特開 2022-113458 吸収材供給装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2022113458

(43)【公開日】2022-08-04

(54)【発明の名称】吸収材供給装置

(51)【国際特許分類】

   A61F 13/15 20060101AFI20220728BHJP

【ＦＩ】

A61F13/15 370

A61F13/15 357

A61F13/15 380

【審査請求】未請求

【請求項の数】7

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2021009727

(22)【出願日】2021-01-25

(71)【出願人】

【識別番号】000122298

【氏名又は名称】王子ホールディングス株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110002860

【氏名又は名称】特許業務法人秀和特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】桃瀬 知之

(72)【発明者】

【氏名】花生 裕之

【テーマコード（参考）】

3B200

【Ｆターム（参考）】

3B200AA01

3B200AA03

3B200BB17

3B200EA05

(57)【要約】

【課題】粒状のＳＡＰが吸収体の上に間欠的かつ均一に配置可能な技術を提供する。
【解決手段】本開示の一側面に係る吸収材供給装置は、外周面を有するローラと、ローラの軸方向に沿うようにローラに固定される回転軸と、を備え、外周面に供給源から供給された粒状の吸収材が入ることが可能な凹部を有する。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

外周面を有するローラと、
前記ローラの軸方向に沿うように前記ローラに固定される回転軸と、を備え、
前記外周面に供給源から供給された粒状の吸収材が入ることが可能な凹部を有する、
吸収材供給装置。

【請求項2】

前記凹部は、第１底面と、前記第１底面よりも低い第２底面と、を有する、
請求項１に記載の吸収材供給装置。

【請求項3】

前記凹部の側部は、底面から開口への方向に対して広がる傾斜を有する、
請求項１又は２に記載の吸収材供給装置。

【請求項4】

前記回転軸は、水平方向に沿って設けられ、
前記供給源は、前記ローラの上方に設けられ、前記ローラに向けて開口し、前記吸収材が通過する開口部と、前記開口部を通過して前記ローラに供給される前記吸収材の供給量を調節可能な調節手段と、を有する供給部を含む、
請求項１から３のうち何れか一項に記載の吸収材供給装置。

【請求項5】

前記供給部の下方の前記外周面を囲むように設けられ、前記外周面の表面近傍から上方に延びる壁を更に備える、
請求項４に記載の吸収材供給装置。

【請求項6】

前記供給部からみて前記回転軸が回転する方向側に位置し、前記外周面の周方向に沿って前記外周面の上部の少なくとも一部を覆うように設けられる被覆部材を更に備える、
請求項４又は５に記載の吸収材供給装置。

【請求項7】

前記回転軸の回転速度を制御する制御部を更に備える、
請求項１から６のうち何れか一項に記載の吸収材供給装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、吸収材供給装置に関する。

【背景技術】

【0002】

使い捨ておむつ、尿パッド、生理用品等の吸収性物品においては、尿や体液等の排泄液を吸収する吸収材として、パルプや高吸収性重合体（Ｓｕｐｅｒ Ａｂｓｏｒｂｅｎｔ Ｐｏｌｙｍｅｒ：ＳＡＰ）が用いられている（例えば、特許文献１を参照）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特許第５５７３８０６号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

粒状のＳＡＰを吸収体の上に間欠的に配置する場合、例えば吸収体をコンベアー上で移動させておき、コンベアーの上方にＳＡＰの供給管の出口を設け、当該出口に例えば蓋やシャッターなどの遮蔽機構を設けることが考えられる。このような遮蔽機構が設けられることで、供給管の出口から吸収体へ落下するＳＡＰの量を調節できる。しかしながら、ＳＡＰは粒状の物体であるため、遮蔽機構を形成する部品間の隙間に入り込むことが考えられる。よって、遮蔽機構の動作不良や故障を引き起こす可能性がある。

【0005】

また、例えば遮蔽部材により供給管の出口が遮蔽された状態から、遮蔽解除のために遮蔽部材が移動を開始した直後と、遮蔽部材が移動を開始してから所定時間経過した時とでは、遮断されていた部分を通過するＳＡＰの量は異なることが考えられる。よって、吸収体上に撒かれたＳＡＰの厚みは不均一になることが考えられる。そこで、遮蔽部材を高速で移動させることが考えられる。しかしながら、このように遮蔽部材を高速で移動させても、ＳＡＰは粒状の物質であるため、遮蔽部材の移動開始直後に遮蔽されていた部分を、遮蔽部材の移動開始直後に一定量のＳＡＰは通過する。よって、遮蔽されていた部分を通過するＳＡＰの量を時間的に均一に改善することは困難と想定される。

