特開 2022-108391 活性エネルギ照射装置及び活性エネルギ照射システム

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2022108391

(43)【公開日】2022-07-26

(54)【発明の名称】活性エネルギ照射装置及び活性エネルギ照射システム

(51)【国際特許分類】

   B01J 19/12 20060101AFI20220719BHJP

   B05C 9/12 20060101ALI20220719BHJP

   B41J 2/01 20060101ALI20220719BHJP

【ＦＩ】

B01J19/12 C

B05C9/12

B41J2/01 127

【審査請求】未請求

【請求項の数】11

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2021003348

(22)【出願日】2021-01-13

(71)【出願人】

【識別番号】000236436

【氏名又は名称】浜松ホトニクス株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100088155

【弁理士】

【氏名又は名称】長谷川 芳樹

(74)【代理人】

【識別番号】100113435

【弁理士】

【氏名又は名称】黒木 義樹

(74)【代理人】

【識別番号】100140442

【弁理士】

【氏名又は名称】柴山 健一

(72)【発明者】

【氏名】村山 恭一

(72)【発明者】

【氏名】梅野 圭太

【テーマコード（参考）】

2C056

4F042

4G075

【Ｆターム（参考）】

2C056FC01

2C056FD20

2C056HA44

4F042AA02

4F042AA22

4F042AB00

4F042BA11

4F042BA19

4F042BA22

4F042DB44

4F042DB46

4F042DB47

4F042DB48

4F042DB52

4F042DF16

4G075AA23

4G075BA04

4G075CA33

4G075CA39

4G075CA63

4G075DA02

4G075EB31

4G075EC01

4G075FA14

4G075FB02

4G075FC02

(57)【要約】

【課題】構造上の制約を受け難く、且つ被照射物に対して不活性ガスを均一に噴出することが可能な活性エネルギ照射装置及び活性エネルギ照射システムを提供する。
【解決手段】活性エネルギ照射装置１は、紫外線を出射する出射面を有する活性エネルギ照射部と、不活性ガスを噴出する噴出口８３を有する不活性ガス供給部８と、を備える。不活性ガス供給部８は、噴出口８３が設けられたパージ筐体８１と、パージ筐体８１に設けられ、パージ筐体８１内に不活性ガスを供給するための第２配管Ｐａの接続が可能なソケット８２と、ソケット８２に設けられた絞り部８８と、を含む。
【選択図】図９

【特許請求の範囲】

【請求項1】

活性エネルギ線を出射する出射面を有する活性エネルギ照射部と、
不活性ガスを噴出する噴出口を有する不活性ガス供給部と、を備え、
前記不活性ガス供給部は、
前記噴出口が設けられた筐体と、
前記筐体に設けられ、前記筐体内に前記不活性ガスを供給するための配管の接続が可能な接続部と、
前記接続部に設けられた絞り部と、を含む、活性エネルギ照射装置。

【請求項2】

前記出射面は、第１方向及び前記第１方向に垂直な第２方向の両方向に拡がっており、前記第１方向及び前記第２方向の両方向に垂直な第３方向の一方側に活性エネルギ線を出射し、
前記噴出口は、前記出射面に対して前記第２方向の一方側に位置しており、前記第３方向の前記一方側に不活性ガスを噴出する、請求項１に記載の活性エネルギ照射装置。

【請求項3】

前記噴出口は、前記第１方向を長手方向とする長尺状を呈している、請求項２に記載の活性エネルギ照射装置。

【請求項4】

前記絞り部は、多孔質フィルタを含む、請求項１～３のいずれか一項に記載の活性エネルギ照射装置。

【請求項5】

前記多孔質フィルタは、金属焼結体によって形成されている、請求項４に記載の活性エネルギ照射装置。

【請求項6】

前記絞り部は、前記筐体内に位置するように前記接続部に設けられている、請求項１～５のいずれか一項に記載の活性エネルギ照射装置。

【請求項7】

前記絞り部は、前記筐体外に位置するように前記接続部に設けられている、請求項１～５のいずれか一項に記載の活性エネルギ照射装置。

【請求項8】

前記絞り部は、前記接続部に接続される前記配管内における前記不活性ガスの圧力が０．１ＭＰａ以上となる抵抗を有する、請求項１～７のいずれか一項に記載の活性エネルギ照射装置。

【請求項9】

前記絞り部は、前記接続部に着脱可能に取り付けられている、請求項１～８のいずれか一項に記載の活性エネルギ照射装置。

【請求項10】

前記活性エネルギ照射部は、前記活性エネルギ線として紫外線又は電子線を出射する、請求項１～９のいずれか一項に記載の活性エネルギ照射装置。

【請求項11】

それぞれが請求項１～１０のいずれか一項に記載の活性エネルギ照射装置である複数の活性エネルギ照射装置と、
前記複数の活性エネルギ照射装置のそれぞれの前記筐体内に前記不活性ガスを供給するための第１配管と、
前記第１配管から分岐しており、前記複数の活性エネルギ照射装置のそれぞれの前記接続部に接続された複数の第２配管と、を備え、
前記複数の活性エネルギ照射装置は、少なくとも一列に並べられている、活性エネルギ照射システム。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、活性エネルギ照射装置及び活性エネルギ照射システムに関する。

【背景技術】

【0002】

活性エネルギ線を被照射物に照射する活性エネルギ照射部と、被照射物と活性エネルギ照射部との間の領域に不活性ガスを供給する不活性ガス供給部と、を備える活性エネルギ照射装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。このような活性エネルギ照射装置では、活性エネルギ線の照射によって被照射物において生じる作用が空気中の酸素によって阻害されるのを抑制するために、被照射物と活性エネルギ照射部との間の領域に不活性ガスが供給される。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】国際公開第２０１７／１７０９４９号

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

特許文献１に記載の光照射装置（活性エネルギ照射装置）の供給部（不活性ガス供給部）では、対象物（被照射物）に対して不活性ガスが均一に噴出されるように、不活性ガスが導入される空間部の端部（対象物と向かい合う端部）に多孔質部が設けられている。しかし、特許文献１に記載の光照射装置の供給部では、空間部内おいて不活性ガスの圧力が高まるため、空間部の耐圧性及び気密性を向上させる必要性が生じる等、構造上の制約を受けるおそれがある。

