(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】6981818
(24)【登録日】2021年11月22日
(45)【発行日】2021年12月17日
(54)【発明の名称】レーザ光合成装置
(51)【国際特許分類】
H01S 3/23 20060101AFI20211206BHJP
B23K 26/073 20060101ALI20211206BHJP
B23K 26/064 20140101ALI20211206BHJP
H01S 3/00 20060101ALI20211206BHJP
【FI】
H01S3/23
B23K26/073
B23K26/064 A
H01S3/00 B
【請求項の数】5
【全頁数】9
(21)【出願番号】特願2017-167092(P2017-167092)
(22)【出願日】2017年8月31日
(65)【公開番号】特開2019-46919(P2019-46919A)
(43)【公開日】2019年3月22日
【審査請求日】2020年7月30日
(73)【特許権者】
【識別番号】391009833
【氏名又は名称】株式会社ナ・デックス
(74)【代理人】
【識別番号】110000578
【氏名又は名称】名古屋国際特許業務法人
(72)【発明者】
【氏名】上田 直人
【審査官】
村井 友和
(56)【参考文献】
【文献】
特開2002−096187(JP,A)
【文献】
特開2017−124423(JP,A)
【文献】
特開2015−188900(JP,A)
【文献】
国際公開第2015/029141(WO,A1)
【文献】
特開2005−254328(JP,A)
【文献】
特開2007−029952(JP,A)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
H01S3/00−3/30
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
レーザ加工用のレーザ光合成装置であって、
複数のレーザ光を合成する光学素子と、
変換部と、
を備え、
前記光学素子は、エネルギー分布がガウシアン型の第1レーザ光と、エネルギー分布がトップハット型の第2レーザ光とを光軸が重なるように合成し、
前記変換部は、エネルギー分布がガウシアン型のレーザ光を前記第2レーザ光に変換する、レーザ光合成装置。
【請求項2】
請求項1に記載のレーザ光合成装置であって、
前記光学素子により合成された合成レーザ光を集光する集光レンズを有する出力ヘッドをさらに備え、
前記光学素子は、前記出力ヘッドに格納される、レーザ光合成装置。
【請求項3】
レーザ加工用のレーザ光合成装置であって、
複数のレーザ光を合成する光学素子を備え、
前記光学素子は、エネルギー分布がガウシアン型の第1レーザ光と、エネルギー分布が環状型の第2レーザ光とを光軸が重なるように、かつ、それぞれのエネルギー分布におけるピークエネルギーの50%以上のエネルギーを有する領域が重ならないように合成する無偏光ビームスプリッタである、レーザ光合成装置。
【請求項4】
レーザ加工用のレーザ光合成装置であって、
複数のレーザ光を合成するダイクロイックミラーを備え、
前記ダイクロイックミラーは、エネルギー分布がガウシアン型の第1レーザ光と、エネルギー分布が環状型の第2レーザ光とを光軸が重なるように波長合成する、レーザ光合成装置。
【請求項5】
請求項2から請求項4のいずれか1項に記載のレーザ光合成装置であって、
エネルギー分布がガウシアン型のレーザ光を前記第2レーザ光に変換する変換部をさらに備える、レーザ光合成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、レーザ光合成装置に関する。
【背景技術】
【0002】
レーザ光を発生する発振器と、発生したレーザ光を伝送する光ファイバと、レーザ光を集光する集光レンズとを備えたレーザ加工機が公知である。レーザ加工機においては、集光性に優れるエネルギー分布がガウシアン型のレーザ光(以下、「ガウシアン分布のレーザ光」ともいう。)が一般に使用される。
【0003】
