特許 6962683 基板処理装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6962683

(24)【登録日】2021年10月18日

(45)【発行日】2021年11月5日

(54)【発明の名称】基板処理装置

(51)【国際特許分類】

   G02F 1/13 20060101AFI20211025BHJP

   B08B 3/02 20060101ALI20211025BHJP

【ＦＩ】

   G02F1/13 101

   B08B3/02 B

【請求項の数】9

【全頁数】12

(21)【出願番号】特願2016-242694(P2016-242694)

(22)【出願日】2016年12月14日

(65)【公開番号】特開2017-134392(P2017-134392A)

(43)【公開日】2017年8月3日

【審査請求日】2019年11月8日

(31)【優先権主張番号】特願2016-10946(P2016-10946)

(32)【優先日】2016年1月22日

(33)【優先権主張国】JP

(73)【特許権者】

【識別番号】000002428

【氏名又は名称】芝浦メカトロニクス株式会社

(72)【発明者】

【氏名】坂下 健司

(72)【発明者】

【氏名】磯 明典

【審査官】 近藤 幸浩

(56)【参考文献】

【文献】 実開平０６−０２４７８０（ＪＰ，Ｕ）

【文献】 特開平０６−２１７４２４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 独国特許出願公開第１９７３７６０８（ＤＥ，Ａ１）

【文献】 実公昭５９−０３０１１２（ＪＰ，Ｙ２）

【文献】 実開昭５４−１０７９２２（ＪＰ，Ｕ）

【文献】 特開２００１−０２０４８０（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｇ０２Ｆ １／１３

Ｂ０８Ｂ ３／０２

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

処理室と、
前記処理室内に設けられ、基板を搬送する基板搬送部と、
前記処理室内に設けられ、搬送される前記基板に処理液を供給する処理液供給部と、
を有し、
前記処理室は、前記基板搬送部の上方に複数の天井板を備え、
前記複数の天井板は、瓦状に積み重ねられて傾斜し、傾斜方向に隣接する二つの天井板のうち、高い位置の天井板における低い側の端部と低い位置の天井板における高い側の端部との間に、前記高い位置の天井板の下面に付着した液滴が前記低い位置の天井板の上面に移る流出経路となる隙間を生じる状態で、前記低い側の端部が前記高い側の端部を非接触で覆い、
前記低い位置の天井板における前記高い側の端部は、
前記高い位置の天井板における前記低い側の端部に平行な第１の部分と、前記高い位置の天井板から離れる方向に延びる第２の部分と、からなり、
前記流出経路となる前記隙間における、前記第２の部分に対応する開口の高さ方向におけるサイズが、前記第１の部分に対応する開口の高さ方向におけるサイズよりも大きいことを特徴とする基板処理装置。

【請求項2】

前記複数の天井板のうち、高い位置に存在する天井板の長さは、低い位置に存在する天井板の長さよりも短いことを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。

【請求項3】

前記複数の天井板のうち、高い位置に存在する天井板の水平面に対する傾斜角度は、低い位置に存在する天井板よりも大きな角度であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の基板処理装置。

【請求項4】

同じ傾斜方向に並ぶ各天井板は、互いに平行に配置されることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載の基板処理装置。

【請求項5】

前記天井板の両面には、濡れ性を向上させる膜が形成されていることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載の基板処理装置。

【請求項6】

前記複数の天井板のうち、最も低い位置に存在する天井板の傾斜角度は、他の天井板の傾斜角度よりも水平に近づく方向に傾斜する角度であることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれかに記載の基板処理装置。

【請求項7】

前記隙間は、前記高い位置の天井板と前記低い位置の天井板との間に設けた支持脚により形成されることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれかに記載の基板処理装置。

【請求項8】

前記複数の天井板は長尺の長方形状に形成され、各長手方向を、前記基板の搬送方向に沿わせて瓦状に積み重ねられていることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれかに記載の基板処理装置。

