特開 2022-112860 成膜装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2022112860

(43)【公開日】2022-08-03

(54)【発明の名称】成膜装置

(51)【国際特許分類】

   C23C 14/50 20060101AFI20220727BHJP

   H01L 21/683 20060101ALI20220727BHJP

【ＦＩ】

C23C14/50 H

H01L21/68 N

【審査請求】有

【請求項の数】7

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2021008861

(22)【出願日】2021-01-22

(71)【出願人】

【識別番号】390007216

【氏名又は名称】株式会社シンクロン

(74)【代理人】

【識別番号】110000486

【氏名又は名称】とこしえ特許業務法人

(72)【発明者】

【氏名】青山 貴昭

(72)【発明者】

【氏名】姜 友松

【テーマコード（参考）】

4K029

5F131

【Ｆターム（参考）】

4K029BA46

4K029BA58

4K029CA01

4K029CA05

4K029JA03

5F131BA01

5F131BA03

5F131CA06

5F131CA12

5F131EA05

5F131EA21

5F131EB66

(57)【要約】

【課題】パーティクルが膜に混入するのを抑制できる基板保持装置及びこれを用いた成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置Ｆに用いられる基板保持装置Ｄにおいて、第１軸Ｓ１の回りに回転する回転体２と、前記回転体に回転可能に支持され、成膜対象となる基板を保持する基板保持部材４と、前記基板保持部材に接触しない自転駆動部材５と、を備え、前記基板保持部材は、前記回転体の回転により前記第１軸の回りに公転し、当該公転にともない、前記自転駆動部材により第２軸Ｓ２の回りに自転する。
【選択図】 図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

成膜装置に用いられる基板保持装置において、
第１軸の回りに回転する回転体と、
前記回転体に回転可能に支持され、成膜対象となる基板を保持する基板保持部材と、
前記基板保持部材に接触しない自転駆動部材と、を備え、
前記基板保持部材は、
前記回転体の回転により前記第１軸の回りに公転し、
当該公転にともない、前記自転駆動部材により第２軸の回りに自転する基板保持装置。

【請求項2】

前記自転駆動部材は、磁力により前記基板保持部材を自転させる請求項１に記載の基板保持装置。

【請求項3】

前記自転駆動部材は、第１の磁力部を含み、
前記基板保持部材は、前記第１の磁力部に対面する第２の磁力部を含む請求項１又は２に記載の基板保持装置。

【請求項4】

前記第２軸は、前記基板保持部材の中心軸に一致する請求項１～３のいずれか一項に記載の基板保持装置。

【請求項5】

前記第２軸は、前記基板保持部材の中心軸からオフセットされている請求項１～３のいずれか一項に記載の基板保持装置。

【請求項6】

前記第２軸は、前記第１軸に平行である請求項１～５のいずれか一項に記載の基板保持装置。

【請求項7】

前記第２軸は、前記第１軸に非平行である請求項１～５のいずれか一項に記載の基板保持装置。

【請求項8】

前記自転駆動部材は、前記回転体に対して位置が固定された環状筐体を含み、
前記環状筐体は、前記回転体の外側に同軸に設けられ、
前記基板保持部材は、回転軸と、前記回転軸に固定された基板保持部とを含む請求項１～７のいずれか一項に記載の基板保持装置。

【請求項9】

前記自転駆動部材は、第１の磁力部を含み、
前記基板保持部材は、前記第１の磁力部に対面する第２の磁力部を含み、
前記第１の磁力部は、前記環状筐体の周方向に沿って配設された複数対のＳ極とＮ極を含み、
前記第２の磁力部は、前記回転軸の周方向に沿って配設された複数対のＳ極とＮ極を含む請求項８に記載の基板保持装置。

【請求項10】

請求項１～９のいずれか一項に記載の基板保持装置と、
前記回転体を回転駆動する駆動部と、
前記基板保持部材に保持された基板に膜を形成する成膜機構と、を備える成膜装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、基板保持装置及びこれを用いた成膜装置に関するものである。

【背景技術】

【0002】

均一な薄膜を形成するための、遊星歯車機構を備える可搬型回転装置として、回転体と、当該回転体上に回転可能に支持される基板ホルダとを備え、回転体は、遊星歯車機構の公転軸としての第１の回転軸を中心に回転し、基板ホルダは、回転体により第１の回転軸の周囲に保持され、遊星歯車機構の自転軸としての第２の回転軸を中心に回転可能に支持されるものが知られている（特許文献１）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特許第５７２７０７３号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

