(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2022113600
(43)【公開日】2022-08-04
(54)【発明の名称】測定装置
(51)【国際特許分類】
G01B 11/24 20060101AFI20220728BHJP
【ＦＩ】
G01B11/24 A
【審査請求】有
【請求項の数】15
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2021009934
(22)【出願日】2021-01-25
(11)【特許番号】
(45)【特許公報発行日】2022-02-22
(71)【出願人】
【識別番号】000212599
【氏名又は名称】中谷 進
(71)【出願人】
【識別番号】597130074
【氏名又は名称】羽田 誠
(72)【発明者】
【氏名】羽田 誠
(72)【発明者】
【氏名】中谷 進
【テーマコード（参考）】
2F065
【Ｆターム（参考）】
2F065AA02
2F065AA06
2F065AA21
2F065AA47
2F065AA53
2F065BB05
2F065DD03
2F065DD06
2F065FF01
2F065FF04
2F065FF41
2F065FF61
2F065GG04
2F065JJ02
2F065JJ03
2F065JJ25
2F065JJ26
2F065MM03
2F065MM07
2F065PP03
2F065PP11
2F065PP22
2F065QQ24
2F065QQ25
2F065RR08
(57)【要約】 （修正有）
【課題】試料の全ての部位を含む域枠である試料域を自動的に抽出する測定装置を提供する。
【解決手段】試料左側突出部位１０１ｉを通る縦線を左縦線ｌｙｒとして特定し、試料右側突出部位１０２ｉを通る縦線を右縦線ｒｙｒとして特定し、試料下側突出部位１０３ｉを通る横線を下横線ｎｘｒとして特定し、試料上側突出部位１０４ｉを通る横線を上横線ｐｘｒとして特定し、左縦線ｌｙｒ、右縦線ｒｙｒ、下横線ｎｘｒ及び上横線ｐｘｒによって形成される域枠を試料測定域枠として抽出する。
【選択図】図４
【解決手段】試料左側突出部位１０１ｉを通る縦線を左縦線ｌｙｒとして特定し、試料右側突出部位１０２ｉを通る縦線を右縦線ｒｙｒとして特定し、試料下側突出部位１０３ｉを通る横線を下横線ｎｘｒとして特定し、試料上側突出部位１０４ｉを通る横線を上横線ｐｘｒとして特定し、左縦線ｌｙｒ、右縦線ｒｙｒ、下横線ｎｘｒ及び上横線ｐｘｒによって形成される域枠を試料測定域枠として抽出する。
【選択図】図４
【特許請求の範囲】
【請求項1】
透明テーブル（２）の下方に設けられた照射部（３）から、前記透明テーブル（２）の上面に載置した試料（Ｗ）に向けて前記透明テーブル（２）を透過する照射光を照射し、その照射光の前記試料（Ｗ）の測定面からの反射光である試料反射光を前記透明テーブル（２）の下方に設けられた受光部（４）で受光し、その受光情報である試料受光情報（Ｗｒｉ）を処理して、前記試料（Ｗ）の測定面の各座標位置（ｘ、ｙ）における高さを示すデータである試料測定面高さデータを生成する測定装置であって、
前記照射部（３）及び前記受光部（４）の走査域の受光情報である走査域受光情報（ｓｚｄ）の示す走査全域（ｓｚ）よりも狭い域枠であり、かつ、前記試料（Ｗ）の部位の全てが入る域枠である試料測定域枠（ｗｍｒ）を抽出する試料測定域枠抽出部を備えるとともに、
前記試料測定域枠抽出部は、
前記受光部（４）側を正面とし該正面から見た試料（Ｗ）側の表面を表す図である正面図において、
前記試料（Ｗ）の左側における最も外側に突出した部位である試料左側突出部位（１０１）を特定し、
前記試料（Ｗ）の右側における最も外側に突出した部位である試料右側突出部位（１０２）を特定し、
前記試料（Ｗ）の下側における最も外側に突出した部位である試料下側突出部位（１０３）を特定し、
前記試料（Ｗ）の上側における最も外側に突出した部位である試料上側突出部位（１０４）を特定し、
前記試料左側突出部位（１０１）を通る縦線を左縦線（ｌｙｒ）として特定し、
前記試料右側突出部位（１０２）を通る縦線を右縦線（ｒｙｒ）として特定し、
前記試料下側突出部位（１０３）を通る横線を下横線（ｎｘｒ）として特定し、
