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特許6986841重合性液晶化合物、光学フィルム用組成物およびこれらを含む光学フィルム、補償フィルム、反射防止フィルムと表示装置

書誌要約請求の範囲詳細な説明課題実施例実施するための形態図面の説明

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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6986841

(24)【登録日】2021年12月2日

(45)【発行日】2021年12月22日

(54)【発明の名称】重合性液晶化合物、光学フィルム用組成物およびこれらを含む光学フィルム、補償フィルム、反射防止フィルムと表示装置

(51)【国際特許分類】

C09K 19/54 20060101AFI20211213BHJP

G02B 5/30 20060101ALI20211213BHJP

H01L 51/50 20060101ALI20211213BHJP

H05B 33/02 20060101ALI20211213BHJP

G02F 1/13363 20060101ALI20211213BHJP

C08F 20/30 20060101ALI20211213BHJP

G02F 1/1335 20060101ALI20211213BHJP

【ＦＩ】

C09K19/54 Z

G02B5/30

H05B33/14 A

H05B33/02

G02F1/13363

C08F20/30

G02F1/1335 510

【請求項の数】22

【全頁数】57

(21)【出願番号】特願2017-78(P2017-78)

(22)【出願日】2017年1月4日

(65)【公開番号】特開2017-141433(P2017-141433A)

(43)【公開日】2017年8月17日

【審査請求日】2019年12月16日

(31)【優先権主張番号】10-2015-0188898

(32)【優先日】2015年12月29日

(33)【優先権主張国】KR

(73)【特許権者】

【識別番号】390019839

【氏名又は名称】三星電子株式会社

【氏名又は名称原語表記】ＳａｍｓｕｎｇＥｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓＣｏ．，Ｌｔｄ．

(74)【代理人】

【識別番号】100133400

【弁理士】

【氏名又は名称】阿部達彦

(74)【代理人】

【識別番号】100110364

【弁理士】

【氏名又は名称】実広信哉

(74)【代理人】

【識別番号】100154922

【弁理士】

【氏名又は名称】崔允辰

(74)【代理人】

【識別番号】100140534

【弁理士】

【氏名又は名称】木内敬二

(72)【発明者】

【氏名】ドミトリ・アンドロソフ

(72)【発明者】

【氏名】兪貞恩

(72)【発明者】

【氏名】金柱▲ヒョン▼

(72)【発明者】

【氏名】李殷成

(72)【発明者】

【氏名】金暢基

(72)【発明者】

【氏名】崔 ▲ヒョン▼碩

【審査官】桜田政美

(56)【参考文献】

【文献】韓国公開特許第１０−２０１４−０００２２３３（ＫＲ，Ａ）

【文献】韓国公開特許第１０−２０１５−００３７１７７（ＫＲ，Ａ）

【文献】特開２０１８−００９１８８（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１８−１０９０６６（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｃ０９Ｋ１９／５４

Ｇ０２Ｂ５／３０

Ｈ０１Ｌ５１／５０

Ｈ０５Ｂ３３／０２

Ｇ０２Ｆ１／１３３６３

Ｃ０８Ｆ２０／３０

Ｇ０２Ｆ１／１３３５

ＣＡｐｌｕｓ／ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ）

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

下記化学式１で表される重合性液晶化合物：

【化1】

前記化学式１において、
Ａｒ^１、Ａｒ^２およびＡｒ^３は、それぞれ独立に、置換もしくは非置換の２価の芳香族炭化水素基であり、Ａｒ^４は、置換もしくは非置換の１価の芳香族炭化水素基であり、
Ｘ^１は、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−および−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ^ａ）−（ここで、Ｒ^ａは、水素、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、またはＣ６〜Ｃ３０アリール基である）から選択され、
Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基、アルデヒド基、ケトン基、エステル基、アルキルスルホニル基、および置換もしくは非置換のＣ１〜Ｃ２０アルキル基から選択され、
ｎは、０〜２の整数であり、
ｍは、１または２であり、
Ｘ^２およびＸ^３は、それぞれ独立に、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｎ（Ｒ^ａ）Ｃ（＝Ｏ）−、および−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ^ａ）−（ここで、Ｒ^ａは、水素、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、またはＣ６〜Ｃ３０アリール基である）から選択され、
Ｙ^１およびＹ^２は、それぞれ独立に、置換もしくは非置換の２価の脂肪族炭化水素基、置換もしくは非置換の２価の芳香族炭化水素基、置換もしくは非置換の２価の脂環族（ａｌｉｃｙｃｌｉｃ）炭化水素基、およびこれらの組み合わせから選択され、
Ｘ^５およびＸ^６は、それぞれ独立に、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−、−Ｓ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｓ（＝Ｏ）_２−、−Ｎ（Ｒ^ａ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−、−Ｎ（Ｒ^ｂ）Ｃ（＝Ｏ）−、および−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｃ）−（ここで、Ｒ^ａ、Ｒ^ｂおよびＲ^ｃは、それぞれ独立に、水素、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、およびＣ６〜Ｃ３０アリール基から選択される）から選択される連結基、または主鎖に前記連結基のうちの少なくとも１つを含むＣ２〜Ｃ２０アルキレン基であり、
Ｚ^１およびＺ^２は、それぞれ独立に、重合性官能基である。

【請求項2】

前記化学式１で表される重合性液晶化合物は、下記化学式２で表される請求項１に記載の重合性液晶化合物：

【化2】

前記化学式２において、
Ｘ^１は、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−および−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ^ａ）−（ここで、Ｒ^ａは、水素、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、またはＣ６〜Ｃ３０アリール基である）から選択され、
Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基、アルデヒド基、ケトン基、エステル基、アルキルスルホニル基、および置換もしくは非置換のＣ１〜Ｃ２０アルキル基から選択され、
ｎは、０〜２の整数であり、
ｍは、１または２であり、
Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３およびＲ^１４は、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基、アルデヒド基、および置換もしくは非置換のＣ１〜Ｃ２０アルキル基から選択され、
ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ、フェニレンの結合価数により決定され、
Ｘ^２およびＸ^３は、それぞれ独立に、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｎ（Ｒ^ａ）Ｃ（＝Ｏ）−、および−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ^ａ）−（ここで、Ｒ^ａは、水素、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、またはＣ６〜Ｃ３０アリール基である）から選択され、
Ｙ^１およびＹ^２は、それぞれ独立に、置換もしくは非置換の２価の脂肪族炭化水素基、置換もしくは非置換の２価の芳香族炭化水素基、置換もしくは非置換の２価の脂環族（ａｌｉｃｙｃｌｉｃ）炭化水素基、およびこれらの組み合わせから選択され、
Ｘ^５およびＸ^６は、それぞれ独立に、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−、−Ｓ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｓ（＝Ｏ）_２−、−Ｎ（Ｒ^ａ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−、−Ｎ（Ｒ^ｂ）Ｃ（＝Ｏ）−、および−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｃ）−（ここで、Ｒ^ａ、Ｒ^ｂおよびＲ^ｃは、それぞれ独立に、水素、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、およびＣ６〜Ｃ３０アリール基から選択される）から選択される連結基、または主鎖に前記連結基のうちの少なくとも１つを含むＣ２〜Ｃ２０アルキレン基であり、
Ｚ^１およびＺ^２は、それぞれ独立に、重合性官能基である。

【請求項3】

前記Ａｒ^１は、下記化学式１−１で表される官能基である請求項１に記載の重合性液晶化合物：

【化3】

前記化学式１−１において、
それぞれの芳香族環に結合した水素は、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基、アルデヒド基、アミン基、カルボキシル基、置換もしくは非置換のＣ１〜Ｃ２０アルキル基、置換もしくは非置換のＣ２〜Ｃ２０アルケニル基、置換もしくは非置換のＣ２〜Ｃ２０アルキニル基、置換もしくは非置換のＣ２〜Ｃ２０ケトン基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ^ａ）、置換もしくは非置換のＣ２〜Ｃ２０エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ^ｂ）、置換もしくは非置換のＣ３〜Ｃ３０シクロアルキル基、置換もしくは非置換のＣ６〜Ｃ３０アリール基、−Ｓ（＝Ｏ）Ｒ^ｃ、−Ｓ（＝Ｏ）ＯＲ^ｄ、−Ｓ（＝Ｏ）_２Ｒ^ｅ、または−Ｓ（＝Ｏ）_２ＯＲ^ｆ（ここで、Ｒ^ａ〜Ｒ^ｆは、水素、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、およびＣ６〜Ｃ３０アリール基から選択される）で置換されていてもよく、
それぞれの芳香族環の少なくとも１つの＝ＣＨは、＝Ｎ−で置換されていてもよく、
＊で表される２つの連結基はＸ^２およびＸ^３に結合される。

【請求項4】

前記化学式１において、−Ｃ（Ｒ^１）（Ｒ^２）−は、下記化学式１−２で表される官能基である請求項１に記載の重合性液晶化合物：

【化4】

前記化学式１−２において、Ｒは、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、およびＣ６〜Ｃ３０アリール基から選択される。

【請求項5】

Ｙ^１およびＹ^２は、それぞれ独立に、下記化学式１−３で表される官能基である請求項１〜４のいずれか１項に記載の重合性液晶化合物：

【化5】

前記化学式１−３において、
Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に、単結合、−Ｃ（Ｒ^ｘ）＝Ｃ（Ｒ^ｙ）−（ここで、Ｒ^ｘとＲ^ｙは、それぞれ独立に、水素、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、またはＣ６〜Ｃ３０アリール基である）、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ^ａ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−、−Ｎ（Ｒ^ｂ）Ｃ（＝Ｏ）−、および−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｃ）−（ここで、Ｒ^ａ〜Ｒ^ｃは、水素、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、またはＣ６〜Ｃ３０アリール基である）から選択される連結基、または主鎖に−Ｃ（Ｒ^ｘ）＝Ｃ（Ｒ^ｙ）−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ^ａ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＳＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ、−Ｎ（Ｒ^ｂ）Ｃ（＝Ｏ）−、および−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｃ）−（ここで、Ｒ^ｘ、Ｒ^ｙおよびＲ^ａ〜Ｒ^ｃは、前記同様である）から選択される少なくとも１つの連結基を含むＣ２〜Ｃ２０アルキレン基であり、
それぞれのシクロへキシレン環、フェニレン環、およびナフタレン環に結合した水素は、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基、アルデヒド基、アミン基、カルボキシル基、置換もしくは非置換のＣ１〜Ｃ２０アルキル基、置換もしくは非置換のＣ２〜Ｃ２０アルケニル基、置換もしくは非置換のＣ２〜Ｃ２０アルキニル基、置換もしくは非置換のＣ２〜Ｃ２０ケトン基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ^ａ）、置換もしくは非置換のＣ２〜Ｃ２０エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ^ｂ）、置換もしくは非置換のＣ３〜Ｃ３０シクロアルキル基、置換もしくは非置換のＣ６〜Ｃ３０アリール基、−Ｓ（＝Ｏ）Ｒ^ｃ、−Ｓ（＝Ｏ）ＯＲ^ｄ、−Ｓ（＝Ｏ）_２Ｒ^ｅ、または−Ｓ（＝Ｏ）_２ＯＲ^ｆ（ここで、Ｒ^ａ〜Ｒ^ｆは、水素、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、およびＣ６〜Ｃ３０アリール基から選択される）で置換されていてもよく、
それぞれのシクロへキシレン環の隣接しない少なくとも１つの−（ＣＨ_２）−は、−Ｏ−、−Ｓ−、または−Ｎ（Ｒ^ａ）−（ここで、Ｒ^ａは、水素、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、およびＣ６〜Ｃ３０アリール基から選択される）で置換されていてもよく、フェニレン環またはナフタレン環の隣接しない少なくとも１つの＝ＣＨ−は、＝Ｎ−で置換されていてもよい。

【請求項6】

前記重合性官能基は、置換もしくは非置換のＣ２〜Ｃ１０アルケニル基、置換もしくは非置換のＣ２〜Ｃ１０アルキニル基、置換もしくは非置換のオキセタニル基、置換もしくは非置換の（メタ）アクリル基、置換もしくは非置換の（メタ）アクリロイルオキシ基、置換もしくは非置換の（メタ）アクリロイルアミノ基、置換もしくは非置換の（メタ）アクリロイル基、置換もしくは非置換のマレオイル基、置換もしくは非置換のエポキシ基、および置換もしくは非置換のエポキシシクロアルキル基から選択される請求項１〜５のいずれか１項に記載の重合性液晶化合物。

【請求項7】

前記重合性官能基は、下記化学式１−４で表される官能基である請求項１〜６のいずれか１項に記載の重合性液晶化合物：

【化6】

前記化学式１−４において、
＊は、化学式１のＸ^５またはＸ^６に結合する位置を示し、
Ｒ^ａ１、Ｒ^ａ２、Ｒ^ａ３、Ｒ^ａ４、Ｒ^ａ５およびＲ^ａ６は、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、およびＣ１〜Ｃ６ハロアルキル基から選択され、
Ｌ^１は、単結合、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、および−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−から選択される連結基、または主鎖に前記連結基のうちの少なくとも１つを含むＣ２〜Ｃ２０アルキレン基であり、
Ｒ^ｘ〜Ｒ^ｙは、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基、アルデヒド基、アミン基、カルボキシル基、置換もしくは非置換のＣ１〜Ｃ２０アルキル基、置換もしくは非置換のＣ２〜Ｃ２０アルケニル基、置換もしくは非置換のＣ２〜Ｃ２０アルキニル基、置換もしくは非置換のＣ２〜Ｃ２０ケトン基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ^ａ）、置換もしくは非置換のＣ２〜Ｃ２０エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ^ｂ）、置換もしくは非置換のＣ３〜Ｃ３０シクロアルキル基、置換もしくは非置換のＣ６〜Ｃ３０アリール基、−Ｓ（＝Ｏ）Ｒ^ｃ、−Ｓ（＝Ｏ）ＯＲ^ｄ、−Ｓ（＝Ｏ）_２Ｒ^ｅ、および−Ｓ（＝Ｏ）_２ＯＲ^ｆ（ここで、Ｒ^ａ〜Ｒ^ｆは、水素、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、およびＣ６〜Ｃ３０アリール基から選択される）から選択され、
ｋは、０〜１０の整数であり、ｋが２以上の場合、互いに隣接しない−（ＣＲ^ｘＲ^ｙ）−が−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、および−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−から選択される連結基のうちの少なくとも１つで置換されていてもよい。

【請求項8】

前記重合性液晶化合物は、異常光屈折率（ｒｅｆｒａｃｔｉｖｅｉｎｄｅｘｆｏｒｅｘｔｒａｏｒｄｉｎａｒｙｌｉｇｈｔ）と正常光屈折率（ｒｅｆｒａｃｔｉｖｅｉｎｄｅｘｆｏｒｏｒｄｉｎａｒｙｌｉｇｈｔ）の差を示すΔｎが下記範囲にある請求項１〜７のいずれか１項に記載の重合性液晶化合物：
０．０５≦Δｎ≦０．１
ここで、Δｎ＝ｎｅ−ｎｏであり、ｎｅは、異常光屈折率であり、ｎｏは、正常光屈折率を示す。

【請求項9】

請求項１〜８のいずれか１項に記載の重合性液晶化合物を含む光学フィルム用組成物。

【請求項10】

棒状液晶化合物をさらに含む請求項９に記載の光学フィルム用組成物。

【請求項11】

前記重合性液晶化合物および棒状液晶化合物を２０：８０〜８０：２０の重量比で含む請求項１０に記載の光学フィルム用組成物。

【請求項12】

基材と、
前記基材の一面に位置する液晶層とを含み、
前記液晶層は、請求項１〜８のいずれか１項に記載の重合性液晶化合物を含む光学フィルム。

【請求項13】

前記液晶層は、棒状液晶化合物をさらに含む請求項１２に記載の光学フィルム。

【請求項14】

前記液晶層は、前記重合性液晶化合物および棒状液晶化合物を２０：８０〜８０：２０の重量比で含む請求項１３に記載の光学フィルム。

【請求項15】

前記液晶層は、前記重合性液晶化合物および棒状液晶化合物を含む第１液晶層と、棒状液晶化合物を含む第２液晶層とを含む請求項１３又は１４に記載の光学フィルム。

【請求項16】

前記光学フィルムは、正波長分散位相遅延または逆波長分散位相遅延を有する請求項１２〜１５のいずれか１項に記載の光学フィルム。

【請求項17】

請求項１２〜１６のいずれか１項に記載の光学フィルムと、
前記光学フィルムの少なくとも一面に位置する位相差フィルムとを含む補償フィルム。

【請求項18】

前記位相差フィルムは、λ／４位相差フィルム、λ／２位相差フィルム、またはこれらの組み合わせを含む請求項１７に記載の補償フィルム。

【請求項19】

請求項１７または１８に記載の補償フィルムと、
前記補償フィルムの一面に位置する偏光フィルムとを含む反射防止フィルム。

【請求項20】

表示パネルと、
請求項１２〜１６のいずれか１項に記載の光学フィルムとを含む表示装置。

【請求項21】

表示パネルと、
請求項１７または１８に記載の補償フィルムとを含む表示装置。

【請求項22】

表示パネルと、
請求項１９に記載の反射防止フィルムとを含む表示装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本記載は、重合性液晶化合物、光学フィルム用組成物およびこれらを含む光学フィルム、補償フィルム、反射防止フィルムと表示装置に関する。

【背景技術】

【0002】

液晶表示装置（ｌｉｑｕｉｄｃｒｙｓｔａｌｄｉｓｐｌａｙ、ＬＣＤ）および有機発光表示装置（ｏｒｇａｎｉｃｌｉｇｈｔｅｍｉｔｔｉｎｇｄｉｏｄｅｄｅｖｉｃｅ、ＯＬＥＤｄｅｖｉｃｅ）のような表示装置は、表示板の外側に付着している偏光フィルム（ｐｏｌａｒｉｚｉｎｇｆｉｌｍ）を備える。偏光フィルムは、特定の方向に振動する光のみ通過させ、その他の光は吸収または反射することによって、表示板に入射する光、または表示板から出る光の方向を制御することができる。