しかしながら、上記従来の可搬型回転装置を用いた成膜装置では、成膜時に、歯車の機械的な噛み合いによって発生した金属粉片などのパーティクルが、膜に混入するという問題があった。

【0005】

本発明が解決しようとする課題は、パーティクルが膜に混入するのを抑制できる基板保持装置及びこれを用いた成膜装置を提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本発明は、第１軸の回りに回転する回転体と、前記回転体に回転可能に支持され、成膜対象となる基板を保持する基板保持部材と、前記基板保持部材に接触しない自転駆動部材と、を備え、
前記基板保持部材は、前記回転体の回転により前記第１軸の回りに公転し、当該公転にともない、前記自転駆動部材により第２軸の回りに自転することによって、上記課題を解決する。

【発明の効果】

【0007】

本発明によれば、基板保持部材と自転駆動部材は接触しないので、パーティクルが膜に混入するのを抑制することができる。

【図面の簡単な説明】

【0008】

【図1】本発明に係る基板保持装置を適用した成膜装置の一実施の形態を示す構造図である。

【図2】図１のII-II線に沿う断面図である。

【図3A】本発明に係る基板保持部材と第２軸との関係の一実施の形態を示す要部構造図である。

【図3B】本発明に係る基板保持部材と第２軸との関係の他の実施の形態を示す要部構造図である。

【図4】本発明に係る基板保持装置を適用した成膜装置の他の実施の形態を示す構造図である。

【図5】本発明の実施形態に係る環状筐体を示す要部平面図である。

【図6A】本発明の実施形態に係る第２の磁力部の一例を示す水平断面図である。

【図6B】本発明の実施形態に係る第２の磁力部の他例を示す水平断面図である。

【図7】本発明の実施形態に係る第１の磁力部と第２の磁力部がゼロトルクとなる状態を示す水平断面図である。

【図8】図１の成膜装置を用いた膜厚実験について使用した基板を示す平面図である。

【図9】図８のIX-IX線に沿う断面図である。

【図10】図１の成膜装置を用いた膜厚実験のＳｉＯ_２膜の膜厚分布結果を示すグラフである。

【図11】図１の成膜装置を用いた膜厚実験のＳｉ_３Ｎ_４膜の膜厚分布結果を示すグラフである。

【発明を実施するための形態】

【0009】

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。本発明に係る基板保持装置は、蒸着装置又はスパッタ装置に代表される種々の成膜装置に用いることができ、その適用対象となる成膜装置は特に限定されない。また、本発明に係る基板保持装置が適用される成膜装置において、成膜される膜の種類についても特に限定されず、光学膜、防汚膜、保護膜その他の用途に使用することができる。さらに、本発明に係る基板保持装置が適用される成膜装置において、成膜される膜の適用機器についても特に限定されず、スマートフォン、タブレット、カメラ、ビデオカメラ等に使用されるタッチパネル、ディスプレー、光学素子、レンズに使用することができる。

【0010】

図１は、本発明に係る基板保持装置Ｄを適用した成膜装置Ｆの一実施の形態を示す構造図、図２は、図１のII-II線に沿う断面図であり、基板保持装置Ｄは、成膜装置Ｆの真空チャンバ１の内部に設置される。本実施形態の真空チャンバ１は、一般的に使用されるステンレス鋼製容器であり、全体が縦置き円筒形状構造とされている。真空チャンバ１は、閉開可能な蓋体（不図示）を介して内部を密閉空間とするとともに、排気口に接続された排気装置７により、その内部を所定の真空状態にすることができる。

【0011】

本実施形態の成膜装置Ｆには、基板保持部材４に保持された基板（不図示）を成膜する成膜機構８が設けられている。成膜装置Ｆを真空スパッタ装置に具現化した場合には、図示する成膜機構８はスパッタ源に相当し、真空チャンバ１の内部においてプラズマ環境を構築し、スパッタ源のターゲットをスパッタし、成膜粒子を形成することで基板に薄膜を堆積する。一方、成膜装置Ｆを真空蒸着装置に具現化した場合には、成膜機構８は蒸発源に相当し、当該蒸発源は、真空チャンバ１に固定され、蒸着材料を加熱して蒸発させることで基板に薄膜を堆積する。

