特開2022-107187処理層の形成方法

発明の名称　処理層の形成方法

出願人　株式会社ＫＲＩ　（識別番号 591167430）

　　　　特許公開件数ランキング 2028 位（9件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 1393 位（14件）（共同出願を含む）

公報番号　特開-2022-107187

公報発行日　2022年7月21

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2022-107187

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