【0005】

本発明は、構造上の制約を受け難く、且つ被照射物に対して不活性ガスを均一に噴出することが可能な活性エネルギ照射装置及び活性エネルギ照射システムを提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本発明に係る活性エネルギ照射装置は、活性エネルギ線を出射する出射面を有する活性エネルギ照射部と、不活性ガスを噴出する噴出口を有する不活性ガス供給部と、を備え、不活性ガス供給部は、噴出口が設けられた筐体と、筐体に設けられ、筐体内に不活性ガスを供給するための配管の接続が可能な接続部と、接続部に設けられた絞り部と、を含む。

【0007】

この活性エネルギ照射装置では、噴出口が設けられた筐体に接続部が設けられており、接続部に絞り部が設けられている。これにより、例えば、接続部に接続された配管において不活性ガスの圧力が変動したとしても、配管から接続部を介して筐体内に流入する不活性ガスが絞り部を通過することになるため、筐体内に供給される不活性ガスの流量が均一化され、その結果、噴出口から噴出される不活性ガスの流量も均一化される。また、筐体内においては不活性ガスの圧力が低下するため、筐体の耐圧性及び気密性を向上させる必要性もなくなる。よって、この活性エネルギ照射装置によれば、構造上の制約を受け難く、且つ被照射物に対して不活性ガスを均一に噴出することが可能となる。

【0008】

本発明に係る活性エネルギ照射装置では、出射面は、第１方向及び第１方向に垂直な第２方向の両方向に拡がっており、第１方向及び第２方向の両方向に垂直な第３方向の一方側に活性エネルギ線を出射し、噴出口は、出射面に対して第２方向の一方側に位置しており、第３方向の一方側に不活性ガスを噴出してもよい。これにより、活性エネルギ照射部の出射面に対して被照射物が第２方向の一方側から第２方向の他方側に搬送された際に、不活性ガス供給部の噴出口から噴出された不活性ガスが、被照射物と活性エネルギ照射部との間の領域に供給される。したがって、被照射物と活性エネルギ照射部との間の領域に酸素が混入するのを効果的に抑制することができる。

【0009】

本発明に係る活性エネルギ照射装置では、噴出口は、第１方向を長手方向とする長尺状を呈していてもよい。これにより、活性エネルギ照射部の出射面に対して第２方向の一方側から第２方向の他方側に搬送される被照射物に対して、不活性ガスを均一に噴出することができる。

【0010】

本発明に係る活性エネルギ照射装置では、絞り部は、多孔質フィルタを含んでもよい。この場合、単純な構造で、筐体内に供給される不活性ガスの流量を均一化することができる。

【0011】

本発明に係る活性エネルギ照射装置では、多孔質フィルタは、金属焼結体によって形成されていてもよい。この場合、単純な構造で、筐体内に供給される不活性ガスの流量を均一化することができる。

【0012】

本発明に係る活性エネルギ照射装置では、絞り部は、筐体内に位置するように接続部に設けられていてもよい。或いは、本発明に係る活性エネルギ照射装置では、絞り部は、筐体外に位置するように接続部に設けられていてもよい。いずれの場合にも、筐体内に供給される不活性ガスの流量を均一化することができる。

【0013】

本発明に係る活性エネルギ照射装置では、絞り部は、接続部に接続される配管内における不活性ガスの圧力が０．１ＭＰａ以上となる抵抗を有してもよい。これにより、筐体内に供給される不活性ガスの流量を効果的に均一化することができる。

【0014】

本発明に係る活性エネルギ照射装置では、絞り部は、接続部に着脱可能に取り付けられていてもよい。これにより、絞り部の交換及びメンテナンスを容易に行うことができる。

【0015】

本発明に係る活性エネルギ照射装置では、活性エネルギ照射部は、活性エネルギ線として紫外線又は電子線を出射してもよい。これにより、活性エネルギ照射装置を、被照射物に紫外線又は電子線を照射する装置として用いることができる。

【0016】

本発明に係る活性エネルギ照射システムは、それぞれが上記活性エネルギ照射装置である複数の活性エネルギ照射装置と、複数の活性エネルギ照射装置のそれぞれの筐体内に不活性ガスを供給するための第１配管と、第１配管から分岐しており、複数の活性エネルギ照射装置のそれぞれの接続部に接続された複数の第２配管と、を備え、複数の活性エネルギ照射装置は、少なくとも一列に並べられている。

【0017】

この活性エネルギ照射システムによれば、複数の活性エネルギ照射装置が並ぶ方向において、複数の不活性ガス供給部のそれぞれから噴出される不活性ガスの流量を均一化することができる。

【発明の効果】

【0018】

本発明によれば、構造上の制約を受け難く、且つ被照射物に対して不活性ガスを均一に噴出することが可能な活性エネルギ照射装置及び活性エネルギ照射システムを提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0019】

【図1】図１は、一実施形態の活性エネルギ照射システムの斜視図である。

【図2】図２は、図１に示される活性エネルギ照射装置の斜視図である。

【図3】図３は、図２に示される活性エネルギ照射装置を下側から見た斜視図である。

【図4】図４は、図２に示される活性エネルギ照射装置の分解斜視図である。

【図5】図５は、図２に示される活性エネルギ照射装置における筐体の内部の構成を示す斜視図である。

【図6】図６は、図２に示される活性エネルギ照射装置におけるエアの流れを示す正面図である。

【図7】図７は、図６に示されるＡ－Ａ線に沿っての活性エネルギ照射装置の断面図である。

【図8】図８は、図７に示されるＢ－Ｂ線に沿っての活性エネルギ照射装置の端面図である。

【図9】図９は、図１に示される活性エネルギ照射装置の不活性ガス供給部の断面図である。

【図10】図１０は、図１に示される活性エネルギ照射装置の一部の断面図である。

【図11】図１１は、比較例及び実施例の活性エネルギ照射システムの正面図である。

【図12】図１２は、比較例及び実施例の活性エネルギ照射システムの正面図である。

【発明を実施するための形態】

【0020】

以下、本発明の実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、各図において同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明を省略する。