【0012】

本実施形態の基板保持装置Ｄは、第１軸Ｓ１の回りに回転する回転体２と、基板を保持する基板保持部材４と、自転駆動部材５と、を備える。以下、これらの構成について説明する。

【0013】

本実施形態の回転体２は、第１軸Ｓ１の回りに回動する支持筒（ドラム）２１と、当該支持筒２１の中心に固定されたシャフト３とを含み、シャフト３の一端に接続された駆動部６によって回転駆動される。支持筒２１は、第１軸Ｓ１に沿った方向の上端及び下端に、上部取付板２２ａ及び下部取付板２２ｂが設けられている。なお、本発明に係る回転体２は、ドラム状の支持筒２１にのみ限定されず、たとえば図４に示すような傘状のラックであってもよい。

【0014】

ちなみに、図４は、本発明に係る基板保持装置を適用した成膜装置Ｆの他の実施の形態を示す構造図である。図４に示す実施形態において、公転軸となる第１軸Ｓ１は、真空チャンバ１に対して鉛直方向に延在するように設けられ、第２軸Ｓ２は外側下がりの傾斜になるように設けられ、第２軸Ｓ２の延長線は、第１軸Ｓ１と交差する。本実施形態の回転体２は、シャフト３に回転駆動された傘状ラックであり、基板保持部材４は、当該傘状ラックの回転体２に傾斜して取り付けられ、回転体２の下方には、蒸着源などの成膜機構８が設けられている。

【0015】

図１及び図２に戻り、本実施形態の基板保持部材４は、回転体２の外周部分に、複数、等間隔で、回転可能に支持されている。そのため、基板保持部材４は、シャフト４２と、当該シャフト４２に固定された基板保持部４０とを備える。このシャフト４２の上端は、回転体２の上部取付板２２ａに回転可能に取り付けられ、シャフト４２の下端は、下部取付板２２ｂに回転可能に取り付けられている。これらシャフト４２と上部取付板２２ａとの間、及び／又は、シャフト４２の下端と下部取付板２２ｂとの間に、軸受を設けてもよい。一方、基板保持部材４の基板保持部４０は、その全体が長方形の板状構造とされ、基板を保持するための基板保持面を備える基板固定治具である。成膜対象となる基板は、成膜前に基板保持部４０に取り付けられ、成膜後に取り外される。

【0016】

このように基板保持部材４は、回転体２の外周部分に回転可能に支持されているので、回転体２が駆動部６により第１軸Ｓ１を中心にして回転すると、当該基板保持部材４も第１軸Ｓ１を中心にして回転（公転）するとともに、後述する自転駆動部材５の作用により、回転体２に支持されながら第２軸Ｓ２を中心に回転（自転）する。以下、基板保持部材４の、前者の回転を公転、後者の回転を自転ともいう。

【0017】

図３Ａは、本発明に係る基板保持部材４と第２軸Ｓ２との関係の一実施の形態を示す要部構造図、図３Ｂは、同じく他の実施の形態を示す要部構造図である。本実施形態の基板保持部材４の回転軸となる第２軸Ｓ２は、図３Ａ及び図３Ｂに示すように第１軸Ｓ１と平行になるように構成してもよいし、図４に示すように第１軸Ｓ１と非平行になるように構成してもよい。また、第２軸Ｓ２は、図３Ａ及び図４に示すように基板保持部材４の中心軸に一致してもよいし、図３Ｂに示すように基板保持部材４の中心軸からオフセットしてもよい。

【0018】

本実施形態の自転駆動部材５は、基板保持部材４に接触せず、回転体２の回転による基板保持部材４の第１軸Ｓ１の回りの回転（公転）に伴って、当該基板保持部材４を第２軸Ｓ２の回りに回転（自転）させる。特に限定はされないが、本実施形態の自転駆動部材５は、磁力を用いて基板保持部材４を自転させる。具体的には、自転駆動部材５は、回転体２に対して位置が固定された環状筐体５０を含み、当該環状筐体５０は、回転体２の外側に位置し、回転体２と同軸になるように、真空チャンバ１の天井面に固定されている。これにより、回転体２が回転しても、環状筐体５０の位置は固定されたまま、回転体２と干渉しないで所定間隔を維持する。

