特許第6966078号(P6966078)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】6966078
(24)【登録日】2021年10月25日
(45)【発行日】2021年11月10日
(54)【発明の名称】足用矯正具
(51)【国際特許分類】
   A43B 7/14 20060101AFI20211028BHJP
   A43B 3/12 20060101ALI20211028BHJP
   A43B 13/14 20060101ALI20211028BHJP
   A43B 17/00 20060101ALI20211028BHJP
   A61F 5/14 20060101ALI20211028BHJP
   A61H 3/00 20060101ALI20211028BHJP
【FI】
   A43B7/14 B
   A43B7/14 A
   A43B3/12 B
   A43B13/14 B
   A43B17/00 E
   A61F5/14
   A61H3/00 B
【請求項の数】4
【全頁数】12
(21)【出願番号】特願2018-191406(P2018-191406)
(22)【出願日】2018年10月10日
(65)【公開番号】特開2020-58555(P2020-58555A)
(43)【公開日】2020年4月16日
【審査請求日】2020年7月31日
(73)【特許権者】
【識別番号】515206296
【氏名又は名称】株式会社YURUKU
(74)【代理人】
【識別番号】100164013
【弁理士】
【氏名又は名称】佐原 隆一
(72)【発明者】
【氏名】安井 典子
【審査官】 田村 惠里加
(56)【参考文献】
【文献】 特開2010−017514(JP,A)
【文献】 米国特許出願公開第2006/0107552(US,A1)
【文献】 特開2018−110677(JP,A)
【文献】 特開昭64−083201(JP,A)
【文献】 登録実用新案第3063360(JP,U)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
A43B 3/10,3/12,7/14,13/14,17/00
A61F 5/14
A61H 3/00
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
履物の中底又は履物に挿入するインソールとして使用する足用矯正具であって、
母趾球を押圧するように突出した第1の突出部と、
小趾球を押圧するように突出した第2の突出部と、
前記第1の突出部と前記第2の突出部とが配設されたベース部とを有し、
前記ベース部は、前記第1の突出部と前記第2の突出部とが配設されたつま先側領域部と、踵側領域部と、前記つま先側領域部と踵側領域部とを接続する境界領域部とが設けられており、前記つま先側領域部は前記踵側領域部よりも厚く形成されており、前記境界領域部は前記つま先側領域部と前記踵側領域部との厚みの差を吸収するための段差部からなり、前記第1の突出部が前記母趾球を押圧し、前記第2の突出部が前記小趾球を押圧し、つま先側を踵側より高くして持ち上げる歩行ができることを特徴とする足用矯正具。
【請求項2】
前記第1の突出部は少なくとも前記母趾球よりも小さな形状であり、前記第2の突出部は少なくとも前記小趾球よりも小さな形状であることを特徴とする請求項1に記載の足用矯正具。
【請求項3】
前記踵側領域部の厚みは、前記つま先側領域部の厚みの1/3以上、1/2以下としたことを特徴とする請求項1又は2に記載の足用矯正具。
【請求項4】
前記段差部は、足が当接する面とは反対側の面に設けられていることを特徴とする請求項1から3までのいずれか1項に記載の足用矯正具。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、履物の中底として、又は中底部に配置して足裏部を刺激するための足用矯正具に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、靴やハイヒールを一日中履いているために、足や歩行に起因する様々な不調を訴える人が増加しており、足用矯正具としてのインソールや矯正機能を備えた履物が注目されている。
