(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
上記(3)について詳述すると、p−Si・TFTの製造工程には400〜600℃の熱処理工程が存在し、この熱処理工程でガラス板に熱収縮と呼ばれる微小な寸法変化が生じる。熱収縮が大きいと、TFTの画素ピッチにズレが生じ、表示不良の原因となる。有機ELディスプレイの場合、数ppm程度の寸法収縮でも表示不良となる虞があり、低熱収縮のガラス板が要求されている。なお、ガラス板が受ける熱処理温度が高い程、熱収縮が大きくなる。
【0006】
ガラス板の熱収縮を低減する方法として、ガラス板を成形した後、徐冷点付近でアニール処理を行う方法がある。しかし、アニール処理は長時間を要するため、ガラス板の製造コストが高騰してしまう。
【0007】
他の方法として、ガラス板の歪点を高くする方法がある。歪点が高い程、p−Si・TFTの製造工程で熱収縮が生じ難くなる。例えば、特許文献1には、高歪点のガラス板が開示されている。しかし、歪点が高いと、生産性が低下し易くなる。
【0008】
本発明は、上記事情に鑑みなされたものであり、その技術的課題は、生産性(特に耐失透性)に優れると共に、比ヤング率が高く、しかもp−Si・TFTの製造工程で熱収縮が小さいガラスを創案することである。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本発明者は、種々の実験を繰り返した結果、低アルカリガラスや無アルカリガラスのガラス組成を厳密に規制することにより、上記技術的課題を解決し得ることを見出し、本発明として提案するものである。すなわち、本発明のガラスは、ガラス組成として、質量%で、SiO
2 55〜70%、Al
2O
3 15〜25%、B
2O
3 0〜5%、Li
2O+Na
2O+K
2O 0〜0.5%、MgO 3〜10%、SrO 7〜20%、BaO 0〜5%を含有し、歪点が720℃より高いことを特徴とする。ここで、「Li
2O+Na
2O+K
2O」とは、Li
2O、Na
2O及びK
2Oの合量を指す。「歪点」は、ASTM C336の方法に基づいて測定した値を指す。
【0010】
第二に、本発明のガラスは、ガラス組成として、質量%で、SiO
2 55〜70%、Al
2O
3 15〜25%、B
2O
3 0〜3%未満、Li
2O+Na
2O+K
2O 0〜0.1%未満、MgO 3〜10%、CaO 0.1〜4%、SrO 8〜20%、BaO 0.1〜4%を含有することが好ましい。
【0011】
第三に、本発明のガラスは、質量%比でCaO/MgOが0.7以下であることが好ましい。このようにすれば、ヤング率と耐失透性を同時に高めることができる。
【0012】
第四に、本発明のガラスは、質量%比でCaO/SrOが0.4以下であることが好ましい。
【0013】
第五に、本発明のガラスは、更にSnO
2を0.001〜1質量%含むことが好ましい。
【0014】
第六に、本発明のガラスは、比ヤング率、つまりヤング率を密度で割った値が29.5GPa/g・cm
−3より大きいことが好ましい。
【0015】
第七に、本発明のガラスは、液相温度が1320℃より低いことが好ましい。ここで、「液相温度」は、標準篩30メッシュ(500μm)を通過し、50メッシュ(300μm)に残るガラス粉末を白金ボートに入れた後、温度勾配炉中に24時間保持して、結晶の析出する温度を測定することにより算出可能である。
【0016】
第八に、本発明のガラスは、高温粘度10
2.5dPa・sにおける温度が1660℃以下であることが好ましい。ここで、「高温粘度10
2.5dPa・sにおける温度」は、白金球引き上げ法で測定可能である。
【0017】
第九に、本発明のガラスは、液相温度における粘度が10
4.0dPa・s以上であることが好ましい。ここで、「液相温度における粘度」は、白金球引き上げ法で測定可能である。
【0018】
第十に、本発明のガラスは、平板形状であり、板厚方向の中央部にオーバーフロー合流面を有することが好ましい。つまりオーバーフローダウンドロー法で成形されてなることが好ましい。
【0019】
第十一に、本発明のガラスは、有機ELデバイス、特に有機ELディスプレイに用いることが好ましい。