【0019】

本実施形態の自転駆動部材５は、図２に示すように、第１の磁力部５１を含み、当該第１の磁力部５１は、環状筐体５０の内周面に、その周方向に沿って配設された複数対のＳ極５１０とＮ極５１１を含む。一方において、基板保持部材４は、第１の磁力部５１に所定間隔をもって対面する第２の磁力部４１を含み、当該第２の磁力部４１は、図６Ａ又は図６Ｂに示すようにシャフト４２の上端に設けられた固定鉄芯４２０の外周面に、周方向に沿って配設された複数対のＳ極４１０とＮ極４１１を含む。これら第１の磁力部５１と第２の磁力部４１は、第１軸Ｓ１方向に沿った高さが等しく設定されている。そして、基板保持部材４が公転する場合に、複数対のＳ極５１０とＮ極５１１を含む第１の磁力部５１は、複数対のＳ極４１０とＮ極４１１を含む第２の磁力部４１に対して、当該第２の磁力部４１を第２軸Ｓ２の回りに回転させる磁力モーメントを生成する。これにより、当該磁力モーメントの作用によって、第２の磁力部４１（延いては基板保持部材４）は、第１の磁力部５１に沿って基板保持部材４が公転する過程において自転することになる。

【0020】

なお、図１及び図２に示す実施形態では、環状筐体５０は、回転体２の外側に位置し、環状筐体５０の内周面に複数対のＳ極５１０とＮ極５１１を含む第１の磁力部５１が設けられ、当該環状筐体５０の内側に基板保持部材４の固定鉄芯４２０に複数対のＳ極４１０とＮ極４１１を含む第２の磁力部４１が設けられているが、この位置関係を逆に構成してもよい。すなわち、環状筐体５０を、回転体２の内側に位置せしめ、環状筐体５０の外周面に複数対のＳ極５１０とＮ極５１１を含む第１の磁力部５１を設け、当該環状筐体５０の外側に基板保持部材４の固定鉄芯４２０に複数対のＳ極４１０とＮ極４１１を含む第２の磁力部４１を設けてもよい。

【0021】

図５は、本発明の実施形態に係る環状筐体５０を示す要部平面図である。環状筐体５０への取り付け作業を容易にするために、Ｓ極５１０とＮ極５１１は、いずれも直方体とされ、これらＳ極５１０とＮ極５１１は、同じ形状とされ、且つ極性が逆とされている。特に限定はされないが、第１の磁力部５１と第２の磁力部４１の第１軸Ｓ１方向に沿った長さは、４５～５５ｍｍである。一方、環状筐体５０の内周面には、第１の磁力部５１のＳ極５１０とＮ極５１１が取り付けられる取付溝５０１が形成されている。この取付溝５０１は、矩形状の溝とされ、第１の磁力部５１のＳ極５１０とＮ極５１１は、取付溝５０１に対し、接着又は締まり嵌めにより固定されている。

【0022】

また、第１の磁力部５１の磁気リークが外部に拡散し、第１の磁力部５１と第２の磁力部４１との間の磁力作用に影響することを避けるために、第１の磁力部５１はヨークを含んでもよい。また、第１の磁力部５１は永久磁石で構成するほか、必要に応じて電磁石で構成してもよい。

【0023】

図６Ａは、本発明の実施形態に係る第２の磁力部４１の一例を示す水平断面図、図６Ｂは、他例を示す水平断面図である。本実施形態の第２の磁力部４１は、基板保持部材４のシャフト４２の上端の固定鉄芯４２０に設けられ、その周方向に沿って複数対のＳ極４１０とＮ極４１１を含む。これらＳ極４１０とＮ極４１１は、円周方向に沿って交互に分布する。本実施形態のＳ極４１０とＮ極４１１は、同じ形状とされ、且つ極性が逆とされている。固定鉄芯４２０は、所望の磁場を形成するために、シャフト４２の上端に設けられている。１つのＳ極４１０とＮ極４１１は扇状構造とされ、第２の磁力部４１を構成する外表面４００は弧状表面とされている。なお、１つのＳ極４１０とＮ極４１１の内表面４０１は、図６Ａに示すように平面であってもよく、図６Ｂに示すように弧状面であってもよい。