【0021】

図１に示されるように、活性エネルギ照射システム１００は、例えばＵＶ（ultraviolet）プリンタに搭載されるシステムであって、複数の活性エネルギ照射装置１と、各活性エネルギ照射装置１に不活性ガスを供給するための第１配管Ｐと、第１配管Ｐから分岐しており、各活性エネルギ照射装置１に接続された複数の第２配管（配管）Ｐａと、を備える。複数の活性エネルギ照射装置１は、互いに同一の構成を有している。活性エネルギ照射装置１は、例えば印刷用途向けの高出力の空冷ＬＥＤ光源である。活性エネルギ照射装置１は、紫外線（活性エネルギ線）を被照射物に照射し、被照射物のインク乾燥等を行う。被照射物としては、例えば光硬化型インクが付着している印刷物が挙げられる。なお、図１では、第１配管Ｐ及び複数の第２配管Ｐａが二点鎖線で図示されている。

【0022】

活性エネルギ照射装置１は、直方体状の外形を呈する。複数の活性エネルギ照射装置１は、少なくとも一列に並べられている。具体的には、複数の活性エネルギ照射装置１は、所定方向において互いに当接するように一列に並べられている。所定方向に並べられた複数の活性エネルギ照射装置１は、固定プレート１１に固定されて保持されている。図示される例では、活性エネルギ照射システム１００は、固定プレート１１に固定された複数の活性エネルギ照射装置１からなるユニットを備えている。図２、図３、図４及び図５に示されるように、活性エネルギ照射装置１は、筐体２、活性エネルギ照射部３、ヒートシンク４、吸気部５、排気部６、ダクト７、不活性ガス供給部８及び不活性ガス吸引部９を備えている。

【0023】

なお、説明の便宜上、複数の活性エネルギ照射装置１が並ぶ所定方向を「Ｘ方向」（第１方向）とし、活性エネルギ照射装置１による紫外線の出射方向であってＸ方向に垂直な方向を「Ｚ方向」（第１方向及び第２方向の両方向に垂直な第３方向）とし、Ｘ方向及びＺ方向に直交する方向を「Ｙ方向」（第１方向に垂直な第２方向）とする。活性エネルギ照射装置１が紫外線を出射する側を「下側」（Ｚ方向の一方側）とし、その反対側を「上側」とする。Ｙ方向の一方側を「前側」とし、Ｙ方向の他方側を「後側」とする。

【0024】

筐体２は、Ｚ方向に長尺状の矩形状を呈する。筐体２は、金属で形成されている。筐体２は、活性エネルギ照射部３、ヒートシンク４およびダクト７を収容するとともに支持する。筐体２は、前ケース２１及び後ケース２２が互いに組み付けられて構成されている。筐体２の上壁２ａには、筐体２を掴むための把持部２３が設けられている。筐体２の内部における後側には、Ｙ方向を厚さ方向とするドライバ基板１２が配置されている。ドライバ基板１２は、活性エネルギ照射装置１を駆動するための駆動用の電気回路基板である。ドライバ基板１２上には、ドライバ基板１２のトランジスタ等を冷却するドライバ基板用ヒートシンク１３が配置されている。ドライバ基板用ヒートシンク１３は、ドライバ基板１２のトランジスタ等に熱的に接続されている。

【0025】

活性エネルギ照射部３は、所定回路を構成する矩形板状の基板３１と、基板３１上においてＸ方向及びＹ方向に所定ピッチで並設された発光素子であるＬＥＤ素子３２と、を含む。ＬＥＤ素子３２は、紫外線を下方へ向けて出射する。活性エネルギ照射部３は、筐体２の内部における下端部に、基板３１の厚さ方向をＺ方向にして配置されている。複数の基板３１は、Ｘ方向に並べられている。これにより、筐体２の内部には、数個～数百個のＬＥＤ素子３２がＸ方向及びＹ方向に並べられる。活性エネルギ照射部３の各ＬＥＤ素子３２から出射された紫外線は、筐体２の下壁２ｂに設けられたガラス板からなる光照射窓２４を介して、Ｙ方向に移動する被照射物に照射される。なお、複数の基板３１は、Ｘ方向及びＹ方向に並べられていてもよい。

【0026】

ヒートシンク４は、活性エネルギ照射部３のＬＥＤ素子３２と熱的に接続された放熱部材である。ヒートシンク４は、エアとの熱交換により放熱する空冷式のヒートシンクである。エアは、ＬＥＤ素子３２の冷却用の熱媒体（冷媒）を構成する。ヒートシンク４は、ベースプレート４１、放熱フィン４２、ヒートパイプ４３及び仕切り板（仕切り部材）４４を有する。

【0027】

ベースプレート４１は、矩形板状を呈する。ベースプレート４１の下面には、活性エネルギ照射部３が設けられている。ベースプレート４１の下面は、活性エネルギ照射部３の基板３１と当接する。放熱フィン４２は、Ｙ方向を厚さ方向とする平板状を呈する。放熱フィン４２は、ベースプレート４１の上面（表面）上に立設されている。放熱フィン４２は、Ｙ方向において隙間をあけて積層するように並べられている。

【0028】

ヒートパイプ４３は、複数の放熱フィン４２に埋め込まれるように設けられている。ヒートパイプ４３は、複数の放熱フィン４２と熱的に接続されている。仕切り板４４は、複数の放熱フィン４２と交差するように設けられている。仕切り板４４は、Ｘ方向を厚さ方向とする平板状を呈する。仕切り板４４は、Ｘ方向において複数の放熱フィン４２を仕切る。仕切り板４４は、複数の放熱フィン４２にＸ方向に互いに離れて一対設けられている。一対の仕切り板４４は、複数の放熱フィン４２を、Ｘ方向における外側に位置する一対の外側部分４２ｘと、一対の外側部分の間に位置する内側部分４２ｙと、に仕切る。

【0029】

仕切り板４４におけるベースプレート４１側の端は、ベースプレート４１から離れている。つまり、仕切り板４４は、複数の放熱フィン４２の間において下側（ベースプレート４１側）が上側（ベースプレート４１側とは反対側）よりもエアがＸ方向に通過するように、複数の放熱フィン４２を仕切る。仕切り板４４は、複数の放熱フィン４２にロウ付けされて固定されている。ヒートシンク４は、ブラケット２５及び支持フレーム２６（図７参照）を介して筐体２に取り付けられている。

【0030】

吸気部５は、筐体２の外部から筐体２の内部へエアを導入する。吸気部５は、筐体２の内部の後述するバッファ空間ＢＦにエアを導入する。吸気部５は、筐体２における前側の壁部２ｃの中央上方寄りの部分に設けられている。吸気部５は、吸気フィルタ（フィルタ部）５１、フィルタ保持部５２及び吸気口５３を有する。

