特開 2022-110552 蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法、および、表示装置の製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2022110552

(43)【公開日】2022-07-29

(54)【発明の名称】蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法、および、表示装置の製造方法

(51)【国際特許分類】

   C23C 14/04 20060101AFI20220722BHJP

   H01L 51/50 20060101ALI20220722BHJP

   H05B 33/10 20060101ALI20220722BHJP

【ＦＩ】

C23C14/04 A

H05B33/14 A

H05B33/10

【審査請求】未請求

【請求項の数】9

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2021006033

(22)【出願日】2021-01-18

(71)【出願人】

【識別番号】000003193

【氏名又は名称】凸版印刷株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100105957

【弁理士】

【氏名又は名称】恩田 誠

(74)【代理人】

【識別番号】100068755

【弁理士】

【氏名又は名称】恩田 博宣

(72)【発明者】

【氏名】井橋 知也

【テーマコード（参考）】

3K107

4K029

【Ｆターム（参考）】

3K107AA01

3K107BB01

3K107CC45

3K107FF15

3K107GG04

3K107GG33

4K029AA09

4K029AA24

4K029BA62

4K029BB03

4K029CA01

4K029DB06

4K029DB18

4K029HA02

4K029HA03

4K029HA04

4K029JA06

(57)【要約】

【課題】１つの方向に延びる貫通孔を長軸方向に広げるエッチング量と短軸方向に広げるエッチング量との差を抑制可能とした蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法、および、表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】蒸着マスク１０は、表面１０Ｆを有する。蒸着マスク１０は、表面１０Ｆに表面開口１１ＡＦが位置する貫通孔１１を有し、表面開口１１ＡＦは、表面１０Ｆと対向する視点から見て、第１方向に延びる形状を有し、かつ、第１方向と交差する方向の幅が第１方向の途中で狭まるように括れている。
【選択図】図２

【特許請求の範囲】

【請求項1】

第１面を有した蒸着マスクであって、
前記第１面に第１開口が位置する貫通孔を有し、
前記第１開口は、前記第１面と対向する視点から見て、第１方向に延びる形状を有し、かつ、前記第１方向と交差する方向の幅が前記第１方向の途中で狭まるように括れている
蒸着マスク。

【請求項2】

前記第１開口は、前記第１面と対向する視点から見て、互いに対向する一対の長辺と、互いに対向する一対の短辺とに囲まれた形状を有し、
前記第１面と対向する視点から見て、
各短辺は、直線状、または、弧状を有し、
少なくとも１つの長辺は、前記長辺の延びる方向に沿って前記一対の長辺の間隔を増減させる波状を有する
請求項１に記載の蒸着マスク。

【請求項3】

前記第１面と対向する視点から見て、各長辺は、複数の波を含み、
各短辺は、前記長辺における前記波の周期に略等しい長さを有する
請求項２に記載の蒸着マスク。

【請求項4】

各短辺は、前記長辺における前記波の周期に対する０．６倍以上１．４倍以下の長さを有する
請求項３に記載の蒸着マスク。

【請求項5】

前記第１面と対向する面である第２面を有し、
前記貫通孔の第２開口は、前記第２面に位置し、前記第１面と対向する視点から見て、前記第２開口は、前記第１開口が取り囲む領域内に位置し、
前記貫通孔の第３開口は、前記蒸着マスクの厚さ方向において、前記第１開口と前記第２開口との間に位置し、前記第１面と対向する視点から見て、前記第３開口は、前記第２開口が取り囲む領域内に位置し、
前記第３開口は、前記第１面と対向する視点から見て、互いに対向する一対の長辺と、互いに対向する一対の短辺とに囲まれた形状を有し、
前記第１面と対向する視点から見て、
前記第３開口の各短辺は、前記第１開口の短辺と同じ形状を有し、
前記第３開口の少なくとも１つの長辺は、前記第３開口の長辺の延びる方向に沿って前記第３開口における一対の長辺の間隔を増減させる波状を有する
請求項２から４のいずれか一項に記載の蒸着マスク。

【請求項6】

金属板にレジスト層を形成すること、
前記レジスト層を露光し、露光した前記レジスト層を現像してレジストマスクを形成すること、および、
前記レジストマスクを用いて前記金属板をウェットエッチングして、前記金属板の第１面に第１開口が位置する貫通孔を形成すること、を含む蒸着マスクの製造方法であって、
前記貫通孔を形成することでは、前記第１面と対向する視点から見て、前記第１開口が第１方向に延びる形状を有し、かつ、前記第１方向と交差する方向の幅が前記第１方向の途中で狭まることで括れるように前記第１開口を形成する
蒸着マスクの製造方法。

【請求項7】

前記第１開口は、前記第１面と対向する視点から見て、
互いに対向する一対の長辺と、
互いに対向する一対の短辺とに囲まれた形状を有し、
各短辺は、直線状、または弧状を有し、
少なくとも１つの長辺は、前記長辺の延びる方向に沿って前記一対の長辺の間隔を増減させる波状を有する
請求項６に記載の蒸着マスクの製造方法。

【請求項8】

前記レジストマスクを形成することは、前記金属板の前記貫通孔を形成するためのマスク孔を有した前記レジストマスクを形成し、
前記マスク孔は、前記第１面と対向する視点から見て、互いに対向する一対の長辺と、互いに対向する一対の短辺とに囲まれた形状を有し、
前記レジストマスクは、各長辺から他方の前記長辺に向かう方向に沿って、前記マスク孔内に突き出た複数の凸部を有する
請求項７に記載の蒸着マスクの製造方法。

【請求項9】

請求項６から８のいずれか一項に記載の蒸着マスクの製造方法を用いて蒸着マスクを準備すること、および、
前記蒸着マスクを用いて蒸着対象に蒸着パターンを形成すること、を含む
表示装置の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法、および、表示装置の製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

有機ＥＬ表示装置は、複数の表示画素を備えている。各表示画素は、複数の副画素を含んでいる。１つの表示画素は、例えば、赤色用副画素、緑色用副画素、および、青色用副画素を備えている。表示画素の一例において、赤色用副画素および緑色用副画素は、略正方形状を有している。これに対して、青色用副画素は、長方形状を有している。青色用副画素において、青色用画素が有する長辺の長さは、赤色用副画素の一辺の長さ、緑色用副画素の一辺の長さ、および、赤色用画素と緑色用画素との間の隙間を足した長さにほぼ等しい。表示画素では、１つの赤色用副画素と１つの緑色用副画素とが第１方向に沿って並び、かつ、第１方向と直交する第２方向において、青色用副画素が、第１方向において互いに隣り合う赤色用副画素、および、緑色用副画素と隣り合っている（例えば、特許文献１を参照）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０１１－２４９３３４号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

ところで、各副画素は、金属製の蒸着マスクを用いた真空蒸着によって形成される。蒸着マスクは、各副画素を形成するための貫通孔を有している。上述したように、青色用副画素は長方形状を有する場合、青色用副画素を形成するための貫通孔も平面視において青色用副画素の形状に相当する長方形状を有している。

【0005】

蒸着マスクを形成する際には、蒸着マスクを形成するための金属板が準備される。次いで、蒸着マスクに貫通孔を形成するためのレジストマスクが形成される。そして、レジストマスクを用いたウェットエッチングが金属板に施されることによって、貫通孔を有した蒸着マスクが形成される。

【0006】

この際に、金属板に形成すべき貫通孔が平面視において長方形状を有するから、レジストマスクにも平面視において長方形状を有したマスク孔が形成される。こうしたレジストマスクを用いたウェットエッチングでは、平面視におけるマスク孔の長辺近傍と短辺近傍との間でエッチング液の流れが異なる。結果として、金属板に形成された貫通孔では、平面視における長辺と短辺との長さの比率がマスク孔での比率と大きく異なってしまう。

【0007】

本発明は、１つの方向に延びる貫通孔を長軸方向に広げるエッチング量と短軸方向に広げるエッチング量との差を抑制可能とした蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法、および、表示装置の製造方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0008】

