特許 6976968 近赤外領域（ＮＩＲ）において高反射率を有する反射防止膜を含む光学物品

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6976968

(24)【登録日】2021年11月12日

(45)【発行日】2021年12月8日

(54)【発明の名称】近赤外領域（ＮＩＲ）において高反射率を有する反射防止膜を含む光学物品

(51)【国際特許分類】

   G02B 1/113 20150101AFI20211125BHJP

   G02C 7/00 20060101ALI20211125BHJP

【ＦＩ】

   G02B1/113

   G02C7/00

【請求項の数】15

【全頁数】24

(21)【出願番号】特願2018-557867(P2018-557867)

(86)(22)【出願日】2017年5月4日

(65)【公表番号】特表2019-515352(P2019-515352A)

(43)【公表日】2019年6月6日

(86)【国際出願番号】EP2017060652

(87)【国際公開番号】WO2017191254

(87)【国際公開日】20171109

【審査請求日】2020年5月1日

(31)【優先権主張番号】16305528.8

(32)【優先日】2016年5月4日

(33)【優先権主張国】EP

(73)【特許権者】

【識別番号】598142955

【氏名又は名称】エシロール アンテルナショナル

【氏名又は名称原語表記】ＥＳＳＩＬＯＲ ＩＮＴＥＲＮＡＴＩＯＮＡＬ

(74)【代理人】

【識別番号】100099759

【弁理士】

【氏名又は名称】青木 篤

(74)【代理人】

【識別番号】100123582

【弁理士】

【氏名又は名称】三橋 真二

(74)【代理人】

【識別番号】100114018

【弁理士】

【氏名又は名称】南山 知広

(74)【代理人】

【識別番号】100119987

【弁理士】

【氏名又は名称】伊坪 公一

(74)【代理人】

【識別番号】100159259

【弁理士】

【氏名又は名称】竹本 実

(72)【発明者】

【氏名】ティン シンチャオ

【審査官】 中村 和正

(56)【参考文献】

【文献】 特開昭５８−２０２４０８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１５−１４８６４３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平０９−３２５２１１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特表２０１５−５１９５８６（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第２００６／０８０５０２（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 米国特許出願公開第２０１５／０１４６１６１（ＵＳ，Ａ１）

【文献】 米国特許出願公開第２０１５／０２４１６０２（ＵＳ，Ａ１）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｇ０２Ｂ １／１１３

Ｇ０２Ｃ ７／００

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

前主面と裏主面とを有する透明な基板を含む眼科用レンズであって、前記主面の少なくとも１つは反射防止膜により被覆される、眼科用レンズにおいて、
前記反射防止膜の層の数は５以上であり、
前記反射防止膜は、
− 「ＬＩ層」として定義される＜１．６の低屈折率を有する少なくとも１つの層、
− 「ＶＨＩ層」として定義される≧２．２の非常に高い屈折率を有する少なくとも１つの層、及び
− 「ＨＩ層」として定義される≧１．６かつ＜２．２の高屈折率を有する少なくとも１つの層を含み、
前記ＨＩ層は前記ＬＩ、ＨＩ及びＶＨＩ層の中で前記基板から最も近い層であることと、
前記反射防止膜の近赤外線（ＮＩＲ）領域における平均反射率Ｒ_m^NIRは３５°より低い入射角において４０％以上であることと、を特徴とし、
前記反射防止膜は、１μｍ以下の全体の物理的厚さを有する、眼科用レンズ。

【請求項2】

前記反射防止膜の可視領域における平均光反射率Ｒ_vは、少なくとも、３５°より低い入射角に対して、１．５％以下、好適には１．０％以下、通常は０．５％以下である、請求項１に記載の眼科用レンズ。

【請求項3】

前記反射防止膜の前記近赤外線（ＮＩＲ）領域における前記平均反射率Ｒ_m^NIRは、３５°より低い入射角において４２％以上、特には４５％以上である、請求項１又は２に記載の眼科用レンズ。

【請求項4】

ＶＨＩ層が、二重層ＨＩ／ＶＨＩを形成するように前記基板から最も近い前記ＨＩ層上に直接配置される、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の眼科用レンズ。

【請求項5】

前記二重層ＨＩ／ＶＨＩ上に直接蒸着される層はＬＩ層である、請求項４に記載の眼科用レンズ。

【請求項6】

前記反射防止膜は、それぞれが交互配置され、ＬＩ層及びＨＩ層と直接接触する少なくとも２つのＶＨＩ層を含む、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の眼科用レンズ。

【請求項7】

前記反射防止膜は、前記基板から離れる方向に、互いに直接接触したＨＩ層／ＶＨＩ層／ＬＩ層／ＶＨＩ層／任意選択的なＨＩ層／及びＬＩ層を含む、請求項１乃至６のいずれか一項に記載の眼科用レンズ。

【請求項8】

前記反射防止膜は、前記基板から離れる方向に、
２２〜７９ｎｍの範囲の物理的厚さを有するＨＩ層、
５３〜１１７ｎｍの範囲の物理的厚さを有するＶＨＩ層、
１６０〜１９２ｎｍの範囲の物理的厚さを有するＬＩ層、
８１〜９８ｎｍの範囲の物理的厚さを有するＶＨＩ層、
０〜２６ｎｍの範囲の物理的厚さを有する任意選択的なＨＩ層、及び
５３〜８１ｎｍの範囲の物理的厚さを有するＬＩ層を含む、請求項７に記載の眼科用レンズ。

【請求項9】

前記反射防止膜は、前記基板から離れる方向に、互いに直接接触したＨＩ層／ＶＨＩ層／ＬＩ層／好適にはＺｒＯ₂を含む任意選択的なＨＩ層／ＶＨＩ層及びＬＩ層を含む、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の眼科用レンズ。

【請求項10】

前記反射防止膜は、前記基板から離れる方向に、
３１〜５４ｎｍの範囲の物理的厚さを有するＨＩ層、
７４〜９８ｎｍの範囲の物理的厚さを有するＶＨＩ層、
１６５〜１９０ｎｍの範囲の物理的厚さを有するＬＩ層、
０〜５ｎｍ、好適には０〜２ｎｍの範囲の物理的厚さを有する任意選択的なＨＩ層、
８７〜９８ｎｍの範囲の物理的厚さを有するＶＨＩ層、及び
６４〜８５ｎｍの範囲の物理的厚さを有するＬＩ層を含む、請求項８に記載の眼科用レンズ。

【請求項11】

前記ＬＩ層は、ＭｇＦ₂、ＳｉＯ₂、シリカ及びアルミナの混合物、特にアルミナドープシリカ、又はその混合物を含み、好適にはＳｉＯ₂層である、請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の眼科用レンズ。

【請求項12】

前記ＨＩ層は、ジルコニア（ＺｒＯ₂）、アルミナ（Ａｌ₂Ｏ₃）、五酸化タンタル（Ｔａ₂Ｏ₅）、酸化プラセオジム（Ｐｒ₂Ｏ₃）、チタン酸プラセオジム（ＰｒＴｉＯ₃）、酸化ランタン（Ｌａ₂Ｏ₃）、酸化イットリウ（Ｙ₂Ｏ₃）から選択された１つ又は複数の金属酸化物を含み、好適にはＺｒＯ₂層である、請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の眼科用レンズ。

【請求項13】

前記ＶＨＩ層は、酸化ニオブ（Ｎｂ₂Ｏ₅）、二酸化チタン（ＴｉＯ₂）、及びそれら混合物から選択される１つ又は複数の金属酸化物を含む、請求項１乃至１２のいずれか一項に記載の眼科用レンズ。

【請求項14】

前記反射防止膜は、５００ｎｍ以下であり、典型的には４５０〜５００ｎｍの範囲である全体の物理的厚さを有する、請求項１乃至１３のいずれか一項に記載の眼科用レンズ。

【請求項15】

前記眼科用レンズは、眼鏡レンズである、請求項１乃至１４のいずれか一項に記載の眼科用レンズ。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、近赤外線（ＮＩＲ：ｎｅａｒ ｉｎｆｒａｒｅｄ）領域において高反射率を有する一方でまた可視領域における反射を大いに低減する反射防止膜を含む光学物品に関する。この光学物品は特に眼鏡レンズなどの眼科用レンズであり得る。

