(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2022103983
(43)【公開日】2022-07-08
(54)【発明の名称】ゴム組成物、タイヤ、及びゴム用添加剤
(51)【国際特許分類】
C08L 21/00 20060101AFI20220701BHJP
C08K 3/36 20060101ALI20220701BHJP
C08K 5/20 20060101ALI20220701BHJP
C08K 5/29 20060101ALI20220701BHJP
C08K 5/3445 20060101ALI20220701BHJP
B60C 1/00 20060101ALI20220701BHJP
【ＦＩ】
C08L21/00
C08K3/36
C08K5/20
C08K5/29
C08K5/3445
B60C1/00 A
【審査請求】未請求
【請求項の数】9
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2020218929
(22)【出願日】2020-12-28
(71)【出願人】
【識別番号】000206901
【氏名又は名称】大塚化学株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110000796
【氏名又は名称】特許業務法人三枝国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】篠崎 真也
(72)【発明者】
【氏名】岡部 祐貴
【テーマコード（参考）】
3D131
4J002
【Ｆターム（参考）】
3D131AA01
3D131AA02
3D131AA05
3D131AA06
3D131AA10
3D131AA14
3D131AA15
3D131BA05
3D131BA18
3D131BC02
3D131BC51
4J002AC001
4J002AC011
4J002AC031
4J002AC061
4J002AC071
4J002AC081
4J002AC091
4J002AE032
4J002BB151
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4J002DA040
4J002DE100
4J002EF050
4J002EG020
4J002EP017
4J002EP027
4J002ER007
4J002EU047
4J002EU117
4J002EU127
4J002EX080
4J002GN01
(57)【要約】 （修正有）
【課題】十分な低発熱性を有する一方で、加工性に優れたゴム組成物を提供する。
【解決手段】下記成分（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）を含むゴム組成物。
成分（ａ）；ゴム成分
成分（ｂ）；下記式（１）で表される化合物
成分（ｃ）；下記式（２）で表される化合物
（１）Ｘ－ＣＯ－ＮＨ－Ａ（２）Ｚ－ＣＯ－ＮＨ－Ａ
〔式中、Ａは式（i）－ＮＲ１Ｒ２又は式（ii）－Ｎ＝Ｒ３Ｒ４で示される基を示し、式（i）又は（ii）において、Ｒ１～Ｒ４は、水素又は炭素数１～１８のアルキル、Ｘは、窒素含有複素環基、炭素数１～５のアルキル、アリール、又は基－Ｙ－ＣＯ－ＮＨＡ、或いは環を形成してもよい。Ｙは２価の窒素含有複素環基、炭素数１～１８のアルキレン、又はアリーレン、Ｚは、炭素数６～４０のアルキル。〕
【選択図】なし
【解決手段】下記成分（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）を含むゴム組成物。
成分（ａ）；ゴム成分
成分（ｂ）；下記式（１）で表される化合物
成分（ｃ）；下記式（２）で表される化合物
（１）Ｘ－ＣＯ－ＮＨ－Ａ（２）Ｚ－ＣＯ－ＮＨ－Ａ
〔式中、Ａは式（i）－ＮＲ１Ｒ２又は式（ii）－Ｎ＝Ｒ３Ｒ４で示される基を示し、式（i）又は（ii）において、Ｒ１～Ｒ４は、水素又は炭素数１～１８のアルキル、Ｘは、窒素含有複素環基、炭素数１～５のアルキル、アリール、又は基－Ｙ－ＣＯ－ＮＨＡ、或いは環を形成してもよい。Ｙは２価の窒素含有複素環基、炭素数１～１８のアルキレン、又はアリーレン、Ｚは、炭素数６～４０のアルキル。〕
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
下記成分（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）を含むゴム組成物。
成分（ａ）；ゴム成分
成分（ｂ）；下記式（１）で表される化合物
成分（ｃ）；下記式（２）で表される化合物
〔式中、Ａは下記式（i）又は（ii）で示される基を示す。
式（i）又は（ii）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、各々水素原子又は炭素数１～１８のアルキル基を示す。
Ｘは、窒素含有複素環基、炭素数１～５のアルキル基、アリール基、又は基－Ｙ－ＣＯ－ＮＨＡを示す。或いは、Ｘは、基－ＣＨＲ６－ＣＲ５＝Ｎ－を介してＡと結合することにより環を形成してもよい。これら各基及び環は、さらに置換基を有していてもよい。
Ｙは、２価の窒素含有複素環基、炭素数１～１８のアルキレン基、又はアリーレン基を示す。
Ｒ５は、水素原子、炭素数１～１８のアルキル基、又はアリール基を、
Ｒ６は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、ヒドラジド基、アミノ基、チオカルボキシル基、又はチオール基を示し、これら各基は更に置換基を有していてもよい。
Ｚは、炭素数６～４０のアルキル基を示し、該アルキル基はさらに置換基を有していてもよい。〕
成分（ａ）；ゴム成分
成分（ｂ）；下記式（１）で表される化合物
成分（ｃ）；下記式（２）で表される化合物
【化1】
式（i）又は（ii）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、各々水素原子又は炭素数１～１８のアルキル基を示す。
Ｘは、窒素含有複素環基、炭素数１～５のアルキル基、アリール基、又は基－Ｙ－ＣＯ－ＮＨＡを示す。或いは、Ｘは、基－ＣＨＲ６－ＣＲ５＝Ｎ－を介してＡと結合することにより環を形成してもよい。これら各基及び環は、さらに置換基を有していてもよい。
Ｙは、２価の窒素含有複素環基、炭素数１～１８のアルキレン基、又はアリーレン基を示す。
Ｒ５は、水素原子、炭素数１～１８のアルキル基、又はアリール基を、
Ｒ６は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、ヒドラジド基、アミノ基、チオカルボキシル基、又はチオール基を示し、これら各基は更に置換基を有していてもよい。
Ｚは、炭素数６～４０のアルキル基を示し、該アルキル基はさらに置換基を有していてもよい。〕
【化2】
【請求項2】
前記式（１）で表される化合物は、下記式（1ａ）、（１ｂ）、及び（１ｃ）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも一種である、請求項１に記載のゴム組成物。
〔式中、Ｘ´は窒素含有複素環基、炭素数１～５のアルキル基、又はアリール基を示す。
Ｙ´は２価の窒素含有複素環基、炭素数１～１８のアルキレン基、又はアリーレン基を示す。
Ｘ´及びＹ´で示される各基は、さらに置換基を有していてもよい。
Ａ、Ｒ５、及びＲ６は前記に同じである。〕
【化3】
Ｙ´は２価の窒素含有複素環基、炭素数１～１８のアルキレン基、又はアリーレン基を示す。
Ｘ´及びＹ´で示される各基は、さらに置換基を有していてもよい。
Ａ、Ｒ５、及びＲ６は前記に同じである。〕
【請求項3】
前記式（１）においてＸで示される窒素含有複素環基及び式（１ａ）においてＸ´で示される窒素含有複素環基は、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、トリアゾリル基、キノリル基、イソキノリル基、及びベンゾイミダゾリル基からなる群より選択される少なくとも一種である、請求項１又は２に記載のゴム組成物。
【請求項4】
前記式（１）においてＹで示されるアリーレン基及び式（１ｂ）におけるＹ´で示されるアリーレン基がフェニレン基又はナフチレン基であり、前記アリーレン基はさらに置換基を有していてもよい、請求項１～３の何れか１項に記載のゴム組成物。
【請求項5】
前記成分（ｃ）が下記式（２ａ）で表される化合物である、請求項１～４の何れか１項に記載のゴム組成物。
〔式中、Ｚ´は炭素数６～２５のアルキル基であり、Ａ´は式（ia）又は（iia）であり、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は、各々水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を示す。〕
【化4】
【請求項6】
前記ゴム成分はジエン系ゴムである、請求項１～５の何れか１項に記載のゴム組成物。
【請求項7】
さらに、成分（ｄ）シリカを含む、請求項１～６の何れか１項に記載のゴム組成物。
【請求項8】
請求項１～７の何れか１項に記載のゴム組成物を用いて作製されたタイヤ。
【請求項9】
下記成分（ｂ）及び（ｃ）を含むゴム用添加剤。
成分（ｂ）；下記式（１）で表される化合物
成分（ｃ）；下記式（２）で表される化合物
〔式中、Ａは下記式（i）又は（ii）で示される基を示す。
式（i）又は（ii）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、各々水素原子又は炭素数１～１８のアルキル基を示す。
Ｘは、窒素含有複素環基、炭素数１～５のアルキル基、アリール基、又は基－Ｙ－ＣＯ－ＮＨＡを示す。或いは、Ｘは、基－ＣＨＲ６－ＣＲ５＝Ｎ－を介してＡと結合することにより環を形成してもよい。これら各基及び環は、さらに置換基を有していてもよい。
Ｙは、２価の窒素含有複素環基、炭素数１～１８のアルキレン基、又はアリーレン基を示す。
Ｒ５は、水素原子、炭素数１～１８のアルキル基、又はアリール基を、
Ｒ６は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、ヒドラジド基、アミノ基、チオカルボキシル基、又はチオール基を示し、これら各基は更に置換基を有していてもよい。
Ｚは、炭素数６～４０のアルキル基を示し、該アルキル基はさらに置換基を有していてもよい。〕
成分（ｂ）；下記式（１）で表される化合物
成分（ｃ）；下記式（２）で表される化合物
【化5】
式（i）又は（ii）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、各々水素原子又は炭素数１～１８のアルキル基を示す。
Ｘは、窒素含有複素環基、炭素数１～５のアルキル基、アリール基、又は基－Ｙ－ＣＯ－ＮＨＡを示す。或いは、Ｘは、基－ＣＨＲ６－ＣＲ５＝Ｎ－を介してＡと結合することにより環を形成してもよい。これら各基及び環は、さらに置換基を有していてもよい。
Ｙは、２価の窒素含有複素環基、炭素数１～１８のアルキレン基、又はアリーレン基を示す。
Ｒ５は、水素原子、炭素数１～１８のアルキル基、又はアリール基を、
Ｒ６は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、ヒドラジド基、アミノ基、チオカルボキシル基、又はチオール基を示し、これら各基は更に置換基を有していてもよい。
Ｚは、炭素数６～４０のアルキル基を示し、該アルキル基はさらに置換基を有していてもよい。〕
【化6】
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、ゴム組成物、タイヤ、及びゴム用添加剤に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、省資源、省エネルギー、及び環境保護の観点から、二酸化炭素をはじめとした排出ガスの規制が厳しくなっており、自動車に対する低燃費化の要求が高まっている。自動車の低燃費化には、エンジン等の駆動系及び伝達系の寄与が大きい一方で、タイヤの転がり抵抗も大きく関与しているため、駆動系及び伝達系だけでなく、タイヤの転がり抵抗の改善も必要とされている。
【0003】
タイヤの転がり抵抗の改善方法として、ゴム組成物にヒドラジド化合物又はヒドラゾン化合物を配合する方法が知られている（特許文献１）。
【0004】
しかし、ヒドラジド化合物やヒドラゾン化合物をゴム組成物に配合すると、低発熱性が向上する一方で、ゴム組成物の粘性（ムーニー粘度）が増加する傾向があり、その結果、加工性が悪化するという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開平８－２７３１５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
上記のような事情に鑑み、本発明の目的とするところは、十分な低発熱性を有する一方で、加工性に優れたゴム組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明者は上記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、所定の化合物をゴム成分に加えることにより本来式（１）で表される化合物が有している低発熱性の効果を維持しつつ、ムーニー粘度の増加を抑え、優れた加工性を有するゴム組成物を得ることができることを見出した。本発明者は、かかる知見に基づきさらに研究を重ね、本発明を完成するに至った。
【0008】
即ち、本発明は、以下のゴム組成物、タイヤ、及びゴム用添加剤を提供する。
項１．
下記成分（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）を含むゴム組成物。
成分（ａ）；ゴム成分
成分（ｂ）；下記式（１）で表される化合物
成分（ｃ）；下記式（２）で表される化合物
〔式中、Ａは下記式（i）又は（ii）で示される基を示す。
式（i）又は（ii）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、各々水素原子又は炭素数１～１８のアルキル基を示す。
Ｘは、窒素含有複素環基、炭素数１～５のアルキル基、アリール基、又は基－Ｙ－ＣＯ－ＮＨＡを示す。或いは、Ｘは、基－ＣＨＲ６－ＣＲ５＝Ｎ－を介してＡと結合することにより環を形成してもよい。これら各基及び環は、さらに置換基を有していてもよい。
Ｙは、２価の窒素含有複素環基、炭素数１～１８のアルキレン基、又はアリーレン基を示す。
Ｒ５は、水素原子、炭素数１～１８のアルキル基、又はアリール基を、
Ｒ６は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、ヒドラジド基、アミノ基、チオカルボキシル基、又はチオール基を示し、これら各基は更に置換基を有していてもよい。
Ｚは、炭素数６～４０のアルキル基を示し、該アルキル基はさらに置換基を有していてもよい。〕
項２．
前記式（１）で表される化合物は、下記式（1ａ）、（１ｂ）、及び（１ｃ）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも一種である、請求項１に記載のゴム組成物。
〔式中、Ｘ´は窒素含有複素環基、炭素数１～５のアルキル基、又はアリール基を示す。
Ｙ´は２価の窒素含有複素環基、炭素数１～１８のアルキレン基、又はアリーレン基を示す。
Ｘ´及びＹ´で示される各基は、さらに置換基を有していてもよい。
Ａ、Ｒ５、及びＲ６は前記に同じである。〕
項３．
前記式（１）においてＸで示される窒素含有複素環基及び式（１ａ）においてＸ´で示される窒素含有複素環基は、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、トリアゾリル基、キノリル基、イソキノリル基、及びベンゾイミダゾリル基からなる群より選択される少なくとも一種である、項１又は２に記載のゴム組成物。
項４．
前記式（１）においてＹで示されるアリーレン基及び式（１ｂ）におけるＹ´で示されるアリーレン基がフェニレン基又はナフチレン基であり、前記アリーレン基はさらに置換基を有していてもよい、項１～３の何れかに記載のゴム組成物。
項５．
前記成分（ｃ）が下記式（２ａ）で表される化合物である、項１～４の何れかに記載のゴム組成物。
〔式中、Ｚ´は炭素数６～２５のアルキル基であり、Ａ´は式（ia）又は（iia）であり、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は、各々水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を示す。〕
項６．
前記ゴム成分はジエン系ゴムである、項１～５の何れかに記載のゴム組成物。
項７．
さらに、成分（ｄ）シリカを含む、項１～６の何れかに記載のゴム組成物。
項８．
項１～７の何れかに記載のゴム組成物を用いて作製されたタイヤ。
項９．
下記成分（ｂ）及び（ｃ）を含むゴム用添加剤。
成分（ｂ）；下記式（１）で表される化合物
成分（ｃ）；下記式（２）で表される化合物
〔式中、Ａは下記式（i）又は（ii）で示される基を示す。
式（i）又は（ii）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、各々水素原子又は炭素数１～１８のアルキル基を示す。
Ｘは、窒素含有複素環基、炭素数１～５のアルキル基、アリール基、又は基－Ｙ－ＣＯ－ＮＨＡを示す。或いは、Ｘは、基－ＣＨＲ６－ＣＲ５＝Ｎ－を介してＡと結合することにより環を形成してもよい。これら各基及び環は、さらに置換基を有していてもよい。
Ｙは、２価の窒素含有複素環基、炭素数１～１８のアルキレン基、又はアリーレン基を示す。
Ｒ５は、水素原子、炭素数１～１８のアルキル基、又はアリール基を、