【0003】
ヒトは二足歩行をするようになり、2本の足で全身の体重を支え、身体を前方や横方向等に自由に移動させることができる。この移動時には大きな衝撃が生じるが、その衝撃を足で吸収する構造も有している。この衝撃吸収能力などの機能が低下すれば、運動能力が低下するばかりではなく、膝、股関節、腰椎などを傷めてしまうことにもなる。
【0004】
近年、ヒトは靴を一日中履き続けることが多くなったことにより足機能が低下してきている。この機能の低下を回復又は補うためにインソールなどの足用矯正具が多く用いられるようになっている。
【0005】
例えば、特許文献1に記載の考案は、本底、中底、中敷きおよび甲皮とからなり、本底と中底との間に上げ底を介在させ、中敷きと中底との間に、甲皮の端部を挟み込み取り付けてなるストレッチ履きものが開示されている(特許文献1参照)。このストレッチ履物は、母趾の基節骨から中足趾節間関節が位置する足裏が接する部分から土踏まずまでを同一の厚肉とし、土踏まずから踵が接する部分に向けて肉厚を次第に薄くした構成とされている。このような構成とすることにより、ストレッチの効果が得られる。さらに、面ファスナーにより足の締め付けが過不足なく確保されるとともに、中敷きの後端に滑り止めを設けているのでストレッチ中に足が後方に滑るのを防止でき、より効率的にストレッチ効果を得ることができるとしている。
【0006】
また、特許文献2に記載の発明の靴の中敷は、所定厚みを備えると共に所定箇所に一定の段差を形成したベース部に、所定の突起部を形成して構成したものである。そして、ベース部が踵底面全体と対応する踵面部と、土踏まず部分が大きく抉れた細幅面部と、基節骨と対応する先面部とを備えた外形状で、細幅面部の内側から先面部後縁に至る内縁段差、及び先面部前縁に先端段差を形成し、突起部を、ベース部周縁における踵部の尾端、内外側、及び先部の内外側に設けた構成が開示されている(特許文献2参照)。この中敷きを用いることにより、筋に対する筋共収縮作用が発揮される箇所の押圧刺激によって、足趾足根筋は筋の活性化(筋力アップ)がなされ、自然な歩行運動によって筋により連結された足趾足根骨群は本来の位置に整うようになるため、姿勢(立位姿勢)、動体姿勢が安定することができるとしている。
【0007】
さらに、特許文献3に記載の発明は、足底の第1〜第5中足骨頭から足趾尖までの関節部位及び踵部位のうちの少なくとも一箇所に対応する部分に、高さが0.5mm以上1.5mm以下の少なくとも一つの突出部を設けた足底感覚刺激装置が開示されている(特許文献3参照)。突出部により足底感覚を刺激することでバランス能力の衰えを改善することができるので高齢者などの転倒予防を行うことができるとしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0008】
【特許文献1】実用新案登録第3107368号
【特許文献2】特開2018−110677号公報
【特許文献3】特開2017−205510号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0009】
特許文献1に記載された発明は、家庭内や作業所内で使用して足のストレッチを促すものであるが、外出時や作業所内などで使用する場合に脱げやすいため、転倒する可能性が高く、安全面での問題がある。
【0010】
また、特許文献2に記載された発明は、筋共収縮作用が生じるような押圧刺激により、自然な歩行運動ができるようになることを促すものである。この発明では、つま先側の両側に突起が設けられているが、母趾球や小趾球との位置関係は記載されておらず、また母趾球や小趾球の直下に設けて、母趾球や小趾球のみを押圧することで矯正機能を働かせることについては記載も示唆もない。
【0011】