【背景技術】

【0002】

一生を通じて、眼は太陽輻射の光束に日々晒される。太陽輻射は、海抜ゼロメートル地点において太陽エネルギーの約８０％が紫外線領域における約３００ｎｍから赤外線領域における１１００ｎｍまでの狭いスペクトル帯に制限されるよう地球の大気により濾過される。長い波長は主として大気の水蒸気により濾過され、一方、短い波長はオゾン層により吸収される。さらに、角膜に入射する太陽光のいくつかのスペクトル成分は人間の網膜へ到達する前に部分的に濾過される。角膜と水晶体の両方は、赤外線の一部（主として９８０ｎｍ、１２００ｎｍ及び１４３０ｎｍの水帯域）を吸収する。硝子体は、１４００ｎｍ超から１０μｍまでの光を吸収する。

【0003】

したがって、網膜に到達する非電離放射線は、電磁スペクトル（３８０〜７８０ｎｍ）の所謂「可視光成分」と、近赤外線（７８０〜１４００ｎｍ、ＮＩＲ）の一部である。

【0004】

しかし、人間の網膜に到達する可視及び赤外光は、そのフルエンス率、総線量及びスペクトル特性に応じて３つの基本的過程（フォトメカニカル（又は光音響）、光熱（光凝固）、及び光化学）の少なくとも１つを介し組織損傷を誘起し得る。

【0005】

特に、強いＮＩＲは網膜に有害だろう。ＮＩＲがドライアイ及び白内障の潜在的原因のうちの１つである可能性があるということも報告されている。

【0006】

現在、透明眼鏡レンズなどの眼科用レンズにとって、必要要件は反射防止被覆を使用することによる可視領域における高透過率だけである。

【0007】

実際、従来の反射防止被覆は、可視領域における（典型的には３８０〜７８０ｎｍのスペクトル範囲内の）レンズ面上の反射を低減するために設計され最適化されるが、近赤外線（ＮＩＲ）領域においてはそうではない。通常、眼科用レンズの前面及び／又は裏面上の可視領域における平均光反射率Ｒ_ｖは１．５〜２．５％である。これらの反射防止膜のいくつかはまた、３１５〜４００ｎｍのＵＶＡ帯域及び／又は２８０〜３１５ｎｍのＵＶＢ帯域内のレンズ面上の反射を低減するように設計及び最適化され得る。

【0008】

反射防止覆は通常、干渉薄層を含む多層（通常は、高屈折率の誘電材料と低屈折率の誘電材料とに基づく交互層）からなる。透明基板上に蒸着されると、このような被覆の機能は、その光反射を低減し、したがってその光透過を増加することである。したがって、このようにして被覆された基板はその透過光／反射光比を増加させ、これにより、その背後に位置する物体の可視性を改善する。最大反射防止効果を実現することが求められる場合、基板の両面（前面と裏面）にこのタイプの被覆を備えることが好ましい。

【0009】

したがって、可視領域において非常に低い反射率を有する効率的被覆をどのように実現するかは今日良く知られているが、可視領域において非常に低い反射率及びＮＩＲ領域において高反射率の両方を有する効率的被覆を実現するのは、特に、非常に薄い反射防止膜を必要とする眼科分野では困難である。

【0010】

通常４０層を越える層を有する干渉多層ＩＲフィルタをデジタル画像装置（米国特許出願第２００４／０２０２８９７号明細書）又は眼科用レンズ（中国特許第１０１８６６０６３号明細書）に設けることは当該技術分野で知られている。これらの種類の積層は、厚く、かつ多くの層を有し、これは眼科用レンズ用途には実用的に許容可能でない。

【0011】

加えて、ＮＩＲ領域全体にわたる反射特性の最適化は可視領域における反射防止特性にとって通常有害であるということが明らかになった。逆に、可視領域における反射防止性能だけの最適化は、満足な反射特性がＮＩＲ領域において得られるようにしない。

【0012】

しかし、最近、Ｉｎｄｏ Ｏｐｔｉｃａｌに委譲された米国特許出願公開第２０１５／０１４６１６１号明細書は、標準的反射防止フィルタ技術を適合化することにより、残留反射における角度分散を制限し、可視光における反射防止特性を維持する一方で赤外線のかなりの割合を反射する複数層について記載している。本特許文書に提示された例示的積層は、４層：ＴｉＯ_２／ＳｉＯ_２／ＴｉＯ_２／ＳｉＯ_２、又は５層：ＳｉＯ_２／ＴｉＯ_２／ＳｉＯ_２／ＴｉＯ_２／ＳｉＯ_２、又は６層：ＴｉＯ_２／ＳｉＯ_２／ＴｉＯ_２／ＳｉＯ_２／ＴｉＯ_２／ＳｉＯ_２を有する。最も好適な例は、以後「Ｉｎｄｏレンズ」と称すＳｉＯ_２（１５ｎｍ）／ＴｉＯ_２（１２７ｎｍ）／ＳｉＯ_２（１７６ｎｍ）／ＴｉＯ_２（５９ｎｍ）／ＺｒＯ_２（５０ｎｍ）／ＳｉＯ_２（６２ｎｍ）である。

【0013】

この出願において説明される反射防止膜（特に、最も好適な例）は、ＮＩＲ領域において極めて効率的である（Ｔ ＩＲ−Ａ＝７２．０％、したがってＲ_ｍ^ＮＩＲ＜３０％）一方で、同時に可視領域における反射を比較的低減することができる（Ｒ_ｖ１５°＝０．９％及びＲ_ｖ６０°＝４．７％）。

【0014】

しかし、この特許文献に記載された複数層被覆を改善することが望ましいだろう。

【0015】

したがって、少なくとも可視領域と恐らくＵＶＡ及びＵＶＢ帯域とにおいて非常に良好な反射防止特性を有し同時に従来技術の反射防止膜に対しＮＩＲ領域において高反射率を有する新規な反射防止膜を提供する必要性が依然としてある。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0016】

したがって、本発明の目的は、透明光学物品（特に、ＮＩＲ領域において高反射率を有する一方で可視領域において非常に良好な反射防止性能を保有する少なくとも１つの反射防止膜を含む無機又は有機ガラスの基板を含む眼科用レンズ）を開発しようと努力することにより上記欠点を改善することと、その製造の経済的及び／又は工業的実現可能性を妥協すること無く改善することである。

【課題を解決するための手段】

【0017】

したがって、本発明は、前主面と裏主面とを有する透明基板を含む光学物品（好適には眼科用レンズ）であって、主面の少なくとも１つは反射防止膜により被覆される光学物品に関し、前記反射防止膜の層の数は５以上であり、反射防止膜は、
− 「ＬＩ層」として定義される＜１．６の低屈折率を有する少なくとも１つの層、
− 「ＶＨＩ層」として定義される≧２．２の非常に高い屈折率を有する少なくとも１つの層、及び
− 「ＨＩ層」として定義される≧１．６かつ＜２．２の高屈折率を有する少なくとも１つの層を含み、ＨＩ層は前記ＬＩ、ＨＩ及びＶＨＩの中でも前記基板から最も近い層であり、したがって、前記反射防止膜の近赤外線（ＮＩＲ）領域における平均反射率Ｒ_ｍ^ＮＩＲは３５°より低い入射角において４０％以上であることを特徴とする。

【0018】

したがって、本発明による光学物品は、ＮＩＲ領域において高反射率を有する高効率反射防止（ＡＲ）被覆を含む。

【0019】

本発明について、添付図面を参照することによりさらに詳細に説明する。

【図面の簡単な説明】

【0020】

【図1】ＵＶＢ（２８０〜３１５ｎｍ）帯域、ＵＶＡ（３１５〜４００ｎｍ）帯域、可視領域（３８０〜７８０ｎｍ）、及びＮＩＲ領域（７８０〜１４００ｎｍ）における波長に応じた、１５°及び３５°の入射角θにおける、本出願の実施例（それぞれ実施例１、３、７〜１４）において作製された、いくつかのレンズの前面上の反射（Ｒ）の変動を示す。