【0031】

図４、図５、図６及び図７に示されるように、吸気フィルタ５１は、筐体２の内部へ導入されるエアに含まれる異物（塵等）を捕集する。吸気フィルタ５１は、例えばウレタン等で形成されている。吸気フィルタ５１は、矩形板状の外形を呈する。吸気フィルタ５１は、前側から見て、壁部２ｃの中央上方寄りの部分に拡がっている。フィルタ保持部５２は、吸気フィルタ５１を収容して保持する。フィルタ保持部５２は、Ｙ方向を厚さ方向とする矩形板状の外板５２ｘを有する。外板５２ｘの前面は、筐体２の壁部２ｃの前面と同一平面上に位置する。フィルタ保持部５２は、ダクト７及びダクト７に設けられた支持フレーム２７に着脱可能に取り付けられている。

【0032】

吸気口５３は、Ｙ方向（ヒートシンク４から排気部６に向かう方向と交差する方向）に沿って開口し且つ筐体２の内部に通じる貫通孔である。吸気口５３は、外板５２ｘにおけるＸ方向の両端部の領域に、互いに近接して並設されている。吸気口５３は、Ｚ方向を長手方向とする長孔形状の貫通孔である。吸気口５３から吸い込まれたエアは、吸気フィルタ５１を介して、筐体２の内部のバッファ空間ＢＦへ導入される（図８参照）。

【0033】

排気部６は、筐体２の内部から筐体２の外部へエアを排出する。排気部６は、筐体２の上端部に設けられている。排気部６は、ファン６１を有する。ファン６１としては、例えば軸流ファンが用いられている。ファン６１は、下側からＺ方向に沿って吸い込んだエアを、上側へＺ方向に沿って圧送する。ファン６１は、筐体２の内部における上端部に固定されている。ファン６１の吐出側であって筐体２の上壁２ａには、例えばウレタン等で形成された排気フィルタ６２が取り付けられている。なお、排気フィルタ６２については、便宜上、図２のみにおいて示し、他の図での表示を省略する。排気部６におけるファン６１の吐出側には、例えば室外への排気用の外部配管（不図示）が接続される。

【0034】

ダクト７は、筐体２の内部におけるヒートシンク４と排気部６との間に設けられている。ダクト７は、ヒートシンク４を通過したエアを排気部６へ流通させる。ダクト７は、ヒートシンク４を通過した不活性ガスを排気部６へ流通させる。ダクト７は、矩形管形状を呈する。ダクト７は、断面積一定でＺ方向に延びる直線部７１と、直線部７１の下流側に設けられ断面積が下流に行くに従って大きくなるようにＺ方向に延びる拡大部７２と、を有する。

【0035】

筐体２の内部におけるダクト７のＸ方向の一方側及び他方側には、吸気部５により外部からエアが導入される空間であるバッファ空間ＢＦ（図８参照）が設けられている。バッファ空間ＢＦは、筐体２の内面とダクト７の直線部７１及び拡大部７２の外面とにより画成された空間である。ダクト７の下端部は、ヒートシンク４の放熱フィン４２に形成された溝４７に差し込まれて固定されている。ダクト７の上端部は、ファン６１の吸込側に固定されている。ダクト７は、支持フレーム２７を介して筐体２に取り付けられている。

【0036】

図２、図３、図４及び図５に示されるように、不活性ガス供給部８は、筐体２の外部に不活性ガスを供給する。不活性ガスとしては、例えば窒素が挙げられる。不活性ガス供給部８は、不活性ガスを供給することにより、複数のＬＥＤ素子３２からの紫外線の照射領域を含む領域に、不活性ガスが支配的な領域（酸素濃度が低い領域）を形成する。不活性ガス供給部８は、筐体２の前側の壁部２ｃにおける下端部に取り付けられている。不活性ガス供給部８は、パージ筐体（筐体）８１と、ソケット（接続部）８２と、絞り部８８と、を有する。パージ筐体（筐体）８１には、噴出口８３が設けられている。パージ筐体８１は、例えば、矩形箱状を呈している。ソケット８２には、第２配管Ｐａが接続されている。つまり、ソケット８２は、パージ筐体８１内に不活性ガスを供給するための第２配管Ｐａの接続が可能な接続部である。不活性ガス供給部８では、不活性ガスが第２配管Ｐａからソケット８２及び絞り部８８を介してパージ筐体８１に導入され、当該不活性ガスが噴出口８３から噴出される。

【0037】

不活性ガス吸引部９は、筐体２の外部の不活性ガスを吸引して筐体２の内部に流入させる。不活性ガス吸引部９は、筐体２に取り付けられた構造体である。不活性ガス吸引部９は、筐体２の下壁２ｂにおける後側に、ネジ等の締結具により着脱可能に取り付けられている。不活性ガス吸引部９は、矩形箱状の吸引部筐体９１と、吸引部筐体９１の下面に設けられた吸引口９２と、吸引部筐体９１の内部に設けられた回収流路９３と、を有する（図７参照）。不活性ガス吸引部９では、吸引口９２を介して吸引部筐体９１の内部に不活性ガスが吸引され、当該不活性ガスが回収流路９３により筐体２の内部へ流通される。

【0038】

図６、図７及び図８に示されるように、活性エネルギ照射装置１では、外部のエアが吸気部５により筐体２の内部のバッファ空間ＢＦに導入される。バッファ空間ＢＦに導入されたエアは、Ｚ方向に沿って下方へ流れた後、ヒートシンク４を通過してダクト７内に流入する。このとき、ヒートシンク４では、エアは、一対の外側部分４２ｘそれぞれの複数の放熱フィン４２の間をＺ方向に沿って下方へ流れた後、仕切り板４４とベースプレート４１との間を通って上方に折り返すように流れ、内側部分４２ｙにて合流する。そして、エアは、内側部分４２ｙの複数の放熱フィン４２の間をＺ方向に沿って上方に流れ、ダクト７内へ流入する。