【請求項9】

前記処理室における、前記基板の搬送方向に対して水平に直交する方向の外壁面に設けられ、前記天井板から流れてくる液滴を受け取って収容する樋を有し、
前記樋の底面は、前記基板の搬送方向に沿って徐々に低くなるように傾けられていることを特徴とする請求項１から請求項８のいずれかに記載の基板処理装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明の実施形態は、基板処理装置に関する。

【背景技術】

【0002】

液晶表示装置などの製造工程において、基板処理装置が用いられている。この基板処理装置は、処理室内で基板に処理液（例えば、薬液や洗浄液など）を供給し、基板の被処理面を処理する。基板処理装置の処理室の天井には、処理液の液滴が付着することがある。この天井に付着した液滴が、天井から落下して基板に付着すると、基板乾燥後、基板にシミができてしまう。しかも、天井に付着している液滴は、天井に付着していたゴミなどを含むから、前述のシミは発生しやすい。このシミになった箇所は、基板が液晶表示装置として製品化された際に液晶画面に残るため、その液晶表示装置は不良品となる。

【0003】

そこで、前述のシミの発生を避けるため、天井を傾斜させて、天井に付着した液滴を基板側に落下させず、処理室の端へ回収する方法が採用されている。しかしながら、天井を傾斜させても、基板が大きくなればなるほど、天井の大きさも大きくなる。このため、天井に付着した液滴は、天井を伝わって処理室の端にたどり着くまでに他の液滴と一緒になり、重力（自重）に負けて基板側に落下しやすくなる。したがって、単純に天井を傾斜させても、液滴が処理室の端にたどり着く前に落下し、基板に付着することがあるため、シミが発生してしまう。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２００９−１４１１８２号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

本発明が解決しようとする課題は、シミの発生を抑えることができる基板処理装置を提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本発明の実施形態に係る基板処理装置は、
処理室と、
前記処理室内に設けられ、基板を搬送する基板搬送部と、
前記処理室内に設けられ、搬送される前記基板に処理液を供給する処理液供給部と、
を有し、
前記処理室は、前記基板搬送部の上方に複数の天井板を備え、
前記複数の天井板は、瓦状に積み重ねられて傾斜し、傾斜方向に隣接する二つの天井板のうち、高い位置の天井板における低い側の端部と低い位置の天井板における高い側の端部との間に、前記高い位置の天井板の下面に付着した液滴が前記低い位置の天井板の上面に移る流出経路となる隙間を生じる状態で、前記低い側の端部が前記高い側の端部を非接触で覆い、
前記低い位置の天井板における前記高い側の端部は、
前記高い位置の天井板における前記低い側の端部に平行な第１の部分と、前記高い位置の天井板から離れる方向に延びる第２の部分と、からなり、
前記流出経路となる前記隙間における、前記第２の部分に対応する開口の高さ方向におけるサイズが、前記第１の部分に対応する開口の高さ方向におけるサイズよりも大きいことを特徴とする。

【発明の効果】

【0007】

本発明の実施形態によれば、シミの発生を抑えることができる。

【図面の簡単な説明】

【0008】

【図1】実施形態に係る基板処理装置の概略構成を示す図である。

【図2】実施形態に係る基板処理装置の概略構成を示す断面図（図１中の２−２線断面図）である。

【図3】実施形態に係る天井カバーの設置角度と最大高さとの関係を示す図である。

【図4】実施形態に係る天井カバーを有する処理室を模式的に示す図である。

【図5】実施形態に係る天井カバーの設置角度と液だれしない距離との関係を示す図である。

【図6】実施形態に係る天井カバーを構成する各天井板の鉛直離間距離を説明するための図である。

【図7】実施形態に係る天井カバーの変形例を示す斜視図である。

【発明を実施するための形態】

【0009】

本発明の実施の一形態について図面を参照して説明する。

【0010】

（基本構成）
図１に示すように、実施の一形態に係る基板処理装置１は、基板Ｗを処理するための処理室１０と、処理室１０内の空気を排出する排気部２０と、基板Ｗを搬送する基板搬送部３０と、搬送される基板Ｗに処理液（例えば、薬液又は洗浄液）を供給する処理液供給部４０とを備えている。なお、処理対象の基板Ｗとしては、例えば、ガラスなどの矩形状の基板が用いられる。

