特許6984732IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

半導体装置

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】本発明の一つの半導体装置100の上面の構造を示す図である。

【図2】図1における領域Aの近傍を拡大した図である。

【図3】図2におけるB−B断面の一例を示す図である。

【図4】図1における領域Bの近傍を拡大した図である。

【図5】図1における領域Cの近傍を拡大した図である。

【図6】上面視におけるエミッタ電極52の配置例を示す図である。

【図7】カソード領域82の配置例を示す図である。

【図8】図7における領域Dの近傍を拡大した図である。

【図9】カソード領域82の他の配置例を示す図である。

【図10】図9における領域Eの近傍を拡大した図である。

【図11】図1における領域Bの他の例を示す。

【図12】主活性部120およびパッド間領域130におけるゲートトレンチ部40の配置例を示す図である。

【図13】主活性部120およびパッド間領域130におけるゲートトレンチ部40の他の配置例を示す図である。

【図14】主活性部120およびパッド間領域130におけるゲートトレンチ部40の他の配置例を示す図である。

選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図

10・・・半導体基板、11・・・ウェル領域、12・・・エミッタ領域、14・・・ベース領域、15・・・コンタクト領域、16・・・蓄積領域、18・・・ドリフト領域、20・・・バッファ領域、21・・・上面、22・・・コレクタ領域、23・・・下面、24・・・コレクタ電極、25・・・接続部、29・・・直線部、30・・・ダミートレンチ部、31・・・先端部、32・・・ダミー絶縁膜、34・・・ダミー導電部、38・・・層間絶縁膜、39・・・直線部、40・・・ゲートトレンチ部、41・・・先端部、42・・・ゲート絶縁膜、44・・・ゲート導電部、48・・・第3のゲートランナー、49・・・コンタクトホール、50・・・第1のゲートランナー、51・・・第2のゲートランナー、52・・・エミッタ電極、54・・・コンタクトホール、56・・・コンタクトホール、60・・・メサ部、70・・・トランジスタ部、80・・・ダイオード部、82・・・カソード領域、90・・・エッジ終端構造部、92・・・ガードリング、100・・・半導体装置、110・・・温度センス部、112・・・温度センス配線、114・・・センスパッド、115・・・エミッタパッド、116・・・ゲートパッド、117・・・カソードパッド、118・・・アノードパッド、119・・・電流センス素子、120・・・主活性部、130・・・パッド間領域、132・・・第1の辺、134・・・第2の辺、140・・・外周端、142・・・第1の端辺

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