【図2】ＵＶＢ（２８０〜３１５ｎｍ）帯域、ＵＶＡ（３１５〜４００ｎｍ）帯域、可視領域（３８０〜７８０ｎｍ）、及びＮＩＲ領域（７８０〜１４００ｎｍ）における波長に応じた、１５°及び３５°の入射角θにおける、本出願の実施例（それぞれ実施例１、３、７〜１４）において作製された、いくつかのレンズの前面上の反射（Ｒ）の変動を示す。

【図3】ＵＶＢ（２８０〜３１５ｎｍ）帯域、ＵＶＡ（３１５〜４００ｎｍ）帯域、可視領域（３８０〜７８０ｎｍ）、及びＮＩＲ領域（７８０〜１４００ｎｍ）における波長に応じた、１５°及び３５°の入射角θにおける、本出願の実施例（それぞれ実施例１、３、７〜１４）において作製された、いくつかのレンズの前面上の反射（Ｒ）の変動を示す。

【図4】ＵＶＢ（２８０〜３１５ｎｍ）帯域、ＵＶＡ（３１５〜４００ｎｍ）帯域、可視領域（３８０〜７８０ｎｍ）、及びＮＩＲ領域（７８０〜１４００ｎｍ）における波長に応じた、１５°及び３５°の入射角θにおける、本出願の実施例（それぞれ実施例１、３、７〜１４）において作製された、いくつかのレンズの前面上の反射（Ｒ）の変動を示す。

【図5】ＵＶＢ（２８０〜３１５ｎｍ）帯域、ＵＶＡ（３１５〜４００ｎｍ）帯域、可視領域（３８０〜７８０ｎｍ）、及びＮＩＲ領域（７８０〜１４００ｎｍ）における波長に応じた、１５°及び３５°の入射角θにおける、本出願の実施例（それぞれ実施例１、３、７〜１４）において作製された、いくつかのレンズの前面上の反射（Ｒ）の変動を示す。

【図6】ＵＶＢ（２８０〜３１５ｎｍ）帯域、ＵＶＡ（３１５〜４００ｎｍ）帯域、可視領域（３８０〜７８０ｎｍ）、及びＮＩＲ領域（７８０〜１４００ｎｍ）における波長に応じた、１５°及び３５°の入射角θにおける、本出願の実施例（それぞれ実施例１、３、７〜１４）において作製された、いくつかのレンズの前面上の反射（Ｒ）の変動を示す。

【図7】ＵＶＢ（２８０〜３１５ｎｍ）帯域、ＵＶＡ（３１５〜４００ｎｍ）帯域、可視領域（３８０〜７８０ｎｍ）、及びＮＩＲ領域（７８０〜１４００ｎｍ）における波長に応じた、１５°及び３５°の入射角θにおける、本出願の実施例（それぞれ実施例１、３、７〜１４）において作製された、いくつかのレンズの前面上の反射（Ｒ）の変動を示す。

【図8】ＵＶＢ（２８０〜３１５ｎｍ）帯域、ＵＶＡ（３１５〜４００ｎｍ）帯域、可視領域（３８０〜７８０ｎｍ）、及びＮＩＲ領域（７８０〜１４００ｎｍ）における波長に応じた、１５°及び３５°の入射角θにおける、本出願の実施例（それぞれ実施例１、３、７〜１４）において作製された、いくつかのレンズの前面上の反射（Ｒ）の変動を示す。

【図9】ＵＶＢ（２８０〜３１５ｎｍ）帯域、ＵＶＡ（３１５〜４００ｎｍ）帯域、可視領域（３８０〜７８０ｎｍ）、及びＮＩＲ領域（７８０〜１４００ｎｍ）における波長に応じた、１５°及び３５°の入射角θにおける、本出願の実施例（それぞれ実施例１、３、７〜１４）において作製された、いくつかのレンズの前面上の反射（Ｒ）の変動を示す。

【図10】ＵＶＢ（２８０〜３１５ｎｍ）帯域、ＵＶＡ（３１５〜４００ｎｍ）帯域、可視領域（３８０〜７８０ｎｍ）、及びＮＩＲ領域（７８０〜１４００ｎｍ）における波長に応じた、１５°及び３５°の入射角θにおける、本出願の実施例（それぞれ実施例１、３、７〜１４）において作製された、いくつかのレンズの前面上の反射（Ｒ）の変動を示す。

【図11】本発明又は従来技術による様々な反射防止膜の近赤外線（ＮＩＲ）領域における平均反射率Ｒ_ｍ^ＮＩＲに準ずる平均光反射率Ｒ_ｖの変動を示す。

【図12】本発明又は従来技術による様々な反射防止膜の近赤外線（ＮＩＲ）領域における平均反射率Ｒ_ｍ^ＮＩＲに準ずる平均光反射率Ｒ_ｖの変動を示す。

【図13】本発明又は従来技術による様々な反射防止膜の近赤外線（ＮＩＲ）領域における平均反射率Ｒ_ｍ^ＮＩＲに準ずる平均光反射率Ｒ_ｖの変動を示す。

【発明を実施するための形態】

【0021】

用語「含む」（及びその任意の文法的変形）、「有する」（及びその任意の文法的変形）、「含有する」（及びその任意の文法的変形）は開放型連結動詞である。これらの用語は、上述の特徴、整数、工程、又は部品、又はこれらのグループの存在を規定するために使用されるが、他の特徴、整数、工程、又は部品、又はこれらのグループの存在又は追加を排除しない。その結果、１つ又は複数の工程又は要素を「含む」又は「有する」方法又は方法内の工程はそれらの１つ又は複数の工程又は要素を保有するが、それらの１つ又は複数の工程又は要素だけを保有することに限定されない。

【0022】

特に示されない限り、本明細書で使用される成分の量、範囲、反応条件などを参照するすべての数又は表現は、すべての場合において用語「約」により修飾されるものと理解される。

【0023】

また特に示されない限り、本発明による「Ｘ〜Ｙ」又は「ＸとＹの間」の値の間隔の指示はＸとＹの値を含むことを意味する。

【0024】

本出願では、光学物品がその表面上に１つ又は複数の被覆を含む場合、表現「物品上に層又は被覆を蒸着する」は、光学物品の外側被覆の外（露出）表面上に層又は被覆（すなわち、基板から最も遠い被覆）が蒸着されることを意味するように意図されている。

【0025】

基板「上」に存在する又は基板「上に」蒸着されると言われる被覆は、（ｉ）基板の上に位置する被覆として、（ｉｉ）基板とは必ずしも接触していない（すなわち、１つ又は複数の中間被覆が基板と当該被覆間に配置され得る）被覆として、（ｉｉｉ）基板を必ずしも完全には覆わない被覆として定義される。

【0026】

好適な実施形態では、基板上の被覆又は基板上へ蒸着される被覆はこの基板と直接接触する。

【0027】

「層１が層２の下に位置する」場合、層２は層１より基板からより離れていることを意味するように意図されている。

【0028】

本明細書で使用されるように、基板の裏（又は内側）面は、物品を使用する際に装着者の眼から最も近い表面を意味するように意図されており、通常は凹面である。逆に、基板の前面は、物品を使用する際に装着者の眼から最も遠い面であり、通常は凸面である。

【0029】

加えて、本発明によると、「入射角（シンボルθ）」は眼科用レンズ表面上の入射光線と入射点における表面に対する法線とのなす角度である。この光線は、例えば国際比色分析ＣＩＥ Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊において定義された標準光源Ｄ６５などの光源である。通常、入射角は０°（法線入射）から９０°（すれすれの入射）まで変化する。入射角の通常の範囲は０°〜７５°である。

【0030】

国際比色分析系（ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ ｃｏｌｏｒｉｍｅｔｒｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）ＣＩＥ Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊における本発明の光学物品の比色分析係数は、標準光源Ｄ６５と観察者と（１０°の角度）を考慮して３８０〜７８０ｎｍの間で計算された。観察者は、国際比色分析系ＣＩＥ Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊において定義された「標準観測者」である。反射防止被覆をそれらの色相角（ｈ）に関する制限無しに作製することが可能である。