ガウシアン分布のレーザ光を用いることにより、直径が数10〜数100μmの微小領域に高密度のエネルギーを集中的に印加できる。そのため、被加工材の厚み方向において表面から離間した深い加工点で小面積の溶融が可能となる。その結果、加工点以外の部位の不要な温度上昇を抑え、熱歪(つまり加工歪)を極力排除した局所的かつ高速な加工が行える。
【0004】
しかし、高密度のレーザ光を用いた加工では、エネルギーの集中印加によって、被加工材の内部にポロシティと呼ぶ空間部が形成されることがある。このポロシティは、溶融金属の急激な金属蒸気の発生などに起因して発生する。また、金属蒸気が被加工材の表面に噴出し、その際に溶融した被加工材の一部が飛散して被加工材表面に異物として付着するスパッタが生じやすい。
【0005】
このような不具合は、レーザ光の照射スポット径を大きくしたり、エネルギー分布をトップハット型にしたりすることで抑制できるが、このような対応では被加工材への照射面積が大きく、且つ加工深さが浅くなる。そのため、加工歪などの不具合が発生しやすくなる。
【0006】
これに対し、真空環境下でレーザ加工を行うことで、上記不具合を抑制することが可能であることが報告されている(非特許文献1参照)。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【0007】
【非特許文献1】「真空中YAGレーザ溶接現象」、溶接学会全国大会講演概要、第67集、2000年9月、pp.92,93
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
真空環境下でのレーザ加工は、レーザ光を取り込み可能な窓を有する真空チャンバ内で行われる。このような真空チャンバを使用すると、真空チャンバ内の被加工材の取り換えや減圧に時間を要するほか、被加工材の寸法制約も生じる。
【0009】
本開示の一局面は、加工歪を抑えつつ、高品質かつ高効率の加工が行えるレーザ光を出力できるレーザ光合成装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0010】
本開示の一態様は、レーザ加工用のレーザ光合成装置である。レーザ光合成装置は、複数のレーザ光を合成する光学素子を備える。光学素子は、エネルギー分布がガウシアン型の第1レーザ光と、エネルギー分布がトップハット型又は環状型の第2レーザ光とを光軸が重なるように合成する。
【0011】
このような構成によれば、ガウシアン型の第1レーザ光と、トップハット型又は環状型の第2レーザ光との出力を個別に制御して最適化することで、真空チャンバを用いることなく、ポロシティ及びスパッタの発生を抑制しつつ、被加工材に対し深い加工点で小面積の溶融加工が可能なレーザ光を出力することができる。
【0012】
本開示の一態様は、光学素子により合成された合成レーザ光を集光する集光レンズを有する出力ヘッドをさらに備えてもよい。また、光学素子は、出力ヘッドに格納されてもよい。このような構成によれば、被加工材に合成レーザ光を照射する出力ヘッドでレーザ光の合成が行われるため、合成したレーザ光の伝送中にエネルギー分布が乱れることを抑制できる。そのため、加工精度を高めることができる。
【0013】
本開示の一態様では、第2レーザ光は、エネルギー分布が環状型であってもよい。このような構成によれば、光軸から離間した位置にエネルギーピークを配置及び制御できるので、ポロシティ及びスパッタの発生をより確実に抑制できる。
【0014】
本開示の一態様は、第1レーザ光と第2レーザ光とを、それぞれのエネルギー分布におけるピークエネルギーの50%以上のエネルギーを有する領域が重ならないように合成してもよい。このような構成によれば、第1レーザ光と第2レーザ光との波長を同じにすることができる。そのため、第1レーザ光と第2レーザ光とに同一の発振器を用いることができる。あるいは、単一の発振器とビームスプリッタとの組合せによって、第1レーザ光と第2レーザ光とを生成できる。その結果、装置の構成を簡易化できる。
【0015】
本開示の一態様では、光学素子は無偏光ビームスプリッタであってもよい。このような構成によれば、容易かつ確実に第1レーザ光と第2レーザ光とを空間的に(つまり、エネルギー分布におけるピークエネルギーの50%以上のエネルギーを有する領域が重ならないように)合成することができる。
