの用途で５Ωｃｍ^２未満の正味イオン抵抗を提供する。

【0054】

一実施形態では、電気化学セルは、正電極と負電極との間に設けた化学障壁層をさらに
備え、電気化学セルは、正電極と負電極との間に設けた第２電解質をさらに備え、化学障
壁層は、第１電解質と第２電解質との混合を防止する。

【0055】

一実施形態では、例えば、高機械強度層のオフセット配列は、正電極と負電極との間に
直接的な直線経路を提供しない。一実施形態では、例えば、オフセット配列は、製造欠陥
、外的物体、又は、正電極又は負電極上のデンドライト形成による正電極と負電極との間
の電気接触を介した短絡を防止する。この態様の実施形態は、例えば、デンドライト形成
から生じる正電極から負電極への電気的短絡又は熱暴走問題を最小化又は防止するのに有
益である。この態様の実施形態は、例えば、サイクル充電強化及び／又は高い放電率性能
が可能な電気化学セルを提供するのに有用である。

【0056】

一実施形態では、例えば、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機械強度層、
第４高機械強度層、低イオン抵抗層、フレーム層、スペーサ、化学障壁層の少なくとも１
つ、又はそれらの任意の組み合わせは、圧力、加熱、接着剤塗布、化学接着材、プラズマ
処理により、又は１つの層若しくは電極への別の層の堆積又は塗布、若しくはそれらの任
意の組み合わせにより、正電極又は負電極に少なくとも部分的に取り付けられる。一実施
形態では、例えば、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機械強度層、第４高機
械強度層、低イオン抵抗層、フレーム層、スペーサ、化学障壁層の少なくとも１つ、又は
それらの任意の組み合わせは、接着剤、エポキシ、セメント、テフロンコーティング、固
体電解質、ゲル電解質、又はポリマー電解質により、正電極又は負電極に少なくとも部分
的に取り付けられる。一実施形態では、例えば、第１高機械強度層、第２高機械強度層、
第３高機械強度層、第４高機械強度層、低イオン抵抗層、フレーム層、スペーサ、化学障
壁層の少なくとも１つ、又はそれらの任意の組み合わせは、正電極又は負電極の表面に堆
積させたコーティングを含む。

【0057】

一実施形態では、例えば、本発明は、少なくとも３００サイクル、好ましくはいくつか
の用途で少なくとも５００サイクルのサイクル容量を有する本セパレータシステムを組み
込んだ電気化学セルを提供する。一実施形態では、例えば、本発明は、Ｃ／５以上の放電
率で１００ｍＡｈ ｇ^−１以上の比容量を有する本セパレータシステムを組み込んだ電気
化学セルを提供する。

【0058】

本発明の電気化学セル及びセパレータシステムは、液体電解質、固体電解質、ゲル電解
質、非プロトン性電解質、水性電解質、及び非水電解質を含む、一定範囲の電解質と適合
性がある。一実施形態では、例えば、電解質は、固体電荷保持媒体又はゲル電極を含む。
一実施形態では、例えば、電解質は高分子媒体を含む。一実施形態では、例えば、電解質
は、ポリエチレンオキシド、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、フッ
素含有コポリマー、ポリアクリロニトリル、及びそれらの任意の組み合わせを含む。

【0059】

一実施形態では、例えば、電解質は、１つ又は複数の非水溶媒中に少なくとも部分的に
溶解したアルカリ金属塩を含む。一実施形態では、例えば、電解質は、溶媒及び支持塩を
含み、溶媒は、有機カーボネート、エーテル、エステル、ホルメート、ラクトン、スルホ
ン、スルホラン、１，３−ジオキソラン、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネー
ト、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、エチルメチルカーボネート、ブチレ
ンカーボネート、ビニレンカーボネート、フルオロエチレンカーボネート、フルオロプロ
ピレンカーボネート、ｙ−ブチロラクトン、メチルジフルオロアセタート、エチルジフル
オロアセタート、ジメトキシエタン、ジグライム（ｂｉｓ（２−メトキシエチル）エーテ
ル）、テトラヒドロフラン、ジオキソラン、２ＭｅＴＨＦ、１，２−ＤＭＥ、又はより大
きなグライム類、スルホラン、ギ酸メチル、酢酸メチル、及びそれらの組み合わせからな
る群から選択され、支持塩は、ＬｉＰＦ_６、ＬｉＢＦ_４、ＬｉＡｓＦ_６、ＬｉＣｌＯ_４、
ＬｉＳＯ_３ＣＦ_３、ＬｉＮ（ＣＦ_３ＳＯ_２）_２、ＬｉＮ（ＳＯ_２Ｃ_２Ｆ_５）_２、それらの
任意の組み合わせからなる群から選択される。一実施形態では、例えば、電解質は、ＰＶ
ｄＦ、ＰＶｄＦ−ＨＦＰコポリマー、ＰＡＮ、及びＰＥＯ、及びそれらの混合物から選択
されるゴルフィング剤、ＥＣ、ＰＣ、ＤＥＣ、ＤＭＣ、ＥＭＣ、ＴＨＥ、２ＭｅＴＨＦ、
１，２−ＤＭＥ、及びそれらの組み合わせからなる群から選択される可塑剤、並びにＬｉ
ＰＦ_６、ＬｉＢＦ_４、ＬｉＡｓＦ_６、ＬｉＣｌＯ_４、ＬｉＳＯ_３ＣＦ_３、ＬｉＮ（ＣＦ_３
ＳＯ_２）_２、及びＬｉＮ（ＳＯ_２Ｃ_２Ｆ_５）_２からなる群から選択されるＬｉ塩を含む。

【0060】

一態様では、本発明は、正電極を含む第１側に第１電解質と、負電極を含む第２側に第
２電解質とを有する電気化学セルを提供し、第１電解質は、第２電解質とは異なる組成を
有し、電気化学セルは、正電極と負電極との間に位置決めしたイオン伝導性保護膜を含む
１つ又は複数の化学障壁層をさらに備える。この態様の一実施形態では、第１電解質は水
性電解質であり、第２電解質は非プロトン性電解質である。この態様の一実施形態では、
第１電解質及び第２電解質の少なくとも一方は固体電解質である。

【0061】

本発明の電気化学セル及びセパレータシステムは、一定範囲の組成、フォームファクタ
、及び装置の幾何学的形状を有する電極と適合性がある。一実施形態では、例えば、負電
極、正電極、又は両方が、マイクロサイズ材料又はナノサイズ材料を含む。本明細書で用
いられる場合、ナノサイズは、１ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲で選択される少なくとも１つ
の物理的寸法（例えば、長さ、高さ、幅、直径等）を有する粒子又は薄膜等の構造を指す
。本明細書で用いられる場合、マイクロサイズは、１μｍ〜１０００μｍの範囲で選択さ
れる少なくとも１つの物理的寸法（例えば、長さ、高さ、幅、直径等）を有する粒子又は
薄膜等の構造を指す。一実施形態では、例えば、負電極又は正電極は、活正電極粒子及び
伝導性粒子の混合物等の粉体の形態である。一実施形態では、例えば、負電極又は正電極
は薄膜の形態である。一実施形態では、例えば、本発明は、正電極又は負電極の少なくと
も一方が溶媒和リチウム又は溶媒和リチウム合金等の溶媒和金属の形態である、電気化学
セルを提供する。一実施形態では、例えば、本発明は、正電極又は負電極の少なくとも一
方が溶融金属の形態である電気化学セルを提供する。

【0062】

一実施形態では、例えば、本発明は、負電極が、リチウム、亜鉛、アルミニウム、ケイ
素、スズ、アンチモン、鉛、ゲルマニウム、マグネシウム、カドミウム、ビスマス、イン
ジウム、モリブデン、ニオブ、タングステン、タンタル、鉄、ニッケル、マンガン、銅、
ナトリウム遷移金属リン酸塩、ナトリウム混合金属リン酸塩、Ｌｉ_４／３Ｔｉ５／３Ｏ_４
、黒鉛、スズの合金、コバルト、炭素、ＬｉＶＯ_２、Ｌｉ_４Ｔｉ_５Ｏ_１２、Ｌｉ４／３Ｔ
ｉ５／３Ｏ_４ ＴｉＯ_２、ＷＯ_２、及びＭｏＯ_２からなる群から選択される材料を含む、
電気化学セルを提供する。一実施形態では、例えば、本発明は、正電極が、黒鉛、ＬｉＣ
ｏＯ＿２ＮｉＯ＿８Ｏ_２、ＬｉＮｉＯ_２、ＬｉＦｅＰＯ_４、ＬｉＭｎＰＯ_４、ＬｉＣｏＰ
Ｏ_４、ＬｉＭｎ_２Ｏ_４、ＬｉＣｏＯ_２、ＬｉＮｉＯ＿５Ｍｎｌ．５Ｏ_４、ＬｉＶＰＯ_４Ｆ
、酸化銀、酸化ニッケル、酸化コバルト、酸化マンガン、ＡｇＯ、Ａｇ_２Ｏ_３、Ｚｎ、Ｚ
ｎＯ ＡｇＯ、Ａｇ_２Ｏ、Ａｇ_２Ｏ_３、ＨｇＯ、Ｈｇ_２Ｏ、ＣｕＯ、ＣｄＯ、ＮｉＯＯＨ
、Ｐｂ_２Ｏ_４、ＰｂＯ_２、ＬｉＦｅＰＯ_４、Ｌｉ_３Ｖ_２（ＰＯ_４）_３、Ｖ_６Ｏ_１３、Ｖ_２
Ｏ_５、Ｆｅ_３Ｏ_４、Ｆｅ_２Ｏ_３、ＭｎＯ_２、ＬｉＣｏＯ_２、ＬｉＮｉＯ_２、ＬｉＭｎ_２Ｏ
_４、ＬｉＶＯ_２、Ｌｉ_４Ｔｉ_５Ｏ_１２、ＴｉＯ_２、ＷＯ_２、及びＭｏＯ_２からなる群から
選択される材料を含む、電気化学セルを提供する。一実施形態では、例えば、本発明は、
正電極が、（ｉ）ＬｉｘＣｏＯ_２、Ｌｉ_ｘＮｉＯ_２、ＬｉｘＭｎ_２Ｏ_４、及びＬｉＦｅＰ
Ｏ_４からなる群から選択されるリチウム化金属酸化物系カソードと、（ｉｉ）Ａｇ_ｘＶ_２
Ｏ_５、Ｃｕ_ｘＶ_２Ｏ_５、Ｖ_２Ｏ_５、Ｖ_６Ｏ_１３、ＭｎＯ_２、ＣｕＯ、Ａｇ_２ＣｒＯ_４、及
びＭｏＯ_３からなる群から選択され、ｘが０〜２の範囲である非リチウム化金属酸化物系
カソードと、（ｉｉｉ）ＦｅＳ_２、ＴｉＳ_２、ＦｅＳ、及びＣｕＳからなる群から選択さ
れるリチウム化金属酸化物系カソードと、（ｉｖ）硫黄元素、ポリスルフィド類、及びそ
れらの組み合わせからなる群から選択される活性硫黄カソードと、（ｖ）水等の水性の電
気化学的に活性な成分、又は過酸化物、過酸化水素、Ｏ_２、ＳＯ_２、及びＮＯ_２等の気体
状、液体状、及び固体状の酸化剤及びそれらの組み合わせからなる群から選択される水溶
性酸化剤を含む、ＰＥＯ／炭素／金属酸化物型カソード構造であり、水溶性固体酸化剤は
、ＮａＮＯ_２、ＫＮＯ_２、Ｎａ_２ＳＯ_３、及びＫ_２ＳＯ_３からなる群から選択され、カソ
ード構造の導電性コンポーネントは、ニッケル等の多孔質触媒担体であり、上記カソード
構造の電気化学的に活性な材料は空気を含む、ＰＥＯ／炭素／金属酸化物型カソード構造
と、からなる群から選択される材料を含む電気化学セルを提供する。

【0063】

本発明の電気化学セルは、一次電気化学セル及び二次電気化学セルを含む。一実施形態
では、例えば、本発明は、リチウム電池、アルカリ電池、亜鉛電池、鉛蓄電池、リチウム
金属−空気電池、リチウムイオン電池、リチウム空気電池、Ｆｅ−空気電池、Ａｌ−空気
電池、又は亜鉛−空気電池を含む電気化学セルを提供する。一実施形態では、例えば、本
発明は、燃料電池、フロー電池システム、半固体電池、３Ｄ電池、ナノ電池、マイクロ電
池、又は電気化学キャパシタを含む電気化学セルを提供する。一実施形態では、例えば、
本発明は、薄膜電池を含む電気化学セルを提供する。一実施形態では、例えば、本発明は
、アルカリ金属イオン電池である電気化学セルを提供する。

【0064】

一実施形態では、例えば、本発明は、１つ又は複数のリチウムイオン電気化学セル等の
１つ又は複数の電気化学セルを備えた電池パックを提供する。当業者には理解されるよう
に、本発明のセパレータシステム及び電気化学セルのいずれを本発明のアルカリ金属フロ
ー電池、スーパーキャパシタ、又は燃料電池に用いてもよい。

【0065】

一態様では、本発明は、アルカリ金属燃料電池であって、（ｉ）固体アルカリ金属及び
溶媒中に溶解したアルカリ金属を燃料として含む再生可能なアノードと、（ｉｉ）固定の
電子伝導性コンポーネント、アルカリ金属のイオン用の電解質を含むイオン伝導性コンポ
ーネント、及び電池の動作環境から得られる流体酸化剤を含むカソード構造と、（ｉｉｉ
）アノード及びカソード構造間に設けた本発明のセパレータシステムとを備えた、アルカ
リ金属燃料電池を提供する。当業者には理解されるように、本明細書に記載のセパレータ
システムのいずれを本発明のアルカリ金属フロー電池、スーパーキャパシタ、又は燃料電
池に用いてもよい。

【0066】

一態様では、本発明は、電気化学セルを作製する方法であって、（ｉ）負電極を設ける
ステップと、（ｉｉ）正電極を設けるステップと、（ｉｉｉ）正電極と負電極との間に電
解質を設けるステップと、（ｉｖ）正電極と負電極との間に位置決めしたセパレータシス
テムを設けるステップであり、セパレータシステムは、(ｉ) 第１高機械強度層であり、
第１高機械強度層を貫通して第１パターンで設けた複数の開口を有する第１高機械強度層
と、（ｉｉ）第２高機械強度層であり、第２高機械強度層を貫通して第２パターンで設け
た複数の開口を有し、第２パターンは、第１高機械強度層から第２高機械強度層まで垂直
に延びる軸に沿った第１高機械強度層の開口と第２高機械強度層の開口との重なりが２０
％以下であるように第１パターンに対してオフセット配列を有する第２高機械強度層とを
備え、第１高機械強度層及び第２高機械強度層は、第１高機械強度層及び第２高機械強度
層に接触して設けた電解質のイオンを第１高機械強度層及び第２高機械強度層を通して輸
送可能であるように位置決めされる、セパレータシステムを設けるステップとを含む方法
を提供する。一実施形態では、セパレータシステムは、電解質と少なくとも部分的に物理
的に接触する。一実施形態では、本方法は、正電極と負電極との間にイオン伝導性化学障
壁を設けるステップをさらに含み、イオン伝導性化学障壁は、正電極と接触した第１電解
質を負電極と接触した第２電解質から分離し、第１電解質は第２電解質とは異なる組成を
有し、イオン伝導性化学障壁は、第１電解質と第２電解質との混合を防止する。当業者に
は概して理解されるように、本セパレータシステムと、本明細書に記載のコンポーネント
、材料、及び特性の特定の実施形態及び組み合わせの全てを含む本発明のシステムとのい
ずれを、本電気化学セルを作製する方法で用いてもよい。

【0067】

一態様では、本発明は、電流を発生させる方法であって、（ｉ）電気化学セルを設ける
ステップであり、電気化学セルは、（１）第１高機械強度層であり、第１高機械強度層を
貫通して第１パターンで設けた複数の開口を有する第１高機械強度層と、（２）第２高機
械強度層であり、第２高機械強度層を貫通して第２パターンで設けた複数の開口を有し、
第２パターンは、第１高機械強度層から第２高機械強度層まで垂直に延びる軸に沿った第
１高機械強度層の開口と第２高機械強度層の開口との重なりが２０％以下であるように第
１パターンに対してオフセット配列を有する第２高機械強度層とを備え、第１高機械強度
層及び第２高機械強度層は、第１高機械強度層及び第２高機械強度層に接触して設けた電
解質のイオンを第１高機械強度層及び第２高機械強度層を通して輸送可能であるように位
置決めされる、電気化学セルを設けるステップと、（ｉｉ）電気化学セルを放電させるス
テップとを含む方法を提供する。一実施形態では、この態様の方法は、電気化学セルを充
電するステップをさらに含む。一実施形態では、この態様の方法は、電気化学セルを複数
の充電及び放電サイクルでサイクル充電するステップをさらに含む。当業者には概して理
解されるように、本セパレータシステムと、本明細書に記載のコンポーネント、材料、及
び特性の特定の実施形態及び組み合わせの全てを含む本発明のシステムとのいずれを、本
電流を発生させる方法で用いてもよい。

【0068】

別の態様では、電気化学セルであって、正電極と、負電極と、正電極と負電極との間に
位置決めした、イオン伝導・電子絶縁性のセパレータと、正電極とセパレータとの間に位
置決めされ、正電極と電気的に接続するか、又は、負電極とセパレータとの間に位置決め
され、負電極と電気的に接続する、第１電子・イオン伝導層と、正電極と負電極との間に
位置決めした１つ又は複数の電解質であり、１つ又は複数の電解質は電荷担体を伝導可能
であることを特徴とする、電解質と、を備える電気化学セルを提供する。

【0069】

任意選択で、第１電子・イオン伝導層は、金属、合金、炭素系物質、半導体、電子伝導
性ポリマー、電子伝導性セラミックス、又はこれらの任意の組み合わせを含む。任意選択
で、第１電子・イオン伝導層は、金属又は合金メッシュ、金属又は合金有孔層、金属又は
合金コーティング、炭素コーティング、多孔質層、有孔層、メッシュ、発泡体、導電物質
の少なくとも部分的なコーティング、又はこれらの任意の組み合わせを含む。任意選択で
、第１電子・イオン伝導層は、Ａｕ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ａｇ、ステンレス鋼、Ｌ
ｉ、Ｓｎ、Ｓｉ、Ｎｉ、スチール、タングステン、錫、鉛、コンスタンタン、水銀、ゲル
マニウム又は任意のそれらの合金類、グラファイト、カーボンブラック、グラフェン、カ
ーボンナノチューブ、コークス、Ｌｉ合金類、Ｆｅ合金類、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）
、ランタンドープチタン酸ストロンチウム（ＳＬＴ）、イットリウムドープチタン酸スト
ロンチウム（ＳＹＴ）、ポリ（フルオレン）類、ポリフェニレン類、ポリピレン類、ポリ
アズレン類、ポリナフタレン類、ポリ（アセチレン）類、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン
）、ポリ（ピロール）類、ポリカルバゾール類、ポリインドール類、ポリアゼピン類、ポ
リアニリン類、ポリ（チオフェン）類、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）、
ポリ（ｐ−フェニレンスルフィド）、ポリフルオレン系導電性高分子類、ＰＡＮ、ポリ（
９，９−ジオクチルフルオレン−ｃｏ−フルオレノン）、ポリ（９，９−ジオクチルフル
オレン−ｃｏ−フルオレノン−ｃｏ−メチルベンゾイックエステル）、ポリチオフェン、
ポリピロール、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）ポリ（スチレンスルフォネ
ート）（ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ）、［（フェロセニル）アミドプロピル］ピロール、ピロー
ル、ポリピロール、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリフラン、ＳｉＯ_２、ナピオン、
ＰＶＣ又はそれらのドープした組成物又はそれらの混合物、又は、これらの任意の組み合
わせを含む。

【0070】

任意選択で、第１電子・イオン伝導層は、３０％以上、４０％以上、５０％以上、６０％
以上、７０％以上、８０％以上、９０％以上、３０％〜９０％の範囲、４０％〜８０％の
範囲、５０％〜７０％の範囲、又は５０％〜９０％の範囲、から選択される多孔度を有す
る、多孔質又は有孔材料を含む。

【0071】

任意選択で、第１電子・イオン伝導層は、耐薬品性物質、耐熱性物質、機械的抵抗性物
質、又はこれらの任意の組み合わせを含む。任意選択で、第１電子・イオン伝導層は、セ
パレータ、正電極又は負電極の少なくとも１つの外面に堆積した薄膜構造を含む。任意選
択で、第１電子・イオン伝導層は、セパレータ、正電極又は負電極の少なくとも１つの外
面に塗布したコーティングを含む。

【0072】

任意選択で、第１電子・イオン伝導層は、１Ｓ／ｃｍ以上、１０Ｓ／ｃｍ以上、１００
Ｓ／ｃｍ以上の電子伝導度を有する。任意選択で、第１電子・イオン伝導層は、１０Ω・
ｃｍ^２以下、５Ω・ｃｍ^２以下、３Ω・ｃｍ^２以下、１Ω・ｃｍ^２以下、０．３Ω・ｃｍ
^２〜３Ω・ｃｍ^２の範囲、０．０３Ω・ｃｍ^２〜３Ω・ｃｍ^２の範囲、０．１Ω・ｃｍ^２
〜１０Ω・ｃｍ^２の範囲、０．３Ω・ｃｍ^２〜５Ω・ｃｍ^２の範囲、又は０．３Ω・ｃｍ
^２〜３Ω・ｃｍ^２の範囲、から選択される、イオン抵抗を有する。

【0073】

任意選択で、第１電子・イオン伝導層は、１００μｍ以下、５０μｍ以下、２５μｍ以
下、１０μｍ以下、１μｍ以下、１００ｎｍ以下、１０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲、１０ｎ
ｍ〜１０μｍの範囲、又は５０ｎｍ〜５μｍの範囲、から選択される厚さを有する。

【0074】

任意選択で、第１電子・イオン伝導層は、セパレータと物理的に接触して設けられる。
任意選択で、第１電子・イオン伝導層は、セパレータの外面の少なくとも１０％と物理的
に接触する。任意選択で、第１電子・イオン伝導層は、正電極又は負電極と物理的に接触
する。任意選択で、第１電子・イオン伝導層は、正電極又は負電極の外面の少なくとも１
０％と物理的に接触する。任意選択で、第１電子・イオン伝導層は、正電極材料又は負電
極材料により少なくとも一部が被覆される。

【0075】

いくつかの実施形態において、第１電子・イオン伝導層は、負電極又は正電極の少なく
とも一部における電子伝導率を向上する。任意選択で、第１電子・イオン伝導層は、正電
極と正電極集電体との間に電子伝達のための付加的な経路を、負電極と負電極集電体との
間に電子伝達のための付加的な経路を、正電極に隣接するか又は正電極の内部に一様電場
を、又は負電極に隣接するか又は負電極の内部に一様電場を、又はこれらの提供された利
点の任意の組み合わせを、提供する。任意選択で、第１電子・イオン伝導層は、正電極又
は負電極と、電子を受け渡しするための予備経路を提供する。任意選択で、第１電子・イ
オン伝導層は、正電極又は負電極に隣接して又はその内部に均一な電界を提供することに
より、正電極又は負電極内においてイオンを均一に堆積させる。例示的な実施形態におい
て、第１電子・イオン伝導層は、正電極又は負電極上における又は各電極からのデンドラ
イト成長を防止する。

【0076】

特定の実施形態において、本態様の電気化学セルは、第２電子・イオン伝導層をさらに
備える。任意選択で、第１電子・イオン伝導層は正電極と電気的に接触して位置決めされ
、第２電子・イオン伝導層は負電極と電気的に接触して位置決めされる。

【0077】

任意選択で、セパレータは、ポリマー、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレン
テレフタレート、カプトン、ポリエステル、ナフィオン、ＺｒＯ_２、ポリイミド、ポリテ
トロフルオロエチレン、ガラスセパレータ、不織布セパレータ、織布セパレータ、又はこ
れらの任意の組み合わせからなる微多孔層を含む。任意選択で、セパレータは、ポリマー
電解質、固体電解質、ゲル状電解質、ナフィオン、ＺｒＯ_２、ＰＶＤＦ、ＰＥＯ、ＰＭＭ
Ａ、ＬＩＳＩＣＯＮ、ＮＡＳＩＣＯＮ、ＬＩＰＯＮ、ＮａＰＯＮ、ＰＥ、ＰＰ、ＰＥＴ、
カプトン、又はこれらの任意の組み合わせを含む。

【0078】

いくつかの実施形態において、セパレータは高機械強度層を含む。任意選択で、セパレ
ータは、第１高機械強度層であり、該第１高機械強度層を貫通して第１開口パターンで設
けた複数の開口を有する第１高機械強度層を含む。任意選択で、セパレータは、第１高機
械強度層の複数の開口の少なくとも一部に設けた第１イオン伝導・電子絶縁性材料をさら
に備える。

【0079】

いくつかの実施形態において、例えば、セパレータは、第１高機械強度層であり、該第
１高機械強度層を貫通して第１開口パターンで設けた複数の開口を有する第１高機械強度
層、及び、第２高機械強度層であり、該第２高機械強度層を貫通して第２開口パターンで
設けた複数の開口を有する第２高機械強度層を備え、第２開口パターンは、第１高機械強
度層から前記第２高機械強度層まで垂直に延びる軸に沿った前記第１高機械強度層の前記
開口と前記第２高機械強度層の前記開口との重なりが２０％以下であるように前記第１開
口パターンに対してオフセット配列を有し、第１高機械強度層及び第２高機械強度層は、
第１高機械強度層及び第２高機械強度層に接触して設けた電解質のイオンを第１高機械強
度層及び第２高機械強度層を通して輸送可能であるように位置決めされる。

【0080】

任意選択で、セパレータは、第１電子・イオン伝導層の少なくとも１つの外面、正電極
の少なくとも１つの面、又は負電極の少なくとも１つの面に塗布したコーティングを備え
る。任意選択で、セパレータは、第１電子・イオン伝導層の少なくとも１つの外面、正電
極の少なくとも１つの面、又は負電極の少なくとも１つの面に堆積した薄膜を備える。任
意選択で、第１電子・イオン伝導層は、セパレータのコンポーネントである。任意選択で
、第１電子・イオン伝導層はセパレータ上のコーティングである。任意選択で、セパレー
タは５００μｍ以下又は１０ｎｍ〜２００μｍの範囲から選択される全厚を有する。

