IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

知財求人 - 知財ポータルサイト「IP Force」

▶ 電気化学工業株式会社の特許一覧

<>
  • 特開-加圧装置 図1
  • 特開-加圧装置 図2
  • 特開-加圧装置 図3
  • 特開-加圧装置 図4
  • 特開-加圧装置 図5
  • 特開-加圧装置 図6
  • 特開-加圧装置 図7
  • 特開-加圧装置 図8
  • 特開-加圧装置 図9
< >
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2022106196
(43)【公開日】2022-07-19
(54)【発明の名称】加圧装置
(51)【国際特許分類】
   B25B 11/00 20060101AFI20220711BHJP
【FI】
B25B11/00 Z
【審査請求】未請求
【請求項の数】11
【出願形態】OL
(21)【出願番号】P 2021001038
(22)【出願日】2021-01-06
(71)【出願人】
【識別番号】000003296
【氏名又は名称】デンカ株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100088155
【弁理士】
【氏名又は名称】長谷川 芳樹
(74)【代理人】
【識別番号】100128381
【弁理士】
【氏名又は名称】清水 義憲
(74)【代理人】
【識別番号】100185591
【弁理士】
【氏名又は名称】中塚 岳
(74)【代理人】
【識別番号】100133307
【弁理士】
【氏名又は名称】西本 博之
(72)【発明者】
【氏名】湯浅 晃正
(72)【発明者】
【氏名】中村 貴裕
(72)【発明者】
【氏名】江嶋 善幸
(72)【発明者】
【氏名】五十嵐 厚樹
【テーマコード(参考)】
3C020
【Fターム(参考)】
3C020XX07
(57)【要約】
【課題】積層体の適切な加圧が可能であり、更に、適切な加圧状態を安定的に維持できる。
【解決手段】積層体Bを加圧して保持する加圧治具1であって、積層体Bが載置されるベースプレート2と、ベースプレート2に対向して配置され、ベースプレート2との間で積層体Bを挟持するカバープレート3と、カバープレート3上に配置されたスプリングワッシャ4と、スプリングワッシャ4上に配置された加圧プレート5と、加圧プレート5を介してスプリングワッシャ4を圧縮して積層体Bを加圧する加圧構造6と、を備え、カバープレート3及び加圧プレート5の少なくとも一方には、スプリングワッシャ4を位置決めする溝部71が設けられている。
【選択図】図1
【特許請求の範囲】
【請求項1】
積層体を加圧して保持する加圧装置であって、
前記積層体が載置される土台部と、
前記土台部に対向して配置され、前記土台部との間で前記積層体を挟持するカバー部と、
前記カバー部上に配置された圧縮バネと、
前記圧縮バネ上に配置された加圧部と、
前記加圧部を介して前記圧縮バネを圧縮して前記積層体を加圧する加圧構造と、を備え、
前記カバー部及び前記加圧部の少なくとも一方には、前記圧縮バネを位置決めする位置決め部が設けられている、加圧装置。
【請求項2】
前記位置決め部は、前記カバー部に設けられ、且つ前記圧縮バネの一部を収容する溝部を備え、
前記カバー部は、前記溝部を避けた位置に前記加圧部に当接可能な当接面を備えている、請求項1記載の加圧装置。
【請求項3】
前記圧縮バネは、スプリングワッシャ及びコイルスプリングの少なくとも一方であり、
前記位置決め部は、前記溝部内で前記圧縮バネに挿通される軸部を備えている、請求項2記載の加圧装置。
【請求項4】
前記圧縮バネは、スプリングワッシャ及びコイルスプリングの少なくとも一方であり、
前記位置決め部は、前記カバー部及び前記加圧部の少なくとも一方から突出して前記圧縮バネに挿通される軸部を備えている、請求項1記載の加圧装置。
【請求項5】
前記軸部は、前記カバー部及び前記加圧部の一方から突出されると共に、前記カバー部及び前記加圧部の他方を貫通している、請求項4記載の加圧装置。
【請求項6】
前記位置決め部は、前記溝部と、前記加圧部に設けられ、且つ前記溝部に対向して配置されると共に、前記圧縮バネの一部を収容する対向溝部と、を備えている請求項2または3記載の加圧装置。
【請求項7】
前記溝部は、前記圧縮バネに摺接して前記圧縮バネの圧縮を案内する周壁部を備え、
前記対向溝部は、前記圧縮バネに摺接して前記圧縮バネの圧縮を案内する周壁部を備えている請求項6記載の加圧装置。
【請求項8】
前記圧縮バネはスプリングワッシャであり、
前記位置決め部は、前記対向溝部内で前記スプリングワッシャに挿通される軸部を備えている、請求項6または7記載の加圧装置。
【請求項9】
前記加圧部は、前記対向溝部を避けた位置に、前記カバー部の前記当接面に当接可能な対向面を備えており、