【発明を実施するための形態】
【0020】
本発明のガラスは、ガラス組成として、質量%で、SiO
2 55〜70%、Al
2O
3 15〜25%、B
2O
3 0〜5%、Li
2O+Na
2O+K
2O 0〜0.5%、MgO 3〜10%、SrO 7〜20%、BaO 0〜5%を含有することを特徴とする。上記のように各成分の含有量を限定した理由を以下に示す。なお、各成分の含有量の説明において、特段の断りがない限り、%表示は質量%を表す。
【0021】
SiO
2は、ガラス骨格を形成すると共に、歪点を高める成分である。SiO
2の含有量は55〜70%であり、好ましくは58〜65%、特に59〜63%である。SiO
2の含有量が少ないと、歪点や耐酸性が低下し易くなり、また密度が高くなり易い。一方、SiO
2の含有量が多いと、高温粘度が高くなって、溶融性が低下し易くなるとに加えて、ガラス成分のバランスが崩れて、クリストバライト等の失透結晶が析出し、液相温度が高くなり易い。更にHFによるエッチングレートが低下し易くなる。
【0022】
Al
2O
3は、歪点を高める成分であり、更に比ヤング率を高める成分である。Al
2O
3の含有量は15〜25%であり、好ましくは17〜23%、特に18〜22%である。Al
2O
3の含有量が少ないと、歪点や比ヤング率が低下し易くなる。一方、Al
2O
3の含有量が多いと、ムライトや長石系の失透結晶が析出して、液相温度が高くなり易い。
【0023】
モル%比SiO
2/Al
2O
3は、高歪点と高耐失透性を両立するために重要な成分比率である。両成分は、上記の通り歪点を高める効果を有するが、SiO
2の量が相対的に多くなると、クリストバライト等の失透結晶が析出し易くなる。一方、Al
2O
3の量が相対的に多くなると、ムライトやアノーサイト等のアルカリ土類アルミノシリケート系の失透結晶が析出し易くなる。よって、モル%比SiO
2/Al
2O
3は、好ましくは4.5〜8、4.5〜7、4.8〜6.5、特に4.9〜6である。
【0024】
B
2O
3は、溶融性と耐失透性を高める成分である。B
2O
3の含有量は0〜5%、0〜3%未満、0.1〜3%、特に0.08〜2%が好ましい。B
2O
3の含有量が少ないと、溶融性や耐失透性が低下し易くなり、また液相温度が高くなり易い。更に耐バッファードフッ酸性(耐BHF性)が低下し易くなる。一方、B
2O
3の含有量が多いと、歪点、耐酸性、比ヤング率が低下し易くなる。なお、歪点を可及的に高めたい場合、B
2O
3の含有量は0〜0.1%未満が好ましい。
【0025】
Li
2O、Na
2O及びK
2Oは、原料中の不純物から微量混入する成分であり、溶融性を高めると共に、溶融ガラスの電気抵抗率を低下させる成分であるが、Li
2O、Na
2O及びK
2Oを多量に含有させると、アルカリイオンの拡散によって半導体物質の汚染を引き起こす虞が生じる。よって、Li
2O+Na
2O+K
2Oの含有量は0〜0.5%であり、好ましくは0.01〜0.3%、0.02〜0.2%、特に0.03〜0.1%未満である。またNa
2Oの含有量は、好ましくは0〜0.3%、0.01〜0.3%、0.02〜0.2%、特に0.03〜0.1%未満である。
【0026】
MgOは、溶融性やヤング率を高める成分である。MgOの含有量は3〜10%であり、好ましくは4〜6.5%、4〜6%、特に4〜5%である。MgOの含有量が少ないと、剛性を確保し難くなると共に、溶融性が低下し易くなる。一方、MgOの含有量が多いと、Mg系やAl系の失透結晶が析出し易くなると共に、歪点が著しく低下する虞がある。
【0027】
SrOは、分相を抑制し、また耐失透性を高める成分である。更に歪点を低下させずに、高温粘性を下げて、溶融性を高める成分である。SrOの含有量は7〜20%であり、好ましくは8〜15%、特に8〜13%である。SrOの含有量が少ないと、上記効果を享受し難くなる。一方、SrOの含有量が多いと、ガラス成分のバランスが崩れて、ストロンチウム系長石の失透結晶が析出し易くなり、かえって耐失透性が低下し易くなる。
【0028】
