特許 6985184 調光フィルム用透明導電フィルム及び調光フィルム

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6985184

(24)【登録日】2021年11月29日

(45)【発行日】2021年12月22日

(54)【発明の名称】調光フィルム用透明導電フィルム及び調光フィルム

(51)【国際特許分類】

   H01B 5/14 20060101AFI20211213BHJP

   B32B 9/00 20060101ALI20211213BHJP

   G02F 1/1343 20060101ALI20211213BHJP

   G02F 1/13 20060101ALI20211213BHJP

【ＦＩ】

   H01B5/14 A

   B32B9/00 A

   G02F1/1343

   G02F1/13 505

【請求項の数】7

【全頁数】14

(21)【出願番号】特願2018-40964(P2018-40964)

(22)【出願日】2018年3月7日

(65)【公開番号】特開2018-170269(P2018-170269A)

(43)【公開日】2018年11月1日

【審査請求日】2021年1月7日

(31)【優先権主張番号】特願2017-65685(P2017-65685)

(32)【優先日】2017年3月29日

(33)【優先権主張国】JP

(73)【特許権者】

【識別番号】000002174

【氏名又は名称】積水化学工業株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110001232

【氏名又は名称】特許業務法人 宮▲崎▼・目次特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】村上 淳之介

(72)【発明者】

【氏名】伊神 俊輝

【審査官】 北嶋 賢二

(56)【参考文献】

【文献】 国際公開第２００９／０４４８９８（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 特開平２−２０８６２９（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｈ０１Ｂ ５／１４

Ｂ３２Ｂ ７／０２３

Ｂ３２Ｂ ７／０２５

Ｂ３２Ｂ ９／００

Ｇ０２Ｆ １／１３４３

Ｇ０２Ｆ １／１３

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

調光フィルムに用いられる透明導電フィルムであって、
基材フィルムと、前記基材フィルムの一方の表面側に配置されている導電層とを有し、 前記導電層が、インジウムスズ酸化物層であり、
ＴＯＦ−ＳＩＭＳ分析において、前記導電層の厚み方向の中央部におけるＩｎＯＨ⁻イオンの強度の、全マイナスイオンの強度の合計に対する比が０．０００５以下である、調光フィルム用透明導電フィルム。

【請求項2】

ＴＯＦ−ＳＩＭＳ分析において、前記導電層の前記基材フィルム側とは反対の表面におけるＨ_３Ｏ^＋イオンの強度のＩｎ^＋イオンの強度に対する比が０．０５以下である、請求項１に記載の調光フィルム用透明導電フィルム。

【請求項3】

前記導電層の表面抵抗値が１５０Ω／□以下である、請求項１又は２に記載の調光フィルム用透明導電フィルム。

【請求項4】

波長５５０ｎｍにおける全光線透過率が８８％以上であり、
ヘイズ値が１．３％以下である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の調光フィルム用透明導電フィルム。

【請求項5】

アクリル樹脂を含む調光層に前記導電層が接するように用いられる、請求項１〜４のいずれか１項に記載の調光フィルム用透明導電フィルム。

【請求項6】

第１の透明導電フィルムと、
第２の透明導電フィルムと、
前記第１の透明導電フィルムと前記第２の透明導電フィルムとの間に配置された調光層とを備え、
前記第１の透明導電フィルム及び前記第２の透明導電フィルムの内の少なくとも一方が、請求項１〜５のいずれか１項に記載の調光フィルム用透明導電フィルムである、調光フィルム。

【請求項7】

前記調光層がアクリル樹脂を含む、請求項６に記載の調光フィルム。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、調光フィルムに用いられる透明導電フィルムに関する。また、本発明は、上記透明導電フィルムを用いた調光フィルムに関する。

【背景技術】

【0002】

調光フィルム等に調光材料等が用いられている。調光材料は、特定の波長の光を遮断することにより透過率を調整したり、色調を調整したりすることを目的に利用されている。調光フィルムは、室内部材、建築部材及び電子部品等の様々な分野において利用されている。

【0003】

上記調光フィルムは、例えば、２つの透明導電フィルム間に、調光層が配置された構造を有する。上記調光フィルムに用いられる透明導電フィルムは、基材フィルムと、該基材フィルムの表面上に導電層とを有する。上記調光フィルムにおいて、上記導電層は、上記調光層を介して対向した状態になる。上記調光フィルムでは、２つの透明導電フィルムの導電層間に、電界が印加される。電界が印加されている状態と、電界が印加されていない状態とで、上記調光フィルムを通過する光量を変化させることができる。