【0081】

任意選択で、正電極又は負電極はインターカレーションホスト材料を備える。任意選択
で、正電極又は負電極は、電気化学セルの充電中又は放電中に形状が変化する材料を含む
。任意選択で、正電極は、金属酸化物、硫黄、ＳＯ_２、リチウム塩化チオニル、ＭｎＯ_２
、ＣＦ_ｘ、ＣｕＯ、Ｖ_６Ｏ_１３、Ｖ_２Ｏ_５、ＦｅＳ_２、ＣｕＣｌ_２、Ｉ_２、ＨｇＯ、カド
ミウム、臭素、水素系電極、酸素系電極、臭素、ＦｅＳ、Ｖ_２Ｏ_５、Ａｇ、Ｎｉ、Ｐｂ、
ＰｂＯ_２、炭素、ＬｉＣｏＯ_２、ＬｉＦｅＰＯ_４、ＬｉＭｎ_２Ｏ_４、炭素系酸素カソード
、炭素系水カソード、アルカリ金属、アルカリ金属合金、一つ又は複数のＣａ、Ｍｇ、Ｓ
ｎ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｂｉ、Ａｌ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎを有する二価又は三価のアルカリ金属合
金、酸化亜鉛、Ｎａ、酸化鉛、リチウム、酸化リチウム、過酸化リチウム、チタン酸化リ
チウム、酸素活物質カソード、水活物質カソード、Ｎａ_２／３［Ｆｅ_１／２Ｍｎ_１／２］
Ｏ_２、ヘキサシアノ鉄酸銅、ポリピロール、活性炭、グラフェン、グラファイト、ナノカ
ーボン、アンチモン、錫アンチモン合金、５％バナジウムドープしたリン酸鉄リチウム、
フルオロリン酸鉄リチウム、マンガンスピネル、リチウムニッケルマンガンコバルト、プ
ルプリン、リチウムプルプリン、酸化リチウムバナジウム、チタン酸リチウム、酸化コバ
ルト、リン酸鉄、二酸化チタン、ケイ素、アンチモン化銅、水溶性気体酸化剤、水溶性液
体酸化剤、水溶性固体酸化剤、又はこれらの任意の組み合わせを含む。任意選択で、負電
極は、Ｓｉ、Ｌｉ、Ｚｎ、ＺｎＯ、炭素、Ｎａ、Ｍｇ、Ｓｎ、Ｃｄ、Ｐｂ、ＰｂＯ_２、Ｌ
ＴＯ、酸化バナジウム、アルカリ金属、アルカリ金属合金、一つ又は複数のＣａ、Ｍｇ、
Ｓｎ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｂｉ、Ａｌ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎを有する二価又は三価のアルカリ金属
合金、酸化亜鉛、Ｎa、酸化鉛、リチウム、酸化リチウム、過酸化リチウム、チタン酸化
リチウム、酸素活物質カソード、水活物質カソード、Ｎａ_２／３［Ｆｅ_１／２Ｍｎ_１／２
］Ｏ_２、ヘキサシアノ鉄酸銅、ポリピロール、活性炭、グラフェン、グラファイト、ナノ
カーボン、アンチモン、錫アンチモン合金、５％バナジウムドープしたリン酸鉄リチウム
、フルオロリン酸鉄リチウム、マンガンスピネル、リチウムニッケルマンガンコバルト、
プルプリン、リチウムプルプリン、酸化リチウムバナジウム、チタン酸リチウム、酸化コ
バルト、リン酸鉄、二酸化チタン、ケイ素、ＳＯ_２、リチウム塩化チオニル、ＭｎＯ_２、
ＣＦ_ｘ、ＣｕＯ、Ｖ_６Ｏ_１３、Ｖ_２Ｏ_５、ＦｅＳ_２、ＣｕＣｌ_２、Ｉ_２、ＨｇＯ、カドミ
ウム、臭素、水素系電極、酸素系電極、臭素、アンチモン化銅、又はこれらの任意の組み
合わせを含む。

【0082】

任意選択で、正電極は正極活物質を含み、第１電子・イオン伝導層は正極活物質と電気
的に接触して設けられる。任意選択で、正電極は正極活物質と電気的に接触した集電体を
さらに備える。任意選択で、負電極は負極活物質を含み、第１電子・イオン伝導層は負極
活物質と電気的に接触して設けられる。任意選択で、前記負電極は前記正極活物質と電気
的に接触した集電体をさらに備える。

【0083】

任意選択で、第１電子・イオン伝導層は、例えば、還元及び／又は酸化用の外部集電極
を備える。任意選択で、前記第１電子・イオン伝導層は、前記正電極及び前記負電極の一
方を還元する。任意選択で、前記外部集電極は、金属−空気電池における酸素発生におい
て起こるように、前記正電極及び前記負電極の一方を酸化する。

【0084】

さまざまな実施形態において、電気化学セルは、二次電池、一次電池、フロー電池、燃
料電池又は半固体電池又は電気化学キャパシタ又は鉛蓄電池を含む。任意選択で、電気化
学セルは、リチウムイオン電池、リチウム金属電池、亜鉛電池、空気リチウム電池、空気
亜鉛電池、空気アルミニウム電池、空気鉄電池、リチウム−水電池、シリコン系電池、ナ
トリウム電池、マグネシウム電池、ナトリウムイオン電池、マグネシウムイオン電池、ア
ルカリ電池又は鉛蓄電池又はリードック・フロー電池又は燃料電池又は電気化学キャパシ
タを含む。任意選択で、電気化学セルは、シリコン系アノード、リチウムアノード、金属
酸化物電極、硫黄系カソード、炭素系酸素カソード、及び炭素系水カソードのうちの１つ
又は複数を含むリチウム電池を備える。

【0085】

別の態様において、電気化学セルであって、正電極と、負電極と、正電極と負電極との
間に位置決めしたイオン伝導・電子絶縁性のセパレータと、正電極とセパレータとの間に
位置決めした第１電解質と、負電極とセパレータとの間に位置決めした第２電解質と、を
備える電気化学セルにおいて、セパレータは、第１高機械強度層であり、該第１高機械強
度層を貫通して第１開口パターンで設けた複数の開口を有する第１高機械強度層と、第１
高機械強度層の前記複数の開口の少なくとも一部に設けた第１イオン伝導・電子絶縁性材
料と、を備え、第１及び第２電解質は電荷担体を伝導可能である、電気化学セルを提供す
る。

【0086】

任意選択で、第１イオン伝導・電子絶縁性材料は、固体電解質、ゲル状電解質、ポリマ
ー電解質、ナフィオン（Ｎａｆｉｏｎ）、ＺｒＯ_２、ＬＩＳＩＣＯＮ、ＮＡＳＩＣＯＮ、
ＰＥＯ、Ｌｉ_１０ＧｅＰ_２Ｓ_１２、ＬＩＰＯＮ、ＰＶＤＦ、Ｌｉ_３Ｎ、Ｌｉ_３Ｐ、ＬｉＩ
、ＬｉＢｒ、ＬｉＣｌ、ＬｉＦ、リチウムイミド、ＫＯＨ、ＮａＯＨ、酸化物ペロブスカ
イト、Ｌａ_０．５、Ｌｉ_０．５ＴｉＯ_３、チオ（Ｔｈｉｏ−）ＬＩＳＩＣＯＮ、Ｌｉ_{３．
２５}Ｇｅ_０．２５Ｐ_０．７５Ｓ_４、ガラスセラミックス類、Ｌｉ_７Ｐ_３Ｓ_１１、ガラス状
物質類、Ｌｉ_２Ｓ−ＳｉＳ_２−Ｌｉ_３ＰＯ_４、窒化リチウム、ポリエチレンオキシド、ド
ープしたＬｉ_３Ｎ、Ｌｉ_２Ｓ−ＳｉＳ_２−Ｌｉ_３ＰＯ_４、ＬＩＰＯＮ、Ｌｉ_１４Ｚｎ（Ｇ
ｅＯ_４）_４、Ｌｉ−β−アルミナ、Ｌｉ_３．６Ｓｉ_０．６Ｐ_０．４Ｏ_４、Ｌｉ_２Ｓ−Ｐ_２
Ｓ_５、ＰＥＯ−ＬｉＣｌＯ_４、ＬｉＮ（ＣＦ_３ＳＯ_２）_２／（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_８、Ｎａ
ＰＯＮ、ＳｉＯ_２、アルミナ、シリカガラス、セラミックス類、ガラスセラミックス類、
水安定ポリマー類、ガラス質金属イオン伝導体類、非結晶金属イオン伝導体類、セラミッ
ク活性金属イオン伝導体類、イオン伝導性セラミックス、イオン伝導性固溶体、イオン伝
導性ガラス、固体リチウムイオン伝導体、又はこれらの任意の組み合わせを含む。

【0087】

任意選択で、第１イオン伝導・電子絶縁性材料は、前記セパレータを体積で１０％以上
、２０％以上、３０％以上、４０％以上、５０％以上、６０％以上、７０％以上、８０％
以上含む。任意選択で、、第１イオン伝導・電子絶縁性材料は、セパレータの表面積の１
０％以上、２０％以上、３０％以上、４０％以上、５０％以上、６０％以上、７０％以上
、８０％以上を占める。

【0088】

任意選択で、第１イオン伝導・電子絶縁性材料は０．０１μｍ〜２０００μｍの範囲か
ら選択される平均厚を有する。任意選択で、第１イオン伝導・電子絶縁性材料は０．００
５ｍｍ〜０．０５ｍｍの範囲から選択される平均厚を有する。

【0089】

いくつかの実施形態において、第１イオン伝導・電子絶縁性材料は１％未満の平均多孔
度を有し、又は非多孔質である。任意選択で、第１イオン伝導・電子絶縁性材料は０％〜
５％の範囲から選択される平均多孔度を有する。好ましくは、第１イオン伝導・電子絶縁
性材料は、ピンホール、割れ、穴、又はこれらの任意の組み合わせを実質的に含まない。
好ましくは、第１イオン伝導・電子絶縁性材料は欠陥を実質的に含まない。任意選択で、
第１イオン伝導・電子絶縁性材料はドープされる。

【0090】

任意選択で、第１イオン伝導・電子絶縁性材料は１０^−５Ｓ／ｃｍ以上、１０^−４Ｓ／
ｃｍ以上、１０^−４Ｓ／ｃｍ以上、１０^−３Ｓ／ｃｍ以上、１０^−２Ｓ／ｃｍ以上、１０
^−１Ｓ／ｃｍ以上、１０Ｓ／ｃｍ以上、１０^−７Ｓ／ｃｍ〜１００Ｓ／ｃｍの範囲、１０
^−５Ｓ／ｃｍ〜１０Ｓ／ｃｍの範囲、１０^−３Ｓ／ｃｍ〜１Ｓ／ｃｍの範囲、から選択さ
れるイオン伝導率を有する。任意選択で、第１イオン伝導・電子絶縁性材料は、電気化学
セルの動作温度において、１０^−７Ｓ／ｃｍ〜１００Ｓ／ｃｍの範囲から選択される、イ
オン伝導率を有する。

【0091】

任意選択で、第１イオン伝導・電子絶縁性材料は、湿式処理、乾式処理、機械加工、熱
堆積、塗布、及びこれらの任意の組み合わせからなる群より選択される方法を用いて複数
の開口内に提供される。

【0092】

任意選択で、第１イオン伝導・電子絶縁性材料は、第１高機械強度層を第１イオン伝導
・電子絶縁性材料内に圧入することにより複数の開口内に提供され、それにより第１イオ
ン伝導・電子絶縁性材料は第１高機械強度層の複数の開口内に提供される。任意選択で、
第１高機械強度層の第１イオン伝導・電子絶縁性材料内への圧入は、第１イオン伝導・電
子絶縁性材料を生成する際に行う。任意選択で、第１高機械強度層の前記第１イオン伝導
・電子絶縁性材料内への圧入は、４００℃以上又は５００℃以上の温度において行う。

【0093】

任意選択で、第１高機械強度層は、メッシュ又は発泡体を含む。任意選択で、メッシュ
又は発泡体は、金属、Ｎｉ、ステンレス鋼、錫、Ａｌ、Ｃｕ、合金、ガラス、ポリマー、
カプトン、ＰＥ、ＰＰ、ＰＥＴ、ＰＴＦＥ、ＰＶＤＦ、ＳｉＯ_２、セラミックス、酸化ア
ルミニウム、炭素、グラファイト、ナノカーボン、又はこれらの任意の組み合わせを含む
。

【0094】

任意選択で、第１イオン伝導・電子絶縁性材料は、第１高機械強度層の複数の開口の実
質的に全てに提供される。任意選択で、第１イオン伝導・電子絶縁性材料は、第１高機械
強度層の複数の開口の全てを満たす。

【0095】

任意選択で、第１高機械強度層は電子絶縁性材料を含む。任意選択で、第１高機械強度
層は、カプトン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリ（
メチルメタクリレート）、非導電性材料で被覆した合金、ポリマー、ガラス、酸化アルミ
ニウム、酸化シリコン、酸化チタン、及びこれらの任意の組み合わせを含む。任意選択で
、第１高機械強度層は、ポリアクリル酸（ＰＡＡ）、架橋ポリエチレン（ＰＥＸ、ＸＬＰ
Ｅ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ、ＰＥＴＥ）、ポリ
フェニルエーテル（ＰＰＥ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリ塩化ビニリデン（ＰＶＤ
Ｃ）、ポリ乳酸（ＰＬＡ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリブチレン（ＰＢ）、ポリブチ
レンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリカーボ
ネート（ＰＣ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポ
リウレタン（ＰＵ）、ポリエステル（ＰＥ）、アクリロニトリルブタジエンスチレン（Ａ
ＢＳ）、ポリ（メチルメタクリレート）（ＰＭＭＡ）、ポリオキシメチレン（ＰＯＭ）、
ポリスルホン（ＰＥＳ）、スチレン−アクリロニトリル（ＳＡＮ）、エチレン酢酸ビニル
（ＥＶＡ）、スチレン無水マレイン酸（ＳＭＡ）、ＰＶＤＦ、ＰＥＯ、ＬＩＰＯＮ、ＬＩ
ＳＩＣＯＮ、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド五水和物（ＣＨ_３）_４ＮＯＨ・５Ｈ
_２Ｏ、ポリ（エチレンオキシド）（ＰＥＯ）、エピクロヒドリン及びエチレンオキシドＰ
（ＥＣＨ−ｃｏ−ＥＯ）及びポリ（ビニルアルコール）のコポリマー、ＰＥＯ−ＰＶＡ−
ガラス繊維ポリマー電解質、硫化亜鉛、二酸化ケイ素、ＰＶＡ及びＰＳＡ、ＰＶＡ／Ｖ６
／ＰＳＳ、ＰＶＡＮ６（ＰＳＳ＋ＰＡＡ）；Ｖ６／ＰＶＡ（ＰＳＳ＋ＰＡＡ）；ＰＶＭＰ
ＳＳ＋ＰＡＡ（３５％））／（ＰＳＳ＋ＰＡＡ（３５％））；（ＰＳＳ＋ＰＡＡ（３５％
））／ＰＶＡ／（ＰＳＳ＋ＰＡＡ（３５％））；又は（ＰＳＳ＋ＰＡＡ（３５％））／（
ＰＶＡ（１０％）＋ＰＳＳ（２０％）対ＰＶＡ））／（ＰＳＳ＋ＰＡＡ（３５％））ポリ
エチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ、ＳｉＯ_２、窒化
リチウム、ＮａＰＯＮ、ＰＶＣ、グラスファイバーマット、ポリブチレングリコール、ア
ルキルポリエチレングリコール、アルキルポリプロピレングリコール、アルキルポリブチ
レングリコール、そのコポリマー、ＰＥＯ材料、又はＰＶＡ材料、及びそれらの任意の組
み合わせからなる群から選択される１つ又は複数の材料を含む。

【0096】

任意選択で、第１開口パターンは、３０％以上、５０％以上、７０％以上、３０％〜９
０％の範囲、３０％〜７０％の範囲、又は４０％〜６０％の範囲、から選択される、前記
高機械強度層の第１多孔度を提供する。任意選択で、第１高機械強度層は０．０１μｍ〜
２０００μｍの範囲から選択される平均厚を有する。任意選択で、第１高機械強度層は０
．００５ｍｍ〜０．０５ｍｍの範囲から選択される平均厚を有する。

【0097】

任意選択で、本態様の電気化学セルは、正電極と前記セパレータとの間に位置決めされ
正電極と電気的に接触するか、又は、負電極と前記セパレータとの間に位置決めされ負電
極と電気的に接触する、第１電子・イオン伝導層をさらに備える。任意選択で、本態様の
電気化学セルは、負電極と前記セパレータとの間に位置決めされ負電極と電気的に接触す
るか、又は、正電極と前記セパレータとの間に位置決めされ正電極と電気的に接触する第
２電子・イオン伝導層をさらに備える。

【0098】

任意選択で、第１電子・イオン伝導層は前記セパレータのコンポーネントである。任意
選択で、第１電子・イオン伝導層は、セパレータと物理的に接触、及び／又は電子的に接
触して設けられる。任意選択で、第１電子・イオン伝導層は、前記セパレータ上のコーテ
ィングを含む。任意選択で、第１電子・イオン伝導層は、正電極又は負電極と物理的に接
触、及び／又は電子的に接触して設けられる。任意選択で、電子・イオン伝導層は、外部
集電極を備える。任意選択で、第１電子・イオン伝導層は、前記正電極又は前記負電極上
のコーティングを含む。任意選択で、電子・イオン伝導層は、前記正電極及び前記負電極
の一方を還元する。任意選択で、外部集電極は前記正電極及び前記負電極の一方を酸化す
る。

【0099】

任意選択で、正電極又は負電極はインターカレーションホスト材料を備える。任意選択
で、正電極又は負電極は、電気化学セルの充電中又は放電中に形状が変化する材料を含む
。任意選択で、正電極は正極活物質及び該正極活物質に電気的に接触した集電体を備える
。任意選択で、負電極は負極活物質及び該負極活物質に電気的に接触した集電体を備える
。

【0100】

任意選択で、本態様の電気化学セルにおいて、セパレータは、第２高機械強度層であり
、該第２高機械強度層を貫通して第２開口パターンで設けた複数の開口を有し、第２開口
パターンは、第１高機械強度層から第２高機械強度層まで垂直に延びる軸に沿った第１高
機械強度層の開口と第２高機械強度層の開口との重なりが２０％以下であるように第１開
口パターンに対してオフセット配列を有する第２高機械強度層をさらに備え、第１高機械
強度層及び第２高機械強度層は、第１高機械強度層及び第２高機械強度層に接触して設け
た電解質のイオンを前記第１高機械強度層及び前記第２高機械強度層を通して輸送可能で
あるように位置決めされる。任意選択で、本態様の電気化学セルにおいて、セパレータは
、第２高機械強度層の複数の開口の少なくとも一部に設けた第２イオン伝導・電子絶縁性
材料をさらに含む。任意選択で、第１開口パターンは第２開口パターンに実質的に相補的
である。任意選択で、第１高機械強度層及び前記第２高機械強度層は相互に完全に物理的
に接触しない。任意選択で、第１高機械強度層及び第２高機械強度層のそれぞれ少なくと
も一部は、２０ｎｍ〜２ｍｍの範囲から選択される距離によって離間される。任意選択で
,第２高機械強度層は、第１高機械強度層と負電極又は正電極との間に設けられる。

【0101】

任意選択で、本態様の電気化学セルにおいて、セパレータは、第３高機械強度層であり
、該第３高機械強度層を貫通して第３開口パターンで設けた複数の開口を有し、第３開口
パターンは、第３高機械強度層から第１高機械強度層又は第２高機械強度層まで垂直に延
びる軸に沿った第３高機械強度層の開口と第１高機械強度層の開口又は第２高機械強度層
の開口との重なりが２０％以下であるように第１開口パターン又は第２開口パターンに対
してオフセット配列を有する第３高機械強度層をさらに備え、第１高機械強度層、第２高
機械強度層、及び第３高機械強度層は、第１高機械強度層、第２高機械強度層、及び第３
高機械強度層に接触して設けた電解質のイオンを第１高機械強度層、第２高機械強度層、
及び第３高機械強度層を通して輸送可能であるように位置決めされる。任意選択で、本態
様の電気化学セルにおいて、セパレータは、第３高機械強度層の複数の開口の少なくとも
一部に設けた第３イオン伝導・電子絶縁性材料をさらに含む。任意選択で、第３パターン
は第１パターン及び第２パターンのうちの１つ又は複数に実質的に相補的である。

【0102】

任意選択で、本態様の電気化学セルにおいて、セパレータは、複数の開口を有する第４
高機械強度層であり、該第４高機械強度層を貫通して第４パターンで設けた複数の開口を
有する第４高機械強度層をさらに備え、第４パターンは、第４高機械強度層から第１高機
械強度層、第２高機械強度層、又は第３高機械強度層まで垂直に延びる軸に沿った第４高
機械強度層の開口、第１高機械強度層の開口、第２高機械強度層の開口、及び第３高機械
強度層の開口と第２高機械強度層の開口との重なりが２０％以下であるように第１パター
ン、第２パターン、又は第３パターンに対してオフセット配列を有し、第１高機械強度層
、第２高機械強度層、第３高機械強度層、及び第４高機械強度層は、第１高機械強度層、
第２高機械強度層、第３高機械強度層、及び第４高機械強度層に接触して設けた電解質の
イオンを第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機械強度層、及び第４高機械強度
層を通して輸送可能であるように位置決めされる。任意選択で、セパレータは、第３高機
械強度層の複数の開口の少なくとも一部に設けた第４イオン伝導・電子絶縁性材料をさら
に備える。任意選択で、第４パターンは、前記第１パターン、前記第２パターン、及び前
記第３パターンのうちの１つ又は複数に実質的に相補的である。

【0103】

任意選択で、高機械強度層のうち少なくとも２層における前記複数の開口は、１つ又は
複数の固体電解質で満たされる。任意選択で、高機械強度層のうちの外側の２層、例えば
、正電極に隣接して位置する外側高機械強度層又は負電極に隣接して位置する外側高機械
強度層、又はその両方における複数の開口は、１つ又は複数の固体電解質で満たされる。
任意選択で、高機械強度層の少なくとも１つは電子伝導性である。任意選択で、高機械強
度層の少なくとも１つは、５Ｗ・ｍ^−１・Ｋ^−１以上、１０Ｗ・ｍ^−１・Ｋ^−１以上、２
０Ｗ・ｍ^−１・Ｋ^−１以上、５０Ｗ・ｍ^−１・Ｋ^−１以上、１００Ｗ・ｍ^−１・Ｋ^−１以
上、又は２００Ｗ・ｍ^−１・Ｋ^−１以上の熱伝導率を有する。任意選択で、高機械強度層
の少なくとも１つ、例えば、正電極に隣接して位置する外側高機械強度層又は負電極に隣
接して位置する外側高機械強度層、又はその両方は、１つ又は複数の正電極又は負電極を
還元又は正電極又は負電極を酸化するのに有用な外部集電極を備える。

【0104】

さまざまな実施形態において、電気化学セルは、二次電池、一次電池、フロー電池、電
気化学キャパシタ、半固体電池、又は燃料電池を含む。任意選択で、電気化学セルは、リ
チウムイオン電池、リチウム金属電池、亜鉛電池、空気リチウム電池、空気亜鉛電池、空
気アルミニウム電池、空気鉄電池、リチウム−水電池、シリコン系電池、アルカリ電池又
は鉛蓄電池を含む。任意選択で、電気化学セルは、シリコンアノード、リチウムアノード
、金属酸化物電極、炭素系酸素カソード、炭素系水カソード、水カソード、及び空気カソ
ードのうちの１つまたは複数を含む二次リチウム電池を備える。

【0105】

別の態様において、電気化学セル用の膜を作製する方法が提供される。本態様の一実施
形態において、本方法は、第１高機械強度層であり、該第１高機械強度層を貫通して第１
パターンで設けた複数の開口を有する第１高機械強度層を設けるステップと、前記第１高
機械強度層の前記複数の開口の全て又は一部に第１イオン伝導・電子絶縁性材料を提供す
るステップと、を含む。

【0106】

任意選択で、第１イオン伝導・電子絶縁性材料は、湿式処理、乾式処理、機械加工、熱
堆積、及びこれらの任意の組み合わせからなる群から選択される方法を用いて前記複数の
開口内に提供される。任意選択で、第１イオン伝導・電子絶縁性材料は、前記第１高機械
強度層を前記第１イオン伝導・電子絶縁性材料に圧入することにより前記複数の開口内に
提供され、それにより第１イオン伝導・電子絶縁性材料を前記第１高機械強度層における
複数の開口の少なくつも一部に提供する。任意選択で、本態様の方法は、圧入後の第１高
機械強度層及び第１イオン伝導・電子絶縁性材料を冷却するステップをさらに含む。いく
つかの実施形態において、そのような冷却するステップは、圧入するステップ中に第１イ
オン伝導・電子絶縁性材料において発生した１つ又は複数の破損を修復する。任意選択で
、第１高機械強度層の第１イオン伝導・電子絶縁性材料への圧入は、第１イオン伝導・電
子絶縁性材料を形成する際に行われる。任意選択で、第１高機械強度層の第１イオン伝導
・電子絶縁性材料への圧入は、５００℃以上の温度で行われる。

【0107】

任意選択で、第１の高機械強度層は、メッシュ又は発泡体を含む。任意選択で、メッシ
ュ又は発泡体は、金属、Ｎｉ、ステンレス鋼、ガラス、セラミックス、酸化アルミニウム
を含む。任意選択で、第１高機械強度層からの第１イオン伝導・電子絶縁性材料への面内
圧力は、第１イオン伝導・電子絶縁性材料中へのイオンの固体拡散を促進、又は、電極上
への均一なイオン堆積を支援する。任意選択で、第１高機械強度層からの第１イオン伝導
・電子絶縁性材料への面内圧力により、第１イオン伝導・電子絶縁性材料において面内圧
力がない場合と比較して第１イオン伝導・電子絶縁性材料のイオン伝導性が上昇する。こ
のようなイオン伝導性の上昇は、任意選択で、面内圧力が張力を引き起こすポアソン比効
果に起因するものであり、それによりイオン伝導・電子絶縁性材料内におけるイオンの通
過又は固体拡散を促進する。

【0108】

任意選択で、第１イオン伝導・電子絶縁性材料は、固体電解質、ゲル状電解質、ポリマ
ー電解質、ＬＩＳＩＣＯＮ、ＮＡＳＩＣＯＮ、ＰＥＯ、Ｌｉ_１０ＧｅＰ_２Ｓ_１２、ＬＩＰ
ＯＮ、ＰＶＤＦ、Ｌｉ_３Ｎ、Ｌｉ_３Ｐ、ＬｉＩ、ＬｉＢｒ、ＬｉＣｌ、ＬｉＦ、酸化ペロ
ブスカイト、Ｌａ_０．５、Ｌｉ_０．５ＴｉＯ_３、チオ−ＬＩＳＩＣＯＮ、Ｌｉ_３．２５Ｇ
ｅ_０．２５Ｐ_０．７５Ｓ_４、ガラスセラミックス類、Ｌｉ_７Ｐ_３Ｓ_１１、ガラス状物質類
、Ｌｉ_２Ｓ−ＳｉＳ_２−Ｌｉ_３ＰＯ_４、窒化リチウム、ポリエチレンオキシド、ドープし
たＬｉ_３Ｎ、Ｌｉ_２Ｓ−ＳｉＳ_２−Ｌｉ_３ＰＯ_４、ＬＩＰＯＮ、Ｌｉ_１４Ｚｎ（ＧｅＯ_４
）_４、Ｌｉ−β−アルミナ、Ｌｉ_３．６Ｓｉ_０．６Ｐ_０．４Ｏ_４、Ｌｉ_２Ｓ−Ｐ_２Ｓ_５、
ＰＥＯ−ＬｉＣｌＯ_４、ＬｉＮ（ＣＦ_３ＳＯ_２）_２／（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_８、ＮａＰＯＮ
、ＺｒＯ_２、ナフィオン、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ、ＳｉＯ_２、ＰＶＣ、グラスファイバーマ
ット、アルミナ、シリカガラス、セラミックス類、ガラスセラミックス類、水安定ポリマ
ー類、ガラス質金属イオン伝導体類、非結晶金属イオン伝導体類、ガラスセラミック活性
金属イオン伝導体類、イオン伝導性セラミックス、イオン伝導性固溶体、イオン伝導性ガ
ラス、固体リチウムイオン伝導体、又はこれらの任意の組み合わせを含む。