【0003】

偏光フィルムは、一般に、偏光子と、これを保護するための保護層とを含む。偏光子は、例えば、ヨウ素または二色性染料をポリビニルアルコール（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌａｌｃｏｈｏｌ、ＰＶＡ）に吸着および配向して使用され、保護層は、例えば、トリアセチルセルロース（ｔｒｉａｃｅｔｙｌｃｅｌｌｕｌｏｓｅ、ＴＡＣ）が使用される。

【0004】

偏光フィルムは、光学補償フィルム（ｏｐｔｉｃａｌｃｏｍｐｅｎｓａｔｉｏｎｆｉｌｍ）と結合して、外部から流入する光が反射するのを防止する反射防止フィルムとしての役割を果たすことができる。反射防止フィルムは、表示装置の一側または両側に形成され、表示装置の視認性に影響を与えることがある。

【0005】

一方、最近は、液晶化合物を含有する光学補償フィルムが液晶表示装置の光学補償の用途および視野角拡大の用途に使用されている。このような液晶化合物は、有機溶媒に溶解した後、塗布して、光学補償フィルムに製造されるので、有機溶媒に対する溶解性（ｓｏｌｕｂｉｌｉｔｙ）に優れ、良好な混和性（ｍｉｓｃｉｂｉｌｉｔｙ）を有する液晶化合物が要求される。また、構造的安定性に優れ、低い融点を有し、広い互変性（ｅｎａｎｔｉｏｔｒｏｐｉｃ）ネマチック相が維持される区間を有する液晶化合物が要求される。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

一実施形態は、有機溶媒に対する溶解性と混和性に優れて塗布性（ｃｏａｔｉｎｇｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ）とフィルム加工性を改善させることができ、液晶相（ｌｉｑｕｉｄｃｒｙｓｔａｌｐｈａｓｅ）の安定性に優れ、広いネマチック相区間と低い融点を有する重合性液晶化合物を提供する。

【0007】

他の実施形態は、前記重合性液晶化合物を含む光学フィルム用組成物を提供する。

【0008】

さらに他の実施形態は、前記重合性液晶化合物または前記光学フィルム用組成物を含む光学フィルムを提供する。

【0009】

さらに他の実施形態によれば、前記光学フィルムと、前記光学フィルムの少なくとも一面に位置する位相差フィルムとを含む補償フィルムを提供する。

【0010】

さらに他の実施形態は、前記光学フィルムを備えた反射防止フィルムを提供する。

【0011】

さらに他の実施形態は、前記光学フィルムまたは前記反射防止フィルムを適用した表示装置を提供する。

【課題を解決するための手段】

【0012】

一実施形態は、下記化学式１で表される重合性液晶化合物を提供する。

【0013】

【化1】

【0014】

【0015】

前記化学式１で表される重合性液晶化合物は、下記化学式２で表される。

【0016】

【化2】

【0017】

【0018】

前記Ａｒ^１は、下記化学式１−１で表される芳香族炭化水素基であってもよい。

【0019】

【化3】

【0020】

【0021】

前記化学式１において、−Ｃ（Ｒ^１）（Ｒ^２）−の具体例としては、下記化学式１−２で表される官能基が挙げられる。

【0022】

【化4】

【0023】

前記化学式１−２において、
Ｒは、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、およびＣ６〜Ｃ３０アリール基から選択される。

【0024】

前記Ｙ^１およびＹ^２は、それぞれ独立に、下記化学式１−３で表される官能基になってもよい。

【0025】

【化5】

【0026】

前記化学式１−３において、
Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に、単結合、−Ｃ（Ｒ^ｘ）＝Ｃ（Ｒ^ｙ）−（ここで、Ｒ^ｘとＲ^ｙは、それぞれ独立に、水素、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、またはＣ６〜Ｃ３０アリール基である）、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ^ａ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＳＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−、−Ｎ（Ｒ^ｂ）Ｃ（＝Ｏ）−、および−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｃ）−（ここで、Ｒ^ａ〜Ｒ^ｃは、水素、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、またはＣ６〜Ｃ３０アリール基である）から選択される連結基、または主鎖に−Ｃ（Ｒ^ｘ）＝Ｃ（Ｒ^ｙ）−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ^ａ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＳＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ、−Ｎ（Ｒ^ｂ）Ｃ（＝Ｏ）−、および−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｃ）−（ここで、Ｒ^ｘ、Ｒ^ｙおよびＲ^ａ〜Ｒ^ｃは、前記同様である）から選択される少なくとも１つの連結基を含むＣ２〜Ｃ２０アルキレン基であり、
それぞれのシクロへキシレン環、フェニレン環、およびナフタレン環に結合した水素は、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基、アルデヒド基、アミン基、カルボキシル基、置換もしくは非置換のＣ１〜Ｃ２０アルキル基、置換もしくは非置換のＣ２〜Ｃ２０アルケニル基、置換もしくは非置換のＣ２〜Ｃ２０アルキニル基、置換もしくは非置換のＣ２〜Ｃ２０ケトン基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ^ａ）、置換もしくは非置換のＣ２〜Ｃ２０エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ^ｂ）、置換もしくは非置換のＣ３〜Ｃ３０シクロアルキル基、置換もしくは非置換のＣ６〜Ｃ３０アリール基、−Ｓ（＝Ｏ）Ｒ^ｃ、−Ｓ（＝Ｏ）ＯＲ^ｄ、−Ｓ（＝Ｏ）_２Ｒ^ｅ、または−Ｓ（＝Ｏ）_２ＯＲ^ｆ（ここで、Ｒ^ａ〜Ｒ^ｆは、水素、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、およびＣ６〜Ｃ３０アリール基から選択される）で置換されていてもよく、
それぞれのシクロへキシレン環の隣接しない少なくとも１つの−（ＣＨ_２）−は、−Ｏ−、−Ｓ−、または−Ｎ（Ｒ^ａ）−（ここで、Ｒ^ａは、水素、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、およびＣ６〜Ｃ３０アリール基から選択される）で置換されていてもよく、フェニレン環またはナフタレン環の隣接しない少なくとも１つの＝ＣＨ−は、＝Ｎ−で置換されていてもよい。

【0027】

前記重合性官能基は、置換もしくは非置換のＣ２〜Ｃ１０アルケニル基、置換もしくは非置換のＣ２〜Ｃ１０アルキニル基、置換もしくは非置換のオキセタニル基（ｏｘｅｔａｎｙｌｇｒｏｕｐ）、置換もしくは非置換の（メタ）アクリル基、置換もしくは非置換の（メタ）アクリロイルオキシ基、置換もしくは非置換の（メタ）アクリロイルアミノ基、置換もしくは非置換の（メタ）アクリロイル基、置換もしくは非置換のマレオイル基（ｍａｌｅｏｙｌｇｒｏｕｐ）、置換もしくは非置換のエポキシ基、および置換もしくは非置換のエポキシシクロアルキル基から選択されてもよい。

【0028】

前記重合性官能基の具体例としては、下記化学式１−４で表される官能基がある。

【0029】

【化6】

【0030】

【0031】

前記重合性液晶化合物は、異常光屈折率（ｒｅｆｒａｃｔｉｖｅｉｎｄｅｘｆｏｒｅｘｔｒａｏｒｄｉｎａｒｙｌｉｇｈｔ）と正常光屈折率（ｒｅｆｒａｃｔｉｖｅｉｎｄｅｘｆｏｒｏｒｄｉｎａｒｙｌｉｇｈｔ）の差を示すΔｎが下記関係式１の範囲にあるとよい。

【0032】

［関係式１］
０．０５≦Δｎ≦０．１

【0033】

前記関係式１において、Δｎ＝ｎｅ−ｎｏであり、ｎｅは、異常光屈折率であり、ｎｏは、正常光屈折率を示す。

【0034】

他の実施形態は、前記重合性液晶化合物を含む光学フィルム用組成物を提供する。

【0035】

前記光学フィルム用組成物は、棒状液晶化合物をさらに含むことができる。

【0036】

前記光学フィルム用組成物は、前記重合性液晶化合物および棒状液晶化合物を約２０：８０〜約８０：２０の重量比で含むことができる。

【0037】

他の実施形態は、基材と、前記基材の一面に位置する液晶層とを含み、前記液晶層は、前記光学フィルム用組成物を含む光学フィルムを提供する。

【0038】

前記液晶層は、前記重合性液晶化合物および棒状液晶化合物を含む第１液晶層と、棒状液晶化合物を含む第２液晶層とを含むことができる。

【0039】

前記光学フィルムは、正波長分散位相遅延または逆波長分散位相遅延を有することができる。

【0040】

【0041】

前記位相差フィルムは、λ／４位相差フィルム、λ／２位相差フィルム、またはこれらの組み合わせを含むことができる。

【0042】

さらに他の実施形態によれば、前記補償フィルムと、前記補償フィルムの一面に位置する偏光フィルムとを含む反射防止フィルムを提供する。

【0043】

さらに他の実施形態によれば、表示パネルと、前記光学フィルム、前記補償フィルム、または前記反射防止フィルムとを含む表示装置を提供する。

【発明の効果】

【0044】

前記重合性液晶化合物は、有機溶媒に対する溶解性と混和性に優れてフィルム加工性を改善させることができ、液晶相（ｌｉｑｕｉｄｃｒｙｓｔａｌｐｈａｓｅ）の安定性に優れている。

【図面の簡単な説明】

【0045】

【図1】一実施形態に係る光学フィルムを示す断面図である。

【図2】一実施形態に係る補償フィルムを概略的に示す断面図である。

【図3】他の実施形態に係る補償フィルムを概略的に示す断面図である。

【図4】一実施形態に係る反射防止フィルムを概略的に示す断面図である。

【図5】一実施形態に係る反射防止フィルムの外光（ｅｘｔｅｒｎａｌｌｉｇｈｔ）反射防止の原理を示す概略図である。

【図6】一実施形態に係る有機発光表示装置を概略的に示す断面図である。

【図7】一実施形態に係る液晶表示装置を概略的に示す断面図である。

【図8】合成例１による重合性液晶化合物（化学式１ａの化合物）の熱重量分析を示す図である。

【図9】合成例３による重合性液晶化合物（化学式１ｃの化合物）の熱重量分析を示す図である。

【図10】合成例４による重合性液晶化合物（化学式１ｄの化合物）の熱重量分析を示す図である。

【図11】合成例５による重合性液晶化合物（化学式１ｅの化合物）の熱重量分析を示す図である。

【図12】合成例１による重合性液晶化合物の示差走査熱量分析の結果を示す図である。

【図13】比較合成例１による液晶化合物の示差走査熱量分析の結果を示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0046】

以下、本発明の実施形態について、本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳細に説明する。しかし、本発明は種々の異なる形態で実現可能であり、ここで説明する実施形態に限定されない。

【0047】

図面において、様々な層および領域を明確に表現するために厚さを拡大して示した。明細書全体にわたって類似の部分については同一の図面符号を付した。層、膜、領域、板などの部分が他の部分の「上」にあるとする時、これは、他の部分の「直上」にある場合だけでなく、その中間にさらに他の部分がある場合も含む。逆に、ある部分が他の部分の「直上」にあるとする時には、中間に他の部分がないことを意味する。

【0048】

図面において、本実施形態を明確に説明するために説明上不必要な部分は省略し、明細書全体にわたって同一または類似の構成要素については同一の図面符号を用いた。

【0049】

本明細書において、別途の定義がない限り、「置換の」とは、化合物中の水素原子がハロゲン基（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、または−Ｉ）、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、アジド基、アミジノ基、ヒドラジノ基、ヒドラゾノ基、カルボニル基、カルバミル基、チオール基、エステル基、カルボキシル基やその塩、スルホン酸基やその塩、リン酸やその塩、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、Ｃ２〜Ｃ２０アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ２０アルキニル基、Ｃ６〜Ｃ３０アリール基、Ｃ７〜Ｃ３０アリールアルキル基、Ｃ１〜Ｃ２０アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ２０ヘテロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ２０ヘテロアリールアルキル基、Ｃ３〜Ｃ３０シクロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ１５シクロアルケニル基、Ｃ６〜Ｃ１５シクロアルキニル基、Ｃ２〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基、およびこれらの組み合わせから選択された置換基で置換されていることを意味する。

【0050】

また、本明細書において、別途の定義がない限り、「ヘテロ」とは、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｐ、およびＳｉから選択されたヘテロ原子を１〜３個含有しているものを意味する。

【0051】

さらに、本明細書において、別途の定義がない限り、「ハロゲン」とは、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、またはＩを意味する。

【0052】

本明細書において、別途の定義がない限り、「２価の脂肪族炭化水素基」とは、Ｃ１〜Ｃ４０アルキレン基またはＣ１〜Ｃ３０ヘテロアルキレン基を意味し、「２価の芳香族炭化水素基」とは、Ｃ６〜Ｃ４０アリーレン基またはＣ３〜Ｃ３０ヘテロアリーレン基を意味し、「２価の脂環族炭化水素基」とは、Ｃ３〜Ｃ４０シクロアルキレン基、Ｃ３〜Ｃ４０シクロアルケニレン基、Ｃ３〜Ｃ４０シクロアルキニレン基、Ｃ３〜Ｃ４０ヘテロシクロアルキレン基、Ｃ３〜Ｃ４０ヘテロシクロアルケニレン基、またはＣ３〜Ｃ４０ヘテロシクロアルキニレン基を意味する。

【0053】

本明細書において、別途の定義がない限り、アルキル基、アルケニル基、またはアルキニル基は、直鎖または分枝鎖であってもよい。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基などが挙げられる。アルケニル基の具体例としては、ビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などがある。アルキニル基の具体例としては、プロパルギル基、３−ペンチニル基などがある。

【0054】

本明細書において、別途の定義がない限り、「アミン基」はＮＲＲ’であって、ＲとＲ’は、それぞれ独立に、水素、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、またはＣ６〜Ｃ３０アリール基であることを意味する。

【0055】

以下、一実施形態に係る重合性液晶化合物について説明する。

【0056】

一実施形態に係る重合性液晶化合物は、下記化学式１で表される。

【0057】

【化7】

【0058】

化学式１において、
Ａｒ^１、Ａｒ^２およびＡｒ^３は、それぞれ独立に、置換もしくは非置換の２価の芳香族炭化水素基であり、Ａｒ^４は、置換もしくは非置換の１価の芳香族炭化水素基であり、
Ｘ^１は、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−および−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ^ａ）−（ここで、Ｒ^ａは、水素、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、またはＣ６〜Ｃ３０アリール基である）から選択され、
Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基、アルデヒド基、ケトン基（−（Ｃ＝Ｏ）Ｒ、ここで、Ｒは、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基またはＣ６〜Ｃ３０アリール基である）、エステル基（−（Ｃ＝Ｏ）ＯＲ、ここで、Ｒは、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基またはＣ６〜Ｃ３０アリール基である）、アルキルスルホニル基（−（Ｓ＝Ｏ）_２Ｒ、ここで、Ｒは、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基またはＣ６〜Ｃ３０アリール基である）、および置換もしくは非置換のＣ１〜Ｃ２０アルキル基から選択され、
ｎは、０〜２の整数であり、
ｍは、１または２であり、
Ｘ^２およびＸ^３は、それぞれ独立に、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｎ（Ｒ^ａ）Ｃ（＝Ｏ）−、および−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ^ａ）−（ここで、Ｒ^ａは、水素、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、またはＣ６〜Ｃ３０アリール基である）から選択され、
Ｙ^１およびＹ^２は、それぞれ独立に、置換もしくは非置換の２価の脂肪族炭化水素基、置換もしくは非置換の２価の芳香族炭化水素基、置換もしくは非置換の２価の脂環族（ａｌｉｃｙｃｌｉｃ）炭化水素基、およびこれらの組み合わせから選択され、
Ｘ^５およびＸ^６は、それぞれ独立に、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−、−Ｓ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｓ（＝Ｏ）_２−、−Ｎ（Ｒ^ａ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−、−Ｎ（Ｒ^ｂ）Ｃ（＝Ｏ）−、および−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｃ）−（ここで、Ｒ^ａ、Ｒ^ｂおよびＲ^ｃは、それぞれ独立に、水素、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、およびＣ６〜Ｃ３０アリール基から選択される）から選択される連結基、または主鎖に前記連結基のうちの少なくとも１つを含むＣ２〜Ｃ２０アルキレン基であり、
Ｚ^１およびＺ^２は、それぞれ独立に、重合性官能基である。

【0059】

化学式１の重合性液晶化合物は、Ａｒ^１をコアとして、ビストラン（ｂｉｓｔｏｌａｎｅ、１，４−ｂｉｓ（ｐｈｅｎｙｌｅｔｈｙｎｙｌ）ｂｅｎｚｅｎｅ）部分を側鎖基（ｌａｔｅｒａｌｇｒｏｕｐ）として有し、両側に重合性官能基を有するＴ−形状（Ｔ−ｓｈａｐｅｄ）のメソゲン化合物（ｍｅｓｏｇｅｎｉｃｃｏｍｐｏｕｎｄ）である。Ａｒ^１を含むネマチック配向子（ｎｅｍａｔｉｃｄｉｒｅｃｔｏｒ）の方向をｘ軸とする場合、側鎖基は、ｚ軸に沿って配向されてもよく、ｙ軸に沿って２次元的に配向されてもよい。

【0060】

重合性液晶化合物は、良好な液晶性（ｌｉｑｕｉｄｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｉｔｙ）と光学異方性（ｏｐｔｉｃａｌａｎｉｓｏｔｒｏｐｙ）を有するだけでなく、有機溶媒に対する溶解性、混和性および塗布性に優れてフィルム加工性を向上させることができる。また、重合性液晶化合物は、正波長分散位相遅延だけでなく逆波長分散位相遅延を有するフィルムを提供することができる。したがって、化学式１の重合性液晶化合物を含むフィルムは、光学フィルムとして好適に使用でき、λ／４板（ｑｕａｒｔｅｒｗａｖｅｆｉｌｍ）として好適に使用できる。