【0004】

上記調光フィルムに用いられる透明導電フィルムの一例が、下記の特許文献１に開示されている。特許文献１に記載の透明導電フィルムでは、導電層が、ＩＴＯ等により形成されていてもよい。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】ＷＯ２００８／０７５７７２Ａ１

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

上記調光フィルムにおいて、ＰＤＬＣ（Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｄｉｓｐｅｒｓｅｄ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）と呼ばれる方式では、上記調光層は、液晶層とバインダー樹脂としてアクリル樹脂とを用いて形成されていることが多い。アクリル樹脂を用いて形成された調光層に接する導電層は、アクリル樹脂に起因して微量含まれるアクリル酸などにより、酸性条件下に晒される。また、調光層以外の外的要因よって、導電層が、酸性条件下に晒されることもある。

【0007】

特許文献１に記載のような従来の透明導電フィルムでは、導電層の耐酸性が低く、抵抗値が上昇することがある。結果として、調光フィルムの調光性能が低下することがある。

【0008】

本発明の目的は、導電層の耐酸性を高めて、酸性条件下に晒された導電層の抵抗値の変化を抑制することができる調光フィルム用透明導電フィルムを提供することである。また、本発明は、上記調光フィルム用透明導電フィルムを用いた調光フィルムを提供することも目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0009】

本発明の広い局面によれば、調光フィルムに用いられる透明導電フィルムであって、基材フィルムと、前記基材フィルムの一方の表面側に配置されている導電層とを有し、前記導電層が、インジウムスズ酸化物層であり、ＴＯＦ−ＳＩＭＳ分析において、前記導電層の厚み方向の中央部におけるＩｎＯＨ⁻イオンの強度の、全マイナスイオンの強度の合計に対する比が０．０００５以下である、調光フィルム用透明導電フィルムが提供される。

【0010】

本発明に係る調光フィルム用透明導電フィルムのある特定の局面では、ＴＯＦ−ＳＩＭＳ分析において、前記導電層の前記基材フィルム側とは反対の表面におけるＨ_３Ｏ^＋イオンの強度のＩｎ^＋イオンの強度に対する比が０．０５以下である。

【0011】

本発明に係る調光フィルム用透明導電フィルムのある特定の局面では、前記導電層の表面抵抗値が１５０Ω／□以下である。

【0012】

本発明に係る調光フィルム用透明導電フィルムのある特定の局面では、波長５５０ｎｍにおける全光線透過率が８８％以上であり、ヘイズ値が１．３％以下である。

【0013】

本発明に係る調光フィルム用透明導電フィルムのある特定の局面では、前記調光フィルム用透明導電フィルムは、アクリル樹脂を含む調光層に前記導電層が接するように用いられる。

【0014】

本発明の広い局面によれば、第１の透明導電フィルムと、第２の透明導電フィルムと、前記第１の透明導電フィルムと前記第２の透明導電フィルムとの間に配置された調光層とを備え、前記第１の透明導電フィルム及び前記第２の透明導電フィルムの内の少なくとも一方が、上述した調光フィルム用透明導電フィルムである、調光フィルムが提供される。

【0015】

本発明に係る調光フィルムのある特定の局面では、前記調光層がアクリル樹脂を含む。

【発明の効果】

【0016】

本発明に係る調光フィルム用透明導電フィルムは、調光フィルムに用いられる透明導電フィルムであって、基材フィルムと、上記基材フィルムの一方の表面側に配置されている導電層とを有し、上記導電層が、インジウムスズ酸化物層である。本発明に係る調光フィルム用透明導電フィルムでは、ＴＯＦ−ＳＩＭＳ分析において、上記導電層の厚み方向の中央部におけるＩｎＯＨ⁻イオンの強度の、全マイナスイオンの強度の合計に対する比が０．０００５以下である。本発明に係る調光フィルム用透明導電フィルムでは、上記の構成が備えられているので、導電層の耐酸性を高めて、酸性条件下に晒された導電層の抵抗値の変化を抑制することができる。

【図面の簡単な説明】

【0017】

【図1】図１は、本発明の一実施形態に係る調光フィルム用透明導電フィルムを示す断面図である。

【図2】図２は、図１に示す調光フィルム用透明導電フィルムを用いた調光フィルムの一例を示す断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0018】