前記当接面と前記対向面とは、圧縮された前記圧縮バネが前記溝部及び前記対向溝部の内部に収容された状態で当接可能である、請求項6~8のいずれか一項記載の加圧装置。
【請求項10】
前記位置決め部は、前記カバー部に複数設けられており、
前記複数の位置決め部は、前記カバー部の中心を通る仮想の直線に対して線対称に配置されている、請求項1~9のいずれか一項記載の加圧装置。
【請求項11】
前記複数の位置決め部は、前記カバー部の周縁に沿って配置されている請求項10記載の加圧装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、積層体を加圧して保持する加圧装置に関する。
【背景技術】
【0002】
回路基板等に使用される積層体を、加圧した状態で保持する加圧装置が知られている。この種の加圧装置では、加圧する積層体を上下の板材で挟み、更に、上方の板材をコイルスプリングで押圧することで積層体を保持している(特許文献1、2、3参照)。加圧装置は、例えば、加熱炉に供給されて積層体の接合等が行われる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開2010-23899号公報
【特許文献2】特開2012-200730号公報
【特許文献3】特開2013-71880号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
従来の加圧装置において、積層体への加圧はコイルスプリングの圧縮によって行われている。コイルスプリングを設置位置が不適切であると、積層体への加圧が不適切になってしまい、更に、この状態で積層体の接合等を行うと、接合等の処理が不十分になってしまう可能性もある。
【0005】
本発明は、以上の課題を解決することを目的としており、積層体の適切な加圧が可能であり、更に、適切な加圧状態を安定的に維持できる加圧装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明は、積層体を加圧して保持する加圧装置であって、積層体が載置される土台部と、土台部に対向して配置され、土台部との間で積層体を挟持するカバー部と、カバー部上に配置された圧縮バネと、圧縮バネ上に配置された加圧部と、加圧部を介して圧縮バネを圧縮して積層体を加圧する加圧構造と、を備え、カバー部及び加圧部の少なくとも一方には、圧縮バネを位置決めする位置決め部が設けられている。
【0007】
この加圧装置によれば、圧縮バネを位置決めする位置決め部が設けられているので、積層体の適切な加圧が可能であり、更に、適切な加圧状態を安定的に維持できる。
【0008】
上記の加圧装置において、位置決め部は、カバー部に設けられ、且つ圧縮バネの一部を収容する溝部を備え、カバー部は、溝部を避けた位置に加圧部に当接可能な当接面を備えていてもよい。溝部によって圧縮バネの一部分を収容することで、圧縮バネを簡便に、且つ安定して位置決めできる。また、加圧部は、カバー部の当接面に当接するまで圧縮バネを圧縮できる。さらに当接面は、溝部を避けた位置に設けられているので、溝部内に収容された圧縮バネは、当接面の影響を受けずに圧縮され、また、圧縮バネの一部分は溝部内に収容されているので嵩が低くなり、コンパクト化に有利になる。
【0009】
上記の加圧装置において、圧縮バネは、スプリングワッシャ及びコイルスプリングの少なくとも一方であり、位置決め部は、溝部内で圧縮バネに挿通される軸部を備えていてもよい。溝部内に軸部を設けることで、溝部及び軸部の両方によって圧縮バネを安定して位置決めでき、更に圧縮バネは、軸部に案内されながら圧縮するので、圧縮の際にずれ難く、適切な方向への圧縮が可能になる。
【0010】
上記の加圧装置において、圧縮バネは、スプリングワッシャ及びコイルスプリングの少なくとも一方であり、位置決め部は、カバー部及び加圧部の少なくとも一方から突出して圧縮バネに挿通される軸部であってもよい。圧縮バネの内部に軸部を挿通させることで圧縮バネを安定して位置決めでき、更に圧縮バネは、軸部に案内されながら圧縮するので、圧縮の際にずれ難く、適切な方向への圧縮が可能になる。
【0011】
上記の軸部は、カバー部及び加圧部の一方から突出されると共に、カバー部及び加圧部の他方を貫通していてもよい。軸部の長さが、圧縮バネの高さよりも長い場合であっても、軸部は、カバー部または加圧部を貫通するので加圧部による圧縮バネの加圧に支障を来さない。なお、軸部をカバー部に設けて加圧部を貫通するような形態においては、圧縮バネを加圧するための加圧部の移動を軸部によって案内させることもできる。
【0012】
上記の加圧装置において、位置決め部は、上記の溝部と、加圧部に設けられ、且つ溝部に対向して配置されると共に、圧縮バネの一部を収容する対向溝部と、を備えていてもよい。溝部と対向溝部との両方で、圧縮バネを挟み込むように位置決めするので、圧縮バネを、より安定して保持するのに有効である。