【0061】

化学式１で表される重合性液晶化合物は、下記化学式２で表される。

【0062】

【化8】

【0063】

化学式２において、
Ｘ^１は、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−および−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ^ａ）−（ここで、Ｒ^ａは、水素、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、またはＣ６〜Ｃ３０アリール基である）から選択され、
Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基、アルデヒド基、ケトン基（−（Ｃ＝Ｏ）Ｒ、ここで、Ｒは、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基またはＣ６〜Ｃ３０アリール基である）、エステル基（−（Ｃ＝Ｏ）ＯＲ、ここで、Ｒは、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基またはＣ６〜Ｃ３０アリール基である）、アルキルスルホニル基（−（Ｓ＝Ｏ）_２Ｒ、ここで、Ｒは、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基またはＣ６〜Ｃ３０アリール基である）、および置換もしくは非置換のＣ１〜Ｃ２０アルキル基から選択され、
ｎは、０〜２の整数であり、
ｍは、１または２であり、
Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３およびＲ^１４は、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基、アルデヒド基、および置換もしくは非置換のＣ１〜Ｃ２０アルキル基から選択され、
ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ、フェニレンの結合価数により決定され、例えば、ａは、０〜３の整数であり、ｂ、ｃおよびｄは、０〜４の整数であり、
Ｘ^２およびＸ^３は、それぞれ独立に、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｎ（Ｒ^ａ）Ｃ（＝Ｏ）−、および−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ^ａ）−（ここで、Ｒ^ａは、水素、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、またはＣ６〜Ｃ３０アリール基である）から選択され、
Ｙ^１およびＹ^２は、それぞれ独立に、置換もしくは非置換の２価の脂肪族炭化水素基、置換もしくは非置換の２価の芳香族炭化水素基、置換もしくは非置換の２価の脂環族（ａｌｉｃｙｃｌｉｃ）炭化水素基、およびこれらの組み合わせから選択され、
Ｘ^５およびＸ^６は、それぞれ独立に、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−、−Ｓ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｓ（＝Ｏ）_２−、−Ｎ（Ｒ^ａ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−、−Ｎ（Ｒ^ｂ）Ｃ（＝Ｏ）−、および−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｃ）−（ここで、Ｒ^ａ、Ｒ^ｂおよびＲ^ｃは、それぞれ独立に、水素、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、およびＣ６〜Ｃ３０アリール基から選択される）から選択される連結基、または主鎖に連結基のうちの少なくとも１つを含むＣ２〜Ｃ２０アルキレン基であり、
Ｚ^１およびＺ^２は、それぞれ独立に、重合性官能基である。

【0064】

Ａｒ^１は、下記化学式１−１で表される芳香族炭化水素基であってもよい。

【0065】

【化9】

【0066】

化学式１−１において、
それぞれの芳香族環に結合した水素は、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基、アルデヒド基、アミン基、カルボキシル基、置換もしくは非置換のＣ１〜Ｃ２０アルキル基、置換もしくは非置換のＣ２〜Ｃ２０アルケニル基、置換もしくは非置換のＣ２〜Ｃ２０アルキニル基、置換もしくは非置換のＣ２〜Ｃ２０ケトン基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ^ａ）、置換もしくは非置換のＣ２〜Ｃ２０エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ^ｂ）、置換もしくは非置換のＣ３〜Ｃ３０シクロアルキル基、置換もしくは非置換のＣ６〜Ｃ３０アリール基、−Ｓ（＝Ｏ）Ｒ^ｃ、−Ｓ（＝Ｏ）ＯＲ^ｄ、−Ｓ（＝Ｏ）_２Ｒ^ｅ、または−Ｓ（＝Ｏ）_２ＯＲ^ｆ（ここで、Ｒ^ａ〜Ｒ^ｆは、水素、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、およびＣ６〜Ｃ３０アリール基から選択される）で置換されていてもよく、
それぞれの芳香族環の少なくとも１つの＝ＣＨは、＝Ｎ−で置換されていてもよく、
＊で表される２つの連結基はＸ^２およびＸ^３に結合される。

【0067】

重合性液晶化合物のＴ−形状は、Ａｒ^１位に芳香族炭化水素基が存在し、Ｘ^１位に−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−または−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ^ａ）−が存在することによって、安定的に維持できる。例えば、Ａｒ^１位にアルキレンやシクロアルキレンが位置したり、Ｘ^１位にＣ（＝Ｏ）Ｏ−または−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ^ａ）−以外の連結基が来る場合、Ｔ−形状が安定的に維持できない。

【0068】

また、Ｘ^２およびＸ^３が−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｎ（Ｒ^ａ）Ｃ（＝Ｏ）−、または−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ^ａ）−の場合、ネマチック配向子のＡｒ^１とＸ^２およびＡｒ^１とＸ^３との間の自由回転を抑制して、Ｔ−形状の構造的安定性を提供することができる。Ｘ^２およびＸ^３位に自由回転が可能な連結基が来る場合、Ｔ−形状の構造的安定性を提供することができない。

【0069】

さらに、Ａｒ^１位に存在する芳香族炭化水素基にカルボニル基を含むＸ^２およびＸ^３が隣接して位置する場合、連続した二重結合の長さが増加するので、長波長の吸収をより強く改善することができる。

【0070】

化学式１において、−Ｃ（Ｒ^１）（Ｒ^２）−は、置換もしくは非置換のメチレン基であって、重合性液晶化合物に構造的多様性（ｓｔｒｕｃｔｕｒａｌｖａｒｉａｂｉｌｉｔｙ）を提供することができ、有機溶媒に対する溶解性、他の化合物との混和性（ｍｉｓｃｉｂｉｌｉｔｙ）および分子の柔軟性を向上させることができ、−Ｃ（Ｒ^１）（Ｒ^２）−を中心にビストラン側鎖基のある程度の回転（ｒｏｔａｔｉｏｎ）が可能で、ビストラン側鎖基に柔軟性を付与することによって、周辺分子との立体障害（ｓｔｅｒｉｃｈｉｎｄｒａｎｃｅ）を減少させることができる。

【0071】

化学式１において、−Ｃ（Ｒ^１）（Ｒ^２）−の具体例としては、下記化学式１−２で表される官能基が挙げられる。

【0072】

【化10】

【0073】

化学式１−２において、
Ｒは、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、およびＣ６〜Ｃ３０アリール基から選択される。

【0074】

Ｙ^１およびＹ^２は、それぞれ独立に、下記化学式１−３で表される官能基になってもよい。

【0075】

【化11】

【0076】

化学式１−３において、
Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に、単結合、−Ｃ（Ｒ^ｘ）＝Ｃ（Ｒ^ｙ）−（ここで、Ｒ^ｘとＲ^ｙは、それぞれ独立に、水素、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、またはＣ６〜Ｃ３０アリール基である）、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ^ａ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＳＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−、−Ｎ（Ｒ^ｂ）Ｃ（＝Ｏ）−、および−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｃ）−（ここで、Ｒ^ａ〜Ｒ^ｃは、水素、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、またはＣ６〜Ｃ３０アリール基である）から選択される連結基、または主鎖に−Ｃ（Ｒ^ｘ）＝Ｃ（Ｒ^ｙ）−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ^ａ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＳＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−、−Ｎ（Ｒ^ｂ）Ｃ（＝Ｏ）−、および−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｃ）−（ここで、Ｒ^ｘ、Ｒ^ｙおよびＲ^ａ〜Ｒ^ｃは、前記同様である）から選択される少なくとも１つの連結基を含むＣ２〜Ｃ２０アルキレン基であり、
それぞれのシクロへキシレン環、フェニレン環、およびナフタレン環に結合した水素は、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基、アルデヒド基、アミン基、カルボキシル基、置換もしくは非置換のＣ１〜Ｃ２０アルキル基、置換もしくは非置換のＣ２〜Ｃ２０アルケニル基、置換もしくは非置換のＣ２〜Ｃ２０アルキニル基、置換もしくは非置換のＣ２〜Ｃ２０ケトン基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ^ａ）、置換もしくは非置換のＣ２〜Ｃ２０エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ^ｂ）、置換もしくは非置換のＣ３〜Ｃ３０シクロアルキル基、置換もしくは非置換のＣ６〜Ｃ３０アリール基、−Ｓ（＝Ｏ）Ｒ^ｃ、−Ｓ（＝Ｏ）ＯＲ^ｄ、−Ｓ（＝Ｏ）_２Ｒ^ｅ、または−Ｓ（＝Ｏ）_２ＯＲ^ｆ（ここで、Ｒ^ａ〜Ｒ^ｆは、水素、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、およびＣ６〜Ｃ３０アリール基から選択される）で置換されていてもよく、
それぞれのシクロへキシレン環の隣接しない少なくとも１つの−（ＣＨ_２）−は、−Ｏ−、−Ｓ−、または−Ｎ（Ｒ^ａ）−（ここで、Ｒ^ａは、水素、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、およびＣ６〜Ｃ３０アリール基から選択される）で置換されていてもよく、フェニレン環またはナフタレン環の隣接しない少なくとも１つの＝ＣＨ−は、＝Ｎ−で置換されていてもよい。

【0077】

Ｙ^１およびＹ^２が置換もしくは非置換の２価の芳香族炭化水素基または置換もしくは非置換の２価の脂環族（ａｌｉｃｙｃｌｉｃ）炭化水素基のような環構造を有する場合、Ｘ^２およびＸ^３そしてＸ^５およびＸ^６は、それぞれ、Ｙ^１およびＹ^２に結合する時、メタ位またはパラ位に結合できる。

【0078】

重合性官能基は、置換もしくは非置換のＣ２〜Ｃ１０アルケニル基、置換もしくは非置換のＣ２〜Ｃ１０アルキニル基、置換もしくは非置換のオキセタニル基、置換もしくは非置換の（メタ）アクリル基、置換もしくは非置換の（メタ）アクリロイルオキシ基、置換もしくは非置換の（メタ）アクリロイルアミノ基、置換もしくは非置換の（メタ）アクリロイル基、置換もしくは非置換のマレオイル基、置換もしくは非置換のエポキシ基、および置換もしくは非置換のエポキシシクロアルキル基から選択されてもよい。

【0079】

重合性液晶化合物は、異常光屈折率（ｒｅｆｒａｃｔｉｖｅｉｎｄｅｘｆｏｒｅｘｔｒａｏｒｄｉｎａｒｙｌｉｇｈｔ）と正常光屈折率（ｒｅｆｒａｃｔｉｖｅｉｎｄｅｘｆｏｒｏｒｄｉｎａｒｙｌｉｇｈｔ）の差を示すΔｎが下記関係式１の範囲にあるとよい。

【0080】

［関係式１］
０．０５≦Δｎ≦０．１

【0081】

関係式１において、Δｎ＝ｎｅ−ｎｏであり、ｎｅは、異常光屈折率であり、ｎｏは、正常光屈折率を示す。Δｎが前記範囲にあれば、面内位相差を生成させることができる。

【0082】

他の実施形態は、重合性液晶化合物を含む光学フィルム用組成物を提供する。

【0083】

光学フィルム用組成物は、棒状液晶化合物をさらに含むことができる。

【0084】

棒状液晶化合物は、例えば、１つ以上の重合性官能基を有する棒状の芳香族誘導体、プロピレングリコール１−メチル、プロピレングリコール２−アセテート、およびＰ^１−Ａ^１−（Ｙ^１−Ａ^２）_ｎ−Ｐ^２で表される化合物（ここで、Ｐ^１およびＰ^２のうちの少なくとも１つは重合性官能基で、アクリレート（ａｃｒｙｌａｔｅ）、メタクリレート（ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）、アクリロイル（ａｃｒｙｌｏｙｌ）、ビニル（ｖｉｎｙｌ）、ビニルオキシ（ｖｉｎｙｌｏｘｙ）、エポキシ（ｅｐｏｘｙ）、またはこれらの組み合わせを含むことができ、Ａ^１およびＡ^２は、それぞれ独立に、１，４−フェニレン（１，４−ｐｈｅｎｙｌｅｎｅ）、ナフタレン（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）−２，６−ジイル（ｄｉｙｌ）基、またはこれらの組み合わせを含むことができ、Ｙ^１は、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、またはこれらの組み合わせを含むことができ、ｎは、０、１、または２である）のうちの少なくとも１つを含むことができるが、これに限定されるものではない。

【0085】

光学フィルム用組成物は、重合性液晶化合物および棒状液晶化合物を約１０：９０〜９０：１０の重量比、例えば、約２０：８０〜約８０：２０の重量比で含むことができる。前記範囲において、正波長分散位相遅延または逆波長分散位相遅延を有する光学フィルムを提供することができる。

【0086】

一例として、棒状液晶化合物は、下記化学式３−１で表される第１棒状液晶化合物、下記化学式３−２で表される第２棒状液晶化合物、および下記化学式３−３で表される第３棒状液晶化合物のうちの少なくとも１つを含むことができる。

【0087】

【化12】

【0088】

化学式３−１〜３−３において、
Ｍは、シアノ基、シアノ含有基、ヒドロキシ基、置換もしくは非置換のカルボキシル基、またはこれらの組み合わせであり、
Ｒ^１１、Ｒ’^１１、Ｒ^１２〜Ｒ^１８は、それぞれ独立に、水素、置換もしくは非置換のＣ１〜Ｃ１０アルキル基、置換もしくは非置換のＣ１〜Ｃ１０アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン含有基、またはこれらの組み合わせであり、
Ｌ^４〜Ｌ^９は、それぞれ独立に、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−、−ＳＣ（＝Ｏ）−、およびこれらの組み合わせから選択される連結基を含むＣ３〜Ｃ１０アルキレン基から選択され、
ｅ、ｈ、ｐ、ｋ_１およびｋ_２は、それぞれ独立に、１〜１０の整数であり、
ｎ、ｆ、ｉ、ｌ_１、ｌ_２およびｑは、それぞれ独立に、０または１である。

【0089】

棒状液晶化合物は、２種以上を混合して使用することができる。

【0090】

一例として、第１棒状液晶化合物および第２棒状液晶化合物を含むことができ、例えば、棒状液晶化合物の総含有量に対して、約１０〜９０重量％の第１棒状液晶化合物および約１０〜９０重量％の第２棒状液晶化合物を含むことができる。また、第１棒状液晶化合物および第２棒状液晶化合物のうちの少なくとも１つと、第３棒状液晶化合物とを組み合わせて使用してもよいし、例えば、棒状液晶化合物の総含有量に対して、約１０〜９０重量％の第１棒状液晶化合物および第２棒状液晶化合物のうちの少なくとも１つと、約１０〜９０重量％の第３棒状液晶化合物とを含むことができる。

【0091】

重合性液晶化合物単独、または重合性液晶化合物および棒状液晶化合物の混合物は、光学フィルム用組成物の総含有量に対して、約５〜約５０重量％、例えば、約５〜約４０重量％、例えば、約１０〜約３５重量％含まれる。前記範囲に含まれることによって、光学フィルムの光学的特性をより効果的に確保することができる。

【0092】

光学フィルム用組成物は、反応開始剤をさらに含むことができる。反応開始剤は、例えば、光開始剤であるとよいし、例えば、自由ラジカル光開始剤および／またはイオン性光開始剤であるとよい。

【0093】

反応開始剤は、光学フィルム用組成物の総含有量に対して、約０．０１〜約５重量％含まれる。前記範囲内で約０．１〜約４重量％含まれてもよく、前記範囲内で約０．１〜約２重量％含まれてもよい。前記範囲に含まれることによって、反応性を効果的に高めることができる。

【0094】

光学フィルム用組成物は、追加的に、添加剤をさらに含むことができる。添加剤は、界面活性剤、溶解補助剤、および／または分散剤などであってもよいが、これらに限定されるものではない。

【0095】

光学フィルム用組成物は、上述した成分を溶解および／または分散させられる溶媒をさらに含むことができる。溶媒は、上述した成分を溶解および／または分散可能で、基材に物理的化学的損傷を与えないものであれば特に限定されず、例えば、脱イオン水、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−プロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、エチルアセテート、ブチルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエチルエーテル、メチルメトキシプロピオン酸、エチルエトキシプロピオン酸、乳酸エチル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールメチルアセテート、ジエチレングリコールエチルアセテート、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグリム、テトラヒドロフラン、アセチルアセトン、アセトニトリル、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、およびベンゼンから選択された少なくとも１つを含むことができる。溶媒は、単一溶媒であってもよく、混合溶媒であってもよい。

【0096】

溶媒は、光学フィルム用組成物の総含有量に対して、上述した成分を除いた残部の含有量で含まれる。

【0097】

光学フィルム用組成物は、基材上に塗布され、乾燥して、光学フィルムに製造できる。

【0098】

基材は、例えば、ガラス基板、金属基板、半導体基板、または高分子基板を含むことができ、高分子基板は、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、これらの誘導体、および／またはこれらの組み合わせで作られた基板であってもよいが、これに限定されるものではない。

【0099】

光学フィルム用組成物は、例えば、スピンコーティング、スリットコーティング、および／またはインクジェットのような溶液工程で適用可能であり、フィルムの屈折率などを考慮して厚さを調節することができる。

【0100】

コーティングされた光学フィルム用組成物は、例えば、溶媒の沸点以上の温度で乾燥できる。

【0101】

以下、光学フィルム用組成物で形成された光学フィルムについて、図面を参照して説明する。

【0102】

図１は、一実施形態に係る光学フィルムを示す断面図である。

【0103】

図１を参照すれば、一実施形態に係る光学フィルム１００は、基材１１０と、基材１１０の一面に位置する液晶層１２０とを含む。

【0104】

基材１１０は、例えば、ガラス基板、金属基板、半導体基板、または高分子基板を含むことができる。高分子基板は、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、これらの誘導体、および／またはこれらの組み合わせで作られた基板であってもよいが、これに限定されるものではない。光学フィルム１００が基材１１０以外に他の種類の下部膜を含む場合、基材１１０は、下部膜であるとよい。基材１１０は、場合によって省略可能である。