さらに、特許文献3に記載された発明もつま先側に突出部が設けられているが、その配置位置は、例えば第1基節骨と第1末節骨との間接部位に設けられている。そして、このような複数の突出部を設けることにより足底感覚を刺激してバランス能力の衰えを改善して特に高齢者の転倒予防を目的としており、高齢者以外の若い人や女性あるいは運動を行っている人などの矯正具としては十分な配慮がなされていない。
【0012】
本発明は、上記従来技術の課題を解決するものであり、靴やハイヒールを履く現代人に生じやすい偏平足や立位バランスの乱れを予防して健康な足機能を得るための足用矯正具を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0013】
上記従来の課題を解決するために、本発明の足用矯正具は、履物の中底又は履物に挿入して使用するものであって、母趾球を押圧するように突出した第1の突出部と、小趾球を押圧するように突出した第2の突出部と、この第1の突出部と第2の突出部とが配設されたベース部とを有している。そして、ベース部は、第1の突出部と第2の突出部とが配設されたつま先側領域部と、踵側領域部と、つま先側領域部と踵側領域部とを接続する境界領域部とが設けられている。つま先側領域部は踵側領域部よりも厚く形成されており、境界領域部はつま先側領域部と踵側領域部との厚みの差を吸収するための段差部からなることを特徴とする。
【0014】
これにより、歩行時に足用矯正具の第1の突出部が母趾球を押圧し、第2の突出部が小趾球を押圧して足裏のアーチを適正に保持するので、アーチ崩れにより生じる歩行困難を解消することができる。
【0015】
また、第1の突出部は少なくとも母趾球よりも小さな形状であり、第2の突出部は少なくとも小趾球よりも小さな形状であるようにしてもよい。このような形状とすることにより、第1の突出部と第2の突出部とは、それぞれ母趾球と小趾球のみを押圧し、足趾は押圧されないので、歩行時に自然に足趾が地面に下りるようになり、健全な歩行運動を促すことができる。
【0016】
さらに、踵側領域部の厚みは、つま先側領域部の厚みの1/3以上、1/2以下とすることが好ましい。履物の中底又は履物に挿入するインソールにおいては、つま先側領域部をあまり厚くすることは履物のデザイン面から好ましくない。一方、踵側領域部の厚みをあまり薄くするとインソールの強度が弱くなり好ましくない。このため、つま先側領域部の厚みを靴のデザインなどから規定した場合、踵側領域部の厚みはつま先側領域部の厚みの1/3以上、1/2以下の範囲が、矯正機能効果を得るためと強度確保の観点から適正な範囲である。
【0017】
また、段差部は、足が当接する面とは反対側の面に設けられているようにしてもよい。このような段差部を設けることにより、足用矯正具をインソールとして用いる場合に曲げやすくなるので履物の中底に密着させやすい。
【発明の効果】
【0018】
本発明の足用矯正具は、母趾球と小趾球のみを確実に押圧することにより、足のアーチ崩れによる歩行困難の改善を促すことができる。さらに、母趾球と小趾球とがもちあげられると、それに反して足趾は下りるので浮き趾の防止になる。また、足関節を底屈させる筋肉の緊張をやわらげることができるので、足の歪と立位姿勢、さらに歩行姿勢が改善されるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【0019】
図1】実施形態1に係る足用矯正具の平面図。
図2】実施形態1に係る足用矯正具の構造を説明するための図で、(a)は右足矯正具の平面図、(b)はA−A線に沿った断面方向から見た図、(c)はB−B線に沿った断面方向から見た図。
図3】実施形態1に係る足用矯正具の実施例を示す図で、第1の突出部と第2の突出部の形状寸法例を示す図。
図4】実施形態1に係る足用矯正具の実施例を示す図で、右足矯正具の第1の突出部と第2の突出部の配置位置の寸法例を示す図。
図5】実施形態2に係る足用矯正具を説明する図で、(a)は履物としてのサンダルに応用した場合の右足側の斜視図、(b)は(a)に示すサンダルを一部切り欠き、第1の突出部を含む切断面から見た図。
図6】ヒトの右足の骨格を示した図。
図7】左足の足裏から見た模式図。
【発明を実施するための形態】
【0020】
