特許 6963561 金属ストリップの連続溶融浸漬コーティングのための装置および関連方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6963561

(24)【登録日】2021年10月19日

(45)【発行日】2021年11月10日

(54)【発明の名称】金属ストリップの連続溶融浸漬コーティングのための装置および関連方法

(51)【国際特許分類】

   C23C 2/00 20060101AFI20211028BHJP

   C23C 2/40 20060101ALI20211028BHJP

   C23C 2/06 20060101ALI20211028BHJP

   C23C 2/12 20060101ALI20211028BHJP

【ＦＩ】

   C23C2/00

   C23C2/40

   C23C2/06

   C23C2/12

【請求項の数】33

【全頁数】25

(21)【出願番号】特願2018-555863(P2018-555863)

(86)(22)【出願日】2017年4月26日

(65)【公表番号】特表2019-515129(P2019-515129A)

(43)【公表日】2019年6月6日

(86)【国際出願番号】IB2017052405

(87)【国際公開番号】WO2017187359

(87)【国際公開日】20171102

【審査請求日】2020年3月26日

(31)【優先権主張番号】PCT/IB2016/052360

(32)【優先日】2016年4月26日

(33)【優先権主張国】IB

(73)【特許権者】

【識別番号】515214729

【氏名又は名称】アルセロールミタル

(74)【代理人】

【識別番号】110001173

【氏名又は名称】特許業務法人川口國際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】ブ，ジョゼ

(72)【発明者】

【氏名】ドシェル，ディディエ

(72)【発明者】

【氏名】サン−レーモン，ユベール

【審査官】 萩原 周治

(56)【参考文献】

【文献】 韓国登録特許第１０−１５３３２１２（ＫＲ，Ｂ１）

【文献】 特表２００４−５１３２３７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 韓国公開特許第１０−２０１３−００４４９７２（ＫＲ，Ａ）

【文献】 特表２００４−５１３２３８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第２０１４／１７３６６３（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 実開平０７−０２８９５８（ＪＰ，Ｕ）

【文献】 米国特許出願公開第２０１２／０２２４０４５（ＵＳ，Ａ１）

【文献】 中国特許出願公開第１０１９９３９９７（ＣＮ，Ａ）

【文献】 特開２０１２−０２１２０６（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特表２０１９−５１５１３０（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｃ２３Ｃ ２／００−２／４０

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

金属ストリップ（１）の連続溶融浸漬コーティングのための装置（１０；１００）であって、
液体金属浴（１２）を包含するように意図された容器（１１）と、
容器（１１）内に配置されて液体金属浴（１２）に浸漬されるように意図された底部ローラ（１５）と、
液体金属浴（１２）の表面を用いて変位ケーシング（１３）内で液体金属シール（１４）を決定するために、変位ケーシングの下端部が前記液体金属浴（１２）内に浸漬されるように意図された、金属ストリップ（１）のための前記変位ケーシング（１３）と、
を含み、
変位ケーシング（１３）は、上部分（４５）および下部分（５７）を含み、前記下部分（５７）は、少なくとも２つの液体金属注入区画（２５，２９）を画定する注入箱（４９）を支承し、各注入区画（２５，２９）は内壁（２０，２６）によって内向きに画定され、内壁（２０，２６）は上部リム（２１，２７）を含み、各内壁（２０，２６）の上部リム（２１，２７）は、前記注入区画（２５；２９）の各々の中への液体シール表面（１４）からの流れを生じるために前記液体シール表面（１４）の下に配置されるように意図されており、
注入箱（４９）が設けられた変位ケーシング（１３）は、第１回転軸（Ａ１）の周りで金属ストリップ（１）に対して回転可能であり、
注入箱（４９）は、第２回転軸（Ａ２）の周りで変位ケーシング（１３）の上部分（４５）に対して回転可能であり、第２回転軸（Ａ２）は、第１回転軸（Ａ１）と平行であり、
変位ケーシング（１３）の上部分（４５）に対する注入箱（４９）の回転を可能にする関節は、ピボットリンクである、装置（１０；１００）。

【請求項2】

第２回転軸（Ａ２）と内壁（２０，２６）の上部リム（２１，２７）の各々との間の距離（ｄ１，ｄ２）は、２５００ｍｍ以下である、請求項１に記載の装置（１０；１００）。

【請求項3】

注入区画（２５，２９）から液体金属を抽出するように構成された少なくとも１つのポンプ（３０）と、各注入区画（２５，２９）を前記ポンプ（３０）および排出チューブ（３２）に接続し、注入区画（２５，２９）から液体金属浴（１２）内に液体金属を排出するように意図された、少なくとも１つの吸引チューブ（３１，３３）とを含み、ポンプ（３０）ならびに吸引（３１，３３）チューブおよび排出（３２）チューブは、注入箱（４９）に対して固定して実装されている、請求項１から２のいずれか一項に記載の装置（１０；１００）。

【請求項4】

金属ストリップ（１）に対して第１回転軸（Ａ１）の周りで変位ケーシング（１３）を回転させるように構成された第１アクチュエータ（４１）と、第２回転軸（Ａ２）の周りで変位ケーシング（１３）の上部分（４５）に対して注入箱（４９）を回転させるように構成された第２アクチュエータ（７９）とを含む、請求項１から３のいずれか一項に記載の装置（１０；１００）。

【請求項5】

水平に対する注入箱（４９）の傾斜角を測定するように構成された傾斜センサ（７２）をさらに含む、請求項４に記載の装置（１０；１００）。

【請求項6】

傾斜センサ（７２）によって測定された傾斜角に基づく第２アクチュエータ（７９）のための制御手段をさらに含む、請求項５に記載の装置（１０；１００）。

【請求項7】

金属ストリップ（１）に対する注入区画（２５，２９）の内壁（２０，２６）の位置を視認するための工具（４２）をさらに含む、請求項１から６のいずれか一項に記載の装置（１０；１００）。

【請求項8】

注入区画（２５，２９）内の液体金属のレベルを視認するための視認手段をさらに含み、視認手段は、変位ケーシング（１３）の外側に配置され、少なくとも１つの接続パイプ（３６，３７）によって注入区画（２５，２９）の各々の基部に接続されたリザーバ（３５）を含み、前記リザーバ（３５）は、注入箱（４９）に対して固定して実装されている、請求項１から７のいずれか一項に記載の装置（１０；１００）。

【請求項9】

注入箱（２５，２９）の内壁（２０，２６）の上部リム（２１，２７）の水平度を調整するための手段をさらに含む、請求項１から８のいずれか一項に記載の装置（１００）。

【請求項10】

注入箱（４９）は、変位ケーシング（１３）の下部分（５７）に対して固定しており、変位ケーシング（１３）の下部分（５７）は、第２回転軸（Ａ２）の周りで回転可能に変位ケーシング（１３）の上部分（４５）に実装されている、請求項１から９のいずれか一項に記載の装置（１００）。

【請求項11】

注入箱（４９）の外壁は、変位ケーシング（１３）の下部分（５７）の側壁（５８，５９）によって形成されている、請求項１０に記載の装置（１００）。

【請求項12】

第２回転軸（Ａ２）は、液体金属浴（１２）の外側に位置するように構成されている、請求項１０または１１に記載の装置（１００）。

【請求項13】

変位ケーシングの上部分（４５）に対する注入箱（４９）の回転を可能にする関節は、ピボットリンクであり、前記ピボットリンクは、変位ケーシング（１３）の上部分（４５）に固定された上部関節アーム（１０８）と、変位ケーシング（１３）の下部分（５７）に固定された下部関節アーム（１０９）とを含み、前記上部および下部関節アーム（１０８，１０９）は、シャフトセグメント（１１０）を介して回転可能に接続されている、請求項１０から１２のいずれか一項に記載の装置（１００）。

【請求項14】

注入箱（４９）は、変位ケーシング（１３）の下部分（５７）に回転可能に実装されている、請求項１から９のいずれか一項に記載の装置（１０）。

【請求項15】

注入箱（４９）は、変位ケーシングの下端部において変位ケーシング（１３）内に挿入される、請求項１４に記載の装置（１０）。

【請求項16】

変位ケーシング（１３）の下部分および注入箱（４９）のうちの一方は、回転可能な案内軸受（６１）を含み、変位ケーシング（１３）の下部分および注入箱（４９）のうちの他方は、ジャーナル（６７）を含み、各ジャーナル（６７）は、第２回転軸（Ａ２）の周りで注入箱（４９）の回転案内を提供するようにそれぞれの案内軸受（６１）内に受容される、請求項１４または１５に記載の装置（１０）。

【請求項17】

第２回転軸（Ａ２）は液体金属浴（１２）内に浸漬されることを意図された、請求項１４から１６のいずれか一項に記載の装置（１０）。

【請求項18】

液体金属が注入箱（４９）と変位ケーシング（１３）との間に侵入するのを防止するために、注入箱（４９）と変位ケーシング（１３）の下部分（５７）との間に配置された封止ガスケット（６０）を含む、請求項１７に記載の装置（１０）。