以下、本発明の詳細を説明する。

【0019】

本発明に係る調光フィルム用透明導電フィルム（以下、透明導電フィルムと記載することがある）は、調光フィルムに用いられる。透明導電フィルムは、透明である。透明には半透明も含まれる。透明導電フィルムは、例えば、光透過性を有する。透明導電フィルムが光透過性を有するとは、例えば、波長５５０ｎｍにおける全光線透過率が、好ましくは８８％以上、より好ましくは８９％以上であることを意味する。

【0020】

本発明に係る透明導電フィルムは、基材フィルムと、導電層とを備える。上記導電層は、上記基材フィルムの一方の表面側に配置されている。

【0021】

本発明に係る透明導電フィルムでは、上記導電層が、インジウムスズ酸化物層（ＩＴＯ層）である。

【0022】

本発明に係る透明導電フィルムでは、ＴＯＦ−ＳＩＭＳ分析において、上記導電層の厚み方向の中央部におけるＩｎＯＨ⁻イオンの強度の、全マイナスイオンの強度の合計に対する比（ＩｎＯＨ⁻イオンの強度／全マイナスイオンの強度の合計）が０．０００５以下である。上記導電層の上記基材フィルム側とは反対の表面は、調光層が配置される側の表面である。上記導電層の上記基材フィルム側とは反対の表面は、例えば、調光層に接する側の表面である。

【0023】

本発明に係る透明導電フィルムでは、上記の構成が備えられているので、導電層の耐酸性が高く、酸性条件下に晒された導電層の抵抗値（シート抵抗値）の変化を抑制することができる。結果として、調光フィルムの調光性能の低下を抑制することができる。

【0024】

酸性条件下に晒された導電層の抵抗値の変化を抑制するためには、導電層の基材フィルム側とは反対の表面ではなく、導電層の厚み方向の中央部の上記の強度比を制御する必要があることが見出された。これは、酸性条件下に晒された導電層の表面が劣化したとしても、導電層の内部（中央部を含む領域）にて劣化が効果的に抑制されるので、導電層全体として劣化を抑制できるためであると考えられる。

【0025】

なお、ＴＯＦ−ＳＩＭＳ分析において、上記導電層の厚み方向の中央部における強度比は、以下のように測定される。

【0026】

導電層の基材フィルム側とは反対の表面の同一地点にてＣ６０スパッタを連続して行う。Ｉｎ^＋イオンの検出数がＳｉ^＋イオンの検出数よりも少なくなったスパッタ回数が奇数である場合には、Ｉｎ^＋イオンの検出数がＳｉ^＋イオンの検出数よりも少なくなったスパッタ回数の中央（半分）の回数時点での測定結果から、上記導電層の厚み方向の中央部における強度比を求める。Ｉｎ^＋イオンの検出数がＳｉ^＋イオンの検出数よりも少なくなったスパッタ回数が偶数である場合には、Ｉｎ^＋イオンの検出数がＳｉ^＋イオンの検出数よりも少なくなったスパッタ回数の中央の２つの回数時点での測定結果の平均値から、上記導電層の厚み方向の中央部における強度比を求める。

【0027】

ＴＯＦ−ＳＩＭＳ分析において、上記導電層の厚み方向の中央部におけるＩｎＯＨ⁻イオンの強度の全マイナスイオンの強度の合計に対する比を求める。導電層の耐酸性をより一層高める観点からは、上記比（ＩｎＯＨ⁻イオンの強度／全マイナスイオンの強度の合計）は、好ましくは０．０００４以下、より好ましくは０．０００３以下、更に好ましくは０．０００２以下、特に好ましくは０．０００１以下である。上記比（ＩｎＯＨ⁻イオンの強度／全マイナスイオンの強度の合計）は、通常０以上である。

【0028】

ＴＯＦ−ＳＩＭＳ分析において、上記導電層の上記基材フィルム側とは反対の表面におけるＨ_３Ｏ^＋イオンの強度のＩｎ^＋イオンの強度に対する比（Ｈ_３Ｏ^＋イオンの強度／Ｉｎ^＋イオンの強度）を求める。導電層の耐酸性をより一層高める観点からは、上記比（Ｈ_３Ｏ^＋イオンの強度／Ｉｎ^＋イオンの強度）は好ましくは０．０５以下、より好ましくは０．０４以下、更に好ましくは０．０３以下、特に好ましくは０．０２以下である。上記比（Ｈ_３Ｏ^＋イオンの強度／Ｉｎ^＋イオンの強度）は、通常０以上である。