【0109】

任意選択で、第１イオン伝導・電子絶縁性材料は、前記セパレータを体積で２０％以上
、３０％以上、４０％以上、５０％以上、６０％以上、７０％以上、または８０％以上、
含む。任意選択で、第１イオン伝導・電子絶縁性材料は０．０１μｍ〜２０００μｍの範
囲から選択される平均厚を有する。

【0110】

任意選択で、第１イオン伝導・電子絶縁性材料は１％未満の平均多孔度を有する。好ま
しくは、第１イオン伝導・電子絶縁性材料は非多孔質である。任意選択で、第１イオン伝
導・電子絶縁性材料は０％〜５％の範囲から選択される平均多孔度を有する。任意選択で
、第１イオン伝導・電子絶縁性材料は、ピンホール、割れ、穴、又はこれらの任意の組み
合わせを実質的に含まない。任意選択で、第１イオン伝導・電子絶縁性材料は欠陥を実質
的に含まない。任意選択で、第１イオン伝導・電子絶縁性材料はドープされる。

【0111】

任意選択で、第１イオン伝導・電子絶縁性材料は１０^−５Ｓ／ｃｍ以上のイオン伝導率
を有する。任意選択で、第１イオン伝導・電子絶縁性材料は、前記電気化学セルの動作温
度において、１０^−７Ｓ／ｃｍ〜１００Ｓ／ｃｍの範囲から選択されるイオン伝導率を有
する。

【0112】

任意選択で、１イオン伝導・電子絶縁性材料は、第１高機械強度層の前記複数の開口の
実質的に全てに提供される。任意選択で、第１イオン伝導・電子絶縁性材料は、第１高機
械強度層の複数の開口の全てを満たす。

【0113】

任意選択で、高機械強度層の平均厚は１０ｎｍ〜２０００μｍの範囲から選択される。
任意選択で、高機械強度層の平均厚は０．００５ｍｍ〜０．０５ｍｍの範囲から選択され
る。任意選択で、開口の第１パターンは、３０％以上の第１高機械強度層の第１多孔度を
提供する。任意選択で、開口の第１パターンは、３０％〜７０％の範囲から選択される第
１高機械強度層の多孔度を提供する。

【0114】

任意選択で、第１高機械強度層は、電子絶縁性材料、カプトン、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリ（メチルメタクリレート）、非導電性材料
で被覆した金属、非導電性材料で被覆した合金、ポリマー、ガラス、セラミックス、酸化
アルミニウム、酸化シリコン、酸化チタン、及びこれらの任意の組み合わせを含む。任意
選択で、第１高機械強度層は、ポリアクリル酸（ＰＡＡ）、架橋ポリエチレン（ＰＥＸ、
ＸＬＰＥ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ、ＰＥＴＥ）
、ポリフェニルエーテル（ＰＰＥ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリ塩化ビニリデン（
ＰＶＤＣ）、ポリ乳酸（ＰＬＡ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリブチレン（ＰＢ）、ポ
リブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリ
カーボネート（ＰＣ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリスチレン（ＰＳ
）、ポリウレタン（ＰＵ）、ポリエステル（ＰＥ）、アクリロニトリルブタジエンスチレ
ン（ＡＢＳ）、ポリ（メチルメタクリレート）（ＰＭＭＡ）、ポリオキシメチレン（ＰＯ
Ｍ）、ポリスルホン（ＰＥＳ）、スチレン−アクリロニトリル（ＳＡＮ）、エチレン酢酸
ビニル（ＥＶＡ）、スチレン無水マレイン酸（ＳＭＡ）、ＰＶＤＦ、ＰＥＯ、ＬＩＰＯＮ
、ＬＩＳＩＣＯＮ、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド五水和物（ＣＨ_３）_４ＮＯＨ
・５Ｈ_２Ｏ、ポリ（エチレンオキシド）（ＰＥＯ）、エピクロヒドリン及びエチレンオキ
シドＰ（ＥＣＨ−ｃｏ−ＥＯ）及びポリ（ビニルアルコール）のコポリマー、ＰＥＯ−Ｐ
ＶＡ−ガラス繊維ポリマー電解質、硫化亜鉛、二酸化ケイ素、ＰＶＡ及びＰＳＡ、ＰＶＡ
／Ｖ６／ＰＳＳ、ＰＶＡＮ６（ＰＳＳ＋ＰＡＡ）；Ｖ６／ＰＶＡ（ＰＳＳ＋ＰＡＡ）；Ｐ
ＶＭＰＳＳ＋ＰＡＡ（３５％））／（ＰＳＳ＋ＰＡＡ（３５％））；（ＰＳＳ＋ＰＡＡ（
３５％））／ＰＶＡ／（ＰＳＳ＋ＰＡＡ（３５％））；又は（ＰＳＳ＋ＰＡＡ（３５％）
）／（ＰＶＡ（１０％）＋ＰＳＳ（２０％）対ＰＶＡ））／（ＰＳＳ＋ＰＡＡ（３５％）
）ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリブチレングリコール、Ｎａ
ＰＯＮ、ＺｒＯ_２、ナフィオン、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ、ＳｉＯ_２、グラスファイバーマッ
ト、アルキルポリエチレングリコール、アルキルポリプロピレングリコール、アルキルポ
リブチレングリコール、そのコポリマー、ＰＥＯ材料、又はＰＶＡ材料、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａ
ｌ、ステンレス鋼、酸化アルミニウム及びそれらの任意の組み合わせからなる群から選択
される１つまたは複数の材料を含む。

【0115】

任意選択で、第１高機械強度層は、導電性材料、金属、合金、金属メッシュ、半導体、
金属発泡体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリ（メチ
ルメタクリレート）、及びこれらの任意の組み合わせを含む。

【0116】

いくつかの実施形態において、第１高機械強度層は電子絶縁性材料を含み、膜は電気化
学セルのセパレータを含む。いくつかの実施形態において、第１高機械強度層は電子伝導
性材料を含み、膜は電気化学セルの複数の電子イオン伝導層を含む。任意選択で、膜は、
１つ又は複数の電子イオン伝導層及び１つ又は複数の電子絶縁・イオン伝導層を含む。任
意選択で、そのような膜を電気化学セルの正電極と負電極との間に位置決めしたとき、膜
は正電極と負電極との間に電子的絶縁を提供する。

【0117】

任意選択で、本態様の方法は、第１イオン伝導・電子絶縁性材料が第１高機械強度層の
複数の開口の全て又は一部にある状態で、電子絶縁層を第１高機械強度層に隣接して設け
るステップをさらに含む。

【0118】

任意選択で、本態様の方法は、第１イオン伝導・電子絶縁性材料が第１高機械強度層の
前記複数の開口の全て又は一部にある状態で、１つ又は複数の集電体を第１高機械強度層
に隣接して設けるステップをさらに含む。任意選択で、第１集電体は電気化学セルの正極
活物質と電子的に連通して設けられ、第２集電体は電気化学セルの負極活物質と電子的に
連通して設けらる。

【0119】

別の態様において、電気化学セルであって、
正電極と、負電極と、正電極と負電極との間に位置決めした、イオン伝導・電子絶縁性
のセパレータと、正電極とセパレータとの間に位置決めしたか、又は、負電極とセパレー
タとの間に位置決めした、１つ又は複数の熱・イオン伝導層と、正電極と負電極との間に
位置決めした１つ又は複数の電解質であり、１つ又は複数の電解質は電荷担体を伝導可能
であることを特徴とする、電解質と、を備える電気化学セルを提供する。

【0120】

任意選択で、正電極とセパレータとの間に位置決めした第１熱・イオン伝導層と、負電
極とセパレータとの間に位置決めした第２熱・イオン伝導層と、を備える。

【0121】

任意選択で、１つ又は複数の熱・イオン伝導層は、それぞれ、正電極又は負電極と熱連
通して設けられる。任意選択で、１つ又は複数の熱・イオン伝導層は、電気化学セル内で
の均一な温度分布の提供し、それによって前記電気化学セルの性能およびサイクル寿命（
ライフサイクル）を高める。任意選択で、１つ又は複数の熱・イオン伝導層は、電気化学
セル内での均一な温度分布の提供を支援し、それによって前記電気化学セルの性能および
サイクル寿命（ライフサイクル）を高める。

【0122】

任意選択で、１つ又は複数の熱・イオン伝導層は、それぞれ独立して、０．０１ｍｍ以
下、又は１０ｎｍ〜０．０１ｍｍの範囲から選択される厚さを有する。任意選択で、１つ
又は複数の熱・イオン伝導層は、それぞれ独立して、多孔質材料、有孔層、メッシュ、又
は発泡体を含む。任意選択で、１つ又は複数の熱・イオン伝導層は、それぞれ独立して、
５０％以上、７５％以上、又は９０％以上の多孔度を有する。

【0123】

任意選択で、１つ又は複数の熱・イオン伝導層は、それぞれ独立して、金属、合金、セ
ラミックス、ポリマー、電子絶縁性材料で被覆した金属、又は電子絶縁性材料で被覆した
合金を含む。任意選択で、１つ又は複数の熱・イオン伝導層は、それぞれ独立して、金属
、合金、熱伝導性ポリマー、熱伝導性セラミックス、熱伝導性繊維を有するポリマー、Ａ
ｌ_２Ｏ_３繊維を有するポリマー、Ａｌ、Ｎｉ、Ｓｎ、スチール、ステンレス鋼、銅、Ｓｉ
、Ｌｉ_３Ｎ、酸化アルミニウム、酸化リチウム、過酸化リチウム、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ＰＶＤＦ、カプトン、ＰＴＦＥ、ＰＭＭＡ、Ｎ
ａＰＯＮ、ＺｒＯ_２、ナフィオン、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ、ＳｉＯ_２、ＰＶＣ、ガラスファ
イバーマット、ＬＩＰＯＮ、又はその任意の組み合わせを含む。

【0124】

任意選択で、１つ又は複数の熱・イオン伝導層は、それぞれ独立して、メッシュを含む
。任意選択で、１つ又は複数の熱・イオン伝導層は、それぞれ独立して、正電極又は負電
極上のコーティングを含む。

【0125】

任意選択で、１つ又は複数の熱・イオン伝導層は、それぞれ独立して、セパレータの１
つ又は複数の面上のコーティングを含むか、又はセパレータに隣接して位置決めされる。
任意選択で、１つ又は複数の熱・イオン伝導層は、それぞれ独立して、セパレータの内部
層を含む。

【0126】

任意選択で、本明細書に記載した任意の電気化学セルについて、セパレータ、負電極、
又は正電極の任意の面は、それぞれ独立して、及び、任意選択で、親水性材料又は疎水性
材料又はアニオン交換性材料又はカチオン交換性材料で被覆される。任意選択で、セパレ
ータ、正電極、又は負電極の任意の層は、それぞれ独立して、親水性材料又は疎水性材料
又はアニオン交換性材料又はカチオン交換性材料を含む。

【0127】

任意選択で、セパレータ、正電極、又は負電極の任意の層は、それぞれ独立して、形状
記憶材料を含む。任意選択で、形状記憶材料は、形状記憶合金、ニチノール、形状記憶ポ
リマー類、又はその任意の組み合わせを含む。任意選択で、形状記憶材料は、電気化学セ
ルの動作又はサイクル充電（cycling）の前に予圧される。

【0128】

別の態様において、電気化学セルであって、正電極と、負電極と、第１イオン伝導電子
絶縁性材料及び前記第１イオン伝導電子絶縁性材料内部に位置決めした機械的強化繊維を
含む固体電解質と、を備え、電解質は電荷担体を伝導可能である、電気化学セルを提供す
る。任意選択で、繊維は前記固体電解質の強度を高め、製造中のピンホール割れを防ぎ、
サイクル充電による割れを防ぐ。

【0129】

任意選択で、繊維は機械的に靭性である。任意選択で、繊維は、第１イオン伝導電子絶
縁性材料を体積で２０％以上含み、又は、前記セパレータの表面積の２０％以上を占める
。任意選択で、繊維は、０．０１μｍ〜２０００μｍの範囲から選択される平均サイズを
有する。任意選択で、第１イオン伝導・電子絶縁性材料は、０．０１μｍ〜２０００μｍ
の範囲から選択される平均厚を有する。任意選択で、繊維はイオン絶縁性である。任意選
択で、繊維はイオン伝導性である。任意選択で、繊維は電子伝導性である。任意選択で、
繊維は電子絶縁性である。

【0130】

本明細書に記載した任意の電気化学セルについて、高機械強度層は、形状記憶合金類、
形状記憶ポリマー類、ニトノール、及びこれらの任意の組み合わせからなる群から選択さ
れる形状記憶材料を含む。本明細書に記載した任意の電気化学セルについて、高機械強度
層は、任意選択で、電子伝導性である。本明細書に記載した任意の電気化学セルについて
、高機械強度層は、任意選択で、電子絶縁性である。本明細書に記載した任意の電気化学
セルについて、高機械強度層は、任意選択で、機械的に靭性である。本明細書に記載した
任意の電気化学セルについて、高機械強度層は、任意選択で、形状記憶材料又は形状記憶
合金、形状記憶ポリマー、ニトノール、又はこれらの任意の組み合わせを含む。本明細書
に記載した任意の電気化学セルについて、高機械強度層は、任意選択で、周期的な幾何学
的形状を有するか、又はメッシュを含む。本明細書に記載した任意の電気化学セルについ
て、高機械強度層は、任意選択で、非周期的な幾何学的形状又は任意の断面を有する。本
明細書に記載した任意の電気化学セルについて、高機械強度層を任意選択で用いて、第１
イオン伝導・電子絶縁性材料製造の際に発生するピンホールを防止する。本明細書に記載
した任意の電気化学セルについて、高機械強度層を任意選択で用いて、第１イオン伝導・
電子絶縁性材料内にイオンが拡散することによる割れの発生を防止する。本明細書に記載
した任意の電気化学セルについて、高機械強度層は、任意選択で、一部が電極及び前記第
１イオン伝導・電子絶縁性材料に接着される。任意選択で、第１高機械強度層は、任意選
択で、イオン伝導・電子絶縁性材料及び電極を密着して位置決めする。任意選択で、高機
械強度層は形状記憶挙動を有するか、又は、形状記憶合金、形状記憶ポリマー、又はニト
ノールを含む。任意選択で、第１高機械強度層は予圧される。本明細書に記載した任意の
電気化学セルについて、高機械強度層は、任意選択で、３次元構造を有するか、又は３次
元メッシュを含む。任意選択で、高機械強度層は予圧される。任意選択で、第１高機械強
度層は予圧され、それにより、１つまたは複数のイオン伝導・電子絶縁性材料と電極との
間に物理的接触を提供する。任意選択で、繊維又はメッシュは結合効果を有し、前記第１
イオン伝導・電子絶縁性材料を合わせて結合する。本明細書に記載した任意の電気化学セ
ルについて、繊維又はメッシュは、任意選択で、ポリマー又はＰＶＤＦポリマー又はゴム
を含む。

【0131】

任意選択で、本明細書に記載した任意のセパレータ及び／又は膜について、例えば、複
数の開口を含む高機械強度層からなる単層又は多層セパレータは、さまざまな用途に有用
である。一実施形態では、本明細書に記載した任意のセパレータ及び／又は膜を、電気化
学セルのセパレータとして用いる。一実施形態では、本明細書に記載した任意のセパレー
タ及び／又は膜を、液体濾過膜として用いる。一実施形態では、本明細書に記載した任意
のセパレータ及び／又は膜を、気体濾過膜として用いる。一実施形態では、本明細書に記
載した任意のセパレータ及び／又は膜を、電気化学セル内の改変電極（engineered elect
rodes）として用いる。一実施形態では、本明細書に記載した任意のセパレータ及び／又
は膜を、工業用濾過用のフィルターとして用いる。一実施形態では、本明細書に記載した
任意のセパレータ及び／又は膜を、生物濾過膜として用いる。一実施形態では、本明細書
に記載した任意のセパレータ及び／又は膜を、食品業における工業用濾過膜として用いる
。一実施形態では、本明細書に記載した任意のセパレータ及び／又は膜を、製薬業におけ
る工業用濾過膜として用いる。

【0132】

本発明によるセパレータ及び膜は、逆浸透、限外濾過、精密濾過による物質の凝縮及び
分離、半導体業における高度浄化水又は高純度化学物質の製造；脱脂工程又は電着工程か
らの廃棄物の回収；製紙工程、油水分離工程、油性エマルジョン分離工程等、さまざまな
工業プロセスにおける廃液処理；果汁及び野菜汁の濃縮、大豆加工、製糖等、醗酵生産物
の分離と精製；人工腎臓、血液成分及びバクテリア分離用のマイクロフィルター及び医薬
品用のセパレータ又は精製装置等の医療用途；バイオリアクタ等の生物工学装置；及び燃
料電池の電極等に好適に用いられ、及び／又は、任意選択で用いられる。

【0133】

一実施形態において、本発明は、本明細書に記載した任意の電気化学セルであって、該
セルのカソードと電子的及び／又は物理的に接触しない電子伝導層を含む電気化学セルを
提供し、例えば、電子伝導層が該セルのアノードと電子的及び／又は物理的に接触する電
気化学セルを提供する。

【0134】

一実施形態において、本発明は、本明細書に記載した任意の電気化学セルであって、該
セルのアノードと電子的及び／又は物理的に接触しない電子伝導層を含む電気化学セルを
提供し、例えば、電子伝導層が該セルのカソードと電子的及び／又は物理的に接触する電
気化学セルを提供する。

【0135】

一実施形態において、本発明は、本明細書に記載した任意の電気化学セルであって、液
体電極ではない電極と電子的及び／又は物理的に接触する電子伝導層を含む電気化学セル
を提供し、例えば、電子伝導層が空気電極又は酸素電極ではない電極と電子的及び／又は
物理的に接触する電気化学セルを提供する。

【0136】

任意選択で、本明細書に記載した任意の電気化学セルにおいて、電気化学セルは、セパ
レータの電子伝導層等の電子伝導層であって、カソードと電子的及び／又は物理的に接触
するものを含まない。任意選択で、本明細書に記載した任意の電気化学セルにおいて、電
気化学セルは、セパレータの電子伝導層等の電子伝導層であって、正電極と電子的及び／
又は物理的に接触するものを含まない。

【0137】

任意選択で、本明細書に記載した任意の電気化学セルにおいて、電気化学セルは、セパ
レータの電子伝導層等の電子伝導層であって、アノードと電子的及び／又は物理的に接触
するものを含まない。任意選択で、本明細書に記載した任意の電気化学セルにおいて、電
気化学セルは、セパレータの電子伝導層等の電子伝導層であって、負電極と電子的及び／
又は物理的に接触するものを含まない。任意選択で、本明細書に記載した任意の電気化学
セルにおいて、金属層は多孔質金属層又は有孔金属層を含む。

【0138】

任意選択で、本明細書に記載した任意の電気化学セルにおいて、電気化学セルは、セパ
レータの電子伝導層等の電子伝導層であって、液体電極と電子的及び／又は物理的に接触
するものを含まない。任意選択で、本明細書に記載した任意の電気化学セルにおいて、電
気化学セルは、セパレータの電子伝導層等の電子伝導層であって、酸素電極と電子的及び
／又は物理的に接触するものを含まない。

【0139】

理論に束縛されることを望むものではないが、本発明に関する基本原理又は機構の概要
又は理解に関して、本明細書で説明され得る。説明又は仮説の最終的な正確さに関係なく
、本発明の実施形態は有効且つ有用であることが認識される。

【図面の簡単な説明】

【0140】

【図1】相補的な開口パターンを有する平行な第１高機械強度層及び第２高機械強度層を備えた電気化学システム用の多層セパレータシステムであり、第２開口パターンが、第１高機械強度層から第２高機械強度層まで垂直に延びる軸に沿った第１パターンの開口と第２パターンの開口との重なりがないように第１パターンに対してオフセット配列を有する多層セパレータシステムの側面斜視図を提供する。

【図2】相補的な開口パターンを有する平行な第１高機械強度層及び第２高機械強度層を備えた電気化学システム用の多層セパレータシステムであり、第２開口パターンが、第１高機械強度層から第２高機械強度層まで垂直に延びる軸に沿った第１パターンの開口と第２パターンの開口とに選択範囲の重なり、例えばセパレータシステムにおけるデンドライト成長を最小化又は回避する選択範囲の重なりがあるように第１パターンに対してオフセット配列を有する多層セパレータシステムの側面斜視図を提供する。

【図3】電解質含有層により分離されたパターン化した第１高機械強度層及び第２高機械強度層を有する、本発明の多層セパレータシステムの断面図を示す概略図を提供する。

【図4】電解質含有層により分離されたパターン化した第１高機械強度層、第２高機械強度層、及び第３高機械強度層を有する本発明の多層セパレータシステムの断面図を示す概略図を提供する。

【図5】電解質含有層により分離された第１高機械強度層及び第２高機械強度層の開口及び中実領域の向きを示す、本発明の多層セパレータシステムの断面図を示す概略図を提供する。

【図6】電解質含有層により分離されたパターン化した第１高機械強度層、第２高機械強度層、及び第３高機械強度層の開口及び中実領域の向きを示す、本発明の多層セパレータシステムの断面図を示す概略図を提供する。

【図7】相補的なパターン開口を有する２つのパターン化した高機械強度層を備えたセパレータシステムを備えた、本発明のリチウム電池の断面図を提供する概略図を提供する。

【図8】相補的なパターン開口を有する４つのパターン化した高機械強度層を備えたセパレータシステムを備えた、本発明のリチウム電池の断面図を提供する概略図を提供する。

【図9】相補的なパターン開口を有する３つのパターン化した高機械強度層を備えたセパレータシステムを備えた、本発明の電気化学セルの断面図を提供する概略図を提供する。

【図10A】リチウム金属アノードと、カソードと、相補的な開口パターンを有する３つの高機械強度層、２つの低イオン抵抗層、２つの電解質含有空隙、及びフレームコンポーネントを備えたセパレータシステムとを備えた、本発明の電気化学セルの断面図を提供する概略図を提供する。

【図10B】保護固体電解質を備えたセパレータを有する電気化学セル（例えば、Ｌｉ−空気電池、Ｌｉ−水電池で有用である）であり、固体電解質が所望のイオン（Ｌｉ^＋等）を通すが水、空気、ＣＯ_２、汚染物、及び電気化学セルの性能を低下させる材料に対して不透過性である、電気化学セルの断面図を提供する概略図を提供する。

【図10C】保護固体電解質を備えたセパレータを有する電気化学セル（例えば、Ｌｉ−空気電池、Ｌｉ−水電池で有用である）であり、固体電解質が所望のイオン（Ｌｉ^＋等）を通すが水、空気、ＣＯ_２、汚染物、及び電気化学セルの性能を低下させる材料に対して不透過性である、電気化学セルの断面図を提供する概略図を提供する。

【図10D】保護固体電解質を備えたセパレータを有する電気化学セル（例えば、Ｌｉ−硫黄電池で有用である）であり、固体電解質が所望のイオン（Ｌｉ^＋等）を通すが電気化学セルの性能を低下させるカソードとアノードとの間の粒子通過に対して不透過性である、電気化学セルの断面図を提供する概略図を提供する。

【図10E】セパレータを有する電気化学セルであり、アノードに隣接したセパレータの伝導側が、例えば、デンドライト成長を停止させ、モス状堆積等でのアノード損失を低減し、且つサイクル充電時にカソード物質がアノードへ移ってアノード粒子と集電体との間の電子接触を断ち電気化学セルの性能を低下させるのを防ぐことにより、アノード損失を低減する、電気化学セルの断面図を提供する概略図を提供する。

【図10F】セパレータを有する電気化学セルであり、有孔セパレータ板及び多孔質層が、電極間の電子絶縁を提供するが流体電解質（水性又は非プロトン性）を介した電極間のイオン接続を提供することによりセパレータとして働く、電気化学セルの断面図を提供する概略図を提供する。

【図10G】セパレータを有する電気化学セルであり、２つの高機械強度層の形状記憶効果がセパレータと電極との間の非常に良好な機械的接触をもたらす、電気化学セルの断面図を提供する概略図を提供する。

【図10H】セパレータを有する電気化学セルであり、２つの高機械強度層の超弾性及び／又は形状記憶効果がセパレータと電極との間の非常に良好な機械的接触をもたらす、電気化学セルの断面図を提供する概略図を提供する。

【図10I】セパレータを有する電気化学セルであり、２つの高機械強度層の超弾性及び／又は形状記憶効果がセパレータと電極との間の非常に良好な機械的接触をもたらす、電気化学セルの断面図を提供する概略図を提供する。

【図10J】セパレータを有する電気化学セルであり、セパレータの伝導側が、アノード粒子と集電体との間の電子接触を断ち電気化学セルの性能を低下させるサイクル充電時のケイ素の大きな変形等におけるアノード損失を低減する、電気化学セルの断面図を提供する概略図を提供する。

【図10K】セパレータを有する電気化学セルであり、アノードに隣接したセパレータの伝導側が、アノード粒子と集電体との間の電子接触を断ち電気化学セルの性能を低下させるサイクル充電時のケイ素の大きな変形等におけるアノード損失を低減する、電気化学セルの断面図を提供する概略図を提供する。

【図10L】電気化学セルの断面図を提供する概略図を提供する。

【図10M】電気化学セルの断面図を提供する概略図を提供する。

【図10N】電気化学セルの断面図を提供する概略図を提供する。

【図10O】電気化学セルの断面図を提供する概略図を提供する。

【図10P】電気化学セルの断面図を提供する概略図を提供する。

【図11A】本発明のいくつかのセパレータシステムの多孔質パターン層の設計の例を提供する。

【図11B】本発明のいくつかのセパレータシステムの多孔質パターン層の設計の例を提供する。

【図12】本発明のセパレータシステムを含む電気化学セルの断面図の概略図を示す。

【図13】本発明の電気化学システムにおいて短絡を起こすために必要なデンドライト成長の軌道を示す概略図を提供する。

【図14】パネルＡ〜Ｍで、本発明のセパレータシステムのパターン化した高機械強度層で有用な相補的な開口パターンの例を提供する。

【図15】（Ａ）１２５ミクロンの全厚を有する本発明の多層セパレータシステム及び（Ｂ）２５ミクロンの厚さを有するＣｅｌｇａｒｄセパレータを有する電気化学セルのサイクル数の関数としての、充電容量及び放電容量（ｍＡｈ／ｇ）のグラフを提供する。

