(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
【発明を実施するための形態】
【0014】
以下、本発明の鉄合金粒子について説明する。
しかしながら、本発明は、以下の構成に限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲において適宜変更して適用することができる。なお、以下において記載する本発明の個々の望ましい構成を2つ以上組み合わせたものもまた本発明である。
【0015】
[鉄合金粒子]
図1は、本発明の鉄合金粒子の一例を模式的に示す断面図である。
図1に示す鉄合金粒子1は、鉄合金からなる軟磁性粒子である。鉄合金粒子1は、複数の混相粒子10によって1つの粒子が構成され、混相粒子10間に粒界層20を有している。
【0016】
図2は、
図1に示す鉄合金粒子の部分拡大図である。
図2に示すように、混相粒子10は、ナノ結晶11と非晶質12とを含んでおり、その周囲が粒界層20によって囲まれている。ナノ結晶11は、結晶子径が10nm以上100nm以下の結晶粒子である。混相粒子10の主相は、ナノ結晶11及び非晶質12のいずれでもよい。
【0017】
図2に示すように、ナノ結晶11間にも粒界が存在するが、
図1に示す鉄合金粒子1は、ナノ結晶11間の粒界とは異なる粒界層20を有している。
【0018】
本発明の鉄合金粒子においては、粒子の相状態がナノ結晶と非晶質とを含む混相であるため、非晶質相のみである場合に比べて飽和磁束密度を高くすることができる。
【0019】
混相粒子内にナノ結晶が存在することは、例えば、透過型電子顕微鏡(TEM)等を用いて粒子の断面を観察することで確認することができる。ナノ結晶の結晶子径についても同様に、TEM等を用いた断面観察から測定することができる。一方、混相粒子内に非晶質が存在することは、例えば、鉄合金粒子のX線回折パターンから確認することができる。
【0020】
本発明の鉄合金粒子において、鉄合金は、Fe、Si、P、B、C及びCuを組成に含む。Feは磁性を担う主元素であり、その割合は50at%より多い。Si、P、B及びCは非晶質の形成を担う元素であり、Cuはナノ結晶化に寄与する元素である。
【0021】
本発明の鉄合金粒子においては、鉄合金の組成をFe
aB
bSi
cP
xC
yCu
zで表したとき、79≦a≦86at%、5≦b≦13at%、0<c≦8at%、1≦x≦8at%、0≦y≦5at%、0.4≦z≦1.4at%、及び、0.08≦z/x≦0.8であることが好ましい。b、c及びxについては、6≦b≦10at%、2≦c≦8at%、及び、2≦x≦5at%であることがより好ましい。y、z及びz/xについては、0≦y≦3at%、0.4≦z≦1.1at%、及び、0.08≦z/x≦0.55であることがより好ましい。なお、Feの3at%以下を、Ti、Zr、Hf、Nb、Ta、Mo、W、Cr、Co、Ni、Al、Mn、Ag、Zn、Sn、As、Sb、Bi、Y、N、O及び希土類元素のうち、1種類以上の元素で置換してもよい。
【0022】
FeSiPBCCuの組成を有する非晶質の合金を熱処理すると、2段階で結晶化が進む。1段階目では、粒子内にナノ結晶が析出し、2段階目では、残りの非晶質が結晶化する。そのため、示差走査熱量分析(DSC)測定により、第一結晶化発熱量及び第二結晶化発熱量を求め、第一結晶化発熱量が0となる状態を100%とした場合の、発熱量の減少率を「ナノ結晶の析出率」として評価することができる。
【0023】
さらに、本発明の鉄合金粒子においては、粒子内に粒界層を導入することにより、高周波特性を改善することができる。その理由は、以下のように考えられる。
【0024】