【0029】

なお、ＴＯＦ−ＳＩＭＳ分析において、上記導電層の上記基材フィルム側とは反対の表面における強度比は、１回目のスパッタでの測定結果から求められる。

【0030】

上記強度比を上記範囲に制御する方法としては、スパッタリングにより導電層を形成する場合にスパッタ時の全圧を制御する方法、スパッタリングにより導電層を形成する場合にスパッタ時の水分圧を制御する方法、及びＲｔＲスパッタ時の成膜ロール（キャンロール）温度を制御する方法等が挙げられる。上記スパッタ時の全圧は、一般に装置の真空部の容積、真空ポンプの排気量、プラズマを発生させるために導入するＡｒなどのガス流量等を調整することで制御することができる。また、上記スパッタ時の水分圧は、スパッタ成膜を開始するまでの真空保持時間、基材フィルムの事前乾燥処理方法、プラズマを発生させるために導入するＡｒなどのガス流量等を調整することで制御することができる。また、上記ＲｔＲスパッタ時の成膜ロール温度は、成膜ロールに循環させる冷媒の温度等を調整することで制御することができる。

【0031】

上記透明導電フィルムは、アクリル樹脂を含む調光層に上記導電層が接するように用いられることが好ましい。本発明では、導電層がアクリル樹脂を含む調光層に接したとしても、導電層の抵抗値の変化を抑制することができる。なお、本発明では、導電層がアクリル樹脂を含まない調光層に接したとしても、導電層の抵抗値の変化を抑制することができる。

【0032】

上記透明導電フィルムは、アニール処理された透明導電フィルムであることが好ましい。

【0033】

以下、図面を参照しつつ、本発明の具体的な実施形態を説明する。

【0034】

図１は、本発明の一実施形態に係る調光フィルム用透明導電フィルムを示す断面図である。

【0035】

図１に示す透明導電フィルム１は、調光フィルムに用いられる。

【0036】

透明導電フィルム１は、基材フィルム１１と、導電層１２とを備える。

【0037】

基材フィルム１１は、光透過性を有する。基材フィルム１１は、光透過性を有する材料により構成されている。基材フィルム１１は、第１の表面１１ａ及び第２の表面１１ｂを有する。第１の表面１１ａと、第２の表面１１ｂとは、互いに対向している。

【0038】

基材フィルム１１の第１の表面１１ａ側に、導電層１２が配置されている。導電層１２は、光透過性を有する。導電層１２は、光透過性が高く、かつ導電性を有する材料により構成されている。導電層１２は、基材フィルム１１の第１の表面１１ａ上に直接積層されている。導電層は、基材フィルムの第１の表面上に直接積層されていなくてもよい。例えば、導電層と基材フィルムの間に、アンダーコート層が配置されてもよい。

【0039】

本実施形態では、ＴＯＦ−ＳＩＭＳ分析において、導電層１２の厚み方向の中央部における上記比（ＩｎＯＨ⁻イオンの強度／全マイナスイオンの強度の合計）が上記上限以下である。

【0040】

また、図１に示す透明導電フィルム１は、ロール状に巻かれていてもよい。

【0041】

光透過性をより一層高める観点からは、上記透明導電フィルムの波長５５０ｎｍにおける全光線透過率は、好ましくは８８％以上、より好ましくは８９％以上である。上記透明導電フィルムの波長５５０ｎｍにおける全光線透過率は、通常１００％以下である。

【0042】

上記全光線透過率は、ヘーズメーター（日本電色工業社製「ＮＤＨ−２０００」、又はその同等品）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１０５に基づいて、測定される。

【0043】

光透過性をより一層高める観点からは、上記透明導電フィルムのヘイズ値は、好ましくは１．３％以下、より好ましくは１％以下、更に好ましくは０．８％以下である。上記透明導電フィルムのヘイズ値は、通常０％以上である。

【0044】

上記ヘイズ値は、ヘーズメーター（日本電色工業社製「ＮＤＨ−２０００」、又はその同等品）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１３６に基づいて、測定される。