【0011】

処理室１０は、基板Ｗが搬送される搬送路Ｈ１を内部に有する筐体であり、基板Ｗが搬送路Ｈ１に沿って処理室１０内を通過することが可能に形成されている。この処理室１０は、図１及び図２に示すように、天井カバー１１及び二つの樋１２を有している。なお、処理室１０の底面には、処理液を排出する排出口（図示せず）が形成されており、この排出口から排出された処理液は、例えば貯留タンク（図示せず）などに回収される。

【0012】

天井カバー１１は、切妻屋根形状に形成されており、複数の天井板１１ａにより構成されている。これらの天井板１１ａは、長尺の長方形状に形成されており、各長手方向を搬送方向Ａ１に沿わせて瓦状（覆瓦状）に積み重ねられている。ここで言う「瓦状」とは、屋根瓦を積み重ねたような状態のことを言う。各天井板１１ａは、処理室１０における搬送方向Ａ１に沿う両側の壁上に固定されている。

【0013】

また、図２に示すように、同じ傾斜方向に並ぶ各天井板１１ａは、互いに平行に配置されており、同じ傾斜角度（θ）で傾斜している。傾斜方向に隣接する二つの天井板１１ａは、高い位置の天井板１１ａの一部が、低い位置の天井板１１ａの一部と接触しないで重なるように、すなわち、高い位置の天井板１１ａにおける低い側の端部Ｂ１が、低い位置の天井板１１ａにおける高い側の端部Ｂ２を非接触で覆うように設けられている。この端部Ｂ１と端部Ｂ２との鉛直離間距離（隙間）は、例えば、１ｃｍ程度に設定されている。なお、天井板１１ａの材料としては、例えば、樹脂やガラス、金属などを用いることが可能である。

【0014】

樋１２は、処理室１０における搬送方向Ａ１に対して、水平に直交する方向の両側の外壁面にそれぞれ設けられている。これらの樋１２は、外壁面の上部に位置しており、天井カバー１１から流れてくる液滴を受け取って収容する。なお、樋１２の数は特に限定されるものではない。また、必要に応じて樋１２の底面を搬送方向Ａ１に沿って徐々に低くなるように傾け、その樋１２の低い側の端部に接続された他の収容部に液滴を回収することも可能である。

【0015】

図１に戻り、排気部２０は、処理室１０内に配管（図示せず）を介して接続されており、処理室１０内の空気を排出する。これにより、処理室１０内で発生するミストが除去されるので、基板搬送部３０により搬送されている基板Ｗにミストが付着することを抑えることができる。例えば、ミストは、処理液供給部４０により供給される処理液が、基板Ｗに当たって舞い上がることにより発生する。

【0016】

基板搬送部３０は、長尺の複数の搬送ローラ３１を有している。これらの搬送ローラ３１は、各長手方向が、基板Ｗの搬送方向Ａ１に対して水平に直交するように設けられ、搬送路Ｈ１を形成するように所定間隔で並べられている。各搬送ローラ３１は、回転可能に設けられており、駆動源（図示せず）により、互いに同期して回転する構造に形成されている。これらの搬送ローラ３１は、それぞれ複数のローラ３１ａと、それらのローラ３１ａを保持するシャフト３１ｂとにより構成されている。この基板搬送部３０は、各搬送ローラ３１上に載置された基板Ｗをそれらの搬送ローラ３１の回転によって搬送する。

