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特開2022-105327フォトレジスト組成物及びパターン形成方法
発明の名称 フォトレジスト組成物及びパターン形成方法
出願人 ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ，エル．エル．シー． （識別番号 591016862）
特許公開件数ランキング 1670 位（14件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 1541 位（12件）（共同出願を含む）
出願人 ローム・アンド・ハース電子材料株式会社 （識別番号 592165510）
特許公開件数ランキング 31340 位（0件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 25341 位（0件）（共同出願を含む）
公報番号 特開-2022-105327
公報発行日 2022年7月13
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2022-105327
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