Ｒ６は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、ヒドラジド基、アミノ基、チオカルボキシル基、又はチオール基を示し、これら各基は更に置換基を有していてもよい。
Ｚは、炭素数６～４０のアルキル基を示し、該アルキル基はさらに置換基を有していてもよい。〕
項１．
下記成分（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）を含むゴム組成物。
成分（ａ）；ゴム成分
成分（ｂ）；下記式（１）で表される化合物
成分（ｃ）；下記式（２）で表される化合物
【化1】
式（i）又は（ii）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、各々水素原子又は炭素数１～１８のアルキル基を示す。
Ｘは、窒素含有複素環基、炭素数１～５のアルキル基、アリール基、又は基－Ｙ－ＣＯ－ＮＨＡを示す。或いは、Ｘは、基－ＣＨＲ６－ＣＲ５＝Ｎ－を介してＡと結合することにより環を形成してもよい。これら各基及び環は、さらに置換基を有していてもよい。
Ｙは、２価の窒素含有複素環基、炭素数１～１８のアルキレン基、又はアリーレン基を示す。
Ｒ５は、水素原子、炭素数１～１８のアルキル基、又はアリール基を、
Ｒ６は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、ヒドラジド基、アミノ基、チオカルボキシル基、又はチオール基を示し、これら各基は更に置換基を有していてもよい。
Ｚは、炭素数６～４０のアルキル基を示し、該アルキル基はさらに置換基を有していてもよい。〕
【化2】
前記式（１）で表される化合物は、下記式（1ａ）、（１ｂ）、及び（１ｃ）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも一種である、請求項１に記載のゴム組成物。
【化3】
Ｙ´は２価の窒素含有複素環基、炭素数１～１８のアルキレン基、又はアリーレン基を示す。
Ｘ´及びＹ´で示される各基は、さらに置換基を有していてもよい。
Ａ、Ｒ５、及びＲ６は前記に同じである。〕
項３．
前記式（１）においてＸで示される窒素含有複素環基及び式（１ａ）においてＸ´で示される窒素含有複素環基は、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、トリアゾリル基、キノリル基、イソキノリル基、及びベンゾイミダゾリル基からなる群より選択される少なくとも一種である、項１又は２に記載のゴム組成物。
項４．
前記式（１）においてＹで示されるアリーレン基及び式（１ｂ）におけるＹ´で示されるアリーレン基がフェニレン基又はナフチレン基であり、前記アリーレン基はさらに置換基を有していてもよい、項１～３の何れかに記載のゴム組成物。
項５．
前記成分（ｃ）が下記式（２ａ）で表される化合物である、項１～４の何れかに記載のゴム組成物。
【化4】
項６．
前記ゴム成分はジエン系ゴムである、項１～５の何れかに記載のゴム組成物。
項７．
さらに、成分（ｄ）シリカを含む、項１～６の何れかに記載のゴム組成物。
項８．
項１～７の何れかに記載のゴム組成物を用いて作製されたタイヤ。
項９．
下記成分（ｂ）及び（ｃ）を含むゴム用添加剤。
成分（ｂ）；下記式（１）で表される化合物
成分（ｃ）；下記式（２）で表される化合物
【化5】
式（i）又は（ii）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、各々水素原子又は炭素数１～１８のアルキル基を示す。
Ｘは、窒素含有複素環基、炭素数１～５のアルキル基、アリール基、又は基－Ｙ－ＣＯ－ＮＨＡを示す。或いは、Ｘは、基－ＣＨＲ６－ＣＲ５＝Ｎ－を介してＡと結合することにより環を形成してもよい。これら各基及び環は、さらに置換基を有していてもよい。
Ｙは、２価の窒素含有複素環基、炭素数１～１８のアルキレン基、又はアリーレン基を示す。
Ｒ５は、水素原子、炭素数１～１８のアルキル基、又はアリール基を、
Ｒ６は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、ヒドラジド基、アミノ基、チオカルボキシル基、又はチオール基を示し、これら各基は更に置換基を有していてもよい。
Ｚは、炭素数６～４０のアルキル基を示し、該アルキル基はさらに置換基を有していてもよい。〕
【化6】
【発明の効果】
【0009】
本発明のゴム組成物は、十分な低発熱性を有する一方で、優れた加工性を有する。
【発明を実施するための形態】
【0010】
（１．ゴム組成物）
本発明のゴム組成物は、下記成分（ａ）、（ｂ）、及び（ｃ）を含む。
成分（ａ）；ゴム成分
成分（ｂ）；下記式（１）で表される化合物
成分（ｃ）；下記式（２）で表される化合物
本発明のゴム組成物は、下記成分（ａ）、（ｂ）、及び（ｃ）を含む。
成分（ａ）；ゴム成分
成分（ｂ）；下記式（１）で表される化合物
成分（ｃ）；下記式（２）で表される化合物
【0011】
【化7】
式（i）又は（ii）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、各々水素原子又は炭素数１～１８のアルキル基を示す。
Ｘは、窒素含有複素環基、炭素数１～５のアルキル基、アリール基、又は基－Ｙ－ＣＯ－ＮＨＡを示す。或いは、Ｘは、基－ＣＨＲ６－ＣＲ５＝Ｎ－を介してＡと結合することにより環を形成してもよい。これら各基及び環は、さらに置換基を有していてもよい。
Ｙは、２価の窒素含有複素環基、炭素数１～１８のアルキレン基、又はアリーレン基を示す。
Ｒ５は、水素原子、炭素数１～１８のアルキル基、又はアリール基を、
Ｒ６は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、ヒドラジド基、アミノ基、チオカルボキシル基、又はチオール基を示し、これら各基は更に置換基を有していてもよい。
Ｚは、炭素数６～４０のアルキル基を示し、該アルキル基はさらに置換基を有していてもよい。〕
【0012】
【化8】
【0013】
（１．１．成分（ａ）；ゴム成分）
本発明のゴム組成物に含まれるゴム成分としては、特に制限はなく、ジエン系ゴム及び非ジエン系ゴムの双方を好適に使用することができる。ここで、ジエン系ゴムとしては、例えば、天然ゴム（ＮＲ）、合成ジエン系ゴム、並びに天然ゴム及び合成ジエン系ゴムの混合物等を挙げることができ、もちろんこれらに限定されない。
本発明のゴム組成物に含まれるゴム成分としては、特に制限はなく、ジエン系ゴム及び非ジエン系ゴムの双方を好適に使用することができる。ここで、ジエン系ゴムとしては、例えば、天然ゴム（ＮＲ）、合成ジエン系ゴム、並びに天然ゴム及び合成ジエン系ゴムの混合物等を挙げることができ、もちろんこれらに限定されない。
【0014】
天然ゴムとしては、天然ゴムラテックス、技術的格付けゴム（ＴＳＲ）、スモークドシート（ＲＳＳ）、ガタパーチャ、杜仲由来天然ゴム、グアユール由来天然ゴム、ロシアンタンポポ由来天然ゴムなどの天然ゴムに加えて、エポキシ化天然ゴム、メタクリル酸変性天然ゴム、スチレン変性天然ゴムなどの変性天然ゴム等が挙げられる。
【0015】
合成ジエン系ゴムとしては、スチレン－ブタジエン共重合体ゴム（ＳＢＲ）、ブタジエンゴム（ＢＲ）、イソプレンゴム（ＩＲ）、ニトリルゴム（ＮＢＲ）、クロロプレンゴム（ＣＲ）、エチレン－プロピレン－ジエン三元共重合体ゴム（ＥＰＤＭ）、スチレン－イソプレン－スチレン三元ブロック共重合体（ＳＩＳ）、スチレン－ブタジエン－スチレン三元ブロック共重合体（ＳＢＳ）等、及びこれらの変性合成ジエン系ゴムが挙げられる。変性合成ジエン系ゴムとしては、主鎖変性、片末端変性、両末端変性などの変性手法によるジエン系ゴムが挙げられる。ここで、変性合成ジエン系ゴムの変性官能基としては、エポキシ基、アミノ基、アルコキシ基、水酸基などのヘテロ原子を含有する官能基を１種類以上含むものが挙げられる。また、ジエン部分のシス/トランス/ビニルの比率については、特に制限はなく、いずれの比率においても好適に用いることができる。また、ジエン系ゴムの平均分子量および分子量分布は、特に制限はなく、平均分子量５００～３００万が好適に用いることができる。また、合成ジエン系ゴムの製造方法についても、特に制限はなく、乳化重合、溶液重合、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合などで合成されたものが挙げられる。
【0016】
非ジエン系ゴムとしては、公知のものを広く使用することができる。
【0017】
ゴム成分は、ジエン系ゴムを含んでいることが好ましく、ゴム成分１００質量部中、ジエン系ゴムが５０質量部以上含まれることが好ましく、７５質量部以上含まれることがより好ましく、８０～１００質量部含まれていることが特に好ましい。
【0018】
また、ジエン系ゴムのガラス転移点については、－７０℃から－２０℃の範囲のものが耐摩耗性と制動特性の両立の観点から有効である。本発明のゴム組成物は、ジエン系ゴム中の５０質量％以上が、ガラス転移点が－７０℃から－２０℃の範囲にあるジエン系ゴムであることが好ましい。
【0019】
ゴム成分は、１種単独で、又は２種以上を混合（ブレンド）して用いることができる。中でも、好ましいゴム成分としては、天然ゴム、ＩＲ、ＳＢＲ、ＢＲ又はこれらから選ばれる２種以上の混合物であり、より好ましくは天然ゴム、ＳＢＲ、ＢＲ又はこれらから選ばれる２種以上の混合物である。また、これらのブレンド比率は、特に制限はないが、ゴム成分１００質量部中に、天然ゴム、ＳＢＲ、ＢＲ又はこれらの混合物を５０～１００質量部の比率で配合することが好ましく、７５～１００質量部で配合することがより好ましい。ＳＢＲ及びＢＲの混合物を配合する場合には、ＳＢＲ及びＢＲの合計量が上記範囲であることが好ましい。また、このときのＳＢＲは５０～１００質量部であり、ＢＲが０～５０質量部の範囲であることが好ましい。
【0020】
（１．２．成分（ｂ）；式（１）で表される化合物）
成分（ｂ）は、下記式（１）で表される化合物である。
成分（ｂ）は、下記式（１）で表される化合物である。
【0021】
【化9】
式（i）又は（ii）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、各々水素原子又は炭素数１～１８のアルキル基を示す。
Ｘは、窒素含有複素環基、炭素数１～５のアルキル基、アリール基、又は基－Ｙ－ＣＯ－ＮＨＡを示す。或いは、Ｘは、基－ＣＨＲ６－ＣＲ５＝Ｎ－を介してＡと結合することにより環を形成してもよい。これら各基及び環は、さらに置換基を有していてもよい。
Ｙは、２価の窒素含有複素環基、炭素数１～１８のアルキレン基、又はアリーレン基を示す。
Ｒ５は、水素原子、炭素数１～１８のアルキル基、又はアリール基を、
Ｒ６は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、ヒドラジド基、アミノ基、チオカルボキシル基、又はチオール基を示し、これら各基は更に置換基を有していてもよい。〕
【0022】
【化10】
【0023】
式（１）において、Ａで示される基は式（i）又は（ii）で示される基を示す。式（i）又は（ii）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、各々水素原子又は炭素数１～１８のアルキル基を示す。
【0024】
かかる「炭素数１～１８のアルキル基」としては、特に限定はなく、例えば、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｓ－ブチル、ｔ－ブチル等の炭素数１～４の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基、更に、１－エチルプロピル、ｎ－ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｎ－ヘキシル、イソヘキシル、３－メチルペンチル、ｎ－ヘプチル、ｎ－オクチル、ｎ－ノニル、ｎ－デシル、ｎ－ウンデシル、ｎ－ドデシル、５－プロピルノニル、ｎ－トリデシル、ｎ－テトラデシル、ｎ－ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル等を加えた炭素数５～１８の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル等の炭素数３～８の環状アルキル基等が挙げられる。
【0025】
中でも、Ａで示される基としては、Ｒ１及びＲ２が水素原子、又は炭素数１～６のアルキル基、Ｒ３及びＲ４が水素原子、又は炭素数１～１８のアルキル基が好ましく、Ｒ１及びＲ２が水素原子、Ｒ３及びＲ４が炭素数１～１２のアルキル基が更に好ましく、Ｒ１及びＲ２が水素原子、Ｒ３及びＲ４が炭素数１～６のアルキル基が特に好ましい。
【0026】
上記式（１）で表される化合物は、下記式（１ａ）、（１ｂ）、及び（１ｃ）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも一種であることが好ましい。
【0027】
【化11】
Ｙ´は２価の窒素含有複素環基、炭素数１～１８のアルキレン基、又はアリーレン基を示す。
Ｘ´及びＹ´で示される各基は、さらに置換基を有していてもよい。
Ａ、Ｒ５、及びＲ６は前記に同じである。〕
【0028】
次に、式（１ａ）で表される化合物について説明する。
【0029】
【化12】
【0030】
【化13】
【0031】
式（１ａ）におけるＸ´において、「窒素含有複素環基」は特に限定はなく、例えば、２－ピリジル、３－ピリジル、４－ピリジル、２－ピラジニル、２－ピリミジル、４－ピリミジル、５－ピリミジル、３－ピリダジル、４－ピリダジル、４－(１，２，３－トリアジル)、５－(１，２，３－トリアジル)、２－(１，３，５－トリアジル)、３－(１，２，４－トリアジル)、５－(１，２，４－トリアジル)、６－(１，２，４－トリアジル)、２－キノリル、３－キノリル、４－キノリル、５－キノリル、６－キノリル、７－キノリル、８－キノリル、１－イソキノリル、３－イソキノリル、４－イソキノリル、５－イソキノリル、６－イソキノリル、７－イソキノリル、８－イソキノリル、２－キノキサリル、３－キノキサリル、５－キノキサリル、６－キノキサリル、７－キノキサリル、８－キノキサリル、３－シンノリル、４－シンノリル、５－シンノリル、６－シンノリル、７－シンノリル、８－シンノリル、２－キナゾリル、４－キナゾリル、５－キナゾリル、６－キナゾリル、７－キナゾリル、８－キナゾリル、１－テトラヒドロキノリル、２－テトラヒドロキノリル、３－テトラヒドロキノリル、４－テトラヒドロキノリル、５－テトラヒドロキノリル、６－テトラヒドロキノリル、７－テトラヒドロキノリル、８－テトラヒドロキノリル、１－ピロリル、２－ピロリル、３－ピロリル、１－イミダゾリル、２－イミダゾリル、４－イミダゾリル、５－イミダゾリル、１－ピラゾリル、３－ピラゾリル、４－ピラゾリル、５－ピラゾリル、１－(１，２，３－トリアゾリル)、４－(１，２，３－トリアゾリル)、５－(１，２，３－トリアゾリル)、１－(１，２，４－トリアゾリル)、３－(１，２，４－トリアゾリル)、５－(１，２，４－トリアゾリル)、１－テトラゾリル、５－テトラゾリル、１－インドリル、２－インドリル、３－インドリル、４－インドリル、５－インドリル、６－インドリル、７－インドリル、１－イソインドリル、２－イソインドリル、３－イソインドリル、４－イソインドリル、５－イソインドリル、６－イソインドリル、７－イソインドリル、１－ベンゾイミダゾリル、２－ベンゾイミダゾリル、４－ベンゾイミダゾリル、５－ベンゾイミダゾリル、６－ベンゾイミダゾリル、７－ベンゾイミダゾリル、１－インダゾリル、３－インダゾリル、４－インダゾリル、５－インダゾリル、６－インダゾリル、７－インダゾリル、１－ピペラジル、２－ピペラジル、１－ピペリジル、２－ピペリジル、３－ピペリジル、４－ピペリジル、１－ピロリジル、２－ピロリジル、３－ピロリジル等が挙げられる。これらの中でも、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、トリアゾリル基、キノリル基、イソキノリル基、又はベンゾイミダゾリル基であることが好ましい。
【0032】
上記式（１ａ）中のＸ´において、「炭素数１～５のアルキル基」は、特に限定はなく、例えば、直鎖状、分岐鎖状又は環状の炭素数１～５のアルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｓ－ブチル、ｔ－ブチル、１－エチルプロピル、ｎ－ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル等が挙げられる。これらの中でも、炭素数１～３のアルキル基が好ましい。
【0033】
上記式（１ａ）中のＸ´において、「アリール基」は、特に限定はなく、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。これらの中でも、フェニル基であることが好ましい。
【0034】
Ｘ´は、さらに置換基を有していてもよい。かかる置換基としては特に限定はなく、例えばアミノ基、水酸基、チオール基、アルキル基、チオアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、複素環基、及びニトロ基を例示することができる。
【0035】
Ｘ´がさらに有する置換基としての「アミノ基」は、－ＮＨ２で表されるアミノ基だけでなく、例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、ｎ－プロピルアミノ、イソプロピルアミノ、ｎ－ブチルアミノ、イソブチルアミノ、ｓ－ブチルアミノ、ｔ－ブチルアミノ、１－エチルプロピルアミノ、ｎ－ペンチルアミノ、ネオペンチルアミノ、ｎ－ヘキシルアミノ、イソヘキシルアミノ、３－メチルペンチルアミノ基等の炭素数１～６の直鎖状又は分岐鎖状のモノアルキルアミノ基；ジメチルアミノ、エチルメチルアミノ、ジエチルアミノ基等の炭素数１～６の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基を２つ有するジアルキルアミノ基等の置換アミノ基も含まれるものと定義される。