【0045】

以下、透明導電フィルムを構成する各層の詳細を説明する。

【0046】

（基材フィルム）
基材フィルムは、高い光透過性を有することが好ましい。従って、基材フィルムの材料としては、特に限定されないが、例えば、ポリオレフィン、ポリエーテルサルフォン、ポリスルホン、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ポリアリレート、ポリアミド、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース、及びセルロースナノファイバー等が挙げられる。上記基材フィルムの材料は、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。

【0047】

基材フィルムの厚みは、好ましくは５μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上、好ましくは１９０μｍ以下、より好ましくは１２５μｍ以下である。基材フィルムの厚みが、上記下限以上及び上記上限以下である場合、調光フィルムの総厚みを薄くすることができ、かつ、調光フィルムの製造時のハンドリング性を良好にできる。

【0048】

基材フィルムの波長３８０〜７８０ｎｍの可視光領域における平均透過率は、好ましくは８５％以上、より好ましくは９０％以上である。上記基材フィルムの波長３８０〜７８０ｎｍの可視光領域における平均透過率は、通常１００％以下である。

【0049】

また、基材フィルムは、各種安定剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤及び着色剤等の添加剤を含んでいてもよい。上記添加剤は、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。

【0050】

基材フィルムは、一方または両方の表面上に、ハードコート層を有していてもよい。

【0051】

上記ハードコート層の材料は、硬化樹脂であることが好ましい。上記硬化樹脂は、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。

【0052】

上記硬化樹脂としては、熱硬化樹脂、及び紫外線硬化樹脂等の活性エネルギー線硬化樹脂等が挙げられる。生産性及び経済性を良好にする観点から、上記硬化樹脂は、紫外線硬化樹脂であることが好ましい。

【0053】

上記紫外線硬化樹脂は、光硬化性モノマーが重合された樹脂であることが好ましい。上記紫外線硬化樹脂は、光硬化性モノマー以外のモノマーが重合された樹脂であってもよい。上記光硬化性モノマー及び上記光硬化性モノマー以外のモノマーは、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。

【0054】

上記光硬化性モノマーとしては、例えば、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート、ポリ（ブタンジオール）ジアクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリイソプロピレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート及びビスフェノールＡジメタクリレート等のジアクリレート化合物；トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリトリトールモノヒドロキシトリアクリレート及びトリメチロールプロパントリエトキシトリアクリレート等のトリアクリレート化合物；ペンタエリトリトールテトラアクリレート及びジ−トリメチロールプロパンテトラアクリレート等のテトラアクリレート化合物；並びにジペンタエリトリトール（モノヒドロキシ）ペンタアクリレート等のペンタアクリレート化合物等が挙げられる。上記紫外線硬化樹脂は、５官能以上の多官能アクリレート化合物であってもよい。上記多官能アクリレート化合物は、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。また、上記多官能アクリレート化合物に、光開始剤、光増感剤、レベリング剤、及び希釈剤等を添加してもよい。

【0055】

上記ハードコート層は、フィラーを含んでいてもよい。上記ハードコート層は、上記硬化樹脂と上記フィラーとを含んでいてもよい。上記フィラーとしては、特に限定されないが、例えば、シリカ、酸化鉄、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化チタン、二酸化ケイ素、酸化アンチモン、酸化ジルコニウム、酸化錫、酸化セリウム、インジウム−錫酸化物などの金属酸化物粒子；並びにシリコーン、（メタ）アクリル、スチレン、及びメラミン等を主成分とする樹脂微粒子等が挙げられる。上記樹脂微粒子として、架橋ポリ（メタ）アクリル酸メチルなどの樹脂微粒子を用いることができる。上記フィラーは、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。

【0056】

（導電層）
導電層は、光透過性を有する導電性材料により形成されている。上記導電性材料は、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）である。

【0057】

導電層の厚みは、好ましくは１２ｎｍ以上、より好ましくは１６ｎｍ以上、更に好ましくは１７ｎｍ以上、好ましくは５０ｎｍ以下、より好ましくは３０ｎｍ以下、更に好ましくは１９．９ｎｍ以下である。

【0058】

導電層の厚みが上記下限以上である場合、透明導電フィルムの導電層の表面抵抗値を効果的に低くすることができ、導電性をより一層高めることができる。導電層の厚みが上記上限以下である場合、透明導電フィルムをより一層薄くすることができる。