【0105】

液晶層１２０は、重合性液晶化合物単独、または重合性液晶化合物および棒状液晶化合物の混合物を含む。

【0106】

液晶化合物は、液晶層１２０の表面に対して斜めに傾いた光軸（ｏｐｔｉｃａｘｉｓ）を有することができる。ここで、液晶層１２０の表面に対して斜めに傾くとは、液晶層１２０の長さ方向に対して垂直または水平に配向されていないことをいい、各液晶化合物の光軸は、液晶層１２０の長さ方向に対して０度超過〜９０度未満の角度に傾いているとよい。重合性液晶化合物の最大傾斜角は、約３０度〜７０度であるとよい。

【0107】

液晶層１２０は、正波長分散位相遅延または逆波長分散位相遅延を有することができる。位相遅延は、面内位相差（Ｒ_ｅ）で表すことができ、面内位相差（Ｒ_ｅ）は、Ｒ_ｅ＝（ｎ_ｘ−ｎ_ｙ）ｄで表される。ここで、ｎ_ｘは、液晶層１２０の面内屈折率が最も大きい方向（以下、「遅相軸（ｓｌｏｗａｘｉｓ）」という）における屈折率であり、ｎ_ｙは、液晶層１２０の面内屈折率が最も小さい方向（以下、「進相軸（ｆａｓｔａｘｉｓ）」という）における屈折率であり、ｄは、液晶層１２０の厚さである。

【0108】

ここで、正波長分散位相遅延は、短波長の光に対する位相差が長波長の光に対する位相差よりより大きいことをいい、液晶層１２０の４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、および６５０ｎｍ波長に対する面内位相差（Ｒ_ｅ）は、例えば、下記関係式２を満たすことができる。

【0109】

［関係式２］
Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）＞Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）＞Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）

【0110】

関係式２において、
Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）は、４５０ｎｍ波長の入射光に対する面内位相差であり、
Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍ波長の入射光に対する面内位相差であり、
Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍ波長の入射光に対する面内位相差である。

【0111】

逆波長分散位相遅延は、長波長の光に対する位相差が短波長の光に対する位相差よりも大きいことをいい、液晶層１２０の４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、および６５０ｎｍ波長に対する面内位相差（Ｒ_ｅ）は、例えば、下記関係式３を満たすことができる。

【0112】

［関係式３］
Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）＜Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）＜Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）

【0113】

関係式３において、
Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）は、４５０ｎｍ波長の入射光に対する面内位相差であり、
Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）は、５５０ｎｍ波長の入射光に対する面内位相差であり、
Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）は、６５０ｎｍ波長の入射光に対する面内位相差である。

【0114】

また、基準波長に対する短波長の位相差の変化程度は、短波長分散性で表すことができ、液晶層１２０の短波長の波長分散性は、例えば、下記関係式４を満たすことができる。

【0115】

［関係式４］
０．７０≦Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）≦１．３０

【0116】

一例として、液晶層１２０の短波長分散性は、例えば、下記関係式４ａを満たすことができる。

【0117】

［関係式４ａ］
０．７２≦Ｒ_ｅ（４５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）≦１．２０

【0118】

また、基準波長に対する長波長の位相差の変化程度は、長波長分散性で表すことができ、液晶層１２０の長波長の波長分散性は、例えば、下記関係式５を満たすことができる。

【0119】

［関係式５］
０．７０≦Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）≦１．３０

【0120】

一例として、液晶層１２０の長波長分散性は、例えば、下記関係式５ａを満たすことができる。

【0121】

［関係式５ａ］
０．７２≦Ｒ_ｅ（６５０ｎｍ）／Ｒ_ｅ（５５０ｎｍ）≦１．２０

【0122】

液晶層１２０は、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、および６５０ｎｍ波長の面内位相差がほぼ変化のないフラット（ｆｌａｔ）な波長分散性を実現可能で、正波長位相分散遅延だけでなく、逆波長位相分散遅延も実現できる。ここで、ほぼ変化がないとは、４５０ｎｍと５５０ｎｍにおける面内位相差および／または６５０ｎｍと５５０ｎｍにおける面内位相差の差が１０ｎｍ以内、例えば、５ｎｍ以内の範囲にあることを意味する。

【0123】

基材１１０と液晶層１２０との間に配向膜をさらに含むことができる。配向膜は、液晶層１２０の液晶化合物に先傾斜角（ｐｒｅｔｉｌｔａｎｇｌｅ）を付与して、基材１１０側に位置する液晶の配向性を制御することができ、例えば、ポリアミック酸、ポリイミド、またはこれらの組み合わせで作られる。配向膜の表面は、ラビング（ｒｕｂｂｉｎｇ）のような物理的処理、または光配向のような光処理によって形成された複数の溝を有することができる。

【0124】

光学フィルム１００は、複数層から形成され、重合性液晶化合物および棒状液晶化合物を含む第１液晶層と、棒状液晶化合物を含む第２液晶層とを含むことができる。第１液晶層および第２液晶層の順序は特に限定されず、例えば、基材１１０上に第１液晶層が位置し、第１液晶層上に第２液晶層が位置することができる。

【0125】

光学フィルム１００は、単独で使用されてもよく、屈折率が異なる他のフィルムと積層されて使用されてもよい。

【0126】

以下、一実施形態に係る補償フィルムについて、図２を図１と共に参照して説明する。

【0127】

図２は、一実施形態に係る補償フィルムを概略的に示す断面図である。

【0128】

一実施形態に係る補償フィルム３００は、上述した光学フィルム１００と、位相差フィルム２００とを含む。

【0129】

光学フィルム１００は、上述のように、基材１１０と、液晶層１２０とを含む。液晶層１２０は、重合性液晶化合物単独、または重合性液晶化合物および棒状液晶化合物の混合物を含む。また、液晶層１２０は、複数の液晶層を含んでもよい。光学フィルム１００に関する詳細な説明は上述の通りである。

【0130】

位相差フィルム２００は、単一層または複数層であってもよいし、光学フィルム１００と異なる屈折率を有するフィルムであるとよい。位相差フィルム２００は、例えば、λ／４位相差フィルム、λ／２位相差フィルム、またはこれらの組み合わせであってもよいが、これに限定されるものではない。ここで、λ／４位相差フィルムは、例えば、５５０ｎｍ波長の入射光に対する面内位相差が約１２０ｎｍ〜１６０ｎｍのフィルムであってもよく、λ／２位相差フィルムは、例えば、５５０ｎｍ波長の入射光に対する面内位相差が約２４０ｎｍ〜３２０ｎｍのフィルムであってもよい。

【0131】

補償フィルム３００は、光学フィルム１００と位相差フィルム２００との間に粘着層（図示せず）をさらに含むことができる。粘着層は、光学フィルム１００と位相差フィルム２００とを効果的に貼り付けるためのもので、例えば、減圧粘着剤で作られる。

【0132】

補償フィルム３００は、光学フィルム１００と位相差フィルム２００の屈折率を組み合わせて、光学フィルム１００と位相差フィルム２００のそれぞれと異なる屈折率を有することができる。

【0133】

補償フィルム３００は、光学フィルム１００と位相差フィルム２００の各屈折率および厚さなどを調節して、所望の位相差を有するように用意される。一例として、光学フィルム１００が位相差フィルム２００の厚さ方向の位相差を減少または相殺させることによって、視野角依存性および波長依存性を軽減して補償機能が強化された補償フィルム３００が用意される。このような補償フィルム３００は、円偏光補償機能を効果的に実現することができ、このような補償フィルム３００を備えた表示装置の表示特性を改善することができる。

【0134】

補償フィルム３００は、光学フィルム１００と位相差フィルム２００をそれぞれフィルム形態に用意した後、貼り合わせてもよく、位相差フィルム２００上に光学フィルム１００をコーティングしたり、光学フィルム１００上に位相差フィルム２００をコーティングして形成してもよい。光学フィルム１００をフィルム形態に用意する時、上述のように、基材１１０上に上述した組成物を塗布し、光照射して、架橋させることができる。補償フィルム３００は、例えば、ロールツーロール（ｒｏｌｌ−ｔｏ−ｒｏｌｌ）、スピンコーティング、転写などの方法で形成されるが、これに限定されるものではない。

【0135】

図３は、他の実施形態に係る補償フィルムを概略的に示す断面図である。

【0136】

本実施形態に係る補償フィルム３００は、上述した実施形態とは異なり、位相差フィルム２００ａ、２００ｂが光学フィルム１００の両面に位置する。

【0137】

補償フィルム３００は、光学フィルム１００と位相差フィルム２００ａ、２００ｂの屈折率を組み合わせて、光学フィルム１００と位相差フィルム２００ａ、２００ｂのそれぞれと異なる屈折率を有することができる。また、補償フィルム３００は、光学フィルム１００と位相差フィルム２００ａ、２００ｂの各屈折率および厚さなどを調節して、所望の位相差を有するように用意される。

【0138】

補償フィルム３００は、光学フィルム１００と位相差フィルム２００ａとの間、および光学フィルム１００と位相差フィルム２００ｂとの間のうちの少なくとも１つに粘着層（図示せず）をさらに含むことができる。粘着層は、光学フィルム１００と位相差フィルム２００ａ、２００ｂとを効果的に貼り付けるためのもので、例えば、減圧粘着剤で作られる。

【0139】

上述した補償フィルム３００は、偏光フィルムと共に使用され、外光反射機能を有する反射防止フィルムを形成することができる。

【0140】

図４は、一実施形態に係る反射防止フィルムを概略的に示す断面図である。

【0141】

図４を参照すれば、一実施形態に係る反射防止フィルム５００は、補償フィルム３００と、補償フィルム３００の一面に位置する偏光フィルム４００とを含む。

【0142】

偏光フィルム４００は、光学フィルム１００の一面に位置してもよく、位相差フィルム２００の一面に位置してもよい。

【0143】

偏光フィルム４００は、光が入射する側に配置され、入射光の偏光を線偏光に変換させる線形偏光子（ｌｉｎｅａｒｐｏｌａｒｉｚｅｒ）であるとよい。偏光フィルム４００は、例えば、延伸されたポリビニルアルコール（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌａｌｃｏｈｏｌ、ＰＶＡ）で作られた偏光板であるとよく、偏光板は、例えば、ポリビニルアルコールフィルムを延伸し、これにヨウ素または二色性染料を吸着させた後、ホウ酸処理および洗浄などの方法で形成される。偏光フィルム４００は、例えば、高分子樹脂と二色性染料を溶融混合（ｍｅｌｔｂｌｅｎｄ）して用意された偏光フィルムであるとよく、偏光フィルムは、例えば、高分子樹脂と二色性染料を混合した後、高分子樹脂の溶融点以上の温度で溶融する方法で形成される。

【0144】

反射防止フィルム５００は、偏光フィルム４００の一面に保護層（図示せず）をさらに含むことができる。保護層は、反射防止フィルム５００の耐久性を改善したり、反射または眩しさを軽減する機能性をさらに補強して提供することができ、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムであってもよいが、これに限定されるものではない。

【0145】

反射防止フィルム５００は、補償フィルム３００の一面に位置する補正層（図示せず）をさらに含むことができる。補正層は、例えば、色変異防止層（ｃｏｌｏｒｓｈｉｆｔｒｅｓｉｓｔａｎｔｌａｙｅｒ）であってもよいが、これに限定されるものではない。

【0146】

反射防止フィルム５００は、周縁に沿って延びている遮光層（ｌｉｇｈｔｂｌｏｃｋｉｎｇｌａｙｅｒ）（図示せず）をさらに含むことができる。遮光層は、反射防止フィルム５００の周りに沿って帯の形態に形成される。遮光層は、不透明な物質、例えば、黒色の物質を含むことができる。例えば、遮光層は、黒色インクで作られる。

【0147】

反射防止フィルム５００は、補償フィルム３００および偏光フィルム４００をロールツーロール（ｒｏｌｌ−ｔｏ−ｒｏｌｌ）方式で積層することができるが、これに限定されるものではない。

【0148】

図５は、一実施形態に係る反射防止フィルムの外光（ｅｘｔｅｒｎａｌｌｉｇｈｔ）反射防止の原理を示す概略図である。

【0149】

図５を参照すれば、外部から入射する非偏光の光（ｉｎｃｉｄｅｎｔｕｎｐｏｌａｒｉｚｅｄｌｉｇｈｔ）（以下、「外光」という）は、偏光フィルム４００を通過しながら、２つの偏光直交成分のうちの１つの偏光直交成分、つまり、第１偏光直交成分のみが透過し、偏光された光は、補償フィルム３００を通過しながら円偏光に変化できる。円偏光された光は、基板、電極などを含む表示パネル４０で反射しながら円偏光方向が変わり、円偏光された光が補償フィルム３００を再び通過しながら、２つの偏光直交成分のうちの他の１つの偏光直交成分、つまり、第２偏光直交成分のみが透過できる。第２偏光直交成分は、偏光フィルム４００を通過できず外部に光が放出されないので、外光反射防止効果を有することができる。

【0150】

上述した光学フィルム１００、上述した補償フィルム３００、または上述した反射防止フィルム５００は、多様な表示装置に適用可能である。

【0151】

一実施形態に係る表示装置は、表示パネル（ｄｉｓｐｌａｙｐａｎｅｌ）と、表示パネルの一面に位置するフィルムとを含む。表示パネルは、液晶表示パネルまたは有機発光表示パネルであってもよいが、これに限定されるものではない。フィルムは、上述した光学フィルム１００、上述した補償フィルム３００、または上述した反射防止フィルム５００であってもよい。

【0152】

以下、表示装置の一例として有機発光表示装置について説明する。

【0153】

図６は、一実施形態に係る有機発光表示装置を概略的に示す断面図である。

【0154】

図６を参照すれば、一実施形態に係る有機発光表示装置は、有機発光表示パネル６００と、有機発光表示パネル６００の一面に位置するフィルム７００とを含む。

【0155】

有機発光表示パネル６００は、ベース基板６１０と、下部電極６２０と、有機発光層６３０と、上部電極６４０と、封止基板６５０とを含むことができる。

【0156】

ベース基板６１０は、ガラスまたはプラスチックで作られる。

【0157】

下部電極６２０および上部電極６４０のうちの１つはアノード（ａｎｏｄｅ）であり、他の１つはカソード（ｃａｔｈｏｄｅ）であるとよい。アノードは、正孔（ｈｏｌｅ）が注入される電極で、仕事関数（ｗｏｒｋｆｕｎｃｔｉｏｎ）が高い導電物質で作られ、カソードは、電子（ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）が注入される電極で、仕事関数が低い導電物質で作られる。下部電極６２０および上部電極６４０のうちの少なくとも１つは、発光した光が外部に出る透明導電物質で作られ、例えば、ＩＴＯまたはＩＺＯであるとよい。

【0158】

有機発光層６３０は、下部電極６２０と上部電極６４０に電圧が印加された時、光を出す有機物質を含む。

【0159】

下部電極６２０と有機発光層６３０との間、および上部電極６４０と有機発光層６３０との間には、付帯層（図示せず）をさらに含むことができる。付帯層は、電子と正孔のバランスを取るための正孔伝達層（ｈｏｌｅｔｒａｎｓｐｏｒｔｉｎｇｌａｙｅｒ）、正孔注入層（ｈｏｌｅｉｎｊｅｃｔｉｎｇｌａｙｅｒ）、電子注入層（ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｎｊｅｃｔｉｎｇｌａｙｅｒ）、および電子伝達層（ｅｌｅｃｔｒｏｎｔｒａｎｓｐｏｒｔｉｎｇｌａｙｅｒ）を含むことができるが、これに限定されるものではない。

【0160】

封止基板６５０は、ガラス、金属、および／または高分子で作られ、下部電極６２０、有機発光層６３０、および上部電極６４０を封止して、外部から水分および／または酸素が流入するのを防止することができる。

【0161】

フィルム７００は、光が出る側に配置される。例えば、ベース基板６１０側に光が出る背面発光（ｂｏｔｔｏｍｅｍｉｓｓｉｏｎ）構造の場合、ベース基板６１０の外側に配置され、封止基板６５０側に光が出る前面発光（ｔｏｐｅｍｉｓｓｉｏｎ）構造の場合、封止基板６５０の外側に配置される。

【0162】

フィルム７００は、上述した光学フィルム１００、上述した補償フィルム３００、または上述した反射防止フィルム５００であるとよい。例えば、フィルム７００が反射防止フィルム５００の場合、反射防止フィルム５００を通して流入した外部光が有機発光表示パネル６００の電極および配線などのように金属で作られた反射層によって反射して表示装置の外側に出るのを防止することによって、有機発光表示装置の表示特性を改善することができる。

【0163】

以下、表示装置の一例として液晶表示装置について説明する。

【0164】

図７は、一実施形態に係る液晶表示装置を概略的に示す断面図である。

【0165】

図７を参照すれば、一実施形態に係る液晶表示装置は、液晶表示パネル８００と、液晶表示パネル８００の一面に位置するフィルム７００とを含む。

【0166】

液晶表示パネル８００は、ツイストネマチック（ｔｗｉｓｔｎｅｍａｔｉｃ、ＴＮ）モード、垂直配向（ｐａｔｔｅｒｎｅｄｖｅｒｔｉｃａｌａｌｉｇｎｍｅｎｔ、ＰＶＡ）モード、平面整列スイッチング（ｉｎ−ｐｌａｎｅｓｗｉｔｃｈｉｎｇ、ＩＰＳ）モード、ＯＣＢ（ｏｐｔｉｃａｌｌｙｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄｂｅｎｄ）モードなどであるとよい。