【0013】
上記の加圧装置において、溝部は、圧縮バネに摺接して圧縮バネの圧縮を案内する周壁部を備え、対向溝部は、圧縮バネに摺接して圧縮バネの圧縮を案内する周壁部を備えていてもよい。溝部の周壁部及び対向溝部の周壁部が協働して圧縮バネの圧縮を案内するので、圧縮の際にずれ難く、圧縮バネの全体を適切に圧縮させ易くなる。
【0014】
上記の加圧装置において、圧縮バネはスプリングワッシャであり、位置決め部は、対向溝部内でスプリングワッシャに挿通される軸部を備えていてもよい。スプリングワッシャは、対向溝部内の軸部に案内されながら圧縮されるので、圧縮の際にずれ難く、適切な方向への圧縮が可能になる。
【0015】
上記の加圧装置において、加圧部は、対向溝部を避けた位置に、カバー部の当接面に当接可能な対向面を備えており、当接面と対向面とは、圧縮されたスプリングワッシャが溝部及び対向溝部の内部に収容された状態で当接可能であってもよい。上述の通り、当接面は溝部を避けた位置に設けられており、また、対向面は、対向溝部を避けた位置に設けられているので、溝部及び対向溝部内に収容された圧縮バネは、当接面及び対向面の影響を受けずに圧縮され、また、圧縮バネは溝部及び対向溝部内に収容されているので嵩が低くなり、コンパクト化に有利になる。
【0016】
上記の加圧装置において、位置決め部は、カバー部に複数設けられており、複数の位置決め部は、カバー部の中心を通る仮想の直線に対して線対称に配置されていてもよい。複数の圧縮バネにより、カバー部の全面を偏りなく加圧するのに有利になる。
【0017】
複数の位置決め部は、カバー部の周縁に沿って配置されていてもよい。積層体に対し、カバー部の周縁に沿った外寄りの位置から加圧し易くなる。
【発明の効果】
【0018】
本発明によれば、積層体の適切な加圧が可能であり、更に、適切な加圧状態を安定的に維持できる。
【図面の簡単な説明】
【0019】
図1図1は、第1の実施形態に係る加圧治具の斜視図である。
図2図2は、実施形態に係る加圧治具を一部破断して示す平面図である。
図3図3は、実施形態に係る加圧治具の正面図である。
図4図4は、図2のIV-IV線に沿った断面図である。
図5図5は、図3のV-V線に沿った断面図である。
図6図6は、他の実施形態に係る加圧治具を示し、(a)の図は第2の実施形態に係る加圧治具を模式的に示す断面図であり、(b)の図は第3の実施形態に係る加圧治具を模式的に示す断面図である。
図7図7は、第4の実施形態に係る加圧治具を模式的に示す断面図である。
図8図8は、第5の実施形態に係る加圧治具であり、上部プレートによってスプリングワッシャを圧縮する前の状態を示す断面図である。
図9図9は、第5の実施形態に係る加圧治具であり、上部プレートによってスプリングワッシャを圧縮している状態を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0020】
以下、図面を参照しつつ本発明の実施形態について詳細に説明する。
【0021】
まず、図1図2、及び図3を参照して、第1の実施形態に係る加圧治具1(加圧装置の一例)について説明する。加圧治具1は、半導体の基板等に使用される積層体Bを加圧保持した状態で窒素連続炉等の加熱炉内に導入される。加熱炉内において、積層体Bは加熱され、ろう付けにより接合される。
【0022】
本実施形態では、複数の基板ユニットBaがスペーサSを挟んで積層されており、基板ユニットBaと加圧治具1との間にもスペーサSが配置されている。また、接合前の状態において、基板ユニットBaは、セラミック板b2を一対の銅板b1で挟んで形成された積層体構造(図4参照)になっている。本実施形態に係る積層体Bは、スペーサS及び複数の基板ユニットBaによって形成される。本実施形態に係る積層体Bは平面視で矩形であるが、他の形状であってもよい。スペーサSは、基板ユニットBa同士の接合及び基板ユニットBaと加圧治具1との接合を阻止できればよく、本実施形態ではカーボンスペーサを利用している。
【0023】
加圧治具1は、積層体Bが載置される板状のベースプレート2(土台部の一例)と、ベースプレート2に対向して配置されたカバープレート3(カバー部の一例)とを備えている。カバープレート3は、ベースプレート2との間で積層体Bを挟持する。また、加圧治具1は、カバープレート3上に配置された複数のスプリングワッシャ4(圧縮バネの一例)と、スプリングワッシャ4上に配置された加圧プレート5(加圧部の一例)と、スプリングワッシャ4を位置決めする位置決め部7Aと、を備えている。また、加圧治具1は、加圧プレート5によってスプリングワッシャ4を圧縮して積層体Bを加圧する加圧構造6を備えている。
【0024】