【0017】

処理液供給部４０は、搬送路Ｈ１を挟むように搬送路Ｈ１の上下に設けられた、第１の処理液供給ヘッド４１及び第２の処理液供給ヘッド４２を備えている。第１の処理液供給ヘッド４１は、上方位置から搬送路Ｈ１に向けて、例えばシャワー状に処理液を吐出する。また、第２の処理液供給ヘッド４２は、下方位置から搬送ローラ３１を避けて搬送路Ｈ１に向けて、例えばシャワー状に処理液を吐出する。この処理液供給部４０は、第１の処理液供給ヘッド４１及び第２の処理液供給ヘッド４２から処理液を搬送路Ｈ１に向けて吐出し、その搬送路Ｈ１を移動する基板Ｗの両面（上面及び下面）に処理液を供給する。

【0018】

（天井カバーの設置角度及び天井板の使用枚数の決定方法）
次に、天井カバー１１の設置角度及び天井板１１ａの使用枚数の決定方法について図３から図５を参照して説明する。

【0019】

図３に示すように、天井カバー１１の設置角度と天井カバー１１の最大高さとの関係を示す第１のデータが予め求められている。ここで、図４に模式的に示す処理室において、処理室の幅（装置幅）をａ、処理室の側壁高さをｂ、天井カバー１１の高さをｃ、天井カバー１１の一傾斜分の長さをｄ、天井カバー１１の水平面に対する傾斜角度（鋭角）を設置角度θとする。処理室１０の幅ａは処理室１０における搬送方向Ａ１に対して水平に直交する方向の長さであり、天井カバー１１の高さｃは天井カバー１１の最下端から最上端までの鉛直な長さであり、天井カバー１１の設置角度θは各天井板１１ａに共通の傾斜角度である。

【0020】

天井カバーの高さcは、
ｃ＝ｔａｎθ×（ａ／２）
の式から求められる。この天井カバー１１の高さｃは、天井カバー１１の設置角度θの増大に応じて高くなる。

【0021】

また、図５に示すように、天井カバー１１の設置角度θと液だれしない距離（液滴が落下せずに天井カバー１１を伝って流れる距離）との関係を示す第２のデータ（実験データ）が予め求められている。液だれしない距離は、天井カバー１１の設置角度θの増大に応じて長くなる。なお、第２のデータは、ガラス基板に水滴を複数付着させ、水滴が落下するまでのガラス基板上での最短距離をガラス基板の傾斜角度毎に実験的に求めたものである。

【0022】

前述の第１のデータ及び第２のデータに基づいて、天井カバー１１の設置角度θ及び天井板１１ａの使用枚数が決定される。まず、天井カバー１１の高さｃの許容範囲が処理室１０の設置スペースによって決定され、その天井カバー１１の高さｃの許容範囲の上限値に基づいて天井カバー１１の設置角度θの上限値が決められる。この設置角度θの上限値が決められると、それ以下の設置角度θが用いられ、天井板１１ａの枚数が決定される。ただし、天井カバー１１の設置角度θ及び天井板１１ａの使用枚数は、天井板１１ａの材質や使用する処理液の種類などによって変化するものである。

【0023】

ここで、例えば、天井カバー１１の高さｃの許容範囲の上限値が４００ｍｍである場合には、図３に示す第１のデータから、天井カバー１１の設置角度θの上限値は約１６度となる。この上限値に基づいて天井カバー１１の設置角度θが、例えば１５度に決定された場合には、ａ＝２７３０ｍｍとすると、天井カバー１１の一傾斜分の長さｄは１４１３（＝（２７３０／２）／ｃｏｓ１５°）ｍｍ程度となり、天井カバー１１の高さｃは３６５（＝（２７３０／２）×ｔａｎ１５°）ｍｍ程度となる。

【0024】

次いで、図５に示す第２のデータによれば、天井カバー１１の設置角度θが１５度である場合、液だれしない距離は１５０ｍｍである。このため、その液だれしない距離と等しいサイズ、すなわち１５０ｍｍの天井板１１ａを用い、例えばラップ部分（重なり部分）を１０ｍｍとすると、天井カバー１１の一傾斜分において、天井板１１ａの使用枚数は１０枚程度必要となる（１４１３−１５０（１枚分の天井カバー長さ）＝１２６３ｍｍ、１２６３／（１５０−１０）（重なり部分を省いた天井カバー長さ）≒９枚、９＋１＝１０枚）。