コイルやインダクターの損失であるコアロスPcvは、以下の式(1)で表される。
Pcv = Phv + Pev = Wh・f + A・f
2・d
2/ρ (1)
Pcv:コアロス(kW/m
3)
Phv:ヒステリシス損失(kW/m
3)
Pev:渦電流損失(kW/m
3)
f:周波数(Hz)
Wh:ヒステリシス損失係数(kW/m
3・Hz)
d:粒子径(m)
ρ:粒内電気抵抗率(Ω・m)
A:係数
【0025】
高周波における損失は、周波数の二乗で大きくなる渦電流損失Pevが支配的となる。したがって、高周波特性を改善するためには、Pevを下げることが必須である。上記の式(1)より、Pevは、周波数、粒子径、粒内電気抵抗率の影響を受ける。本発明においては、粒子内に粒界層を導入することにより、粒内電気抵抗率を上げることができるため、Pevを下げることができる。その結果、高周波特性が改善すると考えられる。
【0026】
本発明の鉄合金粒子は、1つの粒子内に少なくとも1つの粒界層を有していればよい。
粒子内に粒界層が存在することは、例えば、TEM等を用いて粒子の断面を観察したとき、粒界層によって囲まれた混相粒子に相当する部分のコントラストが異なることから確認することができる。
【0027】
本発明の鉄合金粒子が有する粒界層は、鉄合金に含まれる金属元素と、酸素元素とを含む酸化物からなる層である。
したがって、粒子の断面について、酸素の元素マッピングを行うことにより、粒界層の厚みを測定することが可能である。
【0028】
本発明の鉄合金粒子においては、粒界層を厚くすることによって、粒内電気抵抗率を高くすることができるが、一方で、粒界層が厚くなると飽和磁束密度が低下する。これは、非磁性の酸化物、又は、飽和磁束密度の低い酸化物の体積比率が高くなるためである。したがって、高周波特性と飽和磁束密度を両立させる観点からは、粒界層の厚みが200nm以下であることが好ましく、50nm以下であることがより好ましい。また、粒界層の厚みは、1nm以上であることが好ましく、10nm以上であることがより好ましい。
なお、粒界層の厚みとは、1μm×1μmの範囲に視野を定めて断面観察をし、粒界層の厚みを線分法で10箇所以上測定したとき、当該視野における粒界層の厚みの平均値を意味する。
【0029】
本発明の鉄合金粒子の平均粒径は特に限定されないが、例えば、0.1μm以上であることが好ましく、また、100μm以下であることが好ましい。
なお、平均粒径とは、1μm×1μmの範囲に視野を定めて断面観察をし、各粒子の粒径を線分法で10箇所以上測定したとき、当該視野に存在する各粒子の円相当径の平均粒径を意味する。
【0030】
[鉄合金粒子の製造方法]
本発明の鉄合金粒子の製造方法は、Fe、Si、P、B、C及びCuを組成に含む鉄合金からなる非晶質の材料に剪断加工を行うことにより、粒子状に塑性変形させるとともに、該粒子内に粒界層を導入する工程と、上記粒界層を有する粒子に熱処理を行うことにより、結晶子径が10nm以上100nm以下のナノ結晶を該粒子内に析出させる工程と、を含む。
【0031】
本発明の鉄合金粒子の製造方法において、鉄合金からなる非晶質の材料の形態は特に限定されず、例えば、薄帯状、繊維状、厚板状等が挙げられる。中でも、本発明の鉄合金粒子の製造方法において、剪断加工は、鉄合金からなる非晶質の合金薄帯に行われることが好ましい。
【0032】
上記合金薄帯は、Feを含む合金を、アーク溶解、高周波誘導溶解等の手段で溶解して合金溶湯とし、この合金溶湯を急冷することによって、長尺のリボン状の薄帯として得られる。合金溶湯を急冷する方法としては、例えば、単ロール急冷法等の方法が用いられる。
【0033】
本発明の鉄合金粒子の製造方法において、鉄合金は、Fe、Si、P、B、C及びCuを組成に含む。