ベースプレート2は、例えば矩形状であり、平面視で積層体Bからはみ出た領域、つまり積層体Bに重なっていない張出領域2aを有する。ベースプレート2の張出領域2aには、ベースプレート2の短辺に沿うように複数(例えば、二本)の支柱8が立設されている。また、支柱8は、ベースプレート2の長手方向(左右方向)の両側で対向して配置されており、左右で対向する一対の支柱8同士の間に積層体Bが配置されている。支柱8の上部には、係止爪9が挿通される係合孔8aが形成されている。
【0025】
カバープレート3は、積層体Bの形状に対応した矩形状であり、一方の表面(以下、「下面」と称する)と他方の表面(以下、「上面」と称する)とを有する。下面3aは平坦面であり、積層体Bに当接する。上面には、複数の溝部71と、溝部71を避けた位置に設けられた平坦な当接面3bとが形成されている。
【0026】
位置決め部7は、上述の複数の溝部71を備えている。各溝部71内にはスプリングワッシャ4の下側の一部分が収容される。溝部71の深さは、例えばスプリングワッシャ4が圧縮されて平坦になった際に、スプリングワッシャ4の全体が収まる程度の寸法であると望ましい。当接面3bは、加圧プレート5に当接可能であってもよい。つまり、溝部71の深さが、圧縮されたスプリングワッシャ4の全体が収まる程度の寸法の場合、加圧プレート5は、当接面3bに当接するまでスプリングワッシャ4を圧縮することができる。
【0027】
溝部71は、スプリングワッシャ4の外周形状に倣った形状(平面視で円形)の周壁部7aと、スプリングワッシャ4が載置される環状(ドーナツ状)の底部7bとを備えている。周壁部7aは、スプリングワッシャ4の外周を囲むことでスプリングワッシャ4が左右にずれないように位置決めしている。また、周壁部7aは、スプリングワッシャ4の外周に摺接してスプリングワッシャ4の圧縮を案内する。
【0028】
また、位置決め部7は、溝部71内に設けられた軸部10を備えている。軸部10は、スプリングワッシャ4に挿通される。軸部10は、底部7bから立設され、スプリングワッシャ4の内周形状に倣った断面円形を有する。軸部10は、スプリングワッシャ4に挿通されることでスプリングワッシャ4を位置決めする。つまり、本実施形態に係る加圧治具1では、溝部71内に軸部10を設けることで、溝部71及び軸部10の両方によってスプリングワッシャ4を安定して位置決めでき、更にスプリングワッシャ4は、軸部10に案内されながら圧縮するので、圧縮の際にズレ難く、適切な方向への圧縮が可能になる。なお、軸部10が設けられておらず、周壁部7aのみが位置決め部として機能する溝部71であってもよい。
【0029】
加圧プレート5は、平面視でベースプレート2の張出領域2aに対向する余剰領域5aを有する。余剰領域5aには、支柱8が貫通する支柱貫通孔5bが形成されている。また、余剰領域5aの上面には、支柱貫通孔5bを通るように収納溝5cが設けられている。収納溝5cには、係止爪9が収まる。
【0030】
加圧プレート5は、カバープレート3に重ねるように配置され、更に、スプリングワッシャ4に当接するように押し下げられる。加圧プレート5を押し下げる際、加圧プレート5の余剰領域5aに設けられた支柱貫通孔5bには支柱8が通される。支柱8の上部は支柱貫通孔5bの上方に突き出る。支柱8の上部には、係合孔8aが設けられており、係合孔8aには係止爪9(係止部)が挿通される。係止爪9は、横方向から係合孔8aを貫通すると共に、加圧プレート5の上面に当接して加圧プレート5を係止する。加圧プレート5の上面には、係止爪9の軌跡に沿うように収納溝5cが形成されており、係止爪9は収納溝5cに沿ってスライドする。
【0031】
係止爪9が加圧プレート5を係止すると、加圧プレート5は上方への移動を規制される。加圧プレート5の移動の規制により、スプリングワッシャ4の復元が阻止され、スプリングワッシャ4は圧縮状態で保持される。本実施形態に係る加圧構造6は、少なくとも加圧プレート5、支柱8、係合孔8a及び係止爪9を備えて構成されている。
【0032】
スプリングワッシャ4は、圧縮バネの一例であり、例えば、インコネル750、インコネル718、窒化ケイ素、カーボンコンポジット等によって形成されている。一部分が溝部71に収容されて位置決めされる圧縮バネとしては、コイルスプリングや板バネ、その他のバネ材であってもよい。
【0033】
図5に示されるように、複数の溝部71(複数の位置決め部7)は、カバープレート3の周縁3xからはみ出すことなく、カバープレート3の周縁3xよりも内側に収まるように配置されている。また、複数の溝部71は、カバープレート3の周縁3xに沿って配置されている。例えば、本実施形態に係るカバープレート3の周縁3xは矩形状である。溝部71は、周縁3xの各短辺に沿って3個が並ぶように設けられており、各長辺に沿って5個の溝部71が並ぶように設けられている。複数の溝部71をカバープレート3の周縁3xに沿って設けることにより、積層体Bに対し、カバープレート3の周縁3xに沿った外寄りの位置から加圧し易くなる。