【0167】

液晶表示パネル８００は、第１表示板８１０と、第２表示板８２０と、第１表示板８１０と第２表示板８２０との間に介在している液晶層８３０とを含む。

【0168】

第１表示板８１０は、例えば、基板（図示せず）上に形成されている薄膜トランジスタ（図示せず）と、これに連結されている第１電場生成電極（図示せず）とを含むことができ、第２表示板８２０は、例えば、基板（図示せず）上に形成されているカラーフィルタ（図示せず）と、第２電場生成電極（図示せず）とを含むことができる。しかし、これに限定されず、カラーフィルタが第１表示板８１０に含まれていてもよく、第１電場生成電極と第２電場生成電極が第１表示板８１０に共に位置してもよい。

【0169】

液晶層８３０は、複数の液晶分子を含むことができる。液晶分子は、正または負の誘電率異方性を有することができる。液晶分子が正の誘電率異方性を有する場合、電場がない状態で、その長軸が第１表示板８１０と第２表示板８２０の表面に対してほぼ平行をなすように配向され、電場が印加された状態で、その長軸が第１表示板８１０と第２表示板８２０の表面に対してほぼ垂直をなすように配向される。これとは逆に、液晶分子が負の誘電率異方性を有する場合、電場がない状態で、その長軸が第１表示板８１０と第２表示板８２０の表面に対してほぼ垂直に配向され、電場が印加された状態で、その長軸が第１表示板８１０と第２表示板８２０の表面に対してほぼ平行に配向される。

【0170】

フィルム７００は、上述した光学フィルム１００、上述した補償フィルム３００、または上述した反射防止フィルム５００であるとよい。フィルム７００は、液晶表示パネル８００の外側に位置し、図面では、液晶表示パネル８００の下部および上部にそれぞれ形成されたものとして示したが、これに限定されず、液晶表示パネル８００の下部および上部のうちのいずれか１つにのみ形成されてもよい。

【0171】

以下、実施例により上述した本発明の実施形態をより詳細に説明する。ただし、下記の実施例は単に説明の目的のためのものであり、本発明の範囲を制限するものではない。

【0172】

合成例１：化学式１ａの重合性液晶化合物の製造
下記化学式１ａで表される２，５−ビス−［４−（３−アクリロイルオキシ−プロポキシ）−ベンゾイルオキシ］−安息香酸４−（４−フェニルエチニル−フェニルエチニル）−ベンジルエステル（２，５−ｂｉｓ−［４−（３−ａｃｒｙｌｏｙｌｏｘｙ−ｐｒｏｐｏｘｙ）−ｂｅｎｚｏｙｌｏｘｙ］−ｂｅｎｚｏｉｃａｃｉｄ４−（４−ｐｈｅｎｙｌｅｔｈｙｎｙｌ−ｐｈｅｎｙｌｅｔｈｙｎｙｌ）−ｂｅｎｚｙｌｅｓｔｅｒ）を下記の工程により合成する。

【0173】

【化13】

【0174】

合成例１ａ−１：２，５−ジヒドロキシ−安息香酸４−ブロモベンジルエステル（２，５−ｄｉｈｙｄｒｏｘｙ−ｂｅｎｚｏｉｃａｃｉｄ４−ｂｒｏｍｏｂｅｎｚｙｌｅｓｔｅｒ）の合成

【0175】

【化14】

【0176】

２，５−ジヒドロキシ安息香酸（２，５−ｄｉｈｙｄｒｏｘｙｂｅｎｚｏｉｃａｃｉｄ、Ｍｗ＝１５４．１３ｇ／ｍｏｌ、１０１ｍｍｏｌ、ｍ＝１５．５７ｇｒ）、１−ブロモ−４−ブロモメチルベンゼン（１−ｂｒｏｍｏ−４−ｂｒｏｍｏｍｅｔｈｙｌｂｅｎｚｅｎｅ、Ｍｗ＝２４９．９３ｇ／ｍｏｌ、１０１ｍｍｏｌ、ｍ＝２５．２５ｇｒ）、炭酸水素カリウム（ｐｏｔａｓｓｉｕｍｈｙｄｒｏｇｅｎｃａｒｂｏｎａｔｅ、Ｍｗ＝１００．１２ｇ／ｍｏｌ、３０３ｍｍｏｌ、ｍ＝３０．３５ｇｒ）、およびテトラブチルアンモニウムブロミド（ｔｅｔｒａｂｕｔｙｌａｍｍｏｎｉｕｍｂｒｏｍｉｄｅ、Ｍｗ＝３２２．３７ｇ／ｍｏｌ、３ｍｍｏｌ、ｍ＝０．９７ｇｒ）を、１５０ｍＬのジメチルアセトアミド（ｄｉｍｅｔｈｙｌａｃｅｔａｍｉｄｅ、ＤＭＡＣ）に入れて、窒素雰囲気下、２５℃で２４時間撹拌した。反応が完了した後、結果物を２Ｌの水に激しく撹拌しながら注ぎ込んだ。得られた沈殿物をろ過した後、水で洗浄し、６００ｍＬの水に懸濁させた後、５０℃で１０分間撹拌した。混合物を常温（２４℃）に冷却した後、固体をろ過した後、８０℃で２４時間、減圧下で乾燥した。ＴＬＣシリカゲル（展開溶媒：ｅｔｈｙｌａｃｅｔａｔｅ：ｈｅｘａｎｅ＝１：４体積比）を用いて、白色固体の生成物（ｍ＝３２．１３ｇｒ（Ｍｗ＝３２３．１５ｇ／ｍｏｌ、９９．４ｍｍｏｌ）、Ｙｉｅｌｄ９８．４％）を得た。

【0177】

^１ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６）３００ＭＨｚ，δ，ｐｐｍ：５．３３（ｓ，２Ｈ），６．８３（ｄ，１Ｈ，Ｊ^１２＝９Ｈｚ），６．９８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ^１２＝９Ｈｚ，Ｊ^１３＝３．０Ｈｚ），７．１７（ｄ，１Ｈ，Ｊ^１３＝３．０Ｈｚ），７．４５（ｄ，２Ｈ，Ｊ^１２＝８．４Ｈｚ），７．６２（ｄ，２Ｈ，Ｊ^１２＝８．４Ｈｚ），９．２０（ｓ，１Ｈ，ＯＨ），９．８９（ｓ，１Ｈ，ＯＨ）。

【0178】

合成例１ａ−２：２，５−ジヒドロキシ安息香酸４−（４−フェニルエチニル−フェニルエチニル）ベンジルエステル（２，５−ｄｉｈｙｄｒｏｘｙｂｅｎｚｏｉｃａｃｉｄ４−（４−ｐｈｅｎｙｌｅｔｈｙｎｙｌ−ｐｈｅｎｙｌｅｔｈｙｎｙｌ）ｂｅｎｚｙｌｅｓｔｅｒ）の合成

【0179】

【化15】

【0180】

窒素流入口（ｎｉｔｒｏｇｅｎｉｎｌｅｔ）と冷却器（ｃｏｎｄｅｎｓｅｒ）が装着された１Ｌの３口丸底フラスコに、合成例１ａ−１で得られた２，５−ジヒドロキシ−安息香酸４−ブロモベンジルエステル（ｍ＝３２ｇｒ、Ｍｗ＝３２３．１５ｇ／ｍｏｌ、９９ｍｍｏｌ）と１−エチニル−４−フェニルエチニルベンゼン（１−ｅｔｈｙｎｙｌ−４−ｐｈｅｎｙｌｅｔｈｙｎｙｌｂｅｎｚｅｎｅ）（ｍ＝２０．６３ｇｒ、Ｍｗ＝２０２．２６ｇ／ｍｏｌ、１０２ｍｍｏｌ）を、０．５ＬのＥｔ_３Ｎに溶解した。得られた溶液を撹拌し、乾燥窒素ガスで１時間パージ（ｐｕｒｇｅ）した。撹拌された溶液に、塩化パラジウム（ＩＩ）（ｐａｌｌａｄｉｕｍ（ＩＩ）ｃｈｌｏｒｉｄｅ、Ｍｗ＝１７７．３３ｇ／ｍｏｌ、ｖ＝２ｍｍｏｌ、ｍ＝０．３５ｇｒ）、ヨウ化銅（Ｉ）（ｃｏｐｐｅｒ（Ｉ）ｉｏｄｉｄｅ、Ｍｗ＝１９０．４５ｇ／ｍｏｌ、ｖ＝４ｍｏｌ、ｍ＝０．７６ｇｒ）、およびトリフェニルホスフィン（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ、Ｍｗ＝２６２．４５ｇ／ｍｏｌ、ｖ＝８ｍｏｌ、ｍ＝２．１ｇｒ）を添加した。窒素気流（ｎｉｔｒｏｇｅｎｆｌｏｗ）を１０分間維持し、窒素流出口を閉じた後、混合物を８０℃で２４時間撹拌した。反応終了後、Ｅｔ_３Ｎは減圧下で蒸発させて、褐色固体の粗生成物（ｃｒｕｄｅｐｒｏｄｕｃｔ）を得た。生成物を４００ｍＬのイソプロパノールに懸濁し、３０分間加熱して、褐色沈殿物を得、回収された褐色沈殿物を４００ｍＬのメタノールに入れて３０分間加熱して、淡黄色の沈殿物を得、淡黄色の沈殿物を４００ｍＬのメタノールに入れて３０分間加熱して、明るい黄色の沈殿物を得た。精製された生成物を７５℃で２４時間真空乾燥した。

【0181】

ＴＬＣシリカゲル（展開溶媒：ｅｔｈｙｌａｃｅｔａｔｅ：ｈｅｘａｎｅ＝１：２体積比）を用いて、淡褐色の粉末（ｍ＝３２．１ｇｒ（Ｍｗ＝４４４．４９ｇ／ｍｏｌ、ｖ＝７２．２ｍｍｏｌ）、Ｙｉｅｌｄ７３％）を得た。

【0182】

^１ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６）３００ＭＨｚ，δ，ｐｐｍ：５．４１（ｓ，２Ｈ），６．８２（ｄ，１Ｈ，Ｊ^１２＝９Ｈｚ），６．９７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ^１２＝９Ｈｚ，Ｊ^１３＝３．０Ｈｚ），７．２０（ｄ，１Ｈ，Ｊ^１３＝３．０Ｈｚ），７．４４−７．４６（ｍ，３Ｈ），７．５３−７．６５（ｍ，１０Ｈ），９．２３（ｓ，１Ｈ，ＯＨ），９．９１（ｓ，１Ｈ，ＯＨ）。

【0183】

合成例１ａ−３：２，５−ビス−［４−（３−アクリロイルプロポキシ）ベンゾイルオキシ］安息香酸４−（４−フェニルエチニル−フェニルエチニル）ベンジルエステル（２，５−ｂｉｓ−［４−（３−ａｃｒｙｌｏｙｌｏｘｙｐｒｏｐｏｘｙ）ｂｅｎｚｏｙｌｏｘｙ］ｂｅｎｚｏｉｃａｃｉｄ４−（４−ｐｈｅｎｙｌｅｔｈｙｎｙｌ−ｐｈｅｎｙｌｅｔｈｙｎｙｌ）ｂｅｎｚｙｌｅｓｔｅｒ）の合成

【0184】

【化16】

【0185】

合成例１ａ−２で得られた２，５−ジヒドロキシ安息香酸４−（４−フェニルエチニル−フェニルエチニル）ベンジルエステル（ｍ＝１０ｇｒ、Ｍｗ＝４４４．４９ｇ／ｍｏｌ、ｖ＝２２．５ｍｍｏｌ）を、１５０ｍＬのジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）に溶解した第１溶液を撹拌しながら、５０ｍＬのＤＭＡＣに、アクリル酸３−（４−クロロカルボニルフェノキシ）プロピルエステル（ａｃｒｙｌｉｃａｃｉｄ３−（４−ｃｈｌｏｒｏｃａｒｂｏｎｙｌｐｈｅｎｏｘｙ）ｐｒｏｐｙｌｅｓｔｅｒ（ｍ＝１８．１ｇｒ、Ｍｗ＝２６８．７ｇ／ｍｏｌ、ｖ＝６７．５ｍｍｏｌ）を溶解した第２溶液を添加した。その後、トリエチルアミン（ｍ＝９．１ｇｒ、Ｍｗ＝１０１ｇ／ｍｏｌ、ｖ＝９０ｍｍｏｌ）を添加し、得られた混合物を、窒素ガス雰囲気下、８０℃で６時間撹拌した。反応が完了した後、濃褐色の溶液を２Ｌの水に注ぎ込み、５００ｍＬのＥｔＯＡｃで３回抽出した。得られた有機物抽出液を水で洗浄し、溶媒を蒸発させた後、約２Ｌのジクロロメタン（ＤＣＭ）を展開溶媒として用いて黄色の副産物（ｂｙｐｒｏｄｕｃｔ）を除去し、エチルアセテートとヘキサンを展開溶媒（ｅｔｈｙｌａｃｅｔａｔｅ：ｈｅｘａｎｅ＝１：３体積比）として用いて分液を分離することによって、シリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製して、褐色物質を得た。溶媒を蒸発させて、ジクロロメタンとメタノールの溶媒混合物でメタノールをジクロロメタンに共沸置換（ａｚｅｏｔｒｏｐｉｃｓｕｂｓｔｉｔｕｔｉｏｎ）して、結晶化された黄白色（ｏｆｆ−ｗｈｉｔｅ）の生成物を得た。得られた沈殿物をろ過した後、メタノールで洗浄した後、５０℃で２４時間乾燥した。生成物は、やや黄白色の結晶固体（ｍ＝１１．９ｇｒ（Ｍｗ＝９０８．９７ｇ／ｍｏｌ、ｖ＝１３．１ｍｍｏｌ）、Ｙｉｅｌｄ５８％）として得られた。

【0186】

^１ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６）３００ＭＨｚ，δ，ｐｐｍ：２．０９−２．１５（ｍ，４Ｈ），４．１７−４．３２（ｍ，８Ｈ），５．２２（ｓ，２Ｈ），５．９３−５．９８（ｍ，２Ｈ），６．１４−６．２４（ｍ，２Ｈ），６．３１−６．３３（ｍ，１Ｈ），６．３７−６．３８（ｍ，１Ｈ），７．０６（ｄ，２Ｈ，Ｊ^１２＝９Ｈｚ），７．１５（ｄ，２Ｈ，Ｊ^１２＝９Ｈｚ），７．３１（ｄ，２Ｈ，Ｊ^１２＝８．４Ｈｚ），７．４１−７．５０（ｍ，６Ｈ），７．５７−７．６１（ｍ，６Ｈ），７．６８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ^１２＝８．４Ｈｚ，Ｊ^１３＝３．０Ｈｚ），７．９１（ｄ，１Ｈ，Ｊ^１３＝３．０Ｈｚ），７．９６（ｄ，２Ｈ，Ｊ^１２＝９．０Ｈｚ），８．１１（ｄ，２Ｈ，Ｊ^１２＝９．０Ｈｚ）。

【0187】

合成例２：化学式１ｂの重合性液晶化合物の製造
下記化学式１ｂで表される２，５−ビス−［４−（６−アクリロイルオキシ−ヘキシルオキシ）−ベンゾイルオキシ］−安息香酸４−（４−フェニルエチニル−フェニルエチニル）−ベンジルエステル（２，５−ｂｉｓ−［４−（６−ａｃｒｙｌｏｙｌｏｘｙ−ｈｅｘｙｌｏｘｙ）−ｂｅｎｚｏｙｌｏｘｙ］−ｂｅｎｚｏｉｃａｃｉｄ４−（４−ｐｈｅｎｙｌｅｔｈｙｎｙｌ−ｐｈｅｎｙｌｅｔｈｙｎｙｌ）−ｂｅｎｚｙｌｅｓｔｅｒ）を下記の工程により合成する。

【0188】

【化17】

【0189】

合成例１の合成例１ａ−３において、アクリル酸３−（４−クロロカルボニルフェノキシ）プロピルエステルの代わりに、アクリル酸６−（４−クロロカルボニルフェノキシ）ヘキシルエステル（ａｃｒｙｌｉｃａｃｉｄ６−（４−ｃｈｌｏｒｏｃａｒｂｏｎｙｌｐｈｅｎｏｘｙ）ｈｅｘｙｌｅｓｔｅｒ（Ｍｗ＝２９２．３３ｇ／ｍｏｌ）を使用したことを除いて、合成例１と同様の方法で実施して結晶固体を得た。

【0190】

合成例３：化学式１ｃの重合性液晶化合物の製造
下記化学式１ｃで表される２，５−ビス−［４−（３−アクリロイルオキシ−プロポキシ）−ベンゾイルオキシ］−安息香酸４−（４−フェニルエチニル−フェニルエチニル）ベンジル−アミド（２，５−ｂｉｓ−［４−（３−ａｃｒｙｌｏｙｌｏｘｙ−ｐｒｏｐｏｘｙ）−ｂｅｎｚｏｙｌｏｘｙ］−ｂｅｎｚｏｉｃａｃｉｄ４−（４−ｐｈｅｎｙｌｅｔｈｙｎｙｌ−ｐｈｅｎｙｌｅｔｈｙｎｙｌ）ｂｅｎｚｙｌ−ａｍｉｄｅ）を下記の工程により合成した。