【0034】
本発明の鉄合金粒子の製造方法においては、鉄合金の組成をFe
aB
bSi
cP
xC
yCu
zで表したとき、79≦a≦86at%、5≦b≦13at%、0<c≦8at%、1≦x≦8at%、0≦y≦5at%、0.4≦z≦1.4at%、及び、0.08≦z/x≦0.8であることが好ましい。b、c及びxについては、6≦b≦10at%、2≦c≦8at%、及び、2≦x≦5at%であることがより好ましい。y、z及びz/xについては、0≦y≦3at%、0.4≦z≦1.1at%、及び、0.08≦z/x≦0.55であることがより好ましい。なお、Feの3at%以下を、Ti、Zr、Hf、Nb、Ta、Mo、W、Cr、Co、Ni、Al、Mn、Ag、Zn、Sn、As、Sb、Bi、Y、N、O及び希土類元素のうち、1種類以上の元素で置換してもよい。
【0035】
本発明の鉄合金粒子の製造方法において、剪断加工は、高速回転式粉砕機を用いて行われることが好ましい。高速回転式粉砕機とは、ハンマー、ブレード、ピン等を高速回転させ、剪断により粉砕を行う装置である。このような高速回転式粉砕機としては、例えば、ハンマーミル、ピンミル等が挙げられる。また、高速回転式粉砕機は、粒子を循環させる機構を有することが好ましい。
【0036】
高速回転式粉砕機を用いた剪断加工では、粒子の粉砕に加えて、塑性変形や複合化が行われることによって、粒子内に粒界層を導入することができる。
【0037】
高速回転式粉砕機のローターの周速は、粒子内に粒界層を充分に導入する観点からは、40m/s以上であることが好ましい。上記周速は、例えば、150m/s以下であることが好ましく、120m/s以下であることがより好ましい。
【0038】
本発明の鉄合金粒子の製造方法においては、剪断加工の前に、鉄合金からなる非晶質の材料に対して熱処理が行われることが好ましい。この熱処理により、粒界層となる酸化物層を表面に形成することができる。熱処理の条件を変化させることにより、粒界層の厚みを変化させることができる。また、剪断加工を行う際の温度を変化させることによっても、粒界層の厚みを変化させることができる。
【0039】
本発明の鉄合金粒子の製造方法においては、熱処理の温度が高くなるほど粒界層の厚みが大きくなる。熱処理の温度は特に限定されないが、例えば、80℃以上であることが好ましく、また、第一結晶化温度未満であることが好ましい。
【0040】
本発明の鉄合金粒子の製造方法においては、剪断加工の後、粒界層を有する粒子に熱処理を行うことにより、該粒子内にナノ結晶を析出させることができる。熱処理の条件を変化させることにより、ナノ結晶の析出率を変化させることができる。
【0041】
本発明の鉄合金粒子の製造方法において、ナノ結晶を析出させるための熱処理の温度は特に限定されないが、酸化物層を形成するための熱処理の温度よりも高いことが好ましく、例えば、500℃以上であることが好ましく、また、第一結晶化温度未満であることが好ましい。
【実施例】
【0042】
以下、本発明の鉄合金粒子をより具体的に開示した実施例を示す。なお、本発明は、これらの実施例のみに限定されるものではない。
【0043】
[合金粒子の作製]
(実施例1−1)
原料として、単ロール急冷法により作製された、FeSiPBCCuの組成を有する合金薄帯を準備した。実施例で用いた組成はFe
84.8Si
0.5B
9.4P
3.5Cu
0.8C
1である。この合金薄帯を、高速回転式粉砕機を用いて粉砕した。
高速回転式粉砕機としては、ハイブリダイゼーションシステム(奈良機械製作所社製、NHS−0型)を使用した。表1には、処理時間(ローターの回転時間)及び周速(ローターの回転速度)を示している。