【0006】

そこで、本発明は、粒状のＳＡＰが吸収体の上に間欠的かつ均一に配置可能な技術を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0007】

上記課題を解決するため、本発明では、ＳＡＰ供給源と吸収体との間に、凹部を有し、回転可能な略円柱状の部材を設けることとした。

【0008】

詳細には、本開示の一側面に係る吸収材供給装置は、外周面を有するローラと、前記ローラの軸方向に沿うように前記ローラに固定される回転軸と、を備え、前記外周面に供給源から供給された粒状の吸収材が入ることが可能な凹部を有する。

【0009】

上記一側面に係る吸収材供給装置において、前記凹部は、第１底面と、前記第１底面よりも低い第２底面と、を有してもよい。

【0010】

上記一側面に係る吸収材供給装置において、前記凹部の側部は、底面から開口への方向に対して広がる傾斜を有してもよい。

【0011】

上記一側面に係る吸収材供給装置において、前記回転軸は、水平方向に沿って設けられ、前記供給源は、前記ローラの上方に設けられ、前記ローラに向けて開口し、前記吸収材が通過する開口部と、前記開口部を通過して前記ローラに供給される前記吸収材の供給量を調節可能な調節手段と、を有する供給部を含んでもよい。

【0012】

上記一側面に係る吸収材供給装置において、前記供給部の下方の前記外周面を囲むように設けられ、前記外周面の表面近傍から上方に延びる壁を更に備えてもよい。

【0013】

上記一側面に係る吸収材供給装置において、前記供給部からみて前記回転軸が回転する方向側に位置し、前記外周面の周方向に沿って前記外周面の上部の少なくとも一部を覆うように設けられる被覆部材を更に備えてもよい。

【0014】

上記一側面に係る吸収材供給装置において、前記回転軸の回転速度を制御する制御部を更に備えてもよい。

【発明の効果】

【0015】

本発明によれば、粒状のＳＡＰが吸収体の上に間欠的かつ均一に配置可能な技術が提供可能となる。

【図面の簡単な説明】

【0016】

【図1】図１は、実施形態に係るＳＡＰ層形成装置の外観斜視図の一例である。

【図2】図２は、ローラの外観斜視図の概要を例示する。

【図3】図３は、ＳＡＰ層形成装置の第１動作例の概要を例示する。

【図4】図４は、ＳＡＰ層形成装置の第２動作例を示している。

【図5】図５は、比較例に係るＳＡＰ層形成装置の概要を例示する。

【図6】図６は、第１変形例に係るＳＡＰ層形成装置の概要を例示している。

【図7】図７は、第２変形例に係るＳＡＰ層形成装置の概要を例示している。

【発明を実施するための形態】

【0017】

以下に、図面を参照して本発明の実施形態に係るＳＡＰ層形成装置について説明する。なお、以下の実施形態の構成は例示であり、本発明はこれらの実施の形態の構成に限定されるものではない。なお、以下の説明において、上下左右とは、特に断り書きがない場合、図１を正面から見た時の方向を指すものとする。

【0018】

図１は、実施形態に係るＳＡＰ層形成装置１（本開示の「吸収材供給装置」の一例）の外観斜視図である。図１に示されるように、ＳＡＰ層形成装置１は、パルプ５０が搬送されるコンベアー５１の上方に設置される。そして、コンベアー５１の上を移動するパルプ５０に粒状のＳＡＰを落下させる。なお、パルプ５０およびパルプ５０の上に撒かれたＳＡＰは、例えば使い捨ておむつ、尿パッド、生理用品等の吸収性物品において、尿や体液等の排泄液を吸収する吸収材として使用される。

【0019】

より詳細には、ＳＡＰ層形成装置１は、ローラ２と、ローラ２の円状の面の中心を貫通するシャフト７と、を備える。シャフト７は、コンベアー５１の搬送方向と直交する方向かつ水平方向に沿って設けられる。そして、シャフト７には、シャフト７を回転させる動力を発生させる駆動装置（図示しない）が接続されている。なお、シャフト７は、本開示の「回転軸」の一例である。