最初に、本発明において使用する用語について、一般の医学用語資料を基に説明する。図6は、ヒトの右足の骨格を示した図である。足骨は、足の骨格となる骨をいい、足根の部分にある足根骨、足のひら(中足)を構成している中足骨、足趾の軸となる趾骨の3つに区分される。
【0021】
足根骨は、脛骨100に近い側にある距骨102と踵骨103、さらに少し離れた側にある舟状骨104、立方骨105、楔状骨106からなる。踵骨103は踵を作り、太くて短く直方体形状であり、足根骨中では最も大きい。踵骨103の後端部にはアキレス腱がつく。踵骨103の上部には距骨102があり、距骨102と下腿の脛骨100と腓骨(図示せず)とが足関節をつくる。距骨102の前方内側に舟形の舟状骨104、その前方に楔状骨106がある。楔状骨106は内側106a、中間106b、外側106cの3個からなる。立方骨105は距骨102の前方外側で、楔状骨106の横に並ぶ。
【0022】
中足骨は足趾の数と同じ5個あり、細長く、それぞれの足趾に続いている。母趾に続く第1中足骨108から、第5趾に続く第5中足骨109までの5個がある。
【0023】
趾骨は、母趾では第1基節骨110と第1末節骨111の2個(2節)から構成され、他趾ではすべて3個(3節)から構成される。例えば第5趾では、第5基節骨112、第5中節骨113と第5末節骨114とにより構成される。
【0024】
図7は、左足の足裏から見た模式図である。母趾球117は、母趾115の付け根にある膨らみからなる。又、小趾球118は、第5小趾116の付け根付近に存在する盛り上がった場所をいう。母趾球117の膨らみの内部には、種子骨107が通常2つあり、衝撃を吸収する働きをしている(図6参照)。走行時や走るとき、あるいはジャンプをするときなどにおいて、体重が乗り、地面を蹴る部分である。
【0025】
そして、母趾球117と小趾球118とを結ぶように横アーチ119があり、また足の外側を結ぶ外側縦アーチ121、及び、母趾球117と踵(踵骨103)を結ぶ内側縦アーチ120という3つのアーチがある。これら3つのアーチが機能して初めて、足裏の小さな面積で大きな体を支えることができる。土踏まずとよんでいるのは、この3つのアーチの中で一番大きな内側縦アーチ120のことである。
【0026】
例えば、踵が地面に着地する際の足裏の機構は次のようである。足に体重がかかると、土踏まずを構成している三角形の底辺である足底腱膜がゴムのように伸び、上辺を支える二つの骨が沈んで柔らかい脚になり、着地する衝撃を吸収しつつ、体重を分散する。一方、踵が地面から離れる際に働く機構としては、踵が離れ、母趾が持ち上がる瞬間、足底腱膜が引っ張られて足のアーチが収縮しコンパクトになる。それにより足裏のアーチが高くなって、足裏が少し硬くなり、地面を効率的にしっかり蹴ることができる。このような複雑な機構により、ヒトは滑らかで敏捷な動きをすることができる。
しかしながら、靴を日常的に履き続けることにより、足本来の構造が変形し、例えば偏平足になったりすることが多く発生している。
【0027】
[実施形態1]
以下、本発明の実施の形態に係る足用矯正具について図面を参照しながら詳細に説明する。
【0028】
図1は、本発明の実施形態1に係る足用矯正具の平面図である。図2は、本実施形態1に係る足用矯正具の構造を説明するための図で、(a)は右足矯正具1の平面図、(b)はA−A線に沿った断面方向から見た図、(c)はB−B線に沿った断面方向から見た図である。
以下、これらの図面を用いて本実施形態1に係る足用矯正具について詳細に説明する。
【0029】
図1および図2において、足用矯正具は右足矯正具1と左足矯正具2との一対から構成される。右足矯正具1と左足矯正具2には、それぞれ母趾球に対応する位置に、母趾球を押圧するように突出した第1の突出部5、6と、小趾球を押圧するように突出した第2の突出部7、8とが設けられており、第1の突出部と第2の突出部とが配設されたベース部3、4とを有している。
【0030】