【0031】

本発明に従って作製される光学物品は、透明な光学物品、好適にはレンズ又はレンズブランク、より好適には眼科用レンズ又はレンズブランクである。光学物品は、本発明の方法を使用することによりその凸主面（前側）、凹主面（後側）、又は両側に被覆され得る。

【0032】

一般的に言えば、本発明による光学物品の反射防止被覆（以降、単に「反射防止被覆」と呼ぶ）は、任意の基板上へ、好適には有機レンズ基板（例えば、熱可塑性材料又は熱硬化性プラスチック材料）上へ蒸着され得る。

【0033】

加熱可塑性物は、例えば以下のものから選択され得る：ポリアミド、ポリイミド、ポリスルホン、ポリカーボネート及びその共重合体、ポリ（エチレン・テレフタレート）及びポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）。

【0034】

熱硬化性材料は、例えば以下のものから選択され得る：エチレン／ノルボルネン又はエチレン／シクロペンタジエン共重合体などのシクロオレフィン共重合体、ジエチレングリコールビス（アリルカーボネート）（ＣＲ３９（登録商標））の単独重合体などの直鎖又は分岐脂肪族又は芳香族多価アルコールのアリルカーボネートの単独共重合体と共重合体、ビスフェノールＡから導出され得る（メタ）アクリル酸及びそのエステルの単独共重合体と共重合、チオ（メタ）アクリル酸及びそのエステルの重合体と共重合体、スチレンなどのビスフェノールＡ又はフタル酸及びアリル芳香薬から導出され得るアリル・エステルの重合体及び共重合体、ウレタン及びチオウレタンの重合体及び共重合体、エポキシの重合体及び共重合体、及び、硫化物、ジスルフィド及びエピスルフィドの重合体及び共重合体、及びそれらの組合せ。

【0035】

本明細書で使用されるように、（共）重合体は共重合体又は重合体を意味するように意図されている。本明細書で使用されるように、（メタ）アクリル酸塩はアクリル酸塩又はメタクリル酸塩を意味するように意図されている。本明細書で使用されるように、ポリカーボネート（ＰＣ、ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ）はホモポリカーボネート又はコポリカーボネート及びブロックコポリカーボネートのいずれかを意味するように意図されている。

【0036】

１．５４〜１．５８の屈折率を有するジエチレングリコールビス（アリルカーボネート）（ＣＲ３９（登録商標））の単独重合体、アリル及び（メタ）アクリル共重合体、チオウレタンの重合体及び共重合体、ポリカーボネートが好適である。

【0037】

基板は、本発明の反射防止被覆を蒸着する前に１つ又は複数の機能被覆で被覆され得る。光学系において伝統的に使用されるこれらの機能皮膜は限定しないが耐衝撃性プライマ層、耐摩耗性被覆及び／又は耐擦傷性被覆、偏光被覆、フォトクロミック被覆、又は着色被覆であり得る。以下では、基板は裸基板又はこのような被覆基板のいずれかを意味する。

【0038】

反射防止膜を蒸着する前に、前記基板の表面は通常、反射防止膜の接着性を強化するように物理的又は化学的表面活性化処理を受ける。このような前処理は通常、真空下で行われる。このような前処理は、エネルギー種及び又は反応種による（例えばイオンビーム（「イオン前洗浄」すなわち「ＩＰＣ、Ｉｏｎ Ｐｒｅ−Ｃｌｅａｎｉｎｇ」）又は電子ビームによる）、コロナ放電処理、イオン粉砕処理、紫外線処理、又は通常は酸素又はアルゴンプラズマを使用する真空下のプラズマ媒介処理であり得る。このような前処理はまた、酸性又はアルカリ性処理及び／又は溶媒（水、過酸化水素又は任意の有機溶媒）ベース処理であり得る。

【0039】

前述のように、本発明による光学物品は、前主面と裏主面とを有する透明基板を含み、上記主面の少なくとも１つは反射防止膜、特に多層反射防止膜により被覆される。

【0040】

前記多層反射防止膜は、前記反射防止膜の層の数が５以上であることを特徴とする。前記多層反射防止膜は、
− 「ＬＩ層」として定義される＜１．６の低屈折率を有する少なくとも１つの層、
− 「ＶＨＩ層」として定義される≧２．２の非常に高い屈折率を有する少なくとも１つの層、及び
− 「ＨＩ層」として定義される≧１．６かつ＜２．２の高屈折率を有する少なくとも１つの層を含み、ＨＩ層は前記ＬＩ、ＨＩ及びＶＨＩの中でも前記基板から最も近い層であり、したがって、前記反射防止膜の近赤外線（ＮＩＲ）領域における平均反射率Ｒ_ｍ^ＮＩＲは３５°より低い入射角において４０％以上である。

【0041】

ここでは、近赤外線（ＮＩＲ）領域における特徴的平均反射率Ｒ_ｍ^ＮＩＲ（７８０〜１４００ｎｍ）は、次式により定義される：

【数1】

ここで、Ｒ（λ）は所与の波長における反射率を表す。

【0042】

本出願人は驚いたことに、本発明による多層反射防止膜が比較的薄い物理的厚さ（一般的に４５０〜５５０ｎｍ）を有する一方でＮＩＲ領域における低いＲ_ｖと高い平均反射率との良好な妥協点を示すということを発見した。

【0043】

実際、以下の例に示されるように、本発明による多層反射防止膜は、ＮＩＲ領域（７８０〜１４００ｎｍ）において最小達成可能Ｒ_ｖ≦０．１％と高い平均反射率（≧４５％）とを得ることを可能にする。これらの良好な結果は、例えば高い及び低い屈折率材料で作られた４つの交互層を含む以下の構造に基づく従来の設計では達成可能ではない：ＺｒＯ_２／ＳｉＯ_２／ＺｒＯ_２／ＳｉＯ_２、Ｔａ_２Ｏ_５／ＳｉＯ_２／Ｔａ_２Ｏ_５／ＳｉＯ_２、ＴｉＯ_２／ＳｉＯ_２／ＴｉＯ_２／ＳｉＯ_２及び／又はＮｂ_２Ｏ_５／ＳｉＯ_２／Ｎｂ_２Ｏ_５／ＳｉＯ_２。

【0044】

加えて、本発明による多層反射防止膜は、良好な頑強性及び美的外観を有するという利点を提供する。本明細書では、レンズの用語「頑強性」は、このレンズがその製造過程により誘発される変動にもかかわらず変化に抵抗するレンズの能力として定義される。これらの変動は、例えば使用される基板のタイプ、製造機械の設定（温度スケジュール、適切な時間、電子銃の設定等）、及び／又はその使用モード、前記製造機械と別のものとの交換に依存する。

【0045】

好適には、反射防止膜の近赤外線（ＮＩＲ）領域における平均反射率Ｒ_ｍ^ＮＩＲは、３５°より低い入射角において４２％以上、特には４５％以上である。

【0046】

本出願において説明される多層反射防止膜は可視領域において非常に効率的である。特に、反射防止膜の可視領域における平均光反射率Ｒ_ｖは、３５°より低い少なくとも入射角に対して、２．５％以下、好適には２．０％以下、より好適には１．５％以下であり、通常は１．０％以下（例えば０．５％以下）である。

【0047】

Ｒ_ｖと標記される「平均光反射率」は、例えばＩＳＯ１３６６６、１９９８標準規格において定義され、ＩＳＯ８９８０−４に従って測定される、すなわち、これは、３８０〜７８０ｎｍの可視スペクトル全体にわたる重み付けスペクトル反射平均である。Ｒ_ｖは通常、１７°より低い（典型的には１５°の）入射角に対して測定されるが、任意の入射角に対して評価され得る。