【0036】
Ｘ´がさらに有する置換基としての「アルキル基」は、特に限定はなく、例えば、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｓ－ブチル、ｔ－ブチル等の炭素数１～４の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基、更に、１－エチルプロピル、ｎ－ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｎ－ヘキシル、イソヘキシル、３－メチルペンチル、ｎ－ヘプチル、ｎ－オクチル、ｎ－ノニル、ｎ－デシル、ｎ－ウンデシル、ｎ－ドデシル、５－プロピルノニル、ｎ－トリデシル、ｎ－テトラデシル、ｎ－ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル等を加えた炭素数５～１８の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル等の炭素数３～８の環状アルキル基等が挙げられる。
【0037】
Ｘ´がさらに有する置換基としての「チオアルキル基」は、特に限定はなく、例えば、直鎖状、又は分岐鎖状のチオアルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ－プロピオチオ基、イソプロピオチオ基、ｎ－ブチルチオ基、イソブチルチオ基、ｔ－ブチルチオ基、１－エチルプロピルチオ基、ｎ－ペンチルチオ基、イソペンチルチオ基、ネオペンチルチオ基、ｎ－ヘキシルチオ基、イソヘキシルチオ基、３－メチルペンチルチオ基、ｎ－ヘプチルチオ基、ｎ－オクチルチオ基、ｎ－ノニルチオ基、ｎ－デシルチオ基、ｎ－ウンデシルチオ基、ｎ－ドデシルチオ基、５－プロピルノニルチオ基、ｎ－トリデシルチオ基、ｎ－テトラデシルチオ基、ｎ－ペンタデシルチオ基、ヘキサデシルチオ基、ヘプタデシルチオ基、オクタデシルチオ基等が挙げられる。
【0038】
Ｘ´がさらに有する置換基としての「アルコキシ基」は、特に限定はなく、例えば、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ－プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ－ブトキシ、ｔ－ブトキシ、ｎ－ペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ｎ－ヘキシルオキシ基の直鎖状又は分岐鎖状のアルコキシ基；シクロプロピルオキシ、シクロブチルオキシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ、シクロヘプチルオキシ、シクロオクチルオキシ基等の環状アルコキシ基等が挙げられる。
【0039】
Ｘ´がさらに有する置換基としての「ハロゲン原子」は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。
【0040】
Ｘ´がさらに有する置換基としての「複素環基」は、特に限定はなく、例えば、２－ピリジル、３－ピリジル、４－ピリジル、２－ピラジニル、２－ピリミジル、４－ピリミジル、５－ピリミジル、３－ピリダジル、４－ピリダジル、４－(１，２，３－トリアジル)、５－(１，２，３－トリアジル)、２－(１，３，５－トリアジル)、３－(１，２，４－トリアジル)、５－(１，２，４－トリアジル)、６－(１，２，４－トリアジル)、２－キノリル、３－キノリル、４－キノリル、５－キノリル、６－キノリル、７－キノリル、８－キノリル、１－イソキノリル、３－イソキノリル、４－イソキノリル、５－イソキノリル、６－イソキノリル、７－イソキノリル、８－イソキノリル、２－キノキサリル、３－キノキサリル、５－キノキサリル、６－キノキサリル、７－キノキサリル、８－キノキサリル、３－シンノリル、４－シンノリル、５－シンノリル、６－シンノリル、７－シンノリル、８－シンノリル、２－キナゾリル、４－キナゾリル、５－キナゾリル、６－キナゾリル、７－キナゾリル、８－キナゾリル、１－フタラジル、４－フタラジル、５－フタラジル、６－フタラジル、７－フタラジル、８－フタラジル、１－テトラヒドロキノリル、２－テトラヒドロキノリル、３－テトラヒドロキノリル、４－テトラヒドロキノリル、５－テトラヒドロキノリル、６－テトラヒドロキノリル、７－テトラヒドロキノリル、８－テトラヒドロキノリル、１－ピロリル、２－ピロリル、３－ピロリル、２－フリル、３－フリル、２－チエニル、３－チエニル、１－イミダゾリル、２－イミダゾリル、４－イミダゾリル、５－イミダゾリル、１－ピラゾリル、３－ピラゾリル、４－ピラゾリル、５－ピラゾリル、２－オキサゾリル、４－オキサゾリル、５－オキサゾリル、２－チアゾリル、４－チアゾリル、５－チアゾリル、３－イソオキサゾリル、４－イソオキサゾリル、５－イソオキサゾリル、３－イソチアゾリル、４－イソチアゾリル、５－イソチアゾリル、４－(１，２，３－チアジアゾリル)、５－(１，２，３－チアジアゾリル)、３－(１，２，５－チアジアゾリル)、２－(１，３，４－チアジアゾリル)、４－(１，２，３－オキサジアゾリル)、５－(１，２，３－オキサジアゾリル)、３－(１，２，４－オキサジアゾリル)、５－(１，２，４－オキサジアゾリル)、３－(１，２，５－オキサジアゾリル)、２－(１，３，４－オキサジアゾリル)、１－(１，２，３－トリアゾリル)、４－(１，２，３－トリアゾリル)、５－(１，２，３－トリアゾリル)、１－(１，２，４－トリアゾリル)、３－(１，２，４－トリアゾリル)、５－(１，２，４－トリアゾリル)、１－テトラゾリル、５－テトラゾリル、１－インドリル、２－インドリル、３－インドリル、４－インドリル、５－インドリル、６－インドリル、７－インドリル、１－イソインドリル、２－イソインドリル、３－イソインドリル、４－イソインドリル、５－イソインドリル、６－イソインドリル、７－イソインドリル、１－ベンゾイミダゾリル、２－ベンゾイミダゾリル、４－ベンゾイミダゾリル、５－ベンゾイミダゾリル、６－ベンゾイミダゾリル、７－ベンゾイミダゾリル、２－ベンゾフラニル、３－ベンゾフラニル、４－ベンゾフラニル、５－ベンゾフラニル、６－ベンゾフラニル、７－ベンゾフラニル、１－イソベンゾフラニル、３－イソベンゾフラニル、４－イソベンゾフラニル、５－イソベンゾフラニル、６－イソベンゾフラニル、７－イソベンゾフニル、２－ベンゾチエニル、３－ベンゾチエニル、４－ベンゾチエニル、５－ベンゾチエニル、６－ベンゾチエニル、７－ベンゾチエニル、２－ベンゾオキサゾリル、４－ベンゾオキサゾリル、５－ベンゾオキサゾリル、６－ベンゾオキサゾリル、７－ベンゾオキサゾリル、２－ベンゾチアゾリル、４－ベンゾチアゾリル、５－ベンゾチアゾリル、６－ベンゾチアゾリル、７－ベンゾチアゾリル、１－インダゾリル、３－インダゾリル、４－インダゾリル、５－インダゾリル、６－インダゾリル、７－インダゾリル、２－モルホリル、３－モルホリル、４－モルホリル、１－ピペラジル、２－ピペラジル、１－ピペリジル、２－ピペリジル、３－ピペリジル、４－ピペリジル、２－テトラヒドロピラニル、３－テトラヒドロピラニル、４－テトラヒドロピラニル、２－テトラヒドロチオピラニル、３－テトラヒドロチオピラニル、４－テトラヒドロチオピラニル、１－ピロリジル、２－ピロリジル、３－ピロリジル、フラニル、２－テトラヒドロフラニル、３－テトラヒドロフラニル、２－テトラヒドロチエニル、３－テトラヒドロチエニル、５－メチル－３－オキソ－２，３－ジヒドロ－１Ｈ－ピラゾール－４－イル基等が挙げられる。
【0041】
式（１ａ）で表される化合物の中でも、Ｘ´が窒素含有複素環基、炭素数１～３のアルキル基であり、かつ、ＡのＲ１及びＲ２が水素原子、Ｒ３及びＲ４が炭素数１～１８のアルキル基であることが好ましく、Ｘ’がピリジル基、トリアゾリル基、ピラジル基、イソキノリル基、ピリミジル基、ピリダジル基、ベンゾイミダゾリル基、炭素数１～３のアルキル基であり、かつ、ＡのＲ１及びＲ２が水素原子、Ｒ３及びＲ４が炭素数１～１２のアルキル基であることが更に好ましく、Ｘ´がピリジル基、トリアゾリル基であり、かつ、ＡのＲ１及びＲ２が水素原子、Ｒ３及びＲ４が炭素数１～６のアルキル基であることが特に好ましい。
【0042】
式（１ａ）で表される化合物として、より具体的には、ピリジン－２－カルボヒドラジド、ピリジン－３－カルボヒドラジド、４Ｈ－１，２，４－トリアゾール－３－カルボヒドラジド、ピラジン－２－カルボヒドラジド、イソキノリン－１－カルボヒドラジド、ピリミジン－２－カルボヒドラジド、ピリダジン－３－カルボヒドラジド、ピリダジン－４－カルボヒドラジド、２－（１Ｈ－ベンゾ［ｄ］イミダゾール－１－イル）アセトヒドラジド、２－アミノ－４－（メチルスルファニル）ブタンヒドラジド、２－アミノ－３－（ドデシルスルファニル）プロパンヒドラジド、Ｎ’－（４－メチルペンタン－２－イリデン）ピリジン－２－カルボヒドラジド、Ｎ’－（プロパン－２－イリデン）ピリジン－２－カルボヒドラジド、及びＮ’－（トリデカン－２－イリデン）ピリジン－２－カルボヒドラジドを例示することができる。中でも、ピリジン－２－カルボヒドラジド、ピリジン－３－カルボヒドラジド、４Ｈ－１，２，４－トリアゾール－３－カルボヒドラジド、Ｎ’－（４－メチルペンタン－２－イリデン）ピリジン－２－カルボヒドラジド、Ｎ’－（トリデカン－２－イリデン）ピリジン－２－カルボヒドラジドが好ましい。
【0043】
式（１ｂ）におけるＹ´は、２価の窒素含有複素環基、炭素数１～１８のアルキレン基、又はアリーレン基を示す。
【0044】
【化14】
【0045】
【化15】
【0046】
Ｙ´が２価の窒素含有複素環基である場合、これら各基は具体的には、ピリジレン基、ピリミジレン基、ピラジニレン基、ピリダジニレン基又はトリアジレン基であることが好ましい。
【0047】
Ｙ´がアルキレン基である場合、具体的には直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキレン基が挙げられ、具体的には、例えば、メチレン、エチレン、ｎ－プロピレン、イソプロピレン、ｎ－ブチレン、イソブチレン、ｓ－ブチレン、ｔ－ブチレン、１－エチルプロピレン、ｎ－ペンチレン、イソペンチレン、ネオペンチレン、ｎ－ヘキシレン、イソヘキシレン、３－メチルペンチレン、ｎ－ヘプチレン、ｎ－オクチレン、ｎ－ノニレン、ｎ－デシレン、ｎ－ウンデシレン、ｎ－ドデシレン、５－プロピルノニレン、ｎ－トリデシレン、ｎ－テトラデシレン、ｎ－ペンタデシレン、ヘキサデシレン、ヘプタデシレン、オクタデシレン、シクロプロピレン、シクロブチレン、シクロペンチレン、シクロヘキシレン、シクロヘプチレン、シクロオクチレン等が挙げられる。
【0048】
Ｙ´がアリーレン基である場合、具体的には、フェニレン基又はナフチレン基であることが好ましく、フェニレン基であることが特に好ましい。
【0049】
Ｙ´はさらに置換基を有していてもよい。かかる置換基としては、Ｘ´に同じである。
【0050】
式（１ｂ）で表される化合物におけるＡで示される基は、式（i）で示される基であることが好ましく、中でもＲ１及びＲ２が水素原子であることが特に好ましい。
【0051】
上記式（１ｂ）で表される化合物の中でも、Ｙ´が２価の窒素含有複素環基、炭素数１～１８のアルキレン基、又はアリーレン基であり、かつ、ＡのＲ１及びＲ２が水素原子、Ｒ３及びＲ４が炭素数１～１８のアルキル基であることが好ましくＹ´がピリジレン基、炭素数１～１８のアルキレン基、フェニレン基、ナフチレン基であり、かつ、ＡのＲ１及びＲ２が水素原子、Ｒ３及びＲ４が炭素数１～１２のアルキル基であることが更に好ましく、Ｙ´がピリジレン基、フェニレン基であり、かつ、Ａが式（i）で示される基で、Ｒ１及びＲ２が水素原子であることが特に好ましい。
【0052】
上記式（１ｂ）で表される化合物は、より具体的には、ピリジン－３，５－ジカルボヒドラジド、ピリジン－２，６－ジカルボヒドラジド、ピリジン－２，４－ジカルボヒドラジド、ピリジン－２，５－ジカルボヒドラジド、ベンゼン－１，３－ジカルボヒドラジド等が挙げられ、中でも、ピリジン－３，５－ジカルボヒドラジド、ベンゼン－１，３－ジカルボヒドラジドが好ましい。
【0053】
次に、式（１ｃ）で表される化合物について説明する。
【0054】
【化16】
Ｒ６は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、ヒドラジド基、アミノ基、チオカルボキシル基、又はチオール基を示し、これら各基は更に置換基を有していてもよい。〕
【0055】
上記式（１ｃ）中のＲ５において、「炭素数１～１８のアルキル基」は、特に限定はなく、例えば、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｓ－ブチル、ｔ－ブチル、１－エチルプロピル、ｎ－ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｎ－ヘキシル、イソヘキシル、３－メチルペンチル、ｎ－ヘプチル、ｎ－オクチル、ｎ－ノニル、ｎ－デシル、ｎ－ウンデシル、ｎ－ドデシル、５－プロピルノニル、ｎ－トリデシル、ｎ－テトラデシル、ｎ－ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル等が挙げられる。中でも、Ｒ５は、メチル、エチル、ｎ－プロピル、ｎ－ブチルであることが好ましく、メチルであることがより好ましい。
【0056】
上記式（１ｃ）中のＲ５において、「アリール基」は、特に限定はなく、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
【0057】
上記式（１ｃ）中のＲ６において、「ハロゲン原子」は、特に限定はなく、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。
【0058】
上記式（１ｃ）中のＲ６において、「アルキル基」は、特に限定はなく、例えば、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｓ－ブチル、ｔ－ブチル等の炭素数１～４の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基、更に、１－エチルプロピル、ｎ－ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｎ－ヘキシル、イソヘキシル、３－メチルペンチル、ｎ－ヘプチル、ｎ－オクチル、ｎ－ノニル、ｎ－デシル、ｎ－ウンデシル、ｎ－ドデシル、５－プロピルノニル、ｎ－トリデシル、ｎ－テトラデシル、ｎ－ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル等を加えた炭素数５～１８の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル等の炭素数３～８の環状アルキル基等が挙げられる。
【0059】
上記式（１ｃ）中のＲ６において、「アルケニル基」は、特に限定はなく、例えば、ビニル基、アリル基等が挙げられる。
【0060】
上記式（１ｃ）中のＲ６において、「アミノ基」は、－ＮＨ２で表されるアミノ基だけでなく、例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、ｎ－プロピルアミノ、イソプロピルアミノ、ｎ－ブチルアミノ、イソブチルアミノ、ｓ－ブチルアミノ、ｔ－ブチルアミノ、１－エチルプロピルアミノ、ｎ－ペンチルアミノ、ネオペンチルアミノ、ｎ－ヘキシルアミノ、イソヘキシルアミノ、３－メチルペンチルアミノ基等の炭素数１～６の直鎖状又は分岐鎖状のモノアルキルアミノ基；ジメチルアミノ、エチルメチルアミノ、ジエチルアミノ基等の炭素数１～６の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基を２つ有するジアルキルアミノ基等の置換アミノ基も含まれるものと定義される。
【0061】
上記式（１ｃ）中のＲ６において、水素原子、ヒドラジド基、チオール基であることが好ましく、水素原子であることがさらに好ましい。
【0062】
Ｒ６はさらに置換基を有していてもよい。かかる置換基としては、Ｘ´に同じである。
【0063】
式（１ｃ）で表される化合物として、より具体的には、３－メチル－５－ピラゾロン、３－フェニル－５－ピラゾロン、及び２－（３－メチル－５－オキソ－４，５－ジヒドロ－１Ｈ－ピラゾール－４－イル）アセトヒドラジドを挙げることができる。中でも、３－メチル－５－ピラゾロンが好ましい。
【0064】
本発明のゴム組成物において、式（１）で表される化合物は、上記した化合物の中から選ばれる一種のみを単独で含んでいてもよいし、二種以上を混合して含んでいてもよい。
【0065】
式（１）で表される化合物の配合割合は、成分（ａ）のゴム成分１００質量部に対して０．０１～３０質量部とすることが好ましく、０．０５～５質量部とすることがより好ましい。当該割合で配合することにより、低発熱性の向上効果を、効果的に得ることができる。
【0066】
（１．３．成分（ｃ）；式（２）で表される化合物）
成分（ｃ）は、下記式（２）で表される化合物である。
成分（ｃ）は、下記式（２）で表される化合物である。
【0067】
【化17】
式（i）又は（ii）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、各々水素原子又は炭素数１～１８のアルキル基を示す。
Ｚは、炭素数６～４０のアルキル基を示し、該アルキル基はさらに置換基を有していてもよい。〕
【化18】
【0068】
上記式（２）中のＺは、炭素数が６以上であればよく、例えば、炭素数６～４０のアルキル基を示し、さらに置換基を有していてもよい。かかるアルキル基の炭素数としては、８～３５が好ましく、１０～３０がより好ましく、１２～２５がさらに好ましい。炭素数４０よりも大きい場合であっても期待する程度の効果の上昇は得られない。