前記試料上側突出部位（１０４）を通る横線を上横線（ｐｘｒ）として特定し、
前記左縦線（ｌｙｒ）、前記右縦線（ｒｙｒ）、前記下横線（ｎｘｒ）及び前記上横線（ｐｘｒ）によって形成される域枠を前記試料測定域枠（ｗｍｒ）として抽出することを自動的に行う試料測定域枠抽出部であり、
以上のように構成されたことを特徴とする測定装置。
前記照射部（３）及び前記受光部（４）の走査域の受光情報である走査域受光情報（ｓｚｄ）の示す走査全域（ｓｚ）よりも狭い域枠であり、かつ、前記試料（Ｗ）の部位の全てが入る域枠である試料測定域枠（ｗｍｒ）を抽出する試料測定域枠抽出部を備えるとともに、
前記試料測定域枠抽出部は、
前記受光部（４）側を正面とし該正面から見た試料（Ｗ）側の表面を表す図である正面図において、
前記試料（Ｗ）の左側における最も外側に突出した部位である試料左側突出部位（１０１）を特定し、
前記試料（Ｗ）の右側における最も外側に突出した部位である試料右側突出部位（１０２）を特定し、
前記試料（Ｗ）の下側における最も外側に突出した部位である試料下側突出部位（１０３）を特定し、
前記試料（Ｗ）の上側における最も外側に突出した部位である試料上側突出部位（１０４）を特定し、
前記試料左側突出部位（１０１）を通る縦線を左縦線（ｌｙｒ）として特定し、
前記試料右側突出部位（１０２）を通る縦線を右縦線（ｒｙｒ）として特定し、
前記試料下側突出部位（１０３）を通る横線を下横線（ｎｘｒ）として特定し、
前記試料上側突出部位（１０４）を通る横線を上横線（ｐｘｒ）として特定し、
前記左縦線（ｌｙｒ）、前記右縦線（ｒｙｒ）、前記下横線（ｎｘｒ）及び前記上横線（ｐｘｒ）によって形成される域枠を前記試料測定域枠（ｗｍｒ）として抽出することを自動的に行う試料測定域枠抽出部であり、
以上のように構成されたことを特徴とする測定装置。
【請求項2】
拡張試料測定域枠設定部が設けられ、
前記拡張試料測定域枠設定部は、
前記左縦線（ｌｙｒ）より所定の距離だけ外側に拡張した位置に設定された拡張左縦線（Ｌｙｒ）を設定し、
前記右縦線（ｒｙｒ）より所定の距離だけ外側に拡張した位置に設定された拡張右縦線（Ｒｙｒ）を設定し、
前記下横線（ｎｘｒ）より所定の距離だけ外側に拡張した位置に設定された拡張下横線（Ｎｘｒ）を設定し、
前記上横線（ｐｘｒ）より所定の距離だけ外側に拡張した位置に設定された拡張上横線（Ｐｘｒ）を設定し、
前記拡張左縦線（Ｌｙｒ）、前記拡張右縦線（Ｒｙｒ）、前記拡張下横線（Ｎｘｒ）および前記拡張上横線（Ｐｘｒ）によって形成された域枠である拡張試料測定域枠（Ｗｍｒ）を設定する拡張試料測定域枠設定部であり、
以上のように構成されたことを特徴とする請求項１記載の測定装置。
前記拡張試料測定域枠設定部は、
前記左縦線（ｌｙｒ）より所定の距離だけ外側に拡張した位置に設定された拡張左縦線（Ｌｙｒ）を設定し、
前記右縦線（ｒｙｒ）より所定の距離だけ外側に拡張した位置に設定された拡張右縦線（Ｒｙｒ）を設定し、
前記下横線（ｎｘｒ）より所定の距離だけ外側に拡張した位置に設定された拡張下横線（Ｎｘｒ）を設定し、
前記上横線（ｐｘｒ）より所定の距離だけ外側に拡張した位置に設定された拡張上横線（Ｐｘｒ）を設定し、
前記拡張左縦線（Ｌｙｒ）、前記拡張右縦線（Ｒｙｒ）、前記拡張下横線（Ｎｘｒ）および前記拡張上横線（Ｐｘｒ）によって形成された域枠である拡張試料測定域枠（Ｗｍｒ）を設定する拡張試料測定域枠設定部であり、
以上のように構成されたことを特徴とする請求項１記載の測定装置。
【請求項3】
透明テーブル（２）の下方に設けられた照射部（３）から、前記透明テーブル（２）の上面に載置した試料（Ｗ）に向けて前記透明テーブル（２）を透過する照射光を照射し、その照射光の前記試料（Ｗ）の測定面からの反射光である試料反射光を前記透明テーブル（２）の下方に設けられた受光部（４）で受光し、その受光情報である試料受光情報（Ｗｒｉ）を処理して、前記試料（Ｗ）の測定面の各座標位置（ｘ、ｙ）における高さを示すデータである試料測定面高さデータを生成する測定装置であって、
前記受光部（４）側を正面とし該正面から見た試料（Ｗ）側の表面を表す図である正面図において、
前記透明テーブル（２）の上部に設けられた、Ｘ軸方向の内壁であるＸ軸内壁又はＹ軸方向の内壁であるＹ軸内壁を有し、前記試料（Ｗ）を前記Ｘ軸内壁又は前記Ｙ軸内壁に当てた位置決め状態で、前記透明テーブル（２）の上面に載置可能としている位置決め部と、