ベース部3、4は、第1の突出部5、6と第2の突出部7、8とが配設されたつま先側領域部Wと、踵側領域部Xと、つま先側領域部Wと踵側領域部Xとを接続する境界領域部Yとが設けられている。つま先側領域部Wは踵側領域部Xよりも厚く形成されており、境界領域部Yはつま先側領域部Wと踵側領域部Xとの厚みの差を吸収するための段差部からなる。
【0031】
また、本実施形態では、境界領域部Yに設けた段差部は足が当接する面とは反対側の面に設けてあり、さらに踵側領域部Xの厚みは、つま先側領域部Wの厚みの1/2としている。
【0032】
このような構成からなる本実施の形態の足用矯正具は、第1の突出部5、6がそれぞれの母趾球を押圧し、第2の突出部7、8がそれぞれの小趾球を押圧して、立位姿勢および歩行時にそれぞれを起こすように機能する。これにより、距骨が内側又は外側に傾くことを防ぐことができる。この結果、姿勢改善、歩行改善や足のトラブルに伴い発生する種々の障害の予防あるいは解消につながる。
【0033】
また、第1の突出部5、6と第2の突出部7、8とにより、それぞれの母趾球と小趾球を押圧して持ち上げると、アーチの崩れによる歩行困難をやわらげ、母趾球から小趾球の間にタコや魚の目が生じていても、その痛みを軽減できる。さらに、それぞれの母趾球と小趾球のみを押圧するので、足趾は自由になり歩行動作において自然に足趾がおり、地面をしっかりつかむことができる。
【0034】
また、第1の突出部4、5は少なくとも母趾球よりも小さな形状であり、第2の突出部6、7は少なくとも小趾球よりも小さな形状としているので、それぞれの母趾球と小趾球のみが押圧され、足趾は押圧されることがない。したがって、歩行時に自然に足趾が地面に下りるようになり、健全な歩行運動を促進できる。
また、つま先側を高くして持ち上げると、骨盤が後方に、半身は前方に、頭部は後方に向くようになるので全身の姿勢が良好になる。
【0035】
さらに、母趾球、小趾球及びつま先を持ちあげると、足関節を底屈させる長母趾屈筋、長趾屈筋、後脛骨筋、腓骨筋、ヒラメ筋、腓腹筋や足底筋の緊張をやわらげることができ、足関節の可動域の拡大、足底筋膜と膝関節の過伸展防止、浮趾予防や足裏アーチを改善できる。
【0036】
図3は、実施形態1に係る足用矯正具の実施例を示す図で、第1の突出部と第2の突出部の形状寸法例を示す図である。図4は、同実施例における右足矯正具の第1の突出部と第2の突出部の配置位置の寸法例を示す図である。
【0037】
本実施例では、第1の突出部5、6と第2の突出部7、8の足長方向と横幅方向の長さを、それぞれ40mm、25mmおよび35mm、25mmとしている。そして、第2の突出部5、6の足長方向の先端部からつま先側領域部Wのつま先先端部までの距離を70mmとし、第1の突出部5、6の足長方向の先端部から第2の突出部7、8の足長方向の先端部との距離を18mmに設定している。さらに、境界領域の長さは20mmである。また、第1の突出部5、6と第2の突出部7、8の突出高さはベース部3、4の表面から5mmとしている。
このような形状寸法に設定することにより、実施形態1で説明した歩行改善効果が確認できた。
【0038】
なお、図3および図4に示す実施例は特定の人を対象とした場合であり、本発明はこの数値に限定されるものではない。人は身長や体重が異なるように、足も種々の大きさや形状を有しており、個人ごとに異なっている。特に偏平足を矯正する場合などは、足裏の形状は一般人とは相当異なる。したがって、本実施形態1に係る足用矯正具は、個々人の足裏形状を計測して、母趾球と小趾球の位置、足幅、足長、足の甲までの高さなどを把握したうえで、それに合わせて製作することが好ましい。
【0039】
ただし、履物として一般的に規定されているサイズに基づいて標準化した寸法の足用矯正具を複数種類製作して、ユーザーに提供することも可能である。ユーザーが複数種類の足用矯正具を試用してみて一番合うものを使うようにすることでもよい。
【0040】