粉砕後、500℃で1時間の熱処理を行った。以上により、合金粒子を作製した。
【0044】
(実施例1−2〜実施例1−8)
処理時間及び周速を表1に示す値に変更したことを除いて、実施例1−1と同様の処理を行うことにより、合金粒子を作製した。
【0045】
(比較例1−1〜比較例1−4)
処理時間及び周速を表1に示す値に変更したことを除いて、実施例1−1と同様の処理を行うことにより、合金粒子を作製した。
【0046】
(比較例1−5)
高速回転式粉砕機に代えて、高速衝突式粉砕機を用いて粉砕を行い、処理時間を表1に示す値に変更したことを除いて、実施例1−1と同様の処理を行うことにより、合金粒子を作製した。
高速衝突式粉砕機としては、ジェットミル(ホソカワミクロン社製、AS−100型)を使用した。
【0047】
(比較例1−6〜比較例1−8)
処理時間を表1に示す値に変更したことを除いて、比較例1−5と同様の処理を行うことにより、合金粒子を作製した。
【0048】
(比較例1−9)
粉砕後の熱処理を行わなかったことを除いて、実施例1−1と同様の処理を行うことにより、合金粒子を作製した。
【0049】
[相状態の確認]
実施例1−1〜実施例1−8及び比較例1−1〜比較例1−9で作製した合金粒子について、X線回折パターンから結晶性を確認した。また、実施例1−1〜実施例1−8及び比較例1−1〜比較例1−9で作製した合金粒子をシリコーン樹脂中に分散し、熱硬化させた後、断面研磨を行った。得られた合金粒子の断面のTEM観察を行うことにより、結晶子径が10nm以上100nm以下のナノ結晶が析出しているか否かを確認した。各合金粒子の相状態を表1に示す。
【0050】
[粒界層の有無]
上記で得られた合金粒子の断面のTEM観察を行うことにより、粒子内に粒界層が存在するか否かを確認した。粒界層の有無を表1に示す。
【0051】
[飽和磁束密度]
実施例1−1〜実施例1−8及び比較例1−1〜比較例1−9で作製した合金粒子について、振動試料型磁力計(VSM装置)を用いて飽和磁束密度を測定した。その結果を表1に示す。
【0052】
[粒内電気抵抗率]
上記で得られた合金粒子の断面に対し、四端子法により粒内電気抵抗率を測定した。その結果を表1に示す。
【0053】
[渦電流損失]
上記で測定した粒内電気抵抗率から、渦電流損失を算出した。上記の式(1)に基づきPcvを測定し、同式に基づいてPhvとPevを算出した。測定条件はBm=40mT、f=0.1〜1MHz、測定機は岩崎通信機社製B−HアナライザーSY8218を用いた。その結果を表1に示す。
【0054】
【表1】
【0055】
実施例1−1〜実施例1−8では、非晶質に加えてナノ結晶が粒子に含まれている。そのため、ナノ結晶が粒子に含まれていない比較例1−9と比べて、高い飽和磁束密度が得られている。
【0056】
また、実施例1−1〜実施例1−8では、高速回転式粉砕機を用いた粉砕により、粒子内に粒界層が導入されている。その結果、粒内電気抵抗率が高くなり、渦電流損失が減少するため、高周波特性が改善する効果が得られる。
【0057】
これに対し、比較例1−1〜比較例1−8では、粒子内に粒界層が導入されていないため、高周波特性が改善する効果は得られない。比較例1−1〜比較例1−4のように、高速回転式粉砕機を用いた場合でも、処理時間が短いと、粒子内に粒界層が導入されないと考えられる。また、比較例1−5〜比較例1−8のように、高速衝突式粉砕機を用いた場合、チッピングによる粉砕は起こるが、粒子内に粒界層を導入することはできないと考えられる。
【0058】
[合金粒子の作製]
(実施例2−1)
実施例1−1と同様に、原料として、単ロール急冷法により作製された、FeSiPBCCuの組成を有する合金薄帯を準備した。この合金薄帯に対して、表2に示す条件で熱処理を行った後、実施例1−1と同様の処理を行うことにより、合金粒子を作製した。