【図16】（Ｂ、線２及び３）従来のセパレータを有する電気化学セルと比較した、（Ａ、線１、５、及び６）本発明の多層セパレータシステム、Ｌｉ金属アノード、及びＬｉＣｏＯ_２カソードを有する電気化学セルのサイクル数の関数としての充電容量及び放電容量（ｍＡｈ／ｇ）のグラフを提供する。

【図17】（線Ｆ及びＤ）２つのＣｅｌｇａｒｄ層間に有孔カプトンを設けて作製した参照電極及び（線Ｈ及びＩ）２５ミクロンの厚さを有するＣｅｌｇａｒｄセパレータと比較した、（線Ａ、Ｂ、及びＣ）本発明の多層セパレータシステム、Ｌｉ金属アノード、及びＬｉＣｏＯ_２カソードを有する電気化学セルのサイクル数の関数としての充電容量及び放電容量（ｍＡｈ／ｇ）のグラフを提供する。

【図18】相補的な開口パターンを有する３つの高機械強度層を備えた多層セパレータを有する本発明の電気化学セルを示す概略図を提供する。

【図19】図１８に示す多層セパレータを通過するＬｉ^＋イオンの軌道を示す概略図を提供する。

【図20】本発明の多層セパレータにより分離された２つの左右対称（５／９）インチリチウムチップからの定電流リチウムストリッピングに関するサイクル時間（時）に対するセル電圧（Ｖ対Ｌｉ）のグラフを提供する。

【図21】電流［ミリアンペア］対時間［時］及び電圧［ｖ］対時間［時］のグラフを提供する。

【図22】本発明の多層セパレータにより分離されたＬｉ−金属、ＬｉＦｅＰＯ_４カソードで作製したＣＲ２０３２セルでの時間［秒］の関数としての電流［Ａ］（上）及び電圧［ｖ］（下）のグラフを提供する。

【図23】いくつかの実施形態及び実験のセパレータシステムで有用な有孔層の写真を提供する。

【図24】いくつかの実施形態及び実験のセパレータシステムで有用な有孔層の写真を提供する。

【図25】いくつかの実施形態のセパレータシステムで有用な有孔層の写真を提供する。

【図26】一実施形態のセパレータで有用な有孔層の写真を提供する。

【図27】一実施形態のセパレータで有用な有孔層の写真を提供する。

【図28】一実施形態のセパレータで有用な有孔層の写真を提供する。

【図29】一実施形態のセパレータで有用な有孔層の写真を提供する。

【図30】一実施形態のセパレータで有用な有孔層の写真を提供する。

【図31】複合膜を含む電気化学セル実施形態の断面図を提供する。

【図32】さまざまな複合膜実施形態を示す。

【図33A】充電前の電気化学セルの概略断面図を提供する。

【図33B】充電後の電気化学セルの概略断面図を提供する。

【図33C】複数回の充放電サイクル後の電気化学セルの概略断面図を提供する。

【図33D】複数回の充放電サイクル後の電気化学セルの概略断面図を提供する。

【図34】イオン・電子伝導層を電極に隣接して位置決めした電気化学セルから得られた実験データを示すグラフを提供する。

【図35】イオン・電子伝導層を電極に隣接して位置決めした電気化学セルから得られた実験データを示すグラフを提供する。

【図36】イオン・電子伝導層を電極に隣接して位置決めした電気化学セルから得られた実験データを示すグラフを提供する。

【図37】イオン・電子伝導層を電極に隣接して位置決めした電気化学セルから得られた実験データを示すグラフを提供する。

【図38】イオン・電子伝導層を電極に隣接して位置決めした電気化学セルから得られた実験データを示すグラフを提供する。

【図39】イオン・電子伝導層を電極に隣接して位置決めした電気化学セルから得られた実験データを示すグラフを提供する。

【図40】イオン・電子伝導層を電極に隣接して位置決めした電気化学セルから得られた実験データを示すグラフを提供する。

【図41】イオン・電子伝導層を電極に隣接して位置決めした電気化学セルから得られた実験データを示すグラフを提供する。

【図42】イオン・電子伝導層を電極に隣接して位置決めした電気化学セルから得られた実験データを示すグラフを提供する。

【図43】イオン・電子伝導層を電極に隣接して位置決めした電気化学セルから得られた実験データを示すグラフを提供する。

【図44】１つ又は複数の伝導性層を含む電気化学セルの実施形態の概略断面図を提供する。

【図45】１つ又は複数の伝導性層を含む電気化学セルの実施形態の概略断面図を提供する。

【図46】１つ又は複数の伝導性層を含む電気化学セルの実施形態の概略断面図を提供する。

【図47】１つ又は複数の伝導性層を含む電気化学セルの実施形態の概略断面図を提供する。

【図48】１つ又は複数の伝導性層を含む電気化学セルの実施形態の概略断面図を提供する。

【図49】１つ又は複数の伝導性層を含む電気化学セルの実施形態の概略断面図を提供する。

【発明を実施するための形態】

【0141】

概して、本明細書で用いる用語及び句は、当業者に既知の標準的な教科書、雑誌文献、
及び文脈を参照して見ることができる、当該技術分野において認知されている意味を有す
る。以下の定義は、本発明に関する特定の用途を明確化するために提供される。

【0142】

図面を参照すると、同様の符号は、同様の符号は同様の要素を示し、２つ以上の図面に
現れる同じ番号は同じ要素を指す。さらに、下記では以下の定義が適用される。

【0143】

用語「電気化学セル」は、化学エネルギーを電気エネルギーに、又は電気エネルギーを
化学エネルギーに変換する装置及び／又は装置コンポーネントを指す。電気化学セルは、
２つ以上の電極（例えば、正電極及び負電極）及び電解質を有し、電極表面で生じる電極
反応は、電荷移動プロセスをもたらす。電気化学セルとして、限定はされないが、一次電
池、二次電池、及び電解システムが挙げられる。特定の実施形態では、電気化学セルとい
う用語は、燃料電池、スーパーキャパシタ、キャパシタ、フロー電池、金属−空気電池、
及び半固体電池を含む。一般的なセル及び／又は電池構成は、当該技術分野で既知であり
、例えば、米国特許第６，４８９，０５５号、第４，０５２，５３９号、第６，３０６，
５４０号、Ｓｅｅｌ ａｎｄ Ｄａｈｎ Ｊ． Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍ． Ｓｏｃ．
１４７（３）８９２−８９８ （２０００）を参照されたい。

【0144】

用語「容量」は、電池等の電気化学セルが保持できる総電荷量を指す電気化学セルの特
徴である。容量は、通常はアンペア時の単位で表す。用語「比容量」は、単位重量あたり
の電池等の電気化学セルの容量出力を指す。比容量は、通常はアンペア時ｋｇ^−１の単位
で表す。

【0145】

用語「放電率」は、電気化学セルが放電される電流に関する。放電率は、アンペア単位
で表すことができる。代替的に、放電率は、電気化学セルの定格容量に正規化してＣ／（
Ｘｔ）として表すことができ、式中、Ｃは電気化学セルの容量であり、Ｘは変数であり、
ｔは本明細書で用いられる場合は１時間に等しい指定の時間単位である。

【0146】

「電流密度」は、単位電極面積あたりに流れる電流を指す。

【0147】

電極は、イオン及び電子を電解質と交換する導体と外部回路とを指す。「正電極」及び
「カソード」は、本明細書では同義に用いられ、電気化学セルにおいて高い電極電位（す
なわち、負電極よりも高い）を有する電極を指す。「負電極」及び「アノード」は、本明
細書では同義に用いられ、電気化学セルにおいて低い電極電位（すなわち、正電極よりも
低い）を有する電極を指す。カソード還元は、化学種の電子（単数又は複数）の獲得を指
し、アノード酸化は、化学種の電子（単数又は複数）の損失を指す。本電気化学セルの正
電極及び負電極は、アセチレンブラック、カーボンブラック、粉末状黒鉛、コークス、炭
素繊維、グラフェン、及び金属粉末等の導電性希釈剤をさらに備えることができ、且つ／
又はポリマーバインダ等のバインダをさらに備えることができる。いくつかの実施形態で
正電極に有用なバインダは、ポリフッ化ビニル（ＰＶＤＦ）等のフルオロポリマーを含む
。本発明の正電極及び負電極は、電気化学及び電池科学の分野で既知の一定範囲の有用な
構成及びフォームファクタで設けることができ、これには、薄膜電極構成等の薄い電極設
計が含まれる。電極は、本明細書に開示し且つ当該技術分野で既知のように、例えば、米
国特許第４．０５２，５３９号、第６．３０６，５４０号、及び第６．８５２，４４６号
に例えば開示されているように製造される。いくつかの実施形態では、電極は、電極物質
のスラリー、導電性の不活性材料、バインダ、及び液体キャリアを電極集電体に堆積させ
てから、キャリアを蒸発させて緻密体を集電体と電気接触させることにより、通常は作製
される。

【0148】

「電極電位」は、種々の酸化（原子価）状態で化学種が参照電極内に又はこれと接触し
て存在することによる、この電極に対して通常測定される電圧を指す。

【0149】

「電解質」は、固体状態、液体状態（最も一般的）、又はより頻度は低いがガス（例え
ば、プラズマ）であり得るイオン伝導体を指す。

【0150】

「標準電極電位」（Ｅ°）は、溶質の濃度が１Ｍ、ガス圧が１ａｔｍ、温度が２５℃で
ある場合の電極電位を指す。本明細書で用いられる場合、標準電極電位は、標準水素電極
に対して測定される。

【0151】

「活物質」は、電気化学セルにエネルギーを蓄積及び／又は伝達する電気化学反応に関
与する電極における材料を指す。

【0152】

「カチオン」は、正に帯電したイオンを指し、「アニオン」は、負に帯電したイオンを
指す。

【0153】

「電気接触」、「電気連通」、「電子接触」、及び「電子連通」は、電流が物体から物
体へ効率的に流れるような１つ又は複数の物体の配置を指す。例えば、いくつかの実施形
態では、両者間の電気抵抗が１００Ω未満である２つの物体が、相互に電気連通している
と考えられる。電気接触は、外部の装置又は回路との電気連通、例えば電気相互接続を確
立するのに用いる装置又は物体のコンポーネントも指し得る。「電気連通」は、電子移動
の形態等での相互間の電荷移動が可能な２つ以上の材料及び／又は構造の能力を指す。い
くつかの実施形態では、電気連通したコンポーネントは、直接的に電気連通しており、電
子信号又は電荷担体がコンポーネントからコンポーネントへ直接移送される。いくつかの
実施形態では、電気連通したコンポーネントは、間接的に電気連通しており、電子信号又
は電荷担体が、コンポーネントを分離する回路素子等の１つ又は複数の中間構造を介して
コンポーネントからコンポーネントへ間接的に移送される。

【0154】

「熱接触」及び「熱連通」は、同義に用いられ、集電体又は伝熱棒及びヒートシンク又
は熱源等の要素又は材料が熱的に分離又は熱的に絶縁された場合よりも２つの要素間で熱
が効率的に伝達されるような、それらの向き又は位置を指す。要素又は材料は、熱的に分
離又は熱的に絶縁された場合よりも急速に両者間に熱が輸送される場合に、熱連通又は熱
接触していると考えられる。熱連通又は熱接触した２つの要素は、熱平衡又は熱的定常状
態に達することができ、いくつかの実施形態では、常に相互に対して熱平衡又は熱的定常
状態にあると考えられ得る。いくつかの実施形態では、相互に熱連通した要素は、熱伝導
性材料又は中間熱伝導性材料若しくは装置コンポーネントにより相互に分離される。いく
つかの実施形態では、相互に熱連通した要素は、１μｍ以下の距離だけ分離される。いく
つかの実施形態では、相互に熱連通した要素は、物理的に接触して設けられる。

【0155】

「高機械強度」は、対向する電極同士の物理的接触を防止し、セル内の外的物体、例え
ば製造の際に発生した金属粒子等に起因する短絡を防止し、二次電気化学セルの充放電サ
イクル中に電気化学セルの正電極と負電極との間のデンドライト成長に起因する短絡を防
止するのに十分な機械的強度を有する、第１高機械強度層、第２高機械強度層、第３高機
械強度層、及び第４高機械強度層等の本発明のセパレータシステムのコンポーネントの特
性を指す。一実施形態では、例えば、高機械強度層は、セル内の外的物体、例えば製造の
際に発生した金属粒子等に起因する貫通、及び、電極間のデンドライト成長に起因する短
絡を防止するのに十分な機械的強度を有する。一実施形態では、例えば、高機械強度層は
、電気化学セル内の外的物体、例えば製造の際に発生した金属粒子等に起因する当該セル
の正電極と負電極との間の短絡、及びデンドライト成長に起因する短絡を防止するのに十
分な機械的強度を有する。一実施形態では、例えば、高機械強度層は、５００ＭＰａ以上
のヤング率、場合によってはいくつかの用途で１ＧＰａ以上のヤング率、場合によっては
いくつかの用途で１０ＧＰａ以上のヤング率、場合によってはいくつかの用途で１００Ｇ
Ｐａ以上のヤング率を特徴とする。一実施形態では、例えば、高機械強度層は、５ＭＰａ
以上の降伏強度、場合によってはいくつかの用途で５０ＭＰａ以上の降伏強度、場合によ
ってはいくつかの用途で１００ＭＰａ以上の降伏強度、場合によってはいくつかの用途で
５００ＭＰａ以上の降伏強度を特徴とする。一実施形態では、例えば、高機械強度層は、
０．００５Ｎ以上の引裂強度、場合によってはいくつかの用途で０．０５Ｎ以上の引裂強
度、０．５Ｎ以上の引裂強度、１Ｎ以上の引裂強度を特徴とする。一実施形態では、例え
ば、高機械強度層は、１０Ｎ以上の初期引裂強度、場合によってはいくつかの用途で１０
０Ｎ以上の初期引裂強度を特徴とする。一実施形態では、例えば、高機械強度層は、５０
ＭＰａ以上の引張強度、場合によってはいくつかの用途で１００ＭＰａ以上の引張強度、
場合によってはいくつかの用途で５００ＭＰａ以上の引張強度、場合によってはいくつか
の用途で１ＧＰａ以上の引張強度を特徴とする。一実施形態では、例えば、高機械強度層
は、１０Ｎｃｍ以上の衝撃強度、場合によってはいくつかの用途で５０Ｎｃｍ以上の衝撃
強度、場合によってはいくつか用途で１００Ｎｃｍ以上の衝撃強度、場合によってはいく
つかの用途で５００Ｎｃｍ以上の衝撃強度を特徴とする。

【0156】

「耐薬品性」は、電極又は電解質等のセル活性化物質に対して有意な化学反応又は電気
化学反応を示さない、本発明のセパレータ及び電気化学システムの層等のコンポーネント
の特性を指す。特定の実施形態において、「耐薬品性」は、また、電気化学セル等の電気
化学システムの作動環境において引張保持率及び伸び保持率が少なくとも９０％である、
特性を指す。

【0157】

「熱的に安定」は、セルの通常又は運用上の熱的挙動に起因する有意な化学反応又は電
気化学反応を示さない、本発明のセパレータ及び電気化学システムの層等のコンポーネン
トの特性を指す。「熱的に安定」は、また、融点が１００℃を超え、好ましくはいくつか
の実施形態で３００℃を超え、場合によっては熱膨張率が５０ｐｐｍ／℃未満である、物
質を指す。一実施形態では、「熱的に安定」は、電気化学セルの性能を大幅に低下させる
温度と共にサイズ又は形状の変化を起こさずに充電式電気化学セルで実施できるような、
セパレータシステムのコンポーネントの特性を指す。

【0158】

「多孔度」は、開口、チャネル、空隙等の孔に対応する高機械強度層等の材料又はコン
ポーネントの量を指す。多孔度は、高機械強度層等の材料、構造、又は装置コンポーネン
トが占める総体積に対する、孔、チャネル、空隙等の孔に対応する材料、構造、又は装置
コンポーネントの体積の割合として表すことができる。

【0159】

電気化学蓄電及び変換用途に有用な電子特性、機械特性、及び化学特性を提供する電気
化学システム用のセパレータシステムを提供する。いくつかの実施形態は、例えば、リチ
ウム電池及び亜鉛系電池におけるデンドライト形成を管理及び制御するのに有用な構造的
、物理的、及び静電的特質を提供する。本発明によるセパレータシステムのいくつかは、
優れたイオン輸送特性を支援すると同時にデンドライトが引き起こす機械的破損、電子的
内部短絡及び／又は熱暴走を防止するのに有効な障壁を提供する、多層で多孔質の幾何学
的形状を有する。いくつかの実施形態は、例えば、シリコンアノード系電池又は空気カソ
ード系電池又はレドックス・フロー電池又は半固体電池を含む電気化学セルのサイクル寿
命及び速度能力向上に有用な構造的、物理的、及び静電的特質を提供する。本発明のセパ
レータシステムは、優れたイオン伝導特性を支援すると同時にデンドライトが引き起こす
機械的破損、短絡、又は熱暴走を防止する障壁を提供する、多層で多孔質の幾何学的形状
を含み、電極導電性を高め及び電界均一性を向上する。いくつかの実施形態は、例えば、
リチウム空気電気又は燃料電池又はフロー電池又は半固体電池等、固体電解質系システム
中の電気化学セルのサイクル寿命及び速度能力を高めるのに有用な、構造的、物理的、及
び静電的特質を提供する。本発明のセパレータシステムは、複合固体電解質／支持メッシ
ュシステム及び固体電解質／支持繊維システムを含み、支持メッシュ又は繊維の靭性及び
長寿命によって固体電解質に硬度及び安全性を提供するものであり、これは、従来の固体
電解質に見られる製造上のピンホール及び動作上の割れの発生なしに薄い固体電解質を製
造及び動作させるのに有用である。

【0160】

ここに紹介したセパレータ及び膜は、逆浸透、限外濾過、精密濾過による物質の凝縮及
び分離、半導体業における高度浄化水又は高純度化学物質の製造；脱脂工程又は電着工程
からの廃棄物の回収；製紙工程、油水分離工程、油性エマルジョン分離工程等、さまざま
な工業プロセスにおける廃液処理；果汁及び野菜汁の濃縮、大豆加工、製糖等、醗酵生産
物の分離と精製；人工腎臓、血液成分及びバクテリア分離用のマイクロフィルター及び医
薬品用のセパレータ又は精製装置等の医療用途；バイオリアクタ等の生物工学装置；及び
燃料電池の電極等に好適に用いられ、及び／又は、任意選択で用いられる。

【0161】

図１は、相補的な開口パターンを有する平行な第１高機械強度層及び第２高機械強度層
を備えた電気化学システム用の多層セパレータシステム１００（１）であり、第２開口パ
ターンが、第１高機械強度層から第２高機械強度層まで垂直に延びる軸に沿った第１パタ
ーンの開口と第２パターンの開口との重なりがないように第１パターンに対してオフセッ
ト配列を有する多層セパレータシステム１００（１）の側面斜視図を提供する。図１に示
すように、多層セパレータシステム１００（１）は、複数の開口、例えば１０４（１）及
び１０４（４）を備えた第１パターンを有する第１高機械強度層１０２（１）と、第２の
複数の開口、例えば１０４（２）及び１０４（３）を備えた第２パターンを有する第２高
機械強度層１０２（２）とを備える。第１層及び第２層は、高さＨ、長さＬ、及び幅又は
厚さＷ等の平面状の幾何学的形状及び横寸法を特徴とする。図１に示すように、開口１０
４は、第１高機械強度層１０２（１）又は第２高機械強度層１０２（２）の厚さを貫通す
る。各開口１０４も、高さｈ、長さｌ、及び幅又は厚さ（図示せず）等の横寸法を特徴と
する。

【0162】

第２高機械強度層１０２（２）への第１高機械強度層１０２（１）のパターンの重畳を
、第２高機械強度層１０２（２）上に複数のオフセット破線区域１０６（１）として概略
的に表し、第１高機械強度層１０２（１）への第２高機械強度層１０２（２）の重畳を、
第１高機械強度層１０２（１）上に複数のオフセット破線区域１０６（２）として概略的
に表す。図１に示す実施形態では、第１パターン及び第２パターンはチェッカー盤に似て
おり、例えば、第１パターンが黒マスに相当し、第２パターンがチェッカー盤の赤マスに
相当する。しかしながら、当業者には明らかとなるように、第１パターン及び第２パター
ンが相互に対してオフセット配列を有し、例えば、第１高機械強度層１０２（１）から第
２高機械強度層１０２（２）まで垂直に延びる軸に沿った開口１０４の重なりが５０％、
４０％、３０％、２０％、１０％、５％、２％、又は０％以下である限り、ハニカムパタ
ーン、最密円パターン、煉瓦パターン、三角形パターン等の他のパターンも可能である。
図１に示す実施形態では、第１高機械強度層から第２高機械強度層まで垂直に延びる軸に
沿った第１パターンの開口と第２パターンの開口との重なりがない。図１に示す矢印１０
８（１）及び１０８（２）は、第１高機械強度層１０２（１）から第２高機械強度層１０
２（２）まで垂直に延びる軸に沿って重ならない開口の領域を示すために設けられる。第
１高機械強度層の第１開口パターン及び第２高機械強度層の第２開口パターンのオフセッ
ト配列は、例えば、成長するデンドライトを機械的に遮ること及び／又は熱力学的及び／
又は動力学的に不利な曲線軌道を伴う経路を必要とすることにより、第１高機械強度層及
び第２高機械強度層の組み合わせを通したデンドライト成長を防止する。例えば、デンド
ライトは、点１１０（１）で第１高機械強度層１０２（１）により物理的に遮られるので
、矢印Ａで示すように第２高機械強度層１０２（２）の開口１０４（３）を通過すること
しかできない。同様に、デンドライトは、点１１０（２）で第２高機械強度層１０２（２
）により物理的に遮られるので、矢印Ｂで示すように第１高機械強度層１０２（１）の開
口１０４（４）を通過することしかできない。

【0163】

図２は、相補的な開口パターンを有する平行な第１高機械強度層及び第２高機械強度層
を備えた電気化学システム用の多層セパレータシステム１００（２）であり、第２開口パ
ターンが、第１高機械強度層から第２高機械強度層まで垂直に延びる軸に沿った第１パタ
ーンの開口と第２パターンの開口とに選択範囲の重なりがあるように第１パターンに対し
てオフセット配列を有する多層セパレータシステム１００（２）の側面斜視図を提供する
。図２に示すように、多層セパレータシステム１００（２）は、複数の開口、例えば１０
４（５）及び１０４（９）を備えた第１パターンを有する第１高機械強度層１０２（３）
と、第２の複数の開口、例えば１０４（６）、１０４（７）、及び１０４（８）を備えた
第２パターンを有する第２高機械強度層１０２（４）とを備える。第１高機械強度層及び
第２高機械強度層１０２は、高さＨ、長さＬ、及び幅又は厚さＷ等の横寸法を特徴とする
。図２に示すように、開口１０４は、第１高機械強度層１０２（３）及び第２高機械強度
層１０２（４）の厚さを貫通する。各開口１０４も、高さｈ、長さｌ、及び幅又は厚さ（
図示せず）等の横寸法を特徴とする。

【0164】

第２高機械強度層１０２（４）への第１高機械強度層１０２（３）のパターンの重畳を
、第２高機械強度層１０２（４）上に複数のオフセット破線区域１０６（３）として概略
的に表し、第１高機械強度層１０２（３）への第２高機械強度層１０２（４）の重畳を、
第１高機械強度層１０２（３）上に複数のオフセット破線区域１０６（４）として概略的
に表す。図２に示す実施形態では、第１パターン及び第２パターンは、第１高機械強度層
１０２（３）から第２高機械強度層１０２（４）まで垂直に延びる軸に沿った開口１０４
の選択された重なりがあるように相互に対してオフセット配列を有する。一実施形態では
、例えば、選択された重なりは、５０％、４０％、３０％、２０％、１０％、５％、又は
２％以下である。図２に示す実施形態では、第１高機械強度層から第２高機械強度層まで
垂直に延びる軸に沿った第１パターンの開口と第２パターンの開口との重なりは、０より
も大きい。図２に示す矢印は、開口の重複領域１１２と、第１高機械強度層１０２（３）
から第２高機械強度層１０２（４）まで垂直に延びる軸に沿って重ならない開口の領域と
を示すために設けられる。第１高機械強度層の開口パターン及び第２高機械強度層の開口
パターンのオフセット配列は、例えば、デンドライト成長を遮ること及び／又は熱力学的
及び／又は動力学的に不利な曲線軌道を伴う経路を必要とすることにより、第１高機械強
度層及び第２高機械強度層の組み合わせを通したデンドライト成長を防止する。

【0165】

本発明は、以下の非限定的な実施例によりさらに理解することができる。

【実施例1】

【0166】

電池用、充電式リチウム電池用等の電気化学システム及び化学システム用の、特にＬｉ
−金属電池におけるデンドライト短絡を防止するための新規セパレータ
図３は、電解質含有層（層Ｍ）により分離された相補的な開口パターンを有する第１高
機械強度層及び第２高機械強度層（層Ｒ及び層Ｆ）を有する、本発明の多層セパレータシ
ステムの断面図を示す概略図を提供する。図４は、電解質含有層（層Ｍ）により分離され
た第１高機械強度層、第２高機械強度層、及び第３高機械強度層（層Ｒ及びＦ）を有する
本発明の多層セパレータシステムの断面図を示す概略図を提供する。図３及び図４におい
て、層（Ｒ）及び層（Ｆ）は、例えば電気化学セル等の電気化学システムに組み込んだ場
合に、組み合わせて設けるとセパレータシステムにおけるデンドライト成長を防止する開
口パターンを有する高機械強度層である。図３及び図４において、電解質含有層（単数又
は複数）Ｍは、層Ｆ及びＲ間に設けられ、いくつかの実施形態では、電解質含有層（単数
又は複数）Ｍは、層Ｆ及びＲよりも厚いことが好ましい。電気化学システムにおいて、例
えば、層（単数又は複数）Ｍは電解質のリザーバとして働く。電気化学システムにおいて
、例えば、層（単数又は複数）Ｍはセパレータとして働くことにより、正電極と負電極と
の間の電気的且つ／又は物理的接触を防止しつつ正電極と負電極との間のイオン輸送を可
能にして、電気化学セルが効率的な充放電特性を得ることができるようにする。一実施形
態では、例えば、層Ｍは、導電性の微多孔膜等の低イオン抵抗層である。一実施形態では
、例えば、層Ｍは、ポリエチレン（ＰＥ）膜又はポリプロピレン（ＰＰ）膜又は両方の組
み合わせである。