【0059】

透明導電フィルムの導電層の表面抵抗値（シート抵抗値）は、好ましくは１５０Ω／□以下、より好ましくは１３０Ω／□以下、更に好ましくは１００Ω／□以下である。上記導電層の表面抵抗値は、通常０Ω／□以上である。上記導電層の表面抵抗値が上記上限以下であると、調光フィルムの駆動速度を向上させることができ、また、色調の変化のむらを抑えることができる。

【0060】

上記導電層の表面抵抗値は、上記導電層の基材フィルム側とは反対の表面側で、ＪＩＳ Ｋ７１９４に基づいて、測定される。

【0061】

（アンダーコート層）
上記導電層と上記基材フィルムとの間に、アンダーコート層が配置されていてもよい。上記アンダーコート層は、例えば、屈折率調整層である。上記アンダーコート層が配置されることにより、導電層と基材フィルム（基材フィルムがハードコート層を有する場合は、導電層とハードコート層）との間の屈折率の差を小さくすることができるので、透明導電フィルムの光透過性をより一層高めることができる。

【0062】

アンダーコート層の材料は、屈折率調整機能を有する材料である限り特に限定されない。上記アンダーコート層の材料としては、ＳｉＯ_２、ＭｇＦ_２、Ａｌ_２Ｏ_３等の無機材料、並びにアクリル樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、及びシロキサンポリマー等の有機材料が挙げられる。

【0063】

アンダーコート層は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法又は塗工法により形成することができる。

【0064】

アンダーコート層の材料が、ＳｉＯ_２である場合、スパッタリング法などの成膜プロセスを調整することで、完全酸化されたＳｉＯ_２層と部分酸化されたＳｉＯ_ｘ（０≦ｘ＜２）層とが積層されたアンダーコート層を形成することができる。具体的にはＳｉターゲットを用いてスパッタリング法によりＳｉＯ_２層を形成する際のＯ_２分圧を調整することで、Ｓｉの酸化度を調整することができる。また、アンダーコート層がＳｉＯ_ｘ層である場合、導電層とＳｉＯ_２層との密着性、及び基材フィルムとＳｉＯ_２層との密着性を高めることができる。

【0065】

（保護フィルム）
上記基材フィルムの上記導電層側とは反対の表面上（他方の表面上）に保護フィルムが配置されていてもよい。

【0066】

保護フィルムは、基材フィルムシート及び粘着剤層により構成されていることが好ましい。

【0067】

上記基材フィルムシートは、高い光透過性を有することが好ましい。上記基材フィルムシートの材料としては、特に限定されないが、例えば、ポリオレフィン、ポリエーテルサルフォン、ポリスルホン、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ポリアリレート、ポリアミド、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース、及びセルロースナノファイバー等が挙げられる。

【0068】

上記粘着剤層は、例えば、（メタ）アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ウレタン系接着剤又はエポキシ系接着剤により構成することができる。熱処理による粘着力の上昇を抑制する観点から、上記粘着剤層は、（メタ）アクリル系粘着剤により構成されていることが好ましい。

【0069】

上記（メタ）アクリル系粘着剤は、（メタ）アクリル重合体に、必要に応じて架橋剤、粘着付与樹脂及び各種安定剤などを添加した粘着剤である。

【0070】

上記（メタ）アクリル重合体は、特に限定されないが、（メタ）アクリル酸エステルモノマーと、他の共重合可能な重合性モノマーとを含む混合モノマーを共重合して得られた（メタ）アクリル共重合体であることが好ましい。

【0071】

上記（メタ）アクリル酸エステルモノマーとしては、特に限定されないが、アルキル基の炭素数が１〜１２の１級又は２級のアルキルアルコールと、（メタ）アクリル酸とのエステル化反応により得られる（メタ）アクリル酸エステルモノマーが好ましい。上記（メタ）アクリル酸エステルモノマーとしては、具体的には、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸−２−エチルヘキシル等が挙げられる。上記（メタ）アクリル酸エステルモノマーは、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。

【0072】

上記他の共重合可能な重合性モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシブチル等の（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキル；（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキル、グリセリンジメタクリレート、（メタ）アクリル酸グリシジル、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、無水マレイン酸、クロトン酸、マレイン酸及びフマル酸等の官能性モノマーが挙げられる。上記他の共重合可能な重合性モノマーは、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。

【0073】

上記架橋剤としては、特に限定されず、例えば、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、メラミン系架橋剤、過酸化物系架橋剤、尿素系架橋剤、金属アルコキシド系架橋剤、金属キレート系架橋剤、金属塩系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、アジリジン系架橋剤、アミン系架橋剤、多官能アクリレート等が挙げられる。上記架橋剤は、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。