前記Ｘ軸内壁の縁部位の位置をＸ軸縁位置線とし、又は、前記Ｙ軸内壁の縁部位の位置をＹ軸縁位置線とし、前記Ｘ軸縁位置線又は前記Ｙ軸縁位置線を予め記憶している縁線記憶部と、
前記照射部（３）及び前記受光部（４）の走査域の受光情報である走査域受光情報（ｓｚｄ）の示す走査域（ｓｚ）よりも狭い域枠であり、かつ、前記試料（Ｗ）の全ての部位が入る域枠である試料測定域枠（ｗｍｒ）を抽出する試料測定域枠抽出部と、を備えるとともに、
前記試料測定域枠抽出部は、
前記Ｘ軸内壁又は前記Ｙ軸内壁に当たっていない前記試料（Ｗ）の側の最も外側に突出した部位である試料突出部位を特定し、
前記試料突出部位を通る横線又は縦線を特定し、
前記横線又は前記縦線と前記Ｘ軸縁位置線又は前記Ｙ軸縁位置線とによって形成される域枠を前記試料測定域枠（ｗｍｒ）として抽出する試料測定域枠抽出部であり、
以上のように構成されたことを特徴とする測定装置。
前記受光部（４）側を正面とし該正面から見た試料（Ｗ）側の表面を表す図である正面図において、
前記透明テーブル（２）の上部に設けられた、Ｘ軸方向の内壁であるＸ軸内壁又はＹ軸方向の内壁であるＹ軸内壁を有し、前記試料（Ｗ）を前記Ｘ軸内壁又は前記Ｙ軸内壁に当てた位置決め状態で、前記透明テーブル（２）の上面に載置可能としている位置決め部と、
前記Ｘ軸内壁の縁部位の位置をＸ軸縁位置線とし、又は、前記Ｙ軸内壁の縁部位の位置をＹ軸縁位置線とし、前記Ｘ軸縁位置線又は前記Ｙ軸縁位置線を予め記憶している縁線記憶部と、
前記照射部（３）及び前記受光部（４）の走査域の受光情報である走査域受光情報（ｓｚｄ）の示す走査域（ｓｚ）よりも狭い域枠であり、かつ、前記試料（Ｗ）の全ての部位が入る域枠である試料測定域枠（ｗｍｒ）を抽出する試料測定域枠抽出部と、を備えるとともに、
前記試料測定域枠抽出部は、
前記Ｘ軸内壁又は前記Ｙ軸内壁に当たっていない前記試料（Ｗ）の側の最も外側に突出した部位である試料突出部位を特定し、
前記試料突出部位を通る横線又は縦線を特定し、
前記横線又は前記縦線と前記Ｘ軸縁位置線又は前記Ｙ軸縁位置線とによって形成される域枠を前記試料測定域枠（ｗｍｒ）として抽出する試料測定域枠抽出部であり、
以上のように構成されたことを特徴とする測定装置。
【請求項4】
透明テーブル（２）の下方に設けられた照射部（３）から、前記透明テーブル（２）の上面に載置した試料（Ｗ）に向けて前記透明テーブル（２）を透過する照射光を照射し、その照射光の前記試料（Ｗ）の測定面からの反射光である試料反射光を前記透明テーブル（２）の下方に設けられた受光部（４）で受光し、その受光情報である試料受光情報（Ｗｒｉ）を処理して、前記試料（Ｗ）の測定面の各座標位置（ｘ、ｙ）における高さを示すデータである試料測定面高さデータを生成する測定装置であって、
前記受光部（４）側を正面とし該正面から見た試料（Ｗ）側の表面を表す図である正面図において、
前記透明テーブル（２）の上部に設けられた、Ｘ軸方向の内壁であるＸ軸内壁を有し、このＸ軸内壁に直交する形態で設けられたＹ軸方向の内壁であるＹ軸内壁を有し、前記試料（Ｗ）を前記Ｘ軸内壁と前記Ｙ軸内壁に当てた位置決め状態で前記透明テーブル（２）の上面に載置可能としている位置決め部と、
前記照射部（３）及び前記受光部（４）の走査域の受光情報である走査域受光情報（ｓｚｄ）の示す走査域（ｓｚ）よりも狭い域枠であり、かつ、前記試料（Ｗ）の全ての部位が入る域枠である試料測定域枠（ｗｍｒ）を抽出する試料測定域枠抽出部と、
前記Ｘ軸内壁の縁部位の位置をＸ軸縁位置線とし、かつ、前記Ｙ軸内壁の縁部位の位置をＹ軸縁位置線とし、前記Ｘ軸縁位置線及び前記Ｙ軸縁位置線を予め記憶している縁線記憶部と、を備えるとともに、
前記試料測定域枠抽出部は、
前記Ｘ軸内壁と前記Ｙ軸内壁に当たっていない前記試料（Ｗ）の側の最も外側に突出した部位である、Ｘ軸側の試料突出部位とＹ軸側の試料突出部位とを特定し、
前記Ｘ軸側の試料突出部位を通る縦線を特定し、
前記Ｙ軸側の試料突出部位を通る横線を特定し、
前記横線、前記縦線、前記Ｘ軸縁位置線及び前記Ｙ軸縁位置線によって形成される域枠を前記試料測定域枠（ｗｍｒ）として抽出する試料測定域枠抽出部であり、
以上のように構成されたことを特徴とする測定装置。