【0025】

なお、基板Ｗのサイズ、すなわち処理室１０の幅ａが変わっても、許容範囲内の天井カバー１１の高さが変わらず一定であれば、前述の式（ｔａｎθ＝ｃ／（ａ／２））を用いて天井カバー１１の設置角度θを算出することが可能である。したがって、液滴が重力（自重）に負けて落下するまでの距離、すなわち液だれしない距離が、図５に示す第２のデータにより求められているため、天井カバー１１の設置角度θを求め、天井板１１ａの使用枚数を決定することができる。

【0026】

（基板処理工程）
次に、前述の基板処理装置１が行う基板処理工程について説明する。

【0027】

処理室１０は、排気部２０により排気されている。基板搬送部３０の各搬送ローラ３１が回転し、それらの搬送ローラ３１上の基板Ｗは、所定の搬送方向Ａ１に搬送されて搬送路Ｈ１に沿って移動する。この搬送路Ｈ１中の処理液供給位置には、その上方から処理液が第１の処理液供給ヘッド４１によって予め供給されており、さらに、下方からも処理液が第２の処理液供給ヘッド４２によって予め供給されている。この処理液供給状態で、基板Ｗが搬送路Ｈ１中の処理液供給位置を通過すると、基板Ｗの両面（上面及び下面）に処理液が供給され、基板Ｗが処理液により処理されていく。このとき、基板Ｗの両面から落下した処理液は処理室１０の底面の排出口から排出される。

【0028】

この基板処理工程では、基板Ｗからの液跳ねやミストなどにより、液滴が各天井板１１ａの下面に付着することがある。天井板１１ａの下面に付着した液滴は、ある程度の大きさ以上であると、あるいは、ある程度の大きさ以上になると、重力によって移動し始める。この液滴は、重力に応じて天井板１１ａの下面に沿って移動し、その天井板１１ａの端部Ｂ１の下面から、その隣の天井板１１ａの端部Ｂ２の上面に移る。上面に移った液滴は、そのまま天井板１１ａの上面に沿って流れていき、樋１２に到達するまでに他の天井板１１ａが有れば、その他の天井板１１ａの上面を介して樋１２に流れ込み、その他の天井板１１ａが無ければ、そのまま樋１２に流れ込む。

【0029】

このように、天井板１１ａの下面に付着した液滴は、重力に負けて落下する前に他の天井板１１ａの上面に到達し、その上面を流れて基板Ｗ側に落下することなく、樋１２により収容される。したがって、天井板１１ａの下面に付着した液滴は、基板Ｗ側に落下せず、各天井板１１ａによって処理室１０の端まで流れるので、液滴が基板Ｗ上に落下することを抑制することが可能であり、基板Ｗへの液付着によるシミの発生を抑えることができる。

【0030】

なお、天井カバー１１の設置角度が大きくなると、天井カバー１１の高さが高くなり、装置全体は大型化してしまう。また、万一、液滴が落下した場合には、天井カバー１１の高さが高いほど、基板Ｗに落下したときの衝撃が強くなるため、その衝撃によって基板Ｗ上に形成された液膜の厚みが乱れて不均一になり、処理も不均一になってしまうことがある。さらに、天井カバー１１の高さが高くなると、それに伴って処理室１０の体積が大きくなるため、排気に要する力が大きくなる。あるいは、処理室１０内の一部分のみが排気され、処理室１０内の排気口（図示せず）から離れた箇所は、十分に排気されないなどの問題が生じる。これらのことから、天井を高くすることを避けることが望ましい。