上記課題を解決するための蒸着マスクは、第１面を有した蒸着マスクであって、前記第１面に第１開口が位置する貫通孔を有し、前記第１開口は、前記第１面と対向する視点から見て、第１方向に延びる形状を有し、かつ、前記第１方向と交差する方向の幅が前記第１方向の途中で狭まるように括れている。

【0009】

上記課題を解決するための蒸着マスクの製造方法は、金属板にレジスト層を形成すること、前記レジスト層を露光し、露光した前記レジスト層を現像してレジストマスクを形成すること、および、前記レジストマスクを用いて前記金属板をウェットエッチングして、前記金属板の第１面に第１開口が位置する貫通孔を形成すること、を含む蒸着マスクの製造方法である。前記貫通孔を形成することでは、前記第１面と対向する視点から見て、前記第１開口が第１方向に延びる形状を有し、かつ、前記第１方向と交差する方向の幅が前記第１方向の途中で狭まることで括れるように前記第１開口を形成する。

【0010】

上記課題を解決するための表示装置の製造方法は、上記蒸着マスクの製造方法を用いて蒸着マスクを準備すること、および、前記蒸着マスクを用いて蒸着対象に蒸着パターンを形成すること、を含む。

【0011】

上記蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法、および、表示装置の製造方法によれば、第１開口が括れを有した形状を有するため、貫通孔を形成するためのエッチングにおいて、エッチング液の流れが括れる部位において分断される。結果として、第１開口が括れを有していない場合と比べて、貫通孔を第１方向である長軸方向に広げるエッチング量と短軸方向に広げるエッチング量との差を抑えることが可能となる。

【0012】

上記蒸着マスクにおいて、前記第１開口は、前記第１面と対向する視点から見て、互いに対向する一対の長辺と、互いに対向する一対の短辺とに囲まれた形状を有し、前記第１面と対向する視点から見て、各短辺は、直線状、または、弧状を有し、少なくとも１つの長辺は、前記長辺の延びる方向に沿って前記一対の長辺の間隔を増減させる波状を有してもよい。

【0013】

上記蒸着マスクの製造方法において、前記第１開口は、前記第１面と対向する視点から見て、互いに対向する一対の長辺と、互いに対向する一対の短辺とに囲まれた形状を有し、各短辺は、直線状、または、弧状を有し、少なくとも１つの長辺は、前記長辺の延びる方向に沿って前記一対の長辺の間隔を増減させる波状を有してもよい。

【0014】

上記蒸着マスクによれば、各長辺が波状を有するから、蒸着マスクを形成するための金属板にレジストマスクを用いて貫通孔を形成する際に、レジストマスクのマスク孔が有する長辺を、貫通孔の長辺が有する波の数と同数に分割するように構成されたレジストマスクを用いることが可能である。これにより、金属板のエッチングに際して、マスク孔の長辺において、エッチング液の流れる領域が、貫通孔の長辺が有する波の数と同数に分割される。そのため、マスク孔に供給されるエッチング液から見て、マスク孔において、分割された長辺の部分と短辺との間で長さの差が小さくなるから、長辺方向でのエッチング液の挙動と、短辺方向でのエッチング液の挙動との差を抑えることが可能である。結果として、貫通孔を長辺方向に広げるエッチング量と短辺方向に広げるエッチング量との差を抑えることが可能である。

【0015】

上記蒸着マスクにおいて、前記第１面と対向する視点から見て、各長辺は、複数の波を含み、各短辺は、前記長辺における前記波の周期に略等しい長さを有してもよい。この蒸着マスクによれば、蒸着マスクを形成するための金属板のエッチングにおいて、マスク孔の長辺をマスク孔の短辺と略等しい長さに分割するように構成されたレジストマスクを用いることが可能である。これにより、マスク孔に供給されるエッチング液から見て、マスク孔において、分割された長辺の部分と短辺との間で長さが略等しいから、長辺方向でのエッチング液の挙動と、短辺方向でのエッチング液の挙動とが略等しい。結果として、貫通孔を長辺方向に広げるエッチング量と短辺方向に広げるエッチング量との差をさらに抑えることが可能である。

【0016】

上記蒸着マスクにおいて、各短辺は、前記長辺における前記波の周期に対する０．６倍以上１．４倍以下の長さを有してもよい。この蒸着マスクによるように、各短辺が長辺における波の周期に対して０．６倍以上１．４倍以下の長さを有することが好ましい。

【0017】

上記蒸着マスクにおいて、前記第１面と対向する面である第２面を有し、前記貫通孔の第２開口は、前記第２面に位置し、前記第１面と対向する視点から見て、前記第２開口は、前記第１開口が取り囲む領域内に位置し、前記貫通孔の第３開口は、前記蒸着マスクの厚さ方向において、前記第１開口と前記第２開口との間に位置し、前記第１面と対向する視点から見て、前記第３開口は、前記第２開口が取り囲む領域内に位置し、前記第３開口は、前記第１面と対向する視点から見て、互いに対向する一対の長辺と、互いに対向する一対の短辺とに囲まれた形状を有し、前記第１面と対向する視点から見て、前記第３開口の各短辺は、前記第１開口の短辺と同じ形状を有し、前記第３開口の少なくとも１つの長辺は、前記第３開口の長辺の延びる方向に沿って前記第３開口における一対の長辺の間隔を増減させる波状を有してもよい。

【0018】

上記蒸着マスクによれば、蒸着マスクの厚さ方向において、第１開口と第２開口との間に位置する第３開口を、第１開口を形成するためのマスク孔を有したレジストマスクを用いた金属板のエッチングによって、第１開口とともに形成することが可能である。そのため、蒸着マスクの厚さ方向において、第１開口から第３開口までにわたる領域において、貫通孔の長辺方向でのエッチング量と短辺方向でのエッチング量との差を抑えることが可能である。

【発明の効果】

【0019】

本発明は、貫通孔を長軸方向に広げるエッチング量と短軸方向に広げるエッチング量との差を抑えることができる。

【図面の簡単な説明】

【0020】

【図1】一実施形態における蒸着マスクの構造を示す斜視図。

【図2】図１が示す蒸着マスクの表面と対向する視点から見た蒸着マスクの構造を示す平面図。

【図3】図２が示すＩＩＩａ‐ＩＩＩａ線に沿う蒸着マスクの構造をＩＩＩｂ‐ＩＩＩｂ線に沿う蒸着マスクの構造とともに示す断面図。

【図4】図２が示すＩＶ‐ＩＶ線に沿う蒸着マスクの構造を示す断面図。

【図5】蒸着マスクの製造方法を説明するための工程図。

【図6】レジスト層の露光に用いられる露光マスクの構造を示す平面図。

【図7】蒸着マスクの製造方法を説明するための工程図。

【図8】金属層の表面と対向する視点から見たレジストマスク開口の形状を示す平面図。

【図9】蒸着マスクの製造方法を説明するための工程図。

【図10】蒸着マスクの製造方法を説明するための工程図。

【図11】蒸着マスクの製造方法を説明するための工程図。

【図12】蒸着マスクの製造方法を説明するための工程図。

【図13】金属層の表面と対向する視点から見た第１開口の形状を示す平面図。

【図14】表示装置の製造方法を説明するための工程図。

【発明を実施するための形態】

【0021】

図１から図１４を参照して、蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法、および、表示装置の製造方法を具体化した一実施形態を説明する。
［蒸着マスク］
図１から図４を参照して、蒸着マスクを説明する。

【0022】

図１は、蒸着マスクの斜視構造における一部を示している。
図１が示すように、蒸着マスク１０は、表面１０Ｆと裏面１０Ｒとを有している。裏面１０Ｒは、蒸着マスク１０において表面１０Ｆと対向する面である。表面は第１面の一例であり、裏面は第２面の一例である。

【0023】

蒸着マスク１０は、貫通孔１１を有している。本実施形態において、蒸着マスク１０は、複数の貫通孔１１を有している。貫通孔１１は、蒸着マスク１０を用いた蒸着において、蒸着対象に対して所定の蒸着パターンを形成するための孔である。蒸着パターンは、例えば、有機ＥＬ表示装置が備える表示画素の副画素を形成する。