前記受光部（４）側を正面とし該正面から見た試料（Ｗ）側の表面を表す図である正面図において、
前記透明テーブル（２）の上部に設けられた、Ｘ軸方向の内壁であるＸ軸内壁を有し、このＸ軸内壁に直交する形態で設けられたＹ軸方向の内壁であるＹ軸内壁を有し、前記試料（Ｗ）を前記Ｘ軸内壁と前記Ｙ軸内壁に当てた位置決め状態で前記透明テーブル（２）の上面に載置可能としている位置決め部と、
前記照射部（３）及び前記受光部（４）の走査域の受光情報である走査域受光情報（ｓｚｄ）の示す走査域（ｓｚ）よりも狭い域枠であり、かつ、前記試料（Ｗ）の全ての部位が入る域枠である試料測定域枠（ｗｍｒ）を抽出する試料測定域枠抽出部と、
前記Ｘ軸内壁の縁部位の位置をＸ軸縁位置線とし、かつ、前記Ｙ軸内壁の縁部位の位置をＹ軸縁位置線とし、前記Ｘ軸縁位置線及び前記Ｙ軸縁位置線を予め記憶している縁線記憶部と、を備えるとともに、
前記試料測定域枠抽出部は、
前記Ｘ軸内壁と前記Ｙ軸内壁に当たっていない前記試料（Ｗ）の側の最も外側に突出した部位である、Ｘ軸側の試料突出部位とＹ軸側の試料突出部位とを特定し、
前記Ｘ軸側の試料突出部位を通る縦線を特定し、
前記Ｙ軸側の試料突出部位を通る横線を特定し、
前記横線、前記縦線、前記Ｘ軸縁位置線及び前記Ｙ軸縁位置線によって形成される域枠を前記試料測定域枠（ｗｍｒ）として抽出する試料測定域枠抽出部であり、
以上のように構成されたことを特徴とする測定装置。
【請求項5】
前記横線、前記縦線を所定の距離だけ外側に拡張した位置に設定してなる拡張試料測定域枠（Ｗｍｒ）を設定する拡張試料測定域枠設定部が設けられたことを特徴とする請求項３又は４記載の測定装置。
【請求項6】
前記試料（Ｗ）の濃淡画像をディスプレイに表示した表示形態において、前記Ｘ軸縁位置線及び前記Ｙ軸縁位置線を表示可能とした又は表示されることを特徴とする請求項３、４又は５記載の測定装置。
【請求項7】
前記試料測定域枠（ｗｍｒ）及び前記試料（Ｗ）の濃淡画像をディスプレイに表示した表示形態において、
前記Ｘ軸縁位置線及び前記Ｙ軸縁位置線又はいずれか一方の縁線より外側に位置する前記位置決め部の画像は非表示である又は非表示にすることを可能としたことを特徴とする請求項３～５又は６記載の測定装置。
前記Ｘ軸縁位置線及び前記Ｙ軸縁位置線又はいずれか一方の縁線より外側に位置する前記位置決め部の画像は非表示である又は非表示にすることを可能としたことを特徴とする請求項３～５又は６記載の測定装置。
【請求項8】
透明テーブル（２）の下方に設けられた照射部（３）から、前記透明テーブル（２）の上面に載置した試料（Ｗ）に向けて前記透明テーブル（２）を透過する照射光を照射し、その照射光の前記試料（Ｗ）の測定面からの反射光である試料反射光を前記透明テーブル（２）の下方に設けられた受光部（４）で受光し、その受光情報である試料受光情報（Ｗｒｉ）を処理して、前記試料（Ｗ）の測定面の各座標位置（ｘ、ｙ）における高さを示すデータである試料測定面高さデータを生成する測定装置であって、
前記受光部（４）側を正面とし該正面から見た試料（Ｗ）側の表面を表す図である正面図において、
前記透明テーブル（２）の上部に設けられた、Ｘ軸方向の内壁であるＸ軸内壁を有し、このＸ軸内壁に直交する形態で設けられたＹ軸方向の内壁であるＹ軸内壁を有し、前記試料（Ｗ）を前記Ｘ軸内壁と前記Ｙ軸内壁に当てた位置決め状態で前記透明テーブル（２）の上面に載置可能としている位置決め部と、
前記Ｘ軸内壁の縁部位の位置をＸ軸縁位置線とし、前記Ｙ軸内壁の縁部位の位置をＹ軸縁位置線とし、前記Ｘ軸縁位置線及び前記Ｙ軸縁位置線を予め記憶している縁線記憶部と、を備えたことを特徴とする測定装置。
前記受光部（４）側を正面とし該正面から見た試料（Ｗ）側の表面を表す図である正面図において、
前記透明テーブル（２）の上部に設けられた、Ｘ軸方向の内壁であるＸ軸内壁を有し、このＸ軸内壁に直交する形態で設けられたＹ軸方向の内壁であるＹ軸内壁を有し、前記試料（Ｗ）を前記Ｘ軸内壁と前記Ｙ軸内壁に当てた位置決め状態で前記透明テーブル（２）の上面に載置可能としている位置決め部と、
前記Ｘ軸内壁の縁部位の位置をＸ軸縁位置線とし、前記Ｙ軸内壁の縁部位の位置をＹ軸縁位置線とし、前記Ｘ軸縁位置線及び前記Ｙ軸縁位置線を予め記憶している縁線記憶部と、を備えたことを特徴とする測定装置。
【請求項9】