【0031】

そこで、シミの発生を抑えることを実現しつつ、天井カバー１１の設置角度を小さくすることによって、天井カバー１１の高さ、すなわち処理室１０の高さを抑え、小型化を実現することができる。さらに、万一、液滴が基板Ｗに落下したとしても、基板Ｗに与える衝撃を小さくすることが可能であり、基板Ｗに対する処理が不均一になることを抑制することができる。また、天井カバー１１の高さを抑えることで、処理室１０の体積を減らすことが可能となるので、排気部２０による排気効率を向上させることができる。その結果、処理室１０内のミストを確実に除去することが可能であり、基板Ｗへの液付着によるシミの発生をより確実に抑えることができる。

【0032】

例えば、図４においてａ＝２７３０ｍｍ、ｂ＝７５０ｍｍとし、処理室の奥行き長さ（基板搬送方向の長さ）を３０００ｍｍとすると、天井カバー１１の設置角度θが３０度である処理室１０の体積は、約９．４ｍ^３となる。一方、天井カバー１１の設置角度θが１５度である処理室１０の体積は、約７．６ｍ^３となり、天井カバー１１の設置角度が３０度である処理室１０の体積に比べ、２割ほど小さくなる。このため、天井カバー１１の設置角度が３０度である処理室１０より、天井カバー１１の設置角度が１５度である処理室１０の方が排気に要する力は小さくて済む。

【0033】

なお、設置スペースが十分であれば、天井カバー１１の設置角度が例えば３０度である処理室１０を採用することが可能である。また、処理室１０の体積は大きくなるが、設置スペースが許す高さまで天井カバー１１を高くして天井カバー１１の傾斜角度を急にし、使用する天井板１１ａの枚数を減らすことも可能である。図５に示すように、天井カバー１１の設置角度θが３０度である場合の液だれしない距離は６００ｍｍである。これを基に、前述と同様な条件で同じように天井板１１ａの使用枚数を求めると、天井板１１ａの使用枚数は３枚程度となる。もちろん、この場合でもシミの発生を抑えることができる。

【0034】

以上説明したように、第１の実施形態によれば、各天井板１１ａは、瓦状に積み重ねられて傾斜しており、傾斜方向に隣接する二つの天井板１１ａのうち、高い位置の天井板１１ａにおける低い側の端部Ｂ１が、低い位置の天井板１１ａにおける高い側の端部Ｂ２を覆い、低い側の端部Ｂ１と高い側の端部Ｂ２とを非接触とすることで、端部Ｂ１とＢ２との間に隙間を生じさせるように設けられている。このため、傾斜方向に隣接する二つの天井板１１ａにおいて、高い位置の天井板１１ａの下面に付着した液滴は、その下面に沿って移動し、重力に負けて落下する前に、低い位置の天井板１１ａの上面に移り、その上面に沿って移動することになる。これにより、液滴が基板Ｗ側に落下せず、各天井板１１ａによって処理室１０の端まで流れるので、基板Ｗへの液付着によるシミの発生を抑えることができる。

【0035】

（傾斜方向に隣接する二つの天井板の鉛直離間距離）
なお、傾斜方向に隣接する二つの天井板１１ａのうち、高い位置（上方）の天井板１１ａの端部Ｂ１と、低い位置（下方）の天井板１１ａの端部Ｂ２との鉛直離間距離（隙間）は、１ｃｍ程度に設定されており、それらの端部Ｂ１と端部Ｂ２は平行になっているが、これに限るものではない。高い位置の天井板１１ａの端部Ｂ１から、低い位置の天井板１１ａの端部Ｂ２に液滴が乗り移る部分が１ｃｍ程度あれば良い。

【0036】

詳述すると、前述の第１の実施形態における天井板１１ａの配置では、図６の左側に示すように、傾斜方向に隣接する二つの天井板１１ａにおいて、液滴が流出する流出経路（端部Ｂ１と端部Ｂ２により形成される流出経路）の第１の開口Ｃ１の高さ方向のサイズと、その流出経路の第２の開口Ｃ２の高さ方向のサイズは、１ｃｍ程度で同じである。