【0167】

いくつかの実施形態では、高機械強度層Ｆ及びＲは、電気化学セルの電気的短絡、熱暴
走、及び／又は機械的破損の防止等、セルにおけるデンドライト成長を防止するよう機能
する。例として、高機械強度層Ｆ及びＲは、正電極と負電極との間のデンドライト成長を
防止することにより、リチウム金属電池の短絡及び容量損失を防止するよう構成され得る
。いくつかの実施形態では、高機械強度層Ｆ及びＲは、相補的な障壁を提供し、障壁のそ
れぞれが、成長するデンドライトと接触した場合の障壁の貫通又は機械的破損を防止する
のに十分な機械的強度を有する。

【0168】

いくつかの実施形態では、高機械強度層Ｆ及びＲに、層の全厚を貫通する相補的な開口
パターンを設ける。図５は、電解質含有層Ｍ等の１つ又は複数の低イオン抵抗層により分
離された第１高機械強度層及び第２高機械強度層の開口（点描領域として概略的に示す）
及び中実領域（塗りつぶし領域として概略的に示す）を示す、本発明の多層セパレータシ
ステムの断面図を示す概略図を提供する。図６は、電解質含有層Ｍ等の１つ又は複数の低
イオン抵抗層により分離された第１高機械強度層、第２高機械強度層、及び第３高機械強
度層の開口及び中実領域を示す、本発明の多層セパレータシステムの断面図を示す概略図
を提供する。例として、高機械強度層（単数又は複数）Ｆは、事前選択された第１開口パ
ターン及び中実領域を特徴とし、高機械強度層（単数又は複数）Ｒは、高機械強度層Ｆの
ものとは異なる事前選択された第２開口パターン及び中実領域を特徴とし得る。一実施形
態では、例えば、２つのパターンは相補的であり、高機械強度層Ｆ及びＲのそれぞれが、
高機械強度層の両側からのイオン及び電解質の輸送を可能にする開口（例えば、貫通孔、
ナノ孔、微小孔、チャネル等）を有するが、多層セパレータシステムの幾何学的形状にお
ける高機械強度層Ｆ及びＲの配列は、例えば上記高機械強度層（単数又は複数）Ｒから高
機械強度層（単数又は複数）Ｆまで垂直に延びる軸に沿って、高機械強度層Ｆの開口を高
機械強度層Ｒの中実領域と一致させ、高機械強度層Ｆの中実領域を高機械強度層Ｒの孔と
一致させる。一実施形態では、例えば、高機械強度層Ｆ及びＲの開口は、層Ｆ及びＲを組
み合わせて、例えば平行又は同心状の向きで設けた場合に両方の層Ｆ及びＲの孔を直線が
通ることができないように、相互に対してオフセットさせる。この空間配置は、例えば、
白マス及び黒マスを有するチェス盤等の周期的パターンを考えることにより可視化するこ
とができ、白マスは開口に相当し、黒マスは高機械強度層の中実領域に相当する。一例で
は、高機械強度層Ｆを通常のチェス盤の形式とすることができ、高機械強度層Ｒが逆のも
の、白ブロック（開口に相当）が黒マス（層Ｆの中実部分）にあり黒ブロック（中実領域
に相当）が白マス（層Ｆの孔）の代わりにある誤ったチェス盤の形式である。このオフセ
ット配列から、多層の幾何学的形状で設けた場合に全部の孔が隣接層の中実領域により遮
られる少なくとも２つの高機械強度層が得られる。

【0169】

高機械強度層Ｆ及びＲ間に低イオン抵抗層Ｍ（通常のセパレータ）を配置することで、
セパレータシステムを貫通する望ましくないデンドライト成長を防止するセパレータシス
テムが得られる。しかしながら、セルの抵抗に対するセパレータシステムの効果を最小化
するために、いくつかの実施形態では、成長するデンドライトを遮るのに十分な機械的強
度を提供するのに必要な厚さを少なくとも維持しつつ、高機械強度層Ｆ及びＲの厚さを最
小化することが望ましい。

【0170】

一実施形態では、例えば、高機械強度層Ｆ及びＲは非常に薄く（例えば、厚さ１００μ
ｍ以下、場合によってはいくつかの実施形態では厚さ２０μｍ以下）、したがって場合に
よっては層Ｍの前側及び／又は後面の１つ又は複数のコーティングの形態であり得る。高
機械強度層Ｆ及びＲの孔の体積分率及び表面分率は、所与の用途で選択され、いくつかの
用途では、表面−体積の少なくとも１／４、任意に半分が開口を含み、残りが不透過性の
中実領域を含むことが好ましい。一実施形態では、高機械強度層Ｆ及びＲは、電気化学セ
ルの他のコンポーネントと反応せず耐薬品性であり熱的に安定な材料を含む。一実施形態
では、高機械強度層Ｆ及びＲは電子絶縁体を含む。

【0171】

リチウム−金属電池に有用な特定の実施形態では、高機械強度層Ｆ及びＲは、イオン及
び電解質が開口を通過するのを許すが電気化学セルの正電極と負電極との間の電流の直接
通過は防止する相補的な開口パターンを有する、ポリエチレン膜又はポリイミド膜又はポ
リエステル膜又はポリプロピレン膜又はテフロン又はそれらの材料の混合物を含む。一実
施形態では、例えば、低イオン抵抗層Ｍは、多孔質ポリエチレン膜又は多孔質ポリプロピ
レン膜又はそれらの混合物である。一実施形態では、低イオン抵抗層Ｍは、１０ｎｍ〜２
００μｍの範囲、８０μｍ〜１２０μｍの範囲、又は、５μｍ〜２５μｍの範囲から選択
される厚さを有し、高機械強度層Ｆ及びＲはそれぞれ独立して、５μｍ〜２００μｍの範
囲、１０μｍ〜３０μｍの範囲、又は、５μｍ〜３０μｍの範囲から選択される厚さを有
する。一実施形態では、高機械強度層Ｆ及びＲは、相補的な周期的開口パターン及び中実
領域を有し、開口及び／又は中実領域を特徴付ける単位セルの１つ又は複数の横寸法は、
例えば、１マイクロメートル〜１ミリメートル、好ましくはいくつかの用途で１０マイク
ロメートル〜３０マイクロメートルの範囲で選択される。開口の単位セルの横寸法のサイ
ズがより小さく、層Ｒの平均開口サイズの１０倍ほどの大きさしかないことが、いくつか
の実施形態では好ましいが、作製に関して大きな開口に実用上の利点があり得ることが認
められるので、開口の物理的寸法の選択には妥協があり得る。

【0172】

当業者には明らかとなるように、セパレータシステムのコンポーネントの組成、物理的
寸法（例えば、厚さ）、及び機械的特性（例えば、多孔度）は、電気化学又は化学セルの
タイプ及び／又は用途に応じて変わり得る。一実施形態では、例えば、鉛蓄電池用のセパ
レータシステムは、リチウム−金属電池用のセパレータシステムよりも大きな孔サイズを
有する、より厚い高機械強度層を用い得る。

【0173】

図３及び図５に示す上記Ｒ−Ｍ−Ｆ及びＦ−Ｍ−Ｒ−Ｍ−Ｆシステムに加えて、他のセ
パレータの幾何学的形状もいくつかの用途で有用である。例として、本発明は、デンドラ
イト成長を防止するよう選択された開口パターンを有する３つ、４つ、５つ、６つ、７つ
、８つ等の高機械強度層を備えた多層システムを含む。図４及び図６に示すＦ−Ｍ−Ｒ−
Ｍ−Ｆシステムに相当するもの等の３つ以上の高機械強度層を有する多層システムは、い
くつかの用途で好ましいが、それは、これらが正電極から負電極へのデンドライト成長を
効率的に防止するよう構成され得るにもかかわらず、セルに対する付加抵抗が有用な充放
電性能を提供するのに十分なほど低く維持されたままであり得るからである。

【0174】

例として、本発明の高エネルギー充電式リチウム電池は、（１）リチウム金属若しくは
リチウム合金、又はリチウム金属及び／又はリチウム合金又は亜鉛金属又は酸化亜鉛又は
亜鉛合金又はケイ素及び別の材料の混合物を含むアノードと、（２）カソードと、（３）
アノードとカソードとの間に配置した本発明のセパレータシステムと、（４）セパレータ
を介してアノード及びカソードとイオン連通する、場合によっては物理的に接触する１つ
又は複数の電解質とを備える。一実施形態では、例えば、電解質は、固体、ゲル、又は液
体（例えば、流体）である。いくつかの実施形態では、電極は、固体材料又は半固体電池
若しくはフロー電池若しくはフローセルで用いられるもの等の半固体粒子（例えば、液体
中の小さな固体粒子）である。セパレータシステムの断面幾何学的形状は、矩形、円形、
正方形等を含む範囲の形状であり得る。

【0175】

図７は、相補的なパターン開口を有する２つの高機械強度層を備えたセパレータシステ
ムを備えた、本発明のリチウム電池の断面図を提供する概略図を提供する。電気化学セル
は、電解質リザーバを含む多層セパレータシステムにより分離されたアノード（例えば、
リチウム金属）及びカソードを備える。多層セパレータは、電解質含有セパレータ及び／
又はスペーサ等の低イオン抵抗層により分離された相補的な開口パターンを有する２つの
高機械強度層を備える。さらに、非常に多孔質な媒体が、高機械強度層とアノード及びカ
ソードコンポーネントとの間に設けられる。図７に示すように、高機械強度層は、交互の
開口及び中実領域を含むパターンを有する（例えば、図７において、塗りつぶし領域が高
機械強度層の中実領域に相当し、点描領域が高機械強度層を貫通する開口に相当する）。
図示の実施形態では、高機械強度層は、カソードとアノードとの間のデンドライト成長を
防止することが可能な相補的な開口パターンを有し、図７に示すように、第１高機械強度
層の開放領域（例えば、開口）は、層から垂直に延びる軸に沿った第２高機械強度層の中
実領域に対応する。

【0176】

図８〜図１０は、本発明のさらに他の装置構成及び装置コンポーネントを示すリチウム
電池の他の実施形態の例を提供する。図８は、相補的なパターン開口を有する４つの高機
械強度層を備えたセパレータシステムを備えた、本発明のリチウム電池の断面図を提供す
る概略図を提供する。図８に示す装置では、高機械強度層Ｒをアノードに直接物理的に接
触して設け、高機械強度層Ｆをカソードに直接物理的に接触して設ける。図８に示す実施
形態では、２つの層Ｒは同じ開口パターンを有し、２つの層Ｆは同じ開口パターンを有す
る。層Ｒ及びＦのパターンは共に、カソードからアノードまで垂直に延びる軸に沿ったア
ノードとカソードとの間の直接的な直線経路をなくすことによりデンドライト成長関連短
絡を防止する、相補的なパターンを含む。図８に示す実施形態では、高機械強度層Ｒを、
イオンを層Ｒに通過させてアノード表面と相互作用させるようにアノードと物理的に接触
して設け、高機械強度層Ｆを、イオンを層Ｆに通過させてカソード表面と相互作用させる
ようにカソードと物理的に接触して設ける。

【0177】

図９は、相補的なパターン開口を有する３つの高機械強度層を備えたセパレータシステ
ムを備えた、本発明の電気化学セルの断面図を提供する概略図を提供する。図９に示す装
置では、非常に多孔質な層（例えば、多孔度≧８０％）を高機械強度層Ｆとアノードとの
間に設け、非常に多孔質な層（例えば多孔度≧８０％）を、高機械強度層Ｆとカソードと
の間に設ける。図９に示す装置では、高機械強度層Ｒは、高機械強度層Ｆの開口パターン
と相補的な開口パターンを有し、多孔質層（例えば、多孔度≧５０％）を、高機械強度層
Ｒと高機械強度層Ｆとの間に設ける。一実施形態では、例えば、２つの高機械強度層Ｆは
同じ開口パターンを特徴とする。図９に示す実施形態では、２つの層Ｆは同じ開口パター
ンを有する。層Ｒ及び２つの層Ｆにおけるパターンは共に、カソードからアノードまで垂
直に延びる軸に沿ったアノードとカソードとの間の直接的な直線経路をなくすことにより
デンドライト成長関連短絡を防止する、相補的なパターンを含む。図９に示す実施形態で
は、非常に多孔質な層（例えば、多孔度≧８０％）を、イオンをこの多孔質層に通過させ
てアノード表面と相互作用させるようにアノード表面と物理的に接触させて設け、非常に
多孔質な層（例えば、多孔度≧８０％）を、イオンをこの多孔質層に通過させてカソード
表面と相互作用させるようにカソード表面と物理的に接触させて設ける。

【0178】

図１０Ａは、リチウム金属アノードと、カソードと、相補的な開口パターンを有する３
つの高機械強度層、２つの低イオン抵抗層、２つの電解質含有空隙、及びフレームコンポ
ーネントを備えたセパレータシステムとを備えた、本発明の電気化学セルの断面図を提供
する概略図を提供する。いくつかの実施形態では、例えば、フレーム層（単数又は複数）
は、多層構成体全体のコンポーネントを物理的に一体化し、取り付け、且つ／又は機械的
に支持する手段を提供する。図１０に示すリチウム電池では、電解質含有空隙をアノード
と開口パターンを有する第１高機械強度層との間に設け、電解質含有空隙をカソードと開
口パターンを有する第２高機械強度層との間に設ける。いくつかの実施形態では、例えば
、電極と高機械強度層との間の電解質含有空隙の組み込みは、セルの有用な充放電特性を
利用するために電極表面積を減らすことを回避するのに有用である。図１０Ａに示す装置
では、高機械強度層Ｒは、高機械強度層Ｆの開口パターンと相補的な開口パターンを有し
、低イオン抵抗層（例えば、多孔度≧５０％）を、高機械強度層Ｒと高機械強度層Ｆとの
間に設ける。

【0179】

図１０Ｂは、保護固体電解質を備えたセパレータを有する電気化学セル（例えば、Ｌｉ
−空気電池、Ｌｉ−水電池で有用である）であり、固体電解質が所望のイオン（Ｌｉ＋等
）を通すが水、空気、ＣＯ_２、汚染物、及び電気化学セルの性能を低下させる材料に対し
て不透過性である、電気化学セルの断面図を提供する概略図を提供する。電気化学セルは
、リチウムアノード等のアノードと、炭素−水カソード又は炭素−空気カソード等のカソ
ードと、相補的な開口パターンを有する２つの高機械強度層、３つの低イオン抵抗層、及
びＬＩＳＩＣＯＮ層等の固体電解質層を備えたセパレータシステムとを備える。図１０Ｂ
に示す装置では、高機械強度層は、有孔カプトン層等の電子絶縁性でもある任意に耐薬品
性で熱的に安定な有孔層である。カプトンを含む相補的な高機械強度層の使用が、いくつ
かの実施形態ではデンドライト成長の防止に有用である。図１０Ｂに示すように、非常に
多孔質な層（例えば、≧８０％）等の第１低イオン抵抗層をアノードと第１高機械強度層
との間に設け、非常に多孔質な層（例えば、≧８０％）等の第２低イオン抵抗層を第１高
機械強度層と第２高機械強度層との間に設け、非常に多孔質な層（例えば、≧８０％）等
の第３低イオン抵抗層を第２高機械強度層とカソードとの間に設ける。図１０Ｂに示すよ
うに、ＬＩＳＩＣＯＮ層等の固体電解質層を第３低イオン抵抗層とカソードとの間に設け
て、イオンをカソード表面に輸送可能であるようにする。一実施形態では、例えば、固体
電解質層は、カソードの表面と物理的に接触して設けられる。いくつかの実施形態では、
固体電解質層（例えば、ＬＩＳＩＣＯＮ層）の組み込みは、カソードの保護、例えば、カ
ソード表面及び固体電解質以外の電解質コンポーネント等の電気化学セルのコンポーネン
トとの望ましくない化学反応からの保護に有用である。いくつかの実施形態では、固体電
解質層（例えば、ＬＩＳＩＣＯＮ層）は、第１電解質を有する電気化学セルの第１側を第
１電解質とは異なる第２電解質を有する電気化学セルの第２側から分離する化学障壁層を
提供する。したがって、この態様の実施形態は、選択されたアノード組成及びカソード組
成にそれぞれ特に合わせた２つの別個の電解質を統合する手段を提供し得る。

【0180】

図１０Ｃは、保護固体電解質を備えたセパレータを有する電気化学セル（例えば、Ｌｉ
−空気電池、Ｌｉ−水電池で有用である）であり、固体電解質が所望のイオン（Ｌｉ＋等
）を通すが水、空気、ＣＯ２、汚染物、及び電気化学セルの性能を低下させる材料に対し
て不透過性である、電気化学セルの断面図を提供する概略図を提供する。電気化学セルは
、リチウムアノードと、炭素−水カソード又は炭素−空気カソード等のカソードと、相補
的な開口パターンを有する２つの高機械強度層、３つの低イオン抵抗層、及びＬＩＳＩＣ
ＯＮ層等の固体電解質層を備えたセパレータシステムとを備える。図１０Ｃにおける電気
化学セルの全体的な幾何学的形状は、図１０Ｂに示すものと同様であり、非常に多孔質な
層（例えば、≧８０％）等の第１低イオン抵抗層をアノードと第１高機械強度層との間に
設け、非常に多孔質な層（例えば、≧８０％）等の第２低イオン抵抗層を第１高機械強度
層と第２高機械強度層との間に設け、非常に多孔質な層（例えば、≧８０％）等の第３低
イオン抵抗層を第２高機械強度層とカソードとの間に設け、ＬＩＳＩＣＯＮ層等の固体電
解質層を第３低イオン抵抗層とカソードとの間に設けて、イオンをカソード表面に輸送可
能であるようにする。しかしながら、図１０の電気化学セルでは、高機械強度層は、いく
つかの実施形態においてデンドライト成長の防止及びモス状堆積等でのアノード損失の低
減に有用である相補的な開口パターンを有する有孔金属層である。図１０Ｂに関連した説
明と同様に、固体電解質層（例えば、ＬＩＳＩＣＯＮ層）の組み込みは、カソードの保護
、例えば、カソード表面及び固体電解質以外の電解質コンポーネント等の電気化学セルの
コンポーネントとの望ましくない化学反応からの保護に有用である。いくつかの実施形態
では、固体電解質層（例えば、ＬＩＳＩＣＯＮ層）は、第１電解質を有する電気化学セル
の第１側を第１電解質とは異なる第２電解質を有する電気化学セルの第２側から分離する
化学障壁層を提供し、したがって、選択されたアノード組成及びカソード組成にそれぞれ
特に合わせた２つの別個の電解質を統合する手段を提供し得る。

【0181】

図１０Ｄは、保護固体電解質を備えたセパレータを有する電気化学セル（例えば、Ｌｉ
−硫黄電池で有用である）であり、固体電解質が所望のイオン（Ｌｉ＋等）を通すが電気
化学セルの性能を低下させるカソードとアノードとの間の粒子通過に対して不透過性であ
る、電気化学セルの断面図を提供する概略図を提供する。電気化学セルは、リチウムアノ
ード等のアノードと、硫黄系カソード等のカソードと、相補的な開口パターンを有する２
つの高機械強度層、３つの低イオン抵抗層、及びＬＩＳＩＣＯＮ層等の固体電解質層を備
えたセパレータシステムとを備える。図１０Ｄにおける電気化学セルの全体的な幾何学的
形状は、図１０Ｂ及び図１０Ｃに示すものと同様であり、非常に多孔質な層（例えば、≧
８０％）等の第１低イオン抵抗層をアノードと第１高機械強度層との間に設け、非常に多
孔質な層（例えば、≧８０％）等の第２低イオン抵抗層を第１高機械強度層と第２高機械
強度層との間に設け、非常に多孔質な層（例えば、≧８０％）等の第３低イオン抵抗層を
第２高機械強度層とカソードとの間に設け、ＬＩＳＩＣＯＮ層等の固体電解質層を第３低
イオン抵抗層とカソードとの間に設けて、イオンをカソード表面に輸送可能であるように
する。しかしながら、図１０Ｄの電気化学セルでは、高機械強度層は相補的な開口パター
ンを有する有孔金属層であり、カソードは任意に硫黄系カソードである。本セパレータへ
の高機械強度層の組み込みは、いくつかの実施形態においてデンドライト成長の防止、モ
ス状堆積等でのアノード損失の低減、及びアノードへのカソード物質の移行の停止に有用
である。図１０Ｂに関連した説明と同様に、固体電解質層（例えば、ＬＩＳＩＣＯＮ層）
の組み込みは、カソードの保護、例えば、カソード表面及び固体電解質以外の電解質コン
ポーネント等の電気化学セルのコンポーネントとの望ましくない化学反応からの保護に有
用である。いくつかの実施形態では、固体電解質層（例えば、ＬＩＳＩＣＯＮ層）は、第
１電解質を有する電気化学セルの第１側を第１電解質とは異なる第２電解質を有する電気
化学セルの第２側から分離する化学障壁層を提供し、したがって、選択されたアノード組
成及びカソード組成にそれぞれ特に合わせた２つの別個の電解質を統合する手段を提供し
得る。

【0182】

図１０Ｅは、セパレータを有する電気化学セルであり、アノードに隣接したセパレータ
の伝導側が、例えば、デンドライト成長を停止させ、モス状堆積等でのアノード損失を低
減し、且つサイクル充電時にカソード物質がアノードへ移ってアノード粒子と集電体との
間の電子接触を断ち電気化学セルの性能を低下させるのを防ぐことにより、アノード損失
を低減する、電気化学セルの断面図を提供する概略図を提供する。例えば、カソードに隣
接した導電側がカソードの導電性を高めることで、より長いライフサイクル、より大きな
パワー及びより厚いカソード、及びより高エネルギーのカソード、したがってよりよい電
気化学セルを得ることができる。電気化学セルは、リチウムアノード等のアノードと、Ｌ
ｉＦｅＰＯ_４、ＬｉＣｏＯ_２カソード等のカソードと、相補的な開口パターンを有する２
つの高機械強度層、３つの低イオン抵抗層、及びカーボンブラック層等の機械抵抗性、耐
薬品性、及び耐熱性のイオン伝導層を備えたセパレータシステムとを備える。図１０Ｅに
おける電気化学セルの全体的な幾何学的形状は、図１０Ｂ、図１０Ｃ、及び図１０Ｄに示
すものと同様であり、非常に多孔質な層（例えば、≧８０％）等の第１低イオン抵抗層を
アノードと第１高機械強度層との間に設け、非常に多孔質な層（例えば、≧８０％）等の
第２低イオン抵抗層を第１高機械強度層と第２高機械強度層との間に設け、非常に多孔質
な層（例えば、≧８０％）等の第３低イオン抵抗層を第２高機械強度層とカソードとの間
に設ける。しかしながら、図１０Ｅの電気化学セルでは、第１高機械強度層は有孔金属層
を含み、第２高機械強度層は有孔カプトン層等の有孔電子絶縁層を含む。この実施形態で
は、有孔金属層及び有孔カプトン層は、デンドライト成長を防止するための相補的な開口
パターンを有する。さらに、機械抵抗性、耐薬品性、及び耐熱性のイオン伝導性カーボン
ブラック層は、カソードに隣接して、場合によってはカソードと電気的に接触且つ／又は
物理的に接触して設けられる。

【0183】

図１０Ｆは、セパレータを有する電気化学セルであり、有孔セパレータ板及び多孔質層
が、電極間の電子絶縁を提供するが流体電解質（水性又は非プロトン性）を介した電極間
のイオン接続を提供することによりセパレータとして働く、電気化学セルの断面図を提供
する概略図を提供する。電気化学セルは、ケイ素、Ｌｉ、Ｚｎ、ＺｎＯ、黒鉛、又はＬＴ
Ｏアノード等のアノードと、ＬｉＦｅＰＯ４、ＬｉＣｏＯ２、硫黄、又はＡｇカソード等
のカソードと、相補的な開口パターンを有する２つの高機械強度層及び３つの低イオン抵
抗層を備えたセパレータシステムとを備える。図１０Ｆに示すように、非常に多孔質な層
（例えば、≧８０％）等の第１低イオン抵抗層をアノードと第１高機械強度層との間に設
け、非常に多孔質な層（例えば、≧８０％）等の第２低イオン抵抗層を第１高機械強度層
と第２高機械強度層との間に設け、非常に多孔質な層（例えば、≧８０％）等の第３低イ
オン抵抗層を第２高機械強度層とカソードとの間に設ける。図１０Ｆの電気化学セルでは
、第１高機械強度層及び第２高機械強度層は独立して、ＰＥ又はＰＰコーティング等の１
つ又は複数の絶縁コーティングを有する有孔金属層等の機械抵抗性、耐薬品性、及び耐熱
性の電子絶縁層を含む。

【0184】

図１０Ｇは、セパレータを有する電気化学セルであり、２つの高機械強度層の形状記憶
効果がセパレータと電極との間の非常に良好な機械的接触をもたらす、電気化学セルの断
面図を提供する概略図を提供する。電気化学セルは、ケイ素、Ｌｉ、Ｚｎ、ＺｎＯ、黒鉛
、又はＬＴＯアノード等のアノードと、ＬｉＦｅＰＯ４、ＬｉＣｏＯ２、硫黄、又はＡｇ
カソード等のカソードと、相補的な開口パターンを有する２つの高機械強度層及び３つの
低イオン抵抗層を備えたセパレータシステムとを備える。図１０Ｇにおける電気化学セル
の全体的な幾何学的形状は、図１０Ｆに示すものと同様であり、非常に多孔質な層（例え
ば、≧８０％）等の第１低イオン抵抗層をアノードと第１高機械強度層との間に設け、非
常に多孔質な層（例えば、≧８０％）等の第２低イオン抵抗層を第１高機械強度層と第２
高機械強度層との間に設け、非常に多孔質な層（例えば、≧８０％）等の第３低イオン抵
抗層を第２高機械強度層とカソードとの間に設ける。しかしながら、図１０Ｇの電気化学
セルでは、第１高機械強度層及び第２高機械強度層は独立して、任意にＰＥ又はＰＰを塗
布した有孔ニチノール層等の形状記憶効果を示す機械抵抗性、耐薬品性、及び耐熱性の電
子絶縁層を含む。