【0069】
さらに、Ｚを構成するアルキル基は置換基を有していてもよく、該置換基としては、アミノ基、水酸基、チオール基、アルキル基、チオアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、複素環基、及びニトロ基からなる群より選択される少なくとも一種を挙げることができる。
【0070】
上記式（２）中のＺにおいて、「炭素数６～４０のアルキル基」は、特に限定はなく、例えば、直鎖状、分岐鎖状又は環状の炭素数６～４０のアルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、ｎ－ヘキシル、イソヘキシル、３－メチルペンチル、シクロペンチルメチル、ｎ－ヘプチル、イソヘプチル、ネオペンチル、２－エチルペンチル、ｎ－オクチル、イソオクチル、ネオオクチル、シクロオクチル、ｎ－ノニル、イソノニル、ネオノニル、ｎ－デシル、ｎ－ウンデシル、ｎ－ドデシル、ｎ－トリデシル、ｎ－テトラデシル、ｎ－ペンタデシル、ｎ－ヘキサデシル、２-ヘキシルノニル、ｎ－ヘプタデシル、ｎ－オクタデシル、ｎ－ノナデシル、イコシル、エイコシル、ヘンエイコシル、ドコシル、トリコシル、テトラコシル、ペンタコシル、ヘキサコシル、ヘプタコシル、オクタコシル、ノナコシル、トリアコンチル、ヘントリアコンチル、ドトリアコンチル、トリトリアコンチル、テトラトリアコンチル、ペンタトリアコンチル、ヘキサトリアコンチル、テトラコンチル、２-ヘキサデシルヘプタデシル等が挙げられる。
【0071】
上記式（２）中のＺの有する置換基の「アミノ基」としては、－ＮＨ２で表されるアミノ基だけでなく、例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、ｎ－プロピルアミノ、イソプロピルアミノ、ｎ－ブチルアミノ、イソブチルアミノ、ｓ－ブチルアミノ、ｔ－ブチルアミノ、１－エチルプロピルアミノ、ｎ－ペンチルアミノ、ネオペンチルアミノ、ｎ－ヘキシルアミノ、イソヘキシルアミノ、３－メチルペンチルアミノ基等の炭素数１～６の直鎖状又は分岐鎖状のモノアルキルアミノ基；ジメチルアミノ、エチルメチルアミノ、ジエチルアミノ基等の炭素数１～６の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基を２つ有するジアルキルアミノ基等の置換アミノ基も含まれるものと定義される。
【0072】
上記式（２）中のＺの有する置換基の「アルキル基」としては、特に限定はなく、例えば、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｓ－ブチル、ｔ－ブチル等の炭素数１～４の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基、更に、１－エチルプロピル、ｎ－ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｎ－ヘキシル、イソヘキシル、３－メチルペンチル、ｎ－ヘプチル、ｎ－オクチル、ｎ－ノニル、ｎ－デシル、ｎ－ウンデシル、ｎ－ドデシル、５－プロピルノニル、ｎ－トリデシル、ｎ－テトラデシル、ｎ－ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル等を加えた炭素数５～１８の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル等の炭素数３～８の環状アルキル基等が挙げられる。
【0073】
上記式（２）中のＺの有する置換基の「チオアルキル基」としては、特に限定はなく、例えば、直鎖状、又は分岐鎖状のチオアルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ－プロピオチオ基、イソプロピオチオ基、ｎ－ブチルチオ基、イソブチルチオ基、ｔ－ブチルチオ基、１－エチルプロピルチオ基、ｎ－ペンチルチオ基、イソペンチルチオ基、ネオペンチルチオ基、ｎ－ヘキシルチオ基、イソヘキシルチオ基、３－メチルペンチルチオ基、ｎ－ヘプチルチオ基、ｎ－オクチルチオ基、ｎ－ノニルチオ基、ｎ－デシルチオ基、ｎ－ウンデシルチオ基、ｎ－ドデシルチオ基、５－プロピルノニルチオ基、ｎ－トリデシルチオ基、ｎ－テトラデシルチオ基、ｎ－ペンタデシルチオ基、ヘキサデシルチオ基、ヘプタデシルチオ基、オクタデシルチオ基等が挙げられる。
【0074】
上記式（２）中のＺの有する置換基の「アルコキシ基」としては、特に限定はなく、例えば、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ－プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ－ブトキシ、ｔ－ブトキシ、ｎ－ペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ｎ－ヘキシルオキシ基の直鎖状又は分岐鎖状のアルコキシ基；シクロプロピルオキシ、シクロブチルオキシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ、シクロヘプチルオキシ、シクロオクチルオキシ基等の環状アルコキシ基等が挙げられる。
【0075】
同様に、上記式（２）中のＺにおいて、「ハロゲン原子」は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。
【0076】
同様に、上記式（２）中のＺの有する置換基の「複素環基」としては、特に限定はなく、例えば、２－ピリジル、３－ピリジル、４－ピリジル、２－ピラジニル、２－ピリミジル、４－ピリミジル、５－ピリミジル、３－ピリダジル、４－ピリダジル、４－(１，２，３－トリアジル)、５－(１，２，３－トリアジル)、２－(１，３，５－トリアジル)、３－(１，２，４－トリアジル)、５－(１，２，４－トリアジル)、６－(１，２，４－トリアジル)、２－キノリル、３－キノリル、４－キノリル、５－キノリル、６－キノリル、７－キノリル、８－キノリル、１－イソキノリル、３－イソキノリル、４－イソキノリル、５－イソキノリル、６－イソキノリル、７－イソキノリル、８－イソキノリル、２－キノキサリル、３－キノキサリル、５－キノキサリル、６－キノキサリル、７－キノキサリル、８－キノキサリル、３－シンノリル、４－シンノリル、５－シンノリル、６－シンノリル、７－シンノリル、８－シンノリル、２－キナゾリル、４－キナゾリル、５－キナゾリル、６－キナゾリル、７－キナゾリル、８－キナゾリル、１－フタラジル、４－フタラジル、５－フタラジル、６－フタラジル、７－フタラジル、８－フタラジル、１－テトラヒドロキノリル、２－テトラヒドロキノリル、３－テトラヒドロキノリル、４－テトラヒドロキノリル、５－テトラヒドロキノリル、６－テトラヒドロキノリル、７－テトラヒドロキノリル、８－テトラヒドロキノリル、１－ピロリル、２－ピロリル、３－ピロリル、２－フリル、３－フリル、２－チエニル、３－チエニル、１－イミダゾリル、２－イミダゾリル、４－イミダゾリル、５－イミダゾリル、１－ピラゾリル、３－ピラゾリル、４－ピラゾリル、５－ピラゾリル、２－オキサゾリル、４－オキサゾリル、５－オキサゾリル、２－チアゾリル、４－チアゾリル、５－チアゾリル、３－イソオキサゾリル、４－イソオキサゾリル、５－イソオキサゾリル、３－イソチアゾリル、４－イソチアゾリル、５－イソチアゾリル、４－(１，２，３－チアジアゾリル)、５－(１，２，３－チアジアゾリル)、３－(１，２，５－チアジアゾリル)、２－(１，３，４－チアジアゾリル)、４－(１，２，３－オキサジアゾリル)、５－(１，２，３－オキサジアゾリル)、３－(１，２，４－オキサジアゾリル)、５－(１，２，４－オキサジアゾリル)、３－(１，２，５－オキサジアゾリル)、２－(１，３，４－オキサジアゾリル)、１－(１，２，３－トリアゾリル)、４－(１，２，３－トリアゾリル)、５－(１，２，３－トリアゾリル)、１－(１，２，４－トリアゾリル)、３－(１，２，４－トリアゾリル)、５－(１，２，４－トリアゾリル)、１－テトラゾリル、５－テトラゾリル、１－インドリル、２－インドリル、３－インドリル、４－インドリル、５－インドリル、６－インドリル、７－インドリル、１－イソインドリル、２－イソインドリル、３－イソインドリル、４－イソインドリル、５－イソインドリル、６－イソインドリル、７－イソインドリル、１－ベンゾイミダゾリル、２－ベンゾイミダゾリル、４－ベンゾイミダゾリル、５－ベンゾイミダゾリル、６－ベンゾイミダゾリル、７－ベンゾイミダゾリル、２－ベンゾフラニル、３－ベンゾフラニル、４－ベンゾフラニル、５－ベンゾフラニル、６－ベンゾフラニル、７－ベンゾフラニル、１－イソベンゾフラニル、３－イソベンゾフラニル、４－イソベンゾフラニル、５－イソベンゾフラニル、６－イソベンゾフラニル、７－イソベンゾフニル、２－ベンゾチエニル、３－ベンゾチエニル、４－ベンゾチエニル、５－ベンゾチエニル、６－ベンゾチエニル、７－ベンゾチエニル、２－ベンゾオキサゾリル、４－ベンゾオキサゾリル、５－ベンゾオキサゾリル、６－ベンゾオキサゾリル、７－ベンゾオキサゾリル、２－ベンゾチアゾリル、４－ベンゾチアゾリル、５－ベンゾチアゾリル、６－ベンゾチアゾリル、７－ベンゾチアゾリル、１－インダゾリル、３－インダゾリル、４－インダゾリル、５－インダゾリル、６－インダゾリル、７－インダゾリル、２－モルホリル、３－モルホリル、４－モルホリル、１－ピペラジル、２－ピペラジル、１－ピペリジル、２－ピペリジル、３－ピペリジル、４－ピペリジル、２－テトラヒドロピラニル、３－テトラヒドロピラニル、４－テトラヒドロピラニル、２－テトラヒドロチオピラニル、３－テトラヒドロチオピラニル、４－テトラヒドロチオピラニル、１－ピロリジル、２－ピロリジル、３－ピロリジル、フラニル、２－テトラヒドロフラニル、３－テトラヒドロフラニル、２－テトラヒドロチエニル、３－テトラヒドロチエニル、５－メチル－３－オキソ－２，３－ジヒドロ－１Ｈ－ピラゾール－４－イル基等が挙げられる。
【0077】
上記式（２）中のＡにおける「アルキル基」は、上記式（１）中のＡにおける「アルキル基」と同様である。
【0078】
これらの中でも、上記式（２）中のＡとしては、Ｒ１及びＲ２が水素原子、Ｒ３及びＲ４が水素原子、又は炭素数１～１８のアルキル基が好ましく、Ｒ１及びＲ２が水素原子、Ｒ３及びＲ４が炭素数１～１２のアルキル基が更に好ましく、Ｒ１及びＲ２が水素原子、Ｒ３及びＲ４が炭素数１～６のアルキル基が特に好ましい。
【0079】
上記式（２）で表される化合物の中でも、Ｚが炭素数６～３５のアルキル基であり、かつ、ＡのＲ１及びＲ２が水素原子、Ｒ３及びＲ４が炭素数１～１８のアルキル基であることが好ましく、Ｚが炭素数１０～３０のアルキル基であり、かつ、AのＲ１及びＲ２が水素原子、Ｒ３及びＲ４が炭素数１～１２のアルキル基であることが更に好ましく、Ｚが炭素数１２～２５のアルキル基であり、かつ、ＡのＲ１及びＲ２が水素原子、Ｒ３及びＲ４が炭素数１～６のアルキル基であることが特に好ましい。
【0080】
より具体的には、式（２）で表される化合物としては、下記式（２ａ）で表される化合物であることがより好ましい。
【0081】
【化19】
【0082】
式（２ａ）で表される化合物の中でも、Ｚ´が炭素数６～２５のアルキル基である化合物が好ましく、炭素数８～２０のアルキル基である化合物がより好ましく、炭素数１２～１８のアルキル基である化合物が更に好ましい。
【0083】
式（２ａ）で表される化合物であって、Ａ´が式（ia）である化合物の場合、Ｒ８及びＲ９が水素原子である化合物が好ましい。
【0084】
式（２ａ）で表される化合物であって、Ａ´が式（iia）である化合物の場合、Ｒ１０及びＲ１１が各々炭素数１～６のアルキル基である化合物が好ましく、炭素数１～５のアルキル基である化合物がより好ましい。
【0085】
式（２ａ）で表される化合物の中でも、Ｚ´が炭素数１２～１８のアルキル基であり、かつ、Ａ´が式（iａ）で示される基で、Ｒ８及びＲ９が水素原子であることが特に好ましい。
【0086】
さらに具体的には、式（２）で表される化合物は、ヘプタンヒドラジド、オクタンヒドラジド、ノナンヒドラジド、デカンヒドラジド、ドデカンヒドラジド、ペンタデカンヒドラジド、オクタデカンヒドラジド、イコサンヒドラジド、ペンタコサンヒドラジド、トリアコンタンヒドラジド、テトラコンタヒドラジド等が挙げられ、中でも、オクタデカンヒドラジドであることが好ましい。
【0087】
本発明のゴム組成物において、式（２）で表される化合物は、上記した化合物の中から選ばれる一種のみを単独で含んでいてもよいし、二種以上を混合して含んでいてもよい。
【0088】
式（２）で表される化合物の配合割合は、成分（ａ）のゴム成分１００質量部に対して０．０１～３０質量部とすることが好ましく、０．０５～５質量部とすることがより好ましい。当該割合で配合することにより、加工性の向上効果を、効果的に得ることができる。
【0089】
成分（ｂ）と（ｃ）の配合割合は、成分（ｂ）：成分（ｃ）＝１：５００～５００：１とすることが好ましく、成分（ｂ）：成分（ｃ）＝１：１００～１００：１とすることがより好ましく、成分（ｂ）：成分（ｃ）＝１：２０～２０：１とすることがさらに好ましい。
【0090】
成分（ｂ）と（ｃ）との好ましい組み合わせとしては、例えば、成分（ｂ）として、ピリジン－２－カルボヒドラジド、ベンゼン－１，３－ジカルボヒドラジド、Ｎ’－（４－メチルペンタン－２－イリデン）ピリジン－２－カルボヒドラジドからなる群から選ばれる少なくとも1種と、成分（ｃ）として、オクタデカンヒドラジド、ヘプタンヒドラジド、オクタンヒドラジド、ドデカンヒドラジドからなる群から選ばれる少なくとも1種との組み合わせを例示でき、具体的には、成分（ｂ）：ピリジン－２－カルボヒドラジドと成分（ｃ）：オクタデカンヒドラジド、成分（ｂ）：ベンゼン－１，３－ジカルボヒドラジドと成分（ｃ）：オクタデカンヒドラジド、又は、成分（ｂ）：Ｎ’－（４－メチルペンタン－２－イリデン）ピリジン－２－カルボヒドラジドと成分（ｃ）：オクタデカンヒドラジドとすることが好ましく、成分（ｂ）：ピリジン－２－カルボヒドラジドと成分（ｃ）：オクタデカンヒドラジド、又は成分（ｂ）：ベンゼン－１，３－ジカルボヒドラジドと成分（ｃ）：オクタデカンヒドラジドとすることがより好ましい。
【0091】
（１．４．その他の配合成分）
本発明のゴム組成物は、上記したゴム成分及び化合物以外にも、充填材、ゴム工業界で通常使用される配合剤、例えば、老化防止剤、オゾン防止剤、軟化剤、加工助剤、ワックス、樹脂、発泡剤、オイル、ステアリン酸、亜鉛華（ＺｎＯ）、加硫促進剤、加硫遅延剤、加硫剤（硫黄）等を、本発明の目的を害しない範囲内で適宜選択して配合することができる。
本発明のゴム組成物は、上記したゴム成分及び化合物以外にも、充填材、ゴム工業界で通常使用される配合剤、例えば、老化防止剤、オゾン防止剤、軟化剤、加工助剤、ワックス、樹脂、発泡剤、オイル、ステアリン酸、亜鉛華（ＺｎＯ）、加硫促進剤、加硫遅延剤、加硫剤（硫黄）等を、本発明の目的を害しない範囲内で適宜選択して配合することができる。
【0092】
充填材としては、ゴム工業界で使用される公知の充填材を広く使用することが可能である。具体的には、カーボンブラック及び無機充填材を例示することができ、もちろんこれらに限定されない。
【0093】
カーボンブラックとしては、特に制限はなく、例えば、市販品のカーボンブラック、Ｃａｒｂｏｎ－Ｓｉｌｉｃａ Ｄｕａｌ ｐｈａｓｅ ｆｉｌｌｅｒ等が挙げられる。
【0094】
具体的に、カーボンブラックとしては、例えば、高、中又は低ストラクチャーのＳＡＦ、ＩＳＡＦ、ＩＩＳＡＦ、Ｎ１１０、Ｎ１３４、Ｎ２２０、Ｎ２３４、Ｎ３３０、Ｎ３３９、Ｎ３７５、Ｎ５５０、ＨＡＦ、ＦＥＦ、ＧＰＦ、ＳＲＦグレードのカーボンブラック等が挙げられる。中でも、好ましいカーボンブラックとしては、ＳＡＦ、ＩＳＡＦ、ＩＩＳＡＦ、Ｎ１３４、Ｎ２３４、Ｎ３３０、Ｎ３３９、Ｎ３７５、ＨＡＦ、又はＦＥＦグレードのカーボンブラックである。
【0095】
カーボンブラックのＤＢＰ吸収量としては、特に制限はなく、好ましくは６０～２００ｃｍ３／１００ｇ、より好ましくは７０～１８０ｃｍ３／１００ｇ、特に好ましくは８０～１６０ｃｍ３／１００ｇである。
【0096】
また、カーボンブラックの窒素吸着比表面積（Ｎ２ＳＡ、ＪＩＳ Ｋ ６２１７－２：２００１に準拠して測定する）は、好ましくは３０～２００ｍ２／ｇ、より好ましくは４０～１８０ｍ２／ｇ、特に好ましくは５０～１６０ｍ２／ｇである。
【0097】
無機充填材としては、ゴム工業界において、通常使用される無機化合物であれば、特に制限はない。使用できる無機化合物としては、例えば、シリカ、γ－アルミナ、α－アルミナ等のアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）；ベーマイト、ダイアスポア等のアルミナ一水和物（Ａｌ２Ｏ３・Ｈ２Ｏ）；ギブサイト、バイヤライト等の水酸化アルミニウム［Ａｌ（ＯＨ）３］；炭酸アルミニウム［Ａｌ２（ＣＯ３）３］、水酸化マグネシウム［Ｍｇ（ＯＨ）２］、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、炭酸マグネシウム（ＭｇＣＯ３）、タルク（３ＭｇＯ・４ＳｉＯ２・Ｈ２Ｏ）、アタパルジャイト（５ＭｇＯ・８ＳｉＯ２・９Ｈ２Ｏ）、チタン白（ＴｉＯ２）、チタン黒（ＴｉＯ２ｎ－１）、酸化カルシウム（ＣａＯ）、水酸化カルシウム［Ｃａ（ＯＨ）２］、酸化アルミニウムマグネシウム（ＭｇＯ・Ａｌ２Ｏ３）、クレー（Ａｌ２Ｏ３・２ＳｉＯ２）、カオリン（Ａｌ２Ｏ３・２ＳｉＯ２・２Ｈ２Ｏ）、パイロフィライト（Ａｌ２Ｏ３・４ＳｉＯ２・Ｈ２Ｏ）、ベントナイト（Ａｌ２Ｏ３・４ＳｉＯ２・２Ｈ２Ｏ）、ケイ酸アルミニウム（Ａｌ２ＳｉＯ５、Ａｌ４・３ＳｉＯ４・５Ｈ２Ｏ等）、ケイ酸マグネシウム（Ｍｇ２ＳｉＯ４、ＭｇＳｉＯ３等）、ケイ酸カルシウム（Ｃａ２・ＳｉＯ４等）、ケイ酸アルミニウムカルシウム（Ａｌ２Ｏ３・ＣａＯ・２ＳｉＯ２等）、ケイ酸マグネシウムカルシウム（ＣａＭｇＳｉＯ４）、炭酸カルシウム（ＣａＣＯ３）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、水酸化ジルコニウム［ＺｒＯ（ＯＨ）２・ｎＨ２Ｏ］、炭酸ジルコニウム［Ｚｒ（ＣＯ３）２］、各種ゼオライトのように電荷を補正する水素、アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含む結晶性アルミノケイ酸塩等が挙げられる。これらの無機充填材は、ゴム成分との親和性を向上させるために、該無機充填材の表面が有機処理されていてもよい。