【0039】

また、バッファ空間ＢＦに導入されたエアは、Ｚ方向に沿って下方へ流れた後、ドライバ基板用ヒートシンク１３を通過する。ドライバ基板用ヒートシンク１３を通過したエアは、筐体２の内部における下方後側の空間を介して、ヒートシンク４の内側部分４２ｙの流れに合流し、内側部分４２ｙの複数の放熱フィン４２の間をＺ方向に沿って上方に流れ、ダクト７内へ流入する。ダクト７の内部に流入したエアは、Ｚ方向に沿って上方へ流れ、ファン６１を介して筐体２の外部へ排出される。

【0040】

図７に示されるように、活性エネルギ照射装置１では、不活性ガス供給部８から噴出された不活性ガスは、不活性ガス吸引部９により吸引されて筐体２の内部に流入する。筐体２の内部に流入した不活性ガスは、筐体２の内部における下方後側の空間を介して、ヒートシンク４の内側部分４２ｙの流れに合流し、内側部分４２ｙの複数の放熱フィン４２の間をＺ方向に沿ってエアとともに上方に流れ、ダクト７内へ流入する。ダクト７の内部に流入した不活性ガスは、Ｚ方向に沿ってエアとともに上方に流れ、ファン６１を介してエアとともに筐体２の外部へ排出される。

【0041】

不活性ガス供給部８の構成について、図９及び図１０を参照して、より詳細に説明する。

【0042】

図９及び図１０に示されるように、不活性ガス供給部８は、コンベア（不図示）によって前側から後側に搬送されている被照射物Ｓ上に不活性ガス（図９及び図１０に示される一点鎖線）を噴出することで、被照射物Ｓと活性エネルギ照射部３との間の領域Ｒに不活性ガスを供給する。領域Ｒに不活性ガスを供給するのは、活性エネルギ照射部３から出射された紫外線の照射によって被照射物Ｓにおいて生じる作用が空気中の酸素によって阻害されるのを抑制するためである。

【0043】

一例として、被照射物Ｓは、光硬化型インクが付着している印刷物である。当該インクは、活性エネルギ照射装置１の上流側（前側）においてインクヘッド（不図示）から被照射物Ｓ上に噴射されたものであり、活性エネルギ照射部３から出射された紫外線の照射によって硬化させられる。このとき、当該インクの硬化が空気中の酸素によって阻害されるのを抑制するために、不活性ガス供給部８は、被照射物Ｓと活性エネルギ照射部３との間の領域Ｒに不活性ガスを供給する。

【0044】

図９に示されるように、不活性ガス供給部８は、パージ筐体８１内に整流板８４を有している。パージ筐体８１のパージ上面８１ａには、ソケット８２及び絞り部８８が設けられている。ソケット８２は、不活性ガスの流路８２ａを有している。絞り部８８は、不活性ガスの流路８８ａを有している。絞り部８８は、流路８２ａと流路８８ａとが連通するように、ソケット８２に設けられている。絞り部８８は、パージ筐体８１内に位置するようにソケット８２に設けられている。絞り部８８は、ソケット８２に着脱可能に取り付けられている。一例として、絞り部８８の上端部が、ネジ等の締結構造によってソケット８２の下端部に取り付けられている。絞り部８８は、多孔質フィルタ８９を含んでいる。多孔質フィルタ８９は、流路８８ａの内側面と多孔質フィルタ８９の外側面との間に隙間が形成されないように、流路８８ａ内に配置されている。多孔質フィルタ８９は、金属焼結体によって形成されている。絞り部８８は、第２配管Ｐａ内における不活性ガスの圧力が０．１ＭＰａ以上となる抵抗を有している。

【0045】

パージ筐体８１のパージ前面８１ｂには、整流板８４が固定されている。整流板８４は、第１垂直面８５、斜面８６及び第２垂直面８７を含んでいる。パージ筐体８１のパージ底面８１ｃは、噴出口８３の一部を形成している。つまり、噴出口８３は、パージ筐体８１のパージ底面８１ｃに設けられている。パージ筐体８１のパージ背面８１ｄは、筐体２の壁部２ｃの前面に接触している。整流板８４は、パージ筐体８１と協働して、不活性ガスが通る流路を形成している。

【0046】

不活性ガス供給部８は、第１流路部８ａ及び第２流路部８ｂを含んでいる。ソケット８２及び絞り部８８から受け入れられた不活性ガスは、第１流路部８ａを通過した後に、第２流路部８ｂを通過し、最終的に噴出口８３から噴出される。

【0047】

第１流路部８ａは、ソケット８２及び絞り部８８から不活性ガスを受け入れて第２流路部８ｂに不活性ガスを提供する。第１流路部８ａは、パージ上面８１ａ、第１垂直面８５、斜面８６及びパージ背面８１ｄに囲まれた領域である。第１流路部８ａは、不活性ガスが流れる方向に沿って流路面積が減少する部分を含んでいる。具体的には、第１流路部８ａは、第１垂直面８５とパージ背面８１ｄとの間の部分、及び斜面８６とパージ背面８１ｄとの間の部分を含んでいる。第１垂直面８５とパージ背面８１ｄとの間隔は一定である。したがって、流路面積は一定である。一方、斜面８６は、Ｚ方向に対して傾いている。換言すると、斜面８６の下辺８６ａは、斜面８６の上辺８６ｂよりもＹ方向における後側に位置している。これにより、流路面積は、第２流路部８ｂに近付くに従って次第に減少する。

【0048】

ソケット８２は、ソケット８２及び絞り部８８の軸線Ｌがパージ前面８１ｂとパージ背面８１ｄとの間の略中央に位置するように、パージ上面８１ａに設けられている。つまり、ソケット８２及び絞り部８８の軸線Ｌは、斜面８６と交差している。換言すると、ソケット８２及び絞り部８８の軸線Ｌは、Ｙ方向において斜面８６の下辺８６ａと上辺８６ｂとの間に位置している。これにより、ソケット８２及び絞り部８８から受け入れられた不活性ガスの流れは、斜面８６に衝突する。そして、不活性ガスは、斜面８６に沿ってＹ方向における後側に向かって流れ、第２流路部８ｂに至る。