【0185】

図１０Ｈは、セパレータを有する電気化学セルであり、２つの高機械強度層の超弾性及
び／又は形状記憶効果がセパレータと電極との間の非常に良好な機械的接触をもたらす、
電気化学セルの断面図を提供する概略図を提供する。この実施形態の一実施形態では、例
えば、高度な電気接触が固体電解質とカソードとの間に設けられる。電気化学セルは、ケ
イ素、Ｌｉ、Ｚｎ、ＺｎＯ、黒鉛、又はＬＴＯアノード等のアノードと、ＬｉＦｅＰＯ_４
、ＬｉＣｏＯ_２、硫黄、Ａｇ、炭素−空気、炭素−水カソード等のカソードと、相補的な
開口パターンを有する２つの高機械強度層、３つの低イオン抵抗層、及びＬＩＳＩＣＯＮ
又はＰＥＯ（ポリエチレンオキシド）層等の固体電解質層を備えたセパレータシステムと
を備える。図１０Ｈにおける電気化学セルの全体的な幾何学的形状は、図１０Ｂ、図１０
Ｃ、及び図１０Ｄに示すものと同様であり、非常に多孔質な層（例えば、≧８０％）等の
第１低イオン抵抗層をアノードと第１高機械強度層との間に設け、非常に多孔質な層（例
えば、≧８０％）等の第２低イオン抵抗層を第１高機械強度層と第２高機械強度層との間
に設け、非常に多孔質な層（例えば、≧８０％）等の第３低イオン抵抗層を第２高機械強
度層とカソードとの間に設け、ＬＩＳＩＣＯＮ又はＰＥＯ層等の固体電解質層を第３低イ
オン抵抗層とカソードとの間に設けて、イオンをカソード表面に輸送可能であるようにす
る。しかしながら、図１０Ｈの電気化学セルでは、高機械強度層は、任意にＰＥ又はＰＰ
を塗布され得る有孔ニチノール層等の超弾性又は形状記憶効果を有する機械抵抗性、耐薬
品性、及び耐熱性の電子絶縁層である。図１０Ｂに関連した説明と同様に、固体電解質層
（例えば、ＬＩＳＩＣＯＮ又はＰＥＯ層）の組み込みは、カソードの保護、例えば、カソ
ード表面及び固体電解質以外の電解質コンポーネント等の電気化学セルのコンポーネント
との望ましくない化学反応からの保護に有用である。いくつかの実施形態では、固体電解
質層（例えば、ＬＩＳＩＣＯＮ層）は、第１電解質を有する電気化学セルの第１側を第１
電解質とは異なる第２電解質を有する電気化学セルの第２側から分離する化学障壁層を提
供し、したがって、この態様の実施形態は、選択されたアノード組成及びカソード組成に
それぞれ特に合わせた２つの別個の電解質を統合する手段を提供し得る。

【0186】

図１０Ｉは、セパレータを有する電気化学セルであり、２つの高機械強度層の超弾性及
び／又は形状記憶効果がセパレータと電極との間の非常に良好な機械的接触をもたらす、
電気化学セルの断面図を提供する概略図を提供する。この態様の一実施形態では、例えば
、高度な電気接触が固体電解質とカソードとの間に設けられる。電気化学セルは、ケイ素
、Ｌｉ、Ｚｎ、ＺｎＯ、黒鉛、又はＬＴＯアノード等のアノードと、ＬｉＦｅＰＯ_４、Ｌ
ｉＣｏＯ_２、硫黄、Ａｇ、炭素−空気、炭素−水カソード等のカソードと、相補的な開口
パターンを有する２つの高機械強度層、３つの低イオン抵抗層、及びＬＩＳＩＣＯＮ又は
ＰＥＯ層等の固体電解質層を備えたセパレータシステムとを備える。図１０Ｉにおける電
気化学セルの全体的な幾何学的形状は、図１０Ｂ、図１０Ｃ、及び図１０Ｄに示すものと
同様であり、非常に多孔質な層（例えば、≧８０％）等の第１低イオン抵抗層をアノード
と第１高機械強度層との間に設け、非常に多孔質な層（例えば、≧８０％）等の第２低イ
オン抵抗層を第１高機械強度層と第２高機械強度層との間に設け、非常に多孔質な層（例
えば、≧８０％）等の第３低イオン抵抗層を第２高機械強度層とカソードとの間に設け、
ＬＩＳＩＣＯＮ層等の固体電解質層を第３低イオン抵抗層とカソードとの間に設けて、イ
オンをカソード表面に輸送可能であるようにする。しかしながら、図１０Ｉの電気化学セ
ルでは、高機械強度層は、有孔形状記憶ポリマー層等の超弾性及び／又は形状記憶効果を
示す機械抵抗性、耐薬品性、及び耐熱性の電子絶縁層である。図１０Ｂに関連した説明と
同様に、固体電解質層（例えば、ＬＩＳＩＣＯＮ又はＰＥＯ層）の組み込みは、カソード
の保護、例えば、カソード表面及び固体電解質以外の電解質コンポーネント等の電気化学
セルのコンポーネントとの望ましくない化学反応からの保護に有用である。いくつかの実
施形態では、固体電解質層（例えば、ＬＩＳＩＣＯＮ又はＰＥＯ層）は、第１電解質を有
する電気化学セルの第１側を第１電解質とは異なる第２電解質を有する電気化学セルの第
２側から分離する化学障壁層を提供し、したがって、選択されたアノード組成及びカソー
ド組成にそれぞれ特に合わせた２つの別個の電解質を統合する手段を提供し得る。

【0187】

図１０Ｊは、セパレータを有する電気化学セルであり、セパレータの伝導側が、アノー
ド粒子と集電体との間の電子接触を断ち電気化学セルの性能を低下させるサイクル充電時
のケイ素の大きな変形等におけるアノード損失を低減する、電気化学セルの断面図を提供
する概略図を提供する。電気化学セルは、ケイ素アノード等のアノードと、ＬｉＦｅＰＯ
_４又はＬｉＣｏＯ_２カソード等のカソードと、相補的な開口パターンを有する２つの高機
械強度層及び３つの低イオン抵抗層を備えたセパレータシステムとを備える。図１０Ｊに
おける電気化学セルの全体的な幾何学的形状は、図１０Ｆに示すものと同様であり、非常
に多孔質な層（例えば、≧８０％）等の第１低イオン抵抗層をアノードと第１高機械強度
層との間に設け、非常に多孔質な層（例えば、≧８０％）等の第２低イオン抵抗層を第１
高機械強度層と第２高機械強度層との間に設け、非常に多孔質な層（例えば、≧８０％）
等の第３低イオン抵抗層を第２高機械強度層とカソードとの間に設ける。しかしながら、
図１０Ｊの電気化学セルでは、第１高機械強度層は、有孔金属層等のアノードに近接して
位置決めした機械抵抗性、耐薬品性、及び耐熱性のイオン伝導・導電層を含み、第２高機
械強度層は、有孔カプトン層等のカソードに近接して位置決めした機械抵抗性、耐薬品性
、及び非導電性の有孔層を含む。

【0188】

図１０Ｋは、セパレータを有する電気化学セルであり、アノードに隣接したセパレータ
の伝導側が、アノード粒子と集電体との間の電子接触を断ち電気化学セルの性能を低下さ
せるサイクル充電時のケイ素の大きな変形等におけるアノード損失を低減する、電気化学
セルの断面図を提供する概略図を提供する。この態様の一実施形態では、カソードに隣接
した導電側がカソードの導電性を高めることで、より長いライフサイクル、より大きなパ
ワー及びより厚いカソード、及びより高エネルギーのカソード、したがってよりよい電気
化学セルを得ることができる。電気化学セルは、ケイ素アノード等のアノードと、ＬｉＦ
ｅＰＯ_４又はＬｉＣｏＯ_２カソード等のカソードと、相補的な開口パターンを有する３つ
の高機械強度層及び３つの低イオン抵抗層を備えたセパレータシステムとを備える。図１
０Ｋに示すように、非常に多孔質な層（例えば、≧８０％）等の第１低イオン抵抗層をア
ノードと第１高機械強度層との間に設け、非常に多孔質な層（例えば、≧８０％）等の第
２低イオン抵抗層を第１高機械強度層と第２高機械強度層との間に設け、非常に多孔質な
層（例えば、≧８０％）等の第３低イオン抵抗層を第２高機械強度層と第３高機械強度層
との間に設ける。図１０Ｋの電気化学セルでは、アノード及びカソードに近接して位置決
めした第１高機械強度層及び第３高機械強度層はそれぞれ、有孔金属層等の機械抵抗性、
耐薬品性、及び耐熱性の層を含み、上記第１高機械強度層と第２高機械強度層との間に設
けた第２高機械強度層は、有孔カプトン層等の機械抵抗性、耐薬品性、及び耐熱性の電子
絶縁・イオン伝導層を含む。

【0189】

図１０Ｌは、カソードに隣接して位置決めしたイオン伝導性且つ電子伝導性の機械抵抗
性、耐薬品性、及び耐熱性の層を有する電気化学セルの実施形態の断面図を提供する概略
図を提供する。本実施形態の電気化学セルは、ケイ素アノード等のアノードと、ＬｉＦｅ
ＰＯ_４又はＬｉＣｏＯ_２等のカソードと、多孔度８０％の多孔質ＰＥ層等の超多孔質層の
対、カーボンブラック等の電子伝導性且つイオン伝導性の機械抵抗性、耐薬品性、及び／
又は耐熱性の層、例えばＰＥ、ＰＰ、又は有孔カプトン等のイオン伝導性だが電子絶縁性
の機械抵抗性、及び耐薬品性、及び／又は耐熱性の層を含む一連の層とを備える。正電極
に隣接して位置決めした、イオン伝導性且つ電子伝導性の機械抵抗性、耐薬品性、及び／
又は耐熱性の層を用いることにより、充放電中に膨張及び縮小するカソード物質の使用が
可能になり、この層が集電用の二次導電経路を提供し、それによりカソード集電体へ電子
が送られうる。

【0190】

図１０Ｍは、電気化学セルの実施形態の断面図を提供する概略図を提供する。本実施形
態の電気化学セルは、ケイ素、Ｌｉ、亜鉛、酸化亜鉛、ＬＴＯ、黒鉛、Ｎａ、Ｍｇ、Ｓｎ
、Ｃｄ、Ｐｂ、またはＰｂＯ_２アノード等のアノードと、ＬｉＦｅＰＯ_４、ＬｉＣｏＯ_２
、ＦｅＳ、Ｖ_２Ｏ_５、ＬＶＯ、炭素−空気、炭素−水、銀、酸化銀、Ｎｉ、Ｐｂ、ＰｂＯ
_２、又は炭素等のカソードと、ＰＥ、ＰＰ、カプトン、又は繊維状セルロース等の、イオ
ン伝導性だが電子絶縁性の機械抵抗性、耐薬品性、及び／又は耐熱性セパレータ層と、カ
ソード表面、アノード表面、及び／、又はセパレータの外面に任意選択で設けた一対の電
子伝導性薄膜コーティング、例えば、５ｎｍのカーボンブラック層等と、を備える。電極
の一方又は両方に隣接して電子伝導性薄膜コーティングを用いることにより、この層が集
電用の二次導電経路を提供し、それによりカソード集電体又はアノード集電体へ電子が送
られうる。例えば、ケイ素等においてはサイクル充電の際の大きな変形により電極活粒子
と集電体との間の電子接触が断たれ、電気化学セルの性能が低下しうるが、電極外部に伝
導層を設けることにより、そのような容量損失が減少する。同時に、伝導性コーティング
（ナノメータ厚さのカーボンブラック等）は、イオン伝導性であり、Ｌｉイオン等のイオ
ンを通過させる。

【0191】

図１０Ｎは、電気化学セルの実施形態の断面図を提供する概略図を提供する。本実施形
態の電気化学セルは、リチウム等のアノードと、多孔度８０％の多孔質ＰＥ等の１つ又は
複数の多孔質層と、有孔金属等の、機械抵抗性、耐薬品性、及び／又は耐熱性の電子・イ
オン伝導層と、有孔カプトン層等の、機械抵抗性、耐薬品性、及び／又は耐熱性のイオン
伝導・電子絶縁層と、カーボンブラック等の、機械的抵抗性、耐薬品性、及び／又は耐熱
性の電子・イオン伝導層と、ＬｉＦｅＰＯ_４又はＬｉＣｏＯ_２等のカソードとを備える。
アノードに近接した伝導性材料は、例えば、デンドライト成長を抑制し、モス状堆積等の
アノード損失を減少させ、アノード粒子と集電体との間の電子的接続を断つことにより電
気化学セルの性能を低下させるサイクル充電の際のアノードへのカソード物質の移行を停
止することにより、アノード損失を減少する。カソードに近接する伝導性物質がカソード
の電子伝導性を高めることで、より長いサイクル寿命、より大きなパワー、より厚いカソ
ード、及びより高いエネルギーのカソード、したがってよりよい電気化学セルを得ること
ができる。

【0192】

図１０Ｏは、電気化学セルの実施形態の断面図を提供する概略図を提供する。本実施形
態の電気化学セルは、ケイ素等のアノードと、多孔度８０％の多孔質ＰＥ等の１つ又は複
数の多孔質層と、アノード又はカソードに近接して位置決めし、任意選択で、多孔質層に
より離間して設けた、有孔金属等の少なくとも機械的抵抗性、耐薬品性、及び／又は耐熱
性の電子・イオン伝導層と、有孔カプトン層等の機械的抵抗性、耐薬品性、及び／又は耐
熱性のイオン伝導・電子絶縁層と、ＬｉＦｅＰＯ_４またはＬｉＣｏＯ_２等のカソードとを
備える。例えば、ケイ素等においてはサイクル充電の際の大きな変形によりアノード粒子
と集電体との間の電子接触が断たれ、電気化学セルの性能が低下しうるが、アノードに近
接して伝導性物質を設けることにより、そのようなアノード損失を減少する。カソードに
近接した伝導側がカソードの電子伝導性を高めることで、より長いサイクル寿命、より大
きなパワー、より厚いカソード、及びより高いエネルギーのカソード、したがってよりよ
い電気化学セルを得ることができる。

【0193】

図１０Ｐは、電気化学セルの実施形態の断面図を提供する概略図を提供する。本実施形
態の電気化学セルは、電気化学セルは、ケイ素等のアノードと、多孔度８０％の多孔質Ｐ
Ｅ等の１つ又は複数の多孔質層と、カーボンブラック等の少なくとも２つの機械的抵抗性
、耐薬品性、及び／又は耐熱性の電子・イオン伝導層と、有孔カプトン層等の機械的抵抗
性、耐薬品性、及び／又は耐熱性のイオン伝導・電子絶縁層と、ＬｉＦｅＰＯ_４又はＬｉ
ＣｏＯ_２等のカソードと、を備える。例えば、ケイ素等においてはサイクル充電の際の大
きな変形によりアノード粒子と集電体との間の電子接触が断たれ、電気化学セルの性能が
低下しうるが、アノードに近接して伝導性物質を設けることにより、そのようなアノード
損失を減少する。カソードに近接した伝導側がカソードの電子伝導性を高めることで、よ
り長いサイクル寿命、より大きなパワー、より厚いカソード、及びより高いエネルギーの
カソード、したがってよりよい電気化学セルを得ることができる。

【0194】

図１１Ａ及び図１１Ｂは、図２〜図１０Ａにおける層Ｆ等の本発明のいくつかのセパレ
ータシステムの多孔質パターン層の設計の例を提供する。図１１Ａ及び図１１Ｂに示す実
施形態では、例えば、交互の多孔質領域（点描領域として概略的に示す）及び中実領域（
塗りつぶし領域として概略的に示す）がある。これらの実施形態では、層（単数又は複数
）Ｒは、層Ｆの設計の逆の開口パターンを提供し得る。図１１Ａ及び図１１Ｂでは、パタ
ーンは、交互の矩形多孔質領域及び中実領域を特徴とする。任意選択で、層Ｆ又は層Ｒの
いくつかは、固体電解質又はゲル状電解質によって満たした開口を有する。

【実施例2】

【0195】

高性能の安価な充電式リチウム電池：セパレータ及び電極の設計
これまで知られていた最高エネルギー電池は、安価で非常に高いエネルギー／パワー密
度を有する亜鉛及びリチウム等の金属を用いたものである。一方、これらの電池の充電は
重大な安全上の危険をもたらす。安全上の問題を緩和する要件は、デンドライト形成、事
故、及び熱暴走に抵抗できる非常に頑丈だが導電性の高いセパレータである。

【0196】

セパレータ及び電極の組み立てに工学的方法を用いて、本実施例のセパレータシステム
は、さまざまな電池ケミストリーで安全性、耐久性、パワー及びエネルギー性能の著しい
改善をもたらす。本発明の一手法は、電池産業で用いられる最も効率的なケミストリーに
工学的知識及び方法を適用することである。本実施例に示すように、本発明は、超安全で
高容量のセパレータを作製するための製造し易い方法を提供する。市販のリチウム金属、
ＬｉＦｅＰＯ_４、及び本セパレータシステムからできているコインセル試験で、従来のＣ
ｅｌｇａｒｄセパレータに匹敵するセパレータ導電性、固体の機械的強度、及び−４０℃
〜２００℃の作業温度範囲を実証する。本実施例のセパレータシステムは、Ｌｉ−イオン
系スーパーキャパシタ、Ｌｉ−イオン系フロー電池、Ｌｉ−硫黄、Ｌｉ−空気、Ｌｉ−水
、亜鉛電池、マンガン電池、シリコンアノード電池、又は亜鉛−空気電池の主要部分であ
り得る。

【0197】

本発明の特定の態様の目標は、リチウム金属、亜鉛電池、シリコンアノード電池、空気
カソード電池及びフロー電池等の既存の再充電不可能な高エネルギーケミストリーの再充
電性、安全性、及び高サイクル寿命を改善し、特に実用規模の電池におけるエネルギー蓄
積の課題に対する経済的解決を与える高エネルギー充電式金属−空気電池用の高度電気化
学システムを提供することである。

【0198】

最新のリチウム電池の多くは、内部短絡を招き得ると共に火災及び爆発を招き得るデン
ドライト形成を主に理由として、充電可能ではない。同時に、潜在的に高エネルギーアノ
ードとしてのケイ素は、好ましい方向に慎重に成長させた非常に高価なナノシリコン（拡
張不可能）を用いなければ、非常に大きな形状変化を起こして集電体との電気接触を失う
。多くの異なる電解質及び添加剤が試験され、産業レベルのシステムで有用ではなかった
。近年では、さまざまな固体電解質が安全性の向上のために導入されているが、これらは
液体電解質−セパレータシステムと比較して桁違いに低い導電性しか有さず、非常に少な
いサイクル後に疲労、割れ、及び電極−電解質接点の損失に起因して性能を落とす。

【0199】

新規の拡張可能なプロセスを用いて、本発明の態様は、デンドライト成長に抵抗する機
械的に剛性の材料（例えば、１ＧＰａを超える弾性率及び−２００℃〜４００℃の温度範
囲）を有する非常に多孔質なセパレータシステム（例えば、室温で液体電解質に対して１
０^−２Ｓ／ｃｍ以上の伝導率）を提供する。本セパレータシステムの実施形態は、さまざ
まなケミストリーで高エネルギー且つ低コストの実用規模の電池を可能にする新たな装置
構造を提供する。本セパレータシステムの実施形態は、事故のない輸送機関用電池も提供
する。実験結果は、例えば、本セパレータシステムを組み込んだ電池が容量損失なし又は
最小限の容量損失で５，０００サイクルよりも多くを達成し得ることを示す。さらに、セ
パレータシステムのいくつかは、現在のリチウム電池製造ですでに用いられている鋳込み
及びロールツーロール加工法に容易に組み入れることが可能である。

【0200】

本発明の特定の実施形態の重要な特徴は、高い導電率及び高い安全性を同時に提供する
多層セパレータシステムである。図１２は、本発明のセパレータシステムを含む電気化学
セルの断面図の概略図を示す。図１２に示すように、電気化学セルは、セパレータシステ
ム（５）により相互に分離されたアノード（３）及びカソード（４）を備える。この実施
形態では、セパレータシステム（５）は、頑丈な材料を含み開口パターンを有する有孔層
（１及び１’）と、フレーム及び／又は非常に多孔質な層（２）とを含む複数の層を備え
る。セパレータ材料の有孔層の高い弾性率は、デンドライトが障壁を直接貫通するのを防
止する。図１４は、本発明のセパレータシステムの有孔層で有用な開口パターンの例を提
供する。図１４に示すように、セパレータシステムの有孔層は円形又は矩形の開口を有し
得る。図１４は、デンドライト成長、短絡、及び機械的破損を防止するのに有用な有孔層
の相補的なパターンも示す。例えば、パネルＡ及びＢは、特定のセパレータシステムのオ
フセット配列で設けた場合に重ならない相補的な開口パターンを提供する。パネルＣは、
パネルＡ及びＢのパターンの重畳を概略的に示し、これはオフセット配列が開口の重なり
をもたらさないことを示す。同様に、パネルＦ及びＧは、特定のセパレータシステムのオ
フセット配列で設けた場合に重ならない相補的な開口パターンを提供する。同様に、パネ
ルＨ及びＩは、特定のセパレータシステムのオフセット配列で設けた場合に重ならない相
補的な開口パターンを提供する。同様に、パネルＪ及びＫは、特定のセパレータシステム
のオフセット配列で設けた場合に重ならない相補的な開口パターンを提供する。同様に、
パネルＬ及びＭは、特定のセパレータシステムのオフセット配列で設けた場合に重ならな
い相補的な矩形開口パターンを提供する。

【0201】

有孔層における多数の開口は、セパレータの高伝導率を確実にし、連続した層における
孔のオフセット配列は、電極間の直接経路がないことを確実にする。高機械強度層からデ
ンドライトへの力が、デンドライト成長を減速又は停止させる。電気化学セルにおいて、
これがセルの性能を大幅に向上させる。図１３は、本発明の電気化学セルにおいて短絡を
起こすために必要なデンドライト成長の軌道を示す概略図を提供する。この図では、デン
ドライトをアノードからカソードまで延びる曲線として示す。図１３に示すように、デン
ドライトは、有孔層を通過して短絡を引き起こすには複数回曲がらなければならない。厳
密に機械的な視点から、リチウムの弾性率（５ＧＰａ）は、短い長さ（０．１ｍｍ未満）
でのデンドライトの連続した湾曲を可能にするには高すぎ、直線ビームを曲げるのに必要
なエネルギーは、

【数1】

であり、式中、Ｅは弾性率、Ｉは慣性モーメント、及びＲ（ｘ）は各点における曲率、最
後にＬは要素の長さである。化学工学的観点から、デンドライトは、動力学的フラストレ
ーションが大きすぎるのでこのような複雑な成長経路を克服できない。さらに、高機械強
度層の固形成分の抵抗圧によりデンドライト成長を減速し、さらには停止することもでき
る。相補的な開口パターンを有する有孔層を含む層状セパレータシステムは、デンドライ
ト成長を効果的に防止し、したがって短絡を防止する。かかる複合セパレータシステムに
必要な材料及び作製法は、本電池作製インフラストラクチャと適合性があり、現在の電池
製造への低コストでの組み入れを可能にする。本発明は、非常に遅い充電（例えば、Ｃ／
１０）及び非常に速い放電（例えば、４Ｃ）の送電網の負荷平準化に適した、費用効果的
で安全な高エネルギーリチウム電池を提供する。本発明は、液体電解質の伝導率、固体電
解質の安全性、高サイクル寿命、及び低コストを特徴とする工業的に優しい電池が得られ
る層状セパレータを作製するプロセスも提供する。任意選択で、いくつかの実施形態にお
いて、ニトノールまたは形状記憶ポリマー等の形状記憶材料で層を形成することによりこ
れを達成する。セパレータの形状記憶層に面内張力等の予圧を与えることにより、層をセ
ル内に入れたときに電極上に面外圧力を引き起こす。これは、１８６５０円筒型電池又は
巻回電池等大型の電池（バッテリーセル）において特に有用でありうる。

【0202】

本発明の電気化学システムは、プレストレス電極等の改変電極の使用とも適合性がある
。リチウム金属は、面外方向に圧縮されると、その表面を均すことによって著しく良好な
性能を示す（モスが少なくデンドライトが少ない）。また、ケイ素アノードの面外圧縮は
、集電体とのはるかによい接触及びはるかに長いライフサイクルをもたらす。本発明のこ
の態様は、電極と固体電解質との間の良好な接触を維持し且つサイクル寿命及び性能を向
上させることにより、固体電池にも役立ち得る。任意選択で、いくつかの実施形態におい
て、いくつかの実施形態において、ニトノール又は形状記憶ポリマー等の形状記憶材料で
形成した層によりこれを達成する。セパレータの形状記憶層に面内張力等の予圧を与える
ことにより、層をセル内に入れたときに電極上に面外圧力を引き起こす。これは、１８６
５０円筒型電池又は巻回電池等大型の電池（バッテリーセル）において特に有用でありう
る。

【0203】

本発明の有益な特質をさらに実証するために、複合層セパレータシステムを組み込んだ
１００個を超えるコインセルを作製して評価した。試験したセパレータのいくつかは、０
．０２５ｍｍのＣｅｌｇａｒｄと比較して、目下０．１２５ｍｍの厚さであり、Ｃ／２で
７５％の容量を保つ。先端が鈍角の釘及び大電流サイクル充電、３００サイクルで５５ｍ
Ａ／ｃｍ^２を含む安全性試験で、セパレータシステムが堅牢であり電池が内部短絡を起こ
さないことが示される。さらに、完全に破壊された５層Ｃｅｌｇａｒｄセパレータ（０．
１２５ｍｍ厚）とは対照的に、数百サイクル後に測定可能な劣化も容量損失もない。本発
明は、任意選択で、０．０７５ｍｍの全厚を有するセパレータシステムを含む。本発明は
、任意選択で、４００Ｗｈ／ｋｇのエネルギー及び５０００サイクルの円筒形１８６５０
リチウム金属電池の１０ｋＷｈパックに有用なセパレータシステムの０．０２５ｍｍ厚ロ
ールを含む。

【0204】

送電網レベルのエネルギー貯蔵は、現在は揚水によって占められており、現在の蓄電の
９９％を超えるが、これはごく少数の限られた現場及び用途でしか可能でなく、社会の蓄
電需要の高まりに適していない。他の解決手段は大きな欠点を有する。圧縮空気技術は、
２０％未満という非常に低い繰り返し効率しかない。電気化学キャパシタ及びフライホイ
ールは、非常に低いエネルギー／コスト比を有する。高パワー及び高エネルギーの組み合
わせとして用いられるフロー電池は、非常に複雑且つ高価である。現在の電池は、コスト
／エネルギー比及びコスト／パワー比（約＄１／Ｗｈ）も高い。最新の高エネルギーリチ
ウム−金属、金属−空気、及びナノシリコンケミストリーは、前述のような重大な安全上
／コスト上の問題を有する。

【0205】

いくつかの実施形態では、本発明のセパレータ−電極設計は、現在は安全と考えられず
且つ／又は短いサイクル寿命を有する一定範囲の充電式高エネルギーケミストリーを可能
にする。工業的な製造法（例えば、ＣＮＣ、成形、鋳造）を用いて、本発明は、電気化学
を工学と組み合わせて最新の電池技術に関する安全性の問題に対処する。高エネルギー電
極と組み合わせた本セパレータシステムは、送電網貯蔵用及び同じく電気自動車用に工業
規模で安全且つ高サイクル寿命の高エネルギー電池を提供する。

【0206】

本システム及び方法は、拡張可能且つ工業的に優しい。セパレータ性能の向上を、本シ
ステム及び方法に従ったいくつかの手法で達成することができる。より小さな孔（０．０
１０ｍｍ〜０．１００ｍｍ）を作製し、より薄い層（０．００５ｍｍ）を用いることによ
る伝導率の改善は、高性能システムを利用するのに有用な手法である。さらに、必要なオ
フセット配列の維持、及び境界及び他の選択区域での加熱による層の取り付けを用いて、
安全性向上を提供するセパレータシステムを利用することができる。