【0020】

また、ＳＡＰ層形成装置１は、ローラ２の外周面２１に凹部３を備える。凹部３は、外周面２１の周方向に沿って周期的に設けられている。また、凹部３は、底面から開口方向に向けて側面が広がるように側面に傾斜部３２が設けられている。また、凹部３の底面に
は凹部３よりも小さい凹部３１が設けられている。なお、凹部３１の側面にも凹部３の傾斜部３２と同様の傾斜が設けられている。なお、凹部３は、本開示の「凹部」の一例である。また、凹部３１の底面は、本開示の「第２底面」の一例である。

【0021】

また、ＳＡＰ層形成装置１は、ＳＡＰ投下部４を備える。ＳＡＰ投下部４は、ローラ２の上方に配置される。また、ＳＡＰ投下部４には、ローラ２へ向けて開口している投下口５が設けられている。

【0022】

また、ＳＡＰ層形成装置１は、ＳＡＰ投下部４とローラ２との間に箱６を備える。箱６の上面には、投下口５から投下されるＳＡＰが通過可能な孔が設けられている。また、箱６の下部は開口している。また、箱６の下部の開口の縁とローラ２との間の隙間は、粒状のＳＡＰが当該隙間を通過できない程度に空いている。なお、箱６の右側の内壁６１は、本開示の「外周面の表面近傍から上方に延びる壁」の一例である。

【0023】

また、ＳＡＰ層形成装置１は、弧状のカバー８を備える。カバー８は、図１でいうローラ２の右上部の外周に沿って設けられる。また、ＳＡＰ層形成装置１は、制御部９を備える。制御部９は、シャフト７と接続される駆動装置を制御する制御モジュールと、メモリと、を有する。なお、カバー８は、本開示の「被覆部材」の一例である。また、制御部９は、本開示の「制御部」の一例である。

【0024】

図２は、ローラ２の外観斜視図の概要を例示する。なお、図２においては、凹部３の底部に設けられている凹部３１の図示は省略している。図２に示されるように、ローラ２の外周面２１に設けられる凹部３は、周方向に沿って規則的に設けられる。より詳細には、凹部３Ａは、例えばローラ２の周方向と直交する方向に二つ並んで設けられる。そして、このような凹部３はローラ２の周方向に所定間隔を空けて規則的に設けられる。また、このような凹部３が外周面２１の全体にわたって規則的に設けられている。

【0025】

［動作例１］
次にＳＡＰ層形成装置１の動作を説明する。図３は、ＳＡＰ層形成装置１の第１動作例の概要を例示する。図３に示される第１動作例では、まず制御部９において、事前にメモリに記憶されたプログラムが実行されることでシャフト７を所定の回転速度で回転させる動力を生成する制御信号が生成される。そして、当該制御信号は、シャフト７と接続される駆動装置に送信される。制御信号を受信した駆動装置は、制御信号に従いシャフト７を回転させる動力を生成する。そして、当該動力がシャフト７に伝達されることでシャフト７が回転する。そして、シャフト７の回転に伴って、シャフト７に固定されたローラ２も回転する。図３では、例えば時計回りにローラ２が回転する例が示されている。

【0026】

このように回転するローラ２に向かって、ＳＡＰ投下部４の投下口５からＳＡＰ１２が連続的に投下される。そして、ローラ２へ投下されたＳＡＰ１２の一部は、凹部３に流入して凹部３を埋める。また、投下口５からローラ２へ投下されたＳＡＰ１２の一部は、凹部３に流入せずにローラ２の外周面２１の外表面に付着・蓄積する。

【0027】

このように凹部３や外周面２１の外表面にＳＡＰ１２が存在した状態でローラ２が回転すると、外周面２１の外表面に付着・蓄積したＳＡＰ１２は、ローラ２の回転方向に位置する箱６の内壁６１と接触する。そして、ＳＡＰ１２が内壁６１に付着することで、外周面２１の外表面に付着・蓄積したＳＡＰ１２がローラ２の回転と共に箱６の外部に出ることは抑制される。