【0049】

第２流路部８ｂは、第１流路部８ａから不活性ガスを受け入れて、噴出口８３に不活性ガスを提供する。換言すると、第２流路部８ｂは、Ｚ方向に沿って不活性ガスを被照射物Ｓ側に導く。第２流路部８ｂは、第２垂直面８７及びパージ背面８１ｄに囲まれた領域である。第２垂直面８７の上辺（つまり、斜面８６の下辺８６ａ）とパージ背面８１ｄとの間の領域は、圧縮された不活性ガスを受け入れる。第２垂直面８７とパージ背面８１ｄとの間隔は一定である。つまり、第２流路部８ｂの流路面積は一定である。第２流路部８ｂの流路面積は、第１流路部８ａのうちの第１垂直面８５とパージ背面８１ｄとの間の部分の流路面積よりも小さい。第２流路部８ｂの流路面積は、第１流路部８ａのうちの斜面８６の下辺８６ａとパージ背面８１ｄとの間の部分の流路面積と同じである。

【0050】

第２流路部８ｂの末端は、噴出口８３に相当する。噴出口８３は、第２垂直面８７の下端８７ａとパージ背面８１ｄの下端８１ｅとの間に形成されている。パージ底面８１ｃの後端８１ｆが、噴出口８３を構成するものの一部であってもよい。噴出口８３から被照射物Ｓ上に噴出された不活性ガスは、被照射物Ｓに衝突した後に、流れ方向を変える。一部の不活性ガスは、後側に向かって流れ、被照射物Ｓと活性エネルギ照射部３との間の領域Ｒ（図１０参照）に供給される。別の一部の不活性ガスは、前側に向かって流れ、被照射物Ｓと活性エネルギ照射部３との間の領域Ｒ（図１０参照）に空気が流入するのを抑制する。

【0051】

以上のように構成された不活性ガス供給部８では、第１流路部８ａの流路面積が、ソケット８２及び第２流路部８ｂのそれぞれの流路面積よりも大きくなっており、第１流路部８ａにおいてソケット８２及び絞り部８８の軸線Ｌと交差するように配置された整流板８４が、ソケット８２から受け入れた不活性ガスの流れを妨げる。これにより、ソケット８２から受け入れられた不活性ガスの流れがＸ方向に広がり、その結果、噴出口８３から噴出される不活性ガスの流量の分布がＸ方向において均一化される。したがって、被照射物Ｓと活性エネルギ照射部３との間の領域Ｒ（図１０参照）に不活性ガスを効率良く供給することができる。更に、整流板８４が、不活性ガスの流れを妨げる面として斜面８６を有している。つまり、整流板８４が、流路面積が徐々に減少する流路構成を実現している。これにより、不活性ガス供給部８の動作音を小さくすることができる。

【0052】

筐体２、活性エネルギ照射部３、不活性ガス供給部８及び不活性ガス吸引部９について、図３及び図１０を参照して、より詳細に説明する。

【0053】

図３及び図１０に示されるように、活性エネルギ照射部３は、下側に紫外線を出射する出射面３０を有している。活性エネルギ照射装置１では、出射面３０は、光照射窓２４における下側の表面（外側の表面）である。出射面３０は、Ｘ方向及びＹ方向の両方向に拡がっている。活性エネルギ照射装置１では、出射面３０は、Ｚ方向に垂直な面であり、Ｘ方向を長手方向とする長方形状を呈している。

【0054】

不活性ガス供給部８は、下側に不活性ガスを噴出する噴出口８３を有している。噴出口８３は、Ｘ方向を長手方向とする長尺状を呈している。活性エネルギ照射装置１では、噴出口８３は、Ｘ方向に延在するスリット状を呈している。一例として、Ｘ方向における噴出口８３の幅は１００ｍｍ程度であり、Ｙ方向における噴出口８３の幅は５ｍｍ程度である。噴出口８３は、出射面３０に対して前側に位置している。不活性ガス供給部８は、噴出口８３が設けられた噴出部分８０を含んでいる。噴出部分８０は、不活性ガス供給部８のうち、出射面３０に対して下側に突出している部分（図３及び図１０に示される二点鎖線よりも下側の部分）である。活性エネルギ照射装置１では、噴出部分８０の外形は、Ｘ方向を長手方向とし且つＺ方向を厚さ方向とする長方形板状を呈している。不活性ガス供給部８は、Ｚ方向において噴出部分８０が出射面３０よりも下側に位置するように、筐体２（具体的には、前側の壁部２ｃ）に取り付けられている。

【0055】

なお、「噴出口８３が下側に不活性ガスを噴出する」とは、噴出口８３から噴出される不活性ガスの噴出の向きが下向きの成分を有していることを意味する。つまり、噴出口８３は、真下に不活性ガスを噴出するものは勿論、例えば、真下から後側に傾斜した向きに不活性ガスを噴出するものであってもよい。

【0056】

不活性ガス吸引部９は、出射面３０に対して下側に突出している突出部分９０を含んでいる。突出部分９０は、出射面３０に対して後側に位置している。活性エネルギ照射装置１では、不活性ガス吸引部９の全体が突出部分９０である。不活性ガス吸引部９は、Ｚ方向において突出部分９０（すなわち、不活性ガス吸引部９の全体）が出射面３０よりも下側に位置するように、筐体２（具体的には、下壁２ｂ）に取り付けられている。不活性ガス吸引部９は、複数の吸引口９２が設けられた吸引部筐体９１を含んでいる。活性エネルギ照射装置１では、吸引部筐体９１の外形は、Ｘ方向を長手方向とし且つＺ方向を厚さ方向とする長方形板状を呈している。

【0057】

活性エネルギ照射装置１では、下壁２ｂの下側の表面（外側の表面）が、出射面３０と噴出部分８０との間、及び、出射面３０と突出部分９０との間において露出している。Ｙ方向における出射面３０と突出部分９０との間隔は、Ｙ方向における出射面３０と噴出部分８０との間隔よりも小さい。下壁２ｂの下側の表面及び突出部分９０の表面は、紫外線を吸収する表面となっている。一例として、下壁２ｂの下側の表面及び突出部分９０の表面は、黒色の塗装面であってもよいし、黒色の処理面であってもよいし、或いは、黒色の材料の表面であってもよい。

【0058】

Ｙ方向における突出部分９０の幅は、Ｚ方向における突出部分９０の幅よりも大きい。Ｙ方向における突出部分９０の幅は、Ｚ方向における突出部分９０の幅の９倍以上である。Ｙ方向における突出部分９０の幅は、Ｚ方向における突出部分９０の幅の８倍以上であることが好ましく、１０倍以上であることがより好ましい。Ｚ方向における噴出部分８０の幅は、Ｚ方向における突出部分９０の幅よりも大きい。