【0024】

蒸着マスク１０は、マスク領域１０Ｒ１と周辺領域１０Ｒ２とを備えている。周辺領域１０Ｒ２は、マスク領域１０Ｒ１を取り囲んでいる。周辺領域１０Ｒ２には、蒸着パターンを形成するための貫通孔１１が形成されていない。マスク領域１０Ｒ１には、複数の貫通孔１１が位置している。蒸着マスク１０は、例えば複数のマスク領域１０Ｒ１を含んでいる。マスク領域１０Ｒ１において、複数の貫通孔１１は、所定の規則に従って配列されている。例えば、図１が示す例では、複数の貫通孔１１は、千鳥状に配列されている。なお、貫通孔１１は、格子状に配列されてもよい。

【0025】

蒸着マスク１０の厚さＴは、例えば、１μｍ以上５０μｍ以下であってよい。蒸着マスク１０において、マスク領域１０Ｒ１での厚さと周辺領域１０Ｒ２での厚さとが同一であってもよい。あるいは、マスク領域１０Ｒ１の厚さは、周辺領域１０Ｒ２の厚さよりも薄くてもよい。なお、マスク領域１０Ｒ１の厚さが周辺領域１０Ｒ２の厚さよりも薄い場合には、上述した厚さＴの範囲は、周辺領域１０Ｒ２の厚さが含まれる範囲である。

【0026】

図２は、表面１０Ｆと対向する視点から見たときの貫通孔１１の形状を示している。
図２が示すように、貫通孔１１の表面開口１１ＡＦは、蒸着マスク１０の表面１０Ｆに位置している。表面開口１１ＡＦは、第１開口の一例である。表面開口１１ＡＦは、表面１０Ｆと対向する視点から見て、第１方向に延びる形状を有し、かつ、第１方向と交差する方向の幅が第１方向の途中で狭まるように括れている。第１方向は、表面開口１１ＡＦの長軸方向であり、第１方向と交差する方向が短軸方向である。

【0027】

表面開口１１ＡＦが括れを有した形状を有するため、貫通孔１１を形成するためのエッチングにおいて、エッチング液の流れが括れる部位において分断される。結果として、表面開口１１ＡＦが括れを有していない場合と比べて、貫通孔１１を長軸方向に広げるエッチング量と短軸方向に広げるエッチング量との差が抑えられる。

【0028】

本実施形態において、表面開口１１ＡＦは、表面１０Ｆと対向する視点から見て、互いに対向する一対の長辺１１Ｌと、互いに対向する一対の短辺１１Ｓとに囲まれた形状を有している。各短辺１１Ｓは、直線状、または、弧状を有している。少なくとも１つの長辺１１Ｌは、長辺１１Ｌの延びる方向に沿って一対の長辺１１Ｌの間隔を増減させる波状を有している。長辺１１Ｌが延びる方向が長辺方向であり、長辺方向は長軸方向の一例である。短辺１１Ｓが延びる方向が短辺方向であり、短辺方向は短軸方向の一例である。

【0029】

各長辺１１Ｌが波状を有するから、蒸着マスク１０を形成するための金属板にレジストマスクを用いて貫通孔１１を形成する際に、レジストマスクのマスク孔が有する長辺を、貫通孔１１の長辺が有する波の数と同数に分割するように構成されたレジストマスクを用いることが可能である。これにより、金属板のエッチングに際して、マスク孔の長辺において、エッチング液の流れる領域が、貫通孔１１の長辺が有する波の数と同数に分割される。そのため、マスク孔に供給されるエッチング液から見て、マスク孔において、分割された長辺の部分と短辺との間で長さの差が小さくなるから、長辺方向でのエッチング液の挙動と、短辺方向でのエッチング液の挙動との差を抑えることが可能である。結果として、貫通孔１１を長辺方向に広げるエッチング量と短辺方向に広げるエッチング量との差を抑えることが可能である。

【0030】

図２が示す例では、両方の長辺１１Ｌが、一対の長辺１１Ｌの間隔を長辺１１Ｌが延びる方向に沿って増減させる波状を有している。各短辺１１Ｓは略直線状を有している。各短辺１１Ｓは、表面開口１１ＡＦが取り囲む領域の中央部から離れる方向に突き出た弧状を有してもよい。言い換えれば、各短辺１１Ｓは、曲率中心が、表面開口１１ＡＦが取り囲む領域内に位置するような弧状を有してもよい。あるいは、各短辺１１Ｓは、１つの谷部を有してもよい。すなわち、各短辺１１Ｓは、表面開口１１ＡＦが取り囲む領域の中央部に向かう方向に窪む弧状を有してもよい。言い換えれば、各短辺１１Ｓは、曲率中心が、表面開口１１ＡＦが取り囲む領域外に位置するような弧状を有してもよい。

【0031】

各長辺１１Ｌは、複数の波を含んでいる。すなわち、各長辺１１Ｌは、複数の山部１１Ｌ１と複数の谷部１１Ｌ２とを含んでいる。長辺１１Ｌにおいて、表面開口１１ＡＦが取り囲む領域の中央部から離れる方向に突き出た部分が山部１１Ｌ１であり、表面開口１１ＡＦが取り囲む領域の中央部に向かう方向に窪む部分が谷部１１Ｌ２である。山部１１Ｌ１は、長辺１１Ｌが延びる方向において、２つの谷部１１Ｌ２に挟まれている。あるいは、山部１１Ｌ１は、長辺１１Ｌが延びる方向において、長辺１１Ｌと短辺１１Ｓとの交点と、１つの谷部１１Ｌ２とに挟まれている。

【0032】

長辺１１Ｌにおいて、１つの山部１１Ｌ１を含み、かつ、当該山部１１Ｌ１を挟む２つの谷部１１Ｌ２によって画定される部分が、１つの波である。あるいは、長辺１１Ｌにおいて、１つの山部１１Ｌ１を含み、当該山部１１Ｌ１を挟む谷部１１Ｌ２と上述した交点とによって画定される部分が、１つの波である。各長辺１１Ｌは、２つ以上の波を有する。図２が示す例では、各長辺１１Ｌは、４つの波を有している。

【0033】

各短辺１１Ｓは、長辺１１Ｌにおける波の周期に略等しい長さを有することができる。これにより、蒸着マスク１０を形成するための金属板のエッチングにおいて、マスク孔の長辺をマスク孔の短辺と略等しい長さに分割するように構成されたレジストマスクを用いることが可能である。そのため、マスク孔に供給されるエッチング液から見て、マスク孔において、分割された長辺の部分と短辺との間で長さが略等しいから、長辺方向でのエッチング液の挙動と、短軸方向でのエッチング液の挙動とが略等しい。結果として、貫通孔１１を長辺方向に広げるエッチング量と短軸方向に広げるエッチング量との差をさらに抑えることが可能である。

【0034】

波の周期は、各長辺１１Ｌが延びる方向において、１つの山部１１Ｌ１を挟む谷部１１Ｌ２間の距離である。あるいは、波の周期は、各長辺１１Ｌが延びる方向において、１つの山部１１Ｌ１を挟む谷部１１Ｌ２と上述した交点との間の距離である。

【0035】

各短辺１１Ｓは、長辺１１Ｌにおける波の周期に対する０．６倍以上１．４倍以下の長さを有することが可能である。なお、上述したように、各短辺１１Ｓが弧状を有する場合には、各短辺１１Ｓにおける上述した交点間の距離が、各短辺１１Ｓの長さである。

【0036】

貫通孔１１の裏面開口１１ＡＲは、裏面１０Ｒに位置している。表面１０Ｆと対向する視点から見て、裏面開口１１ＡＲは、表面開口１１ＡＦが取り囲む領域内に位置している。すなわち、長辺１１Ｌが延びる方向と短辺１１Ｓが延びる方向との両方において、裏面開口１１ＡＲは、表面開口１１ＡＦよりも小さい。図２が示す例では、裏面開口１１ＡＲは、略長方形状を有している。裏面開口１１ＡＲは、第２開口の一例である。