【0024】

第１の磁力部５１の一対のＳ極５１０及びＮ極５１１の周方向の長さと、第２の磁力部４１の一対のＳ極４１０及びＮ極４１１の周方向の長さは、ほぼ等しくされている。ただし、取付要求を考慮し、隣接するＳ極５１０とＮ極５１１との間に隙間が発生する可能性がある場合には、第２の磁力部４１の外表面４００の円周方向に沿った長さを、第１の磁力部５１の円周方向に沿った長さよりも少し長くしてもよい。

【0025】

本実施形態において、第１の磁力部５１の１つのＳ極５１０又はＮ極５１１に対応する中心角をＡ、第２の磁力部４１の１つのＳ極４１０又はＮ極４１１に対応する中心角をＢとすると、基板保持部材４は、角度Ａだけ公転する時に角度Ｂだけ自転することになる。本実施形態の環状筐体５０の直径と第２の磁力部４１の直径を種々に設定することで、歯車機構におけるギヤ比に相当する回転比を調節することができる。

【0026】

図７は、本発明の実施形態に係る第１の磁力部５１と第２の磁力部４１がゼロトルクとなる状態を示す水平断面図である。基板保持部材４の回転過程において、第１の磁力部５１の円周方向に沿った中間位置と、第２の磁力部４１の円周方向に沿った中間位置とが、図７に示すように対面するタイミングは勿論存在する。このとき、第１の磁力部５１のＮ極５１１は、第２の磁力部４１のＳ極４１０と対面し、径方向に沿った作用力は生じるが回転方向のトルクはゼロである。しかしながら、第２の磁力部４１が第１の磁力部５１に沿って公転することで、次のタイミングにて、当該トルクがゼロの状態は解消され、相応する磁力モーメントが生る。そして、この磁力モーメントの作用により第２の磁力部４１は回転し、基板保持部材４が自転することになる。

【0027】

次に、図１に示す成膜装置Ｆを用いて成膜した膜の均一性を検証した結果を説明する。図８は、この実験で使用した基板を示す平面図、図９は、図８のIX-IX線に沿う断面図である。この基板は、図８の平面視のように長径が１００ｍｍ程度の楕円形状であり、図９の断面図に示すように外周部分がドーナツ状の環状隆起部とされ、中央部分が上に凸のドーム形状とされた複雑な形状を有する。図８に示す丸数字は、成膜後に膜厚測定を行った部位を示す。図１に示す成膜装置Ｆを用いて、ＳｉＯ_２膜とＳｉ_３Ｎ_４膜をそれぞれ基板に形成し、膜厚測定をした結果を図１０及び図１１に示す。図１０は、ＳｉＯ_２膜の膜厚分布結果を示すグラフ、図１１は、Ｓｉ_３Ｎ_４膜の膜厚分布結果を示すグラフである。なお、縦軸は正規化した膜厚を示す。図１０の結果から、ＳｉＯ_２膜の膜厚分布は±１．８％の範囲にあり、Ｓｉ_３Ｎ_４膜の膜厚分布は±１．４％の範囲にあり、いずれも良好な結果であった。

【0028】

以上説明したとおり、本実施形態の基板保持装置Ｄ及び成膜装置Ｆには、基板保持部材４に接触しない自転駆動部材５が設けられ、これら基板保持部材４と自転駆動部材５との相互作用により、基板保持部材４は、公転する過程において自転する。これにより、基板保持部材４に保持された基板も公転及び自転しながら真空チャンバ１内を移動するので、成膜機構８からの成膜材料が基板に対して万遍なく堆積することになる。その結果、均一な膜厚に成膜された基板を得ることができる。

【0029】

また、本実施形態の基板保持装置Ｄ及び成膜装置Ｆでは、基板保持部材４と自転駆動部材５は互いに接触しないので、潤滑材が不要で保守性に優れる。また、機械的磨耗が生じないので、成膜時に機械磨耗による汚染物質が膜に混入するのを抑制することができる。これと同時に、混入物が抑制される結果、成膜質量の精度が向上する。

【0030】

また、本実施形態の基板保持装置Ｄ及び成膜装置Ｆでは、基板保持部材４が公転及び自転するので、基板保持部材４に保持した基板に対して３６０°の成膜を行うことができる。したがって、基板の全面に成膜を施す必要がある場合でも、複数回に分けて成膜することなく、１回の成膜処理で基板の全面を成膜することができ、成膜効率が向上する。