【0059】
(実施例2−2〜実施例2−8)
合金薄帯に対する熱処理の条件を表2に示す値に変更したことを除いて、実施例2−1と同様の処理を行うことにより、合金粒子を作製した。
【0060】
[相状態の確認]
実施例2−1〜実施例2−8で作製した合金粒子について、実施例1−1等と同様の方法により相状態を確認した。各合金粒子の相状態の析出率を表2に示す。
【0061】
[粒界層の厚み]
実施例2−1〜実施例2−8で作製した合金粒子をシリコーン樹脂中に分散し、熱硬化させた後、断面研磨を行った。得られた合金粒子の断面のTEM観察を行い、酸素の元素マッピングを行うことにより、粒界層の厚みを測定した。その結果を表2に示す。
【0062】
[飽和磁束密度]
実施例2−1〜実施例2−8で作製した合金粒子について、実施例1−1等と同様の方法により飽和磁束密度を測定した。その結果を表2に示す。
【0063】
[粒内電気抵抗率]
実施例2−1〜実施例2−8で作製した合金粒子について、実施例1−1等と同様の方法により粒内電気抵抗率を測定した。その結果を表2に示す。
【0064】
【表2】
【0065】
合金薄帯に対する熱処理の条件を変化させることにより、表面の酸化物層の厚みを変化させることができる。具体的には、熱処理の温度が高くなるほど、また、熱処理の時間が長くなるほど、酸化物層の厚みは大きくなる。粒界層の厚みは酸化物層の厚みに対応するため、表2に示すように、合金薄帯に対する熱処理の条件を変化させることにより、粒界層の厚みを変化させることができる。
【0066】
実施例2−1〜実施例2−8の結果から、粒界層を厚くすることによって、粒内電気抵抗率を高くすることができるが、一方で、粒界層が厚くなると飽和磁束密度が低下する。表2より、粒界層の厚みを200nm以下とすることにより、高い粒内電気抵抗率と飽和磁束密度を得ることができる。
【0067】
[合金粒子又は金属粒子の作製]
(比較例3−1及び比較例3−2)
原料として、単ロール急冷法により作製された、FeSiBの組成を有する合金薄帯を準備し、表3に示す条件で実施例1−1と同様の処理を行うことにより、合金粒子を作製した。
【0068】
(比較例3−3〜比較例3−5)
原料として、単ロール急冷法により作製された、FeSiの組成を有する合金薄帯を準備し、表3に示す条件で実施例1−1と同様の処理を行うことにより、合金粒子を作製した。
【0069】
(比較例3−6〜比較例3−8)
原料として、単ロール急冷法により作製された、Feの組成を有する金属薄帯を準備し、表3に示す条件で実施例1−1と同様の処理を行うことにより、金属粒子を作製した。
【0070】
(比較例3−9)
原料として、単ロール急冷法により作製された、FeSiBの組成を有する合金薄帯を準備し、表3に示す条件で比較例1−7と同様の処理を行うことにより、合金粒子を作製した。
【0071】
比較例3−1〜比較例3−9で作製した合金粒子又は金属粒子について、実施例1−1等と同様に評価した。その結果を表3に示す。
【0072】
【表3】
【0073】
表3より、鉄合金の組成がFeSiBである比較例3−1では、非晶質の合金粒子とすることができるものの、ナノ結晶が析出せず、高い飽和磁束密度が得られていない。さらに、比較例3−2及び比較例3−9では、粒子内に粒界層が導入されていないため、粒内電気抵抗率が高くならず、渦電流損失が増加している。
【0074】
鉄合金の組成がFeSiである比較例3−3〜比較例3−5、及び、鉄合金でない比較例3−6〜比較例3−8では、合金粒子又は金属粒子が結晶質であるため、粒内電気抵抗率が高くならず、渦電流損失が増加している。