【0028】

一方、凹部３に存在するＳＡＰ１２は、凹部３に保持された状態でローラ２の回転と共に箱６の外部に出る。その後、凹部３は、カバー８により覆われた状態でローラ２の回転
と共に回転する。その後さらにローラ２が回転し、カバー８が設けられていない場所まで凹部３が移動すると、ＳＡＰ１２は自重によりパルプ５０の上に落下する。そして、パルプ５０の上にはＳＡＰ１２の層が連続的に形成される。

【0029】

なお、コンベアー５１上を移動するパルプ５０が垂直方向においてローラ２と重なるタイミングと、複数の凹部３のうちの所定の凹部３がカバー８を通過するタイミングとが同期されるように制御部９において制御信号が生成されてもよい。また、パルプ５０上の任意の場所にＳＡＰが撒かれるように制御部９において制御信号が変更されてもよい。

【0030】

［動作例２］
図４は、ＳＡＰ層形成装置１の第２動作例を示している。第２動作例においては、シャフト７を第１動作例よりも低速に回転させる動力を生成するように制御部９において制御信号が生成される。このような場合、凹部３Ｃに保持されたＳＡＰ１２がまずパルプ５０の上に落下する。その後、間隔を空けて凹部３Ｄに保持されたＳＡＰ１２がパルプ５０の上に落下する。よって、ＳＡＰ１２は、パルプ５０の上に間欠的に配置される。

【0031】

［比較例］
図５は、比較例に係るＳＡＰ層形成装置の概要を例示する。図５（Ａ）は、蓋付きのＳＡＰ層形成装置４０Ａである。一方、図５（Ｂ）は、シャッター付きのＳＡＰ層形成装置４０Ｂである。

【0032】

図５（Ａ）に示されるＳＡＰ層形成装置４０Ａは、投下口５５を有するＳＡＰ投下部５４を備える。また、ＳＡＰ層形成装置４０Ａは、投下口５５を覆う蓋６０と、蓋６０の右端と連結されるヒンジ６３と、を備える。ヒンジ６３は、手前から奥方向の周りに回動可能である。

【0033】

このようなＳＡＰ層形成装置４０Ａは、下方にパルプ５０の先端が移動してくると、ヒンジ６３を回転させることで蓋６０を開く。また、パルプ５０が移動し、ＳＡＰ層形成装置４０Ａの下方にパルプ５０の後端が移動してくると、ヒンジ６３を回転させることで蓋６０を閉じる。

【0034】

このようなＳＡＰ層形成装置４０Ａでは、ヒンジ６３を形成する部材間の隙間や、蓋６０とヒンジ６３との間の隙間にＳＡＰ１２が入り込むことが想定される。よって、蓋６０およびヒンジ６３は、動作不良や故障が引き起こされる可能性がある。

【0035】

また、蓋６０により投下口５５が遮蔽された状態から遮蔽解除のために蓋６０が回転を開始した直後と、蓋６０が回転を開始してから所定時間経過した時とでは、遮蔽されていた部分を通過するＳＡＰ１２の量は異なることが考えられる。よって、図５（Ａ）に示されるように、パルプ５０上に撒かれたＳＡＰ１２の左端部（コンベアー５１の搬送方向の先端）の厚みは、中央部の厚みよりも薄くなることが考えられる。

【0036】

また、投下口５５が蓋６０により遮蔽されずに開放されている時と、開放状態から蓋６０を回転させることで投下口５５を遮蔽した場合の遮蔽直前の時とでは、遮蔽された部分を通過するＳＡＰ１２の量は異なることが考えられる。よって、図５（Ａ）に示されるように、パルプ５０上に撒かれたＳＡＰ１２の右端部（コンベアー５１の搬送方向の後端）の厚みは、中央部の厚みよりも薄くなることが考えられる。

【0037】

また、図５（Ｂ）に示されるＳＡＰ層形成装置４０Ｂは、ＳＡＰ層形成装置４０Ａの蓋６０およびヒンジ６３の代替としてシャッター５２を有するシャッター機構５３を備える。

【0038】

このようなＳＡＰ層形成装置４０Ｂは、下方にパルプ５０の先端が移動してくると、シャッター５２を右方向へ移動させることで投下口５５を開放する。また、パルプ５０が移動し、ＳＡＰ層形成装置４０Ｂの下方にパルプ５０の後端が移動してくると、シャッター５２を左方向へ移動させることで投下口５５を遮蔽する。