本実施例に係る足用矯正具について、右足矯正具1および左足矯正具2は第1の突出部5、6と第2の突出部7、8とを、例えば合成ゴム、合成樹脂、天然樹脂、天然繊維、合成繊維、磁石などを加工して用いることができる。この場合、例えば合成ゴムと合成樹脂とを混合した複合材料を用いてもよい。右足矯正具1および左足矯正具2のベース部3、4についても、上記と同じ材料を用いて成型加工してもよい。また、踵側領域部Xと同じ厚みでつま先側領域部Wまでの大きさ形状を作り、その後つま先側領域部Wのみにさらに樹脂シート等を貼り付けて厚くするとともに、境界領域Yの段差部を形成するようにしてもよい。この場合において、材料としては一般にインソールや靴底として用いられている合成樹脂、天然樹脂、合成繊維、天然繊維や合成ゴムの単独あるいはこれらの混合材料を用いてもよい。
【0041】
さらに、ベース部3、4を複数の材料を用いた積層構成とし、第1の突出部5、6と第2の突出部7、8とを、この積層構成の中に埋め込むように形成してもよい。
【0042】
なお、履きやすいようにするために弾力性を有する材料を貼り付けて用いることもでき、これらの製造工程や用いる材料などについては特に限定されるものではない。
【0043】
さらに、履物や履物に挿入するインソールにおいて、つま先側領域部Wをあまり厚くすることはデザイン面からも好ましくない。一方、踵側領域部Xの厚みをあまり薄くすると強度が弱くなり好ましくない。このため、つま先側領域部Wの厚みを靴のデザインなどから規定した場合、踵側領域部Xの厚みはつま先側領域部の厚みの1/3以上、1/2以下の範囲が、矯正機能を確保する観点と強度を確保する観点から適正な範囲である。例えば、本実施の形態に係る足用矯正具の実施例においては、つま先側領域部Wの厚みを10mmとした場合、踵側領域部Xの厚みを5mmとしている。5mmよりも薄いと、弾性力が低下するとともに強度を十分確保できないからである。一方、5mmよりも厚くすると、つま先側領域部Wとの厚みの差が少なくなるために足関節を底屈させる筋肉の緊張を和らげる効果が少なくなるからである。
また、つま先側領域部Wの厚みを例えば15mmとした場合、踵側領域部Xの厚みの適正値は5mm〜7.5mmの範囲とすることができる。
【0044】
なお、本発明は上記実施の形態に係る足用矯正具の構成に限定されるものではない。母趾球と小趾球を確実に押圧するように第1の突出部と第2の突出部とが設けられ、つま先側領域部が踵側領域部よりも厚く形成され、その境界領域部が段差部からなればよく、例えば土踏まずの領域部をさらにえぐるような形状としてもよい。
【0045】
[実施形態2]
図5は、本発明の実施の形態に係る足用矯正具を説明する図で、(a)は履物としてのサンダルに応用した場合の右足側の斜視図、(b)は(a)に示すサンダルを一部切り欠き、第1の突出部を含む切断面から見た図である。
【0046】
以下、図5を参照しながら実施の形態2に係るサンダルについて詳細に説明する。なお、図5はサンダルの右足側のみを示しているが、左足側は対称であるので、以下は右足側のみで説明する。
【0047】
本実施の形態に係る足用矯正具は、履物の中底として使用するものである。履物としてのサンダル10は、本底11、第1の中底12、第2の中底15、アッパー13およびストラップ14により構成されている。
【0048】
そして、足用矯正具として機能する第2の中底15は、母趾球を押圧するように突出した第1の突出部19と、小趾球を押圧するように突出した第2の突出部21と、この第1の突出部19と第2の突出部21とが配設されたベース部17とを有している。そして、ベース部17は、第1の突出部19と第2の突出部21とが配設されたつま先側領域部Wと、踵側領域部Xと、つま先側領域部Wと踵側領域部Xとを接続する境界領域部Yとが設けられており、つま先側領域部Wは踵側領域部Xよりも厚く形成されており、境界領域部Yはつま先側領域部Wと踵側領域部Xとの厚みの差を吸収するための段差部からなる。
【0049】
本実施の形態に係るサンダルの第2の中底15においては、境界領域部Yの段差部は、つま先側領域部Wの表面の端部から踵側領域部Xにかけて傾斜するようにし、低面側はつま先側領域部Wと踵側領域部Xにかけて同一面としている。これにより、第1の中底と密着させることができるのでサンダルの製造が容易となる。
【0050】