【請求項19】

第２回転軸（Ａ２）は、注入箱（４９）が水平なときに、注入区画（２５，２９）の上部リム（２１，２７）の下に配置される、請求項１４から１８のいずれか一項に記載の装置（１０）。

【請求項20】

底部ローラ（１５）の反対側に配置された金属ストリップ（１）の面の側に位置する後部注入区画（２９）は、外壁（２８）によって外向きに画定され、前記外壁（２８）は、コーティング装置（１０；１００）の使用構成において、金属ストリップ（１）の通過平面に対してゼロより真に大きい、または１５°以上の角度（α）を形成するように構成されている、請求項１から１９のいずれか一項に記載の装置（１０；１００）。

【請求項21】

後部注入区画（２９）の外壁（２８）は、コーティング装置（１０；１００）の使用構成において鉛直であるように構成されている、請求項２０に記載の装置（１０；１００）。

【請求項22】

請求項１から２１のいずれか一項に記載のコーティング装置（１０；１００）を使用する、金属ストリップ（１）の連続溶融浸漬コーティングの方法であって、
注入区画（２５，２９）の上部リム（２１，２７）に対して金属ストリップ（１）を位置決めするように、第１回転軸（Ａ１）の周りで変位ケーシング（１３）および注入箱（４９）を回転させることを含む、金属ストリップ（１）に対して注入箱（４９）を位置決めするステップと、次いで
注入箱（４９）を水平にするように、変位ケーシング（１３）の上部分（４５）に対して第２回転軸（Ａ２）の周りで注入箱（４９）を回転させることを含む、再平衡化ステップと、を含む方法。

【請求項23】

注入区画（２５，２９）の内壁（２０，２６）の上部リム（２１，２７）の水平度を調整するステップをさらに含む、請求項２２に記載のコーティング方法。

【請求項24】

コーティング方法の間に、亜鉛およびアルミニウムを含むコーティングが、金属ストリップ（１）上に堆積される、請求項２２または２３に記載のコーティング方法。

【請求項25】

コーティング方法の間に、アルミニウムを含む亜鉛ベースのコーティングが、金属ストリップ（１）上に堆積される、請求項２２または２３に記載のコーティング方法。

【請求項26】

コーティング方法の間に、０．１から０．３％の間のアルミニウムを含むコーティングが、金属ストリップ（１）上に堆積される、請求項２５に記載のコーティング方法。

【請求項27】

コーティング方法の間に、５％のアルミニウムを含み、残りは亜鉛であるコーティングが、金属ストリップ（１）上に堆積される、請求項２５に記載のコーティング方法。

【請求項28】

コーティング方法の間に、マグネシウムおよび場合によりアルミニウムを含む亜鉛ベースのコーティングが、金属ストリップ（１）上に堆積される、請求項２２または２３に記載のコーティング方法。

【請求項29】

コーティング方法の間に、ケイ素および鉄を含むアルミニウムベースのコーティングが、金属ストリップ（１）上に堆積される、請求項２２または２３に記載のコーティング方法。

【請求項30】

コーティング方法の間に、アルミニウム−亜鉛コーティングが、金属ストリップ（１）上に堆積される、請求項２４に記載のコーティング方法。

【請求項31】

コーティング方法の間に、５５ｗｔ％のアルミニウム、４３．５ｗｔ％の亜鉛、および１．５ｗｔ％のケイ素を含むコーティングが、金属ストリップ（１）上に堆積される、請求項２４または３０に記載のコーティング方法。

【請求項32】

コーティング方法の間に、０．１から２０ｗｔ％のアルミニウムおよび０．１から１０ｗｔ％のマグネシウムを含むコーティングが、金属ストリップ（１）上に堆積される、請求項２８に記載のコーティング方法。

【請求項33】

コーティング方法の間に、以下の組成：
８％≦Ｓｉ≦１１％
２％≦Ｆｅ≦４％
を有し、残りはアルミニウムおよびいずれかの不純物であるコーティングが、金属ストリップ（１）上に堆積される、請求項２９に記載のコーティング方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、金属ストリップの連続溶融浸漬コーティングのための装置に関する。

【背景技術】

【0002】

国際公開第０２／３８８２３号は、保護雰囲気中の金属ストリップのための変位ケーシングを含み、液体金属浴の表面を用いてこのケーシング内で液体金属シールを決定するためにその下端部が前記浴内に浸漬されている、コーティング装置を記載している。ケーシングは、その下端部において、液体金属を注ぐための少なくとも２つの区画を画定し、この中で、ストリップのコーティングにおいて欠陥を生じる可能性のある不純物を液体シールから除くために、浴の液体金属が液体シールから注がれる。ケーシングは、ベローズによって互いに接続された、固定の上部分および可動の下部分を含む。ストリップに対する可動部分の位置および可動部分の水平度を調整するために、下部分は２つのジャッキを介して上部分に対して可動である。可動部分の運動の性質、回転および／または並進、ならびにその振幅は、２つのジャッキのロッドの相対移動を調整することによって制御される。

【0003】

このような装置は、完全に満足のいくものではない。実際には、調整機構は使用するのに複雑であり、上部分に対する下部分の非常に正確な位置決めを可能にするものではない。さらに、ベローズを介した上部分への下部分の接続は、上部分の熱変形挙動を変化させる。

【0004】

韓国特許第１０−１５３３２１２号明細書は、液体金属浴の表面を用いて変位ケーシング内で液体金属シールを決定するためにその下端部が前記浴内に浸漬されている、金属ストリップのための変位ケーシングを含むコーティング装置を記載している。ケーシングは、その下端部に、液体金属を注ぐための２つの区画を画定する注入箱を含み、この中で浴の液体金属が液体シールから注がれる。ケーシングは、ケーシングの上端部付近に形成された関節シャフトＡ１を介して回転軸の周りで金属ストリップに対して回転可能である。ケーシングはまた、関節シャフトＡ１１を含む伝達装置１０を介して装置のシャーシに接続される。関節シャフトＡ１およびＡ１１は、それぞれの伝達装置１０を介して水平並進的に可動である。

【0005】

韓国特許第１０−１５３３２１２号明細書によれば、関節シャフトＡ１およびＡ１１の前方向への水平並進は、ケーシングの単一運動において、注入箱の上面が溶融金属浴の表面と平行な構成で、注入箱の中心にストリップを位置決めできるようにする。

【0006】

このような装置は、完全に満足のいくものではない。実際には、ケーシングの上端部付近の単一の回転軸Ａ１の位置のため、注入箱の位置を調整するためには相対的にかなりの運動が必要であるが、ケーシングの周りの領域の密集度を考慮するとこれは望ましくない。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0007】

【特許文献1】国際公開第０２／３８８２３号

【特許文献2】韓国特許第１０−１５３３２１２号明細書

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0008】

本発明の１つの目的は、必要とされる運動の振幅を制限しながら、ストリップに対するケーシングの位置決め、および流量の平衡化をより柔軟かつ正確に実行できるようにする、コーティング装置を提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0009】

この目的のために、本発明は、コーティング装置に関し、コーティング装置は、
液体金属浴を包含するように意図された容器と、
容器内に配置されて液体金属浴に浸漬されるように意図された底部ローラと、
液体金属浴の表面を用いて変位ケーシング内で液体金属シールを決定するために、その下端部が前記浴内に浸漬されている、金属ストリップのための変位ケーシングと、を含み、
ケーシングは上部分および下部分を含み、前記下部分は少なくとも２つの液体金属注入区画を画定する注入箱を支承し、各注入区画は内壁によって内向きに画定され、内壁は上部リムを含み、各内壁の上部リムは、前記注入区画の各々の中の液体シール表面からの流れを生じるために前記表面の下に配置されるように意図されており、
注入箱が設けられたケーシングは、第１回転軸の周りで金属ストリップに対して回転可能であり、
注入箱は、第２回転軸の周りでケーシングの上部分に対して回転可能である。

【0010】

コーティング装置の特定の特徴によれば、
ケーシングの上部分に対する注入箱の回転を可能にする関節は、ピボットリンクであり、
第２回転軸Ａ２と内壁の上部リムの各々との間の距離は、２５００ｍｍ以下であり、
第２回転軸は、第１回転軸と実質的に平行であり、
装置は、注入区画から液体金属を抽出するように構成されたポンプと、前記ポンプの各注入区画と排出チューブとを接続し、注入区画から液体金属浴内に液体金属を排出するように意図された、少なくとも１つの吸引チューブとをさらに含み、ポンプならびに吸引チューブおよび排出チューブは、注入箱に対して固定式に実装されており、
装置は、ストリップに対して第１回転軸の周りでケーシングを回転させるように構成された第１アクチュエータと、第２回転軸の周りでケーシングの上部分に対して注入箱を回転させるように構成された第２アクチュエータとをさらに含み、
装置は、水平に対する注入箱の傾斜角を測定するように構成された、傾斜センサをさらに含む。