【0207】

図１５は、（Ａ）１２５ミクロンの全厚を有する本発明の多層セパレータシステム及び
（Ｂ）２５ミクロンの厚さを有するＣｅｌｇａｒｄセパレータを有する電気化学セルのサ
イクル数の関数としての、充電容量及び放電容量（ｍＡｈ／ｇ）のグラフを提供する。評
価したＣＲ２０３２コインセルは、Ｌｉ箔の０．５ｍｍ厚アノードと、ＬｉＦｅＰＯ４（
０．０１４２ｇ）カソードと、ＥＣ：ＤＥＣ：ＤＭＣ（１：１：１）中の１Ｍ ＬｉＰＦ
６とでできている。電圧限界は３ｖ（放電）及び４ｖ（充電）である。化成、Ｃ／５での
３サイクル、及びＣ／２サイクル充電、は、容量の急低下と区別可能である。上の線は、
高機械強度層としての２つの有孔カプトン層と低抵抗層としての３つの有孔Ｃｅｌｇａｒ
ｄ２３２５層とでできたセパレータを示す。下の線は、高機械強度層としての２つの有孔
カプトン層と低抵抗層としての３つのＣｅｌｇａｒｄ２３２５層とでできたセパレータを
示す。セルは室温で試験する。４０サイクル〜５０サイクル後に測定可能な容量低下は観
察されなかった。図１５に示す実験結果は、本セパレータが低抵抗を提供し、したがって
一定範囲の電気化学システムと適合性があることを示す。

【0208】

図１６は、（Ｂ）従来のセパレータを有する電気化学セルと比較した、（Ａ）本発明の
多層セパレータシステム、Ｌｉ金属アノード、及びＬｉＣｏＯ_２カソードを有する電気化
学セルのサイクル数の関数としての充電容量及び放電容量（ｍＡｈ／ｇ）のグラフを提供
する。電気化学セルはコインセルであり、Ｃ／２の放電率で評価した。評価したＣＲ２０
３２コインセルは、Ｌｉ箔の０．５ｍｍ厚アノードと、ＬｉＣｏＯ_２の０．１ｍｍ厚カソ
ードと、ＥＣ：ＤＥＣ：ＤＭＣ（１：１：１）中の１Ｍ ＬｉＰＦ６とでできている。電
圧限界は、３ｖ（放電）及び４．２ｖ（充電）である。化成、Ｃ／２４での５サイクル、
及びＣ／２サイクル充電は、容量の急低下と区別可能である。赤線（文字Ｂで示す）１、
５、６は、高機械強度層としての２つの有孔カプトン層（直径２ｍｍの孔）と低抵抗層と
しての３つのＣｅｌｇａｒｄ２３２５層とでできたセルを示す。青線（文字Ａで示す）２
、３は、２つのＣｅｌｇａｒｄ層間に有孔カプトンを設けてできた参照電極を示す。セル
は室温で試験する。セルをＣ／２でサイクル充電させ、次にＣ／２４で数サイクルにわた
りサイクル充電させ、次に再度Ｃ／２でサイクル充電させた。実験結果は、容量損失がセ
ルにおける化学反応に起因したものではなく、評価した電気化学セルの有孔カプトン層の
抵抗に起因したものである可能性が高かったことを示す。図１６は、実験条件によっては
セルにおいて良好な容量に達するためには、その他の材料の使用、表面処理、又は均一な
孔分布、したがってより小さな孔が必要であることを示す。

【0209】

図１７は、（ｉｉ）７５ミクロンの厚さを有する３つの従来のセパレータを有する電気
化学セル及び（ｉｉｉ）２５ミクロンの厚さを有するＣｅｌｇａｒｄセパレータと比較し
た、（ｉ）本発明の多層セパレータシステム、Ｌｉ金属アノード、及びＬｉＦｅＰＯ_４カ
ソードを有する電気化学セルのサイクル数の関数としての充電容量及び放電容量（ｍＡｈ
／ｇ）のグラフを提供する。電気化学セルはコインセルであり、Ｃ／２の放電率で評価し
た。評価したＣＲ２０３２コインセルは、Ｌｉ箔の０．５ｍｍ厚アノードと、ＬｉＦｅＰ
Ｏ４の０．１ｍｍ厚カソードと、ＥＣ：ＤＥＣ：ＤＭＣ（１：１：１）中の１Ｍ ＬｉＰ
Ｆ６とからできている。電圧限界は、３ｖ（放電）及び４ｖ（充電）である。化成、Ｃ／
２４での５サイクル、及びＣ／２サイクル充電は、容量の急低下と区別可能である。線Ｉ
、Ｈは、単一Ｃｅｌｇａｒｄ層でできたセルを示す。線Ａ、Ｂ、Ｃは、高機械強度層とし
ての２つの有孔カプトン層と低抵抗層としての３つのＣｅｌｇａｒｄ２３２５層とででき
たセパレータを示す。線Ｆ及びＤは、２つのＣｅｌｇａｒｄ層間に有孔カプトン層を設け
てできた参照電極を示す。セルは室温で試験した。この試験は、セルで高容量に達するた
めに薄いセパレータを有することの重要性を実証する。

【0210】

図１８は、相補的な開口パターンを有する３つの高機械強度層を備えた多層セパレータ
と、アノードと、カソードとを有する本発明の電気化学セルを示す概略図を提供する。図
１９は、図１８に示す多層セパレータを通過するＬｉ^＋イオンの軌道を示す概略図を提供
する。Ｌｉ^＋イオンは、図１９に示す多層セパレータを効率的に通過可能であるが、デン
ドライトは同じ軌道をなすことができず、したがって本発明の特定の実施形態では防止さ
れる。さらに、高機械強度層からの力が、デンドライト成長を減速又は停止させる。

【0211】

図２０は、２つの対称的な（５／９）インチリチウムチップからの定電流リチウムスト
リッピングに関するサイクル時間（時）に対するセル電圧（Ｖ対Ｌｉ）のグラフを提供す
る。高強度層としての２つのカプトン層とそれらに隣接した低抵抗層としての３つのＣｅ
ｌｇａｒｄ層とでできた新規セパレータ（０．１２５ｍｍ厚）の層をＣＲ２０３２セル内
に設ける。Ｃｅｌｇａｒｄ２３２５を用いる。各セルは、電極としての０．７５ｍｍＬｉ
箔と、電解質としてのＮｏｖｏｌｔｅからのＥＣ：ＤＥＣ：ＤＭＣ（１：１：１）中の１
Ｍ ＬｉＰＦ６とでできている。カプトン孔はそれぞれ直径１ｍｍである。セルは、アル
ゴン充填ドライボックス（Ｈ_２Ｏ＜０．１ｐｐｍ）内にて室温で試験する。この図は、多
層セパレータがデンドライト短絡を防いで非常に大きな電流でも壊損を防止することがで
きることを示す。

【0212】

図２２は、図１５の実験に関する電流［アンペア］対時間［秒］（上図）及び電圧［ｖ
］対時間［秒］（下図）のグラフを示す。これは、上部の赤線を示す。

【0213】

図２３〜図３０は、いくつかの実施形態のセパレータシステムで有用な有孔層の写真を
提供する。図２３は、例えば、異なるセパレータ材料（５−Ｃｅｌｇａｒｄセパレータ：
Ａ）と、大電流で数日間のサイクル充電後の新たなセパレータＢ）〜Ｄ）：Ａ）５−Ｃｅ
ｌｇａｒｄセパレータ（左上〜右下：Ｌｉ＋Ｃｅｌｇａｒｄ、Ｌｉ＋Ｃｅｌｇａｒｄ、ス
テンレス鋼集電体）、リチウムデンドライトが突き刺さって破壊された通常のセパレータ
（Ｃｅｌｇａｒｄ）の写真を提供する。図示のように、Ｂ）２つの有孔カプトン間のＣｅ
ｌｇｕａｒｄ層；Ｃ）リチウム電極と接触しているＣｅｌｇａｒｄ；Ｄ）有孔カプトンに
おいて、セパレータはもはや認識されない。リチウムデンドライトは新たなセパレータを
貫通できなかった。ここで示すように、新たなセパレータのカプトン層は無傷であるが、
カプトン層の右側のＣｅｌｇａｒｄは破壊される。図２５〜図３０は、例えば、本発明の
セパレータシステムで用いるためにレーザ切断で準備した１ミリカプトン膜の写真である
。

【0214】

図２３は、直径１／２インチの所内作製セルの参照セパレータとしての５つのＣｅｌｇ
ａｒｄ層（０．１２５ｍｍ厚）と比較した、高強度層としての２つのカプトン層とそれら
に隣接した低抵抗層としての３つのＣｅｌｇａｒｄ層とでできた新規セパレータ（０．１
２５ｍｍ厚）の層を示す。Ｃｅｌｇａｒｄ２３２５を用いる。セルは、電極としての０．
７５ｍｍＬｉ箔と、電解質としてのＮｏｖｏｌｔｅからのＥＣ：ＤＥＣ：ＤＭＣ（１：１
：１）中の１Ｍ ＬｉＰＦ６とでできている。カプトン孔はそれぞれ直径２ｍｍである。
セルを室温で試験し、アルゴン充填ドライボックス（Ｈ２Ｏ＜０．５ｐｐｍ）内にて４５
分充放電サイクルにおいて５５ｍＡでサイクル充電させ、（Ａ）参照セパレータは、５−
Ｃｅｌｇａｒｄ参照セパレータを示し、セルは短絡し、（Ｂ−Ｄ）は新たなセパレータを
示し、セルは短絡しない。（Ｂ）新たなセパレータ：２つの有孔カプトン層間のＣｅｌｇ
ａｒｄは無傷であり、（Ｃ）新たなセパレータ：リチウム電極と接触したＣｅｌｇａｒｄ
は重大な損傷を示し、（Ｄ）新たなセパレータ：有孔カプトンは無傷であり、その構造的
完全性を維持し、いかなる短絡も防止する。この図は、多層セパレータがデンドライト短
絡を防いで非常に大きな電流でも壊損を防止することができることを示す。図２４（縮小
）は図２３（拡大）と同じである。上及び下のグラフは、各設計の２つの隣接する層を示
す。図２５〜図３０は、カプトンでできた高強度層設計のいくつかの例を示す。孔はレー
ザ切断で形成する。層のそれぞれのサイズは１／２インチである。孔の直径は、１ｍｍ又
は２ｍｍのいずれか一方である。

【実施例3】

【0215】

多層セパレータシステムを有するリチウム電池
本実施例は、本発明の多層セパレータシステムを備えたリチウム電池の例の説明を提供
する。

【0216】

実施例Ａ：本実施例では、それぞれ２５マイクロメートル厚の２つのカプトン膜層をセ
パレータシステムに用いる。各層には、それぞれ直径１ｍｍであり壁間の距離を１ｍｍと
したデカルト（垂直−水平）周期孔を穿孔する。２５マイクロメートルのＣｅｌｇａｒｄ
層を、２つのカプトン層間に配置する。２５マイクロメートルのＣｅｌｇａｒｄ層を、各
カプトン層と隣接電極との間に配置する。電極はＬｉＣｏＯ_２及びリチウム金属膜である
。電解質は、ＥＣ−ＤＭＣ−ＰＣ−ＤＭＥの組み合わせ中のＬｉＰＦ_６である。

【0217】

実施例Ｂ：本実施例では、それぞれ２５マイクロメートル厚の２つのカプトン膜層をセ
パレータシステムに用いる。各層には、それぞれ直径１ｍｍであり壁間の距離を１ｍｍと
したデカルト（垂直−水平）周期孔を穿孔してセパレータシステムに用いる。２５マイク
ロメートルのＣｅｌｇａｒｄ層を、２つのカプトン層間に配置する。２５マイクロメート
ルのＣｅｌｇａｒｄ層を、各カプトン層と隣接電極との間に配置する。電極はＬｉＦｅＰ
Ｏ_４及びリチウム金属膜である。電解質は、ＥＣ−ＤＭＣ−ＰＣ−ＤＭＥの組み合わせ中
のＬｉＰＦ_６である。

【0218】

実施例Ｃ：本実施例では、それぞれ２５マイクロメートル厚の２つのカプトン膜層をセ
パレータシステムに用いる。各層には、それぞれ直径１ｍｍであり壁間の距離を１ｍｍと
したデカルト（垂直−水平）周期孔を穿孔し、セパレータシステムに用いる。２５マイク
ロメートル厚でそれぞれ１／８インチの３つの孔を有する有孔Ｃｅｌｇａｒｄ層を、２つ
のカプトン層間に配置する。２５マイクロメートル厚でそれぞれ１／８インチの３つの孔
を有する有孔Ｃｅｌｇａｒｄ層を、各カプトン層と隣接電極との間に配置する。電極はＬ
ｉＦｅＰＯ_４及びリチウム金属膜である。電解質は、ＥＣ−ＤＭＣ−ＰＣ−ＤＭＥの組み
合わせ中のＬｉＰＦ_６である。

【0219】

実施例Ｄ：本実施例では、それぞれ２５マイクロメートル厚で直径３／４インチの２つ
のＰＰ膜層をセパレータシステムに用いる。各層には、それぞれ直径１ｍｍであり壁間の
距離を１ｍｍとしたデカルト（垂直−水平）周期孔を穿孔する。２５マイクロメートル厚
のＣｅｌｇａｒｄリングを、２つのＰＰ層間に配置する。２５マイクロメートル厚で外径
３／４インチ及び内径１／２インチのＣｅｌｇａｒｄリングを、各ＰＰ層と隣接電極との
間に配置する。電極はＬｉＦｅＰＯ_４及びリチウム金属膜である。電解質は、ＥＣ−ＤＭ
Ｃ−ＰＣ−ＤＭＥの組み合わせ中のＬｉＰＦ_６である。

【0220】

実施例Ｅ：本実施例では、それぞれ５マイクロメートル厚で直径３／４インチの２つの
硬質ポリエステル膜層をセパレータシステムに用いる。各層には、それぞれ直径１ｍｍで
あり壁間の距離を１ｍｍとしたデカルト（垂直−水平）周期孔を穿孔する。５マイクロメ
ートル厚のＰＥ／ＰＰ／ＰＥ微多孔質リングを、２つのカプトン層間に配置する。５マイ
クロメートル厚で外径３／４インチ及び内径１／２インチのＰＥ／ＰＰ／ＰＥ微多孔質リ
ングを、各カプトン層と隣接電極との間に配置する。電極はＬｉＦｅＰＯ_４及びリチウム
金属膜である。電解質は、ＥＣ−ＤＭＣ−ＰＣ−ＤＭＥの組み合わせ中のＬｉＰＦ_６であ
る。

【0221】

実施例Ｆ：本実施例では、それぞれ５マイクロメートル厚の２つのステンレス鋼層を用
いる。鋼層には、非常に薄い電子絶縁層を塗布する（ここでは、１マイクロメートル厚の
テフロン、カプトン、ＰＶＤＦ、ＰＥＯ、ＰＰ又はＰＥコーティングも用いることができ
る）。各層には、それぞれ直径０．５ｍｍであり壁間の距離を０．５ｍｍとしたデカルト
（垂直−水平）周期孔を穿孔する。５マイクロメートルのＰＥ／ＰＰ／ＰＥ微多孔質層を
、２つのステンレス鋼層間に配置する。５マイクロメートルのＰＥ／ＰＰ／ＰＥ微多孔質
を、各ステンレス鋼層と隣接電極との間に配置する。電極は、ＬｉＦｅＰＯ_４及びリチウ
ム金属膜である。電解質は、ＥＣ−ＤＭＣ−ＰＣ−ＤＭＥの組み合わせ中のＬｉＰＦ_６で
ある。

【0222】

実施例Ｇ：本実施例では、それぞれ５マイクロメートル厚で直径３／４インチの２つの
カプトン膜層をセパレータシステムに用いる。各層には、それぞれ直径１ｍｍであり壁間
の距離を１ｍｍとしたデカルト（垂直−水平）周期孔を穿孔する。５マイクロメートル厚
のＣｅｌｇａｒｄリングを、２つのカプトン層間に配置する。５マイクロメートル厚で外
径３／４インチ及び内径１／２インチのＣｅｌｇａｒｄリングを、リチウム金属膜アノー
ドに隣接したカプトン層とＬｉ電極との間に配置する。２５マイクロメートル厚で直径３
／４インチのＬＩＳＩＣＯＮ層を、第２カプトンと空気炭素電極との間に配置する。ＬＩ
ＳＩＣＯＮのＬｉ側の電解質は、ＥＣ−ＤＭＣ−ＰＣ−ＤＭＥの組み合わせ中のＬｉＣｌ
Ｏ_４である。ＬＩＳＩＣＯＮの空気カソード側の電解質は、水性電解質である。

【0223】

実施例Ｈ：本実施例では、それぞれ５マイクロメートル厚で直径３／４インチの２つの
ＰＥ膜層をセパレータシステムに用いる。各層には、それぞれ直径０．１ｍｍであり壁間
の距離を０．１ｍｍとしたデカルト（垂直−水平）周期孔を穿孔する。２５マイクロメー
トル厚で直径３／４インチのＬＩＳＩＣＯＮ層を、第２ＰＥと空気炭素カソードとの間に
配置する。ＬＩＳＩＣＯＮのＬｉ側の電解質は、ＥＣ−ＤＭＣ−ＰＣ−ＤＭＥの組み合わ
せ中のＬｉＰＦ_６である。ＬＩＳＩＣＯＮの空気カソード側の電解質は、水性電解質であ
る。

【0224】

実施例Ｉ：本実施例では、それぞれ５マイクロメートル厚の２つのステンレス鋼層を用
いる。鋼層には、内面（近くの電極に面しない側）に非常に薄い電子絶縁層（ここでは、
１マイクロメートル厚のテフロン）を塗布する。各層には、それぞれ直径０．１ｍｍであ
り壁間の距離を０．１ｍｍとしたデカルト（垂直−水平）周期孔を穿孔する。５マイクロ
メートルのＣｅｌｇａｒｄ層を、２つのステンレス鋼層間に配置する。５マイクロメート
ルのＣｅｌｇａｒｄ層を、各ステンレス鋼層と隣接電極との間に配置する。電極は、部分
的にリチウム化したＳｉ及び部分的にリチウム化した硫黄である。このセパレータを備え
た電池は、より長いサイクル寿命及びより高い充放電（パワー）率を示すと予想される。

【0225】

実施例Ｊ：本実施例では、それぞれ５マイクロメートル厚の２つのステンレス鋼層を用
いる。鋼層には、内面（近くの電極に面しない側）に１マイクロメートル厚テフロンの非
常に薄い電子絶縁層と、外面（近くの電極に面する側）に１マイクロメートル厚のポリエ
チレングリコールとを塗布する。各層には、それぞれ直径０．１ｍｍであり壁間の距離を
０．１ｍｍとしたデカルト（垂直−水平）周期孔を穿孔する。５マイクロメートルのセル
ロースセパレータ層を、２つのステンレス鋼層間に配置する。５マイクロメートルのセル
ロースセパレータ層を、各ステンレス鋼層と隣接電極との間に配置する。電極は、Ｌｉ金
属及び硫黄である。ポリエチレングリコールコーティングが電池のサイクル寿命を延ばす
と予想される。

【0226】

実施例Ｋ：本実施例では、それぞれ５マイクロメートル厚で直径３／４インチの２つの
ポリイミド膜層を、セパレータシステムに用いる。各層には、それぞれ直径０．１ｍｍで
あり壁間の距離を０．１ｍｍとしたデカルト（垂直−水平）周期孔を穿孔する。５マイク
ロメートル厚のＰＥ／ＰＰ／ＰＥ微多孔質リングを、２つのポリイミド層間に配置する。
５マイクロメートル厚で外径３／４インチ及び内径１／２インチのＰＥ／ＰＰ／ＰＥ微多
孔質リングを、各ポリイミド層と隣接電極との間に配置する。電極は、亜鉛アノード及び
炭素系空気カソードである。電解質は、６Ｍ ＮａＯＨ水溶液である。

【0227】

実施例Ｌ：本実施例では、それぞれ５マイクロメートル厚で直径３／４インチの２つの
ＰＰ膜層を、セパレータシステムに用いる。各層には、それぞれ直径０．１ｍｍとしたデ
カルト（垂直−水平）周期孔を穿孔する。電極は、亜鉛アノード及び炭素系空気カソード
である。電解質は、６Ｍ ＫＯＨ水溶液である。

【0228】

実施例Ｍ：本実施例では、それぞれ５マイクロメートル厚で直径３／４インチの２つの
酸化アルミニウム膜層を、セパレータシステムに用いる。各層には、それぞれ直径０．１
ｍｍで壁間の距離を０．１ｍｍとして、それぞれ多孔度が４０％であり重ね合わせると孔
パターンの重なりが５％未満となる任意の孔パターンを穿孔する。５マイクロメートル厚
の微多孔ポリエステルリングを、２つの酸化アルミニウム層間に配置する。５マイクロメ
ートル厚で外径３／４インチ及び内径１／２インチの微多孔ポリエステルリングを、各酸
化アルミニウム層と隣接電極との間に配置する。電極は、亜鉛アノード及び炭素系空気カ
ソードである。電解質は、６Ｍ ＫＯＨ水溶液である。

【0229】

実施例Ｎ：本実施例では、それぞれ２５マイクロメートル厚で直径３／４インチの２つ
の硬質ポリエステル膜層を、セパレータシステムに用いる。各層には、それぞれ直径１ｍ
ｍで壁間の距離を１ｍｍとして、それぞれ多孔度が４０％であり重ね合わせると孔パター
ンの重なりが５％未満となる任意の孔パターンを穿孔する。２５マイクロメートル厚の微
多孔ポリエステルリングを、２つの硬質ポリエステル層間に配置する。２５マイクロメー
トル厚で外径３／４インチ及び内径１／２インチの微多孔ポリエステルリングを、各硬質
ポリエステル層と隣接電極との間に配置する。電極は、ＬｉＦｅＰＯ_４及びシリコン膜で
ある。電解質は、イオン液体である。

【0230】

実施例Ｏ：本実施例では、ポリエチレングリコールを塗布したそれぞれ５マイクロメー
トル厚で直径３／４インチの２つのカプトン膜層を、セパレータシステムに用いる。各層
には、それぞれ直径０．０１ｍｍで壁間の距離を０．０１ｍｍとしたデカルト（垂直−水
平）周期孔を穿孔する。５マイクロメートル厚のＣｅｌｇａｒｄリングを、２つのカプト
ン層間に配置する。５マイクロメートル厚で外径３／４インチ及び内径１／２インチのＣ
ｅｌｇａｒｄリングを、各カプトン層と隣接電極との間に配置する。電極は、硫黄及びリ
チウム金属膜である。電解質は、ポリマー電解質である。

【0231】

実施例Ｐ：本実施例では、それぞれ５マイクロメートル厚で直径３／４インチの２つの
ＰＰ膜層を、セパレータシステムに用いる。各層には、それぞれ直径０．００１ｍｍで壁
間の距離を０．００１ｍｍとしたデカルト（垂直−水平）周期孔を穿孔する。５マイクロ
メートル厚の微多孔ポリエステルリングを、２つのＰＰ層間に配置する。５マイクロメー
トル厚で外径３／４インチ及び内径１／２インチの微多孔ポリエステルリングを、各ＰＰ
層と隣接電極との間に配置する。電極は、ＮＭＣ及び炭素膜である。電解質は、ＰＥＯで
ある。

【0232】

実施例Ｑ：層を、各側の外側部分等のいくつかの区域でＰＥＯ及びＰＶＤＦにより相互
に取り付けた場合の、上記実施例のいずれかと同じである。

【0233】

実施例Ｒは、ＬＩＳＩＣＯＮが５マイクロメートルであり、リチウム−空気セルの空気
カソード側で硬質層に堆積させた場合の、実施例Ｇに相当する。

【0234】

別の実施例では、多孔質パターン層は、以下の物理的寸法、組成、及び機械的特性を有
する。
・厚さ：１２５ミクロン、７５ミクロン、５０ミクロン、又は２５ミクロン
・引張強度：１５０ＭＰａ等方的（Ｃｅｌｇａｒｄ：１５ＭＰａ ＴＤ（横方向）；１５
０ＭＰａ ＭＤ（縦方向））
・多孔度：４５％
・弾性率：２ＧＰａ
・降伏強度：５０ＭＰａ
・密度：〜約１．３ｇ／ｃｍ^３
・ＭＩＴ耐折強度：１００００サイクル
・エルメンドルフ引裂強度：０．１Ｎ
・グレーブス引裂強度：１５Ｎ
・衝撃強度：５０Ｎ．ｃｍ
・１５０℃で３０分の収縮：０．２（Ｃｅｌｇａｒｄ：５％〜１０％）
・絶縁耐力ＡＳＴＭ Ｄ−１４９−９１：２５０Ｖ／ｍ
・誘電率：３．５
・熱膨張率：２０ｐｐｍ／℃

【0235】

これらの特性を有する多孔質パターン層を有する多層セパレータを備えた電気化学セル
が、有用な性能特性を示す。ハーフセル［コインセル］：例えば、ＬｉＦｅＰＯ_４｜ＬＰ
７１｜ＬｉをＣ／５で２００サイクル後に試験した場合、容量はＣ／２ｍＡｈ／ｇ〜１２
０ｍＡｈ／ｇで約１４０ｍＡｈ／ｇであった。外圧を用いた力−変位試験は、セルが短絡
しないが機能を停止したことを示した。Ｃ／２で３００サイクル後のセパレータシステム
の解析は、劣化が皆無かそれに近いことを示し、セパレータシステムを別のセルで用いる
ことができた。

【0236】

表１及び表２は、本発明の特定の実施形態の高機械強度層及びセパレータシステムの物
理的寸法及び特性の要約を提供する。

【0237】

【表1】

【0238】

【表2】

【0239】

表２に示すセパレータの抵抗率を、１Ｍ ＬｉＰＦ_６ ＥＣ：ＥＭＣ（容量で３０：７
０）中で試験した。電気化学評価のために、Ａｌ−Ａｌ電極を有する１／２インチコイン
セル電気化学セルを用いてセパレータを特性化した。セパレータは、それぞれ２５μｍ厚
のｃｅｌｇａｒｄ／有孔カプトン／ｃｅｌｇａｒｄ／有孔カプトン／ｃｅｌｇａｒｄとし
て作製される。