【0048】

本発明の多層反射防止膜は、非常に高い屈折率（ＶＨＩ）、高屈折率（ＨＩ）及び低屈折率（ＬＩ）を有する誘電体材料で作られた少なくとも５つの層の積層を含む。本発明の多層反射防止膜はここでは、反射防止膜内の総層数が５以上、好適には６以上かつ１０以下、より好適には９以下、さらに好適には８以下（例えば７以下）、最も好適には５又は６層であるので簡単な積層である。

【0049】

より好適には、反射防止膜は、低屈折率（ＬＩ）を有する少なくとも２つの層、非常に高い屈折率層（ＶＨＩ）を有する少なくとも２つの層、及び高屈折率層（ＨＩ）を有する少なくとも１つの層（例えば高屈折率層（ＨＩ）を有する少なくとも２つの層）を含む。

【0050】

本明細書で使用されるように、反射防止被覆の層は１ｎｍ以上の厚さを有するものとして定義される。したがって、反射防止被覆の層の数をカウントする場合、１ｎｍ未満の厚さを有するいかなる層も考慮されない。反射防止膜の層の数をカウントする場合、副層（以下に述べるような）も考慮されない。

【0051】

別途記載の無い限り、本出願に開示されるすべての厚さは物理的厚さに関する。

【0052】

ＨＩ層、ＶＨＩ層及びＬＩ層は、本発明の一実施形態によると積層内で交互になる必要は無いがそのようにしてもよい。したがって、２つの（又は３以上の）ＶＨＩ層が互いの上に蒸着され得、２つの（又は３以上の）ＬＩ層又は２つの（又は３以上の）ＨＩ層も同様に互いの上に蒸着され得る。

【0053】

前述のように、多層反射防止膜のＨＩ層は前記ＬＩ、ＨＩ及びＶＨＩ層の中でも基板から最も近い層である。本発明の実施形態によると前記ＨＩ層は基板と直接接触し、別の実施形態によると、前記ＨＩ層は、以下に説明するように、１つ又は複数の機能性被覆により被覆され得るので、基板と直接接触しない。

【0054】

特に、ＶＨＩ層は、二重層ＨＩ／ＶＨＩを形成するように基板から最も近い前記ＨＩ層上に直接配置される。

【0055】

本発明の特徴によると、前記二重層ＨＩ／ＶＨＩ上に直接蒸着される層はＬＩ層である。

【0056】

好適には、反射防止膜は、それぞれが交互配置されかつＬＩ層と又はＬＩ層及びＨＩ層と直接接触する少なくとも２つのＶＨＩ層を含む。

【0057】

一般的に、基板から最も遠くにある前記反射防止膜の外側層はＬＩ層である。

【0058】

本発明の一実施形態によると、反射防止膜は、基板から離れる方向に、互いに直接接触したＨＩ層／ＶＨＩ層／ＬＩ層／ＶＨＩ層／任意選択的なＨＩ層／及びＬＩ層を含み得る。

【0059】

この実施形態によると、反射防止膜は通常、基板から離れる方向に、２２〜７９ｎｍの範囲の物理的厚さを有するＨＩ層、５３〜１１７ｎｍの範囲の物理的厚さを有するＶＨＩ層、１６０〜１９２ｎｍの範囲の物理的厚さを有するＬＩ層、８１〜９８ｎｍの範囲の物理的厚さを有するＶＨＩ層、０〜２６ｎｍの範囲の物理的厚さを有する任意選択的なＨＩ層、及び５３〜８１ｎｍの範囲の物理的厚さを有するＬＩ層を含む。

【0060】

別の実施形態によると、反射防止膜は、基板から離れる方向に、互いに直接接触したＨＩ層／ＶＨＩ層／ＬＩ層／好適にはＺｒＯ_２を含む任意選択的なＨＩ層／ＶＨＩ層及びＬＩ層を含み得る。

【0061】

特に、この実施形態によると、反射防止膜は、基板から離れる方向に、３１〜５４ｎｍの範囲の物理的厚さを有するＨＩ層、７４〜９８ｎｍの範囲の物理的厚さを有するＶＨＩ層、１６５〜１９０ｎｍの範囲の物理的厚さを有するＬＩ層、０〜５ｎｍ（好適には０〜２ｎｍ）の範囲の物理的厚さを有する任意選択的なＨＩ層、８７〜９８ｎｍの範囲の物理的厚さを有するＶＨＩ層、及び６４〜８５ｎｍの範囲の物理的厚さを有するＬＩ層を含み得る。

【0062】

本出願では、反射防止膜の層は、その屈折率が２．２以上、好適には２．３以上、さらに好適には２．３５以上、さらに好適には２．３７以上であると、非常に高い屈折率（ＶＨＩ）を有する層であると言われる。前記ＶＨＩ層は好適には３未満の屈折率を有する。反射防止膜の層は、その屈折率が１．６０未満、好適には１．５０以下、より好適には１．４８以下であると低屈折率層（ＬＩ）であると言われる。ＬＩ層は好適には１．１を越える屈折率を有する。さらに、反射防止膜の層は、その屈折率が１．６（下限は含まれる）〜２．２（上限は含まれない）であると高屈折率（ＨＩ）であると言われる。

【0063】

特に規定されない限り、本出願において参照される屈折率は５５０ｎｍの波長、２５°Ｃにおいて表される。

【0064】

ＨＩ層は、当該技術領域においてよく知られている伝統的高屈折率層である。ＨＩ層は通常、限定しないがジルコニア（ＺｒＯ_２）、アルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）、五酸化タンタル（Ｔａ_２Ｏ_５）、酸化プラセオジム（Ｐｒ_２Ｏ_３）、チタン酸プラセオジム（ＰｒＴｉＯ_３）、酸化ランタン（Ｌａ_２Ｏ_３）、酸化イットリウ（Ｙ_２Ｏ_３）及びそれらの混合物など１つ又は複数の金属酸化物を含む。好適な材料はジルコニア（ＺｒＯ_２）、五酸化タンタル（Ｔａ_２Ｏ_５）を含む。任意選択的に、ＨＩ層はさらに、上に示したように１．６以上の屈折率を有するという条件で低屈折率を有するシリカ又は他の材料を含む。

【0065】

ＬＩ層もまたよく知られており、限定しないがＭｇＦ_２、ＳｉＯ_２、シリカとアルミナの混合物特にアルミナドープシリカ（後者は反射防止膜耐熱性を増加することに寄与する）、又はその混合物を含み得る。ＬＩ層は、層全重量に対し好適には少なくとも重量比８０％のシリカ、より好適には少なくとも重量比９０％のシリカを含む層、さらに好適にはシリカ層（ＳｉＯ_２）からなる層である。任意選択的に、ＬＩ層はさらに、結果層の屈折率が１．６未満であるという条件で高屈折率又は非常に高い屈折率を有する材料を含み得る。

【0066】

ＳｉＯ_２とＡｌ_２Ｏ_３の混合物を含むＬＩ層が使用される場合、ＬＩ層は、このような層内にＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３全重量に対する重量比で、好適には１〜１０％、より好適には１〜８％、さらに好適には１〜５％のＡｌ_２Ｏ_３を含む。

【0067】

例えば、重量比４％又はそれ以下のＡｌ_２Ｏ_３でドープされたＳｉＯ_２、又は重量比８％のＡｌ_２Ｏ_３でドープされたＳｉＯ_２が採用され得る。Ｕｍｉｃｏｒｅ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ＡＧ社により市販されるＬＩＭＡ（登録商標）（５５０ｎｍにおける屈折率ｎ＝１．４８〜１．５０）又はＭｅｒｃｋ ＫＧａＡ社により市販されるＬ５（登録商標）（５００ｎｍにおける屈折率ｎ＝１．４８）など市場で入手可能なＳｉＯ_２／Ａｌ_２Ｏ_３混合物が使用され得る。

【0068】

本発明によるＶＨＩ層は、限定しないが酸化ニオブ（Ｎｂ_２Ｏ_５）、二酸化チタン（ＴｉＯ_２）、又はその混合物から選択される１つ又は複数の金属酸化物を含み得る。任意選択的に、ＶＨＩ層はさらに、上に示したように２．２以上の屈折率を有するという条件で低屈折率又は高屈折率を有する材料を含み得る。