【0011】

装置は、傾斜センサによって測定された傾斜角に基づく第２アクチュエータのための制御手段をさらに含み、
装置は、ストリップに対する注入区画の内壁の位置を視認するための工具をさらに含み、
装置は、注入区画内の液体金属のレベルを視認するための手段をさらに含み、視認手段は、ケーシングの外側に配置され、少なくとも１つの接続パイプによって注入区画の各々の基部に接続されたリザーバを含み、前記リザーバは注入箱に対して固定式に実装されており、
装置は、注入箱の内壁の上部リムの水平度を調整するための手段をさらに含み、
注入箱は、ケーシングの下部分に対して固定しており、ケーシングの下部分は、第２回転軸の周りで回転可能にケーシングの上部分に実装されており、
注入箱の外壁は、ケーシングの下部分の側壁によって形成されており、
第２回転軸は、液体金属浴の外側に位置するように構成されており、
ケーシングの上部分に対する注入箱の回転を可能にする関節は、ピボットリンクであり、前記ピボットリンクは、ケーシングの上部分に固定された上部関節アームと、ケーシングの下部分に固定された下部関節アームとを含み、前記上部および下部関節アームは、シャフトセグメントを介して回転可能に接続されており、
注入箱は、ケーシングの下部分に回転可能に取り付けられており、
注入箱は、ケーシングの下端部においてケーシング内に挿入され、
ケーシングの下部分および注入箱のうちの一方は、回転可能な案内軸受を含み、ケーシングの下部分および注入箱のうちの他方は、ジャーナルを含み、各ジャーナルは、第２回転軸の周りで注入箱の回転案内を提供するようにそれぞれの案内軸受内に受容され、
第２回転軸は、液体金属浴内に浸漬され、
装置は、液体金属が注入箱とケーシングとの間に侵入するのを防止するために、注入箱とケーシングの下部分との間に配置された封止ガスケットをさらに含み、
第２回転軸は、注入箱が水平なときに、注入区画の上部リムの下に配置され、
底部ローラの反対側に載置された金属ストリップの面の側に位置する後部注入区画は、外壁によって外向きに画定され、前記外壁は、コーティング装置の使用構成において、ストリップの通過平面に対してゼロより真に大きい角度を形成し、
後部注入区画の外壁は、コーティング装置の使用構成において鉛直である。

【0012】

本発明はまた、上記で挙げられたようなコーティング装置を使用する、金属ストリップの連続溶融浸漬コーティングの方法であって、
注入区画の上部リムに対して鋼ストリップを位置決めするように、第１回転軸の周りでケーシングおよび注入箱を回転させることを含む、金属ストリップに対して注入箱を位置決めするステップと、次いで
注入箱を水平にするように、ケーシングの上部分に対して第２回転軸の周りで注入箱を回転させることを含む、再平衡化ステップと、
を含む方法にも関する。

【0013】

方法の特定の特徴によれば、
方法は、注入区画の内壁の上部リムの水平度を調整するステップをさらに含み、
コーティング方法の間、たとえば５５ｗｔ％のアルミニウム、４３．５ｗｔ％の亜鉛、および１．５ｗｔ％のケイ素を含む、亜鉛およびアルミニウム、特にアルミニウム−亜鉛コーティングを含むコーティングが、金属ストリップ上に堆積され、
コーティング方法の間、アルミニウムを含む亜鉛ベースのコーティングが、金属ストリップ上に堆積され、
コーティング方法の間、０．１から０．３％の間のアルミニウムを含むコーティングが金属ストリップ上に堆積され、
コーティング方法の間、５％のアルミニウムを含み、残りは亜鉛であるコーティングが金属ストリップ上に堆積され、
コーティング方法の間、マグネシウムおよび場合によりアルミニウムを含み、好ましくは０．１から２０ｗｔ％のアルミニウムおよび０．１から１０ｗｔ％のマグネシウムを含む亜鉛ベースのコーティングが、金属ストリップ上に堆積され、
コーティング方法の間、ケイ素および鉄を含むアルミニウムベースのコーティング、特に以下の成分：
８％≦Ｓｉ≦１１％
２％≦Ｆｅ≦４％
を有し、残りはアルミニウムおよび可能性のある不純物であるコーティングが、金属ストリップ上に堆積される。

【0014】

本発明は、例示によってのみ提供され、以下の添付図面を参照する、以下の説明を読めば、より良く理解されるだろう。

【図面の簡単な説明】

【0015】

【図1】本発明の第１の実施形態によるコーティング装置の全体概略図である。

【図2】図１の平面ＩＩ−ＩＩに沿った上面図である。

【図3】特定の態様をより詳細に示す、図１のコーティング装置の概略図である。

【図4】図３の詳細の拡大図である。

【図5】第２の実施形態によるコーティング装置の一部の概略図である。

【図6】図５のコーティング装置の一部のＩＩＩに沿った概略図である。

【発明を実施するための形態】

【0016】

以下、金属ストリップ１の連続亜鉛めっきのための装置について説明する。しかしながら、本発明は、表面汚染が出現し、きれいな液体シールが保持されなければならない、連続溶融浸漬コーティングのいずれの方法にも適用される。

【0017】

具体的には、亜鉛およびアルミニウムを含むコーティング、特にＡｒｃｅｌｏｒＭｉｔｔａｌによって販売されているＡｌｕｚｉｎｃ（登録商標）など、たとえば５５ｗｔ％のアルミニウム、４３．５ｗｔ％の亜鉛、および１．５ｗｔ％のケイ素を含む、アルミニウム−亜鉛コーティングと称される、亜鉛を含むアルミニウムベースのコーティング、またはアルミニウムを含む亜鉛ベースのコーティング、特にＧＩコーティングと称される０．１から０．３％のアルミニウムを含む亜鉛ベースのコーティング、または５％のアルミニウムを含み残りは亜鉛および可能性のある不純物であるコーティングを堆積するために、これは有利に実施され得る。

【0018】

装置はまた、亜鉛−マグネシウムまたはＺｎ−Ｍｇコーティングと称される、マグネシウムを含む亜鉛ベースのコーティングを堆積するためにも使用されてよい。有利には、このようなコーティングは、アルミニウムをさらに含み、亜鉛−アルミニウム−マグネシウムまたはＺｎ−Ａｌ−Ｍｇコーティングと称される。有利には、亜鉛めっき装置１は、０．１から２０ｗｔ％のアルミニウムおよび０．１から１０ｗｔ％のマグネシウムを含むＺｎ−Ａｌ−Ｍｇコーティングを堆積するために提供される。

【0019】

装置１はまた、ケイ素を含むアルミニウムベースのコーティングを堆積するため、具体的には以下の組成：
８％≦Ｓｉ≦１１％
２％≦Ｆｅ≦４％
を有し、残りはアルミニウムおよび可能性のある不純物であるコーティングを堆積するために、使用されてもよい。

【0020】

金属ストリップ１は、具体的には鋼で作られたストリップである。しかしながら、これは他の金属材料から作られることも可能である。

【0021】

まず、冷間圧延列を離れると、金属ストリップ１は、冷間圧延に関する著しい加工硬化の後に再結晶化するために、および亜鉛めっき作業に必要な化学反応を促進するためにその化学的表面状態を準備するために、図示されない焼き鈍し炉に侵入する。この炉内で、金属ストリップ１は、たとえば６５０から９００℃の間の温度にされる。

【0022】

焼き鈍し炉を離れると、金属ストリップ１は、図１に示され全体的な参照符号１０で指定される、亜鉛めっき装置に侵入する。

【0023】

この装置１０は、液体金属浴１２を包含する容器１１を備える。

【0024】

液体金属浴１２の組成は、ストリップ１上に堆積させたいコーティングの組成に依存する。堆積されるコーティングに応じた適切な割合の亜鉛、マグネシウム、および／またはアルミニウムは別として、浴１２は、Ｓｉ、Ｓｂ、Ｐｂ、Ｔｉ、Ｃａ、Ｍｎ、Ｓｎ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｃｒ、Ｎｉ、またはＢｉなど、０．３ｗｔ％までの任意の追加元素を含むこともできる。これらの様々な追加元素は、特にストリップ１上の金属コーティングの延性または接着性を改善することができるようにする。金属コーティングの特性に対するその影響を知る当業者は、求められる補足的な目的に基づいてこれらをどのように使用するかがわかるだろう。浴１２は最後に、供給されたインゴットに由来する、もしくは浴１２内のストリップ１の通過、金属コーティング中の不可避な不純物の源から生じる、残留元素を含有することがある。