【0191】

【化18】

【0192】

合成例１ｃ−１：２，５−ジアセトキシ安息香酸（２，５−ｄｉａｃｅｔｏｘｙｂｅｎｚｏｉｃａｃｉｄ）の合成

【0193】

【化19】

【0194】

２，５−ジヒドロキシ安息香酸（２，５−ｄｉｈｙｄｒｏｘｙｂｅｎｚｏｉｃａｃｉｄ、Ｍｗ＝１５４．１３ｇ／ｍｏｌ、３２４．４ｍｍｏｌ、ｍ＝５０ｇｒ）、無水酢酸（ａｃｅｔｉｃａｎｈｙｄｒｉｄｅ、Ｍｗ＝１０２．１ｇ／ｍｏｌ、７１３．７ｍｍｏｌ、ｍ＝７２．９ｇｒ）、および１滴（ｄｒｏｐ）のリン酸（ｐｈｏｓｐｈｏｒｉｃａｃｉｄ）を、１４０℃で２時間加熱しながら撹拌した。混合物を常温に冷却させた後、７００ｍＬの氷水に撹拌しながら注ぎ込んだ。得られた白色の沈殿物をろ過し、水で洗浄した後、減圧下、６０℃で２４時間乾燥した。白色固体の２，５−ジアセトキシ安息香酸（Ｍｗ＝２３８．２ｇ／ｍｏｌ、２７６．４ｍｍｏｌ、ｍ＝６５．８ｇｒ）、Ｙｉｅｌｄ：８５．２％）を得た。

【0195】

合成例１ｃ−２：酢酸３−（４−ブロモフェニルカルバモイル）４−ヒドロキシフェニルエステル（ａｃｅｔｉｃａｃｉｄ３−（４−ｂｒｏｍｏｐｈｅｎｙｌｃａｒｂａｍｏｙｌ）−４−ｈｙｄｒｏｘｙｐｈｅｎｙｌｅｓｔｅｒ）の合成

【0196】

【化20】

【0197】

合成例１ｃ−１で得られた２，５−ジアセトキシ安息香酸（Ｍｗ＝２３８．２ｇ／ｍｏｌ、２７５．８ｍｍｏｌ、ｍ＝６５．７ｇｒ）、五塩化リン（ｐｈｏｓｐｈｏｒｏｕｓｐｅｎｔａｃｈｌｏｒｉｄｅ、Ｍｗ＝２０８．２ｇ／ｍｏｌ、２７５．８ｍｍｏｌ、ｍ＝５７．４ｇｒ）、および１滴のピリジンを加熱した後、１Ｌの無水トルエン（ａｎｈｙｄｒｏｕｓｔｏｌｕｅｎｅ）で９０℃で１時間撹拌した。反応生成物のトルエンとホスホラスオキシクロライド（ｐｈｏｓｐｈｏｒｏｕｓｏｘｙｃｈｌｏｒｉｄｅ）を減圧蒸留し、得られた残留物を１Ｌのジクロロメタンに撹拌しながら溶解した。４−ブロモアニリン（４−ｂｒｏｍｏａｎｉｌｉｎｅ、Ｍｗ＝１７２ｇ／ｍｏｌ、２７５．８ｍｍｏｌ、ｍ＝４７．４ｇｒ）とピリジン（Ｍｗ＝７９．１ｇ／ｍｏｌ、５５１．６ｍｍｏｌ、ｍ＝４３．６ｇｒ）を溶液に順次に添加した。混合物を４０℃で１時間還流し、溶媒を乾燥し、残留物を５０％水性イソプロパノール（５０％ａｑｕｅｏｕｓｉｓｏ−ｐｒｏｐａｎｏｌ）から結晶化した。少量の副産物を含む粗生成物をメタノールで結晶化して、乾燥酢酸３−（４−ブロモフェニルカルバモイル）−４−ヒドロキシフェニルエステル（３−（４−ｂｒｏｍｏｐｈｅｎｙｌｃａｒｂａｍｏｙｌ）−４−ｈｙｄｒｏｘｙｐｈｅｎｙｌｅｓｔｅｒ）（Ｍｗ＝３５０．２ｇ／ｍｏｌ、１４２．８ｍｍｏｌ、ｍ＝５０ｇｒ）、Ｙｉｅｌｄ５１．８％）を白色結晶の固体状態として得た。

【0198】

^１ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６）３００ＭＨｚ，δ，ｐｐｍ：２．２７（ｓ，３Ｈ，Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３），７．０２（ｄ，１Ｈ，Ｊ^１２＝９．０Ｈｚ），７．２２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ^１２＝９．０Ｈｚ，Ｊ^１３＝３．０Ｈｚ），７．５５（ｄ，２Ｈ，Ｊ^１２＝９．０Ｈｚ），７．５４（ｄ，１Ｈ，Ｊ^１３＝３．０Ｈｚ），７．６９（ｄ，２Ｈ，Ｊ^１２＝９．０Ｈｚ），１０．４６（ｓ，１Ｈ，ＮＨ），１０．９４（ｓ，１Ｈ，ＯＨ）。

【0199】

合成例１ｃ−３：Ｎ−（４−ブロモフェニル）−２，５−ジヒドロキシベンズアミド（Ｎ−（４−Ｂｒｏｍｏｐｈｅｎｙｌ）−２，５−ｄｉｈｙｄｒｏｘｙｂｅｎｚａｍｉｄｅ）の合成

【0200】

【化21】

【0201】

反応式１ｃ−２で得られた酢酸３−（４−ブロモフェニルカルバモイル）−４−ヒドロキシフェニルエステル（Ｍｗ＝３５０．２ｇ／ｍｏｌ、１４２．８ｍｍｏｌ、ｍ＝５０ｇｒ）を０．５Ｌのメタノールに懸濁させ、撹拌した。その後、５０ｍＬの水に含まれている水酸化カリウム溶液（Ｍｗ＝５６ｇ／ｍｏｌ、４２８．４ｍｍｏｌ、ｍ＝２４ｇｒ）を、常温で懸濁液に添加した。生成された褐色溶液を２Ｌの水で２分間撹拌した後に、５％塩酸水溶液を添加して、ｐＨを酸性に調節した。淡いピンク色の沈殿物が生成され、ろ過した後、６０℃で２４時間減圧乾燥して、淡いピンク色の粉末のＮ−（４−ブロモフェニル）−２，５−ジヒドロキシベンズアミド（Ｍｗ＝３０８．１ｇ／ｍｏｌ、１３８．５ｍｍｏｌ、ｍ＝４２．７ｇｒ）、Ｙｉｅｌｄ：９７％）を生成した。

【0202】

^１ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６）３００ＭＨｚ，δ，ｐｐｍ：６．８２（ｄ，１Ｈ，Ｊ^１２＝８．７Ｈｚ），６．８８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ^１２＝８．７Ｈｚ，Ｊ^１３＝３．０Ｈｚ），７．３２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ^１３＝３．０Ｈｚ），７．５４（ｄ，２Ｈ，Ｊ^１２＝８．７Ｈｚ），７．６９（ｄ，２Ｈ，Ｊ^１２＝８．７Ｈｚ），９．１２（ｓ，１Ｈ，ＯＨ），１０．４６（ｓ，１Ｈ，ＮＨ），１０．９２（ｓ，１Ｈ，ＯＨ）。

【0203】

合成例１ｃ−４：２，５−ジヒドロキシ−Ｎ−［４−（４−フェニルエチニル−フェニルエチニル）フェニル］−ベンズアミド（２，５−ｄｉｈｙｄｒｏｘｙ−Ｎ−［４−（４−ｐｈｅｎｙｌｅｔｈｙｎｙｌ−ｐｈｅｎｙｌｅｔｈｙｎｙｌ）ｐｈｅｎｙｌ］−ｂｅｎｚａｍｉｄｅ）の合成

【0204】

【化22】

【0205】

窒素流入口と冷却器が装着された１Ｌの２口丸底フラスコに、Ｎ−（４−ブロモフェニル）−２，５−ジヒドロキシベンズアミド（Ｍｗ＝３０８．１ｇ／ｍｏｌ、６９．１ｍｍｏｌ、ｍ＝２０ｇｒ）および１−エチニル−４−フェニルエチニルベンゼン（Ｍｗ＝２０２．３ｇ／ｍｏｌ、６８．２ｍｍｏｌ、ｍ＝１３．８ｇｒ）を、０．５ＬのＥｔ_３Ｎと０．１ＬのＤＭＡＣに溶解した。得られた溶液を乾燥窒素ガスで１時間パージ（ｐｕｒｇｅ）した。撹拌された溶液に塩化パラジウム（ＩＩ）（ｐａｌｌａｄｉｕｍ（ＩＩ）ｃｈｌｏｒｉｄｅ、Ｍｗ＝１７７．３３ｇ／ｍｏｌ、ｖ＝１．３ｍｍｏｌ、ｍ＝０．２３ｇｒ）、ヨウ化銅（Ｉ）（ｃｏｐｐｅｒ（Ｉ）ｉｏｄｉｄｅ、Ｍｗ＝１９０．４５ｇ／ｍｏｌ、ｖ＝２．６ｍｍｏｌ、ｍ＝０．５ｇｒ）、およびトリフェニルホスフィン（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ、Ｍｗ＝２６２．４５ｇ／ｍｏｌ、ｖ＝５．２ｍｍｏｌ、ｍ＝１．３７ｇｒ）を添加した。窒素気流（ｎｉｔｒｏｇｅｎｆｌｏｗ）を１０分間維持し、窒素流出口を閉じた後、混合物を８０℃で２４時間撹拌した。反応終了後、溶媒を減圧下で蒸発させ、残留物を３００ｍＬの熱いイソプロパノールに懸濁させた後、冷めた時ろ過した。得られた褐色固体を１５０ｍＬの熱いエチルアセテートで撹拌した後、冷めた時ろ過した。母液（ｍｏｔｈｅｒｌｉｑｕｏｒ）が淡黄色を呈するまで前記過程を３回繰り返した。ろ過した生成物を６０℃で２４時間乾燥して、濃褐色の粉末形態の２，５−ジヒドロキシ−Ｎ−［４−（４−フェニルエチニル−フェニルエチニル）フェニル］−ベンズアミド（Ｍｗ＝４２９．４８ｇ／ｍｏｌ、２５．１ｍｍｏｌ、ｍ＝１０．８ｇｒ）、Ｙｉｅｌｄ：３６．３％）を得た。

【0206】

^１ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６）３００ＭＨｚ，δ，ｐｐｍ：６．８３（ｄ，１Ｈ，Ｊ^１２＝８．７Ｈｚ），６．８８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ^１２＝８．７Ｈｚ，Ｊ^１３＝３．０Ｈｚ），７．３５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ^１３＝３．０Ｈｚ），７．４５−７．６０（ｍ，１２Ｈ），７．８１（ｄ，２Ｈ，Ｊ^１２＝８．４Ｈｚ），９．１５（ｓ，１Ｈ，ＯＨ），１０．５８（ｓ，１Ｈ，ＮＨ），１０．８９（ｓ，１Ｈ，ＯＨ）。

【0207】

合成例１ｃ−５：２，５−ビス−［４−（３−アクリロイル−プロポキシ）ベンゾイルオキシ］−Ｎ−［４−（４−フェニルエチニル−フェニルエチニル）フェニル］ベンズアミド（２，５−ｂｉｓ−［４−（３−ａｃｒｙｌｏｙｌｏｘｙ−ｐｒｏｐｏｘｙ）ｂｅｎｚｏｙｌｏｘｙ］−Ｎ−［４−（４−ｐｈｅｎｙｌｅｔｈｙｎｙｌｐｈｅｎｙｌｅｔｈｙｎｙｌ）ｐｈｅｎｙｌ］ｂｅｎｚａｍｉｄｅ）の合成

【0208】

【化23】

【0209】

合成例１ｃ−４で得られた２，５−ジヒドロキシ−Ｎ−［４−（４−フェニルエチニル−フェニルエチニル）フェニル］−ベンズアミド（ｍ＝１０ｇｒ、Ｍｗ＝４２９．４８ｇ／ｍｏｌ、ｖ＝２３．３ｍｍｏｌ）と１０ｍｇのヒドロキノン（アクリレート重合防止剤）を、１５０ｍＬのジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）に溶解した第１溶液を撹拌しながら、５０ｍＬのＤＭＡＣに、アクリル酸３−（４−クロロカルボニルフェノキシ）プロピルエステル（ａｃｒｙｌｉｃａｃｉｄ３−（４−ｃｈｌｏｒｏｃａｒｂｏｎｙｌｐｈｅｎｏｘｙ）ｐｒｏｐｙｌｅｓｔｅｒ（ｍ＝１７．５ｇｒ、Ｍｗ＝２６８．７ｇ／ｍｏｌ、ｖ＝６９．９ｍｍｏｌ）を溶解した第２溶液を添加した。その後、トリエチルアミン（ｍ＝９．４ｇｒ、Ｍｗ＝１０１ｇ／ｍｏｌ、ｖ＝９５．２ｍｍｏｌ）を添加し、得られた混合物を、窒素ガス雰囲気下、８０℃で６時間撹拌した。反応が完了した後、濃褐色の溶液を１Ｌの冷水に注ぎ込み、得られた懸濁液を２時間撹拌した。固体をろ過した後、水で洗浄した後、４００ｍＬの熱いメタノールに懸濁させ、ろ過して、過剰の未反応酸を除去した。ろ過した固体を８００ｍＬの熱いメタノール／ジクロロメタン（１：１体積比）の混合溶媒に溶解させ、脱色チャコール（ｄｅｃｏｌｏｒｉｚｉｎｇｃｈａｒｃｏａｌ）で処理した後、ろ過した。ろ過した溶液を還流濃縮して、メタノールをジクロロメタンに置換した。これによって、固体物質が沈殿した。前記固体をろ過した後、メタノールで洗浄した後、６０℃で２４時間減圧乾燥した。ＴＬＣシリカゲル（展開溶媒：ｅｔｈｙｌａｃｅｔａｔｅ：ｈｅｘａｎｅ＝１：１体積比）を用いて、淡いベージュ色の生成物（ｍ＝１６．４ｇｒ、Ｍｗ＝８９４ｇ／ｍｏｌ、ｖ＝１８．３ｍｍｏｌ、Ｙｉｅｌｄ：７８．５％）を得た。

【0210】

^１ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６）３００ＭＨｚ，δ，ｐｐｍ：２．０９−２．１５（ｍ，４Ｈ），４．１６−４．３２（ｍ，８Ｈ），５．９３−５．９８（ｍ，２Ｈ），６．１４−６．２４（ｍ，２Ｈ），６．３１−６．３８（ｍ，２Ｈ），７．０７（ｄ，２Ｈ，Ｊ^１２＝９Ｈｚ），７．１６（ｄ，２Ｈ，Ｊ^１２＝９Ｈｚ），７．４４−７．７２（ｍ，１６Ｈ），８．０５（ｄ，２Ｈ，Ｊ^１２＝９Ｈｚ），８．１２（ｄ，２Ｈ，Ｊ^１２＝９．０Ｈｚ），１０．７０（ｓ，１Ｈ）。

【0211】

合成例４：化学式１ｄの重合性液晶化合物の製造
下記化学式１ｄで表される２，５−ビス−［４−（６−アクリロイルオキシ−ヘキシルオキシ）−ベンゾイルオキシ］−安息香酸４−（４−フェニルエチニル−フェニルエチニル）ベンズアミド（２，５−ｂｉｓ−［４−（６−ａｃｒｙｌｏｙｌｏｘｙ−ｈｅｘｙｌｏｘｙ）−ｂｅｎｚｏｙｌｏｘｙ］−ｂｅｎｚｏｉｃａｃｉｄ４−（４−ｐｈｅｎｙｌｅｔｈｙｎｙｌ−ｐｈｅｎｙｌｅｔｈｙｎｙｌ）ｂｅｎｚａｍｉｄｅ）を下記の工程により合成した。

【0212】

【化24】

【0213】

合成例１ｄ−１：２，５−ジアセトキシ−Ｎ−（４−ヨードフェニル）ベンズアミド（２，５−ｄｉａｃｅｔｏｘｙｈｄｒｏｘｙ−Ｎ−（４−ｉｏｄｏｐｈｅｎｙｌ）ｂｅｎｚａｍｉｄｅ）と５−アセトキシ−２−ヒドロキシ−Ｎ−（４−ヨードフェニル）ベンズアミド（５−ａｃｅｔｏｘｙ−２−ｈｙｄｒｏｘｙ−Ｎ−（４−ｉｏｄｏｐｈｅｎｙｌ）ｂｅｎｚａｍｉｄｅ）の合成

【0214】

【化25】

【0215】

２，５−ジアセトキシ安息香酸（２，５−ｄｉａｃｅｔｏｘｙｂｅｎｚｏｉｃａｃｉｄ、Ｍｗ＝２３８．２ｇ／ｍｏｌ、０．３ｍｍｏｌ、ｍ＝７１．４６ｇｒ）、ホスホラスペンタクロライド（ｐｈｏｓｐｈｏｒｏｕｓｐｅｎｔａｃｈｌｏｒｉｄｅ、Ｍｗ＝２０８．２ｇ／ｍｏｌ、０．３ｍｍｏｌ、ｍ＝６２．４７ｇｒ）、および１滴のピリジンを、０．５Ｌの無水トルエンで１時間５０℃で加熱撹拌して反応させた。前記反応で生成されたトルエンとホスホラスオキシクロライド粗生成物を減圧蒸留した（５ｍｍＨｇ、ｂａｔｈｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ６０℃）。残留物を０．５Ｌのクロロホルムに溶解して第１溶液を得た。４−ヨードアニリン（４−ｉｏｄｏａｎｉｌｉｎｅ、Ｍｗ＝２１９ｇ／ｍｏｌ、０．３３ｍｍｏｌ、ｍ＝７２．３ｇｒ）とトリエチルアミン（Ｍｗ＝１０１ｇ／ｍｏｌ、０．６ｍｍｏｌ、ｍ＝６０．６ｇｒ）を第１溶液に順次に添加した。得られた混合物を１時間還流した後、溶媒を蒸発させ、残留物をイソプロパノール（Ｖ＝０．５Ｌ）で結晶化した。乾燥した後、８０．５ｇの白色結晶物質である、２，５−ジアセトキシ−Ｎ−（４−ヨードフェニル）ベンズアミド（Ｍｗ＝４３９．２１ｇ／ｍｏｌ、Ｙｉｅｌｄ４４．６％）と５−アセトキシ−２−ヒドロキシ−Ｎ−（４−ヨードフェニル）ベンズアミド（Ｍｗ＝３９７．１７ｇ／ｍｏｌ、Ｙｉｅｌｄ：１９．１％）の混合物を得た。