【0074】

上記粘着付与樹脂としては、特に限定されないが、例えば、脂肪族系共重合体、芳香族系共重合体、脂肪族・芳香族系共重合体及び脂環式系共重合体等の石油系樹脂；クマロン−インデン系樹脂；テルペン系樹脂；テルペンフェノール系樹脂；重合ロジン等のロジン系樹脂；フェノール系樹脂；キシレン系樹脂等が挙げられる。上記粘着付与樹脂は、水素添加された樹脂であってもよい。上記粘着付与樹脂は、単独で用いてもよく、複数を併用してもよい。

【0075】

保護フィルムの厚みは、好ましくは２５μｍ以上、より好ましくは５０μｍ以上、好ましくは３００μｍ以下、より好ましくは２００μｍ以下である。保護フィルムの厚みが、上記下限以上及び上記上限以下である場合、調光フィルムの施工性に優れ、かつ、製造時のハンドリング性を良好にできる。

【0076】

（調光フィルム）
本発明に係る調光フィルムは、第１の透明導電フィルムと、第２の透明導電フィルムと、調光層とを備える。上記調光層は、上記第１の透明導電フィルムと上記第２の透明導電フィルムとの間に配置されている。本発明に係る調光フィルムでは、上記第１の透明導電フィルム及び上記第２の透明導電フィルムの内の少なくとも一方が、本発明に係る透明導電フィルムである。上記第１の透明導電フィルム及び上記第２の透明導電フィルムの一方が、本発明に係る透明導電フィルムであってもよく、上記第１の透明導電フィルム及び上記第２の透明導電フィルムの双方が、本発明に係る透明導電フィルムであってもよい。

【0077】

図２は、図１に示す調光フィルム用透明導電フィルムを用いた調光フィルムの一例を示す断面図である。

【0078】

調光フィルム２１は、２つの透明導電フィルム１と、調光層３１とを備える。２つの透明導電フィルム１の間に、調光層３１が配置されている。透明導電フィルム１における導電層１２は、調光層３１に接している。

【0079】

調光フィルム２１では、２つの透明導電フィルム１の導電層１２間に、電界が印加される。電界が印加されている状態と、電界が印加されていない状態とで、調光フィルム２１を通過する光量を変化させることができる。

【0080】

上記調光層は、アクリル樹脂を含んでいてもよい。上記調光層は、アクリル樹脂中に液晶分子を含んでいてもよい。導電層と調光層との密着性を効果的に高める観点からは、上記調光層はアクリル樹脂を含むことが好ましい。

【0081】

以下、本発明について、具体的な実施例及び比較例に基づき、更に詳しく説明する。なお、本発明は以下の実施例に限定されない。

【0082】

（実施例１）
透明導電フィルムの作製：
基材フィルムとして、厚み１２５μｍのＰＥＴフィルムを用意した。ＰＥＴフィルムの一方の面にジルコニア粒子を分散したアクリル系ハードコート樹脂を塗布し、厚み１．０μｍのハードコート層１を形成した。ＰＥＴフィルムの他方の面に、アクリル系ハードコート樹脂を塗布し、厚み１．５μｍのハードコート層２を形成した。このようにして、両面ハードコートフィルムを得た。

【0083】

この両面ハードコートフィルムを真空装置内に設置し、真空排気を実施した。真空度が９．０×１０^−４Ｐａまで到達した後、全圧が０．３３Ｐａになるようにアルゴンガスを導入し、プロセスガスモニタ（アルバック社製「Ｑｕｌｅｅ ＣＧＭ」）にて水分圧が０．０００５Ｐａになるまで待機した。次いで、ＤＣマグネトロンスパッタリング法によりハードコート層１側からＳｉＯ_ｘ層（２ｎｍ）、ＳｉＯ_２層（１６ｎｍ）、ＳｉＯ_ｘ層（２ｎｍ）をこの順で成膜し、その上にインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）層を積層した。具体的には、ＲｔＲスパッタ装置の成膜ロール（キャンロール）温度を−１０℃にし、ＳｎＯ_２が７重量％のＩＴＯ焼結体ターゲット、及びターゲット表面の最大水平磁束密度が１０００ガウスとなるカソードを用いて、厚み１７ｎｍの導電層（インジウムスズ酸化物層）を形成した。その後熱風循環式オーブンにて１５０℃で、６０分アニール処理を行うことで、光透過性導電フィルムを得た。