BaOは、アルカリ土類金属酸化物の中では、ムライト系失透結晶の析出を抑制する効果が高い成分である。BaOの含有量は、好ましくは0〜5%、0.1〜4%、0.1〜3%、特に0.1〜2%である。BaOの含有量が少ないと、ムライト系失透結晶が析出し易くなる。一方、BaOの含有量が多いと、MgとAlを含む失透結晶が析出し易くなると共に、高温粘度が高くなり過ぎて、溶融性が低下し易くなる。
【0029】
上記成分以外にも、例えば、以下の成分を添加してもよい。
【0030】
CaOは、歪点を低下させずに、高温粘性を下げて、溶融性を高めると共に、剛性を高める成分である。しかし、本発明のガラスのようにMgOを多く含むガラス系において、CaOの含有量が多くなると、ムライトの失透結晶が析出し易くなる。よって、CaOの含有量は、好ましくは0〜4%、0.1〜4%、0.1〜3%、特に0.1〜2%である。
【0031】
質量%比CaO/MgOは、好ましくは1.0以下、0.7以下、0.5以下、特に0.4以下である。質量%比CaO/MgOが大きいと、ヤング率や耐失透性が低下し易くなる。
【0032】
質量%比CaO/SrOは、好ましくは1.0以下、0.5以下、0.4以下、特に0.3以下である。質量%比CaO/SrOが大きいと、ヤング率や耐失透性が低下し易くなる。
【0033】
ZnOは、溶融性を高める成分であるが、ZnOを多量に含有させると、ガラスが失透し易くなり、また歪点が低下し易くなる。よって、ZnOの含有量は、好ましくは0〜5%、0〜3%、0〜0.5%、特に0〜0.2%である。
【0034】
P
2O
5は、歪点を高める成分であるが、P
2O
5を多量に含有させると、ガラスが分相し易くなる。よって、P
2O
5の含有量は、好ましくは0〜1.5%、0〜1.2%、特に0〜0.1%未満である。
【0035】
TiO
2は、高温粘性を下げて、溶融性を高める成分であると共に、耐ソラリゼーション性を抑制する成分であるが、TiO
2を多量に含有させると、ガラスが着色して、透過率が低下し易くなる。よって、TiO
2の含有量は、好ましくは0〜5%、0〜3%、0〜1%、特に0〜0.02%である。
【0036】
ZrO
2、Y
2O
3、Nb
2O
5、La
2O
3には、歪点、ヤング率等を高める働きがある。しかし、これらの成分の含有量が多いと、密度が増加し易くなる。よって、ZrO
2、Y
2O
3、Nb
2O
5、La
2O
3の含有量は、それぞれ0〜5%、0〜3%、0〜1%、0〜0.1%未満、特に0〜0.05%未満が好ましい。
【0037】
Fe
2O
3は、ガラス原料から不可避的に混入する成分であり、ガラス組成中から完全に除去することが困難な成分である。Fe
2O
3の含有量は、好ましくは0.001〜0.1%、0.005〜0.05%、特に0.008〜0.015%である。Fe
2O
3の含有量が少ないと、高純度原料の使用が不可欠になり、原料コストが高騰してしまう。一方、Fe
2O
3の含有量が多いと、ガラス板の透過率が低下し易くなる。なお、後述の通り、電気溶融を行うために、溶融ガラスの電気抵抗率を低下させる場合、Fe
2O
3を積極的に導入する方が好ましく、その場合、Fe
2O
3の含有量は0.005〜0.03質量%、0.008〜0.025質量%、特に0.01〜0.02質量%が好ましい。
【0038】
SnO
2は、高温域で良好な清澄作用を有する成分であると共に、歪点を高める成分であり、また高温粘性を低下させる成分である。SnO
2の含有量は、好ましくは0〜1%、0.001〜1%、0.01〜0.5%、特に0.05〜0.3%である。SnO
2の含有量が多いと、SnO
2の失透結晶が析出し易くなる。なお、SnO
2の含有量が少ないと、上記効果を享受し難くなる。
【0039】
ガラス特性が損なわれない限り、清澄剤として、F
2、Cl
2、SO
3、C、或いはAl、Si等の金属粉末を5%まで添加することができる。また、清澄剤として、CeO
2等も1%まで添加することができる。
【0040】
As
2O
3とSb
2O
3は、清澄剤として有効であり、本発明のガラスは、これらの成分の導入を完全に排除するものではないが、環境的観点から、これらの成分を極力使用しないことが好ましい。更に、ガラス中にAs
2O
3を多量に含有させると、耐ソラリゼーション性が低下する傾向にあるため、その含有量は0.1%以下が好ましく、実質的に含有させないことが望ましい。ここで、「実質的にAs