【0025】

液体金属浴１２の温度は、一般的に４００から７００℃の間である。

【0026】

焼き鈍し炉を離れると、金属ストリップ１は、交換器を用いて液体金属浴１２の温度に近い温度まで冷却され、次に浴１２内に浸漬される。

【0027】

図１に示されるように、コーティング装置１０は、材料である金属に対する保護雰囲気の下で金属ストリップ１が内部を移動する、ケーシング１３を備える。

【0028】

装置１０の使用中、金属ストリップ１は、所定の通過平面に沿ってケーシング１３の中を移動する。

【0029】

「浸漬トンネル」または「スナウト」とも称されるこのケーシング１３は、図に示される例示的な実施形態では矩形断面を有する。

【0030】

ケーシング１３は、前記浴１２の表面を用いて前記ケーシング１３内で液体シール１４を決定するように、その下部分において浴１２内に浸漬される。このように、ストリップ１は、液体金属浴１２内に浸漬されるとき、ケーシング１３内の液体シール１４の表面を通過する。

【0031】

一般に底部ローラと称され、浴１２内に配置されるローラ１５によって、金属ストリップ１は偏向される。

【0032】

ケーシング１３を通る金属ストリップ１の所定の通過平面は特に、底部ローラ１５の幾何形状、およびケーシング１３から上流側に位置する上部ローラ（図示せず）の幾何形状によって、ならびにこれら２つのローラの相対位置によって、決定される。

【0033】

底部ローラ１５および上部ローラはこのようにして、所定の通過平面に沿って金属ストリップを変位させる手段を形成する。

【0034】

前記浴１２の出口において、たとえば窒素または空気などの気体を噴霧するためのノズル１６ａで構成され、かつ液体金属コーティングの厚さを調整するためにストリップ１の各面に向けて配向されたワイピング手段１６内を、コーティングされたストリップ１は通る。

【0035】

図１、図３、および図５に示されるように、ケーシング１３は、その下端部において、液体金属を注ぐための２つの区画２５、２９を区切る注入箱４９を支承する。区画２５、２９は、ケーシング１３の中に横方向に配置されている。

【0036】

より具体的には、注入箱４９は、底部ローラ１５の側に位置するストリップ１の面に面して配置された、液体金属を注ぐための前部区画２５を含む。前記前部区画２５は、液体シール１４の表面に向けて配向された内壁２０によって内向きに、および外壁２２によって外向きに、画定されている。外壁２２は、底部ローラ１５の側に位置するストリップ１の面に面して延在している。これは注入箱４９の外壁によって形成されている。

【0037】

内壁２０の上部リム２１は、液体シール１４の表面の下に位置しており、区画２５には、前記液体シール１４の前記表面から前記区画２５への液体金属の自然な流れを生じるために、液体シール１４の表面より下のレベルに前記区画２５内の液体金属のレベルを維持する手段が設けられている。

【0038】

同様に、注入箱４９は、底部ローラ１５の側に位置していないストリップ１の面に面して配置されている、液体金属を注ぐための後部区画２９を含む。前記後部区画２９は、液体シール１４の表面に向けて配向された内壁２６によって内向きに、および外壁２８によって外向きに、画定されている。外壁２６は、底部ローラ１５の側に位置しないストリップ１の面に面して延在している。これは注入箱４９の外壁によって形成されている。

【0039】

内壁２６の上部リム２７は、液体シール１４の表面の下に位置しており、区画２９には、前記液体シール１４の前記表面から前記区画２９への液体金属の自然な流れを生じるために、液体シール１４の表面より下のレベルに前記区画２９内の液体金属のレベルを維持する手段が設けられている。

【0040】

図２に見られるように、外壁２２、２８は、ストリップ１の縁に面して延在する側壁６４によって、互いに接続されている。

【0041】

以下の説明を通して、これら２つの区画２５、２９は、１つの周辺区画を形成するために互いに連通している。当然ながら、側壁を用いてこれらを分離すること、ならびにコーティングされるストリップ１の縁に面する側部区画を追加することも、完全に可能である。

【0042】

有利には、金属酸化物粒子および金属間化合物が液体金属の流れに逆らって上昇するのを防止するために、区画２５および２９内への液体金属の落下高さ、すなわち区画２５、２９の上部リム２１、２７と液体金属レベルとの間の鉛直方向に沿った距離が決定される。この落下高さは、４０ｍｍ以上、もしくは５０ｍｍ以上、および好ましくは１００ｍｍ以上であってもよい。

【0043】

図１に示されるように、注入区画２５および２９内の液体金属レベルを維持する手段は、吸引側においてそれぞれ吸引チューブ３１および３３によって前記区画２５および２９に接続された、少なくとも１つのポンプ３０を含む。ポンプ３０は、浴１２の容積内にポンプ３０によって引き出された液体金属を排出するように構成された、排出チューブ３２が排出側に設けられている。

【0044】

さらに、装置１０は、注入区画２５、２９内の液体金属レベルを検出する手段を備える。

【0045】

有利には、前記検出手段は、ケーシング１３および区画２５、２９の外側に配置され、それぞれ接続パイプ３６および３７によって区画２５および２９の各々の基部に接続された、リザーバ３５によって形成されている。別の実施形態では、単一の接続パイプを使用することが可能である。

【0046】

図１に示されるように、注入区画２５および２９上のポンプ３０の接続点は、前記区画２５および２９上のリザーバ３５の接続点より上に位置している。

【0047】

外部リザーバ３５の追加により、注入区画２５および２９のレベルを容易に検出できるように、好ましい環境でケーシング１３の外側でこのレベルを再現することを可能にする。この目的のために、リザーバ３５は、たとえばインジケータ、レーダ、またはレーザビームを供給する接触器など、液体金属レベル検出器を備えてもよい。

【0048】

あるいは、注入区画２５、２９内の液体金属レベルを検出することを可能にするその他いずれかの手段が使用されてもよい。

【0049】

注入区画２５および２９内の液体金属レベルの連続検出は、上記の落下高さを有利に遵守しながら、このレベルを液体シール１４の表面より下に維持するように調整することを可能にする。

【0050】

有利には、ポンプ３０は所定の一定流量に調整され、液体金属レベルの調整は、検出された液体金属レベルが所定のレベル未満であるときに、容器１１内に金属インゴットを導入することによって行われる。注入区画２５、２９内の液体金属レベルを検出する手段と組み合わせて、亜鉛めっき条件のより迅速な調整を可能にする、可変流量ポンプを使用することも可能である。

【0051】

図４に示されるように、ケーシング１３は、上部分４５、および少なくとも部分的に液体金属浴１２内に浸漬された下部分５７を含む。

【0052】

図示される例において、上部分４５は、互いに実質的に平行であってストリップ１の通過平面と実質的に平行な、２つの側壁５１、５３を含む。

【0053】

注入箱４９は、ケーシング１３の下部分５７によって担持される。より具体的には、図４に示されるように、注入箱４９は、部分的にケーシング１３の内部に延在しながら、下部分５７の下端部に挿入される。これは、ケーシング１３の下端部を越えて下方に突起する。

【0054】

有利には、装置１０は、浴１２からの液体金属がこれら２つの要素の間に侵入するのを防止するように、ケーシング１３の下端部と注入箱４９との間に配置された封止ガスケット６０を含む。一例として、封止ガスケット６０は、その端部の一方によって、具体的にはその下端部によって注入箱４９に固定され、その端部の他方によって、具体的にはその上端部によってケーシング１３に固定された、ベローズによって形成されている。このようなベローズは、たとえば鋼で作られている。このようなベローズは、これら２つの部品間の相対回転を可能にしながら、注入箱４９とケーシング１３との間の封止を作り出すことを可能にする。

【0055】

図３に示されるように、ケーシング１３および注入箱４９は、第１回転軸Ａ１の周りで一緒に回転可能である。注入箱４９およびケーシング１３は、第１回転軸Ａ１の周りで回転式に固定されている。第１回転軸Ａ１は、実質的に水平である。

【0056】

第１回転軸Ａ１の周りのケーシング１３および注入箱４９の回転の結果、注入区画２５、２９の上部リム２１、２７と金属ストリップ１との間の距離に変化が生じ、こうして前記リム２１、２７に対するストリップ１の位置決めを可能にする。

【0057】

注入箱４９は、第２回転軸Ａ２の周りのケーシング１３の上部分４５に対して、さらに回転可能である。

【0058】

第２回転軸Ａ２は実質的に水平である。

【0059】

より具体的には、図２に示されるように、第２回転軸Ａ２は、ケーシング１３の壁を通過するように配向されている。

【0060】

具体的には、第２回転軸Ａ２と注入区画２５、２９の各リム２１、２７との間の距離ｄ１、ｄ２は、２５００ｍｍ以下である。この距離は有利なことに、０ｍｍから４００ｍｍの間に含まれる。