【0216】

合成例１ｄ−２：Ｎ−（４−ヨードフェニル）−２，５−ジヒドロキシベンズアミド（Ｎ−（４−Ｉｏｄｏｐｈｅｎｙｌ）−２，５−ｄｉｈｙｄｒｏｘｙｂｅｎｚａｍｉｄｅ）の合成

【0217】

【化26】

【0218】

合成例１ｄ−１で得られた２，５−ジアセトキシ−Ｎ−（４−ヨードフェニル）ベンズアミドと５−アセトキシ−２−ヒドロキシ−Ｎ−（４−ヨードフェニル）ベンズアミドの７：３重量比の混合物（ｍ＝８０．５ｇｒ）を、０．５Ｌのメタノールで撹拌して懸濁させた。４０ｍＬの水に溶かした水酸化カリウム（Ｍｗ＝５６ｇ／ｍｏｌ、５７３ｍｍｏｌ、ｍ＝３２ｇｒ）を懸濁液に常温で添加して、褐色溶液を得た。溶液を脱色チャコールで処理した後、ろ過した。２Ｌの水と６０ｍＬの酢酸をろ過物に添加して、淡いピンク色の沈殿物を得た。６０℃で２４時間減圧ろ過した後、乾燥して、淡いピンク色の粉末のＮ−（４−ヨードフェニル）−２，５−ジヒドロキシベンズアミド（Ｎ−（４−ｉｏｄｏｐｈｅｎｙｌ）−２，５−ｄｉｈｙｄｒｏｘｙｂｅｎｚａｍｉｄｅ）（Ｍｗ＝３５５．１３ｇ／ｍｏｌ、１８６ｍｍｏｌ、ｍ＝６６ｇｒ）を得た（Ｙｉｅｌｄ：９７．４％）。

【0219】

^１ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６）３００ＭＨｚ，δ，ｐｐｍ：６．８２（ｄ，１Ｈ，Ｊ^１２＝８．７Ｈｚ），６．８８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ^１２＝８．７Ｈｚ，Ｊ^１３＝３．０Ｈｚ），７．３２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ^１３＝３．０Ｈｚ），７．５５（ｄ，２Ｈ，Ｊ^１２＝９Ｈｚ），７．６９（ｄ，２Ｈ，Ｊ^１２＝９Ｈｚ），９．１２（ｓ，１Ｈ，ＯＨ），１０．４４（ｓ，１Ｈ，ＮＨ），１０．９３（ｓ，１Ｈ，ＯＨ）。

【0220】

合成例１ｄ−３：２，５−ジヒドロキシ−Ｎ−［４−（４−フェニルエチニル−フェニルエチニル）フェニル］−ベンズアミド（２，５−ｄｉｈｙｄｒｏｘｙ−Ｎ−［４−（４−ｐｈｅｎｙｌｅｔｈｙｎｙｌ−ｐｈｅｎｙｌｅｔｈｙｎｙｌ）ｐｈｅｎｙｌ］−ｂｅｎｚａｍｉｄｅ）の合成

【0221】

【化27】

【0222】

Ｎ−（４−ヨードフェニル）−２，５−ジヒドロキシベンズアミド（Ｍｗ＝３５５．１３ｇ／ｍｏｌ、０．１ｍｏｌ、ｍ＝３５．５ｇｒ）と１−エチニル−４−フェニルエチニルベンゼン（１−ｅｔｈｙｎｙｌ−４−ｐｈｅｎｙｌｅｔｈｙｎｙｌｂｅｎｚｅｎｅ、Ｍｗ＝２０２．２６ｇ／ｍｏｌ、０．１ｍｏｌ、ｍ＝２０．２ｇｒ）を、窒素流入口（ｎｉｔｒｏｇｅｎｉｎｌｅｔ）と冷却器（ｃｏｎｄｅｎｓｅｒ）が装着された１Ｌの２口丸底フラスコで、０．３ＬのＥｔ_３Ｎと０．３ＬのＤＭＡＣの混合物に溶解した。得られた溶液を乾燥窒素ガスで１時間パージした。塩化パラジウム（ＩＩ）（Ｍｗ＝１７７．３３ｇ／ｍｏｌ、ｖ＝４ｍｍｏｌ、ｍ＝０．７１ｇｒ）、ヨウ化銅（Ｉ）（Ｍｗ＝１９０．４５ｇ／ｍｏｌ、ｖ＝８ｍｍｏｌ、ｍ＝１．５２ｇｒ）、およびトリフェニルホスフィン（Ｍｗ＝２６２．４５ｇ／ｍｏｌ、ｖ＝１６ｍｍｏｌ、ｍ＝４．２ｇｒ）を溶液に添加した。窒素気流下で１０分間維持し、窒素排出口を閉じて、混合物を、２４時間１００℃で、窒素下で撹拌した。反応が完了した後、溶媒を減圧蒸留して、残留物を５００ｍＬの熱いイソプロパノールに懸濁させ、冷却した後、ろ過した。得られた褐色固体を３００ｍＬの熱いエチルアセテートで撹拌した後、冷却した後、ろ過した。溶液の色が淡黄色になるまで前記過程を３回繰り返した。ろ過して得られた固体を６０℃で乾燥して、濃いダークブラウン色の２，５−ジヒドロキシ−Ｎ−［４−（４−フェニルエチニル−フェニルエチニル）フェニル］−ベンズアミド（Ｍｗ＝４２９．４８ｇ／ｍｏｌ、７２．９ｍｍｏｌ、ｍ＝３１．３ｇｒ、Ｙｉｅｌｄ：７３％）を得た。

【0223】

【0224】

合成例１ｄ−４：２，５−ビス−［４−（６−アクリロイルオキシヘキシルオキシ）ベンゾイルオキシ］−Ｎ−［４−（４−フェニルエチニル−フェニルエチニル）フェニル］ベンズアミド（２，５−Ｂｉｓ−［４−（６−ａｃｒｙｌｏｙｌｏｘｙｈｅｘｙｌｏｘｙ）ｂｅｎｚｏｙｌｏｘｙ］−Ｎ−［４−（４−ｐｈｅｎｙｌｅｔｈｙｎｙｌ−ｐｈｅｎｙｌｅｔｈｙｎｙｌ）ｐｈｅｎｙｌ］ｂｅｎｚａｍｉｄｅ）の合成

【0225】

【化28】

【0226】

２，５−ジヒドロキシ−Ｎ−［４−（４−フェニルエチニル−フェニルエチニル）フェニル］−ベンズアミド（ｍ＝１５ｇｒ、Ｍｗ＝４２９．４８ｇ／ｍｏｌ、ｖ＝３４．９３ｍｍｏｌ）と１０ｍｇのヒドロキノン（アクリレート重合防止剤）を、１００ｍＬのジメチルアセトアミド（ｄｉｍｅｔｈｙｌａｃｅｔａｍｉｄｅ、ＤＭＡＣ）に溶解した第１溶液を撹拌しながら、１００ｍＬのＤＭＡＣに、アクリル酸３−（４−クロロカルボニルフェノキシ）プロピルエステル（ｍ＝２９．３ｇｒ、Ｍｗ＝３１０．７８ｇ／ｍｏｌ、ｖ＝９４．３１ｍｍｏｌ）を溶解した第２溶液を添加した。その後、トリエチルアミン（ｍ＝１４．１ｇｒ、Ｍｗ＝１０１ｇ／ｍｏｌ、ｖ＝１３９．７ｍｍｏｌ）を添加し、得られた混合物を、窒素ガス雰囲気下、７０℃で５時間撹拌した。反応が完了した後、濃褐色の溶液を１Ｌの冷水に注ぎ込み、得られた懸濁液を１時間撹拌した。固体をろ過した後、５００ｍＬの水と５００ｍＬのメタノールで洗浄した後、５００ｍＬの熱いメタノールに懸濁させ、ろ過して、過剰の未反応酸を除去した。ろ過した淡褐色固体を８００ｍＬの熱いメタノール／ジクロロメタン（１：１体積比）の混合溶媒に溶解させ、脱色チャコール（ｄｅｃｏｌｏｒｉｚｉｎｇｃｈａｒｃｏａｌ）で処理した後、ろ過した。ろ過した溶液を回転蒸発器で濃縮して、固体沈殿物を得た。沈殿した固体をろ過し、メタノールで乾燥した後、減圧下、６０℃で２４時間乾燥した。ＴＬＣシリカゲル（展開溶媒：ｅｔｈｙｌａｃｅｔａｔｅ：ｈｅｘａｎｅ＝１：２体積比）を用いて、淡いベージュ色のパウダー（ｍ＝２９．８ｇｒ、Ｍｗ＝９７８．１２ｇ／ｍｏｌ、ｖ＝３０．５ｍｍｏｌ、Ｙｉｅｌｄ：８７．３％）を得た。

【0227】

^１ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６）３００ＭＨｚ，δ，ｐｐｍ：１．３３−１．５３（ｍ，８Ｈ），１．５８−１．８２（ｍ，８Ｈ），１．５８−１．８２（ｍ，８Ｈ），４．０５−４．１５（ｍ，８Ｈ），５．９０−５．９６（ｍ，２Ｈ），６．１３−６．２２（ｍ，２Ｈ），６．２８−６．３１（ｍ，２Ｈ），７．０６（ｄ，２Ｈ，Ｊ^１２＝９Ｈｚ），７．１４（ｄ，２Ｈ，Ｊ^１２＝９Ｈｚ），７．４３−７．５９（ｍ，１３Ｈ），７．６７−７．７３（ｍ，３Ｈ），８．０５（ｄ，２Ｈ，Ｊ^１２＝９Ｈｚ），８．１１（ｄ，２Ｈ，Ｊ^１２＝９．０Ｈｚ），１０．７１（ｓ，１Ｈ）。

【0228】

合成例５：化学式１ｅの重合性液晶化合物の製造

【0229】

【化29】

【0230】

合成例１ｅ−１：２，５−ジアセトキシ安息香酸４−ヨードフェニルエステル（２，５−ｄｉａｃｅｔｏｘｙｂｅｎｚｏｉｃａｃｉｄ４−ｉｏｄｏｐｈｅｎｙｌｅｓｔｅｒ）の合成

【0231】

【化30】

【0232】

２，５−ジアセトキシ安息香酸（２，５−ｄｉａｃｅｔｏｘｙｂｅｎｚｏｉｃａｃｉｄ、Ｍｗ＝２３８．２ｇ／ｍｏｌ、０．３４２ｍｏｌ、ｍ＝８１．６ｇｒ）、ホスホラスペンタクロライド（ｐｈｏｓｐｈｏｒｏｕｓｐｅｎｔａｃｈｌｏｒｉｄｅ、Ｍｗ＝２０８．２ｇ／ｍｏｌ、０．３４２ｍｏｌ、ｍ＝７１．３ｇｒ）、および１滴のピリジンを、０．５Ｌの無水トルエンで１時間５０℃で加熱撹拌して反応させた。反応で生成されたトルエンとホスホラスオキシクロライド粗生成物を減圧蒸留した（５ｍｍＨｇ、ｂａｔｈｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ６０℃）。残留物を０．５ＬのＣＨＣｌ_３で撹拌することによって溶解した。４−ヨードフェノール（Ｍｗ＝２２０ｇ／ｍｏｌ、０．３４２ｍｏｌ、ｍ＝７５．３ｇｒ）とトリエチルアミン（Ｍｗ＝１０１ｇ／ｍｏｌ、０．６９ｍｏｌ、ｍ＝６９．７ｇｒ）を得られた溶液に順次に添加した。得られた混合物を４時間還流した後、溶媒を蒸発させ、残留物をイソプロパノール（Ｖ＝０．５Ｌ）で結晶化した後、乾燥して、白色結晶の２，５−ジアセトキシ安息香酸４−ヨードフェニルエステル（２，５−ｄｉａｃｅｔｏｘｙｂｅｎｚｏｉｃａｃｉｄ４−ｉｏｄｏｐｈｅｎｙｌｅｓｔｅｒ、ｍ＝９３．５ｇｒ、Ｍｗ＝４４０．２ｇ／ｍｏｌ、ｖ＝０．２１２ｍｏｌ、Ｙｉｅｌｄ：６２％）を得た。

【0233】

合成例１ｅ−２：２，５−ジヒドロキシ安息香酸４−ヨードフェニルエステル（２，５−ｄｉｈｙｄｒｏｘｙｂｅｎｚｏｉｃａｃｉｄ４−ｉｏｄｏｐｈｅｎｙｌｅｓｔｅｒ）の合成

【0234】

【化31】

【0235】

２，５−ジアセトキシ安息香酸４−ヨードフェニルエステル（ｍ＝８７．５ｇｒ、Ｍｗ＝４４０．２ｇ／ｍｏｌ、ｖ＝０．１９９ｍｏｌ）を、メタノール（Ｖ＝０．１Ｌ）とジクロロメタン（ＤＣＭ）（Ｖ＝０．９Ｌ）の混合物に溶解して溶液を得、パラトルエンスルホン酸モノハイドレート（ｐａｒａ−ｔｏｌｕｅｎｅｓｕｌｆｏｎｉｃａｃｉｄｍｏｎｏｈｙｄｒａｔｅ、ｍ＝７９．４ｇｒ、Ｍｗ＝１９０．２ｇ／ｍｏｌ、０．４１７ｍｏｌ）を得られた溶液に添加した。得られた混合物を、窒素雰囲気下、２５℃で２４時間撹拌した。溶媒を減圧蒸留し、１Ｌの水を褐色残留物に添加して、弱いピンク色の固体を得た。固体をろ過した後、水で洗浄した後、減圧下、１００℃で２４時間乾燥して、黄白色（ｏｆｆ−ｗｈｉｔｅ）の生成物を得た（Ｙｉｅｌｄ：７２．６％）。

【0236】

合成例１ｅ−３：２，５−ジヒドロキシ安息香酸４−（４−フェニルエチニル−フェニルエチニル）フェニルエステル（２，５−ｄｉｈｙｄｒｏｘｙｂｅｎｚｏｉｃａｃｉｄ４−（４−ｐｈｅｎｙｌｅｔｈｙｎｙｌ−ｐｈｅｎｙｌｅｔｈｙｎｙｌ）ｐｈｅｎｙｌｅｓｔｅｒ）の合成

【0237】

【化32】

【0238】

２，５−ジヒドロキシ安息香酸４−ヨードフェニルエステル（２，５−ｄｉｈｙｄｒｏｘｙｂｅｎｚｏｉｃａｃｉｄ４−ｉｏｄｏｐｈｅｎｙｌｅｓｔｅｒ、ｍ＝５１．２ｇｒ、Ｍｗ＝３５６．１２ｇ／ｍｏｌ、０．１４４ｍｏｌ）および１−エチニル−４−フェニルエチニルベンゼン（１−ｅｔｈｙｎｙｌ−４−ｐｈｅｎｙｌｅｔｈｙｎｙｌｂｅｎｚｅｎｅ、Ｍｗ＝２０２．２６ｇ／ｍｏｌ、０．１５８ｍｏｌ、ｍ＝３２ｇｒ）を、窒素流入口（ｎｉｔｒｏｇｅｎｉｎｌｅｔ）と冷却器（ｃｏｎｄｅｎｓｅｒ）が装着された１Ｌの２口丸底フラスコで、０．８ＬのＥｔ_３Ｎと０．３ＬのＴＨＦの混合物に溶解した。得られた溶液を乾燥窒素ガスで１時間パージした。塩化パラジウム（ＩＩ）（Ｍｗ＝１７７．３３ｇ／ｍｏｌ、ｖ＝４．３ｍｍｏｌ、ｍ＝０．７６ｇｒ）、ヨウ化銅（Ｉ）（Ｍｗ＝１９０．４５ｇ／ｍｏｌ、ｖ＝８．６ｍｍｏｌ、ｍ＝１．６４ｇｒ）、およびトリフェニルホスフィン（Ｍｗ＝２６２．４５ｇ／ｍｏｌ、ｖ＝１７．２ｍｍｏｌ、ｍ＝４．５ｇｒ）を溶液に添加した。窒素気流下で１０分間維持し、窒素排出口を閉じて、混合物を、２４時間７０℃で、窒素下で撹拌した。反応が完了した後、溶媒を減圧蒸留して、残留物を１Ｌの水に懸濁させ、ろ過した後、乾燥した。得られた黄色固体を１Ｌのエチルアセテートで処理した後、ろ過した。溶媒を減圧下で蒸発させて、２，５−ジヒドロキシ安息香酸４−（４−フェニルエチニルフェニルエチニル）フェニルエステル（２，５−ｄｉｈｙｄｒｏｘｙｂｅｎｚｏｉｃａｃｉｄ４−（４−ｐｈｅｎｙｌｅｔｈｙｎｙｌｐｈｅｎｙｌｅｔｈｙｎｙｌ）ｐｈｅｎｙｌｅｓｔｅｒ、ｍｉｎｏｒｐｒｏｄｕｃｔ）および４−（４−フェニルエチニル−フェニルエチニル）フェノール（４−（４−ｐｈｅｎｙｌｅｔｈｙｎｙｌ−ｐｈｅｎｙｌｅｔｈｙｎｙｌ）ｐｈｅｎｏｌ、ｍａｊｏｒｐｒｏｄｕｃｔ）を得た。混合物を５００ｍＬの熱いメタノールに懸濁させ、ろ過した。固体生成物を回収し、熱い５００ｍＬのメタノールで３回処理して、２，５−ジヒドロキシ安息香酸４−（４−フェニルエチニル−フェニルエチニル）フェニルエステル（２，５−ｄｉｈｙｄｒｏｘｙｂｅｎｚｏｉｃａｃｉｄ４−（４−ｐｈｅｎｙｌｅｔｈｙｎｙｌ−ｐｈｅｎｙｌｅｔｈｙｎｙｌ）ｐｈｅｎｙｌｅｓｔｅｒ）を得た（Ｙｉｅｌｄ：１１．３％）。