【0037】

貫通孔１１の中央開口１１ＡＣは、蒸着マスク１０の厚さ方向において、表面開口１１ＡＦと裏面開口１１ＡＲとの間に位置している。表面１０Ｆと対向する視点から見て、中央開口１１ＡＣは、裏面開口１１ＡＲが取り囲む領域内に位置している。すなわち、長辺１１Ｌが延びる方向と短辺１１Ｓが延びる方向との両方において、中央開口１１ＡＣは、裏面開口１１ＡＲよりも小さい。表面１０Ｆと対向する視点から見て、表面開口１１ＡＦと中央開口１１ＡＣが視認される一方で、裏面開口１１ＡＲは視認されない。

【0038】

中央開口１１ＡＣは、表面１０Ｆと対向する視点から見て、互いに対向する一対の長辺ＡＣＬと、互いに対向する一対の短辺ＡＣＳとに囲まれた形状を有している。表面１０Ｆと対向する視点から見て、中央開口１１ＡＣの各短辺ＡＣＳは、表面開口１１ＡＦの短辺１１Ｓと同じ形状を有し、中央開口１１ＡＣの少なくとも１つの長辺ＡＣＬは、中央開口１１ＡＣにおける一対の長辺ＡＣＬの間隔を当該長辺ＡＣＬの延びる方向に沿って増減させる波状を有する。

【0039】

例えば、図２が示す例では、各短辺ＡＣＳは略直線状を有している。各短辺ＡＣＳは、表面開口１１ＡＦの短辺１１Ｓと同一の形状であれば、以下の形状を有することが可能である。すなわち、各短辺ＡＣＳは、中央開口１１ＡＣが取り囲む領域の中央部から離れる方向に突き出た弧状を有してもよい。言い換えれば、各短辺ＡＣＳは、曲率中心が、中央開口１１ＡＣが取り囲む領域内に位置するような弧状を有してもよい。あるいは、各短辺ＡＣＳは、１つの谷部を有してもよい。すなわち、各短辺ＡＣＳは、中央開口１１ＡＣが取り囲む領域の中央部に向かう方向に窪む弧状を有してもよい。言い換えれば、各短辺ＡＣＳは、曲率中心が、中央開口１１ＡＣが取り囲む領域外に位置するような弧状を有してもよい。

【0040】

各長辺ＡＣＬは、複数の波を含んでいる。すなわち、各長辺ＡＣＬは、複数の山部ＡＣＬ１と複数の谷部ＡＣＬ２とを含んでいる。長辺ＡＣＬにおいて、中央開口１１ＡＣが取り囲む領域の中央部から離れる方向に突き出た部分が山部ＡＣＬ１であり、中央開口１１ＡＣが取り囲む領域の中央部に向かう方向に窪む部分が谷部ＡＣＬ２である。山部ＡＣＬ１は、長辺ＡＣＬが延びる方向において、２つの谷部ＡＣＬ２に挟まれている。あるいは、山部ＡＣＬ１は、長辺ＡＣＬが延びる方向において、長辺ＡＣＬと短辺ＡＣＳとの交点と、１つの谷部ＡＣＬ２とに挟まれている。中央開口１１ＡＣの長辺ＡＣＬは、表面開口１１ＡＦの長辺１１Ｌと同数の山部ＡＣＬ１および谷部ＡＣＬ２を含んでいる。

【0041】

長辺ＡＣＬにおいて、１つの山部ＡＣＬ１を含み、かつ、当該山部ＡＣＬ１を挟む２つの谷部ＡＣＬ２によって画定される部分が、１つの波である。あるいは、長辺ＡＣＬにおいて、１つの山部ＡＣＬ１を含み、当該山部ＡＣＬ１を挟む谷部ＡＣＬ２と上述した交点とによって画定される部分が、１つの波である。各長辺ＡＣＬは、２つ以上の波を有する。中央開口１１ＡＣの長辺ＡＣＬは、表面開口１１ＡＦの長辺ＡＣＬと同数の波を含んでいる。

【0042】

図３は、図２が示す断面指示線に沿う断面における貫通孔１１の形状を示している。すなわち、図３は、表面開口１１ＡＦの短辺１１Ｓが延びる方向と平行な平面に沿う蒸着マスク１０の断面構造を示している。なお、図３では、図示の便宜上、図２におけるＩＩＩａ‐ＩＩＩａ線に沿う断面での貫通孔１１の形状と、ＩＩＩｂ‐ＩＩＩｂ線に沿う断面での貫通孔１１の形状とが示されている。図３において、ＩＩＩａ‐ＩＩＩａ線に沿う断面での貫通孔１１の形状が実線を用いて示され、ＩＩＩｂ‐ＩＩＩｂ線に沿う断面での貫通孔１１の形状が二点鎖線を用いて示されている。

【0043】

図３が示すように、貫通孔１１は、大孔部１１ＨＬと小孔部１１ＨＳとを備えている。表面１０Ｆに直交し、かつ、貫通孔１１が延びる方向、すなわち長辺方向と直交する断面において、大孔部１１ＨＬは、表面１０Ｆから裏面１０Ｒに向かう方向に沿って先細る形状を有している。表面１０Ｆに直交し、かつ、貫通孔１１が延びる方向、すなわち長辺方向と直交する断面において、小孔部１１ＨＳは、裏面１０Ｒから表面１０Ｆに向かう方向に沿って先細る形状を有している。

【0044】

大孔部１１ＨＬは、蒸着マスク１０の厚さ方向における途中において、小孔部１１ＨＳに接続されている。上述した中央開口１１ＡＣは、大孔部１１ＨＬが小孔部１１ＨＳに接続された部分に位置している。表面１０Ｆに直交し、かつ、貫通孔１１が延びる方向、すなわち長辺方向と直交する断面において、裏面１０Ｒと中央開口１１ＡＣとの間の距離が、ステップハイトである。なお、ＩＩＩａ‐ＩＩＩａ線に沿う断面でのステップハイトが第１ステップハイトＳＨ１であり、ＩＩＩｂ‐ＩＩＩｂ線に沿う断面でのステップハイトが第２ステップハイトＳＨ２である。

【0045】

上述したように、図３において実線で示される形状は、図２におけるＩＩＩａ‐ＩＩＩａ線に沿う断面形状である。ＩＩＩａ線‐ＩＩＩａ線は、表面開口１１ＡＦの長辺１１Ｌにおける谷部１１Ｌ２を通る直線である。谷部１１Ｌ２は、表面開口１１ＡＦのなかで、蒸着マスク１０を形成するための金属板のエッチングが最も進まなかった部分である。これに対して、図３において二点鎖線で示される形状は、図２におけるＩＩＩｂ‐ＩＩＩｂ線に沿う断面形状である。ＩＩＩｂ‐ＩＩＩｂ線は、表面開口１１ＡＦの長辺１１Ｌにおける山部１１Ｌ１を通る直線である。山部１１Ｌ１は、表面開口１１ＡＦのなかで、蒸着マスク１０を形成するための金属板のエッチングが最も進んだ部分である。

【0046】

そのため、ＩＩＩａ線‐ＩＩＩａ線に沿う断面における第１ステップハイトＳＨ１は、ＩＩＩｂ線‐ＩＩＩｂ線に沿う断面における第２ステップハイトＳＨ２よりも大きい。なお、蒸着マスク１０では、ＩＩＩｂ線‐ＩＩＩｂ線に沿う断面において、ＩＩＩａ線‐ＩＩＩａ線に沿う断面に比べてエッチングが進行している。そのため、ＩＩＩｂ線‐ＩＩＩｂ線に沿う断面での第２ステップハイトＳＨ２は、ＩＩＩａ線‐ＩＩＩａ線に沿う断面での第１ステップハイトＳＨ１よりも小さい。

【0047】

図４は、図２が示すＩＶ‐ＩＶ線に沿う貫通孔１１の断面形状を示している。すなわち、図４は、表面開口１１ＡＦの長辺１１Ｌが延びる方向と平行な平面に沿う蒸着マスク１０の断面形状を示している。

【0048】

図４が示すように、貫通孔１１を画定する側面１１ＡＳのうち、大孔部１１ＨＬを画定する側面１１ＨＬＳは、貫通孔１１が延びる方向、すなわち長辺方向に沿って繰り返す波を含む波状を有している。すなわち、大孔部１１ＨＬを画定する側面１１ＨＬＳでは、表面開口１１ＡＦの長辺１１Ｌにおける波形状が、蒸着マスク１０の厚さ方向に沿って維持されている。