【0039】

このようなＳＡＰ層形成装置４０Ｂでは、シャッター機構５３を形成する部材間の隙間にＳＡＰ１２が入り込むことが想定される。よって、シャッター機構５３の動作不良や故障が引き起こされる可能性がある。

【0040】

また、シャッター５２により投下口５５が遮蔽された状態から遮蔽解除のためにシャッター５２を図５（Ｂ）中の右方向に移動開始させた直後と、シャッター５２の移動開始から所定時間経過した時とでは、遮蔽されていた部分を通過するＳＡＰ１２の量は異なることが考えられる。よって、図５（Ｂ）に示されるように、パルプ５０上に撒かれたＳＡＰ１２の左端部（コンベアー５１の搬送方向の先端）の厚みは、中央部の厚みよりも薄くなることが考えられる。

【0041】

また、投下口５５がシャッター５２により遮蔽されずに開放されている時と、開放状態からシャッター５２を図５（Ｂ）中の左方向へ移動させることで投下口５５を遮蔽した場合の遮蔽直前の時では、遮蔽された部分を通過するＳＡＰ１２の量は異なることが考えられる。よって、図５（Ｂ）に示されるように、パルプ５０上に撒かれたＳＡＰ１２の右端部（コンベアー５１の搬送方向の後端）の厚みは、中央部の厚みよりも薄くなることが考えられる。

【0042】

［作用・効果］
上記のようなＳＡＰ層形成装置１によれば、投下口５の近傍に蓋やシャッターなどの部材は配置されていない。よって、比較例に係るＳＡＰ層形成装置４０Ａおよび４０Ｂのように、ＳＡＰ層形成装置を形成する部品の隙間に粒状のＳＡＰ１２が入り込むなどして装置が故障することは防止される。

【0043】

また、上記のようなＳＡＰ層形成装置１によれば、カバー８によって覆われる部分を通過した凹部３からＳＡＰ１２が一気にパルプ５０の上に落下する（図３および図４参照）。また、上記のようなＳＡＰ層形成装置１によれば、凹部３には、底面から開口方向に向けて側面が広がるようにその側面に傾斜部３２が設けられている。よって、凹部３に保持されたＳＡＰ１２はスムーズにパルプ５０の上に落下する。よって、パルプ５０の上には均一な厚みのＳＡＰ１２の層が形成される。また、図４に示されるように、シャフト７の回転速度を減速する場合、パルプ５０の上には均一で間欠的な厚みのＳＡＰ１２の層が形成される。一方、比較例に係るＳＡＰ層形成装置４０Ａおよび４０Ｂによれば、上述の通りパルプ５０の上に不均一な厚みの層が形成される。

【0044】

また、上記のようなＳＡＰ層形成装置１によれば、凹部３の底面に凹部３１が設けられている。よって、ローラ２が回転することで凹部３においてＳＡＰ１２が動くことは抑制される。よって、意図しない場所で凹部３からＳＡＰ１２がこぼれ落ちることは抑制される。よって、所望量のＳＡＰ１２が、意図する場所（カバー８により覆われなくなる場所）において凹部３からパルプ５０に向けて落下することになる。よって、予め決められた量（凹部３に保持された量）のＳＡＰ１２によりパルプ５０の上に厚みが均一な層が形成される。

【0045】

また、上記のようなＳＡＰ層形成装置１によれば、カバー８がローラ２の右上部の外周に沿って設けられている。よって、ローラ２の回転に伴って移動している凹部３がカバー
８により覆われることになる。このような構造からも意図しない場所で凹部３からＳＡＰ１２がこぼれ落ちることは抑制される。よって、所望量のＳＡＰ１２が、意図する場所において凹部３からパルプ５０に向けて落下することになる。よって、予め決められた量（凹部３に保持された量）のＳＡＰ１２によりパルプ５０の上に厚みが均一な層が形成される。

【0046】

また、上記のようなＳＡＰ層形成装置１によれば、投下口５の近傍の外周面２１に付着・蓄積したＳＡＰ１２がローラ２の回転と共に箱６の外部に出ることは抑制される。よって、投下口５からはＳＡＰ１２が連続的にローラ２に供給されているが、ローラ２の外周面２１の外表面に付着・蓄積したＳＡＰ１２がローラ２の回転に伴って回転し、パルプ５０の上に落下することは抑制される。よって、予め決められた量（凹部３に保持された量）のＳＡＰ１２によりパルプ５０の上に厚みが均一な層が形成される。