【0239】

合成例１ｅ−４：２，５−ビス−［４−（３−アクリロイルオキシヘキシルオキシ）ベンゾイルオキシ］安息香酸４−（４−フェニルエチニルフェニルエチニル）ベンジルエステル（２，５−Ｂｉｓ−［４−（３−ａｃｒｙｌｏｙｌｏｘｙｈｅｘｙｌｏｘｙ）ｂｅｎｚｏｙｌｏｘｙ］ｂｅｎｚｏｉｃａｃｉｄ４−（４−ｐｈｅｎｙｌｅｔｈｙｎｙｌｐｈｅｎｙｌｅｔｈｙｎｙｌ）ｂｅｎｚｙｌｅｓｔｅｒ）の合成

【0240】

【化33】

【0241】

２，５−ジヒドロキシ安息香酸４−（４−フェニルエチニルフェニルエチニル）フェニルエステル（ｍ＝６．６ｇｒ、Ｍｗ＝４３０．４６ｇ／ｍｏｌ、ｖ＝１５．３３ｍｍｏｌ）を、１００ｍＬのジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）に溶解した第１溶液を撹拌しながら、アクリル酸３−（４−クロロカルボニルフェノキシ）ヘキシルエステル（ａｃｒｙｌｉｃａｃｉｄ３−（４−ｃｈｌｏｒｏｃａｒｂｏｎｙｌｐｈｅｎｏｘｙ）ｈｅｘｙｌｅｓｔｅｒ（ｍ＝１４．３３ｇｒ、Ｍｗ＝３１０．７８ｇ／ｍｏｌ、ｖ＝４６．１１ｍｍｏｌ）を、１００ｍＬのＤＭＡＣを溶解した第２溶液を添加した。その後、トリエチルアミン（ｍ＝７．８ｇｒ、Ｍｗ＝１０１ｇ／ｍｏｌ、ｖ＝７７ｍｍｏｌ）を添加し、得られた混合物を、窒素ガス雰囲気下、７０℃で２時間撹拌した。反応が完了した後、濃褐色の溶液を１Ｌの冷水に注ぎ込み、１時間撹拌した。固体をろ過した後、水（Ｖ＝５００ｍＬ）とメタノール（Ｖ＝２００ｍＬ）で洗浄した後、チャコールを添加したメタノール−ジクロロメタンの混合物で２回再結晶した。得られた固体を６０℃で２４時間減圧乾燥して、褐色固体を得た（ｍ＝１０．２ｇｒ、Ｍｗ＝９７９．１ｇ／ｍｏｌ、ｖ＝１１．２６ｍｍｏｌ、Ｙｉｅｌｄ：７３．５％）。

【0242】

比較合成例１：化学式１ｆの液晶化合物の製造
下記化学式１ｆで表される液晶化合物を下記の工程により合成した。

【0243】

【化34】

【0244】

比較合成例１ｆ−１：４−クロロメチル−安息香酸４’−デシルオキシビフェニル−４−イルエステル（４−ｃｈｌｏｒｏｍｅｔｈｙｌ−ｂｅｎｚｏｉｃａｃｉｄ４’−ｄｅｃｙｌｏｘｙｂｉｐｈｅｎｙｌ−４−ｙｌｅｓｔｅｒ）の合成

【0245】

【化35】

【0246】

４’−デシルオキシビフェニル−４−オール（４’−ｄｅｃｙｌｏｘｙｂｉｐｈｅｎｙｌ−４−ｏｌ、１０ｍｍｏｌ、１ｅｑ．）を１００ｍＬの蒸留ＤＣＭに溶解させ、トリエチルアミン（１１ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）を得られた溶液に添加した。４−クロロメチルベンゾイルクロライド（４−ｃｈｌｏｒｏｍｅｔｈｙｌｂｅｎｚｏｙｌｃｈｌｏｒｉｄｅ、１０．５ｍｍｏｌ、１．０５ｅｑ．）を撹拌しながら添加した後、得られた混合物を、窒素雰囲気下、３０分間撹拌した。反応終了後、常温に冷却した後、１５０ｍＬのイソプロパノールを混合物に添加し、ＤＣＭを減圧下で蒸留除去した。得られた固体をろ過した後、イソプロパノール５０ｍＬおよびｎ−ヘキサン５０ｍＬでそれぞれ３回ずつ洗浄した。得られた結果物を６０℃で２４時間減圧乾燥して、白色結晶固体の４−クロロメチル−安息香酸４’−デシルオキシビフェニル−４−イルエステルを得た（Ｙｉｅｌｄ：９６％）。

【0247】

比較合成例１ｆ−２：２，５−ジヒドロキシ−安息香酸４−（４’−デシルオキシビフェニル−４−イルオキシカルボニル）−ベンジルエステル（２，５−ｄｉｈｙｄｒｏｘｙ−ｂｅｎｚｏｉｃａｃｉｄ４−（４’−ｄｅｃｙｌｏｘｙｂｉｐｈｅｎｙｌ−４−ｙｌｏｘｙｃａｒｂｏｎｙｌ）−ｂｅｎｚｙｌｅｓｔｅｒ）の合成

【0248】

【化36】

【0249】

比較合成例１ｆ−１で得られた４−クロロメチル−安息香酸４’−デシルオキシビフェニル−４−イルエステル（１０ｍｍｏｌ、１ｅｑ．）、２，５−ジヒドロキシ安息香酸（２，５−ｄｉｈｙｄｒｏｘｙｂｅｎｚｏｉｃａｃｉｄ、１０．５ｍｍｏｌ、１．０５ｅｑ．）、炭酸水素カリウム（ｐｏｔａｓｓｉｕｍｈｙｄｒｏｇｅｎｃａｒｂｏｎａｔｅ、ＫＨＣＯ_３、２０ｍｍｏｌ、２ｅｑ．）、ヨウ化カリウム（ｐｏｔａｓｓｉｕｍｉｏｄｉｄｅ、ＫＩ、１ｍｍｏｌ、０．１ｅｑ．）、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロミド（ｔｅｔｒａ−ｎ−ｂｕｔｙｌａｍｍｏｎｉｕｍｂｒｏｍｉｄｅ、ｎ−Ｂｕ_４ＮＢｒ、０．５ｍｍｏｌ、０．０５ｅｑ．）、および蒸留ジメチルアセトアミド（ｄｉｍｅｔｈｙｌａｃｅｔａｍｉｄｅ、ＤＭＡＣ、２０ｍＬ）を、窒素雰囲気下、６０℃で２４時間撹拌した。反応終了後、混合物を常温に冷却した後、２００ｍＬの水に注ぎ込んだ。得られた固体をろ過し、水１００ｍＬで３回洗浄した。固体を空気中で乾燥し、少量のチャコールを含むＤＣＭ／ＥｔＯＨを用いて２回結晶化した。得られた物質を６０℃で２４時間乾燥する。ＴＬＣシリカゲル（展開溶媒：ｅｔｈｙｌａｃｅｔａｔｅ：ｈｅｘａｎｅ＝１：４体積比）を用いて、緑色の粉末を得た（Ｙｉｅｌｄ：８８％）。

【0250】

比較合成例１ｆ−３：２，５−ビス−（４−オクチルオキシベンゾイルオキシ）−安息香酸４−（４’−デシルオキシビフェニル−４−イルオキシカルボニル）−ベンジルエステル（２，５−ｂｉｓ−（４−ｏｃｔｙｌｏｘｙｂｅｎｚｏｙｌｏｘｙ）−ｂｅｎｚｏｉｃａｃｉｄ４−（４’−ｄｅｃｙｌｏｘｙｂｉｐｈｅｎｙｌ−４−ｙｌｏｘｙｃａｒｂｏｎｙｌ）−ｂｅｎｚｙｌｅｓｔｅｒ）の合成

【0251】

【化37】

【0252】

比較合成例１ｆ−２で得られた２，５−ジヒドロキシ−安息香酸４−（４’−デシルオキシビフェニル−４−イルオキシカルボニル）−ベンジルエステル（１０ｍｍｏｌ、１ｅｑ．）と４−オクチルオキシベンゾイルクロライド（２２ｍｍｏｌ、２．２ｅｑ．）の混合物を、１００ｍＬのピリジンで８０℃で２時間、窒素雰囲気下で撹拌した。反応終了後、混合物を５００ｍＬの水に注ぎ込んで、沈殿物を生成した。沈殿物をろ過した後、水で洗浄して、アセトンを用いて結晶化した。得られた結果物を６０℃で２４時間減圧乾燥して、白色固体を得た。ＴＬＣシリカゲル（展開溶媒：ｅｔｈｙｌａｃｅｔａｔｅ：ｈｅｘａｎｅ＝１：４体積比）を用いて、２，５−ビス−（４−オクチルオキシベンゾイルオキシ）−安息香酸４−（４’−デシルオキシビフェニル−４−イルオキシカルボニル）−ベンジルエステルを得た（Ｙｉｅｌｄ：７０％）。

【0253】

液晶化合物の熱安定性
合成例１〜合成例５による重合性液晶化合物に対して、ＵｎｉｖｅｒｓａｌＶ４．５Ａ（ＴＡｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ社、１０℃／ｍｉｎ、Ｎ_２ａｔｍｏｓｐｈｅｒｅ）を用いて熱重量分析（ｔｈｅｒｍｏｇｒａｖｉｍｅｔｒｉｃａｎａｌｙｓｉｓ、ＴＧＡ）を行った。このうち、合成例１、合成例３、合成例４、および合成例５による重合性液晶化合物の分析結果を、図８、図９、図１０、および図１１にそれぞれ示す。

【0254】

図８は、合成例１による重合性液晶化合物（化学式１ａの化合物）の熱重量分析を示す図であり、図９は、合成例３による重合性液晶化合物（化学式１ｃの化合物）の熱重量分析を示す図であり、図１０は、合成例４による重合性液晶化合物（化学式１ｄの化合物）の熱重量分析を示す図であり、図１１は、合成例５による重合性液晶化合物（化学式１ｅの化合物）の熱重量分析を示す図である。

【0255】

図８を参照すれば、合成例１による重合性液晶化合物（化学式１ａの化合物）の０．１重量％損失する温度は３０８℃であり、１重量％損失する温度は３６０℃であることが明らかになった。図９を参照すれば、合成例３による重合性液晶化合物（化学式１ｃの化合物）の１重量％損失する温度は３３０．１℃であることが明らかになった。図１０を参照すれば、合成例４による重合性液晶化合物（化学式１ｄの化合物）の１重量％損失する温度は３３０℃であることが明らかになった。図１１を参照すれば、合成例５による重合性液晶化合物（化学式１ｅの化合物）の１重量％損失する温度は３４６℃であることが明らかになった。これらから、合成例１、合成例３、合成例４、および合成例５による化合物の重合性液晶の熱安定性に優れていることが分かる。

【0256】

液晶化合物の液晶相の安定性
合成例１〜合成例５による重合性液晶化合物および比較合成例１による液晶化合物に対して、ＴｒｏｓＶ３．２（ＴＡｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ社、１０℃／ｍｉｎ、Ｎ_２ａｔｍｏｓｐｈｅｒｅ）を用いて示差走査熱量分析（ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌｓｃａｎｎｉｎｇｃａｌｏｒｉｍｅｔｒｙ、ＤＳＣ）を行った。このうち、合成例１による重合性液晶化合物と比較合成例１による化合物の分析結果を、図１２および図１３にそれぞれ示す。図１２は、合成例１による重合性液晶化合物の示差走査熱量分析の結果を示す図であり、図１３は、比較合成例１による液晶化合物の示差走査熱量分析の結果を示す図である。

【0257】

図１２を参照すれば、１番目のヒーティングサイクルにおいて、結晶相（ｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅｐｈａｓｅ）からネマチック相（ｎｅｍａｔｉｃｐｈａｓｅ）に相転移する温度は１１１．６℃であり、ネマチック相からイソトロピック相（ｉｓｏｔｒｏｐｉｃｐｈａｓｅ）に相転移する温度は１７８．０℃であることが分かる。つまり、合成例１による重合性液晶化合物は、１１１．６℃から１７８．０℃の約６６．４℃の区間でネマチック相として存在する。図１２を参照すれば、２番目のヒーティングサイクルにおいて、結晶相（ｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅｐｈａｓｅ）からネマチック相（ｎｅｍａｔｉｃｐｈａｓｅ）に相転移する温度は１０４．３℃であり、ネマチック相からイソトロピック相（ｉｓｏｔｒｏｐｉｃｐｈａｓｅ）に相転移する温度は１７７．２℃であることが分かる。つまり、合成例１による重合性液晶化合物は、１０４．３℃から１７７．２℃の約７２．９℃の区間でネマチック相として存在する。このように、ネマチック相として存在する温度区間が広い場合、光学特性に優れた光学フィルムを提供することができる。

【0258】

図１３を参照すれば、１番目のヒーティングサイクルにおいて、結晶相からネマチック相に相転移する温度は１０２．７℃と１１１．５℃の２つの分割されたピークを示し、ネマチック相からイソトロピック相に相転移する温度は１５３．８℃であることが分かる。つまり、比較合成例１による液晶化合物は、１１１．５℃から１５３．８℃の約４２．３℃の区間でネマチック相として存在する。

【0259】

前記図１２および図１３を参照すれば、合成例１による重合性液晶化合物の液晶相の安定性が、比較合成例１による液晶化合物に比べてより優れていることが分かる。

【0260】

液晶化合物の複屈折値（Δｎ）
合成例１〜合成例５による重合性液晶化合物および下記化学式１ｇで表される液晶化合物（ＢＡＳＦ社製造）に対して、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、および６５０ｎｍ波長に対するΔｎ（ｎｅ−ｎｏ、ｎｅは、異常光屈折率であり、ｎｏは、正常光屈折率である）を測定して、下記表１に記載する。

【0261】

【化38】

【0262】

【表1】

【0263】

表１を参照すれば、合成例１による化合物は、各波長範囲で０．０５≦Δｎ≦０．１を満たすのに対し、化学式１ｇの化合物はいずれも０．１より大きいΔｎ値を示した。

【0264】

実施例１：光学フィルムの製造
合成例１による重合性液晶化合物と化学式１ｇで表される液晶化合物（ＢＡＳＦ社製造）を７５：２５の重量比で混合し、液晶化合物の混合物１６重量％、光開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、ＣＩＢＡＳＰＥＣＩＡＬＴＹＣＨＥＭＩＣＡＬＳＩＮＣ．）３重量％、増感剤（ＤＥＴＸ、Ｓｉｇｍａ−ＡｌｄｒｉｃｈＣｏ．，Ｌｔｄ．製造）１重量％、およびトルエンとシクロヘキサンの混合溶媒（７：３ｗｔ／ｗｔ）８０重量％を混合し、４５℃のホットプレート上にて１時間撹拌して、光学フィルム用組成物を製造する。

【0265】

厚さ１ｍｍのガラス基板上に、光学フィルム用組成物を１０００ｒｐｍで３０秒間スピンコーティングする。次に、基板を８０℃のオーブンで２分、室温で２分間置いて乾燥および冷却させた後、１０００ｍＪ／ｃｍ^２の光量で紫外線を照射して、基板上に硬化した液晶層を含む光学フィルムを製造する。

【0266】

実施例２〜５：光学フィルムの製造
合成例１による重合性液晶化合物の代わりに、合成例２〜５による重合性液晶化合物をそれぞれ用いて、実施例１と同様の方法で光学フィルムを製造する。

【0267】

実施例６〜１１：光学フィルムの製造
合成例１による重合性液晶化合物と化学式１ｇで表される液晶化合物（ＢＡＳＦ社製造）を５：９５、１０：９０、３０：７０、５０：５０、７０：３０、および１００：０の重量比で混合し、液晶化合物の混合物１６重量％、光開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、ＣＩＢＡＳＰＥＣＩＡＬＴＹＣＨＥＭＩＣＡＬＳＩＮＣ．）３重量％、増感剤（ＤＥＴＸ、Ｓｉｇｍａ−ＡｌｄｒｉｃｈＣｏ．，Ｌｔｄ．製造）１重量％、およびトルエンとシクロヘキサの混合溶媒（７：３ｗｔ／ｗｔ）８０重量％を混合し、４５℃のホットプレート上にて１時間撹拌して、光学フィルム用組成物を製造する。

【0268】

厚さ１ｍｍのガラス基板上に、光学フィルム用組成物を１０００ｒｐｍで３０秒間スピンコーティングする。次に、基板を８０℃のオーブンで２分、室温で２分間置いて乾燥および冷却させた後、１０００ｍＪ／ｃｍ^２の光量で紫外線を照射して、基板上に硬化した液晶層を含む実施例６〜１１による光学フィルムを製造する。

【0269】

比較例１：光学フィルムの製造
比較合成例１による重合性液晶化合物１６重量％、光開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、ＣＩＢＡＳＰＥＣＩＡＬＴＹＣＨＥＭＩＣＡＬＳＩＮＣ．）３重量％、増感剤（ＤＥＴＸ、Ｓｉｇｍａ−ＡｌｄｒｉｃｈＣｏ．，Ｌｔｄ．製造）１重量％、およびトルエンとシクロヘキサの混合溶媒（７：３ｗｔ／ｗｔ）８０重量％を混合し、４５℃のホットプレート上にて１時間撹拌して、光学フィルム用組成物を製造する。

【0270】

厚さ１ｍｍのガラス基板上に、光学フィルム用組成物を１０００ｒｐｍで３０秒間スピンコーティングする。次に、基板を８０℃のオーブンで２分、室温で２分間置いて乾燥および冷却させた後、１０００ｍＪ／ｃｍ^２の光量で紫外線を照射して、基板上に硬化した光学フィルムを製造する。

【0271】

製造された光学フィルムに対して、面内位相差をＡｘｏＳｃａｎ^ＴＭ（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ）を用いて測定する。その結果を表２に記載する。

【0272】

【表2】