【0059】

Ｘ方向における活性エネルギ照射部３の幅、Ｘ方向における不活性ガス供給部８の幅、及びＸ方向における不活性ガス吸引部９の幅のそれぞれは、Ｘ方向における筐体２の幅以下である。Ｘ方向における噴出口８３の幅、及びＸ方向における突出部分９０の幅のそれぞれは、Ｘ方向における出射面３０の幅と同等である。ここで、同等とは、実質的に等しいことを意味し、例えば、Ｘ方向における噴出口８３の幅、及びＸ方向における突出部分９０の幅のそれぞれが、Ｘ方向における出射面３０の幅の９５％以上であり、Ｘ方向における出射面３０の幅の１０５％以下であることを意味する。なお、Ｘ方向における噴出口８３の幅、及びＸ方向における突出部分９０の幅のそれぞれは、Ｘ方向における出射面３０の幅よりも小さくてもよい。Ｘ方向における噴出口８３の幅、及びＸ方向における突出部分９０の幅のそれぞれは、Ｘ方向における出射面３０の幅の９０％以上であることが好ましく、１００％以上であることがより好ましく、１１０％以上であることが更により好ましい。

【0060】

以上説明したように、活性エネルギ照射装置１では、噴出口８３が設けられたパージ筐体８１にソケット８２が設けられており、ソケット８２に絞り部８８が設けられている。これにより、例えば、ソケット８２に接続された第２配管Ｐａにおいて不活性ガスの圧力が変動したとしても、第２配管Ｐａからソケット８２を介してパージ筐体８１内に流入する不活性ガスが絞り部８８を通過することになるため、パージ筐体８１内に供給される不活性ガスの流量が均一化され、その結果、噴出口８３から噴出される不活性ガスの流量も均一化される。また、パージ筐体８１内においては不活性ガスの圧力が低下するため、パージ筐体８１の耐圧性及び気密性を向上させる必要性もなくなる。よって、活性エネルギ照射装置１によれば、構造上の制約を受け難く、且つ被照射物Ｓに対して不活性ガスを均一に噴出することが可能となる。

【0061】

活性エネルギ照射装置１では、活性エネルギ照射部３の出射面３０が、Ｘ方向及びＹ方向の両方向に拡がっており、下側に活性エネルギ線を出射し、不活性ガス供給部８の噴出口８３が、出射面３０に対して前側に位置しており、下側に不活性ガスを噴出する。これにより、活性エネルギ照射部３の出射面３０に対して被照射物Ｓが前側から後側に搬送された際に、不活性ガス供給部８の噴出口８３から噴出された不活性ガスが、被照射物Ｓと活性エネルギ照射部３との間の領域Ｒに供給される。したがって、被照射物Ｓと活性エネルギ照射部３との間の領域Ｒに酸素が混入するのを効果的に抑制することができる。

【0062】

活性エネルギ照射装置１では、噴出口８３が、Ｘ方向を長手方向とする長尺状を呈していている。これにより、活性エネルギ照射部３の出射面３０に対して前側から後側に搬送される被照射物Ｓに対して、不活性ガスを均一に噴出することができる。

【0063】

活性エネルギ照射装置１では、絞り部８８が、多孔質フィルタ８９を含んでいる。この場合、単純な構造で、パージ筐体８１内に供給される不活性ガスの流量を均一化することができる。

【0064】

活性エネルギ照射装置１では、多孔質フィルタ８９が、金属焼結体によって形成されている。この場合、単純な構造で、パージ筐体８１内に供給される不活性ガスの流量を均一化することができる。

【0065】

活性エネルギ照射装置１では、絞り部８８が、パージ筐体８１内に位置するようにソケット８２に設けられている。これにより、パージ筐体８１内に供給される不活性ガスの流量を均一化することができる。

【0066】

活性エネルギ照射装置１では、絞り部８８が、第２配管Ｐａ内における不活性ガスの圧力が０．１ＭＰａ以上となる抵抗を有している。これにより、パージ筐体８１内に供給される不活性ガスの流量を効果的に均一化することができる。

【0067】

活性エネルギ照射装置１では、絞り部８８が、ソケット８２に着脱可能に取り付けられている。これにより、絞り部８８の交換及びメンテナンスを容易に行うことができる。

【0068】

活性エネルギ照射装置１では、活性エネルギ照射部３が、活性エネルギ線として紫外線を出射する。これにより、活性エネルギ照射装置１を、被照射物Ｓに紫外線を照射する装置として用いることができる。

【0069】

活性エネルギ照射システム１００では、複数の活性エネルギ照射装置１が並ぶ方向（すなわち、Ｘ方向）において、各活性エネルギ照射装置１の不活性ガス供給部８から噴出される不活性ガスの流量を均一化することができる。

【0070】

図１１の（ａ）は、比較例の活性エネルギ照射システム２００Ａの正面図であり、図１１の（ｂ）は、実施例の活性エネルギ照射システム１００Ａの正面図である。図１１の（ａ）及び（ｂ）に示されるように、各活性エネルギ照射システム２００Ａ，１００Ａでは、複数の不活性ガス供給部８Ａ，８Ｂ，８Ｃ，８Ｄ，８Ｅが第１配管Ｐの上流側からこの順序で並べられている。不活性ガス供給部８Ａのソケット８２には、第２配管Ｐ１が接続されている。不活性ガス供給部８Ｂのソケット８２には、第２配管Ｐ２が接続されている。不活性ガス供給部８Ｃのソケット８２には、第２配管Ｐ３が接続されている。不活性ガス供給部８Ｄのソケット８２には、第２配管Ｐ４が接続されている。不活性ガス供給部８Ｅのソケット８２には、第２配管Ｐ５が接続されている。各第２配管Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５は、図１及び図９に示される第２配管Ｐａに相当する。複数の第２配管Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５は、第１配管Ｐの上流側からこの順序で、第１配管Ｐから分岐している。

【0071】

図１１の（ａ）に示されるように、比較例の活性エネルギ照射システム２００Ａでは、各不活性ガス供給部８Ａ，８Ｂ，８Ｃ，８Ｄ，８Ｅにおいて、ソケット８２に絞り部８８が設けられていない。図１１の（ｂ）に示されるように、実施例の活性エネルギ照射システム１００Ａでは、各不活性ガス供給部８Ａ，８Ｂ，８Ｃ，８Ｄ，８Ｅにおいて、ソケット８２に絞り部８８が設けられている。実施例の活性エネルギ照射システム１００Ａでは、複数の活性エネルギ照射装置１が互いに同一の構成を有している。