【0084】

（実施例２〜４及び比較例１〜３）
導電層の形成条件（スパッタ全圧、スパッタ時の水分圧、及びロール温度）を下記の表１に示すように設定したこと以外は実施例１と同様にして、透明導電フィルムを得た。なお、スパッタ全圧はアルゴン導入流量を調整することで制御した。スパッタ時の水分圧はスパッタ成膜を開始するまでの真空保持時間、及び両面ハードコートフィルムの事前乾燥処理方法（乾燥温度１０５℃）を調整することで制御した。

【0085】

（評価）
（１）ＴＯＦ−ＳＩＭＳ分析
導電層の基材フィルム側とは反対の表面の同一地点にてＣ６０スパッタを連続して行うことで、厚み方向の測定を行った。Ｉｎ^＋イオンの検出数がＳｉ^＋イオンの検出数よりも少なくなったスパッタ回数の半分の回数時点での測定結果から、上記導電層の厚み方向の中央部における強度比（ＩｎＯＨ⁻イオンの強度／全マイナスイオンの強度の合計）を求めた。

【0086】

さらに、ＴＯＦ−ＳＩＭＳ分析において、上記導電層の上記基材フィルム側とは反対の表面における１回目のスパッタでの測定結果から、強度比（Ｈ_３Ｏ^＋イオンの強度／Ｉｎ^＋イオンの強度）を求めた。

【0087】

ＴＯＦ−ＳＩＭＳの具体的な測定条件は以下の通りである。

【0088】

ＴＯＦ−ＳＩＭＳ装置：ＩＯＮ−ＴＯＦ社製、ＴＯＦ−ＳＩＭＳ５型
一次イオン：２０９Ｂｉ^＋１
イオン電圧：２５ｋＶ
イオン電流：１ｐＡ
質量範囲：１〜５００ｍａｓｓ
分析エリア：５００μｍ□
チャージ防止：電子照射中和
スパッタイオン：Ｃ６０
イオン電圧：２０ｋｅＶ
イオン電流：３ｎＡ
スパッタエリア：３００μｍ□

【0089】

（２）耐酸性１の評価
透明導電フィルムを１重量％の塩酸に３０分浸漬した。浸漬前後のシート抵抗値（導電層の表面抵抗値）の変化率を求めた。浸漬後のシート抵抗値Ｒｓの浸漬前のシート抵抗値Ｒｓ０に対する比は１．０に近いほどよい。シート抵抗値は、三菱化学アナリテック社製「ロレスタＡＸ ＭＣＰ−Ｔ３７０」を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１９４に基づいて測定した。

【0090】

（３）耐酸性２の評価
透明導電フィルムを５重量％の塩酸に３０分浸漬した。上記（２）耐酸性１の評価と同様にして、浸漬前後のシート抵抗値（導電層の表面抵抗値）の変化率を求めた。浸漬後のシート抵抗値Ｒｓの浸漬前のシート抵抗値Ｒｓ０に対する比は１．０に近いほどよい。なお、シート抵抗値Ｒｓが大きく悪化したことにより測定レンジ範囲外となり、測定結果が得られなかった場合に、表１に「測定できず」と記載した。

【0091】

（４）シート抵抗値（導電層の表面抵抗値）
得られた透明導電フィルムのシート抵抗値（導電層の表面抵抗値）を、三菱化学アナリテック社製「ロレスタＡＸ ＭＣＰ−Ｔ３７０」を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１９４に基づいて測定した。

【0092】

（５）全光線透過率
得られた透明導電フィルムの波長５５０ｎｍにおける全光線透過率を、ヘーズメーター（日本電色工業社製「ＮＤＨ−２０００」）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１０５に基づいて、測定した。

【0093】

（６）ヘイズ値
得られた透明導電フィルムのヘイズ値を、ヘーズメーター（日本電色工業社製「ＮＤＨ−２０００」）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１３６に基づいて、測定した。

【0094】

導電層の形成条件、及び結果を下記の表１に示す。

【0095】

【表1】

【符号の説明】

【0096】

１…透明導電フィルム
１１…基材フィルム
１１ａ…第１の表面
１１ｂ…第２の表面
１２…導電層
２１…調光フィルム
３１…調光層

【図1】

【図2】