特開2022-102475IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

レーザ加工方法

要約特許出願時に添付された[要約書]

【課題】ウェハを機能素子ごとに確実にチップ化することを可能にするレーザ加工方法を提供する。
【解決手段】レーザ加工方法は、ストリート23を介して互いに隣り合うように配置された複数の機能素子22aを含むウェハ20を用意する第1工程と、第1工程の後に、ストリート23を通るライン15に沿ってウェハ20の内部に改質領域11を形成する第2工程と、第2工程の後に、ストリート23の表層が除去され、且つ、表層が除去されてなる溝MZの底面に改質領域11から伸展した亀裂13がライン15に沿って到達するように、ストリート23にレーザ光Lを照射する第3工程と、を備える。
【選択図】図10

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

上述したような技術では、例えば改質領域からの亀裂の伸展量の大小によって、ウェハを機能素子ごとにチップ化することが困難になる場合がある。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明のレーザ加工方法は、ストリートを介して互いに隣り合うように配置された複数の機能素子を含むウェハを用意する第1工程と、第1工程の後に、ストリートを通るラインに沿ってウェハの内部に改質領域を形成する第2工程と、第2工程の後に、ストリートの表層が除去され、且つ、表層が除去されてなる凹部の底面に改質領域から伸展した亀裂がラインに沿って到達するように、ストリートにレーザ光を照射する第3工程と、を・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明によれば、ウェハを機能素子ごとに確実にチップ化することが可能なレーザ加工方法を提供することができる。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 ウェハの内部に改質領域を形成するレーザ加工装置の構成図である。
【図2】 グルービング加工を実施するレーザ加工装置の構成図である。
【図3】 加工対象となるウェハの平面図である。
【図4】 図3に示されるウェハの一部分の断面図である。
【図5】 図3に示されるストリートの一部分の平面図である。
【図6】 第1実施形態のレーザ加工方法のフローチャートである。
【図7】 (a)は、第1実施形態のレーザ加工方法を説明するためのウェハの断面図である。(b)は、図7(a)の続きを示すウェハの断面図である。
【図8】 (a)は、図7(b)の続きを示すウェハの断面図である。(b)は、図8(a)の続きを示すウェハの断面図である。
【図9】 (a)は、図8(b)の続きを示すウェハの断面図である。(b)は、図9(a)のA-A線に沿った断面図である。
【図10】 (a)は、図9(a)の続きを示すウェハの断面図である。(b)は、図10(a)のB-B線に沿った断面図である。
【図11】 図10(a)の続きを示すウェハの断面図である。
【図12】 第2実施形態のレーザ加工方法のフローチャートである。
【図13】 (a)は、第2実施形態のレーザ加工方法を説明するためのウェハの断面図である。(b)は、図13(a)の続きを示すウェハの断面図である。
【図14】 (a)は、図13(b)の続きを示すウェハの断面図である。(b)は、図14(a)の続きを示すウェハの断面図である。
【図15】 第3実施形態のレーザ加工方法のフローチャートである。
【図16】 (a)は、第3実施形態のレーザ加工方法を説明するためのウェハの断面図である。(b)は、図16(a)の続きを示すウェハの断面図である。
【図17】 (a)は、図16(b)の続きを示すウェハの断面図である。(b)は、図17(a)の続きを示すウェハの断面図である。
【図18】 図17(b)の続きを示すウェハの断面図である。
【図19】 第4実施形態のレーザ加工方法のフローチャートである。
【図20】 (a)は、第4実施形態のレーザ加工方法を説明するためのウェハの断面図である。(b)は、図20(a)の続きを示すウェハの断面図である。
【図21】 図20(b)の続きを示すウェハの断面図である。
【図22】 (a)は、変形例に係るレーザ加工方法を説明するための図9(b)に対応する断面図である。(b)は、変形例に係るレーザ加工方法を説明するための図10(b)に対応する断面図である。

選択図 図10出願人が指定した本件の代表的な図

4…撮像部(内部観察カメラ)、11…改質領域、13,13a,13b,13c…亀裂、15…ライン、20…ウェハ、22a…機能素子、23…ストリート、HM…保護膜、L…レーザ光、MZ…溝(凹部)。

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