【0031】

さらに、本実施形態の基板保持装置Ｄ及び成膜装置Ｆでは、基板の形状に対して許容性が高く、矩形その他の標準形状の基板だけではなく、図８及び図９に示すような複雑な異形基板に対しても成膜することができる。

【符号の説明】

【0032】

Ｆ…成膜装置
Ｄ…基板保持装置
１…真空チャンバ
２…回転体
２１…支持筒（ドラム）
２２ａ…上部取付板
２２ｂ…下部取付板
３…シャフト
４…基板保持部材
４０…基板保持部
４００…外表面
４０１…内表面
４１…第２の磁力部
４１０…Ｓ極
４１１…Ｎ極
４２…シャフト
４２０…固定鉄芯
５…自転駆動部材
５０…環状筐体
５０１…取付溝
５１…第１の磁力部
５１０…Ｓ極
５１１…Ｎ極
６…駆動部
７…排気装置
８…成膜機構
Ｓ１…第１軸
Ｓ２…第２軸

【図1】

【図2】

【図3A】

【図3B】

【図4】

【図5】

【図6A】

【図6B】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【手続補正書】

【提出日】2022-07-12

【手続補正1】

【補正対象書類名】特許請求の範囲

【補正対象項目名】全文

【補正方法】変更

【補正の内容】

【特許請求の範囲】

【請求項1】

第１軸の回りに回転する回転体と、
前記回転体に回転可能に支持され、成膜対象となる基板を保持する基板保持部材と、
前記基板保持部材に接触しない自転駆動部材と、を含む基板保持装置と、
前記回転体を回転駆動する駆動部と、
前記基板保持部材に保持された基板に膜を形成する成膜機構と、を備える成膜装置において、
前記基板保持部材は、
前記回転体の回転により前記第１軸の回りに公転し、
当該公転にともない、前記自転駆動部材により第２軸の回りに自転し、
前記第２軸は、前記基板保持部材の中心軸からオフセットされている成膜装置。

【請求項2】

前記自転駆動部材は、磁力により前記基板保持部材を自転させる請求項１に記載の成膜装置。

【請求項3】

前記自転駆動部材は、第１の磁力部を含み、
前記基板保持部材は、前記第１の磁力部に対面する第２の磁力部を含む請求項１又は２に記載の成膜装置。

【請求項4】

前記第２軸は、前記第１軸に平行である請求項１～３のいずれか一項に記載の成膜装置。

【請求項5】

前記第２軸は、前記第１軸に非平行である請求項１～３のいずれか一項に記載の成膜装置。

【請求項6】

前記自転駆動部材は、前記回転体に対して位置が固定された環状筐体を含み、
前記環状筐体は、前記回転体の外側に同軸に設けられ、
前記基板保持部材は、回転軸と、前記回転軸に固定された基板保持部とを含む請求項１～５のいずれか一項に記載の成膜装置。

【請求項7】

前記自転駆動部材は、第１の磁力部を含み、
前記基板保持部材は、前記第１の磁力部に対面する第２の磁力部を含み、
前記第１の磁力部は、前記環状筐体の周方向に沿って配設された複数対のＳ極とＮ極を含み、
前記第２の磁力部は、前記回転軸の周方向に沿って配設された複数対のＳ極とＮ極を含む請求項６に記載の成膜装置。

【手続補正3】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０００１

【補正方法】変更

【補正の内容】

【0001】

本発明は、成膜装置に関するものである。

【手続補正4】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０００５

【補正方法】変更

【補正の内容】

【0005】

本発明が解決しようとする課題は、パーティクルが膜に混入するのを抑制できる成膜装置を提供することである。

【手続補正5】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０００６

【補正方法】変更

【補正の内容】

【0006】

本発明は、第１軸の回りに回転する回転体と、前記回転体に回転可能に支持され、成膜対象となる基板を保持する基板保持部材と、前記基板保持部材に接触しない自転駆動部材と、を含む基板保持装置と、前記回転体を回転駆動する駆動部と、前記基板保持部材に保持された基板に膜を形成する成膜機構と、を備える成膜装置において、
前記基板保持部材は、前記回転体の回転により前記第１軸の回りに公転し、当該公転にともない、前記自転駆動部材により第２軸の回りに自転し、前記第２軸は、前記基板保持部材の中心軸からオフセットされることによって、上記課題を解決する。