特開2022-110017ＳｉＮ薄膜の形成

発明の名称　ＳｉＮ薄膜の形成

出願人　エーエスエム　アイピー　ホールディング　ビー．ブイ．　（識別番号 512144771）

　　　　特許公開件数ランキング 30447 位（0件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 24615 位（0件）（共同出願を含む）

公報番号　特開-2022-110017

公報発行日　2022年7月28

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2022-110017

知財ポータルサイト IP Force にログインすれば、特開-2022-110017「ＳｉＮ薄膜の形成」の公報全文を閲覧することができます。

ログインはこちら　ログイン・ユーザー登録