前記試料測定域枠抽出部は、
前記試料測定域枠（ｗｍｒ）又は前記拡張試料測定域枠（Ｗｍｒ）を表す域線を外域枠（Ｏｕｆ）として特定し、
前記試料（Ｗ）の内側の一部を非測定域とするための内域枠（Ｉｎｆ）を特定ないし指定し、かつ、前記内域枠（Ｉｎｆ）の内側部分を非測定域（Ｎｏｒ）とし、
前記外域枠（Ｏｕｆ）と前記内域枠（Ｉｎｆ）の間に形成される域枠部分を測定域（Ｍｅｒ）とした試料測定域枠（ｗｍｈ）を抽出する試料測定域枠抽出部であり、
以上のように構成されたことを特徴とする請求項１～７又は８記載の測定装置。
前記試料測定域枠（ｗｍｒ）又は前記拡張試料測定域枠（Ｗｍｒ）を表す域線を外域枠（Ｏｕｆ）として特定し、
前記試料（Ｗ）の内側の一部を非測定域とするための内域枠（Ｉｎｆ）を特定ないし指定し、かつ、前記内域枠（Ｉｎｆ）の内側部分を非測定域（Ｎｏｒ）とし、
前記外域枠（Ｏｕｆ）と前記内域枠（Ｉｎｆ）の間に形成される域枠部分を測定域（Ｍｅｒ）とした試料測定域枠（ｗｍｈ）を抽出する試料測定域枠抽出部であり、
以上のように構成されたことを特徴とする請求項１～７又は８記載の測定装置。
【請求項10】
透明テーブル（２）の下方に設けられた照射部（３）から、前記透明テーブル（２）の上面に載置した試料（Ｗ）に向けて前記透明テーブル（２）を透過する照射光を照射し、その照射光の前記試料（Ｗ）の測定面からの反射光である試料反射光を前記透明テーブル（２）の下方に設けられた受光部（４）で受光し、その受光情報である試料受光情報（Ｗｒｉ）を処理して、前記試料（Ｗ）の測定面の各座標位置（ｘ、ｙ）における高さを示すデータである試料測定面高さデータを生成する測定装置であって、
前記照射部（３）及び前記受光部（４）の走査域の受光情報である走査域受光情報（ｓｚｄ）の示す走査域（ｓｚ）よりも狭い域枠であり、かつ、前記試料（Ｗ）の全ての部位が入る域枠である試料測定域枠（ｗｍｅｇ）を抽出する試料測定域枠抽出部を備え、
前記試料測定域枠抽出部は、前記試料（Ｗ）の画像情報におけるエッジを抽出し、前記エッジによってあらわされる域枠を前記試料測定域枠（ｗｍｅｇ）として抽出することを自動的に行う試料測定域枠抽出部であり、
以上のように構成されたことを特徴とする測定装置。
前記照射部（３）及び前記受光部（４）の走査域の受光情報である走査域受光情報（ｓｚｄ）の示す走査域（ｓｚ）よりも狭い域枠であり、かつ、前記試料（Ｗ）の全ての部位が入る域枠である試料測定域枠（ｗｍｅｇ）を抽出する試料測定域枠抽出部を備え、
前記試料測定域枠抽出部は、前記試料（Ｗ）の画像情報におけるエッジを抽出し、前記エッジによってあらわされる域枠を前記試料測定域枠（ｗｍｅｇ）として抽出することを自動的に行う試料測定域枠抽出部であり、
以上のように構成されたことを特徴とする測定装置。
【請求項11】
拡張試料測定域枠設定部が設けられ、
前記拡張試料測定域枠設定部は、
前記試料測定域枠（ｗｍｅｇ）を外側に所定の距離だけ拡張した拡張試料測定域枠（Ｗｍｅｇ）を設定する拡張試料測定域枠設定部であり、
以上のように構成されたことを特徴とする請求項１０記載の測定装置。
前記拡張試料測定域枠設定部は、
前記試料測定域枠（ｗｍｅｇ）を外側に所定の距離だけ拡張した拡張試料測定域枠（Ｗｍｅｇ）を設定する拡張試料測定域枠設定部であり、
以上のように構成されたことを特徴とする請求項１０記載の測定装置。
【請求項12】
前記試料測定域枠抽出部は、
前記試料測定域枠（ｗｍｒ）または前記拡張試料測定域枠（Ｗｍｅｇ）の表す域線を外域枠（Ｏｕｆ）とし、
前記試料（Ｗ）の内側の一部を非測定域とするための内域枠（Ｉｎｆ）を特定し、
前記内域枠（Ｉｎｆ）の内側部分を非測定域（Ｎｏｒ）とし、
前記外域枠（Ｏｕｆ）と前記内域枠（Ｉｎｆ）の間に形成される域枠部分を測定域（Ｍｅｒ）とした試料測定域枠（ｗｍｈ）を抽出する試料測定域枠抽出部であり、
以上のように構成されたことを特徴とする請求項９、１０又は１１記載の測定装置。
前記試料測定域枠（ｗｍｒ）または前記拡張試料測定域枠（Ｗｍｅｇ）の表す域線を外域枠（Ｏｕｆ）とし、
前記試料（Ｗ）の内側の一部を非測定域とするための内域枠（Ｉｎｆ）を特定し、
前記内域枠（Ｉｎｆ）の内側部分を非測定域（Ｎｏｒ）とし、
前記外域枠（Ｏｕｆ）と前記内域枠（Ｉｎｆ）の間に形成される域枠部分を測定域（Ｍｅｒ）とした試料測定域枠（ｗｍｈ）を抽出する試料測定域枠抽出部であり、