【0098】
中でも、無機充填材としては、制動特性の観点からシリカが好ましく、シリカのＢＥＴ比表面積としては、特に制限はなく、例えば、４０～３５０ｍ２／ｇの範囲が挙げられる。ＢＥＴ比表面積がこの範囲であるシリカは、ゴム補強性及びゴム成分中への分散性を両立できるという利点がある。該ＢＥＴ比表面積は、ＩＳＯ ５７９４／１に準拠して測定される。
【0099】
この観点から、好ましいシリカとしては、ＢＥＴ比表面積が５０～３５０ｍ２／ｇの範囲にあるシリカであり、より好ましくは、ＢＥＴ比表面積が１００～２７０ｍ２／ｇであるシリカであり、特に好ましくは、ＢＥＴ比表面積が１１０～２７０ｍ２／ｇの範囲にあるシリカである。
【0100】
このようなシリカの市販品としては、Ｑｕｅｃｈｅｎ Ｓｉｌｉｃｏｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ., Ｌｔｄ.製の商品名「ＨＤ１６５ＭＰ」（ＢＥＴ比表面積＝１６５ｍ２／ｇ）、「ＨＤ１１５ＭＰ」（ＢＥＴ比表面積＝１１５ｍ２／ｇ）、「ＨＤ２００ＭＰ」（ＢＥＴ比表面積＝２００ｍ２／ｇ）、「ＨＤ２５０ＭＰ」（ＢＥＴ比表面積＝２５０ｍ２／ｇ）、東ソー・シリカ株式会社製の商品名「ニップシールＡＱ」（ＢＥＴ比表面積＝２０５ｍ２／ｇ）、「ニップシールＫＱ」（ＢＥＴ比表面積＝２４０ｍ２／ｇ）、デグッサ社製の商品名「ウルトラジルＶＮ３」（ＢＥＴ比表面積＝１７５ｍ２／ｇ）等が挙げられる。
【0101】
充填材の配合量としては、ゴム成分１００質量部に対して、２０～１２０質量部とすることが好ましく、３０～１００質量部とすることがより好ましく、４０～９０質量部とすることがさらに好ましい。
【0102】
充填材の中でも、カーボンブラック又はシリカが好ましい。それぞれ単独で使用しても良いし、併用しても良い。
【0103】
本発明のゴム組成物は、シリカを含むことが特に好ましく、本発明のゴム組成物に、成分（ｄ）として、シリカを追加しても良い。
【0104】
シリカを含むことで、加工性の悪化を一層抑制でき、式（１）で表される化合物が本来有する低発熱性の効果を十分に発揮することができる。
【0105】
シリカの配合量としては、ゴム成分１００質量部に対して、５～１２０質量部とすることが好ましく、１０～１００質量部とすることがより好ましく、１５～９０質量部とすることがさらに好ましい。
【0106】
また、上記充填材が配合されたゴム組成物においては、充填材によるゴム組成物の靱性を高める目的、又はゴム組成物の引裂き強度と共に耐摩耗性を高める目的で、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤、アルミネートカップリング剤、又はジルコネートカップリング剤を配合してもよい。
【0107】
上記充填材と併用可能なシランカップリング剤としては特に制限されず、市販品を好適に使用することができる。このようなシランカップリング剤として、例えばスルフィド系、ポリスルフィド系、チオエステル系、チオール系、オレフィン系、エポキシ系、アミノ系、又はアルキル系のシランカップリング剤が挙げられる。
【0108】
スルフィド系のシランカップリング剤としては、例えば、ビス(３－トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、ビス(３－トリメトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、ビス(３－メチルジメトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、ビス(２－トリエトキシシリルエチル)テトラスルフィド、ビス(３－トリエトキシシリルプロピル)ジスルフィド、ビス(３－トリメトキシシリルプロピル)ジスルフィド、ビス(３－メチルジメトキシシリルプロピル)ジスルフィド、ビス(２－トリエトキシシリルエチル)ジスルフィド、ビス(３－トリエトキシシリルプロピル)トリスルフィド、ビス(３－トリメトキシシリル
プロピル)トリスルフィド、ビス(３－メチルジメトキシシリルプロピル)トリスルフィド、ビス(２－トリエトキシシリルエチル)トリスルフィド、ビス(３－モノエトキシジメチルシリルプロピル)テトラスルフィド、ビス(３－モノエトキシジメチルシリルプロピル)トリスルフィド、ビス(３－モノエトキシジメチルシリルプロピル)ジスルフィド、ビス(３－モノメトキシジメチルシリルプロピル)テトラスルフィド、ビス(３－モノメトキシジメチルシリルプロピル)トリスルフィド、ビス(３－モノメトキシジメチルシリルプロピル)ジスルフィド、ビス(２－モノエトキシジメチルシリルエチル)テトラスルフィド、ビス(２－モノエトキシジメチルシリルエチル)トリスルフィド、ビス(２－モノエトキシジメチルシリルエチル)ジスルフィド等が挙げられる。これらの内、ビス(３－トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィドが特に好ましい。
プロピル)トリスルフィド、ビス(３－メチルジメトキシシリルプロピル)トリスルフィド、ビス(２－トリエトキシシリルエチル)トリスルフィド、ビス(３－モノエトキシジメチルシリルプロピル)テトラスルフィド、ビス(３－モノエトキシジメチルシリルプロピル)トリスルフィド、ビス(３－モノエトキシジメチルシリルプロピル)ジスルフィド、ビス(３－モノメトキシジメチルシリルプロピル)テトラスルフィド、ビス(３－モノメトキシジメチルシリルプロピル)トリスルフィド、ビス(３－モノメトキシジメチルシリルプロピル)ジスルフィド、ビス(２－モノエトキシジメチルシリルエチル)テトラスルフィド、ビス(２－モノエトキシジメチルシリルエチル)トリスルフィド、ビス(２－モノエトキシジメチルシリルエチル)ジスルフィド等が挙げられる。これらの内、ビス(３－トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィドが特に好ましい。
【0109】
チオエステル系のシランカップリング剤としては、例えば、３－ヘキサノイルチオプロピルトリエトキシシラン、３－オクタノイルチオプロピルトリエトキシシラン、３－デカノイルチオプロピルトリエトキシシラン、３－ラウロイルチオプロピルトリエトキシシラン、２－ヘキサノイルチオエチルトリエトキシシラン、２－オクタノイルチオエチルトリエトキシシラン、２－デカノイルチオエチルトリエトキシシラン、２－ラウロイルチオエチルトリエトキシシラン、３－ヘキサノイルチオプロピルトリメトキシシラン、３－オクタノイルチオプロピルトリメトキシシラン、３－デカノイルチオプロピルトリメトキシシラン、３－ラウロイルチオプロピルトリメトキシシラン、２－ヘキサノイルチオエチルトリメトキシシラン、２－オクタノイルチオエチルトリメトキシシラン、２－デカノイルチオエチルトリメトキシシラン、２－ラウロイルチオエチルトリメトキシシラン等を挙げることができる。
【0110】
チオール系のシランカップリング剤としては、例えば、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３－メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３－［エトキシビス（３，６，９，１２，１５－ペンタオキサオクタコサン－１－イルオキシ）シリル］－１－プロパンチオール等を挙げることができる。
【0111】
オレフィン系のシランカップリング剤としては、例えば、ジメトキシメチルビニルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ジメチルエトキシビニルシラン、ジエトキシメチルビニルシラン、トリエトキシビニルシラン、ビニルトリス(２－メトキシエトキシ)シラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、ｐ－スチリルトリメトキシシラン、３－(メトキシジメトキシジメチルシリル)プロピルアクリレート、３－(トリメトキシシリル)プロピルアクリレート、３－[ジメトキシ(メチル)シリル]プロピルメタクリレート、３－(トリメトキシシリル)プロピルメタクリレート、３－[ジメトキシ(メチル)シリル]プロピルメタクリレート、３－(トリエトキシシリル)プロピルメタクリレート、３－[トリス(トリメチルシロキシ)シリル]プロピルメタクリレート等を挙げることができる。
【0112】
エポキシ系のシランカップリング剤としては、例えば、３－グリシジルオキシプロピル(ジメトキシ)メチルシラン、３－グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、ジエトキシ(３－グリシジルオキシプロピル)メチルシラン、トリエトキシ(３－グリシジルオキシプロピル)シラン、２－(３，４－エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等を挙げることができる。これらの内、３－グリシジルオキシプロピルトリメトキシシランが好ましい。
【0113】
アミノ系のシランカップリング剤としては、例えば、Ｎ－２－(アミノエチル)－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ－２－(アミノエチル)－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、３－エトキシシリル－Ｎ－(１,３－ジメチルブチリデン)プロピルアミン、Ｎ－フェニル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－(ビニルベンジル)－２－アミノエチル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン等を挙げることができる。これらの内、３－アミノプロピルトリエトキシシランが好ましい。
【0114】
アルキル系のシランカップリング剤としては、例えば、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ｎ－プロピルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、ｎ－ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ－ヘキシルトリエトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、ｎ－オクチルトリエトキシシラン、ｎ－デシルトリメトキシシラン等を挙げることができる。これらの内、メチルトリエトキシシランが好ましい。
【0115】
これらシランカップリング剤の中でも、ビス(３－トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィドを特に好ましく使用することができる。
【0116】
充填材と併用可能なチタネートカップリング剤としては特に制限されず、市販品を好適に使用することができる。このようなチタネートカップリング剤として、例えばアルコキシド系、キレート系、アシレート系のチタネートカップリング剤が挙げられる。
【0117】
アルコキシド系のチタネートカップリング剤としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラオクチルチタネート、テトラターシャリーブチルチタネート、テトラステアリルチタネート等を挙げることができる。これらの内、テトライソプロピルチタネートが好ましい。
【0118】
キレート系のチタネートカップリング剤としては、例えば、チタンアセチルアセトネート、チタンテトラアセチルアセトネート、チタンエチルアセトアセテート、ドデシルベンゼンスルホン酸チタン化合物、リン酸チタン化合物、チタンオクチレングリコレート、チタンエチルアセトアセテート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンエタノールアミネート、チタンオクチレングリコレート、チタンアミノエチルアミノエタノレート等を挙げることができる。これらの内、チタンアセチルアセトネートが好ましい。
【0119】
アシレート系のチタネートカップリング剤としては、例えば、チタンイソステアレート等を挙げることができる。
【0120】
充填材と併用可能なアルミネートカップリング剤としては特に制限されず、市販品を好適に使用することができる。このようなアルミネートカップリング剤として、９－オクタデセニルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムセカンダリーブトキシド、アルミニウムトリスアセチルアセトネート、アルミニウムビスエチルアセトアセテートモノアセチルアセトネート、アルミニウムトリスエチルアセトアセテート等が挙げることができる。これらの内、９－オクタデセニルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレートが好ましい。
【0121】
充填材と併用可能なジルコネートカップリング剤としては特に制限されず、市販品を好適に使用することができる。このようなジルコネートカップリング剤として、例えばアルコキシド系、キレート系、アシレート系のジルコネートカップリング剤が挙げられる。
【0122】
アルコキシド系のジルコニウム系カップリング剤としては、例えば、ノルマルプロピルジルコネート、ノルマルブチルジルコネート等を挙げることができる。この内、ノルマルブチルジルコネートが好ましい。
【0123】
キレート系のジルコネートカップリング剤としては、例えば、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムモノアセチルアセトネート、ジルコニウムエチルアセトアセテート、ジルコニウムラクテートアンモニウム塩等を挙げることができる。この内、ジルコニウムテトラアセチルアセトネートが好ましい。
【0124】
アシレート系のジルコネートカップリング剤としては、例えば、ステアリン酸ジルコニウム、オクチル酸ジルコニウム等を挙げることができる。この内、ステアリン酸ジルコニウムが好ましい。
【0125】
本発明においては、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤、アルミネートカップリング剤、ジルコネートカップリング剤は一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【0126】
シランカップリング剤の配合量は、上記充填材１００質量部に対して、０．１～２０質量部とすることが好ましく、３～１５質量部とすることがより好ましい。０．１質量部以上であれば、ゴム組成物の引裂き強度向上の効果をより好適に発現することができ、２０質量部以下であれば、ゴム組成物のコストが低減し、経済性が向上する。
【0127】
（２．タイヤ）
上述した本発明のゴム組成物を使用してタイヤを製造することにより、低発熱性に優れたタイヤを得ることができる。
上述した本発明のゴム組成物を使用してタイヤを製造することにより、低発熱性に優れたタイヤを得ることができる。
【0128】
本発明のタイヤにおいて、上記ゴム組成物は、特にトレッド部、サイドウォール部、ビードエリア部、ベルト部、カーカス部及びショルダー部から選ばれる少なくとも一つの部材に用いられる。
【0129】
中でも、空気入りタイヤのタイヤトレッド部を当該ゴム組成物で形成するのが最も好ましい態様の１つとして挙げられる。
【0130】
トレッド部とは、トレッドパターンを有し、路面と直接接する部分で、カーカス部を保護するとともに摩耗及び外傷を防ぐタイヤの外皮部分であり、タイヤの接地部を構成するキャップトレッド及び／又はキャップトレッドの内側に配設されるベーストレッドをいう。
【0131】
サイドウォール部とは、例えば、空気入りラジアルタイヤにおけるショルダー部の下側からビード部に至るまでの部分であり、カーカス部を保護するとともに、走行する際に最も屈曲の激しい部分である。
【0132】
ビードエリア部とは、カーカスコードの両端を固定し、同時にタイヤをリムに固定させる役目を負っている部分である。ビードとは高炭素鋼を束ねた構造である。
【0133】
ベルト部とは、ラジアル構造のトレッドとカーカスとの間に円周方向に張られた補強帯である。カーカス部を桶のたがの様に強く締付けトレッドの剛性を高めている。
【0134】
カーカス部とは、タイヤの骨格を形成するコード層の部分であり、タイヤの受ける荷重、衝撃、及び充填空気圧に耐える役割を果たしている。
【0135】
ショルダー部とは、タイヤの肩の部分で、カーカス部を保護する役目を果たす。
【0136】
本発明のタイヤは、タイヤの分野において、これまでに知られている方法に従って製造することができる。また、タイヤに充填する気体としては、通常の又は酸素分圧を調整した空気；窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガスを用いることができる。
【0137】
（３．ゴム用添加剤）
本発明のゴム用添加剤は、下記成分（ｂ）及び（ｃ）を含む。
成分（ｂ）；下記式（１）で表される化合物
成分（ｃ）；下記式（２）により表される化合物
本発明のゴム用添加剤は、下記成分（ｂ）及び（ｃ）を含む。