2O
3を含有しない」とは、ガラス組成中のAs
2O
3の含有量が0.05%未満の場合を指す。また、Sb
2O
3の含有量は0.2%以下、特に0.1%以下が好ましく、実質的に含有させないことが望ましい。ここで、「実質的にSb
2O
3を含有しない」とは、ガラス組成中のSb
2O
3の含有量が0.05%未満の場合を指す。
【0041】
Clは、低アルカリガラスの溶融を促進する効果があり、Clを添加すれば、溶融温度を低温化できると共に、清澄剤の作用を促進することができる。また溶融ガラスのβ−OH値を低下させる効果を有する。しかし、Clの含有量が多過ぎると、歪点が低下し易くなる。よって、Clの含有量は、好ましくは0.5%以下、特に0.001〜0.2%である。なお、Clの導入原料として、塩化ストロンチウム等のアルカリ土類金属酸化物の塩化物、或いは塩化アルミニウム等の原料を使用することができる。
【0042】
本発明のガラスは、以下のガラス特性を有することが好ましい。
【0043】
本発明のガラスにおいて、歪点は720℃超であり、好ましくは730℃以上、740℃以上、特に750℃以上である。歪点が低いと、p−Si・TFTの製造工程において、ガラス板が熱収縮し易くなる。
【0044】
30〜380℃の温度範囲における平均熱膨張係数は、好ましくは33×10
−7〜44×10
−7/℃、特に35×10
−7〜41×10
−7/℃である。30〜380℃の温度範囲における平均熱膨張係数が上記範囲外になると、周辺部材の熱膨張係数と整合せず、周辺部材の剥離やガラス板の反りが発生し易くなる。ここで、「30〜380℃の温度範囲における平均熱膨張係数」は、ディラトメーターで測定した値を指す。
【0045】
HFによるエッチングレートは、好ましくは0.8μm/分以上、0.9μm/分以上、特に1μm/分以上である。HFによるエッチングレートが低いと、スリミング工程でガラス板を薄板化し難くなる。ここで、「HFのエッチングレート」は、鏡面研磨したガラス表面の一部をポリイミドテープでマスクした後、20℃の5質量%HF水溶液で30分間の条件でエッチングをした時のエッチング深さから算出した値を指す。
【0046】
液相温度は、好ましくは1320℃未満、1310℃以下、特に1300℃以下である。液相温度が高いと、オーバーフローダウンドロー法等での成形時に失透結晶が発生して、ガラス板の生産性が低下し易くなる。
【0047】
液相温度における粘度は、好ましくは10
4.0dPa・s以上、10
4.2dPa・s以上、10
4.4dPa・s以上、特に10
4.5dPa・s以上である。液相温度における粘度が低いと、オーバーフローダウンドロー法等での成形時に失透結晶が発生して、ガラス板の生産性が低下し易くなる。
【0048】
高温粘度10
2.5dPa・sにおける温度は、好ましくは1660℃以下、1640℃以下、1630℃以下、特に1620℃以下である。高温粘度10
2.5dPa・sにおける温度が高くなると、ガラス溶解が困難になり、ガラス板の製造コストが高騰する。
【0049】
比ヤング率は、好ましくは29.5GPa/g・cm
−3超、30GPa/g・cm
−3以上、30.5GPa/g・cm
−3以上、特に31GPa/g・cm
−3以上である。比ヤング率が高いと、ガラス板が自重で撓み易くなる。
【0050】
本発明のガラスにおいて、β−OH値を低下させると、歪点を高めることができる。β−OH値は、好ましくは0.30/mm以下、0.25/mm以下、0.20/mm以下、特に0.15/mm以下である。β−OH値が大き過ぎると、歪点が低下し易くなる。なお、β−OH値が小さ過ぎると、溶融性が低下し易くなる。よって、β−OH値は、好ましくは0.01/mm以上、特に0.05/mm以上である。
【0051】
β−OH値を低下させる方法として、以下の方法が挙げられる。(1)含水量の低い原料を選択する。(2)ガラス中の水分量を減少させる成分(Cl、SO
3等)を添加する。(3)炉内雰囲気中の水分量を低下させる。(4)溶融ガラス中でN
2バブリングを行う。(5)小型溶融炉を採用する。(6)溶融ガラスの流量を速くする。(7)電気溶融法を採用する。
【0052】