【0016】
本開示の一態様は、第1レーザ光と第2レーザ光とを波長合成してもよい。このような構成によれば、第1レーザ光及び第2レーザ光のエネルギー分布やエネルギー比率が制限されないため、出力される合成レーザ光の設計自由度が高められる。
【0017】
本開示の一態様では、光学素子はダイクロイックッミラーであってもよい。このような構成によれば、容易かつ確実に第1レーザ光と第2レーザ光とを波長合成することができる。
【0018】
本開示の一態様は、エネルギー分布がガウシアン型のレーザ光を第2レーザ光に変換する変換部をさらに備えもよい。このような構成によれば、第1レーザ光と第2レーザ光とを同種の発振器を用いて生成できるので、装置の構成を簡易化できる。
【図面の簡単な説明】
【0019】
【
図1】
図1は、実施形態におけるレーザ光合成装置の構成を概略的に示すブロック図である。
【
図2】
図2Aは、ガウシアン型のエネルギー分布を示す模式図であり、
図2Bは、トップハット型のエネルギー分布を示す模式図であり、
図2Cは、環状型のエネルギー分布を示す模式図である。
【
図3】
図3は、
図1のレーザ光合成装置の出力ヘッドの構成を概略的に示すブロック図である。
【
図4】
図4Aは、ガウシアン型のエネルギー分布とトップハット型のエネルギー分布とを合成した複合型のエネルギー分布を示す模式図であり、
図4Bは、ガウシアン型のエネルギー分布と環状型のエネルギー分布とを合成した複合型のエネルギー分布を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【0020】
以下、本開示が適用された実施形態について、図面を用いて説明する。
[1.第1実施形態]
[1−1.構成]
図1に示すレーザ光合成装置1は、被加工材を加工するために、エネルギー分布がガウシアン型の第1レーザ光とエネルギー分布がトップハット型又は環状型の第2レーザ光とを合成した合成レーザ光を生成する装置である。この合成レーザ光を用いた加工としては、切断、溶接、切削、穿孔等が挙げられる。
【0021】
レーザ光合成装置1は、
図1に示すように、第1発振器2と、第2発振器3と、第1レーザ光伝送路4と、第2レーザ光伝送路5と、出力ヘッド6と、変換部7と、光学素子8とを備える。
【0022】
<第1発振器及び第2発振器>
第1発振器2は、ガウシアン型のエネルギー分布を有するレーザ光を発生させる発振回路2Aと、発振回路2Aに電力を供給する電源2Bとを有する。第2発振器3は、第1発振器2と同様に、ガウシアン型のエネルギー分布を有するレーザ光を発生させる発振回路3Aと、発振回路3Aに電力を供給する電源3Bとを有する。
【0023】
第1発振器2及び第2発振器3から発生するレーザ光は、
図2Aに示すようにエネルギー分布がガウス分布とみなせるレーザ光である。このレーザ光は、光軸Oがエネルギー分布のピーク点となる。
【0024】
第1発振器2から発生するレーザ光は、そのまま第1レーザ光として後述する光学素子8に伝送される。一方、第2発振器3から発生するレーザ光は、後述する変換部7によって第2レーザ光に変換された後に光学素子8に伝送される。
【0025】
第1発振器2及び第2発振器3は、筐体9内に配置されている。第1発振器2と第2発振器3とは、独立してレーザ出力や輝度を調整することができる。第1発振器2及び第2発振器3から発生したレーザ光は、それぞれ、第1レーザ光伝送路4及び第2レーザ光伝送路5によって、出力ヘッド6へ伝送される。
【0026】
<第1レーザ光伝送路及び第2レーザ光伝送路>
第1レーザ光伝送路4は、第1発振器2が生成したレーザ光を出力ヘッド6に伝送する。また、第2レーザ光伝送路5は、第2発振器3が生成したレーザ光を出力ヘッド6に伝送する。
【0027】
第1レーザ光伝送路4及び第2レーザ光伝送路5としては、例えば光ファイバが使用できる。また、
図1に示すように、2つの光ファイバをカプラ10で接続して第1レーザ光伝送路4及び第2レーザ光伝送路5をそれぞれ形成してもよい。
【0028】