【0049】

［蒸着マスクの製造方法］
図５から図１３を参照して、蒸着マスクの製造方法を説明する。
蒸着マスク１０の製造方法は、金属板にレジスト層を形成すること、レジストマスクを形成すること、および、貫通孔を形成することを含んでいる。レジストマスクを形成することでは、レジスト層を露光し、露光したレジスト層を現像してレジストマスクを形成する。貫通孔を形成することでは、レジストマスクを用いて金属板をウェットエッチングして、金属板の第１面に第１開口が位置する貫通孔を形成する。

【0050】

貫通孔を形成することでは、第１面と対向する視点から見て、第１開口が第１方向に延びる形状を有し、かつ、第１方向と交差する方向の幅が第１方向の途中で狭まることで括れるように第１開口を形成する。以下、図面を参照して、蒸着マスク１０の製造方法をより詳しく説明する。

【0051】

図５が示すように、蒸着マスク１０が形成される際には、まず、蒸着マスク１０を形成するための金属板１０Ｍを準備する。金属板１０Ｍは、例えば、鉄ニッケル系合金から形成される。鉄ニッケル合金は、例えば、３６質量％のニッケルを含むことが可能である。鉄ニッケル系合金は、インバーであってよい。金属板１０Ｍの厚さは、例えば１μｍ以上５０μｍ以下であってよく、１０μｍ以上３０μｍ以下であることが好ましい。これにより、蒸着マスク１０を形成するための金属板に対するエッチングが行いやすくなる。金属板１０Ｍは、表面１０ＭＦと、表面１０ＭＦに対向する裏面１０ＭＲとを含んでいる。

【0052】

金属板１０Ｍの表面１０ＭＦに第１レジスト層２１Ｆを形成し、金属板１０Ｍの裏面１０ＭＲに第２レジスト層２１Ｒを形成する。各レジスト層２１Ｆ，２１Ｒは、例えばネガ型のレジスト材料によって形成される。なお、各レジスト層２１Ｆ，２１Ｒは、ポジ型のレジスト材料によって形成されてもよい。各レジスト層２１Ｆ，２１Ｒは、ドライフィルムレジストの貼り付けによって形成される。なお、ドライフィルムレジストの厚さは、５μｍ以上２０μｍ以下であることが好ましい。

【0053】

図６は、レジスト層２１Ｆ，２１Ｒの露光に用いられる露光マスクの平面構造を示している。なお、図６では、第１レジスト層２１Ｆの露光に用いられる露光マスクが実線で示されている。これに対して、第２レジスト層２１Ｒの露光に用いられる露光マスクが二点鎖線で示されている。また、図６には、各レジスト層２１Ｆ，２１Ｒがネガ型のレジスト材料によって形成された場合における露光マスクの形状を示している。なお、露光マスクは、遮光パターンである。第１レジスト層２１Ｆのうち、露光マスクが配置された部分は露光されない。そのため、第１レジスト層２１Ｆが現像されることによって、第１レジスト層２１Ｆのうちで露光マスクが配置された部分には、開口が形成される。

【0054】

図６が示すように、露光マスク２２Ｆは、略長方形状を有している。露光マスク２２Ｆは、一対の長辺２２ＦＬと一対の短辺２２ＦＳとを有している。露光マスク２２Ｆは、短辺２２ＦＳと平行な方向に沿って延びる複数のスリット２２ＦＳＬを有している。図６が示す例では、露光マスク２２Ｆは、各長辺２２ＦＬにおいて窪むスリット２２ＦＳＬを３つ有している。各長辺２２ＦＬにおいて、３つのスリット２２ＦＳＬは、長辺２２ＦＬを等分する位置に配置されている。長辺２２ＦＬにおいて、スリット２２ＦＳＬのピッチは、短辺２２ＦＳに略等しいことが好ましい。

【0055】

露光マスク２２Ｆにおいて、長辺２２ＦＬの長さが、露光マスク２２Ｆの長さＬＭである。短辺２２ＦＳの長さが、露光マスク２２Ｆの幅ＷＭである。図６が示す例では、各スリット２２ＦＳＬの長さＬＳＬは、露光マスク２２Ｆの幅ＷＭの略１／３である。各スリット２２ＦＳＬの幅ＷＳＬは、スリット２２ＦＳＬの長さＬＳＬよりも短い。スリット２２ＦＳＬの幅ＷＳＬは、露光マスク２２Ｆの長辺２２ＦＬのうちで、スリット２２ＦＳＬ間に位置する部分の長さよりも短い。露光マスク２２Ｆの長さＬＭにおいて、スリット２２ＦＳＬによって等分された各長さが単位長さＵＬＭである。各長辺２２ＦＬにおいて、複数のスリット２２ＦＳＬは、長辺２２ＦＬを等分するように配置されている。スリット２２ＦＳＬの幅ＷＳＬは、単位長さＵＬＭよりも短い。

【0056】

露光マスク２２Ｆの角部には、突出部２２Ｐが１つずつ位置している。突出部２２Ｐは、露光マスク２２Ｆの長辺２２ＦＬ、および、露光マスク２２Ｆの短辺２２ＦＳを通る仮想的な長方形を設定した場合に、当該長方形の角部から外側に向けて突き出た部分である。各突出部２２Ｐは、略正方形状を有している。

【0057】

なお、露光マスク２２Ｒは、長方形状を有している。露光マスク２２Ｒは、第１レジスト層２１Ｆに開口を形成するための露光マスク２２Ｆよりも小さい。

【0058】

図７が示すように、露光後のレジスト層２１Ｆ，２１Ｒが現像されることによって、レジストマスク２３Ｆ，２３Ｒが形成される。第１レジスト層２１Ｆの露光および現像によって、金属板１０Ｍの表面１０ＭＦに第１レジストマスク２３Ｆが形成される。第２レジスト層２１Ｒの露光および現像によって、金属板１０Ｍの裏面１０ＭＲに第２レジストマスク２３Ｒが形成される。

【0059】

第１レジストマスク２３Ｆは、第１マスク孔２３ＦＡを有している。第１マスク孔２３ＦＡは、蒸着マスク１０の貫通孔１１における大孔部１１ＨＬを形成するための孔である。第２レジストマスク２３Ｒは、第２マスク孔２３ＲＡを有している。第２マスク孔２３ＲＡは、蒸着マスク１０の貫通孔１１における小孔部１１ＨＳを形成するための孔である。

【0060】

図８は、金属板１０Ｍの表面１０ＭＦと対向する視点から見た第１レジストマスク２３Ｆの平面構造を示している。なお、金属板１０Ｍの裏面１０ＭＲと対向する視点から見た第２レジストマスク２３Ｒの平面構造は、図示を省略する。上述したように、露光マスク２２Ｒは長方形状を有するから、第２レジストマスク２３Ｒは、長方形状を有した開口を有する。

【0061】

図８が示すように、第１レジストマスク２３Ｆを形成する工程では、上述したように、金属板１０Ｍの貫通孔１１を形成するための第１マスク孔２３ＦＡを有した第１レジストマスク２３Ｆを形成する。第１マスク孔２３ＦＡは、金属板１０Ｍの表面１０ＭＦと対向する視点から見て、互いに対向する一対の長辺２３ＦＡＬと、互いに対向する一対の短辺２３ＦＡＳとに囲まれた形状を有している。第１マスク孔２３ＦＡは、上述した露光マスク２２Ｆに略等しい形状を有している。第１マスク孔２３ＦＡは、略長方形状を有している。

【0062】

第１レジストマスク２３Ｆは、複数の凸部２３ＦＰを備えている。各凸部２３ＦＰは、各長辺２３ＦＡＬから他方の長辺２３ＦＡＬに向かう方向に沿って、第１マスク孔２３ＦＡ内に突き出ている。

