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公報発行日 2022年7月7
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2022-102475 ログイン済みの方はこのURLへ
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【課題】ウェハを機能素子ごとに確実にチップ化することを可能にするレーザ加工方法を提供する。
【解決手段】レーザ加工方法は、ストリート23を介して互いに隣り合うように配置された複数の機能素子22aを含むウェハ20を用意する第1工程と、第1工程の後に、ストリート23を通るライン15に沿ってウェハ20の内部に改質領域11を形成する第2工程と、第2工程の後に、ストリート23の表層が除去され、且つ、表層が除去されてなる溝MZの底面に改質領域11から伸展した亀裂13がライン15に沿って到達するように、ストリート23にレーザ光Lを照射する第3工程と、を備える。
【選択図】図10
本発明によれば、ウェハを機能素子ごとに確実にチップ化することが可能なレーザ加工方法を提供することができる。
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