成分（ｂ）；下記式（１）で表される化合物
成分（ｃ）；下記式（２）により表される化合物
【0138】
【化20】
式（i）又は（ii）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、各々水素原子又は炭素数１～１８のアルキル基を示す。
Ｘは、窒素含有複素環基、炭素数１～５のアルキル基、アリール基、又は基－Ｙ－ＣＯ－ＮＨＡを示す。或いは、Ｘは、基－ＣＨＲ６－ＣＲ５＝Ｎ－を介してＡと結合することにより環を形成してもよい。これら各基及び環は、さらに置換基を有していてもよい。
Ｙは、２価の窒素含有複素環基、炭素数１～１８のアルキレン基、又はアリーレン基を示す。
Ｒ５は、水素原子、炭素数１～１８のアルキル基、又はアリール基を、
Ｒ６は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、ヒドラジド基、アミノ基、チオカルボキシル基、又はチオール基を示し、これら各基は更に置換基を有していてもよい。
Ｚは、炭素数６～４０のアルキル基を示し、該アルキル基はさらに置換基を有していてもよい。〕
【0139】
【化21】
【0140】
本発明のゴム用添加剤に含まれる成分（ｂ）及び成分（ｃ）については、上記した本発明のゴム組成物に含まれる成分（ｂ）及び成分（ｃ）に同じであり、当該ゴム用添加剤を使用して得られるゴム材料は、優れた低発熱性及び加工性を有し、例えばタイヤ等に好適に使用することが可能である。
【0141】
本発明のゴム用添加剤は、式（１）で表される化合物、及び式（２）で表される化合物等が混合された状態で使用することができる。その場合、これらの化合物等を、所定量又は適量秤量して、公知の方法で混合すればよい。混合は、例えば、回転ボールミル、振動ボールミル、遊星ミル、ペイントシェーカー、ロッキングミル、ロッキングミキサー、ビーズミル、撹拌機等を用いて、湿式及び乾式の何れでも行うことができる。
【0142】
成分（ｂ）と（ｃ）の配合割合は、成分（ｂ）：成分（ｃ）＝１：５００～５００：１とすることが好ましく、成分（ｂ）：成分（ｃ）＝１００：１～１：１００とすることがより好ましく、成分（ｂ）：成分（ｃ）＝１：２０～２０：１とすることがさらに好ましい。
【0143】
成分（ｂ）と（ｃ）との好ましい組み合わせとしては、例えば、成分（ｂ）として、ピリジン－２－カルボヒドラジド、ベンゼン－１，３－ジカルボヒドラジド、Ｎ’－（４－メチルペンタン－２－イリデン）ピリジン－２－カルボヒドラジドからなる群から選ばれる少なくとも1種と、成分（ｃ）として、オクタデカンヒドラジド、ヘプタンヒドラジド、オクタンヒドラジド、ドデカンヒドラジドからなる群から選ばれる少なくとも1種との組み合わせを例示でき、具体的には、成分（ｂ）：ピリジン－２－カルボヒドラジドと成分（ｃ）：オクタデカンヒドラジド、成分（ｂ）：ベンゼン－１，３－ジカルボヒドラジドと成分（ｃ）：オクタデカンヒドラジド、又は、成分（ｂ）：Ｎ’－（４－メチルペンタン－２－イリデン）ピリジン－２－カルボヒドラジドと成分（ｃ）：オクタデカンヒドラジドとすることが好ましく、成分（ｂ）：ピリジン－２－カルボヒドラジドと成分（ｃ）：オクタデカンヒドラジド、成分（ｂ）：ベンゼン－１，３－ジカルボヒドラジドと成分（ｃ）：オクタデカンヒドラジドとすることがより好ましい。
【0144】
（４．ゴム組成物の製造方法）
本発明のゴム組成物の製造方法については特に限定はなく、例えば、上記したゴム成分、式（１）で表される化合物、式（２）で表される化合物、そして必要に応じてその他の成分を、混合することにより得ることが可能である。また、これらの各化合物については、公知の方法により製造すればよい。
本発明のゴム組成物の製造方法については特に限定はなく、例えば、上記したゴム成分、式（１）で表される化合物、式（２）で表される化合物、そして必要に応じてその他の成分を、混合することにより得ることが可能である。また、これらの各化合物については、公知の方法により製造すればよい。
【0145】
上記した混合するための方法としては特に限定はなく、公知の方法を広く採用することが可能である。具体的には、上記したゴム成分、式（１）で表される化合物、式（２）で表される化合物、及び、必要に応じてその他の成分を、混練機などを使用して混練する方法を挙げることができる。
【0146】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明はこうした例に何ら限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々なる形態で実施し得ることは勿論である。
【実施例0147】
以下、実施例に基づき、本発明の実施形態をより具体的に説明するが、本発明がこれらに限定されるものではない。
【0148】
製造例１：４Ｈ－１，２，４－トリアゾール－３－カルボヒドラジド（化合物Ｉ－３）の製造
メタノール１００ｍＬに４Ｈ－１，２，４－トリアゾール－３－カルボン酸メチル１２．５ｇを加えた溶液に、ヒドラジン一水和物９．９ｇを加えて１５時間還流した。この反応液を冷却し、析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄し、乾燥することで、目的物を１２．３ｇ（収率９８％）得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，δｐｐｍ）： ４．５（ｂｒ－ｓ，２Ｈ），８．４（ｂｒ－ｓ，１Ｈ），９．８（ｂｒ－ｓ，１Ｈ），１４．５（ｂｒ－ｓ，１Ｈ）
融点：２０８℃
メタノール１００ｍＬに４Ｈ－１，２，４－トリアゾール－３－カルボン酸メチル１２．５ｇを加えた溶液に、ヒドラジン一水和物９．９ｇを加えて１５時間還流した。この反応液を冷却し、析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄し、乾燥することで、目的物を１２．３ｇ（収率９８％）得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，δｐｐｍ）： ４．５（ｂｒ－ｓ，２Ｈ），８．４（ｂｒ－ｓ，１Ｈ），９．８（ｂｒ－ｓ，１Ｈ），１４．５（ｂｒ－ｓ，１Ｈ）
融点：２０８℃
【0149】
製造例２：ピラジン－２－カルボヒドラジド（化合物Ｉ－４）の製造
メタノール７０ｍＬにピラジン－２－カルボン酸メチル１２．０ｇを加えた溶液に、ヒドラジン一水和物６．５ｇを加えて１２時間還流した。この反応液を冷却し、析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄し、乾燥することで、目的物を１１．３ｇ（収率９４％）得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，δｐｐｍ）： ４．７（ｂｒ－ｓ，２Ｈ），８．７（ｍ，１Ｈ），８．８（ｄ，１Ｈ），９．１（ｄ，１Ｈ），１０．1（ｂｒ－ｓ，１Ｈ）
融点：１７０℃
メタノール７０ｍＬにピラジン－２－カルボン酸メチル１２．０ｇを加えた溶液に、ヒドラジン一水和物６．５ｇを加えて１２時間還流した。この反応液を冷却し、析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄し、乾燥することで、目的物を１１．３ｇ（収率９４％）得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，δｐｐｍ）： ４．７（ｂｒ－ｓ，２Ｈ），８．７（ｍ，１Ｈ），８．８（ｄ，１Ｈ），９．１（ｄ，１Ｈ），１０．1（ｂｒ－ｓ，１Ｈ）
融点：１７０℃
【0150】
製造例３：イソキノリン－１－カルボヒドラジド（化合物Ｉ－５）の製造
メタノール１５０ｍＬにイソキノリン－１－カルボン酸１０．４ｇを加えた溶液に、濃硫酸２７．８ｇを加え、７２時間還流した。反応溶媒を減圧留去し、得られた残渣溶液をジクロロメタン１００ｍLに溶かし、氷冷下で、炭酸ナトリウム飽和水溶液を加え、ｐＨを８に調製した。有機層をジクロロメタン５０ｍＬで二回分液抽出し、硫酸ナトリウムを加え、撹拌後、ろ過し、有機溶媒を減圧留去することで目的のイソキノリン－１－カルボン酸メチル１０．３ｇ（収率９１％）を得た。
上記で得られたイソキノリン－１－カルボン酸メチル１０．３ｇにメタノール５０ｍＬとヒドラジン一水和物１５．４ｇを加え、１２時間還流した。この反応液を冷却し、溶媒を減圧留去した後、残渣に水２００ｍＬを加え、固体を析出させた。析出した固体をろ過し、メタノールで洗浄し、乾燥することで、目的物を８．３ｇ（収率８１％）得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，δｐｐｍ）： ４．７（ｂｒ－ｓ，２Ｈ），７．７（ｍ，１Ｈ），７．８（ｍ，１Ｈ），７．９８（ｄ，１Ｈ），８．０４（ｄ，１Ｈ），８．５（ｄ，１Ｈ），８．７（ｄｄ，１Ｈ），９．９（ｂｒ－ｓ，１Ｈ）
融点：１０７℃
メタノール１５０ｍＬにイソキノリン－１－カルボン酸１０．４ｇを加えた溶液に、濃硫酸２７．８ｇを加え、７２時間還流した。反応溶媒を減圧留去し、得られた残渣溶液をジクロロメタン１００ｍLに溶かし、氷冷下で、炭酸ナトリウム飽和水溶液を加え、ｐＨを８に調製した。有機層をジクロロメタン５０ｍＬで二回分液抽出し、硫酸ナトリウムを加え、撹拌後、ろ過し、有機溶媒を減圧留去することで目的のイソキノリン－１－カルボン酸メチル１０．３ｇ（収率９１％）を得た。
上記で得られたイソキノリン－１－カルボン酸メチル１０．３ｇにメタノール５０ｍＬとヒドラジン一水和物１５．４ｇを加え、１２時間還流した。この反応液を冷却し、溶媒を減圧留去した後、残渣に水２００ｍＬを加え、固体を析出させた。析出した固体をろ過し、メタノールで洗浄し、乾燥することで、目的物を８．３ｇ（収率８１％）得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，δｐｐｍ）： ４．７（ｂｒ－ｓ，２Ｈ），７．７（ｍ，１Ｈ），７．８（ｍ，１Ｈ），７．９８（ｄ，１Ｈ），８．０４（ｄ，１Ｈ），８．５（ｄ，１Ｈ），８．７（ｄｄ，１Ｈ），９．９（ｂｒ－ｓ，１Ｈ）
融点：１０７℃
【0151】
製造例４：ピリミジン－２－カルボヒドラジド（化合物Ｉ－６）の製造
水５０ｍＬに２－シアノピリミジン２５ｇを加えた溶液に、２５％苛性水８０ｇを加え、６０℃で２時間撹拌した。撹拌後、氷冷し、濃塩酸を用いてｐＨを３．８に調製し、室温で１時間撹拌した。次に溶媒を減圧留去し、トルエン５０ｍＬを加え、共沸させた。得られた結晶にメタノール１００ｍＬと濃硫酸２０ｇを加え１２時間還流した。溶媒を減圧留去し、残渣に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えｐＨを７に調製し、水を加えて塩を溶解させた。有機層をジクロロメタン５０ｍＬで三回分液抽出し、硫酸ナトリウムを加え、撹拌後、ろ過し、有機溶媒を減圧留去することでピリミジン－２－カルボン酸メチル１２．６ｇ（収率３８％）を得た。
上記で得られたピリミジン－２－カルボン酸メチル８．３ｇにメタノール１００ｍＬとヒドラジン一水和物４．５ｇを加え、１２時間還流した。この反応液を冷却し、析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄し、乾燥することで、目的物を７．６ｇ（収率９２％）得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，δｐｐｍ）： ４．６（ｂｒ－ｓ，２Ｈ），７．６（ｔ，１Ｈ），８．９（ｄ，２Ｈ），１０．０（ｂｒ－ｓ，１Ｈ）
融点：１８０℃
水５０ｍＬに２－シアノピリミジン２５ｇを加えた溶液に、２５％苛性水８０ｇを加え、６０℃で２時間撹拌した。撹拌後、氷冷し、濃塩酸を用いてｐＨを３．８に調製し、室温で１時間撹拌した。次に溶媒を減圧留去し、トルエン５０ｍＬを加え、共沸させた。得られた結晶にメタノール１００ｍＬと濃硫酸２０ｇを加え１２時間還流した。溶媒を減圧留去し、残渣に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えｐＨを７に調製し、水を加えて塩を溶解させた。有機層をジクロロメタン５０ｍＬで三回分液抽出し、硫酸ナトリウムを加え、撹拌後、ろ過し、有機溶媒を減圧留去することでピリミジン－２－カルボン酸メチル１２．６ｇ（収率３８％）を得た。
上記で得られたピリミジン－２－カルボン酸メチル８．３ｇにメタノール１００ｍＬとヒドラジン一水和物４．５ｇを加え、１２時間還流した。この反応液を冷却し、析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄し、乾燥することで、目的物を７．６ｇ（収率９２％）得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，δｐｐｍ）： ４．６（ｂｒ－ｓ，２Ｈ），７．６（ｔ，１Ｈ），８．９（ｄ，２Ｈ），１０．０（ｂｒ－ｓ，１Ｈ）
融点：１８０℃
【0152】
製造例５：ピリダジン－３－カルボヒドラジド（化合物Ｉ－７）の製造
クロロホルム５０ｍＬにピリダジン－４－カルボン酸５．５ｇを加えた溶液に、塩化チオニル２７．２ｇを加え、外温６５℃で６時間撹拌した。氷冷下、メタノール５０ｍＬを徐々に加えた後、溶媒を減圧留去した。残渣にジクロロメタン５０ｍＬを加え、氷冷下で撹拌しながら炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、ｐＨを７．８に調製した。析出した固体をろ過し、溶液をジクロロメタン１００ｍＬで三回分液抽出し、硫酸ナトリウムを加え、撹拌後、ろ過し、有機溶媒を減圧留去することでピリダジン－４－カルボン酸メチル５．８ｇ（収率９４％）を得た。
上記で得られたピリダジン－４－カルボン酸メチル４．８ｇにメタノール５０ｍＬとヒドラジン一水和物４．５ｇを加えて１２時間還流した。この反応液を冷却し、溶媒を減圧留去するとオイル状の生成物が得られた。得られた生成物にトルエン２０ｍＬを加え、共沸させた。共沸により得られた固体を乾燥することで、目的物を４．７ｇ（収率９８％）得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，δｐｐｍ）： ４．７（ｂｒ－ｓ，２Ｈ），７．９（ｍ，１Ｈ），８．１（ｄｄ，１Ｈ），９．４（ｄｄ，１Ｈ），１０．４（ｂｒ－ｓ，１Ｈ）
融点：１４３℃
クロロホルム５０ｍＬにピリダジン－４－カルボン酸５．５ｇを加えた溶液に、塩化チオニル２７．２ｇを加え、外温６５℃で６時間撹拌した。氷冷下、メタノール５０ｍＬを徐々に加えた後、溶媒を減圧留去した。残渣にジクロロメタン５０ｍＬを加え、氷冷下で撹拌しながら炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、ｐＨを７．８に調製した。析出した固体をろ過し、溶液をジクロロメタン１００ｍＬで三回分液抽出し、硫酸ナトリウムを加え、撹拌後、ろ過し、有機溶媒を減圧留去することでピリダジン－４－カルボン酸メチル５．８ｇ（収率９４％）を得た。
上記で得られたピリダジン－４－カルボン酸メチル４．８ｇにメタノール５０ｍＬとヒドラジン一水和物４．５ｇを加えて１２時間還流した。この反応液を冷却し、溶媒を減圧留去するとオイル状の生成物が得られた。得られた生成物にトルエン２０ｍＬを加え、共沸させた。共沸により得られた固体を乾燥することで、目的物を４．７ｇ（収率９８％）得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，δｐｐｍ）： ４．７（ｂｒ－ｓ，２Ｈ），７．９（ｍ，１Ｈ），８．１（ｄｄ，１Ｈ），９．４（ｄｄ，１Ｈ），１０．４（ｂｒ－ｓ，１Ｈ）
融点：１４３℃
【0153】
製造例６：ピリダジン－４－カルボヒドラジド（化合物Ｉ－８）の製造
ピリジン１．２Ｌに３－メチルピリダジン２５．５ｇを加えた溶液に、二酸化セレン５０ｇを加え、外温８０℃で１２時間撹拌した。反応液を室温まで冷却し、親水性ＰＴＦＥメンブレンフィルターで固体を除き、溶媒を減圧留去した。残渣にメタノール５００ｍＬと濃硫酸９０ｇを加え、外温８０℃で１２時間還流した。溶媒を減圧留去し、残渣に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でｐＨを７．７に調製した。溶液をジクロロメタン１００ｍＬで四回分液抽出し、硫酸ナトリウムを加え、撹拌後、ろ過し、有機溶媒を減圧留去することでピリダジン－３－カルボン酸メチル２３．６ｇ（収率６３％）を得た。
上記で得られたピリダジン－３－カルボン酸メチル１１．６ｇにメタノール１００ｍＬとヒドラジン一水和物８．３ｇを加えて１時間還流した。この反応液を冷却し、溶媒を減圧留去すると固体の生成物が得られた。この生成物をメタノールで解砕洗浄後、ろ過し、乾燥することで、目的物を６．０ｇ（収率５２％）得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，δｐｐｍ）： ４．７（ｂｒ－ｓ，２Ｈ），８．０（ｄｄ，１Ｈ），９．４（ｄｄ，１Ｈ），９．５（ｍ，１Ｈ），１０．3（ｂｒ－ｓ，１Ｈ）
融点：１１９℃
ピリジン１．２Ｌに３－メチルピリダジン２５．５ｇを加えた溶液に、二酸化セレン５０ｇを加え、外温８０℃で１２時間撹拌した。反応液を室温まで冷却し、親水性ＰＴＦＥメンブレンフィルターで固体を除き、溶媒を減圧留去した。残渣にメタノール５００ｍＬと濃硫酸９０ｇを加え、外温８０℃で１２時間還流した。溶媒を減圧留去し、残渣に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でｐＨを７．７に調製した。溶液をジクロロメタン１００ｍＬで四回分液抽出し、硫酸ナトリウムを加え、撹拌後、ろ過し、有機溶媒を減圧留去することでピリダジン－３－カルボン酸メチル２３．６ｇ（収率６３％）を得た。