【0069】

通常、ＶＨＩ層は、７０〜１５０ｎｍ、好適には７５〜１２０ｎｍ、典型的には７５〜１１５ｎｍの範囲の物理的厚さを有する。特に、ＨＩ層は、４〜９０ｎｍ、好適には２５〜８５ｎｍ、典型的には３０〜８０の範囲の物理的厚さを有し得る。加えて、ＬＩ層は、４０〜２００ｎｍ、好適には５５〜１８２ｎｍ（例えば５０〜１９０ｎｍ）の範囲の物理的厚さを有し得る。一般的に、外側ＬＩ層は、５０〜９０ｎｍ、好適には５５〜８２ｎｍの範囲の厚さを有する。

【0070】

通常、反射防止被覆合計厚は、１マイクロメートル未満、好適には８００ｎｍ以下、より好適には７００ｎｍ以下、さらに好適には６００ｎｍ以下である。反射防止膜合計厚は、通常は１００ｎｍ超、好適には２００ｎｍ超、より好適には３００ｎｍ以上、さらに好適には４００ｎｍ以上である。典型的には、前記反射防止膜の物理的厚さは４５０〜５００ｎｍの範囲である。

【0071】

したがって、本発明は、改善された概念を有する反射防止膜であって、その厚さ及び材料が頑強特性を有する一方で可視領域及びＮＩＲ領域の両方において満足な反射防止性能を得るように選択された層で作られた比較的薄い積層を含む反射防止膜を提供する。

【0072】

本発明の一実施形態では、反射防止膜は副層上に蒸着され得る。このような反射防止被覆副層は反射防止被覆に属さないということに注意すべきである。

【0073】

本明細書で使用されるように、反射防止被覆副層又は接着層は、比較的厚い被覆を意味するように意図されており、前記被覆の耐摩耗性及び／又は耐擦傷性などの機械的性質を改善するために及び／又は基板又は下位被覆に対するその接着性を強化するように使用される。

【0074】

その比較的厚い厚さのために、副層は、特に下位基板（通常、摩耗防止及び擦傷防止被覆又は裸の基板である）のものに近い屈折率を有する場合は、反射防止光学的活動に通常関与するわけではない。

【0075】

副層は、反射防止膜の耐摩耗性を増進するために十分な厚さを有すべきであるが、好適には、副層性質に応じて相対的透過率τ_ｖを著しく低減する可能性がある光吸収が引き起こされる可能性がある程度の厚さではない。その厚さは通常３００ｎｍ未満、より好適には２００ｎｍ未満であり、通常は９０ｎｍより厚く、より好適には１００ｎｍより厚い。

【0076】

副層は好適には、層全重量に対して好適には少なくとも重量比８０％のシリカ、より好適には少なくとも重量比９０％のシリカを含むＳｉＯ_２ベース層を含み、さらに好適にはシリカ層からなる。このようなシリカベース層の厚さは、通常は３００ｎｍ未満、より好適には２００ｎｍ未満であり、通常９０ｎｍより厚い、より好適には１００ｎｍより厚い。

【0077】

別の実施形態では、このＳｉＯ_２ベース層は上に定義されたような量のアルミナでドープされたシリカ層であり、好適にはアルミナドープシリカ層からなる。

【0078】

特定の実施形態では、副層はＳｉＯ_２層からなる。

【0079】

単層型の副層が好適には使用されることになる。しかし、副層は、特に副層と下位基板とが実質的に異なる屈折率を有する場合は積層化（多層化）され得る。これは、特に下位被覆が高屈折率（すなわち１．５５以上、好適には１．５７以上の屈折率）を有する場合に適用される。

【0080】

この場合、副層は、主層と呼ばれる９０〜３００ｎｍの厚い層に加えて、任意選択的被覆基板と通常はシリカベース層であるこのような９０〜３００ｎｍ厚の層との間にはさまれた好適には最大で３つの追加層、より好適には最大で２つの追加層を含み得る。これらの追加層は好適には、その機能が必要に応じて副層／下位被覆界面又は副層／基板界面における反射を制限することを目的とする薄層である。

【0081】

多層副層は好適には、主層に加え、高屈折率と８０ｎｍ以下、より好適には５０ｎｍ以下、最も好適には３０ｎｍ以下の厚さを有する層を含む。高屈折率を有するこのような層は、必要に応じて、高屈折率を有する基板又は高屈折率を有する下位被覆に直接接触する。当然、この実施形態は基板（又は下位被覆）が１．５５未満の屈折率を有したとしても使用され得る。

【0082】

代替案として、副層は、主層と高屈折率を有する前述の層とに加え、１．５５以下、好適には１．５２以下、より好適には１．５０以下の屈折率を有するＳｉＯ_２ベース材料（すなわち、好適には少なくとも重量比８０％のシリカを含む）であって、高屈折率を有する層がその上に蒸着された８０ｎｍ以下、より好適には５０ｎｍ以下、さらに好適には３０ｎｍ以下の厚さを有するＳｉＯ_２ベース材料で作られた層を含む。通常は、この場合、副層は、任意選択的被覆基板上に２５ｎｍ厚のＳｉＯ_２層、１０ｎｍ厚のＺｒＯ_２又はＴａ_２Ｏ_５層、その後副層主層の順番で蒸着される層を含む。

【0083】

一般的に、反射防止膜は上述のような副層上には蒸着されない。

【0084】

本発明の光学物品は、光学物品の表面上に存在する積層内に少なくとも１つの導電層を取り込むことにより帯電防止にされ得る（すなわち、かなりの静電荷を保持及び／又は発現しないように）。

【0085】

静電荷（コロナ放電などにより印加される電荷）を生成するために布で摩擦した又は任意の他の手順を使用した後に得られる静電荷をガラスが排出する能力は、電荷が消散するのにかかる時間を測定することにより定量化され得る。したがって、帯電防止ガラスは約数百ミリ秒（好適には５００ｍｓ以下）の放電時間を有し、一方、帯電ガラスは約数十秒の放電時間である。本出願では、放電時間は仏国特許出願第２，９４３，７９８号明細書に開示された方法に従って測定される。

【0086】

本明細書で使用されるように、「導電層」又は「帯電防止層」は、「非帯電防止」基板の表面（すなわち、５００ｍｓを越える放電時間を有する）上のその存在のために静電荷がその表面上へ印加された後に５００ｍｓ以下の放電時間を有することができるようにする層を意味するように意図されている。

【0087】

導電層は、その反射防止特性が影響を受けないという条件で積層内の様々な場所に（通常は反射防止被覆内に又はそれと接触して）配置され得る。導電層は、好適には反射防止膜の２つの層の間に位置する及び／又はこのような反射防止膜の高屈折率を有する層に隣接する。好適には、導電層は、反射防止被覆の低屈折率を有する層の直下に配置され、最も好適には、反射防止被覆のシリカベース外側層の直下に配置されることにより反射防止被覆の最後から２番目の層である。

【0088】

導電層は反射防止被覆の透明性を変えることがないように十分に薄くあるべきである。導電層は、好適には導電性及び高透明性材料から、一般的には任意選択的ドープ金属酸化物から作られる。この場合、厚さは、好適には１〜１５ｎｍ、より好適には１〜１０ｎｍの範囲である。好適には、導電層は、インジウム、錫、酸化亜鉛及びそれらの混合物から選択された任意選択的ドープ金属酸化物を含む。錫酸化インジウム（Ｉｎ_２Ｏ_３、錫ドープ酸化インジウム）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＺｎＯ：Ａｌ）、酸化インジウム（Ｉｎ_２Ｏ_３）及び酸化錫（ＳｎＯ_２）が好適である。最も好適な実施形態では、導電性及び光学的透明層はＩＴＯ層と標記される錫インジウム酸化物層又は酸化錫層である。

【0089】

一般的には、導電層は、その薄い厚さのために積層内でしかし限定されたやり方で、反射防止特性を得ることに貢献し、反射防止被覆内の高屈折率を有する層を表す。これは、ＩＴＯ層などの導電性及び高透明性材料から作られた層の場合である。