【0063】

第１マスク孔２３ＦＡの長辺２３ＦＡＬが複数の凸部２３ＦＰによって分断される。そのため、第１レジストマスク２３Ｆが凸部２３ＦＰを有しない場合に比べて、金属板１０Ｍのうち、第１マスク孔２３ＦＡの短辺２３ＦＡＳにおいて露出する部分と、第１マスク孔２３ＦＡの長辺２３ＦＡＬにおいて露出する部分との間において、エッチング液の挙動に差が生じにくくなる。これにより、第１マスク孔２３ＦＡの長辺２３ＦＡＬから露出する部分が、第１マスク孔２３ＦＡの短辺２３ＦＡＳから露出する部分に対して過剰にエッチングされることが抑えられる。結果として、金属板１０Ｍの貫通孔において長辺方向でのエッチング量と、短辺方向でのエッチング量との差を抑えることが可能である。

【0064】

露光マスク２２Ｆがスリット２２ＦＳＬを有しない場合には、第１マスク孔２３ＦＡの長辺２３ＦＡＬが複数の凸部２３ＦＰによって分断されない。この場合には、第１マスク孔２３ＦＡの長辺２３ＦＡＬの近傍でのエッチング液の接触時間が、第１マスク孔２３ＦＡの短辺２３ＦＡＳの近傍でのエッチング液の接触時間よりも長くなる。そのため、長辺２３ＦＡＬの近傍において金属板１０Ｍがエッチングされる速度が、短辺２３ＦＡＳの近傍において金属板１０Ｍがエッチングされる速度よりも高くなる。結果として、金属板１０Ｍの貫通孔において、長辺方向でのエッチング量と、短辺方向でのエッチング量とに差が生じる。

【0065】

第１レジストマスク２３Ｆは、１つの第１マスク孔２３ＦＡに対して、露光マスク２２Ｆが備えるスリット２２ＦＳＬと同数の凸部２３ＦＰを備えている。第１レジストマスク２３Ｆは、各長辺２３ＦＡＬを起点とする凸部２３ＦＰを３つずつ備えている。

【0066】

金属板１０Ｍの表面１０ＭＦと対向する視点から見て、第１マスク孔２３ＦＡの角部には、突出部２３ＦＡＰが１つずつ位置している。突出部２３ＦＡＰは、露光マスク２２Ｆが有する突出部２２Ｐと略同一の形状を有している。第１マスク孔２３ＦＡが突出部２３ＦＡＰを有することによって、第１マスク孔２３ＦＡが突出部２３ＦＡＰを有しない場合に比べて、表面開口１１ＡＦの角部が弧状を有しにくくなる。これにより、長方形の角部が有する形状に対する、表面開口１１ＡＦの角部が有する形状のずれ量を小さくすることができる。

【0067】

図９が示すように、金属板１０Ｍに貫通孔１１を形成する工程では、まず、第２レジストマスク２３Ｒを用いて、金属板１０Ｍの裏面１０ＭＲから金属板１０Ｍをエッチングする。金属板１０Ｍをエッチングする前に、金属板１０Ｍの表面１０ＭＦを覆う第１保護層２４Ｆを形成する。これにより、金属板１０Ｍの表面１０ＭＦが裏面１０ＭＲとともにエッチングされることがない。金属板１０Ｍが裏面１０ＭＲからエッチングされることによって、第２レジストマスク２３Ｒが有する第２マスク孔２３ＲＡに応じた形状を有する小孔部１０ＭＳが形成される。

【0068】

金属板１０Ｍがインバーから形成される場合には、インバーをエッチングすることが可能なエッチング液、すなわち酸性のエッチング液を用いることができる。酸性のエッチング液は、例えば、塩化第二鉄液、過塩素酸第二鉄液、および、過塩素酸第二鉄液と塩化第二鉄液との混合液のいずれかに対して、過塩素酸、塩酸、硫酸、蟻酸、および、酢酸のいずれかを混合した溶液であってよい。金属板１０Ｍをエッチングする方式には、ディップ式、スプレー式、および、スピン式のいずれかを用いることができる。第１保護層２４Ｆは、エッチング液によってエッチングされない材料によって形成されていればよい。

【0069】

図１０が示すように、第１レジストマスク２３Ｆを用いて、金属板１０Ｍの表面１０ＭＦから金属板１０Ｍをエッチングする。金属板１０Ｍをエッチングする前に、第１保護層２４Ｆを第１レジストマスク２３Ｆから除去する。また、金属板１０Ｍをエッチングする前に、第２レジストマスク２３Ｒを除去する。次いで、金属板１０Ｍの裏面１０ＭＲを覆う第２保護層２４Ｒを裏面１０ＭＲ上に形成する。これにより、金属板１０Ｍの裏面１０ＭＲが表面１０ＭＦとともにエッチングされることがない。

【0070】

なお、金属板１０Ｍの裏面１０ＭＲに形成された第２レジストマスク２３Ｒは除去されなくてもよい。この場合には、第２保護層２４Ｒは、第２レジストマスク２３Ｒ上に形成されればよい。

【0071】

図１１が示すように、金属板１０Ｍが表面１０ＭＦからエッチングされることによって、第１レジストマスク２３Ｆが有する第１マスク孔２３ＦＡに応じた形状を有する大孔部１０ＭＬが形成される。大孔部１０ＭＬは、金属板１０Ｍの表面１０ＭＦから裏面１０ＭＲに向かう方向に沿って形成されることによって、金属板１０Ｍに形成された小孔部１０ＭＳに接続される。

【0072】

金属板１０Ｍがインバーから形成される場合には、金属板１０Ｍを裏面１０ＭＲからエッチングする場合と同様に、インバーをエッチングすることが可能なエッチング液、すなわち酸性のエッチング液を用いることができる。酸性のエッチング液は、例えば、塩化第二鉄液、過塩素酸第二鉄液、および、過塩素酸第二鉄液と塩化第二鉄液との混合液のいずれかに対して、過塩素酸、塩酸、硫酸、蟻酸、および、酢酸のいずれかを混合した溶液であってよい。金属板１０Ｍをエッチングする方式には、ディップ式、スプレー式、および、スピン式のいずれかを用いることができる。第２保護層２４Ｒは、エッチング液によってエッチングされない材料によって形成されていればよい。

【0073】

図１２が示すように、金属板１０Ｍの表面１０ＭＦから第１レジストマスク２３Ｆが除去される。また、金属板１０Ｍの裏面１０ＭＲから第２保護層２４Ｒが除去される。金属板１０Ｍから所定の長さを有した部分が断裁されることによって、蒸着マスク１０が形成される。

【0074】

なお、金属板１０Ｍの表面１０ＭＦが蒸着マスク１０の表面１０Ｆに対応する。金属板１０Ｍの裏面１０ＭＲが蒸着マスク１０の裏面１０Ｒに対応する。金属板１０Ｍの大孔部１０ＭＬが、蒸着マスク１０の貫通孔１１が備える大孔部１１ＨＬに対応する。金属板１０Ｍの小孔部１０ＭＳが、蒸着マスク１０の貫通孔１１が備える小孔部１１ＨＳに対応する。

【0075】

図１３は、金属板１０Ｍの表面１０ＭＦと対向する視点から見た金属板１０Ｍの平面構造を示している。
図１３が示すように、金属板１０Ｍの表面１０ＭＦには、貫通孔１１の表面開口１１ＡＦが位置する。表面開口１１ＡＦの各長辺１１Ｌは、第１レジストマスク２３Ｆが備える凸部２３ＦＰの数に応じた数の波を有している。金属板１０Ｍの表面１０ＭＦと対向する視点から見て、貫通孔１１の表面開口１１ＡＦが画定する領域内に中央開口１１ＡＣが位置している。すなわち、中央開口１１ＡＣは、金属板１０Ｍの表面１０ＭＦと対向する視点から見て、表面開口１１ＡＦによって囲まれている。

【0076】

［表示装置の製造方法］
図１４を参照して、表示装置の製造方法を説明する。
表示装置の製造方法は、上述した蒸着マスク１０の製造方法を用いて蒸着マスク１０を準備すること、および、蒸着マスク１０を用いて蒸着対象に蒸着パターンを形成すること、を含んでいる。以下、図面を参照して、蒸着装置の一例とともに、蒸着パターンを形成する工程を説明する。