<出力ヘッド>
出力ヘッド6は、第1レーザ光及び第2レーザ光を合成した合成レーザ光Lを被加工材W1,W2に照射し、溶接等の加工を行う。
【0029】
出力ヘッド6は、
図3に示すように、集光レンズ6Aと、第1コリメートレンズ6Bと、第2コリメートレンズ6Cとを有する。また、出力ヘッド6は、変換部7及び光学素子8を格納している。
【0030】
集光レンズ6Aは、光学素子8により合成された合成レーザ光Lを被加工材W1,W2に集光する。
第1コリメートレンズ6B及び第2コリメートレンズ6Cは、それぞれ、第1発振器2及び第2発振器3から発生したレーザ光を平行な光束に変換する。
【0031】
出力ヘッド6には、第1レーザ光伝送路4及び第2レーザ光伝送路5が接続されている。第1レーザ光伝送路4と第2レーザ光伝送路5とは、互いに異なる向きでレーザ光を出力ヘッド6内に出力する。具体的には、第1レーザ光伝送路4及び第2レーザ光伝送路5は、光学素子8にてそれぞれが伝送したレーザ光が交わるように配置されている。
【0032】
<変換部>
変換部7は、第2発振器3から発生したレーザ光のエネルギー分布をトップハット型又は環状型に変換する。つまり、変換部7は、エネルギー分布がガウシアン型のレーザ光を第2レーザ光に変換する。
【0033】
変換部7によって生成される第2レーザ光は、
図2Bに示すトップハット型、又は
図2Cに示す環状型のエネルギー分布を有する。トップハット型のエネルギー分布では、光軸O近傍のエネルギーがほぼ一定(つまりフラット)となる。トップハット型では、通常ピーク点が存在しない。また、環状型のエネルギー分布では、光軸Oでの第1レーザ光との干渉を避ける為、エネルギーが可能な限りゼロに近く、光軸Oから一定距離離間した位置にピーク点が円環状に配置される。
【0034】
変換部7は、
図3に示すように、出力ヘッド6内において、第2コリメートレンズ6Cと光学素子8との間に配置されている。
変換部7としては、例えば、ビームシェーパ、ディフューザ、ホモジナイザ等が使用できる。また、変換部7としてこれらを組み合わせたものを使用してもよい。
【0035】
<光学素子>
光学素子8は、複数のレーザ光を合成する。具体的には、光学素子8は、エネルギー分布がガウシアン型の第1レーザ光と、エネルギー分布がトップハット型又は環状型の第2レーザ光とを光軸Oが重なる(つまり、一致する)ように合成し、合成レーザ光Lを出力する。
【0036】
第2レーザ光のエネルギー分布がトップハット型の場合、合成レーザ光Lは、
図4Aに示すエネルギー分布を有する。また、第2レーザ光のエネルギー分布が環状型の場合、合成レーザ光Lは、
図4Bに示すエネルギー分布を有する。
【0037】
第1レーザ光と第2レーザ光との合成の方法としては、(1)それぞれのエネルギー分布におけるピークエネルギーの50%以上のエネルギーを有する領域(
図4B中のS1,S2)が重ならないように合成(以下、「空間合成」ともいう)する方法と、(2)第1レーザ光と第2レーザ光とを波長合成する方法とがある。
【0038】
空間合成では、第1レーザ光と第2レーザ光との波長を同じにすることができる。そのため、第1レーザ光と第2レーザ光とに同一の発振器を用いることができる。あるいは、単一の発振器とビームスプリッタとの組合せによって、第1レーザ光と第2レーザ光とを生成できる。その結果、装置の構成を簡易化できる。さらに、第1レーザ光と第2レーザ光との波長を同じにすることができるので、変換部7によってエネルギー分布を変換する際の制約が生じ難い。
【0039】
一方、波長合成では、第1レーザ光及び第2レーザ光のエネルギー分布やエネルギー比率が制限されないため、出力される合成レーザ光Lの設計自由度が高められる。また、第1レーザ光と第2レーザ光との干渉による輝度やエネルギーの変動が生じにくい。そのため、合成に求められる精度が低くなるので、装置のコストを下げることができる。
【0040】
第2レーザ光のピークエネルギー(つまり最大強度)は、
図4A及び
図4Bに示すように、第1レーザ光の最大強度よりも小さくすることが好ましい。これにより、第1レーザ光のピークエネルギーによって加工精度を高めつつ、第1レーザ光のピーク点の周囲に配置される第2レーザ光のエネルギー分布によって、ポロシティ及びスパッタの発生をより確実に抑制できる。