ここで、「β−OH値」は、FT−IRを用いてガラスの透過率を測定し、下記の式を用いて求めた値を指す。
β−OH値 = (1/X)log(T
1/T
2)
X:ガラス肉厚(mm)
T
1:参照波長3846cm
−1における透過率(%)
T
2:水酸基吸収波長3600cm
−1付近における最小透過率(%)
【0053】
本発明のガラスは、平板形状であり、板厚方向の中央部にオーバーフロー合流面を有することが好ましい。つまりオーバーフローダウンドロー法で成形されてなることが好ましい。オーバーフローダウンドロー法とは、楔形の耐火物の両側から溶融ガラスを溢れさせて、溢れた溶融ガラスを楔形の下端で合流させながら、下方に延伸成形して平板形状に成形する方法である。オーバーフローダウンドロー法では、ガラス板の表面となるべき面は耐火物に接触せず、自由表面の状態で成形される。このため、未研磨で表面品位が良好なガラス板を安価に製造することができ、大面積化や薄肉化も容易である。
【0054】
オーバーフローダウンドロー法以外にも、例えば、スロットダウンドロー法、リドロー法、フロート法、ロールアウト法でガラス板を成形することも可能である。
【0055】
本発明のガラスにおいて、肉厚(平板形状の場合、板厚)は、特に限定されないが、好ましくは1.0mm以下、0.7mm以下、0.5mm以下、特に0.4mm以下である。板厚が小さい程、有機ELデバイスを軽量化し易くなる。なお、肉厚は、ガラス製造時の流量や板引き速度等で調整可能である。
【0056】
本発明のガラスを工業的規模で製造する方法としては、ガラス組成として、質量%で、SiO
2 55〜70%、Al
2O
3 15〜25%、B
2O
3 0〜5%、Li
2O+Na
2O+K
2O 0〜0.5%、MgO 3〜10%、SrO 7〜20%、BaO 0〜5%を含有し、歪点が720℃より高いガラス板の製造方法であって、調合されたガラスバッチを溶融炉に供給し、加熱電極による通電加熱を行うことにより、溶融ガラスを得る溶融工程と、得られた溶融ガラスをオーバーフローダウンドロー法により板厚0.1〜0.7mmの平板形状のガラスに成形する成形工程と、を有することが好ましい。
【0057】
ガラス板の製造工程は、一般的に、溶融工程、清澄工程、供給工程、攪拌工程、成形工程を含む。溶融工程は、ガラス原料を調合したガラスバッチを溶融し、溶融ガラスを得る工程である。清澄工程は、溶融工程で得られた溶融ガラスを清澄剤等の働きによって清澄する工程である。供給工程は、各工程間に溶融ガラスを移送する工程である。攪拌工程は、溶融ガラスを攪拌し、均質化する工程である。成形工程は、溶融ガラスを平板形状のガラスに成形する工程である。なお、必要に応じて、上記以外の工程、例えば溶融ガラスを成形に適した状態に調節する状態調節工程を攪拌工程後に取り入れてもよい。
【0058】
従来の低アルカリガラスを工業的規模で製造する場合、一般的に、バーナーの燃焼炎による加熱により溶融されていた。バーナーは、通常、溶融窯の上方に配置されており、燃料として化石燃料、具体的には重油等の液体燃料やLPG等の気体燃料等が使用されている。燃焼炎は、化石燃料と酸素ガスと混合することにより得ることができる。しかし、この方法では、溶融時に溶融ガラス中に多くの水分が混入するため、β−OH値が上昇し易くなる。よって、本発明のガラスの製造方法は、加熱電極による通電加熱を行うことが好ましく、バーナーの燃焼炎による加熱を行わずに、加熱電極による通電加熱で溶融することが更に好ましい。これにより、溶融時に溶融ガラス中に水分が混入し難くなるため、β−OH値を0.40/mm以下、0.30/mm以下、0.20/mm以下、特に0.15/mm以下に規制し易くなる。更に、加熱電極による通電加熱を行うと、溶融ガラスを得るための質量当たりのエネルギー量が低下すると共に、溶融揮発物が少なくなるため、環境負荷を低減することができる。
【0059】
加熱電極による通電加熱は、溶融窯内の溶融ガラスに接触するように、溶融窯の底部又は側部に設けられた加熱電極に交流電圧を印加することにより行うことが好ましい。加熱電極に使用する材料は、耐熱性と溶融ガラスに対する耐食性を備えるものが好ましく、例えば、酸化錫、モリブデン、白金、ロジウム等が使用可能であり、炉内への設置の自由度の高さから、特にモリブデンが好ましい。