【0037】

一方で、例えば、図６の右側に示すように、第１の開口Ｃ１の高さ方向のサイズを１ｃｍ程度に維持し、第２の開口Ｃ２の高さ方向のサイズを第１の開口Ｃ１の高さ方向のサイズよりも小さくすることが可能である。この場合、端部Ｂ１と端部Ｂ２との鉛直離間距離は、傾斜方向に沿って処理室１０の外部に向かって、すなわち液滴の流れ方向に沿って徐々に短くなっており、流出経路は液滴の流れ方向に徐々に狭くなっている。

【0038】

このように第１の開口Ｃ１より第２の開口Ｃ２を小さくした場合には、天井カバー１１の高さ、すなわち処理室１０全体の高さを低くすることができる。また、第２の開口Ｃ２が小さくなるため、処理室１０の外部からその内部に異物が入り難くなり、基板Ｗに異物が付着することを抑えることができる。

【0039】

また、第２の開口Ｃ２が１ｃｍ程度、第１の開口Ｃ１が１ｃｍ以上となるように天井板１１ａを設けるようにしても良い。このように第１の開口Ｃ１を１ｃｍ以上とすることで、想定よりも大きい水滴が流れてきたとしても、この水滴が、第１の開口Ｃ１部分において下方に位置する天井板１１ａの端部Ｂ２に接触して基板Ｗ上に落下してしまうことなく、確実に端部Ｂ２側へと乗り移らせることができる。

【0040】

また、図６の右側では、傾斜方向に隣接する二つの天井板１１ａのうち、低い位置の天井板１１ａは、途中で折れ曲がっており、二つの傾斜角度（例えば、１０、２０度）を有することになる。この低い位置の天井板１１ａにおいて、傾斜角度が大きい部分を第１の部分とし、傾斜角度が小さい部分を第２の部分とすると、第２の部分は第１の部分よりも水平に近くなるため、この第２の部分では、液だれが起きやすくなる。

【0041】

このため、第２の部分の長さは、図５に示す第２のデータに基づいて液だれが起きないように決定されるが、極力短いことが望ましい。例えば、第１の部分の傾斜角度が２０度であり、第２の部分の傾斜角度が１０度である場合には、第２の部分の液だれしない距離は１００ｍｍ程度であるが、一例として、第２の部分の長さを３０ｍｍ程度にとどめておくことが好ましい。なお、低い位置の天井板１１ａは、途中で折れ曲がっているが、これに限るものではなく、例えば、湾曲するように形成されても良い。

【0042】

（他の実施形態）
前述の実施形態においては、薬液や洗浄液などの処理液により基板Ｗ（例えば、パターン膜が形成された基板Ｗ）を処理する処理室１０に、前述の瓦重ね構造の天井カバー１１を適用することを例示したが、これに限るものではなく、例えば、基板Ｗを乾燥させる乾燥室など各種の処理室に適用することが可能である。また、例えば、薬液により処理を行う薬液室、洗浄液により洗浄処理を行う洗浄室、気体の吹き付けにより乾燥を行う乾燥室が連続して設けられている場合には、それらに共通の天井カバーとして、前述の瓦重ね構造の天井カバー１１を設けることも可能である。

【0043】

また、前述の実施形態においては、天井カバー１１の形状として、切妻屋根形状を例示したが、これに限るものではなく、例えば、寄棟屋根や片流れ屋根、方形屋根など各種の屋根形状を用いることが可能である。

【0044】

また、天井板１１ａの両面（上面及び下面）には、濡れ性を向上させる膜を形成することも可能である。天井板１１ａの濡れ性を向上させることにより、液だれしない距離を長くすることができるようになり、使用すべき天井板１１ａの枚数を減らすことが可能となる。