【0047】

また、上記のようなＳＡＰ層形成装置１によれば、図３および図４に示されるようにシャフト７の回転速度を増減させることで、パルプ５０の上に間欠的なＳＡＰ１２の層あるいは連続的なＳＡＰ１２の層を形成することができる。よって、上記のようなＳＡＰ層形成装置１は利便性の高い装置といえる。

【0048】

［変形例１］
図６は、第１変形例に係るＳＡＰ層形成装置１Ａの概要を例示している。図６に示されるようにＳＡＰ層形成装置１Ａは、ＳＡＰ層形成装置１に加えて、投下口５を覆う蓋１０と、蓋１０の右端と連結されるヒンジ１３と、を備える。蓋１０の右端と連結され、ヒンジ１３を形成する所定部品は手前から奥へ向かう方向の周りに回転可能である。そして、当該所定部品には、回転するための動力を発生させる駆動装置（例えばモータ）が接続されている。なお、駆動装置にはモータの回転を制御する制御モジュールやメモリなどが搭載されている。一方、蓋１０の左端には磁石（図示しない）が設けられている。そして、投下口５の縁は金属材料から形成されており、蓋１０の左端は、磁石の磁力により投下口５の縁と接着する。なお、蓋１０およびヒンジ１３は、本開示の「調節手段」の一例である。また、ＳＡＰ投下部４は、本開示の「供給部」の一例である。また、投下口５は、本開示の「開口部」の一例である。

【0049】

このようなＳＡＰ層形成装置１Ａでは、蓋１０の右端と連結されるヒンジ１３の所定部品を回転させる動力が駆動装置において生成される。また、駆動装置において生成される動力の大きさは制御可能である。よって、投下口５に対する蓋１０の角度が任意に調節可能となる。

【0050】

［作用・効果］
上記のようなＳＡＰ層形成装置１Ａによれば、ＳＡＰ層形成装置１と同様の効果を奏することができる。加えて、ＳＡＰ層形成装置１Ａによれば、コンベアー５１上を移動する吸収体に応じて吸収体に供給するＳＡＰ１２の量を調整することができる。すなわち、投下口５に対する蓋１０の角度が小さくなるように駆動装置において動力が生成されることで、投下口５からローラ２の凹部３へ投下されるＳＡＰ１２の供給量は制限される。よって、コンベアー５１上を移動する吸収体には少量のＳＡＰ１２が撒かれることになる。又は、投下口５に対する蓋１０の角度が大きくなるように駆動装置において動力が生成されることで、投下口５からローラ２の凹部３へ投下されるＳＡＰ１２の供給量は増大する。よって、コンベアー５１上を移動する吸収体には多量のＳＡＰ１２が撒かれることになる。

【0051】

また、上記のようなＳＡＰ層形成装置１Ａによれば、蓋１０により投下口５が遮蔽された状態から遮蔽解除のために蓋１３が回転を開始した直後と、蓋１３が回転を開始してか
ら所定時間経過した時とでは、遮蔽されていた部分を通過するＳＡＰ１２の量は異なることが考えられる。しかしながら、遮蔽されていた部分を通過したＳＡＰ１２は、ローラ２の凹部３に所定量蓄積され、その後吸収体５０に供給される。よって、吸収体５０に供給されるＳＡＰ１２の量は均一となる。

【0052】

なお、上記のようなＳＡＰ層形成装置１Ａは、投下口５に対する蓋１０の角度が調整されることで、投下口５からローラ２に対して間欠的にＳＡＰ１２を投下させることもできる。よって、ローラ２からパルプ５０に間欠的にＳＡＰ１２を落下させることができる。よって、図４に示されるようにシャフト７の回転速度を減速させなくとも、パルプ５０の上に間欠的にＳＡＰ１２を配置することができる。

【0053】

また、ＳＡＰ層形成装置１Ａのように蓋１０を備えなくともよく、ＳＡＰ層形成装置１の制御部９において制御信号が変更されることで、コンベアー５１上を移動する吸収体に応じて吸収体に供給するＳＡＰ１２の量を調整してもよい。