このような構成からなる本実施の形態の足用矯正具を有するサンダルは、第1の突出部19が母趾球を押圧し、第2の突出部21が小趾球を押圧して、立位姿勢および歩行時に起こすように機能する。これにより、距骨が内側又は外側に傾くことを防ぐことができる。この結果、姿勢改善、歩行改善や足のトラブルに伴い発生する種々の障害の予防あるいは解消につながる。
【0051】
また、第1の突出部19と第2の突出部21とにより、母趾球と小趾球を押圧して持ち上げると、アーチの崩れによる歩行困難をやわらげ、母趾球から小趾球の間にタコや魚の目が生じていても、その痛みを軽減できる。さらに、母趾球と小趾球のみを押圧するので、足趾は自由になり歩行動作において自然に足趾がおり、地面をしっかりつかむことができる。
【0052】
また、第1の突出部19は少なくとも母趾球よりも小さな形状であり、第2の突出部21は少なくとも小趾球よりも小さな形状としているので、それぞれの母趾球と小趾球のみが押圧され、足趾は押圧されることがない。したがって、歩行時に自然に足趾が地面に下りるようになり、健全な歩行運動を促進できる。
また、つま先側を高くして持ち上げると、骨盤が後方に、半身は前方に、頭部は後方に向くようになるので全身の姿勢が良好になる。
【0053】
さらに、母趾球、小趾球及びつま先を持ちあげると、足関節を底屈させる長母趾屈筋、長趾屈筋、後脛骨筋、腓骨筋、ヒラメ筋、腓腹筋や足底筋の緊張をやわらげることができ、足関節の可動域の拡大、足底筋膜と膝関節の過伸展防止、浮趾予防や足裏アーチを改善できる。
【0054】
本実施の形態に係るサンダルにおいて、足用矯正具として機能する第2の中底15については、第1の突出部19と第2の突出部21とを、例えば合成ゴム、合成樹脂、天然樹脂、天然繊維、合成繊維、磁石などを加工して用いることができる。この場合、例えば合成ゴムと合成樹脂とを混合した複合材料を用いてもよい。ベース部17についても、上記と同じ材料を用いて成型加工してもよい。また、踵側領域部Xと同じ厚みでつま先側領域部Wまでの大きさの形状を作り、その後つま先側領域部Wのみにさらに樹脂シート等を貼り付けて厚くするとともに、境界領域Yの段差部を形成するようにしてもよい。この場合において、材料としては一般にインソールや靴底として用いられている合成樹脂、天然樹脂、合成繊維、天然繊維や合成ゴムの単独あるいはこれらの混合材料を用いてもよい。さらに、ベース部17を複数の材料を用いた積層構成とし、第1の突出部19と第2の突出部21とを、この積層構成の中に埋め込むように形成してもよい。そして、第2の中底15を完成させた後に、第1の中底の上に接着剤等で接着固定してもよい。
【0055】
なお、履きやすいようにするために弾力性を有する材料を貼り付けて用いることもでき、これらの製造工程や用いる材料などについては特に限定されるものではない。
【0056】
さらに、本実施の形態に係るサンダルにおいては、第1の中底12と足用矯正具として機能する第2の中底15とを一体的に成形加工してもよい。ベース部17の材質と第1の中底12の材質とを同一材料を用いることができる場合には一体的に成形加工してもよく、その製造方法については特に制約はない。
【産業上の利用可能性】
【0057】
本発明の足用矯正具は、偏平足に代表されるような足に障害を有する人だけでなく、健常者も予防面で効果があり、インソールなどの履物の分野に有用である。
【符号の説明】
【0058】
1 右足矯正具
2 左足矯正具
3、4、17 ベース部
5、6、19 第1の突出部
7、8、21 第2の突出部
10 サンダル(履物)
11 本底
12 第1の中底
13 アッパー
14 ストラップ
15 第2の中底
100 脛骨
100a 内果
102 距骨
103 踵骨
103a 載距突起
104 舟状骨
105 立方骨
106 楔状骨
106a 内側
106b 中間
106c 外側
107 種子骨
108 第1中足骨
109 第5中足骨
110 第1基節骨
111 第1末節骨
112 第5基節骨
113 第5中節骨
114 第5末節骨
115 母趾
116 第5小趾
117 母趾球
118 小趾球
119 横アーチ
120 内側縦アーチ
121 外側縦アーチ


図1
図2
図3
図4
図5
図6
図7