【0090】

反射防止被覆は、酸化インジウムに基づく２０ｎｍ以上の厚さ（好適には１５ｎｍを越える厚さ）のいかなる層も含まない。複数の酸化インジウムベース層が反射防止被覆内に存在する場合、それらの合計厚は好適には２０ｎｍ未満、より好適には１５ｎｍ未満である。本明細書で使用されるように、酸化インジウムベース層は層全重量に対して少なくとも重量比５０％の酸化インジウムを含む層を意味するように意図されている。

【0091】

好ましい実施形態によると、反射防止被覆は、酸化インジウム、酸化錫又は酸化亜鉛を含む２０ｎｍ以上の厚さ（好適には１５ｎｍを越える暑さ）を有するいかなる層も含まない。酸化インジウム、酸化錫又は酸化亜鉛を含む複数の層が反射防止被覆内に存在する場合、それらの合計厚は好適には２０ｎｍ未満、より好適には１５ｎｍ未満である。

【0092】

反射防止膜の様々な層及び任意選択副層は好適には、以下の方法のうちの任意のものに従って真空下で化学気相蒸着により蒸着される、ｉ）任意選択的にイオンビーム支援蒸着により、ｉｉ）イオンビームスパッタリングにより、ｉｉｉ）陰極スパッタにより、ｉｖ）プラズマ支援化学気相蒸着により。これらの様々な方法は、非特許文献“Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ”及び“Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ ＩＩ，”Ｖｏｓｓｅｎ ＆ Ｋｅｒｎ，Ｅｄ．，Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓ，１９７８及び１９９１にそれぞれに記載されている。特に推奨される方法は真空下の蒸着である。

【0093】

好適には、反射防止被覆の層及び任意選択的副層のそれぞれの蒸着は真空下の蒸着により行われる。

【0094】

通常、光学物品は眼科用レンズ（特には眼鏡レンズ）である。

【0095】

前面と裏面の反射防止被覆は同じであっても異なってもよい。

【0096】

本発明の一実施形態では、本発明の光学物品の前面及び裏面は上述の反射防止膜により被覆される。別の実施形態では、本発明の光学物品の裏面は、本発明による前面上に設けられたものとは異なり、ＵＶ領域（国際公開第２０１２０７６７１４号パンフレットにおいて定義されたような）において平均反射率Ｒ_ｕｖ≦１０％（好適にはＲ_ｕｖ≦５％）を有する従来の反射防止膜で被覆される。

【0097】

通常、反射防止膜が蒸着される基板の前主面及び／又は裏主面は、耐衝撃性プライマ層で、摩耗防止及び／又は擦傷防止被覆で、又は摩耗防止及び／又は擦傷防止被覆で被覆された耐衝撃性プライマ層で、被覆される。

【0098】

本発明の反射防止膜は好適には、摩耗防止及び／又は擦傷防止被覆上に蒸着される。摩耗防止及び／又は擦傷防止被覆は、眼科用レンズの分野における摩耗防止及び／又は擦傷防止被覆として伝統的に使用される任意の層であり得る。

【0099】

摩耗防止及び／又は耐擦傷性被覆は好適には、硬化されると被覆の硬度及び／又は屈折率を増加するように意図された１つ又は複数の無機充填材を通常は含むポリ（メタ）アクリレート又はシランに基づく硬質被膜である。

【0100】

硬質摩耗防止及び／又は耐擦傷性被覆は好適には、少なくとも１つのアルコキシシラン及び／又はその水解物（例えば塩化水素酸溶液及び任意選択的に凝結及び／又は硬化触媒との加水分解により得られる）を含む成分から作製される。

【0101】

本発明のために推薦される好適な被覆としては、仏国特許第２，７０２，４８６号明細書（欧州特許第０，６１４，９５７号明細書）、米国特許第４，２１１，８２３号明細書及び米国特許第５，０１５，５２３号明細書に記載されたものなどのエポキシシラン水解物に基づく被覆が挙げられる。

【0102】

摩耗防止及び／又は耐擦傷性被覆成分は、浸漬又は回転塗布により基板の主面上へ蒸着され、次に、好適な方法により（好適には熱又は紫外線を使用して）硬化される。

【0103】

摩耗防止及び／又は耐擦傷性被覆の厚さは、通常２〜１０μｍ、好適には３〜５μｍの範囲である。

【0104】

耐摩耗性被覆及び／又は耐擦傷性被覆を蒸着する前に、最終製品における後の層の耐衝撃性及び／又は接着性を改善するために基板上へプライマ被覆を塗布することが可能である。この被覆は、眼科用レンズなどの透明な高分子材料の物品に伝統的に使用される任意の耐衝撃性プライマ層であり得る。

【0105】

好ましいプライマ組成物は、ポリウレタンに基づく組成物とラテックス（特にはポリエステルユニットを任意選択的に含むポリウレタン型ラテックス）に基づく組成物である。

【0106】

このようなプライマ組成物は浸漬又は回転塗布により物品面上に蒸着され得、その後、硬化後に０．２〜２．５μｍ、好適には０．５〜１．５μｍの厚さを有するプライマ層を形成するために、２分〜２時間（一般的には約１５分）の期間少なくとも７０℃〜１００℃の温度（好適には約９０℃）で乾燥される。

【0107】

本発明による光学物品はまた、反射防止膜上に形成されるとともに表面性質を修正することができる疎水性及び／又は疎油性被覆（汚れ止め上部被膜）などの被覆を含み得る。これらの被覆は好適には、反射防止被覆の外側層上へ蒸着される。通常、これらの厚さは１０ｎｍ以下であり、好適には１〜１０ｎｍ、より好適には１〜５ｎｍである。

【0108】

疎水性被覆の代わりに、防曇性を提供する親水性被覆、又は界面活性剤を伴うと防曇性を提供する防曇性前駆体被覆が使用され得る。このような防曇性前駆体被覆の例は国際公開第２０１１／０８０４７２号パンフレットに記載されている。

【0109】

通常、本発明による光学物品は、その裏面上に耐衝撃性プライマ層、摩耗防止及び耐擦傷性層、ＵＶ防止、反射防止膜、及び疎水性及び／又は撥油性被覆、又は防曇性を提供する親水性被膜、又は防曇前駆体被覆により逐次的に被覆される基板を含む。本発明による光学物品は好適には、眼鏡（眼鏡レンズ）のための眼科用レンズ又は眼科用レンズのためのブランクである。レンズは、着色されてもされなくてもよくかつ補正されてもされなくてもよい偏光レンズ、フォトクロミックレンズ又は太陽レンズであり得る。

【0110】

光学物品の基板の前面は、本発明による耐衝撃性プライマ層、耐摩耗性層及び／又は耐擦傷性層、反射防止膜により、そして疎水性及び／又は撥油性被覆により逐次的に被覆され得る。

【0111】

一実施形態では、本発明による光学物品は可視領域においては吸収しない又はあまり多くは吸収しなく、このことは本出願の文脈では、可視範囲におけるその透過率τ_ｖ（可視範囲における相対的透過率とも呼ばれる）が９０％より高い、より好適には９５％より高い、さらに好適には９６％より高い、及び最も好適には９７％より高いということを意味する。

【0112】

透過率τ_ｖは、国際標準化定義（ＩＳＯ１３６６６、１９９８標準規格）により定義されるように理解されなければならなく、ＩＳＯ８９８０−３標準規格に従って測定される。透過率τ_ｖは３８０〜７８０ｎｍの波長範囲内で定義される。

【0113】

好適には、多層反射防止膜は、３５°以下、好適には３０以下、特には２５°以下、典型的には２０°以下の入射角θに対する国際的比色分析ＣＩＥＬ^＊ａ^＊ｂ^＊に従って２７５°〜３５０°、好適には２８０°〜３２５°、より好適には３００°〜３２０°の色調（ｈ）を有する。