【0034】
また、複数の溝部71は、3行、5列となるように規則的に並んで配置されている。ここで、例えば、平面視でのカバープレート3の中心Cpを特定し、この中心Cpを通り、カバープレート3の長辺に平行となるような仮想の直線(第1の直線)L1を想定した場合に、複数の溝部71は、第1の直線L1に対して線対称に配置されている。また、本実施形態では、中心Cpを通り、第1の直線L1に直交する仮想の直線(第2の直線)L2を想定した場合に、複数の溝部71は、第2の直線L2に対して線対称に配置されている。カバープレート3の中心Cpを通る第1の直線L1、あるいは第2の直線L2に対して複数の溝部71が線対称に配置されていると、複数の溝部71に収容される複数のスプリングワッシャ4により、カバープレート3の全面を偏りなく加圧するのに有利になる。
【0035】
ここで、カバープレート3の中心Cpについて補足する。本実施形態に係るカバープレート3の外形は矩形であり、カバープレート3の中心Cpは対角線が交差する点として容易に推定できる。これに対し、カバープレート3の外形が他の多角形や複雑な形状の場合には幾何中心が相当し、例えば重心の位置として推定することも可能である。更に、中心Cpの位置及び中心Cpを通る仮想の直線について、例えば、10mm程度の誤差は許容される。
【0036】
次に、積層体Bの接合方法について説明する。本実施形態に係る積層体Bの接合方法は、例えば、治具積層工程、接合工程、及び治具離脱工程を備えている。
【0037】
治具積層工程では、積層体Bが加圧治具1に設置される(図1参照)。具体的には、治具積層工程では、ろう材の印刷が完了した接合前の積層体Bが搬送部によって積層装置に供給される。積層装置は、未接合の積層体Bを加圧治具1のベースプレート2上に載置し、未接合の積層体B上にカバープレート3及びスプリングワッシャ4を設置し、カバープレート3及びスプリングワッシャ4上に加圧プレート5を設置する。加圧プレート5は、スプリングワッシャ4を圧縮するように押し下げられ、加圧構造6によって所定位置に保持される。加圧プレート5によって圧縮されたスプリングワッシャ4はカバープレート3を加圧し、カバープレート3を介して未接合の積層体Bが加圧され、所定位置に保持される。
【0038】
接合工程では、加熱炉(例えば、窒素連続炉)において未接合の積層体Bの接合が行われる。具体的には、加熱炉は、窒素雰囲気を形成可能な室部と、室部内に設けられた加熱部とを備えている。搬送部は、未接合の積層体Bを保持している加圧治具1を加熱炉の室部内に導入する。室部内では、積層体Bの温度を、積層体Bの接合が可能となる所定温度(接合温度)以上にまで上げ、更に適切な接合が可能となるように、所定時間(接合時間)だけ接合温度を維持する必要がある。
【0039】
治具離脱工程では、接合が完了した積層体Bに対する加圧治具1の加圧が解除され、積層体Bが加圧治具1から取り外される。離脱装置は、加圧治具1の加圧構造6による加圧プレート5の係止状態を解き、スプリングワッシャ4を復元させる。スプリングワッシャ4の復元により、積層体Bは、ベースプレート2及びカバープレート3から取り外し可能(剥離可能)な状態になり、離脱装置は積層体Bを加圧治具1から取り外し、次工程に搬送する。
【0040】
次に、図6の(a)の図を参照し、第2の実施形態に係る加圧治具1Aを説明する。本実施形態に係る加圧治具1Aは、第1の実施形態に係る加圧治具1と同様の構造や要素を備えている。以下の説明では、相違点を中心に説明し、共通の構造や要素については、同じ符号を付して詳細な説明は省略する。
【0041】
本実施形態に係る加圧治具1Aは、ベースプレート2(土台部の一例)と、ベースプレート2に対向して配置されたカバープレート3(カバー部の一例)と、カバープレート3上に配置された複数のコイルスプリング11(圧縮バネの一例)と、コイルスプリング11上に配置された加圧プレート5(加圧部の一例)と、コイルスプリング11を位置決めする位置決め部7Aと、を備えている。また、加圧治具1Aは、加圧プレート5によってコイルスプリング11を圧縮して積層体Bを加圧する加圧構造6を備えている。
【0042】
位置決め部7Aは、加圧プレート5に設けられた複数の溝部12を備えている。溝部12は、加圧プレート5のコイルスプリング11に対面する側に設けられており、溝部12には、コイルスプリング11の上部の一部分が収容されている。溝部12は、コイルスプリング11の外周形状に倣った形状(平面視で円形)の周壁部12aと、コイルスプリング11の上端が当接する円形の天井部12bとを備えている。周壁部12aは、コイルスプリング11の外周を囲むことでコイルスプリング11を位置決めする。また、周壁部12aは、スプリングワッシャ4の外周に摺接してスプリングワッシャ4の圧縮を案内する。