【0061】

この実施形態では、第２回転軸Ａ２は上部リム２１、２７の下方に位置している。

【0062】

第１および第２回転軸Ａ１、Ａ２は、互いに平行である。

【0063】

第２回転軸Ａ２の周りの注入箱４９の回転は、ケーシング１３および注入箱４９で構成されるアセンブリによって第１回転軸Ａ１の周りで行われる可能性のある回転運動とは無関係に、注入箱４９の水平度を調整することを可能にする。

【0064】

第２回転軸Ａ２の特定の位置により、具体的には数度程度の、特に小さい運動振幅を通じてこの調整を実行できるようにする。

【0065】

注入箱４９は、上部リム２１、２７が±５ｍｍの公差で定義された同じ水平面内に位置するときに、水平であると見なされる。言い換えると、１０ｍｍの最大高度差が、２つの上部リム２１および２７の間で許容される。

【0066】

場合により、ケーシング１３はまた、たとえばベローズシステムを使用して、液体金属浴１２内のその浸漬高さを調整するように、縦軸に沿って並進可能である。このような調整機構は公知であり、本特許出願では詳細に記載されない。

【0067】

装置１０はまた、上部リム２１、２７の水平度を調整する機構も含む。より具体的には、上部リム２１、２７の水平度を調整する機構は、第２回転軸Ａ２の水平度を調整するように構成されている。

【0068】

より具体的には、注入箱４９は、第２回転軸Ａ２の周りでケーシング１３に対する注入箱４９の回転を可能にするピボットリンクを介して、ケーシング１３上に関節接合されている。このようなピボットリンクは、たとえば軸受内に受容されるシャフト、シャフトセグメント、またはジャーナルの形態のピボットを含み、ピボットは第２回転軸Ａ２に沿って延在する。ピボットはケーシング１３上に形成されている。

【0069】

図１から図４に示されるように、注入箱４９は、ケーシング１３とは別個の部品を形成する。これは、ケーシング１３の下部分５７に回転可能に実装されている。図２に見られるように、注入箱４９は、回転可能な案内軸受６１内に回転可能に実装されたジャーナル６７を介して、ケーシング１３の下部分５７に回転式に実装されている。ジャーナル６７は回転軸Ａ２を画定する。

【0070】

図示される例において、ジャーナル６７は注入箱４９上に形成され、軸受６１はケーシング１３上に形成されている。より具体的には、回転可能な案内軸受６１は、ケーシング１３の２つの対向面６３上に配置されながら、ケーシング１３の下部分５７上に形成されている。これらは軸Ａ２と実質的に同軸である。各案内軸受６１は、注入箱４９上に形成されたそれぞれのジャーナル６７を受容する。

【0071】

あるいは、ジャーナル６７は、ケーシング１３上に、より具体的にはその下部分５７に形成されており、案内軸受６１は、注入箱４９上に形成されている。

【0072】

第１の実施形態による装置１０において、第２回転軸Ａ２は、液体金属浴１２内に浸漬されている。より具体的には、第２回転軸Ａ２は、注入区画２５、２９の上部リム２１、２７の下方に配置されながら、２つの注入区画２５、２９の間を通っている。第２回転軸Ａ２のこのような位置決めは、第２回転軸の周りの上部リム２１、２７の比較的小さい回転半径をもたらし、注入箱４９の水平度の正確な調整を容易にするので、有利である。

【0073】

図３に見られるように、装置１０は、ストリップ１に対して第１回転軸Ａ１の周りでケーシング１３を回転させるように構成された、第１アクチュエータ４１を含む。

【0074】

図示される例において、第１アクチュエータ４１は、作動ジャッキの形態をとる。この作動ジャッキは、装置１０の固定フレーム４０とケーシング１３、より具体的にはケーシング１３の上部分４５との間に配置される。図３および図４に示されるように、第１アクチュエータ４１は、上部分４５の下端部でケーシング１３に作用する。

【0075】

たとえば、第１アクチュエータ４１は、スクリュージャッキによって形成されている。しかしながら、これに代えて、第１アクチュエータ４１は、いずれか他の適切なタイプであり、たとえば油圧または空気圧ジャッキを含む。

【0076】

図４に見られるように、装置１０は有利には、注入区画２５、２９の上部リム２１、２７の各々と金属ストリップ１との間の相対距離を視認するための工具４２をさらに含む。より具体的には、視認工具４２は、上部リム２１、２７およびストリップ１の縁の同時視認を可能にするように、ケーシング１３内に配置されたカメラを含む。この視認工具４２は、図４に概略的にのみ示されている。

【0077】

一実施形態によれば、装置１０は、視認工具４２によって決定される上部リム２１、２７とストリップ１の相対位置から第１アクチュエータ４１を制御するように構成された、制御手段（図示せず）を含む。

【0078】

装置１０は、ケーシング１３に対して第２回転軸Ａ２の周りで注入箱４９を回転させるように構成された、第２アクチュエータ７１をさらに含む。

【0079】

図３および図４に示される実施形態において、第２アクチュエータ７１は、作動ジャッキ、具体的にはスクリュージャッキの形態をとる。しかしながら、これに代えて、第２アクチュエータ７１は、いずれか他の適切なタイプであり、たとえば油圧ジャッキを含む。

【0080】

有利には、装置１０は、水平に対する注入箱４９の傾斜角を測定するように構成された測定センサ７２をさらに含む。この測定センサ７２は、図４に概略的にのみ示されている。

【0081】

場合により、装置１０はまた、測定センサ７２によって測定された傾斜角に基づいて第２アクチュエータ７１を制御するように構成された、第２アクチュエータ７１のための制御手段（図示せず）も含む。より具体的には、これらの制御手段は、注入箱４９が水平に配向されるまで、すなわち上部リム２１、２７が同じ水平面内に位置するまで、第２回転軸Ａ２の周りのケーシング１３に対する注入箱４９の回転を制御するように構成されている。

【0082】

図３および図４に示されるように、装置１０は、注入箱４９のための支持シャーシ７５、ならびにポンプ３０およびポンプ３０に関連するダクトを含む。

【0083】

支持シャーシ７５は、第１回転軸Ａ１の周りのケーシング１３に対して回転式に固定されている。これは、第２回転軸Ａ２の周りの注入箱４９に対して回転式にさらに固定されている。

【0084】

ポンプ３０は、前記支持シャーシ７５上に固定して実装されている。先に説明されたように、ポンプ３０は、吸引チューブ３１および３３を介して注入区画２５、２９に接続されている。これらの吸引チューブ３１、３３は、注入箱４９およびポンプ３０に固定して実装された、剛性ダクトである。排出チューブ３２もまた、ポンプ３０に固定して実装された剛性ダクトによって形成されている。吸引チューブ３１、３３および排出チューブ３２は、注入箱４９およびポンプ３０に対して回転式に固定されている。

【0085】

装置１０が、先に定義されたような注入区画２５、２９内の液体金属レベルを視認するためのリザーバ３５を含むとき、これは支持シャーシに対して固定して有利に実装される。したがって、視認リザーバ３５は、支持シャーシに対して回転式に固定されている。なお、図３および図４を簡略化するために、視認リザーバ３５はこれらの図から省略されていることに留意されたい。

【0086】

図３および図４に示される例において、支持シャーシ７５は、注入箱４９を回転させるためのジャッキ７１を介してケーシング１３に接続されている。図４により具体的に示されるように、この特定の実施形態において、ジャッキ７１の本体７７は、回転軸Ａ２と平行な回転軸Ａ３の周りでケーシング１３に対して枢動して実装され、ジャッキ７１のロッド７９は、回転軸Ａ２と平行な回転軸Ａ４の周りで支持シャーシ７５に対して回転可能でありながら、支持シャーシ７５に取り付けられている。このように、ジャッキ７１の長さの変化により、支持シャーシ７５および注入箱４９を回転軸Ａ２の周りで回転させる。

【0087】

ここで注入区画２５および２９の形状が、図４においてより詳細に説明される。

【0088】

図１から図４に示される装置１０では、後部注入区画２９の外壁２８は、コーティング装置１０の使用構成において、ストリップ１の通過平面に対して０°より真に大きい、たとえば１５°以上、有利には２５°以上、もしくは３０°以上の、角度αを形成する。実際、角度が大きいほど効率も良くなることが観察されている。

【0089】

使用構成とは、金属ストリップ１が液体金属浴１２内を通過することによってコーティングされるために装置１０の中を移動するときの、コーティング装置１０の構成を指す。具体的には、使用構成において、２つの注入区画２５、２９の２つの上部リム２１、２７は、同じ水平面内に位置する。

【0090】

本発明の発明者らは、外壁２８のこのような構成が特に有利であることに着目した。具体的には、コーティング装置１０の体積を制限しながら、注入区画２９に面する金属ストリップ１の面の側で、非常に低い欠陥密度を有するコーティングを得られるようにする。