【0077】

図１４が示すように、蒸着装置３０は、蒸着マスク１０と、蒸着対象Ｓとを収容する収容槽３１を備えている。収容槽３１は、蒸着対象Ｓと蒸着マスク１０とを収容槽３１内における所定の位置に保持するように構成されている。収容槽３１内には、蒸着材料Ｍｖｄを保持する保持部３２と、蒸着材料Ｍｖｄを加熱する加熱部３３とが位置している。保持部３２に保持される蒸着材料Ｍｖｄは、例えば有機発光材料である。収容槽３１は、蒸着対象Ｓと蒸着マスク１０とを、蒸着対象Ｓと保持部３２との間に蒸着マスク１０が位置し、かつ、蒸着マスク１０と保持部３２とが対向するように、収容槽３１内に位置させる。蒸着マスク１０は、蒸着マスク１０の裏面１０Ｒが蒸着対象Ｓに密着した状態で、収容槽３１内に配置される。

【0078】

蒸着パターンを形成する工程では、蒸着材料Ｍｖｄが加熱部３３によって加熱されることにより、蒸着材料Ｍｖｄが気化または昇華する。気化または昇華した蒸着材料Ｍｖｄは、蒸着マスク１０が備える貫通孔１１を通過して蒸着対象Ｓに付着する。これにより、例えば、蒸着材料Ｍｖｄが有機発光材料である場合には、蒸着マスク１０が有する貫通孔１１の形状および位置に対応した形状を有する有機層が、蒸着対象Ｓに形成される。なお、蒸着材料Ｍｖｄは、表示層の画素回路が備える画素電極を形成するための金属材料などであってもよい。

【0079】

［実施例］
表１および表２を参照して実施例および比較例を説明する。表１には、実施例および比較例で用いた露光マスクの各部の寸法を記載した。また、表２には、実施例および比較例の蒸着マスクに対する評価結果を記載した。なお、以下に説明する実施例および比較例では、金属板のエッチングに枚葉式エッチング装置を用いた。

【0080】

［実施例１］
３６質量％のニッケルを含む鉄‐ニッケル系合金から形成され、２５μｍの厚さを有し、かつ、一辺の長さが１００ｍｍである正方形状を有した金属板を準備した。そして、ネガ型のレジスト材料から形成されたドライフィルムレジストを金属板の各面に貼り付けることによって、金属板の両面に１５μｍの厚さを有したレジスト層を形成した。

【0081】

次いで、図６を参照して先に説明した形状を有する露光マスクを用いて第１レジスト層を露光した。露光後のレジスト層を現像することによって、第１レジストマスクを形成した。なお、露光マスクにおいて、長さＬＭを１４７．９μｍに設定し、幅ＷＭを５５．４μｍに設定し、スリット２２ＦＳＬの長さＬＳＬを１６．３μｍに設定し、スリット２２ＦＳＬの幅ＷＳＬを８．７μｍに設定し、単位長さＵＬＭを３７．０μｍに設定した。

【0082】

露光マスクが有する突出部は、以下の方法で設計した。すなわち、露光マスクにおいて、上述した仮想的な長方形を設定し、当該長方形の角部に正方形の重心が位置するように配置した。この際に、正方形が有する一辺の長さを１６μｍに設定し、かつ、仮想的な長方形の長辺と、正方形の一辺のうちで当該長辺に交わる辺とが形成する角度が４５°であるように、正方形を配置した。なお、第１レジスト層を露光する際には、複数の露光マスクが格子配列の各格子点に位置するように、第１レジスト層に対して複数の露光マスクを配置した。

【0083】

また、第２レジスト層を露光するための露光マスクとして、１３０．７μｍの長さを有し、かつ、３０．３μｍの幅を有した露光マスクを準備した。露光マスクを用いて第２レジスト層を露光し、第２レジスト層を現像することによって、第２レジストマスクを形成した。

【0084】

そして、第２レジストマスクを用いて金属板をエッチングした。この際に、金属板の裏面が枚葉式エッチング装置のエッチング液に接触する時間を１分３０秒に設定した。また、塩化第二鉄液をエッチング液として用い、かつ、エッチング液の温度を５０℃に設定した。これにより、金属板に小孔部を形成した。

【0085】

次いで、第１レジストマスクを用いて金属板をエッチングした。この際に、金属板の表面が枚葉式エッチング装置のエッチング液に接触する時間を３分４０秒に設定した。それ以外は、第２レジストマスクを用いた金属板のエッチングと同一の条件に設定して、第１レジストマスクを用いて金属板をエッチングした。これにより、金属板に大孔部を形成することによって、貫通孔を有した実施例１の蒸着マスクを得た。

【0086】

［実施例２］
実施例１において、スリットの長さＬＳＬを１２．０μｍに設定した以外は、実施例１と同様の方法によって、実施例２の金属板を得た。

【0087】

［実施例３］
実施例１において、金属板をエッチングする際に、金属板の表面が枚葉式エッチング装置のエッチング液に接触する時間を４分１０秒に設定した以外は、実施例１と同様の方法によって、実施例３の金属板を得た。

【0088】

［比較例１］
実施例１において、露光マスクの長さＬＭを１４８．０μｍに設定し、幅ＷＭを５３．５μｍに設定し、かつ、露光マスクがスリットを有しない以外は、実施例１と同様の方法によって、比較例１の金属板を得た。

【0089】

【表1】

【0090】

［評価］
実施例１から実施例３、および、比較例１の各々において、貫通孔におけるステップハイトを測定した。短辺と平行な平面であって、かつ、第１谷部、第２谷部、および、第３谷部をそれぞれ含む断面に対応する部分において、ステップハイトを測定した。なお、第１谷部、第２谷部、および、第３谷部は、表面開口の長辺に沿って記載の順に並んでいた。短辺と平行な平面であって、かつ、第１山部および第２山部をそれぞれ含む断面に対応する部分において、ステップハイトを測定した。なお、第１山部は、長辺が延びる方向において第１谷部と第２谷部とに挟まれる部分であった。第２山部は、長辺が延びる方向において第２谷部と第３谷部とに挟まれる部分であった。また、長辺と平行な平面に沿う断面に対応する部分において、ステップハイトを測定した。なお、ステップハイトの測定には、走査電子顕微鏡（Ｕ３５００形、（株）日立ハイテク製）を用いた。ステップハイトを測定した結果は、以下の表２に示す通りであった。なお、比較例１の蒸着マスクでは、表面開口の長辺が谷部および山部を有しない。そのため、比較例１では、各実施例の蒸着マスクにおいて各山部と各谷部とが位置する部分と同等の部分において、ステップハイトを測定した。

【0091】

【表2】

【0092】

表２が示すように、実施例１において、短辺と平行な平面に沿う断面でのステップハイトの平均値は、２．５４であることが認められた。また、長辺と平行な平面に沿う断面でのステップハイトと、短辺に平行な平面に沿う断面でのステップハイトとの差において、最小値が０．２２であり、最大値が１．０７であることが認められた。

【0093】

実施例２において、短辺と平行な平面に沿う断面でのステップハイトの平均値は、０．８９であることが認められた。また、長辺と平行な平面に沿う断面でのステップハイトと、短辺に平行な平面に沿う断面でのステップハイトとの差において、最小値が１．９１であり、最大値が２．４５であることが認められた。

【0094】

実施例３において、短辺と平行な平面に沿う断面でのステップハイトの平均値は、２．０３であることが認められた。また、長辺と平行な平面に沿う断面でのステップハイトと、短辺と平行な平面に沿う断面でのステップハイトとの差において、最小値が０．２１であり、最大値が１．３７であることが認められた。

【0095】

比較例１において、短辺と平行な平面に沿う断面でのステップハイトの平均値は、０．６５であることが認められた。長辺と平行な平面に沿う断面でのステップハイトと、短辺と平行な平面に沿う断面でのステップハイトとの差において、最小値が２．５２であり、最大値が２．５４であることが認められた。このように、実施例１から実施例３の金属板によれば、長辺と平行な平面に沿う断面でのステップハイトと、短辺に平行な平面に沿う断面でのステップハイトとの差の最大値が、比較例１の金属板でのステップハイトの差よりも小さいことが認められた。すなわち、実施例１から実施例３の金属板によれば、貫通孔の長辺方向でのエッチング量と短辺方向でのエッチング量との差が抑えられることが認められた。