【0043】
なお、本実施形態の位置決め部7Aは、例えば、溝部12内に加圧プレート5から下方に向けて突出した軸部を備えていてもよい。軸部は、例えば、コイルスプリング11の内周形状に倣った断面円形であり、コイルスプリング11に挿通されることでコイルスプリング11を位置決めし、更にコイルスプリング11の圧縮方向を案内するようにしてもよい。
【0044】
次に、図6の(b)の図を参照し、第3の実施形態に係る加圧治具1Bを説明する。本実施形態に係る加圧治具1Bは、第1の実施形態に係る加圧治具1又は第2の実施形態に係る加圧治具1Aと同様の構造や要素を備えている。以下の説明では、相違点を中心に説明し、共通の構造や要素については、同じ符号を付して詳細な説明は省略する。
【0045】
本実施形態に係る加圧治具1Bは、ベースプレート2(土台部の一例)と、ベースプレート2に対向して配置されたカバープレート3(カバー部の一例)と、カバープレート3上に配置された複数のコイルスプリング11(圧縮バネの一例)と、コイルスプリング11上に配置された加圧プレート5(加圧部の一例)と、コイルスプリング11を位置決めする位置決め部7Bと、を備えている。また、加圧治具1Bは、加圧プレート5によってコイルスプリング11を圧縮して積層体Bを加圧する加圧構造6を備えている。
【0046】
位置決め部7Bは、カバープレート3に設けられた溝部13を備え、溝部13には、コイルスプリング11の下部の一部分が収容されている。溝部13は、コイルスプリング11の外周形状に倣った形状の周壁部13aと、コイルスプリング11の下端が当接する円形の底部13bとを備えている。周壁部13aは、コイルスプリング11の外周を囲むことでコイルスプリング11を位置決めする。また、周壁部13aは、コイルスプリング11の外周に摺接してコイルスプリング11の圧縮を案内する。
【0047】
位置決め部7Bは、加圧プレート5に設けられた対向溝部14を備えている。対向溝部14は、溝部13に対向して配置されており、コイルスプリング11の上部の一部分が収容されている。対向溝部14は、コイルスプリング11の外周形状に倣った形状の周壁部14aと、コイルスプリング11の上端が当接する円形の天井部14bとを備えている。周壁部14aは、コイルスプリング11の外周を囲むことでコイルスプリング11を位置決めする。また、周壁部14aは、コイルスプリング11の外周に摺接してコイルスプリング11の圧縮を案内する。
【0048】
また、本実施形態において、第1の実施形態に係る加圧治具1と同様に、カバープレート3に形成された複数の溝部13(複数の位置決め部7B)は、カバープレート3の中心を通る仮想の直線に対して線対称に配置されていてもよい。また、複数の溝部13は、カバープレート3の周縁に沿って配置されていてもよい。
【0049】
次に、図7を参照し、第4の実施形態に係る加圧治具1Cを説明する。本実施形態に係る加圧治具1Cは、第1~第3の実施形態に係る加圧治具1、1A、1Bと同様の構造や要素を備えている。以下の説明では、相違点を中心に説明し、共通の構造や要素については、同じ符号を付して詳細な説明は省略する。
【0050】
本実施形態に係る加圧治具1Cは、ベースプレート2(土台部の一例)と、ベースプレート2に対向して配置されたカバープレート3(カバー部の一例)と、カバープレート3上に配置された複数のコイルスプリング11(圧縮バネの一例)と、コイルスプリング11上に配置された加圧プレート5(加圧部の一例)と、コイルスプリング11を位置決めする位置決め部7Cと、を備えている。また、加圧治具1Cは、加圧プレート5によってコイルスプリング11を圧縮して積層体Bを加圧する加圧構造6を有する。
【0051】
位置決め部7Cは、コイルスプリング11に挿通されてコイルスプリング11を位置決めする軸部15を備えている。軸部15は、カバープレート3から加圧プレート5に向けて突出しており、軸部15はコイルスプリング11の軸線X方向の長さよりも長くなっている。そこで、加圧プレート5には、軸部15が挿通する逃げ孔16が設けられている。つまり、軸部15は、逃げ孔16に挿通することで加圧プレート5を貫通し、加圧プレート5との干渉を避けることができる。軸部15に挿通されて位置決めされたコイルスプリング11の下端は、カバープレート3上に載置され、上端は、加圧プレート5の下面に当接している。軸部15と加圧プレート5とは、逃げ孔16内で離間していても、摺接していてもよく、摺接させる場合には、加圧プレート5の昇降(移動)を軸部15によって案内させることもできる。
【0052】
なお、加圧プレート5からカバープレート3に向けて突出した軸部を設け、カバープレート3に、軸部との干渉を避けるための逃げ孔を設けることもできる。この場合、軸部は、コイルスプリング11に挿通されてコイルスプリング11を位置決めし、また、逃げ孔に挿通することでカバープレート3を貫通する。この場合、軸部は、カバープレート3を貫通した際に、積層体Bに干渉しない位置に設ける必要がある。