【0091】

実際に、発明者らは、後部注入区画２９の外壁２８が金属ストリップ１と平行に配向されているとき、液体金属シール１４から注入区画２９内に落ちてくる液体金属の一部が、注入区画２９の外壁２８上に落下し、次いで注入区画２９に面するストリップ１の面に当たり、こうしてストリップ１のこの面に外観の欠陥を作ることに気がついた。この飛散現象は、前記液体金属の少なくとも一部が落ちてくる落下方向に対してほぼ垂直に外壁２８が延在するという事実に起因する。

【0092】

反対に、上述のような外壁２８の配向は、このような当たりを低減することを可能にし、したがってストリップ１の影響を受けた面のより良い外観品質をもたらす。実際、この場合、外壁２８は、液体金属の落ち込みの全体的な流れ方向に対してより接線方向に延在している。

【0093】

図１から図４に示されるように、後部注入区画２９の外壁２８は、その上端部から後部注入区画２９の底部に向かってストリップ１の通過平面から離れるように、配向されている。

【0094】

外壁２８とストリップ１の通過平面との間の角度αは、０°より真に大きく、α_０未満、これより大きい、またはこれと等しくてもよく、ここでα_０は、ストリップ１の通過平面と鉛直との間の角度であり、角度αが大きくなると飛散の危険性が低下することがわかっている。

【0095】

一例として、外壁２８は、ストリップ１の通過平面と、α_０−１０°からα_０＋５０°、より具体的にはα_０からα_０＋４５°の角度αを形成する。

【0096】

他の全てが等しければ、外壁２８がストリップ１と、鉛直に対するストリップ１の通過平面の角度α_０より真に大きい角度αを形成するときに、飛散の危険性は最小になる。

【0097】

好ましくは、ストリップ１は、２５°から５０°の間の鉛直に対する角度α_０を形成する。一例として、ストリップ１は、３０°にほぼ等しい鉛直に対する角度α_０を形成する。

【0098】

有利には、注入区画２９の内壁２６は、その上部リム２７から区画２９の底部に向かって、２つのリム２１、２７の間の中間鉛直面Ｐから離れる方へ、角度づけられている。言い換えると、注入区画２９の内壁２６は、上部リム２７を通ってその上部リム２７から区画２９の底部に向かって鉛直面から離れるように、角度づけられている。これは、鉛直に対して、特に図４に示されるように、ゼロより真に大きい角度ε１を形成する。

【0099】

実際、本発明の発明者らは、このような傾斜が、内壁２６に全体的に沿って注入区画２９内の液体金属の流れを案内し、こうしてストリップ１上の飛散の危険性を低減することを可能にすることに、着目した。

【0100】

１５°以上の角度ε１の傾斜は、飛散の危険性を低減するのに特に有利である。一例として、角度ε１は２０°以上、より具体的には２５°以上である。

【0101】

反対に、内壁２６が本特許出願の図に示される傾斜とは反対に傾斜している、すなわち区画２９の底部に向かって前記中間鉛直面Ｐに接近しているとき、または内壁２６が鉛直であるとき、区画２９内に注がれている液体金属の一部は、注入区画２９内に包含された液体金属浴の中に実質的に鉛直に直接落下する危険性があり、これは液体金属がストリップ１上に飛散する危険性を増加させる。

【0102】

前部注入区画２５の外壁２２は、ストリップ１の通過平面と実質的に平行に配向されている。底部ローラ１５に面して配置されたストリップ１の面の側に位置する注入区画２５の場合、この配向は、ストリップ１上の飛散を回避することを可能にし、外壁２２は、区画２５内に注がれている液体金属の落ち込みの全体的な流れ方向に対して実質的に接線方向に延在している。

【0103】

有利には、注入区画２５の内壁２０は、図４により具体的に示されるように、その上部リム２１から区画２５の底部に向かって、先に定義された中間鉛直面Ｐから離れる方へ、角度づけられている。言い換えると、注入区画２５の内壁２６は、上部リム２１を通ってその上部リム２１から区画２５の底部に向かって鉛直面から離れるように、角度づけられている。これは、鉛直に対して、ゼロより真に大きい角度ε２を形成する。

【0104】

このような傾斜は、内壁２０に全体的に沿って注入区画２５内の液体金属の流れを案内し、こうしてストリップ１上の飛散の危険性を低減することを可能にする。１５°以上の角度ε２の傾斜は、飛散の危険性を低減するのに特に有利である。

【0105】

好ましくは、角度ε２は、装置１０の中を移動するときにストリップ１が内壁２０を擦らないようにするために、ストリップ１の通過平面と鉛直との間に形成された角度α_０より真に大きい。たとえば、角度ε２は、角度α_０より少なくとも３°大きい。一例として、ストリップ１が鉛直に対して約３０度の角度α_０を形成するとき、角度ε２は有利には約３５°である。このような角度は、内壁２０に沿った液体金属の良好な案内を提供することも可能にする。

【0106】

一実施形態によれば、角度ε１およびε２は同一である。これらはたとえば約３５°に等しい。

【0107】

注入区画２５、２９の内壁２０、２６および外壁２８は、全体的に実質的に平坦である。上述の傾斜値は、対象の壁の平均平面に対して定義される。

【0108】

角度α、ε１、およびε２は、コーティング装置の使用構成において定義される。

【0109】

図１、図３、および図４に示されるように、内壁２０および２６は、好ましくは、壁２０、２６に沿った流れを促進し、ストリップ１への飛散を回避するために、これらの上部リム２１、２７において先細になっている。

【0110】

一例として、注入区画２５および２９の内壁２０および２６の上部リム２１および２７は、縦方向に、一連の円弧状の空洞および突起を備える。

【0111】

ケーシング１３の下部分５７が注入箱４９に部分的に面して延在する、図１から図４に示される実施形態では、ケーシング１３の下部分５７の側壁５８は、一例として、外壁２８に面して位置するその部分の後部注入区画２９の前記外壁２８と平行である。したがって、この側壁５８は、上部分４５の側壁５１との角度をなし、上部分４５の側壁５１は金属ストリップ１の通過平面と実質的に平行に延在する。このような構成により、ケーシング１３の体積を制限することができる。

【0112】

有利には、注入区画２５の外壁２２と、前記外壁２２に面して位置するケーシング１３の内側部分５７の側壁５９とは、平行である。このような構成は、ケーシング１３の体積を制限するのにも貢献する。より具体的には、図１から図４に示される例では、前部注入区画２５の外壁２２は、ストリップ１の通過平面と実質的に平行に延在する。下部分５７の側壁５９は、上部分４５の側壁５３の延長部に延在し、ストリップ１の通過平面と実質的に平行に延在する。

【0113】

注入区画２５、２９の外壁２２、２８は、下部分５７の側壁５８、５９に対して横方向内向きに延在している。

【0114】

本発明による装置１０は、その面の各々にかなり低い欠陥密度を有するコーティングされた金属ストリップ１を得ることを可能にし、こうして得られたこのコーティングの外観品質は、外観欠陥のない表面を有する部品を求める顧客によって必要とされる基準に適している。

【0115】

実際には、ストリップ１の両側の２つの注入区画２５、２９の存在、およびこれらの区画２５、２９内の適切な液体金属レベルを維持するためのシステムのおかげで、液体シール表面１４は、連続的にストリップ１の両側から、そこに浮遊してコーティングに外観欠陥を生じる可能性がある酸化亜鉛およびマットが除去される。

【0116】

さらに、第１回転軸Ａ１の周りのケーシング１３および注入箱４９の全体としての枢動性、ならびに第２回転軸Ａ２の周りのケーシング１３に対する注入箱４９の枢動実装は、底部ローラ１５の位置または特性とは無関係に、特にこのローラ１５の特性または位置に変化がある場合に、ストリップ１の２つの面のコーティングの外観欠陥を最小限に抑えることを可能にする。

【0117】

実際、ケーシング１３を通るストリップ１の通過平面は、液体金属浴１２内の底部ローラ１５の位置、ならびに底部ローラ１５の直径によって、決定される。したがって、底部ローラ１５の各変化は、ケーシング１３内のストリップ１の通過線を変更し、したがってストリップ１に対する注入区画２５、２９を偏心させることができる。同様に、結果的にその直径を減少させる、装置１の動作中の底部ローラ１５の摩耗は、ケーシング１３内のストリップ１の通過線の変化、およびひいてはストリップ１に対する注入区画２５、２９の偏心によっても反映される。

【0118】

しかし、ストリップ１の通過線が２つの注入区画２５、２９の間に実質的にセンタリングされることが重要である。実際に、さもなければ、ストリップ１は、ケーシング１３の中を移動するときにこれらの区画２５、２９の内壁２０、２６に接触する危険性がある。