【0041】
また、第1レーザ光の最大強度に対する、第2レーザ光の最大強度の比率の下限としては、40%が好ましく、50%がより好ましい。一方、上記比率の上限としては、80%が好ましく、70%がより好ましい。上記比率が小さすぎると、ポロシティ及びスパッタの発生が不十分となるおそれがある。逆に、上記比率が大き過ぎると、合成レーザ光Lの光軸O以外におけるエネルギーピークが増大し、加工精度が低下するおそれがある。
【0042】
空間合成をする場合は、光学素子8として、例えば無偏光ビームスプリッタが使用できる。無偏光ビームスプリッタは、入射光を透過光と反射光とに所定の比で分割する光学素子である。
【0043】
波長合成をする場合は、光学素子8として、例えばダイクロイックプリズム等のダイクロイックミラーが使用できる。ダイクロイックミラーは、入射光を波長に基づいて透過光と反射光とに分離する光学素子である。
【0044】
図3に示すように、無偏光ビームスプリッタ又はダイクロイックミラーの透過光及び反射光の出口側から第1レーザ光及び第2レーザ光を入力することで、これらのレーザ光が合成された合成レーザ光Lが得られる。
【0045】
[1−2.効果]
以上詳述した実施形態によれば、以下の効果が得られる。
(1a)ガウシアン型の第1レーザ光と、トップハット型又は環状型の第2レーザ光との出力を個別に制御して最適化することで、真空チャンバを用いることなく、ポロシティ及びスパッタの発生を抑制しつつ、被加工材に対し深い加工点で小面積の溶融加工が可能なレーザ光を出力することができる。そのため、例えば溶接加工において、加工歪の低減と、小面積で板厚方向に深い溶融接合とを両立することができる。
【0046】
(1b)被加工材に合成レーザ光Lを照射する出力ヘッド6でレーザ光の合成が行われるため、合成したレーザ光の伝送中にエネルギー分布が乱れることを抑制できる。そのため、加工精度を高めることができる。
【0047】
(1c)変換部7でエネルギー分布をガウシアン型からトップハット型又は環状型に変換することによって、第1レーザ光と第2レーザ光とを同種の発振器を用いて生成できる。その結果、装置の構成を簡易化できる。
【0048】
[2.他の実施形態]
以上、本開示の実施形態について説明したが、本開示は、上記実施形態に限定されることなく、種々の形態を採り得ることは言うまでもない。
【0049】
(2a)上記実施形態のレーザ光合成装置1において、光学素子8は、必ずしも出力ヘッド6内に格納される必要はない。
例えば、光学素子8を筐体9内に配置し、筐体9内で合成レーザ光を生成してもよい。この場合、筐体9と出力ヘッド6とは、1つの適切なレーザ光伝送路で接続される。
【0050】
また、例えば光学素子8をレーザ光伝送路内に配置してもよい。具体的には、
図1の2つのカプラ10を1つにまとめ、このカプラ内に光学素子8を配置してもよい。この場合、カプラと出力ヘッド6とは、1つの適切なレーザ光伝送路で接続される。
【0051】
(2b)上記実施形態のレーザ光合成装置1は、必ずしも変換部7を備えなくてもよい。エネルギー分布がトップハット型又は環状型のレーザ光を発生する第2発振器3を用いれば、変換部7は省略することができる。
【0052】
(2c)上記実施形態における1つの構成要素が有する機能を複数の構成要素として分散させたり、複数の構成要素が有する機能を1つの構成要素に統合したりしてもよい。また、上記実施形態の構成の一部を省略してもよい。また、上記実施形態の構成の少なくとも一部を、他の上記実施形態の構成に対して付加、置換等してもよい。なお、特許請求の範囲に記載の文言から特定される技術思想に含まれるあらゆる態様が本開示の実施形態である。
【符号の説明】
【0053】
1…レーザ光合成装置、2…第1発振器、2A…発振回路、2B…電源、
3…第2発振器、3A…発振回路、3B…電源、4…第1レーザ光伝送路、
5…第2レーザ光伝送路、6…出力ヘッド、6A…集光レンズ、
6B…第1コリメートレンズ、6C…第2コリメートレンズ、7…変換部、
8…光学素子、9…筐体、10…カプラ。