以上のように構成されたことを特徴とする請求項９、１０又は１１記載の測定装置。
【請求項13】
報知部（２９）が設けられ、
前記Ｘ軸内壁、前記Ｙ軸内壁のいずれかを有する形態においては、前記Ｘ軸内壁又は前記Ｙ軸内壁に前記試料（Ｗ）が当たっていないことを前記報知部（２９）は報知し、
前記Ｘ軸内壁及び前記Ｙ軸内壁を有する形態においては、前記Ｘ軸内壁及び前記Ｙ軸内壁に前記試料（Ｗ）が当たっていないことを前記報知部（２９）は報知し、
以上のように構成されたことを特徴とする請求項３～１０又は１１に記載の測定装置。
前記Ｘ軸内壁、前記Ｙ軸内壁のいずれかを有する形態においては、前記Ｘ軸内壁又は前記Ｙ軸内壁に前記試料（Ｗ）が当たっていないことを前記報知部（２９）は報知し、
前記Ｘ軸内壁及び前記Ｙ軸内壁を有する形態においては、前記Ｘ軸内壁及び前記Ｙ軸内壁に前記試料（Ｗ）が当たっていないことを前記報知部（２９）は報知し、
以上のように構成されたことを特徴とする請求項３～１０又は１１に記載の測定装置。
【請求項14】
透明テーブル（２）の下方に設けられた照射部（３）から、前記透明テーブル（２）の上面に載置した試料（Ｗ）に向けて前記透明テーブル（２）を透過する照射光を照射し、その照射光の前記試料（Ｗ）の測定面からの反射光である試料反射光を前記透明テーブル（２）の下方に設けられた受光部（４）で受光し、その受光情報である試料受光情報（Ｗｒｉ）を処理して、前記試料（Ｗ）の測定面の各座標位置（ｘ、ｙ）における高さを示すデータである試料測定面高さデータを生成する測定装置であって、
前記受光部（４）側を正面とし該正面から見た試料（Ｗ）側の表面を表す図である正面図において、
前記透明テーブル（２）の上部に設けられた、Ｘ軸方向の内壁であるＸ軸内壁又はＹ軸方向の内壁であるＹ軸内壁を有し、前記試料（Ｗ）を前記Ｘ軸内壁又は前記Ｙ軸内壁に当てた位置決め状態で、前記透明テーブル（２）の上面に載置可能としている位置決め部と、
前記Ｘ軸内壁の縁部位の位置をＸ軸縁位置線とし、又は、前記Ｙ軸内壁の縁部位の位置をＹ軸縁位置線とし、前記Ｘ軸縁位置線又は前記Ｙ軸縁位置線を予め記憶している縁線記憶部と、
前記試料（Ｗ）の一部分の測定域枠である試料部分域枠（ｗｔｒ）を特定する試料部分域枠特定部と、
前記試料部分域枠（ｗｔｒ）の特定操作前又は自動特定前に、前記Ｘ軸内壁又は前記Ｙ軸内壁に前記試料（Ｗ）が当たっていないことを報知する報知部（２９）と、を備えたことを特徴とする測定装置。
前記受光部（４）側を正面とし該正面から見た試料（Ｗ）側の表面を表す図である正面図において、
前記透明テーブル（２）の上部に設けられた、Ｘ軸方向の内壁であるＸ軸内壁又はＹ軸方向の内壁であるＹ軸内壁を有し、前記試料（Ｗ）を前記Ｘ軸内壁又は前記Ｙ軸内壁に当てた位置決め状態で、前記透明テーブル（２）の上面に載置可能としている位置決め部と、
前記Ｘ軸内壁の縁部位の位置をＸ軸縁位置線とし、又は、前記Ｙ軸内壁の縁部位の位置をＹ軸縁位置線とし、前記Ｘ軸縁位置線又は前記Ｙ軸縁位置線を予め記憶している縁線記憶部と、
前記試料（Ｗ）の一部分の測定域枠である試料部分域枠（ｗｔｒ）を特定する試料部分域枠特定部と、
前記試料部分域枠（ｗｔｒ）の特定操作前又は自動特定前に、前記Ｘ軸内壁又は前記Ｙ軸内壁に前記試料（Ｗ）が当たっていないことを報知する報知部（２９）と、を備えたことを特徴とする測定装置。
【請求項15】
透明テーブル（２）の下方に設けられた照射部（３）から、前記透明テーブル（２）の上面に載置した試料（Ｗ）に向けて前記透明テーブル（２）を透過する照射光を照射し、その照射光の前記試料（Ｗ）の測定面からの反射光である試料反射光を前記透明テーブル（２）の下方に設けられた受光部（４）で受光し、その受光情報である試料受光情報（Ｗｒｉ）を処理して、前記試料（Ｗ）の測定面の各座標位置（ｘ、ｙ）における高さを示すデータである試料測定面高さデータを生成する測定装置であって、
前記受光部（４）側を正面とし該正面から見た試料（Ｗ）側の表面を表す図である正面図において、
前記透明テーブル（２）の上部に設けられた、Ｘ軸方向の内壁であるＸ軸内壁を有し、Ｙ軸方向の内壁であるＹ軸内壁を有し、前記試料（Ｗ）を前記Ｘ軸内壁及び前記Ｙ軸内壁に当てた位置決め状態で、前記透明テーブル（２）の上面に載置可能としている位置決め部と、