上記で得られたピリダジン－３－カルボン酸メチル１１．６ｇにメタノール１００ｍＬとヒドラジン一水和物８．３ｇを加えて１時間還流した。この反応液を冷却し、溶媒を減圧留去すると固体の生成物が得られた。この生成物をメタノールで解砕洗浄後、ろ過し、乾燥することで、目的物を６．０ｇ（収率５２％）得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，δｐｐｍ）： ４．７（ｂｒ－ｓ，２Ｈ），８．０（ｄｄ，１Ｈ），９．４（ｄｄ，１Ｈ），９．５（ｍ，１Ｈ），１０．3（ｂｒ－ｓ，１Ｈ）
融点：１１９℃
【0154】
製造例７：２－（１Ｈ－ベンゾ［ｄ］イミダゾール－１－イル）アセトヒドラジド（化合物Ｉ－９）の製造
ジメチルホルムアミド２００ｍＬに水素化ナトリウム６．１ｇを加えた溶液を０℃まで冷却し、ベンゾイミダゾール１５．０ｇを分割して投入した。１時間室温にて撹拌後、０℃まで冷却し、ブロモ酢酸メチル２３．３ｇを滴下した。反応液を室温にて１７時間撹拌後、塩化アンモニウム水溶液にて中和し、酢酸エチルにて分液し、溶媒を留去後、メタノール２００ｍLとヒドラジン一水和物２５ｇを添加した。反応液を５０℃で１８時間撹拌後、溶媒を留去し、析出した固体を２－プロパノールにて再結晶することにより、目的物を６．４ｇ（収率２６％）得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，δｐｐｍ）： ４．３（ｂｒｓ，２Ｈ），７．２（ｍ，２Ｈ），７．５（ｍ，１Ｈ），７．７（ｍ，１Ｈ），８．２（ｓ，１Ｈ），９．５（ｂｒｓ，１Ｈ），ＮＨ２×２(４Ｈ)未検出
融点：２５２℃
ジメチルホルムアミド２００ｍＬに水素化ナトリウム６．１ｇを加えた溶液を０℃まで冷却し、ベンゾイミダゾール１５．０ｇを分割して投入した。１時間室温にて撹拌後、０℃まで冷却し、ブロモ酢酸メチル２３．３ｇを滴下した。反応液を室温にて１７時間撹拌後、塩化アンモニウム水溶液にて中和し、酢酸エチルにて分液し、溶媒を留去後、メタノール２００ｍLとヒドラジン一水和物２５ｇを添加した。反応液を５０℃で１８時間撹拌後、溶媒を留去し、析出した固体を２－プロパノールにて再結晶することにより、目的物を６．４ｇ（収率２６％）得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，δｐｐｍ）： ４．３（ｂｒｓ，２Ｈ），７．２（ｍ，２Ｈ），７．５（ｍ，１Ｈ），７．７（ｍ，１Ｈ），８．２（ｓ，１Ｈ），９．５（ｂｒｓ，１Ｈ），ＮＨ２×２(４Ｈ)未検出
融点：２５２℃
【0155】
製造例８：２－アミノ－４－（メチルスルファニル）ブタンヒドラジド（化合物Ｉ－１０）の製造
メタノール２５.０ｍＬにメチオニンメチル塩酸塩５．０ｇを加えた溶液を０℃まで冷却し、ヒドラジン一水和物３．１３ｇを添加した。反応液を６５℃で１８時間撹拌後、室温まで冷却し、ナトリウムメトキシド１．３５ｇを添加して３時間撹拌した。溶媒を留去後、析出した固体をろ過し、乾燥することで液状の目的物を２．５ｇ（収率６０％）得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，δｐｐｍ）： １．５８（ｍ，１Ｈ），１．７５（ｍ，１Ｈ），１．５９（ｍ，２Ｈ），２．０３（ｍ，３Ｈ），２．５０（ｍ，２Ｈ），３．２０（ｍ，１Ｈ），８．９９（ｂｒ－ｓ，１Ｈ），ＮＨ２×２(４Ｈ)未検出
メタノール２５.０ｍＬにメチオニンメチル塩酸塩５．０ｇを加えた溶液を０℃まで冷却し、ヒドラジン一水和物３．１３ｇを添加した。反応液を６５℃で１８時間撹拌後、室温まで冷却し、ナトリウムメトキシド１．３５ｇを添加して３時間撹拌した。溶媒を留去後、析出した固体をろ過し、乾燥することで液状の目的物を２．５ｇ（収率６０％）得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，δｐｐｍ）： １．５８（ｍ，１Ｈ），１．７５（ｍ，１Ｈ），１．５９（ｍ，２Ｈ），２．０３（ｍ，３Ｈ），２．５０（ｍ，２Ｈ），３．２０（ｍ，１Ｈ），８．９９（ｂｒ－ｓ，１Ｈ），ＮＨ２×２(４Ｈ)未検出
【0156】
製造例９：２－アミノ－３－（ドデシルスルファニル）プロパンヒドラジド（化合物Ｉ－１１）の製造
ジクロロメタン１１０ｍＬにＬ―システインエチル塩酸塩５．５７ｇ、ドデセン１６．０ｇを加えた溶液に、ＡＩＢＮ２．５１ｇを添加した後、４０℃にて２４時間撹拌した。溶媒を留去後、メタノール６０ｍL、ヒドラジン一水和物３．７５ｇを添加した。反応液を６５℃で１８時間撹拌後、析出した固体をろ過し、乾燥することで目的物を５．９６ｇ（収率６５％）得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，δｐｐｍ）： ０．８８（ｔ，３Ｈ），１．３６（ｍ，１８Ｈ），１．６０（ｍ，２Ｈ），２．５１（ｍ，２Ｈ），２．７０（ｍ，１Ｈ），３．０１（ｍ，１Ｈ），３．５５（ｍ，１Ｈ），８．３７（ｂｒ－ｓ，１Ｈ）
融点：５７℃
ジクロロメタン１１０ｍＬにＬ―システインエチル塩酸塩５．５７ｇ、ドデセン１６．０ｇを加えた溶液に、ＡＩＢＮ２．５１ｇを添加した後、４０℃にて２４時間撹拌した。溶媒を留去後、メタノール６０ｍL、ヒドラジン一水和物３．７５ｇを添加した。反応液を６５℃で１８時間撹拌後、析出した固体をろ過し、乾燥することで目的物を５．９６ｇ（収率６５％）得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，δｐｐｍ）： ０．８８（ｔ，３Ｈ），１．３６（ｍ，１８Ｈ），１．６０（ｍ，２Ｈ），２．５１（ｍ，２Ｈ），２．７０（ｍ，１Ｈ），３．０１（ｍ，１Ｈ），３．５５（ｍ，１Ｈ），８．３７（ｂｒ－ｓ，１Ｈ）
融点：５７℃
【0157】
製造例１０：Ｎ’－（４－メチルペンタン－２－イリデン）ピリジン－２－カルボヒドラジド（化合物Ｉ－１２）の製造
メタノール２０ｍｌにピコリン酸ヒドラジド１０ｇを加えた溶液に、メチルイソブチルケトン１４．６ｇを加え、一晩還流した。溶媒を減圧留去し、オイル状の粗生成物を得た。イソプロパノール２０ｍｌを加えて氷冷下撹拌すると結晶が析出した。イソプロパノール３０ｍｌを洗浄液に用いてろ過し、得られた白色固体を減圧乾燥して目的物を１５．６ｇ（収率９８％）得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，δｐｐｍ）： ０．９１－０．９６（ｍ，６Ｈ），１．９７－２．０４（ｍ、４Ｈ），２．２１－２．２９（ｍ，２Ｈ），７．６４－７．６７（ｍ，１Ｈ），８．０３－８．１１（ｍ，２Ｈ），８．６８－８．６９（ｍ，１Ｈ），１０．７５－１０．８５（ｍ，１Ｈ）
融点：８４℃
メタノール２０ｍｌにピコリン酸ヒドラジド１０ｇを加えた溶液に、メチルイソブチルケトン１４．６ｇを加え、一晩還流した。溶媒を減圧留去し、オイル状の粗生成物を得た。イソプロパノール２０ｍｌを加えて氷冷下撹拌すると結晶が析出した。イソプロパノール３０ｍｌを洗浄液に用いてろ過し、得られた白色固体を減圧乾燥して目的物を１５．６ｇ（収率９８％）得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，δｐｐｍ）： ０．９１－０．９６（ｍ，６Ｈ），１．９７－２．０４（ｍ、４Ｈ），２．２１－２．２９（ｍ，２Ｈ），７．６４－７．６７（ｍ，１Ｈ），８．０３－８．１１（ｍ，２Ｈ），８．６８－８．６９（ｍ，１Ｈ），１０．７５－１０．８５（ｍ，１Ｈ）
融点：８４℃
【0158】
製造例１１：Ｎ’－（プロパン－２－イリデン）ピリジン－２－カルボヒドラジド（化合物Ｉ－１３）の製造
ピコリン酸ヒドラジド３．０ｇに、アセトン２５ｍＬを加えて２１時間還流した。この反応液を冷却し、析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄し、乾燥することで、目的物を３．７ｇ（収率９５％）得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，δｐｐｍ）： １．９８（ｓ，３Ｈ），２．０４（ｓ，３Ｈ），７．６５（ｍ，１Ｈ），８．０６（ｍ，２Ｈ），８．６８（ｍ，１Ｈ），１０．８（ｓ，１Ｈ）
融点：１００℃
ピコリン酸ヒドラジド３．０ｇに、アセトン２５ｍＬを加えて２１時間還流した。この反応液を冷却し、析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄し、乾燥することで、目的物を３．７ｇ（収率９５％）得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，δｐｐｍ）： １．９８（ｓ，３Ｈ），２．０４（ｓ，３Ｈ），７．６５（ｍ，１Ｈ），８．０６（ｍ，２Ｈ），８．６８（ｍ，１Ｈ），１０．８（ｓ，１Ｈ）
融点：１００℃
【0159】
製造例１２：Ｎ’－（トリデカン－２－イリデン）ピリジン－２－カルボヒドラジド（化合物Ｉ－１４）の製造
メタノール３０ｍＬにピコリン酸ヒドラジド５．０ｇを加えた溶液に、２－トリデカノン１４．５ｇを加えて１８時間還流した。この反応液を冷却し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、目的物を１０．６ｇ（収率９２％）得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，δｐｐｍ）： ０．８８（ｔ，３Ｈ），１．３１（ｍ，１６Ｈ），１．５９（ｍ，２Ｈ），２．０３（ｓ，３Ｈ），２．４４（ｍ，２Ｈ），７．４６（ｍ，１Ｈ），７．８７（ｍ，１Ｈ），８．３０（ｍ，１Ｈ），８．５５（ｍ，１Ｈ），１０．６８（ｂｒ－ｓ，１Ｈ）
融点：４４℃
メタノール３０ｍＬにピコリン酸ヒドラジド５．０ｇを加えた溶液に、２－トリデカノン１４．５ｇを加えて１８時間還流した。この反応液を冷却し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、目的物を１０．６ｇ（収率９２％）得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，δｐｐｍ）： ０．８８（ｔ，３Ｈ），１．３１（ｍ，１６Ｈ），１．５９（ｍ，２Ｈ），２．０３（ｓ，３Ｈ），２．４４（ｍ，２Ｈ），７．４６（ｍ，１Ｈ），７．８７（ｍ，１Ｈ），８．３０（ｍ，１Ｈ），８．５５（ｍ，１Ｈ），１０．６８（ｂｒ－ｓ，１Ｈ）
融点：４４℃
【0160】
製造例１３：ピリジン－３，５－ジカルボヒドラジド（化合物ＩＩ－２）の製造
メタノール７０ｍＬに３，５－ピリジンジカルボン酸ジエチル１５．９ｇを加えた溶液に、ヒドラジン一水和物８．６６ｇを添加して、２４時間還流した。反応液を冷却し、析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄し、乾燥することで、目的物を１３．９ｇ(収率：９９％)得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，δｐｐｍ）： ４．６（ｂｒ－ｓ，４Ｈ），８．５（ｔ，１Ｈ），９．０（ｄ，２Ｈ），１０．０（ｂｒ－ｓ，２Ｈ）
融点：２３４℃
メタノール７０ｍＬに３，５－ピリジンジカルボン酸ジエチル１５．９ｇを加えた溶液に、ヒドラジン一水和物８．６６ｇを添加して、２４時間還流した。反応液を冷却し、析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄し、乾燥することで、目的物を１３．９ｇ(収率：９９％)得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，δｐｐｍ）： ４．６（ｂｒ－ｓ，４Ｈ），８．５（ｔ，１Ｈ），９．０（ｄ，２Ｈ），１０．０（ｂｒ－ｓ，２Ｈ）
融点：２３４℃
【0161】
製造例１４：ヘプタンヒドラジド（化合物ＩＶ－２）の製造
メタノール４０ｍＬにヘプタン酸メチル５．７７ｇを加えた溶液に、ヒドラジン一水和物３．０５ｇを添加して、１８時間還流した。溶媒を留去後、析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄し、乾燥することで、目的物を４．６１ｇ(収率：８０％)得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，δｐｐｍ）： ０．８８（ｔ，３Ｈ），１．３２（ｍ，６Ｈ），１．６６（ｍ，２Ｈ），２．１５（ｍ，２Ｈ），３．９０（ｂｒ－ｓ，２Ｈ），６．７５（ｂｒ－ｓ，１Ｈ）
融点：８３℃
メタノール４０ｍＬにヘプタン酸メチル５．７７ｇを加えた溶液に、ヒドラジン一水和物３．０５ｇを添加して、１８時間還流した。溶媒を留去後、析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄し、乾燥することで、目的物を４．６１ｇ(収率：８０％)得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，δｐｐｍ）： ０．８８（ｔ，３Ｈ），１．３２（ｍ，６Ｈ），１．６６（ｍ，２Ｈ），２．１５（ｍ，２Ｈ），３．９０（ｂｒ－ｓ，２Ｈ），６．７５（ｂｒ－ｓ，１Ｈ）
融点：８３℃
【0162】
製造例１５：Ｎ’－（プロパン－２－イリデン）オクタデカンヒドラジド（化合物ＩＶ－４）の製造
エタノール２５ｍＬにステアリン酸ヒドラジド２．３ｇを加えた溶液に、アセトン２５ｍLを加えて１２時間還流した。この反応液を冷却し、析出した固体をろ過した。得られた固体をエタノールで洗浄し、乾燥することで、目的物を２．６ｇ（収率９９％）得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，δｐｐｍ）： ０．８（ｔ，３Ｈ），１．３（ｍ，２８Ｈ），１．７（ｍ，２Ｈ），1．８（ｓ，３Ｈ），２．０（ｓ，３Ｈ），２．６（ｔ，２Ｈ），８．１（ｓ，１Ｈ）
融点：７５℃
エタノール２５ｍＬにステアリン酸ヒドラジド２．３ｇを加えた溶液に、アセトン２５ｍLを加えて１２時間還流した。この反応液を冷却し、析出した固体をろ過した。得られた固体をエタノールで洗浄し、乾燥することで、目的物を２．６ｇ（収率９９％）得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，δｐｐｍ）： ０．８（ｔ，３Ｈ），１．３（ｍ，２８Ｈ），１．７（ｍ，２Ｈ），1．８（ｓ，３Ｈ），２．０（ｓ，３Ｈ），２．６（ｔ，２Ｈ），８．１（ｓ，１Ｈ）
融点：７５℃
【0163】
製造例１６：Ｎ’－（４－メチルペンタン－２－イリデン）オクタデカンヒドラジド（化合物ＩＶ－５）の製造
ブタノール２５ｍＬにステアリン酸ヒドラジド４．２ｇを加えた溶液に、メチルイソブチルケトン４．２ｇを加えて２１時間還流した。この反応液を冷却し、析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄し、乾燥することで、目的物を５．１ｇ（収率９５％）得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，δｐｐｍ）： ０．８８（ｔ，３Ｈ），0．９２（ｄ，６Ｈ），１．３（ｍ，２８Ｈ），１．７（ｍ，２Ｈ），1．８（ｓ，３Ｈ），２．０（ｍ，1Ｈ），２．１（ｄ，２Ｈ），２．６（ｔ，２Ｈ），８．1（ｓ，１Ｈ），ＮＨ２（２Ｈ）未検出
融点：７４℃
ブタノール２５ｍＬにステアリン酸ヒドラジド４．２ｇを加えた溶液に、メチルイソブチルケトン４．２ｇを加えて２１時間還流した。この反応液を冷却し、析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノールで洗浄し、乾燥することで、目的物を５．１ｇ（収率９５％）得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，δｐｐｍ）： ０．８８（ｔ，３Ｈ），0．９２（ｄ，６Ｈ），１．３（ｍ，２８Ｈ），１．７（ｍ，２Ｈ），1．８（ｓ，３Ｈ），２．０（ｍ，1Ｈ），２．１（ｄ，２Ｈ），２．６（ｔ，２Ｈ），８．1（ｓ，１Ｈ），ＮＨ２（２Ｈ）未検出
融点：７４℃
【0164】
製造例１７：ヘキサンヒドラジド（化合物Ａ）の製造
メタノール４０ｍＬにヘキサン酸メチル５．２１ｇを加えた溶液に、ヒドラジン一水和物３．００ｇを添加して、１８時間還流した。溶媒を留去後、析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノール洗浄し、乾燥することで、目的物を４．０１ｇ(収率：７７％)得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，δｐｐｍ）： ０．８８（ｔ，３Ｈ），１．３３（ｍ，４Ｈ），１．６６（ｍ，２Ｈ），２．１５（ｍ，２Ｈ），３．９０（ｂｒ－ｓ，２Ｈ），６．７９（ｂｒ－ｓ，1Ｈ）
融点：７５℃
メタノール４０ｍＬにヘキサン酸メチル５．２１ｇを加えた溶液に、ヒドラジン一水和物３．００ｇを添加して、１８時間還流した。溶媒を留去後、析出した固体をろ過した。得られた固体をメタノール洗浄し、乾燥することで、目的物を４．０１ｇ(収率：７７％)得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，δｐｐｍ）： ０．８８（ｔ，３Ｈ），１．３３（ｍ，４Ｈ），１．６６（ｍ，２Ｈ），２．１５（ｍ，２Ｈ），３．９０（ｂｒ－ｓ，２Ｈ），６．７９（ｂｒ－ｓ，1Ｈ）
融点：７５℃
【0165】
実施例１～１７、比較例１～２２、及び参考例１～２：ゴム組成物の製造
下記表１及び２の工程Ａに記載の各成分をその割合(質量部)で混合し、バンバリーミキサーで混合した。混合物の温度が６０℃以下になるまで養生させた後、表１及び２の工程Ｂに記載の各成分をその割合(質量部)で投入し、混合物の最高温度が７０℃以下になるよう調整しながら混合して、ゴム組成物を製造した。
下記表１及び２の工程Ａに記載の各成分をその割合(質量部)で混合し、バンバリーミキサーで混合した。混合物の温度が６０℃以下になるまで養生させた後、表１及び２の工程Ｂに記載の各成分をその割合(質量部)で投入し、混合物の最高温度が７０℃以下になるよう調整しながら混合して、ゴム組成物を製造した。
【0166】
低発熱性(Ｔａｎδ値指数)試験