【0053】
また、本実施形態に係る加圧治具1Cにおいて、第1の実施形態に係る加圧治具1と同様に、カバープレート3に設けた複数の軸部15(複数の位置決め部7C)は、カバープレート3の中心を通る仮想の直線に対して線対称に配置されていてもよい。また、複数の軸部15は、カバープレート3の周縁に沿って配置されていてもよい。
【0054】
次に、図8図9を参照し、第5の実施形態に係る加圧治具1Dを説明する。本実施形態に係る加圧治具1Dは、第1~第4の実施形態に係る加圧治具1、1A~1Cと同様の構造や要素を備えている。以下の説明では、相違点を中心に説明し、共通の構造や要素については、同じ符号を付して詳細な説明は省略する。
【0055】
本実施形態に係る加圧治具1Dは、ベースプレート2(土台部の一例)と、ベースプレート2に対向して配置された下部プレート3Aと、下部プレート3A上に配置された複数のスプリングワッシャ4と、スプリングワッシャ4上に配置された上部プレート3Bと、上部プレート3B上に配置された加圧プレート5Aと、スプリングワッシャ4を位置決めする位置決め部7Dと、を備えている。また、加圧治具1Dは、加圧プレート5で上部プレート3Bを押圧し、上部プレート3Bによってスプリングワッシャ4を圧縮して積層体Bを加圧する加圧構造6を有する。スプリングワッシャ4は圧縮バネの一例であり、下部プレート3Aはカバー部の一例であり、上部プレート3Bは加圧部の一例である。なお、加圧プレート5Aは、実質的に第1~第4の実施形態に係る加圧プレート5と同様の構造を備えるが、本実施形態において、スプリングワッシャ4上に配置されているのは上部プレート3Bであるため、上述の通り、上部プレート3Bが加圧部の一例に相当する。
【0056】
下部プレート3Aの下面は平坦であり、積層体Bに当接している。下部プレート3Aの上面には、スプリングワッシャ4の下部が収容される複数の溝部70Aと、溝部70Aを避けた位置に設けられた平坦な当接面75とが設けられている。上部プレート3Bは、実質的に下部プレート3Aと同一の形成であり、下部プレート3Aを裏返したような状態で配置されている。上部プレート3Bには、スプリングワッシャ4の上部が収容される複数の溝部(以下、「対向溝部70B」と称する)と、対向溝部70Bを避けた位置に設けられた平坦な対向面76とが設けられている。対向面76は、当接面75に対向するように設けられており、当接面75と対向面76とは、圧縮されたスプリングワッシャ4が溝部70A及び対向溝部70Bの内部に収容された状態で当接可能である。
【0057】
位置決め部7Dは、下部プレート3Aに設けられた上述の複数の溝部70Aを備えている。溝部70Aは、スプリングワッシャ4の外周形状に倣った形状の周壁部72aと、スプリングワッシャ4の端部(下端)が当接する環状(ドーナツ状)の底部72bとを備えている。溝部70Aには、スプリングワッシャ4の下部の一部分が収容されており、周壁部72aは、スプリングワッシャ4の外周を囲むことでスプリングワッシャ4を位置決めする。また、周壁部72aは、スプリングワッシャ4の外周に摺接してスプリングワッシャ4の圧縮を案内する。
【0058】
また、位置決め部7Dは、溝部70A内に設けられた第1の軸部10Aを備えている。第1の軸部10Aは、底部72bから立設され、スプリングワッシャ4の内周形状に倣った断面円形を有する。第1の軸部10Aは、溝部70A内で、スプリングワッシャ4に挿通されることでスプリングワッシャ4を位置決めする。
【0059】
位置決め部7Dは、上部プレート3Bに設けられた上述の複数の対向溝部70Bを備えている。対向溝部70Bは、溝部70Aに対向して配置されており、対向溝部70Bは、スプリングワッシャ4の外周形状に倣った形状の周壁部73aと、スプリングワッシャ4の端部(上端)が当接する環状(ドーナツ状)の天井部73bとを備えている。対向溝部70Bには、スプリングワッシャ4の上部の一部分が収容されており、周壁部73aは、スプリングワッシャ4の外周を囲むことでスプリングワッシャ4を位置決めする。また、周壁部73aは、スプリングワッシャ4の外周に摺接してスプリングワッシャ4の圧縮を案内する。
【0060】
また、位置決め部7Dは、対向溝部70B内に設けられた第2の軸部10Bを備えている。第2の軸部10Bは、天井部73bから突出され、スプリングワッシャ4の内周形状に倣った断面円形を有する。第2の軸部10Bは、対向溝部70B内で、スプリングワッシャ4に挿通されることでスプリングワッシャ4を位置決めする。
【0061】