前記照射部（３）及び前記受光部（４）の走査域の受光情報である走査域受光情報（ｓｚｄ）の示す走査域（ｓｚ）よりも狭い域枠であり、かつ、前記試料（Ｗ）の全ての部位が入る域枠である試料測定域枠（ｗｍｒ）を抽出する試料測定域枠抽出部と、
前記Ｘ軸内壁の縁部位の位置をＸ軸縁位置線とし、前記Ｙ軸内壁の縁部位の位置をＹ軸縁位置線とし、前記Ｘ軸縁位置線及び前記Ｙ軸縁位置線を予め記憶している縁線記憶部と、を備えるとともに、
前記試料測定域枠抽出部は、
前記Ｘ軸縁位置線を、前記試料（Ｗ）の下側における最も外側に突出した部位である試料下側突出部位（１０３）の位置、又は、前記試料（Ｗ）の上側における最も外側に突出した部位である試料上側突出部位（１０４）の位置とし、
前記Ｙ軸縁位置線を、前記試料（Ｗ）の右側における最も外側に突出した部位である試料右側突出部位（１０２）の位置、又は、前記試料（Ｗ）の左側における最も外側に突出した部位である試料左側突出部位（１０１）の位置とし、
前記Ｘ軸内壁に当たっていない側に設定されたＸ軸線をＸ軸非縁線とし、
前記Ｙ軸内壁に当たっていない側に設定されたＹ軸線をＹ軸非縁線とし、
前記Ｘ軸縁位置線、前記Ｙ軸縁位置線、前記Ｘ軸非縁線及び前記Ｙ軸非縁線により、前記試料測定域枠を抽出する試料測定域枠抽出部であり、
前記Ｘ軸縁位置線及び前記Ｙ軸縁位置線を固定線として、前記Ｘ軸非縁線及び前記Ｙ軸非縁線が自動的に設定される又はオペレーターが手動操作により設定可能とした、
以上のように構成されたことを特徴とする測定装置。
前記受光部（４）側を正面とし該正面から見た試料（Ｗ）側の表面を表す図である正面図において、
前記透明テーブル（２）の上部に設けられた、Ｘ軸方向の内壁であるＸ軸内壁を有し、Ｙ軸方向の内壁であるＹ軸内壁を有し、前記試料（Ｗ）を前記Ｘ軸内壁及び前記Ｙ軸内壁に当てた位置決め状態で、前記透明テーブル（２）の上面に載置可能としている位置決め部と、
前記照射部（３）及び前記受光部（４）の走査域の受光情報である走査域受光情報（ｓｚｄ）の示す走査域（ｓｚ）よりも狭い域枠であり、かつ、前記試料（Ｗ）の全ての部位が入る域枠である試料測定域枠（ｗｍｒ）を抽出する試料測定域枠抽出部と、
前記Ｘ軸内壁の縁部位の位置をＸ軸縁位置線とし、前記Ｙ軸内壁の縁部位の位置をＹ軸縁位置線とし、前記Ｘ軸縁位置線及び前記Ｙ軸縁位置線を予め記憶している縁線記憶部と、を備えるとともに、
前記試料測定域枠抽出部は、
前記Ｘ軸縁位置線を、前記試料（Ｗ）の下側における最も外側に突出した部位である試料下側突出部位（１０３）の位置、又は、前記試料（Ｗ）の上側における最も外側に突出した部位である試料上側突出部位（１０４）の位置とし、
前記Ｙ軸縁位置線を、前記試料（Ｗ）の右側における最も外側に突出した部位である試料右側突出部位（１０２）の位置、又は、前記試料（Ｗ）の左側における最も外側に突出した部位である試料左側突出部位（１０１）の位置とし、
前記Ｘ軸内壁に当たっていない側に設定されたＸ軸線をＸ軸非縁線とし、
前記Ｙ軸内壁に当たっていない側に設定されたＹ軸線をＹ軸非縁線とし、
前記Ｘ軸縁位置線、前記Ｙ軸縁位置線、前記Ｘ軸非縁線及び前記Ｙ軸非縁線により、前記試料測定域枠を抽出する試料測定域枠抽出部であり、
前記Ｘ軸縁位置線及び前記Ｙ軸縁位置線を固定線として、前記Ｘ軸非縁線及び前記Ｙ軸非縁線が自動的に設定される又はオペレーターが手動操作により設定可能とした、
以上のように構成されたことを特徴とする測定装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、透明テーブルの上面に載置した主に電子部品等の試料を、透明テーブルの下方に位置させた光センサで測定して、試料の表面（光センサ側から見た試料面）の表面形状又は平坦度等を測定する測定装置に関する。
【背景技術】
【0002】
透明テーブルの下方にラインセンサ、ＣＣＤセンサ、ＣＭＯＳセンサ等の光センサを配置し、透明テーブルの上面に試料を載置して、該試料の表面を光センサで測定して、試料の表面の表面形状（３Ｄ形状）や平坦度を測定する測定装置が知られている。（例えば、特許文献１の発明）
また、前記特許文献１の測定装置と同様の測定装置において、テーブル上面に枠形態の位置決め部を設け、該位置決め部の横内壁面および該横内壁面に直交形態である縦内壁面に、試料の対応する二側面を当てて位置決めする測定装置が知られている。（例えば、特許文献２の発明）