【実施例4】

【0240】

被覆金属メッシュ等の熱伝導層を備えたセパレータ
いくつかの態様では、本発明のセパレータシステムは、ＰＰを塗布したＡｌ、酸化アル
ミニウムを塗布したＡｌ又はＡｌ_２Ｏ_３のような熱伝導セラミックスといった、外部絶縁
コーティングを有する金属メッシュ等の被覆金属層である１つ又は複数の多孔質パターン
層を備える。この態様の実施形態は、電池の寿命を大幅に延ばすのに有益である。一実施
形態では、例えば、金属メッシュ（Ａｌ、ニッケル、銅、ステンレス鋼）は、非常に広い
温度範囲にわたって非常に高い機械的強度を有し、金属セパレータは、セルの温度を均一
化してセルの安全性及び寿命を大幅に向上させる熱伝導性材料である。一実施形態では、
セパレータの微多孔質層は、ＰＴＦＥ（又はＰＰ、ＰＥＯ、Ａｌ_２Ｏ_３、ＰＥＴ又はＰＶ
ＤＦ）を塗布したアルミニウムメッシュ層（例えば、Ａｌメッシュ、４０％開口：それぞ
れ５マイクロメートルの３層又はそれぞれ１／３ミルの２層）であり、一実施形態では、
Ａｌ層にＰＴＦＥを、例えば各側を２マイクロメートル厚で塗布する。別の実施形態では
、アノードに隣接したＡｌ層のみを被覆する。別の実施形態では、Ａｌ層を被覆し、側面
を電極に接触して設ける。

【実施例5】

【0241】

薄膜を作製する新規の方法：メッシュ又は繊維支持セラミック製造、及び、その膜とし
ての用途、例えば、Ｌｉ−空気電池等の電気化学セル内の固体電解質としての用途、又は
、生物業、食品業、又は濾過におけるフィルターとしての用途
背景：Ｌｉ−空気電池及びＬｉ−硫黄電池は、現在の電池よりも桁違いに高いエネルギ
ー濃度を有する。これらの電池を作製するための一手法は、ＬＩＳＩＣＯＮ等の半透性膜
を用いることにより、イオン移送を可能とする一方でその他の物質の通過を防ぎカソード
物質又はその不純物による汚染からアノードを防護する。厚膜の固体電解膜は、より高い
イオン抵抗性を示しエネルギー・電力損失を生じるだけでなく、割れが発生して数サイク
ルのうちに電極との接続を失う。特に、固体力学においては、臨界厚さが存在し、それよ
りも薄ければプラスチック変形及び割れを防止することができることは周知である。した
がって、高エネルギー効率、高パワー密度、急速充電、及び高サイクル寿命を有するため
には、保護膜は可能な限り薄くすべきである。今日、５０マイクロメートル厚以下のＬＩ
ＳＩＣＯＮ膜等のセラミックス類の作製は大きな課題であり、たいていの場合、薄セラミ
ックスを作製する工程でピンホールが形成されてしまい、したがって、セラミックスはそ
の半透膜としての機能を失う。この例は、固体電解質、特にセラミックス系固体電解質の
薄膜（５０マイクロメートル未満）及び超薄膜（５マイクロメートル未満）作製における
新規な手法を示唆する。用途は広大で多くの産業に及ぶ。例えば、電気化学セルの固体電
解質としてのセラミックス膜及び製薬業又は生物工学業又は食品加工におけるフィルター
としてのセラミック膜等である。

【0242】

いくつかの実施形態において、膜は、複合固体電解質／メッシュ系又は複合固体電解質
／繊維系であり、メッシュ又は繊維の靭性により、膜製造中及びその動作中においてセラ
ミックスに割れ及びピンホールがを発生するのを防止する。

【0243】

メッシュは、任意選択で、周期的な形式であり、メッシュ支持セラミックシステム全体
のごく一部を占めるに過ぎない。メッシュ体積は、例えば、セラミック部分の堆積の５〜
１５％にしかならない。さらに、メッシュは、任意選択で、セラミック部分の完全に内側
にあるか、又は、任意選択で、セラミックスの片面又は両面に露出される。

【0244】

メッシュ又は繊維材料は、好ましくは、良好な延性及び強度を有し、例えば、ステンレ
ス鋼、アルミニウム、銅、又はその合金等の金属又は合金からできている。メッシュは、
任意選択で、ＰＥ、ＰＰ、カプトン、ＰＶｄＦ、ＰＶＣ、又はＰＭＭＡ等のポリマーから
できている。メッシュは、任意選択で、酸化アルミニウム又は酸化ケイ素又は酸化チタン
等のガラス状物質からできている。

【0245】

固体電解質は、任意選択で、ＬＩＳＩＣＯＮ又はＮＡＳＩＣＯＮ又はＰＥＯ等の任意の
固体電解質である。固体電解質は、任意選択で、電池又は電気化学キャパシタ又は燃料電
池又はフロー電池等の電気化学セルにおいて用いられる。

【0246】

メッシュ又は繊維支持固体電解質のシステムは有用である。なぜなら、セラミック薄膜
の製造が困難であるために固体電解質薄膜の作製が難しいからである。例えば、セラミッ
ク薄膜の製造が困難であることの理由の一つとして、Ｌｉ−空気電池等のリチウム電池用
のＬＩＳＩＣＯＮ薄膜におけるピンホール形成等、製造工程における割れの発生があるが
、メッシュ又は繊維支持システムによれば、セラミックス、例えば、ＬＩＳＩＣＯＮ等の
固体電解質内部の応力を緩和し、それによって、セラミックス製造中のピンホール等の割
れ及び穴を防ぐ。いくつかの実施形態において、これは、サイクル充電による応力の緩和
にも効果があり、これによりサイクル寿命が向上する。

【0247】

メッシュ又は繊維支持膜のシステムは有用である。なぜなら、セラミック薄膜の製造が
困難であるために薄膜の作製が難しいからである。例えば、セラミック薄膜の製造が困難
であることの理由の一つとして、生物業又は食品業又は液体濾過等におけるフィルター用
途のための薄膜におけるピンホール形成等、製造工程における割れの発生があるが、メッ
シュ又は繊維支持システムによれば、セラミックス内部の応力を緩和し、それによって、
セラミックス製造中のピンホール等の割れ及び穴を防ぐ。

【0248】

その他の用途として、燃料電池膜又は電気化学キャパシタ又はフロー電池又は半固体電
池又はカソード・レドックス・フロー電池、又は溶媒和電極電池が挙げられる。

【0249】

本例において説明した方法によれば、メッシュ／繊維が機械的に強靭な、機械的に強い
マトリックスをもたらし、その結果、システム全体の挙動が強靭になる。これは、マルテ
ンサイト／オーステナイトシステム、すなわち、ＴＲＩＰ及びマルエージング鋼、近年で
は金属ガラス、及び補強コンクリート等の全体挙動においてもわかってきているが、形成
プロセス、特に、通常製造中にピンホール及び割れが発生することの多い薄膜又はセラミ
ック薄膜の形成プロセスにおいて適用されたことはない。

【0250】

図３１は、電気化学セルにおける支持膜の用途の例を示す。図３１において、アノード
３１０１（リチウム等）は、アノード有機電極３１０２（ＰＣ−ＥＣにおけるＬｉＣｌＯ
_４等）及びセパレータ（Ｃｅｌｇａｒｄ等）に隣接して位置決めされ、及び膜３１０３（
ＬＩＳＩＣＯＮ固体電解質を含むもの等）はアノード電解質３１０２を多孔質カソード（
硫黄又は空気カソード等）及びカソード電解質（水溶性電解質等）３１０４から分離する
。集電体３１０５及び３１０６は、アノード３１０１及び多孔質カソード／カソード電解
質３１０２と接触して位置決めされる。

【0251】

図３２は、図３１に示すようなセパレータ／膜３１０３等の薄膜を構築するために考え
られうるいくつかの構成を示す。ここで、セラミックス３２０７は、メッシュ及び／又は
繊維３２０８に支持される。

【実施例6】

【0252】

活性膜：伝導率支援膜、およびその膜の電池等の電気化学セルにおける活性セパレータと
しての利用
従来の膜、特に電気化学セルにおけるセパレータは、受動素子に過ぎなかった。一般に
、電気化学セルにおけるセパレータは、２つの対向する電極を電子的に分離する非電子伝
導性素子である。本例は、電池等の電気化学セルにおけるセパレータとしての活性膜につ
いて説明する。

【0253】

例えば、多層膜は２つ又はそれ以上の層を含み、各層のうち、膜のいずれかの端部にあ
る少なくとも一層は電子伝導性であり、中間層のうち少なくとも１層は電子的に非伝導性
であり、膜の２つの外面の間には電気連通がないようにしている。

【0254】

任意選択で、いくつかの層が互いの上に堆積又は塗布される。そのような膜は、任意選
択で、電気化学セルのセパレータとして有用である。任意選択で、いくつかの層は、別の
層又はいずれかの電極状に堆積又は塗布される。任意選択で、外側の伝導層は、隣接する
電極の外側粒子のための新規の電子経路となり、それによって隣接する電極材料の電子伝
導性を高める。

【0255】

任意選択で、本例のセパレータを電気化学セルにおいて用い、電極材料が充電−放電に
より変形するようにして、電極材料と対応する集電体との間の電子伝導性の少なくとも一
部が損失するようにする。

【0256】

上記のセパレータに有用な電気化学セルとしてリチウム電池が挙げられるが、これに限
定されない。リチウム電池は、セパレータを任意選択で備え、ケイ素アノードを任意選択
で備える。任意選択で、カソードは酸化リチウム又は硫黄又は炭素又は空気である。上記
のセパレータに有用な電気化学セルとして、さらに、アルカリ電池及び金属空気電池が挙
げられる。

【0257】

任意選択で、上記のような多層膜において、伝導層はそれぞれ多孔質又は有孔層であり
、またはステンレス鋼又はアルミニウム又は銅又はＮｉ又は錫等の金属からできたメッシ
ュである。任意選択で、金属層は、電極と、膜の電子的に非伝導性の層との間にある。任
意選択で、非伝導層は、金属層の一方の面上にあるコーティングであり、例えば、ＰＴＦ
Ｅ又はＰＶＤＦ又はＰＥＯ又はＰＭＭＡ又はＰＥ又はＰＰ又はＰＥＴ又はＡｌ_２Ｏ_３等の
ポリマーである。

【0258】

有用な膜として、膜の全厚が５００マイクロメートル未満のものが挙げられる。有用な
膜として、膜の全厚が１００マイクロメートル未満または５０マイクロメートル未満のも
のが挙げられる。任意選択で、膜の全厚は、２５マイクロメートル未満、又は5マイクロ
メートル未満である。

【0259】

任意選択で、本例で説明したセパレータ又は膜のイオン抵抗は、１０Ω・ｃｍ^２未満、
又は１Ω・ｃｍ^２未満である。任意選択で、本例で説明したセパレータ又は膜の多孔度は
、少なくとも３０％又は少なくとも７０％である。任意選択で、本例で説明したセパレー
タ又は膜の外側伝導層は、例えば、外側伝導層を持たないセパレータ又は膜に比べて場合
に、対応する電極の少なくとも近くにおいて電界を変化させる。場合によっては、セパレ
ータの伝導層による電界変更の結果、充電及び放電中にリチウムがより均一に堆積され、
これによって電気化学セルの性能、サイクル寿命、効率を高める。

【0260】

任意選択で、本例の膜は、金、銀、又はリチウム、又は亜鉛、又は銅、又は合金等の金
属の電着等、電気溶着において有用である。任意選択で、本例の膜は、再充電可能なリチ
ウム金属電池等の電気化学セルのセパレータとして有用である。

【0261】

図３３Ａ〜図３３Ｄは、電池等の電気化学セルにおけるセパレータとしての膜の利用例
を示す。図３３Ａ〜図３３Ｄにおいて、集電体を素子３３０１Ａ及び３３０１Ｂとし、活
性電極粒子（例えば、ケイ素）を素子３３０２とし、カーボンブラック等の活性電極粒子
間の伝導性材料を素子３３０３とし、従来のセパレータを素子３３０４とし、本例のセパ
レータを素子３３０５としし、電子的接続が失われたことによる非活性（失われた）電極
材料を素子３３０６とし、反対側の電極を素子３３０７とし、電解質を素子３３０８とす
る。

【0262】

図３３Ａは、充電前の電池の概略図を示し、全ての電極粒子３３０２は電子的に接続さ
れている。図３３Ｂは、充電後の電池の概略図を示し、電極粒子３３０２は大幅に形状が
変化している。図３３Ｃは、数回の放電周期を経た後の、従来のセパレータ３３０４を有
する電池の概略図であり、電極粒子の一部が集電体との電子接続を失い、よって不活性電
極粒子３３０６となったことがわかる。図３３Ｄは、数回の放電周期を経た後の、従来の
セパレータ３３０４に代えて電子伝導性セパレータ３３０５を備えた電池の概略図であり
、電極粒子の一部が集電体との従来の電子接続は失ったが電子伝導性セパレータ３３０５
にが一部の電極粒子３３０３用に新規の経路を提供することがわかる。矢印は、それぞれ
、これら粒子から集電体への電子伝導性のセパレータ３３０５に沿った電子の移動を示す
。

【0263】

本例において説明した新規の電池は、従来の平行板電池に限定されない。そのような電
池の一例を、米国特許出願公開２０１２／００７７０９５号に記載の本発明者による三次
元電池構造を用いて作製した。ＭＴＩからの３層のＬｉＣｏＯ_２カソード、２ｃｍ×２ｃ
ｍ×０．２ｍｍを互いの上に重ねて、穿孔して周期的な１ｍｍの孔を作製した。厚さが０
．０２５ｍｍのＰＥポリマーのリングを、電解質ホルダとして、各層の間に入れ、各層は
、２ｃｍ×２ｃｍ×１ｃｍのアルミニウムチューブ内に入れた。直径約０．７５ｍｍの銅
線を各孔に通し、上下からガイドにより固定した。電解質（ＰＣ、ＥＣ、ＤＭＣ、および
ＬｉＣｌＯ_４／ＬｉＰＦ_６の混合物）を電解質として添加した。セルを固定しガルバノス
タット内に取り付けた後、セルを１０μＡから始まる速度で数日間にわたり充電した。リ
チウム金属が銅線に堆積して、アノードとなった。数回の充放電サイクルの後、セルが形
成され、性能が安定し、すぐに使用可能な状態となった。そのような従来のセルを、高電
流（例えば１ｍＡ）でサイクル充電した後、銅線上へのリチウムデンドライト形成及びそ
のようなデンドライトがＬｉＣｏＯ_２板に接触するまで成長することによってセルは短絡
するだろう。先に述べたように、シフター層のセパレータデザインを使用することにより
、短絡が防止されて、電池のサイクル寿命が向上する。

【0264】

デンドライト短絡を防止する際のセパレータ効率は、リチウムコイン電池を左右対称に
して、高電流でサイクル充電することにより、さらに明らかに分かる。実験結果（室温、
Ｍｅｒｋからの電解質ＬＰ７１）によれば、リチウム箔の０．７５ｍｍ厚さのディスクは
、１０ｍＡという高速度でサイクル充電時間を５時間としても、短絡の気配なく、５００
サイクル超サイクル充電できることがわかる。

【実施例7】

【0265】

電極に隣接して位置決めした電子・イオン伝導層を有する電気化学セルについての実験
結果
実験Ａ：０．１００厚のリチウムコバルト酸化物カソード及び０．３５ｍｍ厚のＬｉ金
属アノードから電気化学セルを構築した。セルに用いた電解質は、Ｍｅｒｃｋ ＬＰ ７
１（ＥＣ−ＤＣ−ＤＭＣ １：１：１中の１Ｍ ＬｉＰＦ_６）であった。０．０２５ｍｍ
厚のＰＥ／ＰＰ／ＰＥ多層膜（Ｃｅｌｇａｒｄ ２３２５）をセパレータとして用いた。
Ｎｉメッシュ（１１７．６）を含む伝導層をＬｉアノードとセパレータとの間に置いた。
セルは、１／２インチ角で、自社製であった。電極、セパレータ、及び伝導層を切断して
、直径１／２インチのディスクとした。

【0266】

セルは、グローブボックス内で組み立てた。１／２インチ角のセルはテフロンから作製
した。リチウムアノードは、ＤＭＣ及びヘキサンで洗滌した後のリチウム箔から作製した
。ＬｉＣｏＯ２箔をカソードとして用いた。セルは、ワイヤヘッド／ステンレス鋼ディス
ク／Ｌｉ／Ｎｉメッシュ層／ｃｅｌｇａｒｄセパレータ／ＬｉＣｏＯ_２／アルミニウム箔
の順に並んだ層により構築した。電解質を用いてセルを過飽和した。

【0267】

図３４、図３５、及び図３６に、各セルの、電圧対時間及び電流対時間のサイクル充電
データを示す。セルの試験は室温で行い、電圧の範囲は３ｖ〜４．２ｖに設定した。

【0268】

実験Ｂ：電気化学セルを、０．１００ｍｍ厚のリチウムコバルト酸化物カソード及び厚
さ０．３５ｍｍ厚のＬｉ金属アノードから構築した。セルに用いた電解質はＭｅｒｃｋ
ＬＰ ７１ （ＥＣ−ＤＣ−ＤＭＣ １：１：１中の１ Ｍ ＬｉＰＦ_６）であった。０
．０２５厚のＰＥ／ＰＰ／ＰＥ多層膜（Ｃｅｌｇａｒｄ ２３２５）をセパレータとして
用いた。Ｃｕメッシュ（１１７．６）を含む伝導層をＬｉアノードとセパレータとの間に
置いた。セルは、１／２インチ角で、自社製であった。電極、セパレータ、及び伝導層を
切断して、直径１／２インチのディスクとした。

【0269】

図３７、図３８及び図３９に、各セルの、電圧対時間及び電流対時間のサイクル充電デ
ータを示す。セルの試験は室温で行い、電圧の範囲は３ｖ〜４．２ｖに設定した。

【0270】

実験Ｃ：０．０２５ｍｍ厚のＰＥ／ＰＰ／ＰＥ多層セパレータ（Ｃｅｌｇａｒｄ ２３
２５）を有してサイズ２０３５のコイン電池を作製した。使用した電解質はＭｅｒｃｋ
ＬＰ ５０ （ＥＣ−ＥＭＣ １：１中の１ Ｍ ＬｉＰＦ_６）であった。ＬｉＦｅＰＯ
_４カソードを用い、黒鉛アノードを用いた。Ｎｉメッシュ（１１７．６）を黒鉛アノード
とセパレータとの間に置いた。

【0271】

図４０及び図４１に、各セルの、電圧対時間（上）及び電流対時間（下）のサイクル充
電データを示す。セルの試験は室温で行い、電圧の範囲は２．５ｖ〜４．２ｖに設定した
。

【0272】

実験Ｄ：０．０２５ｍｍ厚のＰＥ／ＰＰ／ＰＥ多層セパレータ（Ｃｅｌｇａｒｄ２３２
５）を有してサイズ２０３５のコイン電池を２つ作製した。使用した電解質はＭｅｒｃｋ
ＬＰ ５０ （ＥＣ−ＥＭＣ １：１中の１ Ｍ ＬｉＰＦ_６）であった。ＬｉＦｅＰ
Ｏ_４カソードを用い、Ｌｉアノードを用いた。Ｎｉメッシュ（３３３）をＬｉＦｅＰＯ_４
アノードとセパレータとの間に置いた。

【0273】

図４２及び図４３に、各セルの、電圧対時間及び電流対時間のサイクル充電データを示
す。セルの試験は室温で行い、電圧の範囲は２．５ｖ〜４．２ｖに設定した。
参考文献

【0274】

米国特許第８，２０２，６４９号明細書、米国特許第８，２８８，０３４号明細書。米
国特許出願公開第２０１２／０１１９１５５号明細書、米国特許出願公開第２０１２／０
２１９８４２号明細書、米国特許出願第２０１２／０１８３８６８号明細書。

【0275】

［参照による援用及び変形形態に関する記載］
本願を通した引用文献、例えば発行又は付与された特許又は等価物を含む特許文献、特
許出願公開、及び非特許文献又は他の資料は、各引用文献が本願の開示と少なくとも部分
的に矛盾しない程度に参照により個別に援用されるように、それらの全体を参照により本
明細書に援用する（例えば、部分的に矛盾する引用文献は、その引用文献の部分的に矛盾
する部分以外を参照により引用する）。

【0276】

本明細書で用いた用語及び表現は、限定用語ではなく説明用語として用いるものであり
、かかる用語及び表現の使用には、図示及び説明した特徴の等価物又はその一部を除外す
る意図はなく、さまざまな変更形態が特許請求される発明の範囲内で可能であることが認
識される。したがって、本発明は好適な実施形態、例示的な実施形態、及び任意の特徴に
より具体的に開示されているが、本明細書に開示した概念の変更及び変形が当業者に用い
られ得ること、及びかかる変更形態及び変形形態が添付の特許請求の範囲により定義され
る本発明の範囲内にあると考えられることを理解すべきである。本明細書に記載した具体
的な実施形態は、本発明の有用な実施形態の例であり、本明細書に記載の装置、装置コン
ポーネント、方法ステップの多数の変形形態を用いて本発明を実行できることが、当業者
には明らかとなるであろう。当業者には自明のように、本方法に有用な方法及び装置は、
多数の任意の組成及び加工要素及びステップを含むことができる。

【0277】

本明細書で述べた全ての特許及び広報は、本発明が属する当業者のレベルを示す。本明
細書で挙げた引用文献は、場合によってはその出願日の時点での最高水準を示すためにそ
れらの全体を参照により本明細書に援用され、この情報を、必要であれば本明細書中で用
いて、従来技術である具体的な実施形態を除外する（例えば、放棄する）ことができるこ
とが意図される。例えば、化合物を特許請求する場合、本明細書に開示した引用文献（特
に、引用特許文献）に開示されている特定の化合物を含む当該技術分野で既知の化合物は
、特許請求の範囲に含まれることが意図されないことを理解すべきである。

【0278】

置換基群が本明細書に開示されている場合、置換基を用いて形成することができるこれ
らの群及び全てのサブグループ及びクラスの全構成員が別個に開示されることを理解され
たい。マーカッシュ群又は他の分類が本明細書で用いられている場合、群の全構成員及び
その群で可能な全ての組み合わせ及びサブコンビネーションが本開示に個別に含まれるこ
とが意図される。本明細書で用いられる場合、「及び／又は」は、「及び／又は」により
分離される一覧中の事項の１つ、全て、又は任意の組み合わせがその一覧に含まれること
を意味し、例えば、「１、２、及び／又は３」は、「『１』又は『２』又は『３』又は『
１及び２』又は『１及び３』又は『２及び３』又は『１、２、及び３』」に相当する。

【0279】

別段の記載の無い限り、説明又は例示した構成要素の全ての配合又は組み合わせを用い
て本発明を実施することができる。当業者が同じ材料を異なる名称で呼び得ることが知ら
れているように、具体的な材料名は例示のためのものである。当業者であれば、具体的に
例示したもの以外の方法、装置要素、出発材料、及び合成法を、過度の実験に頼らずに本
発明の実施に用いることができる。かかる方法、装置要素、出発材料、及び合成法の全て
の従来技術で既知の機能的等価物が、本発明に含まれることが意図される。例えば温度範
囲、時間範囲、又は組成範囲といった範囲が本明細書で与えられている場合は常に、その
所与の範囲に含まれる全ての中間範囲及び部分範囲並びに個々の値が、本開示に含まれる
ことが意図される。

【0280】

本明細書及び添付の特許請求の範囲で用いられる場合、単数形は文脈で別段の明示がな
い限り複数への言及を含むことに留意しなければならない。したがって、例えば、「セル
」に言及している場合、当業者に既知の複数のかかるセル又はその等価物を含む。同様に
、用語「１つの、」「１つ又は複数の、」及び「少なくとも１つの」は、本明細書におい
て交換可能に用いることができる。用語「備える、」「含む、」及び「有する」を交換可
能に用いることができることにも留意されたい。「請求項ＸＸ〜ＹＹのいずれか」（ここ
で、ＸＸ及びＹＹは請求項の番号を指す）という表現は、代替形態の複数の従属請求項を
提供することを意図し、いくつかの実施形態では、「請求項ＸＸ〜ＹＹのいずれか１項に
記載の」と交換可能である。

【0281】

別段の定義のない限り、本明細書で用いられる全ての技術用語及び科学用語は、本発明
が属する技術分野の当業者が一般的に理解するのと同じ意味を有する。本明細書に記載の
ものと同様又は同等の任意の方法及び材料を、本発明の実施又は試験で用いることができ
、好適な方法及び材料がここでは記載されている。本明細書中のいかなる記載も、先行発
明を理由として本発明がかかる開示に先行するものではないことを認めたと解釈するもの
ではない。

【0282】

例えば整数範囲、温度範囲、時間範囲、組成範囲、又は濃度範囲といった範囲が本明細
書で与えられている場合は常に、その所与の範囲に含まれる全ての中間範囲及び部分範囲
並びに個々の値が、本開示に含まれることが意図される。本明細書で用いられる場合、範
囲は、その範囲の端点値として与えられる値を具体的に含む。本明細書で用いられる場合
、範囲は、その範囲の全ての整数値を具体的に含む。例えば、１〜１００の範囲は、１及
び１００の端点値を具体的に含む。本明細書の記載に含まれる範囲又は部分範囲における
任意の部分範囲又は個々の値が、本明細書の特許請求の範囲から除外され得ることを理解
されたい。

【0283】

本明細書で用いられる場合、「備える」は、「含む、」「含有する、」又は「特徴とす
る」と同義であり、包括的又は非限定的であり、付加的で記載のない要素又は方法ステッ
プを除外しない。本明細書で用いられる場合、「からなる」は、クレーム構成要件で指定
されないいかなる要素、ステップ、又は成分も除外する。本明細書で用いられる場合、「
から本質的になる」は、請求項の基本的且つ新規の特徴に実質的に影響しない材料又はス
テップを除外しない。本明細書における、特に組成物の成分の説明又は装置の要素の説明
における用語「備える」の記載は、記載の構成要素又は要素から本質的になる、また記載
の構成要素又は要素からなる組成物及び方法を包含すると理解される。本明細書に例示的
に記載した発明は、本明細書に具体的に開示されていない要素や制限がなくても適切に実
施することができる。

【0284】

使用した用語及び表現は、限定用語ではなく説明用語として用いるものであり、かかる
用語及び表現の使用には、図示及び説明した特徴の等価物又はその一部を除外する意図は
なく、さまざまな変更形態が特許請求の発明の範囲内で可能であることが認識される。し
たがって、本発明は好適な実施形態及び任意の特徴により具体的に開示されているが、本
明細書に開示した概念の変更及び変形が当業者に用いられ得ること、及びかかる変更形態
及び変形形態が添付の特許請求の範囲により定義される本発明の範囲内にあると考えられ
ることを理解すべきである。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10A】

【図10B】

【図10C】

【図10D】

【図10E】

【図10F】

【図10G】

【図10H】

【図10I】

【図10J】

【図10K】

【図10L】

【図10M】

【図10N】

【図10O】

【図10P】

【図11A】

【図11B】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17】

【図18】

【図19】

【図20】

【図21】

【図22】

【図23】

【図24】

【図25】

【図26】

【図27】

【図28】

【図29】

【図30】

【図31】

【図32】

【図33A】

【図33B】

【図33C】

【図33D】

【図34】

【図35】

【図36】

【図37】

【図38】

【図39】

【図40】

【図41】

【図42】

【図43】

【図44】

【図45】

【図46】

【図47】

【図48】

【図49】