【0072】

図１１の（ａ）に示されるように、比較例の活性エネルギ照射システム２００Ａでは、複数の第２配管Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５のうち第１配管Ｐの下流側において分岐する配管ほど不活性ガスの圧力が高くなるため、複数の不活性ガス供給部８Ａ，８Ｂ，８Ｃ，８Ｄ，８Ｅのうち第１配管Ｐの下流側に配置された装置ほど、噴出口８３から噴出される不活性ガスの流量が多くなる。これに対し、図１１の（ｂ）に示されるように、実施例の活性エネルギ照射システム１００Ａでは、複数の第２配管Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５のうち第１配管Ｐの下流側において分岐する配管ほど不活性ガスの圧力が高くなるものの、上述した絞り部８８の作用によって、各不活性ガス供給部８Ａ，８Ｂ，８Ｃ，８Ｄ，８Ｅの噴出口８３から噴出される不活性ガスの流量が均一になる。

【0073】

図１２の（ａ）は、比較例の活性エネルギ照射システム２００Ｂの正面図であり、図１２の（ｂ）は、実施例の活性エネルギ照射システム１００Ｂの正面図である。図１２の（ａ）及び（ｂ）に示されるように、各活性エネルギ照射システム２００Ｂ，１００Ｂでは、複数の不活性ガス供給部８Ａ，８Ｂ，８Ｃ，８Ｄ，８Ｅがこの順序で並べられている。不活性ガス供給部８Ａのソケット８２には、第２配管Ｐ１が接続されている。不活性ガス供給部８Ｂのソケット８２には、第２配管Ｐ２が接続されている。不活性ガス供給部８Ｃのソケット８２には、第２配管Ｐ３が接続されている。不活性ガス供給部８Ｄのソケット８２には、第２配管Ｐ４が接続されている。不活性ガス供給部８Ｅのソケット８２には、第２配管Ｐ５が接続されている。各第２配管Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５は、図１及び図９に示される第２配管Ｐａに相当する。各第２配管Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５には、同等の流量で不活性ガスが供給されるものとする。

【0074】

図１２の（ａ）に示されるように、比較例の活性エネルギ照射システム２００Ｂでは、各不活性ガス供給部８Ａ，８Ｂ，８Ｃ，８Ｄ，８Ｅにおいて、絞り部８８が設けられる位置が互いに異なっている。具体的には、不活性ガス供給部８Ａでは、ソケット８２に絞り部８８が設けられている。不活性ガス供給部８Ｂ，８Ｃ，８Ｄ，８Ｅでは、第２配管Ｐａの途中に絞り部８８が設けられている。不活性ガス供給部８Ｂ，８Ｃ，８Ｄでは、ソケット８２から絞り部８８までの距離が互いに異なっている。不活性ガス供給部８Ｃ，８Ｅでは、ソケット８２から絞り部８８までの距離は互いに等しいが、不活性ガス供給部８Ｅでは、ソケット８２と絞り部８８との間で第２配管Ｐａが曲がっている。図１２の（ｂ）に示されるように、実施例の活性エネルギ照射システム１００Ｂでは、各不活性ガス供給部８Ａ，８Ｂ，８Ｃ，８Ｄ，８Ｅにおいて、ソケット８２に絞り部８８が設けられている。実施例の活性エネルギ照射システム１００Ｂでは、複数の活性エネルギ照射装置１が互いに同一の構成を有している。

【0075】

図１２の（ａ）に示されるように、比較例の活性エネルギ照射システム２００Ｂでは、複数の不活性ガス供給部８Ａ，８Ｂ，８Ｃ，８Ｄ，８Ｅのうちソケット８２から絞り部８８までの距離が大きいものほど、噴出口８３から噴出される不活性ガスの流量が少なくなる。ソケット８２から絞り部８８までの距離が互いに等しい不活性ガス供給部８Ｃ，８Ｅでは、ソケット８２と絞り部８８との間で第２配管Ｐａが曲がっている不活性ガス供給部８Ｅのほうが、噴出口８３から噴出される不活性ガスの流量が少なくなる。これに対し、図１２の（ｂ）に示されるように、実施例の活性エネルギ照射システム１００Ｂでは、第２配管Ｐａが曲がっているか否かにかかわらず、上述した絞り部８８の作用によって、各不活性ガス供給部８Ａ，８Ｂ，８Ｃ，８Ｄ，８Ｅの噴出口８３から噴出される不活性ガスの流量が均一になる。

【0076】

本発明は、上述した実施形態に限定されない。例えば、ソケット８２及び絞り部８８は、パージ上面８１ａに限定されず、パージ筐体８１のいずれの位置に設けられていてもよい。噴出口８３は、パージ底面８１ｃに限定されず、パージ筐体８１のいずれの位置に設けられていてもよい。絞り部８８は、パージ筐体８１外に位置するようにソケット８２に設けられていてもよい。この場合にも、パージ筐体８１内に供給される不活性ガスの流量を均一化することができる。

【0077】

絞り部８８において、多孔質フィルタ８９は、金属焼結体によって形成されたものに限定されず、セラミック、樹脂等によって形成されたものであってもよい。絞り部８８は、多孔質フィルタ８９を含むものに限定されず、微小穴部品、金属又は樹脂等によって形成された絞り（アパーチャ）等であってもよい。

【0078】

活性エネルギ照射部３は、紫外線に限定されず、電子線等の他の活性エネルギ線を出射するものであってもよい。つまり、以上の記載において、「紫外線」を「電子線」又は「活性エネルギ線」と読み替えることができる。

【0079】

上述した実施形態及び変形例における各構成には、上述した材料及び形状に限定されず、様々な材料及び形状を適用することができる。上述した実施形態又は変形例における各構成は、他の実施形態又は変形例における各構成に任意に適用することができる。

【符号の説明】

【0080】

１…活性エネルギ照射装置、３…活性エネルギ照射部、３０…出射面、８…不活性ガス供給部、８１…パージ筐体（筐体）、８２…ソケット（接続部）、８３…噴出口、８８…絞り部、８９…多孔質フィルタ、１００…活性エネルギ照射システム、Ｐ…第１配管、Ｐａ…第２配管（配管）。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】