【0045】

さらに、前述の実施形態においては、天井板１１ａはすべて等しいサイズのものであることを例示したが、これに限るものではなく、異なるサイズのものを用いても良い。例えば、天井カバー１１を構成する複数の天井板のうち、最も低い位置にある天井板１１ａにおいては、他の天井板１１ａよりも長くするようにしても良い。図２に示す実施形態の場合には、天井カバー１１の最も高い位置に存在する天井板１１ａほど、その下方に、搬送される基板Ｗが存在する傾向にある。そこで、天井カバー１１の高い位置に存在する天井板１１ａほど、その長さを許容範囲（液だれしない距離）内においてより短くすることで、液滴が基板面に落下する危険性をより低くすることが好ましい。

【0046】

また、天井板１１ａの設置角度（傾斜角度）についても、前述の天井板１１ａの長さと同様な理由から、例えば、最も低い位置に存在する天井板１１ａの角度は、他の天井板１１ａよりも水平に近づく方向に傾斜する角度であっても良い。また、天井カバー１１の高い位置に存在する天井板１１ａほど、その傾斜角度を許容角度範囲内においてより大きな角度とすることで、液滴が基板面に落下する危険性をより低くすることが好ましい。

【0047】

また、前述の実施形態においては、処理室１０における搬送方向Ａ１に沿う両側の壁上に天井板１１ａを固定することを例示したが、これに限るものではなく、例えば、その両側の壁が存在しない場合などには、天井板１１ａを支持する支持部を設けることも可能である。なお、両側の壁が存在する場合には、それらの壁が支持部として機能することになる。

【0048】

ところで、前述の実施形態においては、処理室１０内を搬送される基板Ｗに対して処理液が供給され、供給された処理液が基板にぶつかることで液はねが生じるが、基板Ｗが存在しないときにおいても、処理液供給部４０からの処理液が供給され続けている限り、第１の処理液供給ヘッド４１及び第２の処理液供給ヘッド４２からの処理液が基板搬送部３０にぶつかることによって、液跳ねが生じる。この場合には、搬送ローラ３１のシャフト３１ｂの一部分（また全部）に、例えば、吸液性の高い素材（たとえばスポンジなど）を巻き付けることで、液跳ねを防止することが可能となり、天井に液滴が付着する原因自体をなくすことができる。

【0049】

また、前述の実施形態においては、傾斜方向に隣接する二つの天井板１１ａは、高い位置の天井板１１ａの一部が、低い位置の天井板１１ａの一部と接触しないで重なるように、すなわち、高い位置の天井板１１ａにおける低い側の端部Ｂ１が、低い位置の天井板１１ａにおける高い側の端部Ｂ２を非接触で覆うように設けることで、高い位置の天井板１１ａの端部Ｂ１と低い位置の天井板１１ａの端部Ｂ２との間に隙間を形成することを例示したが、これに限るものではなく、低い側の端部Ｂ１と高い側の端部Ｂ２との間に隙間が存在すれば、低い側の端部Ｂ１と高い側の端部Ｂ２の互いの一部が接触していても良い。

【0050】

例えば、図７に示すように、高い位置の天井板１１ａにおける低い側の端部Ｂ１と、低い位置の天井板１１ａにおける高い側の端部Ｂ２とが、天井板１１ａに設けた支持脚１３を介して接し、その支持脚１３によって、高い位置の天井板１１ａにおける低い側の端部Ｂ１と、低い位置の天井板１１ａにおける高い側の端部Ｂ２との間に隙間が設けられるように構成しても良い。なお、この隙間は、高い位置の天井板１１ａの端部Ｂ１から低い位置の天井板１１ａの端部Ｂ２に液滴が乗り移ることができる距離（先に述べた例では、１ｃｍ程度）に形成されている。

【0051】

以上、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。

【符号の説明】

【0052】

１ 基板処理装置
１０ 処理室
１１ａ 天井板
３０ 基板搬送部
４０ 処理液供給部
Ｂ１ 低い側の端部
Ｂ２ 高い側の端部

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】