【0054】

［変形例２］
図７は、第２変形例に係るＳＡＰ層形成装置１Ｂの概要を例示している。図７に示されるようにＳＡＰ層形成装置１Ｂは、ＳＡＰ層形成装置１に加えて投下口５を遮蔽するシャッター１１を有するシャッター機構１４を備える。また、シャッター機構１４は、シャッター１１の移動のための駆動力を発生させる駆動装置を備える（図示しない）。なお、駆動装置には、駆動力の発生を制御する制御モジュールやメモリなどが搭載されている。なお、シャッター機構１４は、本開示の「調節手段」の一例である。

【0055】

このようなＳＡＰ層形成装置１Ｂでは、シャッター１１を移動させるための動力が駆動装置において生成される。また、駆動装置において生成される動力の大きさは制御可能である。よって、シャッター１１によって遮蔽される投下口５の遮蔽領域の大きさが任意に調節可能となる。

【0056】

［作用・効果］
上記のようなＳＡＰ層形成装置１Ｂによれば、ＳＡＰ層形成装置１Ａと同様にコンベアー５１上を移動する吸収体に応じて吸収体に供給するＳＡＰ１２の量を調整することができる。すなわち、駆動装置において動力が生成されることで、投下口５が遮蔽される領域が大きくなるようにシャッター１１を移動させることができる。よって、投下口５からローラ２の凹部３へ投下されるＳＡＰ１２の供給量は制限される。よって、コンベアー５１上を移動する吸収体には少量のＳＡＰ１２が撒かれることになる。又は、駆動装置において動力が生成されることで、投下口５が遮蔽される領域が小さくなるようにシャッター１１を移動させることができる。よって、投下口５からローラ２の凹部３へ投下されるＳＡＰ１２の供給量は増大する。よって、コンベアー５１上を移動する吸収体には多量のＳＡＰ１２が撒かれることになる。

【0057】

また、上記のようなＳＡＰ層形成装置１Ｂによれば、シャッター１１により投下口５が遮蔽された状態から遮蔽解除のためにシャッター１１が移動を開始した直後と、シャッター１１が回転を開始してから所定時間経過した時とでは、遮蔽されていた部分を通過するＳＡＰ１２の量は異なることが考えられる。しかしながら、遮蔽されていた部分を通過したＳＡＰ１２は、ローラ２の凹部３に所定量蓄積され、その後吸収体５０に供給される。よって、吸収体５０に供給されるＳＡＰ１２の量は均一となる。

【0058】

［その他変形例］
凹部３の底面には凹部３１が設けられていなくともよい。また、凹部３の側面には傾斜部３２が設けられていなくともよい。また、ＳＡＰ投下部４の態様は上記の実施形態及び
変形例で示した例に限定されない。また、箱６の形態は上記の実施形態及び変形例で示した例に限定されず、投下口５近傍の外周面２１を囲むように壁が設けられていればよい。また、箱６は設けられていなくともよい。また、カバー８の形態、配置場所は上記の実施形態及び変形例で示した例に限定されない。また、カバー８は設けられていなくともよい。また、シャフト７の回転速度を制御する制御部は設けられていなくともよく、外部装置において生成された動力によりシャフト７が所定速度で所定方向に回転する構造であってもよい。

【0059】

以上で開示した実施形態や変形例はそれぞれ組み合わせる事ができる。

【符号の説明】

【0060】

１、１Ａ、１Ｂ ：ＳＡＰ層形成装置
２ ：ローラ
３、３Ｃ－３Ｄ ：凹部
４ ：ＳＡＰ投下部
５ ：投下口
６ ：箱
７ ：シャフト
８ ：カバー
９ ：制御部
１０ ：蓋
１１ ：シャッター
１３ ：ヒンジ
１４ ：シャッター機構
２１ ：外周面
３１ ：凹部
３２ ：傾斜部
４０Ａ、４０Ｂ ：ＳＡＰ層形成装置
５０ ：パルプ
５１ ：コンベアー
５２ ：シャッター
５３ ：シャッター機構
５４ ：ＳＡＰ投下部
５５ ：投下口
６０ ：蓋
６１ ：内壁
６３ ：ヒンジ

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】