【0119】

第１回転軸Ａ１の周りのケーシング１３および注入区画４９の枢動は、底部ローラ１５の特性または位置に変化がある場合に、ストリップ１に対して注入区画２５、２９を再センタリングすることを可能にする。

【0120】

しかしながら、本発明の発明者らは、回転軸Ａ１の周りの回転によるこのようなセンタリングは、上部リム２１、２７の高度測定を変化させる欠点を有することに着目した。言い換えると、回転軸Ａ１の周りのケーシング１３の回転は、回転軸Ａ１の周りの区画２５、２９の上部リム２１、２７の回転を引き起こし、これらのリム２１、２７のうちの１つは、その後、他方よりも高い高度になる。しかし、制御されない高度の差は、液体シール表面１４から区画２５、２９内への注入流量の不均衡をもたらす危険性があるので、このような高度の差は制御されなければならない。一定のポンプ３０の流量では、このような流量の不均衡は、区画２５、２９のうちの１つのオーバーフローをもたらす危険性があり、すると前記区画２５、２９内に蓄積されたマットおよび酸化物はストリップ１と接触し、こうしてコーティングの品質を低下させる危険性がある。

【0121】

上述のような装置１０は、第２回転軸Ａ２の周りのケーシング１３に対する注入箱４９の枢動の可能性のおかげでこの欠点を解決することができ、このような枢動は、注入箱４９の水平度を再確立できるようにし、こうして区画２５、２９の各々への注入流量の再平衡化をもたらす。

【0122】

さらに、ケーシング１３および注入箱４９が２つの別個の部品として作られた場合、ケーシング１３および注入箱は、ストリップ１をセンタリングするために第１回転軸Ａ１の周りで回転式に固定されており、注入箱４９は、ケーシング１３に対して回転軸Ａ２の位置を正確に画定する軸受によって、ケーシング１３に対して回転軸Ａ２の周りで回転式に実装されており、一方では金属ストリップ１に対する注入箱４９のセンタリングを、他方では２つの注入区画２５、２９の間の流量の平衡化を、非常に正確に独立して実行することを可能にする。

【0123】

具体的には、第１の実施形態を考慮して示される機構ははるかに簡単であり、先の特許文献である国際公開第０２／３８８２３号および韓国特許第１０−１５３３２１２号明細書に記載された構造よりもはるかに正確かつ柔軟に、ストリップ１に対してケーシング１３を位置決めし、流量を平衡化することができる。

【0124】

本発明者らによって行われた実験は、第１および第２回転軸Ａ１およびＡ２の周りの、具体的には数度の小さな角運動は、コーティング装置１０の満足のいく調整を得るのに十分であることを示した。

【0125】

第１回転軸Ａ１の周りで必要とされる小さな角運動は、全体としてケーシング１３の実質的な角運動を許容しないが、コーティング装置１０が一般にクラッタ環境に配置される限りにおいては有利である。

【0126】

さらに、注入箱４９の回転に必要とされる小さな角運動は、注入箱４９の移動角距離を許容するのに十分なほど変形可能な封止ガスケット６０を、注入箱４９とケーシング１３との間に単純に設けることによって、注入箱４９とケーシング１３との間の良好な封止を維持しながら、再平衡化を許可することを可能にする。

【0127】

反対に、ケーシング１３の上部分に対する注入箱４９の別個の回転軸を含まない、国際公開第０２／３８８２３号および韓国特許第１０−１５３３２１２号明細書に記載される装置では、所望の調整を得るために、はるかに大きい運動が必要となる。

【0128】

本発明によるケーシング１３の上部分に対する注入箱４９の別個の回転軸Ａ２の実施は、国際公開第０２／３８８２３号および韓国特許第１０−１５３３２１２号明細書に記載された装置に対して調整スパンをさらに増加させる。実際、従来の装置では、可能な調整角度は、ストリップの位置およびシステムの制約に基づいて、単一の回転軸の周りのケーシングの最大可能な回転角によって制限される。

【0129】

ここで、第１の実施形態による装置１０を使用する金属ストリップ１の連続溶融浸漬コーティングの方法が説明される。

【0130】

この方法は、特に底部ローラ１５を交換した後に、コーティング装置１０を調整することを含む。

【0131】

金属ストリップ１に対する注入箱４９の位置を調整するステップの間、より具体的には金属ストリップ１に対して前記箱４９をセンタリングするステップの間、ケーシング１３は、注入区画２５、２９の上部リム２１、２７に対して金属ストリップ１をセンタリングするように、第１回転軸Ａ１の周りで回転させられる。

【0132】

有利には、このステップの間、視認工具４２を使用して金属ストリップ１に対する上部リム２１および２７の相対位置が検出され、ケーシング１３の運動は、こうして決定された位置に基づいて制御される。

【0133】

一実施形態によれば、ケーシング１３の回転運動は、視認工具４２を使用して決定された上部リム２１および２７ならびに金属ストリップ１のそれぞれの位置に基づいて、オペレータが第１アクチュエータ４１に作用することによって、制御される。オペレータは、人または機械的動作であってもよい。

【0134】

あるいは、ストリップ１に対する注入箱４９の位置決めは、視認工具４２を使用して決定された相対位置に基づいて第１アクチュエータ４１を制御するように構成された制御手段によって、自動的に行われる。

【0135】

調整ステップに続く、再平衡化ステップの間、注入箱４９は、注入箱４９を水平にするように、第２回転軸Ａ２の周りでケーシング１３の上部分４５に対して回転させられる。

【0136】

より具体的には、このステップの間、注入箱４９は、ケーシング１３の下部分５７に対して第２回転軸Ａ２の周りで回転させられる。

【0137】

一実施形態によれば、このステップの間、制御手段は、傾斜センサ７２によって得られた測定値に基づいて、注入箱４９の回転を制御する。

【0138】

あるいは、この回転は、傾斜センサ７２によって測定されるかまたはオペレータによって観察された傾斜に基づいて、オペレータが第２アクチュエータ７１に作用することによって制御される。

【0139】

この第２ステップの終わりに、ストリップ１は、上部リム２１、２７に対して実質的にセンタリングされ、これらのリム２１、２７は同じ水平面内に配置される。

【0140】

場合により、第２ステップの終わりに位置決めが満足のいくものでない場合、ストリップ１に対する上部リム２１、２７の満足のいく位置決めを得るために、必要なだけ頻繁に、センタリングステップは繰り返され、場合により再平衡化ステップも繰り返される。

【0141】

位置決めが満足のいくものか否かを検証するために、一方ではそのスクロール中にストリップ１が上部リム２１、２７に接触するか否か、他方では２つの注入区画２５、２９の間で注入流量がうまく平衡化されているか否かを検証するために、コーティング装置１０を稼働することが可能である。

【0142】

この段階でセンタリングまたは水平度の欠陥が観察された場合、装置１０は停止され、センタリングおよび再平衡化ステップが再び実行される。

【0143】

一実施形態によれば、上記の第１センタリングステップの前に、上部リム２１、２７の水平度を調整する機構を使用して、前記上部リム２１、２７の水平度が調整される。より具体的には、このステップの間、その水平度を調整するように回転軸Ａ２に作用する。

【0144】

一例として、このステップの間、液体金属浴１２の表面が、この調整を実行するための水平度基準として選択される。

【0145】

上部リム２１、２７の水平度の調整は、特に注入箱４９を交換した後に実行される。

【0146】

場合により、上記の第１センタリングステップの前に、ケーシング１３は、液体金属浴１２内の浸漬高さを調整するように、その軸に沿って並進させられる。このような調整は公知であり、本特許出願では詳細に記載されない。

【0147】

なお、本発明は、浸漬によるいずれの金属コーティングにも適用されることに留意されたい。

【0148】

ここで、図５および図６を参照して、第２の実施形態による装置１００が説明される。第１の実施形態に対する違いのみが説明される。図５および図６において、同一または類似の要素は、第１の実施形態で使用されたのと同一の参照番号が付されている。

【0149】

第２の実施形態による装置１００は、特に第２回転軸Ａ２の位置によって、装置１０と異なっている。

【0150】

先に説明されたように、第１の実施形態において、注入箱４９は、第２回転軸Ａ２の周りで回転式にケーシング１３の下部分５７に実装されていながら、ケーシング１３の下部分５７によって担持される。

【0151】

第２の実施形態による装置１００において、および図５に示されるように、注入箱４９は、ケーシング１３の下部分５７に対して固定している間、これによって担持される。ケーシング１３の下部分５７は、第２回転軸Ａ２の周りでケーシング１３の上部分４５に回転式に実装されている。このため、注入箱４９は、ケーシング１３の上部分４５に対して回転軸Ａ２の周りで回転可能である。

【0152】

より具体的には、この実施形態では、注入区画２５、２９の外壁２２、２８によって形成された注入箱４９の外壁は、ケーシング１３の下部分５７の側壁５８、５９によって形成されている。このため、注入箱４９は、この実施形態では、ケーシング１３の下部分５７に組み込まれている。

