特許6970336IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

光源装置に関し、特に半導体レーザを備える光源装置

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

特許文献1に記載の光源装置では、接合作業時に、溶融した金属接合材が拡散するのを防ぐため、金属接合材に隣接してバリア層が設けられている。しかし、このバリア層は、スペーサの下面の中央領域にのみに設けられ、スペーサの反射面の下端部には設けられていない。よって、仮に、溶融した金属接合材がスペーサの反射面の下端部にまで達した場合、溶融した金属接合材が反射面上を這い上がったり、スペーサの傾斜面に反射膜が設けられている場合には、溶融した金属接合材が、傾斜面及び反射膜の間に入り込んで濡れ広がる虞がある。その場合には、反射面の機能を阻害することになる。 本発明は、問題に鑑みてなされたものであり、半導体レーザが載置された基板の上面に対して傾斜した反射面を備えた光源装置であって、高い反射率の反射面を備える光源装置を提供することを目的とする。 課題を解決するために、本発明の一態様に係る光源装置は、
基板と、
前記基板の上面に載置された半導体レーザと、
前記基板の上面に対向する下面、及び該下面と下端部で繋がり前記基板の上面に対して傾斜した傾斜面を有する側壁部と、
前記傾斜面に形成され、前記半導体レーザから出射された光を反射する反射面を構成する反射膜と、
前記基板の上面及び前記側壁部の下面の間に配置され、溶融接合で前記基板及び前記側壁部を接合する金属接合材と、
前記側壁部の下面及び前記反射面に連続して形成されたバリア層と、
を備える。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

【発明の効果】
の態様によれば、半導体レーザが載置された基板の上面に対して傾斜した反射面を備えた光源装置であって、高い反射率の反射面を備える光源装置を提供することができる。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】本発明の1つの光源装置の概要を示す模式的な側面断面図である。

【図2】図1のII−II矢視図(平面図)である。

【図3】図1のAで示す領域を拡大して示した側面断面図であって、1つの光源装置における本発明の第1の側壁部の接合構造を示す図である。

【図4】図1のAで示す領域を拡大して示した側面断面図であって、1つの光源装置における本発明の第2の側壁部の接合構造を示す図である。

【図5A】1つの光源装置の製造方法の一例における1つの工程を示す模式図である。

【図5B】1つの光源装置の製造方法の一例における1つの工程を示す模式図である。

【図5C】1つの光源装置の製造方法の一例における1つの工程を示す模式図である。

【図5D】1つの光源装置の製造方法の一例における1つの工程を示す模式図である。

【図5E】1つの光源装置の製造方法の一例における1つの工程を示す模式図である。

【図6】本発明のその他の光源装置の概要を示す模式的な側面断面図である。

【図7】図6のX−X矢視図(平面図)である。

【図8】図6のBで示す領域を拡大して示した側面断面図であって、その他の光源装置における第1の側壁部の接合構造を示す図である。

【図9A】その他の光源装置の製造方法の一例における1つの工程を示す模式図である。

【図9B】その他の光源装置の製造方法の一例における1つの工程を示す模式図である。

【図9C】その他の光源装置の製造方法の一例における1つの工程を示す模式図である。

【図9D】その他の光源装置の製造方法の一例における1つの工程を示す模式図である。

【図9E】その他の光源装置の製造方法の一例における1つの工程を示す模式図である。

選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図

2、2’ 光源装置   4 基板   4A 上面   6 半導体レーザ   8、8’ 側壁部   8A、8A’ 傾斜面   8B、8B’ 上面   8C、8C’ 下面   10 リッド   10A 下面   10B 上面   12 接続層   12A 上面   20、20’ 第1の反射膜(金属膜)   22、22’ 第2の反射膜(誘電体膜)   24、24’ 反射面   30、30’ 第1の接合膜   32、32’ 第2の接合膜   34、34’ 金属接合材   36、36’ バリア層   40 パッケージ部材   40A 側面   40B 上面   40C 下面   50 接合膜   52 接合膜   54 金属接合材   60、60’ スパッタリングのターゲット(積層材料)   P、P’ 反射面の下端部   Q、Q’ 接合膜、金属接合材の端部(端面)

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