各実施例及び比較例のゴム組成物について、粘弾性測定装置(Ｍｅｔｒａｖｉｂ社製)を使用し、温度４０℃、動歪５％、周波数１５ＨｚでＴａｎδ値を測定した。比較するために、化合物を添加しない以外は、各実施例と同じ配合内容及び同じ製法でゴム組成物（参考例１及び２）を作製し、そのＴａｎδ値を１００とした指数により表し、下記式に基づいて低発熱性指数を算出した。なお、低発熱性指数の値が小さい程、低発熱性であり、ヒステリシスロスが小さいことを示す。
式：低発熱性指数
＝（各実施例１～２、及び４～１７、並びに比較例１～２、及び４～２２のゴム組成物のＴａｎδ値）×１００／（参考例１のＴａｎδ値）
式：低発熱性指数
＝（実施例３、及び比較例３のゴム組成物のＴａｎδ値）×１００／（参考例２のＴａｎδ値）
各実施例及び比較例のゴム組成物について、粘弾性測定装置(Ｍｅｔｒａｖｉｂ社製)を使用し、温度４０℃、動歪５％、周波数１５ＨｚでＴａｎδ値を測定した。比較するために、化合物を添加しない以外は、各実施例と同じ配合内容及び同じ製法でゴム組成物（参考例１及び２）を作製し、そのＴａｎδ値を１００とした指数により表し、下記式に基づいて低発熱性指数を算出した。なお、低発熱性指数の値が小さい程、低発熱性であり、ヒステリシスロスが小さいことを示す。
式：低発熱性指数
＝（各実施例１～２、及び４～１７、並びに比較例１～２、及び４～２２のゴム組成物のＴａｎδ値）×１００／（参考例１のＴａｎδ値）
式：低発熱性指数
＝（実施例３、及び比較例３のゴム組成物のＴａｎδ値）×１００／（参考例２のＴａｎδ値）
【0167】
加工性（ムーニー粘度指数）試験
ＪＩＳ Ｋ６３００－１（ムーニー粘度計による粘度及びスコーチタイムの求め方；ＭＬ１＋４，１００℃）に準じて測定した。比較するために、化合物を添加しない以外は、各実施例と同じ配合内容及び同じ製法でゴム組成物(参考例１及び２)を作製し、そのムーニー粘度値を１００とした指数により表し、下記式に基づいて加工性指数を算出した。なお、加工性指数の値が小さい程、加工性が良好であることを示す。
式：加工性指数
＝（各実施例１～２、及び４～１７、並びに比較例１～２、及び４～２２のゴム組成物のムーニー粘度値）×１００／（参考例１のムーニー粘度値）
式：加工性指数
＝（実施例３、及び比較例３のゴム組成物のムーニー粘度値）×１００／（参考例２のムーニー粘度値）
ＪＩＳ Ｋ６３００－１（ムーニー粘度計による粘度及びスコーチタイムの求め方；ＭＬ１＋４，１００℃）に準じて測定した。比較するために、化合物を添加しない以外は、各実施例と同じ配合内容及び同じ製法でゴム組成物(参考例１及び２)を作製し、そのムーニー粘度値を１００とした指数により表し、下記式に基づいて加工性指数を算出した。なお、加工性指数の値が小さい程、加工性が良好であることを示す。
式：加工性指数
＝（各実施例１～２、及び４～１７、並びに比較例１～２、及び４～２２のゴム組成物のムーニー粘度値）×１００／（参考例１のムーニー粘度値）
式：加工性指数
＝（実施例３、及び比較例３のゴム組成物のムーニー粘度値）×１００／（参考例２のムーニー粘度値）
【0168】
【表1】
※２：化合物Ｉ－１；東京化成工業社製、ピリジン－３－カルボヒドラジド
※３：化合物Ｉ－２；東京化成工業社製、ピリジン－２－カルボヒドラジド
※４：化合物Ｉ－３；製造例１で製造した４Ｈ－１，２，４－トリアゾール－３－カルボヒドラジド
※５：化合物Ｉ－４；製造例２で製造したピラジン－２－カルボヒドラジド
※６：化合物Ｉ－５；製造例３で製造したイソキノリン－１－カルボヒドラジド
※７：化合物Ｉ－６；製造例４で製造したピリミジン－２－カルボヒドラジド
※８：化合物Ｉ－７；製造例５で製造したピリダジン－３－カルボヒドラジド
※９：化合物Ｉ－８；製造例６で製造したピリダジン－４－カルボヒドラジド
※１０：化合物Ｉ－９；製造例７で製造した２－（１Ｈ－ベンゾ［ｄ］イミダゾール－１－イル）アセトヒドラジド
※１１：化合物Ｉ－１０；製造例８で製造した２－アミノ－４－（メチルスルファニル）ブタンヒドラジド
※１２：化合物Ｉ－１１；製造例９で製造した２－アミノ－３－（ドデシルスルファニル）プロパンヒドラジド
※１３：化合物Ｉ－１２；製造例１０で製造したＮ’－（４－メチルペンタン－２－イリデン）ピリジン－２－カルボヒドラジド
※１４：化合物Ｉ－１３；製造例１１で製造したＮ’－（プロパン－２－イリデン）ピリジン－２－カルボヒドラジド
※１５：化合物Ｉ－１４；製造例１２で製造したＮ’－（トリデカン－２－イリデン）ピリジン－２－カルボヒドラジド
※１６：化合物ＩＶ－１；東京化成工業社製、オクタデカンヒドラジド
※１７：化合物ＩＶ－２；製造例１４で製造したヘプタンヒドラジド
※１８：化合物ＩＶ－３；東京化成工業社製、オクタンヒドラジド
※１９：化合物Ａ；製造例１７で製造したヘキサンヒドラジド
※２０：ステアリン酸ナトリウム；東京化成工業社製
※２１：シリカ；ＱｕｅＣｈｅｎ Ｓｉｌｉｃｏｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．社製、ＨＤ１６５ＭＰ
※２２：カーボンブラック；Ｃａｂｏｔ社製、Ｎ２３４
※２３：シランカップリング剤；エボニック社製、Ｓｉ６９
※２４：老化防止剤（Ｎ－フェニル－Ｎ'－（１,３－ジメチルブチル）－ｐ－フェニレンジアミン）；Ｋｅｍａｉ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．，Ｌｔｄ社製
※２５：ワックス；Ｒｈｅｉｎ Ｃｈｅｍｉｅ Ｒｈｅｉｎａｕ社製、Ａｎｔｉｌｕｘ １１１
※２６：酸化亜鉛；Ｄａｌｉａｎ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ Ｃｏ．，Ｌｔｄ社製
※２７：ステアリン酸；Ｓｉｃｈｕａｎ Ｔｉａｎｙｕ Ｇｒｅａｓｅ社製
※２８：加硫促進剤Ａ；Ｋｅｍａｉ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．，Ｌｔｄ社製、ＣＢＳ
※２９：加硫促進剤Ｂ；Ｋｅｍａｉ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．，Ｌｔｄ社製、ＤＰＧ
※３０：硫黄；Ｓｈａｎｇｈａｉ Ｊｉｎｇｈａｉ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．，Ｌｔｄ社製
【0169】
【表2】
※２：化合物Ｉ－１；東京化成工業社製、ピリジン－３－カルボヒドラジド
※３：化合物Ｉ－２；東京化成工業社製、ピリジン－２－カルボヒドラジド
※４：化合物Ｉ－３；製造例１で製造した４Ｈ－１，２，４－トリアゾール－３－カルボヒドラジド
※５：化合物Ｉ－４；製造例２で製造したピラジン－２－カルボヒドラジド
※６：化合物Ｉ－５；製造例３で製造したイソキノリン－１－カルボヒドラジド
※７：化合物Ｉ－６；製造例４で製造したピリミジン－２－カルボヒドラジド
※８：化合物Ｉ－７；製造例５で製造したピリダジン－３－カルボヒドラジド
※９：化合物Ｉ－８；製造例６で製造したピリダジン－４－カルボヒドラジド
※１０：化合物Ｉ－９；製造例７で製造した２－（１Ｈ－ベンゾ［ｄ］イミダゾール－１－イル）アセトヒドラジド
※１１：化合物Ｉ－１０；製造例８で製造した２－アミノ－４－（メチルスルファニル）ブタンヒドラジド
※１２：化合物Ｉ－１１；製造例９で製造した２－アミノ－３－（ドデシルスルファニル）プロパンヒドラジド
※１３：化合物Ｉ－１２；製造例１０で製造したＮ’－（４－メチルペンタン－２－イリデン）ピリジン－２－カルボヒドラジド
※１４：化合物Ｉ－１３；製造例１１で製造したＮ’－（プロパン－２－イリデン）ピリジン－２－カルボヒドラジド
※１５：化合物Ｉ－１４；製造例１２で製造したＮ’－（トリデカン－２－イリデン）ピリジン－２－カルボヒドラジド
※１６：化合物ＩＶ－１；東京化成工業社製、オクタデカンヒドラジド
※１７：化合物ＩＶ－２；製造例１４で製造したヘプタンヒドラジド
※１８：化合物ＩＶ－３；東京化成工業社製、オクタンヒドラジド
※１９：化合物Ａ；製造例１７で製造したヘキサンヒドラジド
※２０：ステアリン酸ナトリウム；東京化成工業社製
※２１：シリカ；ＱｕｅＣｈｅｎ Ｓｉｌｉｃｏｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．社製、ＨＤ１６５ＭＰ
※２２：カーボンブラック；Ｃａｂｏｔ社製、Ｎ２３４
※２３：シランカップリング剤；エボニック社製、Ｓｉ６９
※２４：老化防止剤（Ｎ－フェニル－Ｎ'－（１,３－ジメチルブチル）－ｐ－フェニレンジアミン）；Ｋｅｍａｉ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．，Ｌｔｄ社製
※２５：ワックス；Ｒｈｅｉｎ Ｃｈｅｍｉｅ Ｒｈｅｉｎａｕ社製、Ａｎｔｉｌｕｘ １１１
※２６：酸化亜鉛；Ｄａｌｉａｎ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ Ｃｏ．，Ｌｔｄ社製
※２７：ステアリン酸；Ｓｉｃｈｕａｎ Ｔｉａｎｙｕ Ｇｒｅａｓｅ社製
※２８：加硫促進剤Ａ；Ｋｅｍａｉ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．，Ｌｔｄ社製、ＣＢＳ
※２９：加硫促進剤Ｂ；Ｋｅｍａｉ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．，Ｌｔｄ社製、ＤＰＧ
※３０：硫黄；Ｓｈａｎｇｈａｉ Ｊｉｎｇｈａｉ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．，Ｌｔｄ社製
【0170】
実施例１８～２２、比較例１６、２３～２７、及び参考例１～３：ゴム組成物の製造
下記表３の工程Ａに記載の各成分をその割合(質量部)で混合し、バンバリーミキサーで混合した。混合物の温度が６０℃以下になるまで養生させた後、表３の工程Ｂに記載の各成分をその割合(質量部)で投入し、混合物の最高温度が７０℃以下になるよう調整しながら混合して、ゴム組成物を製造した。
下記表３の工程Ａに記載の各成分をその割合(質量部)で混合し、バンバリーミキサーで混合した。混合物の温度が６０℃以下になるまで養生させた後、表３の工程Ｂに記載の各成分をその割合(質量部)で投入し、混合物の最高温度が７０℃以下になるよう調整しながら混合して、ゴム組成物を製造した。
【0171】
低発熱性(Ｔａｎδ値指数)試験
各実施例及び比較例のゴム組成物について、粘弾性測定装置(Ｍｅｔｒａｖｉｂ社製)を使用し、温度４０℃、動歪５％、周波数１５ＨｚでＴａｎδ値を測定した。比較するために、化合物を添加しない以外は、各実施例と同じ配合内容及び同じ製法でゴム組成物（参考例１～３）を作製し、そのＴａｎδ値を１００とした指数により表し、下記式に基づいて低発熱性指数を算出した。なお、低発熱性指数の値が小さい程、低発熱性であり、ヒステリシスロスが小さいことを示す。
式：低発熱性指数
＝（各実施例１８及び２１～２２、並びに比較例１６、及び２６～２７のゴム組成物のＴａｎδ値）×１００／（参考例１のＴａｎδ値）
式：低発熱性指数
＝（実施例１９、及び比較例２４のゴム組成物のＴａｎδ値）×１００／（参考例２のＴａｎδ値）
式：低発熱性指数
＝（実施例２０、並びに比較例２５のゴム組成物のＴａｎδ値）×１００／（参考例３のＴａｎδ値）
各実施例及び比較例のゴム組成物について、粘弾性測定装置(Ｍｅｔｒａｖｉｂ社製)を使用し、温度４０℃、動歪５％、周波数１５ＨｚでＴａｎδ値を測定した。比較するために、化合物を添加しない以外は、各実施例と同じ配合内容及び同じ製法でゴム組成物（参考例１～３）を作製し、そのＴａｎδ値を１００とした指数により表し、下記式に基づいて低発熱性指数を算出した。なお、低発熱性指数の値が小さい程、低発熱性であり、ヒステリシスロスが小さいことを示す。
式：低発熱性指数
＝（各実施例１８及び２１～２２、並びに比較例１６、及び２６～２７のゴム組成物のＴａｎδ値）×１００／（参考例１のＴａｎδ値）
式：低発熱性指数
＝（実施例１９、及び比較例２４のゴム組成物のＴａｎδ値）×１００／（参考例２のＴａｎδ値）
式：低発熱性指数
＝（実施例２０、並びに比較例２５のゴム組成物のＴａｎδ値）×１００／（参考例３のＴａｎδ値）
【0172】
加工性（ムーニー粘度指数）試験
ＪＩＳ Ｋ６３００－１（ムーニー粘度計による粘度及びスコーチタイムの求め方；ＭＬ１＋４，１００℃）に準じて測定した。比較するために、化合物を添加しない以外は、各実施例と同じ配合内容及び同じ製法でゴム組成物(参考例１～３)を作製し、そのムーニー粘度値を１００とした指数により表し、下記式に基づいて加工性指数を算出した。なお、加工性指数の値が小さい程、加工性が良好であることを示す。
式：加工性指数
＝（各実施例１８及び２１～２２、並びに比較例１６、及び２６～２７のゴム組成物のムーニー粘度値）×１００／（参考例１のムーニー粘度値）
式：加工性指数
＝（実施例１９、及び比較例２４のゴム組成物のムーニー粘度値）×１００／（参考例２のムーニー粘度値）
式：加工性指数
＝（実施例２０、並びに比較例２５のゴム組成物のムーニー粘度値）×１００／（参考例３のムーニー粘度値）
ＪＩＳ Ｋ６３００－１（ムーニー粘度計による粘度及びスコーチタイムの求め方；ＭＬ１＋４，１００℃）に準じて測定した。比較するために、化合物を添加しない以外は、各実施例と同じ配合内容及び同じ製法でゴム組成物(参考例１～３)を作製し、そのムーニー粘度値を１００とした指数により表し、下記式に基づいて加工性指数を算出した。なお、加工性指数の値が小さい程、加工性が良好であることを示す。
式：加工性指数
＝（各実施例１８及び２１～２２、並びに比較例１６、及び２６～２７のゴム組成物のムーニー粘度値）×１００／（参考例１のムーニー粘度値）
式：加工性指数
＝（実施例１９、及び比較例２４のゴム組成物のムーニー粘度値）×１００／（参考例２のムーニー粘度値）
式：加工性指数
＝（実施例２０、並びに比較例２５のゴム組成物のムーニー粘度値）×１００／（参考例３のムーニー粘度値）
【0173】
【表3】
※３２：化合物ＩＩ－２；製造例１３で製造したピリジン－３，５－ジカルボヒドラジド
※３３：化合物ＩＩＩ－１；３－メチル－５－ピラゾロン、大塚化学社製
【0174】
実施例２３～２４、比較例２、２８～２９、及び参考例１：ゴム組成物の製造
下記表４の工程Ａに記載の各成分をその割合(質量部)で混合し、バンバリーミキサーで混合した。混合物の温度が６０℃以下になるまで養生させた後、表４の工程Ｂに記載の各成分をその割合(質量部)で投入し、混合物の最高温度が７０℃以下になるよう調整しながら混合して、ゴム組成物を製造した。
下記表４の工程Ａに記載の各成分をその割合(質量部)で混合し、バンバリーミキサーで混合した。混合物の温度が６０℃以下になるまで養生させた後、表４の工程Ｂに記載の各成分をその割合(質量部)で投入し、混合物の最高温度が７０℃以下になるよう調整しながら混合して、ゴム組成物を製造した。
【0175】
低発熱性(Ｔａｎδ値指数)試験
各実施例及び比較例のゴム組成物について、粘弾性測定装置(Ｍｅｔｒａｖｉｂ社製)を使用し、温度４０℃、動歪５％、周波数１５ＨｚでＴａｎδ値を測定した。比較するために、化合物を添加しない以外は、各実施例と同じ配合内容及び同じ製法でゴム組成物（参考例１）を作製し、そのＴａｎδ値を１００とした指数により表し、下記式に基づいて低発熱性指数を算出した。なお、低発熱性指数の値が小さい程、低発熱性であり、ヒステリシスロスが小さいことを示す。
式：低発熱性指数
＝（各実施例２３～２４、及び比較例２、２８～２９のゴム組成物のＴａｎδ値）×１００／（参考例１のＴａｎδ値）
各実施例及び比較例のゴム組成物について、粘弾性測定装置(Ｍｅｔｒａｖｉｂ社製)を使用し、温度４０℃、動歪５％、周波数１５ＨｚでＴａｎδ値を測定した。比較するために、化合物を添加しない以外は、各実施例と同じ配合内容及び同じ製法でゴム組成物（参考例１）を作製し、そのＴａｎδ値を１００とした指数により表し、下記式に基づいて低発熱性指数を算出した。なお、低発熱性指数の値が小さい程、低発熱性であり、ヒステリシスロスが小さいことを示す。
式：低発熱性指数
＝（各実施例２３～２４、及び比較例２、２８～２９のゴム組成物のＴａｎδ値）×１００／（参考例１のＴａｎδ値）
【0176】
加工性（ムーニー粘度指数）試験
ＪＩＳ Ｋ６３００－１（ムーニー粘度計による粘度及びスコーチタイムの求め方；ＭＬ１＋４，１００℃）に準じて測定した。比較するために、化合物を添加しない以外は、各実施例と同じ配合内容及び同じ製法でゴム組成物(参考例１)を作製し、そのムーニー粘度値を１００とした指数により表し、下記式に基づいて加工性指数を算出した。なお、加工性指数の値が小さい程、加工性が良好であることを示す。
式：加工性指数
＝（各実施例２３～２４、及び比較例２、２８～２９のゴム組成物のムーニー粘度値）×１００／（参考例１のムーニー粘度値）
ＪＩＳ Ｋ６３００－１（ムーニー粘度計による粘度及びスコーチタイムの求め方；ＭＬ１＋４，１００℃）に準じて測定した。比較するために、化合物を添加しない以外は、各実施例と同じ配合内容及び同じ製法でゴム組成物(参考例１)を作製し、そのムーニー粘度値を１００とした指数により表し、下記式に基づいて加工性指数を算出した。なお、加工性指数の値が小さい程、加工性が良好であることを示す。
式：加工性指数
＝（各実施例２３～２４、及び比較例２、２８～２９のゴム組成物のムーニー粘度値）×１００／（参考例１のムーニー粘度値）
【0177】
【表4】
※３５：化合物ＩＶ－５；製造例１６で製造されたＮ’－（４－メチルペンタン－２－イリデン）オクタデカンヒドラジド
【産業上の利用可能性】
【0178】
本発明のゴム組成物は、ゴム成分、式（１）で表される化合物、並びに式（２）で表される化合物を含有することにより、本来式（１）で表される化合物が有している低発熱性の効果を維持しつつ、ムーニー粘度の増加を抑え、優れた加工性を有することから、タイヤの材料として好適に活用できる。