【0096】

以上説明したように、蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法、および、表示装置の製造方法の一実施形態によれば、以下に記載の効果を得ることができる。
（１）表面開口１１ＡＦが括れを有した形状を有するため、貫通孔１１を形成するためのエッチング液の流れが括れる部位において分断される。結果として、表面開口１１ＡＦが括れを有していない構成と比べて、貫通孔１１を第１方向である長軸方向に広げるエッチング量と短軸方向に広げるエッチング量との差を抑えることが可能となる。

【0097】

（２）各長辺１１Ｌが波状を有するから、蒸着マスク１０を形成するための金属板１０Ｍにレジストマスクを用いて貫通孔１１を形成する際に、第１レジストマスク２３Ｆの第１マスク孔２３ＦＡが有する長辺２３ＦＡＬを、貫通孔１１の長辺１１Ｌが有する波の数と同数に分割するように構成された第１レジストマスク２３Ｆを用いることが可能である。

【0098】

これにより、金属板１０Ｍのエッチングに際して、第１マスク孔２３ＦＡの長辺２３ＦＡＬにおいて、エッチング液の流れる領域が、貫通孔１１の長辺１１Ｌが有する波の数と同数に分割される。これにより、第１マスク孔２３ＦＡに供給されるエッチング液から見て、第１マスク孔２３ＦＡにおいて、分割された長辺２３ＦＡＬの部分と短辺２３ＦＡＳとの間で長さの差が小さくなるから、長辺方向でのエッチング液の挙動と、短辺方向でのエッチング液の挙動との差を抑えることが可能である。結果として、貫通孔１１を長辺方向に広げるエッチング量と短辺方向に広げるエッチング量との差を抑えることが可能である。

【0099】

（３）蒸着マスク１０を形成するための金属板１０Ｍのエッチングにおいて、第１マスク孔２３ＦＡの長辺２３ＦＡＬを第１マスク孔２３ＦＡの短辺２３ＦＡＳと略等しい長さに分割するように構成された第１レジストマスク２３Ｆを用いることが可能である。これにより、第１マスク孔２３ＦＡに供給されるエッチング液から見て、第１マスク孔２３ＦＡにおいて、分割された長辺２３ＦＡＬの部分と短辺２３ＦＡＳとの間で長さが略等しいから、長辺方向でのエッチング液の挙動と、短辺方向でのエッチング液の挙動とが略等しい。結果として、貫通孔１１を長辺方向に広げるエッチング量と短辺方向に広げるエッチング量との差をさらに抑えることが可能である。

【0100】

（４）各短辺１１Ｓが長辺１１Ｌにおける波の周期に対して０．６倍以上１．４倍以下の長さを有することが好ましい。

【0101】

（５）蒸着マスク１０の厚さ方向において、表面開口１１ＡＦから中央開口１１ＡＣまでにわたる領域において、貫通孔１１の長辺方向でのエッチング量と短辺方向でのエッチング量との差を抑えることが可能である。

【0102】

（６）第１マスク孔２３ＦＡの長辺２３ＦＡＬが複数の凸部２３ＦＰによって分断される。そのため、第１レジストマスク２３Ｆが凸部２３ＦＰを有しない場合に比べて、金属板１０Ｍのうち、第１マスク孔２３ＦＡの短辺２３ＦＡＳにおいて露出する部分と、第１マスク孔２３ＦＡの長辺２３ＦＡＬにおいて露出する部分との間において、エッチング液の挙動に差が生じにくくなる。これにより、第１マスク孔２３ＦＡの長辺２３ＦＡＬから露出する部分が、第１マスク孔２３ＦＡの短辺２３ＦＡＳから露出する部分に対して過剰にエッチングされることが抑えられる。結果として、金属板１０Ｍの貫通孔において長辺方向でのエッチング量と、短辺方向でのエッチング量との差を抑えることが可能である。

【0103】

なお、上述した実施形態は、以下のように変更して実施することができる。
［表面開口］
・上述したように、表面開口１１ＡＦは、表面１０Ｆと対向する視点から見て、第１方向に延びる形状を有し、かつ、第１方向と交差する方向の幅が第１方向の途中で狭まるように括れていればよい。そのため、表面開口１１ＡＦは、図２を参照して先に説明したような一対の長辺１１Ｌと一対の短辺１１Ｓとによって画定される形状以外の形状を有してもよい。例えば、表面開口１１ＡＦは、表面１０Ｆと対向する視点から見て、２つの円が各円の一部において繋がった形状を有してもよい。なお、表面１０Ｆと対向する視点から見て、表面開口１１ＡＦの括れた部分とは、第１方向において、第１方向と交差する方向の幅が極小値を有する部分である。すなわち、括れた部分での第１方向と交差する方向の幅は、第１方向において括れた部分を挟む部分での第１方向と交差する方向の幅よりも小さい。

【0104】

［金属板］
・金属板１０Ｍを形成する材料は、インバーに限らず、例えば以下の材料であってもよい。すなわち、金属板１０Ｍを形成する材料は、３０質量％以上のニッケルと、残余分の鉄を含む合金であってもよい。なお、当該合金は、鉄およびニッケルに加えて添加物を含んでもよい。添加物は、クロム、マンガン、炭素、および、コバルトなどである。金属板１０Ｍは、鉄ニッケルコバルト系合金から形成されてもよい。鉄ニッケルコバルト系合金は、例えば、３０質量％以上のニッケル、３質量％以上のコバルト、および、残余分の鉄を含む。鉄ニッケルコバルト系合金は、鉄、ニッケル、およびコバルトに加えて添加物を含んでもよい。添加物は、例えば、クロム、マンガン、および炭素などの添加物を含んでいてもよい。鉄ニッケルコバルト系合金は、３２質％のニッケル、４質量％以上５質量％以下のコバルト、および、残余分の鉄を含む合金、すなわちスーパーインバーであってもよい。

【0105】

［レジスト層］
・各レジスト層２１Ｆ，２１Ｒは、レジスト層２１Ｆ，２１Ｒを形成するための塗液の塗布によって形成されてもよい。例えば、金属板１０Ｍの厚さが１０μｍ以下である場合には、塗布によってレジスト層２１Ｆ，２１Ｒを形成することが好ましい。また例えば、金属板１０Ｍの厚さが５μｍ以下である場合には、１μｍ以下の厚さを有したレジスト層２１Ｆ，２１Ｒを塗布によって形成することが好ましい。

【0106】

［蒸着マスクの製造方法］
・蒸着マスク１０が備える貫通孔１１は、金属板１０Ｍの表面１０ＭＦから金属板１０Ｍをエッチングするのみによって形成されてもよい。この場合には、金属板１０Ｍの厚さは、１５μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下であることがより好ましい。この場合には、貫通孔１１は、表面開口１１ＡＦから裏面開口１１ＡＲに延び、かつ、表面開口１１ＡＦから裏面開口１１ＡＲに向けて先細る形状を有する。金属板１０Ｍを表面１０ＭＦのみからエッチングした場合には、図８を用いて説明した第１レジストマスク２３Ｆを用いて金属板１０Ｍをエッチングすることによって、短辺方向でのエッチング量と長辺方向でのエッチング量との差を小さくすることができる。これにより、蒸着マスク１０の表面１０Ｆと対向する視点から見て、表面開口１１ＡＦの長辺１１Ｌにおける直進性を高めることが可能である。

【符号の説明】

【0107】

１０…蒸着マスク
１０Ｆ…表面
１０Ｒ…裏面
１０Ｍ…金属板
１１…貫通孔
１１ＡＣ…中央開口
１１ＡＦ…表面開口
１１ＡＲ…裏面開口
１１Ｌ…長辺
１１Ｓ…短辺
２３Ｆ…第１レジストマスク
２３ＦＡ…第１マスク孔
２３ＦＡＬ…長辺
２３ＦＡＳ…短辺
２３ＦＰ…凸部

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】