【0114】

したがって、本発明の反射防止膜は入射角θに準じ一定の知覚残色変動を示す。実際、本発明者らは、本発明による眼科用レンズが大きな比色分析信頼性を有する、すなわち色相角ｈ及び色度Ｃ^＊が時間及び反復にわたって特に安定していた（σｈ^＊≦９．８及びσ^＊≦９）ということを観察した。

【0115】

以下の実施例は本発明をさらに詳細であるが非限定的なやり方で示す。

【実施例】

【0116】

１．基本手順
これらの実施例において使用される光学物品は、コロイドシリカ及びアルミニウムアセチルアセトナートの（ＧＬＹＭＯ及びＤＭＤＥＳで構成された水解物に基づく）欧州特許第０，６１４，９５７号明細の実施例３において開示された摩耗防止及び耐擦傷性被覆（ＨＣ１．５）（１．４７に等しい屈折率と３．５μｍの厚さ）を有するその前及び裏面上に被覆された６５ｍｍ径、１．５０の屈折率、−２．００ジオプタの度数、及び１．２ｍｍの中心厚さを有するＥＳＳＩＬＯＲ社のＯＲＭＡ（登録商標）レンズ基材を含み、その後前面上に本発明による反射防止膜を備える。

【0117】

前記摩耗防止及び耐擦傷性被覆は、ＧＬＹＭＯの２２４重量部、ＨＣｌ ０．１Ｎの８０．５重量部、ＤＭＤＥＳの１２０重量部、メタノール中の重量比３０％コロイドシリカの７１８重量部、アルミニウムアセチルアセトナートの１５重量部、及びエチルセロソルブの４４重量部を含む組成を蒸着及び硬化することにより得られた。この組成はまた、組成全重量に対して重量比で、３Ｍ社により製造される界面活性剤ＦＬＵＯＲＡＤＴＭ（商標）ＦＣ−４３０（登録商標）の０．１％を含んだ。

【0118】

反射防止膜の層は、真空下（蒸発源、電子銃）で蒸着により基板を加熱することなく蒸着された。

【0119】

蒸着枠は、酸化物を蒸発させるための電子銃（ＥＳＶ１４（８ｋＶ））と、予備段階中にアルゴンイオンを使用して基板の表面を作製（ＩＰＣ）するイオン銃（Ｃｏｍｍｏｎｗｅａｌｔｈ Ｍａｒｋ ＩＩ）とを備えたＬｅｙｂｏｌｄ １１０４マシンである。

【0120】

層の厚さは石英微量天秤により制御された。スペクトル測定は、ＵＲＡアクセサリ（Ｕｎｉｖｅｒｓａｌ Ｒｅｆｌｅｃｔａｎｃｅ Ａｃｃｅｓｓｏｒｙ）を有する可変入射分光器Ｐｅｒｋｉｎ−Ｅｌｍｅｒ Ｌａｍｂｄａ ８５０上で行われた。

【0121】

２．試験手順
光学物品を作製する方法は、その裏面上に摩耗防止及び耐擦傷性被覆で被覆された基板を真空蒸着室内に導入する工程と、高真空が得られるまでポンピングする工程と、アルゴンイオンビーム（陽極電流：１Ａ、陽極電圧：１００Ｖ、中和電流：１３０ｍＡ）により基板の表面を活性化する工程と、イオン照射を止める工程と、摩耗防止及び耐擦傷性被覆上に副層を形成し、その後連続蒸着により反射防止膜の様々な層を形成する工程と、最後に換気工程と、を含む。

【0122】

３．結果
実施例１〜１４において得られた眼科用レンズの構造特性と光学性能について以下に詳述する。作製された幾つかの物品の２８０〜７８０ｎｍの反射グラフを様々な入射角と共に図１〜１０に示す。

【0123】

光学値は前面のものである。反射光の係数Ｒ_ｍ^ＮＩＲ、Ｒ_ｖ、色度（Ｃ^＊）及び色調（ｈ）が１５°の入射角、標準光Ｄ６５、及び標準観測者（角度１０°）に対して提供される。

【0124】

【表1】

【0125】

【表2】

【0126】

本発明の光学物品が美観性及び頑強特性へのいかなる有害な影響も無く（σｈ^＊≦９．８とσＣ^＊≦９）可視領域において非常に良好な反射防止特性（Ｒ_ｖ＜１．５０％）とＮＩＲ領域において高反射率（≧４４．０％）の両方を保有するということを観測できた。

【0127】

さらに、実施例１〜１４において得られたレンズは突出した透過特性、摩耗及びスクラッチに対する良好な抵抗力、及び表面への機械的応力を伴う熱水浸漬処理に対する良好な抵抗力を有する。被覆の基板への接着性もまた非常に満足だった。

【0128】

４．比較例（図１１〜図１３）
図１１〜図１３は、本発明による反射防止膜の様々な積層（ＺＴｉＱＴｉＺＱ、ＺＴｉＱＺＴｉＱ、ＺＮｂＱＮｂＺＱ、ＺＴｉＱＴｉＺＱ）と、今日市場でかなり人気のある製品（Ｉｎｄｏレンズ、ＺＱＺＱ、ＴｉＱＴｉＱなどの）の様々な積層又は比較被覆様々な積層（ＴｉＺＱＺＴｉＱ、ＴｉＺＱＴｉＺＱ）とのＲ_ｍ^ＮＩＲ／Ｒ_ｖ妥協点を示す。

【0129】

これらのグラフは以下の方法に従ってプロットされる。特定Ｒ_ｖ値が選択される。次に、反射防止膜構造（すなわち各金属酸化物層の厚さ）が、定義された材料及び層の順番でもって最高Ｒ_ｍ^ＮＩＲ値に到達するように最適化される。

【0130】

図１１〜図１３から、我々は、反射防止膜が、定義された材料及び層の順番を使用する一方で標的Ｒ_ｍ^ＮＩＲ性能の曲線の上の領域に到達し得ないということを学ぶ。

【0131】

【表3】

【0132】

図１１から、ＭＩ１．５基板上に６層ＺＴｉＱＴｉＺＱ（ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２及びＳｉＯ_２層）を含む本発明による反射防止膜は４層ＺＱＺＱ及びＴｉＱＴｉＱを含む従来技術による反射防止膜と比較してそして商品Ｉｎｄｏレンズと比較して低Ｒ_ｖと高Ｒ_ｍ^ＮＩＲの両方を示すということが観察できた。本発明によるＺＴｉＱＴｉＺＱ被覆に関し、最小達成可能Ｒ_ｖは０．１％程の低さであり得る。さらに、ＺＴｉＱＴｉＺＱ積層のＮＩＲ反射率もまた、４層ＴｉＱＴｉＱ被覆のものより高くなり得る。ＺＴｉＱＴｉＺＱ積層の合計厚は、すべてが５００ｎｍより低い４層ＺＱＺＱ被覆の合計厚と４層ＴｉＱＴｉＱ被覆の合計厚との間であるということを指摘すべきである。

【0133】

図１２はまた、ＭＩ１．５基板上に６層ＺＮｂＱＮｂＺＱ（ＺｒＯ_２，Ｎｂ_２Ｏ_５及びＳｉＯ_２層）を含む本発明による反射防止膜は４層ＺＱＺＱ及びＮｂＱＮｂＱを含む従来技術による反射防止膜と比較してそして商品Ｉｎｄｏレンズと比較して低Ｒ_ｖと高Ｒ_ｍ^ＮＩＲの両方を示すということを示す。ＺＮｂＱＮｂＺＱ被覆の最小達成可能Ｒ_ｖもまた約０．１％であり、一方、ＮＩＲ領域における反射率は４層ＮｂＱＮｂＱ被覆のものより高くなり得る。ＺＮｂＱＮｂＺＱ被覆の合計厚は、すべてが５００ｎｍより低い４層ＺＱＺＱ被覆の合計厚と４層ＮｂＱＮｂＱ被覆の合計厚との間である。

【0134】

加えて、図１３は、本発明による基板から最も近い反射防止膜の層が低Ｒ_ｖと高Ｒ_ｍ^ＮＩＲの両方を有する被覆を得るようにＨＩ層でありＶＨＩ層ではないということが重要であるということを示す。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】