【0153】

図５および図６に示されるように、ケーシング１３の下部分５７は、ピボットリンクを介してケーシング１３の上部分４５に関節接合され、第２回転軸Ａ２の周りでケーシング１３の上部分４５に対する注入箱４９の回転を可能にする。

【0154】

図５に示されるように、回転軸Ａ２はケーシング１３の壁を通っている。

【0155】

この装置１００では、第２回転軸Ａ２は、液体金属浴１２の外側に位置している。具体的には、第２回転軸Ａ２は注入区画２５、２９の上方に位置している。

【0156】

具体的には、第２回転軸Ａ２と注入区画２５、２９の各リム２１、２７との間の距離ｄ１、ｄ２は、２５００ｍｍ以下である。この距離は有利なことに、８００ｍｍから１４００ｍｍの間である。

【0157】

より具体的には、装置１００は、回転軸Ａ２を画定する２つのシャフトセグメント１１０を含む。

【0158】

図５および図６に示される例において、第２回転軸Ａ２の周りの回転を可能にする関節は、ケーシング１３によって画定されたストリップ１の通路チャネルの外側に形成されている。具体的には、これはケーシング１３上に形成されている。

【0159】

この例では、ケーシング１３の上部分４５には、２つの上部関節アーム１０８が設けられている。これらの上部関節アーム１０８の各々は、その下端部において、シャフトセグメント１１０を受容し、前記シャフトセグメント１１０は、ケーシングの下部分５７に固定された下部関節アーム１０９を回転可能に受容する。

【0160】

関節アーム１０８、１０９は、より具体的には、シャフトセグメント１１０を介して回転可能に接続された関節ヨークの形態をとる。

【0161】

あるいは、回転軸Ａ２の周りで注入箱４９とケーシング１３の上部分４５との間にピボットリンクを作り出すその他いずれかの関節機構が考えられる。

【0162】

第２アクチュエータ７１は、ケーシング１３の上部分４５に対して第２回転軸Ａ２の周りで注入箱４９を回転させるように、ケーシング１３の下部分５７と上部分４５との間に配置された、作動ジャッキの形態をとる。第２アクチュエータ７１は、具体的にはスクリュージャッキである。しかしながら、これに代えて、第２アクチュエータ７１はいずれか他の適切なタイプであり、たとえば油圧または空気圧ジャッキを含む。

【0163】

第１の実施形態と同様に、装置１００は、水平に対する注入箱４９の傾斜角を測定するように構成された測定センサと、測定センサ７２によって測定された傾斜角に基づいて第２アクチュエータ７１を制御するように構成された、第２アクチュエータ７１を制御する手段と、をさらに含む。

【0164】

図示される例では、装置１００は、ケーシング１３の上部分４５の下端部と下部分５７の上端部との間に配置された、封止手段１０６をさらに含む。封止手段１０６は、空気が環境からケーシング１３に侵入するのを防止するように構成されている。これらはたとえば、ケーシング１３の上部分４５の下端部と下部分５７の上端部との間に延在するベローズを含む。

【0165】

このベローズはまた、ケーシング１３の上部分４５に対する下部分５７の相対運動を許容する補償の役割も果たす。

【0166】

装置１００は、区画２５、２９の内壁２０、２６の上部リム２１、２７の水平度を調整するための機構１２０をさらに含む。

【0167】

このような機構１２０の一例が、図６により具体的に示されている。この例では、機構１２０は、上部リム２１、２７の端部の各々の側に、前記端部の高さを調整するように構成された少なくとも１つの調整ネジ１２２を含む。より具体的には、各調整ネジ１２２は、ケーシング１３の下部分５７の対応する部品に作用するように構成されている。

【0168】

図６に示される例では、調整ネジ１２２は、ケーシング１３の上部分４５上の下部分５７の関節機構の下部関節アーム１０９に設けられている。これらは、ネジの締め付けまたは緩めが、下部関節アーム１０９に対する下部分５７の対応する部分の垂直運動をもたらし、こうして上部リム２１、２７の対応する端部の高さの調整を間接的にもたらすように、配置されている。この例では、下部関節アーム１０９は、下部関節アーム１０９の楕円形のオリフィスを通る固定ネジ１１１を介して下部分５７に固定され、こうして下部関節アーム１０９に対して下部分５７の位置を調整できるようにする。

【0169】

この実施形態では、下部分５７は、上部セグメント、および上部セグメントに締結された下部セグメントを含む。上部セグメントは、液体金属浴１２内に浸漬されるよう意図されるものではない。下部セグメントは、液体金属浴１２内に少なくとも部分的に浸漬されるよう意図されている。下部セグメントは、具体的には溶接によって上部セグメントに取り付けられている。注入区画２５、２９の外壁２２、２８は、前記下部分５７の下部セグメントの側壁によって形成されている。

【0170】

図５に示されるように、ポンプ３０は液体金属浴１２内に部分的に浸漬されている。これは、ケーシング１３の下部分５７に締結されたシャーシ７５を介して注入箱４９に対して回転式に固定されている。吸引チューブ３１、３２は、ポンプ３０と注入箱４９との間にしっかりと締結されている。このため、ポンプ３０および吸引チューブ３１、３２は、装置１００のフレーム４０に対して第１回転軸Ａ１の周りで、およびケーシング１３の上部分４５に対して第２回転軸Ａ２の周りで、注入箱４９とともに回転可能である。

【0171】

図５に示される実施形態では、区画２５、２９の内壁２０、２６および外壁２２、２８の配向は、第１の実施形態を考慮して記載されたものと類似であり、同じ利点を生じる。

【0172】

第２の実施形態による装置１００は、第１の実施形態による装置１０によって提供される利点のほとんどを有する。

【0173】

さらに、この実施形態では、注入箱４９と液体金属浴内への主要な降下４５との間に封止を提供する必要性を回避するので、液体金属浴１２の外側の第２回転軸Ａ２の位置は有利である。

【0174】

逆に、この実施形態では、第２回転軸Ａ２の位置を考慮して、第２回転軸Ａ２と注入区画２５、２９のリム２１、２７との間の距離は、第１の実施形態でのこの距離よりも大きく、機器１００の全体的な体積を増加させる危険性がある。

【0175】

第２の実施形態による装置１００を調整する方法は、第１の実施形態による装置１０を調整する方法と類似である。しかしながら、流量を再平衡化するステップの間、より具体的には、その注入箱４９が設けられたケーシング１３の下部分５７は、ケーシング１３の上部分４５に対して第２回転軸Ａ２の周りで回転させられることに留意されたい。

【0176】

有利には、装置１００を調整する方法は、調整機構１２０を介して上部リム２１、２７の水平度を調整するステップを、さらに含む。具体的には、このステップは、リム２１、２７の水平度を再確立するように、リム２１、２７の観察された水平度の不具合に基づく調整ネジ１２２の締め付けまたは緩めを含む。

【0177】

この調整は、具体的には、水平度基準として液体金属浴１２の表面を使用することによって行われる。

【0178】

これは、人または機械的動作であってもよいオペレータによって行われる。

【0179】

上部リム２１、２７の水平度の調整は、特にその注入箱４９に設けられたケーシング１３の下部分５７を交換した後に実行される。

【0180】

水平度を調整するステップの終わりには、上部リム２１、２７の各々は水平に延在する。

【0181】

なお、図１から図６を考慮して上記で説明された本発明は、２つの態様、すなわち、一方では、第１回転軸Ａ１の周りのケーシング１３および注入箱４９の枢動性、ならびに第２回転軸Ａ２の周りのケーシング１３の上部分４５に対する注入箱４９の回転可能な実装、さらにその結果としての装置１０、１００の調整に関する特性を有し、他方では、注入区画２５、２９の特定の形状を有することに、留意されたい。

【0182】

先に説明されたように、第１の態様に関する特性は、ケーシング１３内でストリップ１をセンタリングし、２つの区画内の注入流量を簡単、柔軟、かつ正確に平衡化することを可能にし、これにより、その面の各々のコーティングの優れた外観品質をもたらす。

【0183】

さらに、第２の態様に関連する特性、具体的には区画２９の外壁２８の配向は、ストリップ１上の液体金属の飛散の危険性を低減することを可能にし、これにより、やはりストリップの２つの面、具体的には底部ローラ１５の反対側に配向されたストリップの面のコーティングの外観品質を改善するのに貢献する。

【0184】

図１から図６を考慮して組み合わせて説明されたが、第１の態様は、第２の態様と独立して実施されてもよく、第１の態様は、単独で考えてもコーティングの品質の著しい改善に既に貢献している。

【0185】

一緒に実施されると、本発明の２つの態様は、これらの態様のうちの１つのみが実施されたときよりも、その面の各々におけるストリップのコーティングのさらに良好な外観品質をもたらす。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】