【0060】
本発明のガラスは、不純物相当量しかアルカリ金属酸化物を含まないため、高アルカリ含有ガラスに比べて電気抵抗率が高い。よって、加熱電極による通電加熱を低アルカリガラスに適用する場合、溶融ガラスだけでなく、溶融窯を構成する耐火物にも電流が流れて、溶融窯を構成する耐火物が早期に損傷する虞がある。これを防ぐため、炉内耐火物として、電気抵抗率が高いジルコニア系耐火物、特にジルコニア電鋳レンガを使用することが好ましく、また溶融ガラス(ガラス組成)中に電気抵抗率を低下させる成分(Li
2O、Na
2O、K
2O、Fe
2O
3等)を少量導入することが好ましく、特にLi
2O、Na
2O及びK
2Oを少量導入することが好ましい。またFe
2O
3の含有量は0.005〜0.03質量%、0.008〜0.025質量%、特に0.01〜0.02質量%が好ましい。更にジルコニア系耐火物中のZrO
2の含有量は、好ましくは85質量%以上、特に90質量%以上である。
【実施例】
【0061】
以下、本発明を実施例に基づいて説明する。
【0062】
表1は、本発明の実施例(試料No.1〜19)を示している。なお、表中で「N.A.」は、未測定であることを意味する。なお、表中では、各試料のFe
2O
3の含有量が明示されていないが、各試料は、ガラス組成中に、不純物としてFe
2O
3を0.005〜0.008質量%含んでいる。また表中では、各試料のβ−OH値が明示されていないが、各試料のβ−OH値は0.05〜0.15/mmであった。
【0063】
【表1】
【0064】
まず表中のガラス組成になるように、ガラス原料を調合したガラスバッチを白金坩堝に入れ、1600〜1650℃で24時間溶融した。ガラスバッチの溶解にあたっては、白金スターラーを用いて攪拌し、均質化を行った。次いで、溶融ガラスをカーボン板上に流し出し、板状に成形した後、徐冷点付近の温度で30分間徐冷した。得られた各試料について、30〜380℃の温度範囲における平均熱膨張係数α、密度、HFのエッチングレート、歪点Ps、徐冷点Ta、軟化点Ts、高温粘度10
4.5dPa・sにおける温度、高温粘度10
4.0dPa・sにおける温度、高温粘度10
3.0dPa・sにおける温度、高温粘度10
2.5dPa・sにおける温度、液相温度TL、及び液相粘度logηatTL、ヤング率(Young’s modulus)及び比ヤング率(Specific modulus)を評価した。
【0065】
30〜380℃の温度範囲における平均熱膨張係数αは、ディラトメーターで測定した値である。
【0066】
密度は、周知のアルキメデス法によって測定した値である。
【0067】
HFのエッチングレートは、鏡面研磨したガラス表面の一部をポリイミドテープでマスクした後、20℃の10質量%HF水溶液で30分間の条件でエッチングをした時のエッチング深さから算出した値である。
【0068】
歪点Ps、徐冷点Ta、軟化点Tsは、ASTM C336及びC338の方法に基づいて測定した値である。
【0069】
高温粘度10
4.5dPa・s、10
4.0dPa・s、10
3.0dPa・s及び10
2.5dPa・sにおける温度は、白金球引き上げ法で測定した値である。
【0070】
液相温度TLは、標準篩30メッシュ(篩目開き500μm)を通過し、50メッシュ(篩目開き300μm)に残るガラス粉末を白金ボートに入れて、温度勾配炉中に24時間保持して、結晶(初相)の析出する温度を測定した値である。
【0071】
液相粘度log
10ηTLは、液相温度TLにおけるガラスの粘度を白金球引き上げ法で測定した値である。
【0072】
ヤング率は、周知の共振法を用いて測定した値である。比ヤング率は、ヤング率を密度で割った値である。
【0073】
表1から明らかなように、試料No.1〜19は、アルカリ金属酸化物の含有量が少なく、歪点が743℃以上、高温粘度10
2.5dPa・sにおける温度が1629℃以下、液相温度が1324℃以下、液相温度における粘度が10
4.13dPa・s以上、比ヤング率が31.7GPa/g・cm
‐3以上であった。したがって、試料No.1〜19は、有機ELディスプレイの基板として好適に使用可能であると考えられる。