なお、本実施形態に係る加圧治具1Dにおいて、第1の実施形態に係る加圧治具1と同様に、下部プレート3Aに設けられた複数の溝部70A(複数の位置決め部7D)は、下部プレート3Aの中心を通る仮想の直線に対して線対称に配置されていてもよい。また、複数の位置決め部は、下部プレート3Aの周縁に沿って配置されていてもよい。
【0062】
上記の各実施形態に係る加圧治具1、1A~1Dによれば、スプリングワッシャ4やコイルスプリング11などの圧縮バネを位置決めする位置決め部7、7A、7B、7C、7Dが設けられているので、積層体Bの適切な加圧が可能であり、更に、適切な加圧状態を安定的に維持できる。
【0063】
また、第1、第5の各実施形態に係る加圧治具1、1Dの位置決め部7、7Dは、カバープレート3または下部プレート3Aに溝部71、70Aを備え、カバープレート3または下部プレート3Aは、溝部71、70Aを避けた位置に加圧プレート5または上部プレート3Bに当接可能な当接面3b、75を備えている。溝部71、70Aによってスプリングワッシャ4の一部分を収容することで、スプリングワッシャ4を簡便に、且つ安定して位置決めできる。また、加圧プレート5または上部プレート3Bは、当接面3b、75に当接するまでスプリングワッシャ4を圧縮できる。さらに当接面3b、75は、溝部71、70Aを避けた位置に設けられているので、溝部71、70A内に収容されたスプリングワッシャ4は、当接面3b、75の影響を受けずに圧縮され、また、スプリングワッシャ4の一部分は溝部71、70A内に収容されているので嵩が低くなり、コンパクト化に有利になる。
【0064】
このコンパクト化の優位性について補足すると、例えば、積層体Bを連続式の加熱炉で接合する場合、バッチ式の加熱炉で接合する場合に比べ、炉内の温度条件を一定に保持するための条件が厳しくなる。具体的には、加圧治具の高さや寸法等に応じて炉内を大きくすると、炉内の温度や環境を維持するための条件が厳しくなる。その結果、積層体の温度を接合温度以上とし、更に接合時間を維持するようにする制御や調整は、困難になり易い。ここで第1~第3、第5の実施形態に係る加圧治具1、1A、1B、1Dによれば、溝部71、12、13、70A内または対向溝部14、70B内にスプリングワッシャ4等の一部分を収容することで高さを抑え易くなり、その結果、炉内において、積層体Bの温度を接合温度以上とし、更に接合時間を維持するようにする制御や調整が容易となり、積層体Bの適切な接合にも有利になる。特に、積層体Bが半導体の基板等に利用されるものである場合、積層体Bの適切な接合は、繊細で非常に重要であるため、僅かな差であっても品質に大きな影響を及ぼすので、溝部71、12、13、70A,または対向溝部14、70B内にスプリングワッシャ4等の一部分を収容する意義は非常に大きい。
【0065】
また、上記の第1、第3~第4の実施形態に係る加圧治具1、1B~1Dにおいて、複数の位置決め部7、7B~7Dは、カバープレート3や下部プレート3Aの中心を通る仮想の直線に対して線対称に配置されている。その結果、複数のスプリングワッシャ4やコイルスプリング(圧縮バネ)により、カバープレート3や下部プレート3Aの全面を偏りなく加圧するのに有利になる。
【0066】
また、複数の位置決め部7、7B~7Dは、カバープレート3や下部プレート3Aの周縁3xに沿って配置されており、その結果、積層体Bに対し、カバープレート3や下部プレート3Aの周縁に沿った外寄りの位置から加圧し易くなる。
【0067】
以上、各実施形態に係る加圧治具に基づいて、加圧装置を説明したが、本発明は、これらの実施形態のみには限定されない。例えば、溝部の外周壁や軸部の形状は、圧縮バネの外周や内周等に完全に倣う形状でなくてもよく、圧縮バネの外周や内周に少なくとも一部分が当接して圧縮バネの位置ズレを防止できる形状であればよい。例えば、圧縮バネの外周や内周が円形の場合に、溝部の外周壁や軸部が四角形状であり、四角形状の四点が溝部の外周壁や軸部に当接して位置ズレを防止できる形状でもよい。
【0068】
また、積層体としては半導体の基板等に使用される積層体に限定されず、他の積層体、例えば、ヒートシンクとセラミック基板とを積層した接合物等であってもよい。
【符号の説明】
【0069】
1,1A,1B,1C,1D…加圧治具(加圧装置)、2…ベースプレート(土台部)、3…カバープレート(カバー部)、3A…下部プレート(カバー部)、3B…上部プレート(加圧部)、3x…カバープレートの周縁、3b,75…当接面、4…スプリングワッシャ(圧縮バネ)、5,5A…加圧プレート(加圧部)、6…加圧構造、7,7A,7B,7C,7D…位置決め部、10,15…軸部、10A…第1の軸部、10B…第2の軸部、11…コイルスプリング(圧縮バネ)、13a,14a,73a,74a…周壁部、14,70B…対向溝部、71,12,13,14,70A…溝部、76…対向面、B…積層体、Cp…カバープレートの中心、L1,L2…仮想の直線。
図1
図2
図3
図4
図5
図6
図7
図8
図9