また、前記特許文献１の測定装置と同様の測定装置において、テーブル上面に枠形態の位置決め部を設け、該位置決め部の横内壁面および該横内壁面に直交形態である縦内壁面に、試料の対応する二側面を当てて位置決めする測定装置が知られている。（例えば、特許文献２の発明）
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
試料測定域枠についての記載は無いが、特許文献１のような測定装置において試料測定域枠の抽出は、一般的に、照射部及び受光部の走査全域の受光情報である走査全域受光情報の示す走査全域の輝度レベルを示す濃淡画像をディスプレイに表示して、試料のすべての部分が含まれる閉じ域枠（試料測定域枠）を、オペレーターがマウス等の操作によって線引き設定して、その後で、受光部側の基準位置からの試料の表面の高さ情報（距離情報）の生成の指示操作を行い、テーブル上面からの試料の表面の高さ情報（距離情報）の生成の指示操作を行う、又は、テーブル上面に設けた反射部材の表面からの試料の表面の高さ情報（距離情報）の生成の指示操作を行う、というようなオペレーターの煩雑な操作作業を必要とする問題を有するものであった。
試料測定域枠は、照射部及び受光部の走査全域の受光情報である走査域受光情報の示す走査域よりも狭い域枠であり、かつ、試料の全ての部位が入る域枠である。
試料測定域枠は、照射部及び受光部の走査全域の受光情報である走査域受光情報の示す走査域よりも狭い域枠であり、かつ、試料の全ての部位が入る域枠である。
【0005】
また、試料測定域枠についての記載は無いが、特許文献２のような位置決め部を有する測定装置において試料測定域枠の抽出は、一般的に、走査全域の濃淡画像をディスプレイに表示した状態で試料測定域の指定・特定操作をオペレーターが行う。
走査全域の濃淡画像には位置決め部の縁部位の画像が不明瞭ではあるが検出されディスプレイに表示される。よって、位置決め部に当たっている試料の当たり部分の画像と位置決め部の内縁部位の画像部当たり部分がくっ付いた画像となる部分が生じる。
オペレーターは、拡大画像にして消しゴム機能を使って、マウス操作等により内縁部位の画像を消すことを行う。消された部分は、測定対象から除かれることを意味する。
この消しゴム機能を使用した消し操作は、時間がかかり集中力も必要であり、消し過ぎや消し残しなどが生じる可能性があり、また、オペレーターは、消し残しがあるかも？ 消し過ぎたのではないか？ というような疑心暗鬼な気持ちが残るので、精神衛生上よくないという問題を有するものであった。
走査全域の濃淡画像には位置決め部の縁部位の画像が不明瞭ではあるが検出されディスプレイに表示される。よって、位置決め部に当たっている試料の当たり部分の画像と位置決め部の内縁部位の画像部当たり部分がくっ付いた画像となる部分が生じる。
オペレーターは、拡大画像にして消しゴム機能を使って、マウス操作等により内縁部位の画像を消すことを行う。消された部分は、測定対象から除かれることを意味する。
この消しゴム機能を使用した消し操作は、時間がかかり集中力も必要であり、消し過ぎや消し残しなどが生じる可能性があり、また、オペレーターは、消し残しがあるかも？ 消し過ぎたのではないか？ というような疑心暗鬼な気持ちが残るので、精神衛生上よくないという問題を有するものであった。
【0006】
本発明は、以上のような従来技術の問題点に鑑みてなされたものであって、その目的は、試料の全ての部位を含む域枠である試料域を効率的に抽出する、又は、効率的かつ正確に抽出する測定装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0007】
上記目的を達成するために、本発明は次に述べるような構成としている。
＜第１の発明＞
透明テーブル（２）の下方に設けられた照射部（３）から、前記透明テーブル（２）の上面に載置した試料（Ｗ）に向けて前記透明テーブル（２）を透過する照射光を照射し、その照射光の前記試料（Ｗ）の測定面からの反射光である試料反射光を前記透明テーブル（２）の下方に設けられた受光部（４）で受光し、その受光情報である試料受光情報（Ｗｒｉ）を処理して、前記試料（Ｗ）の測定面の各座標位置（ｘ、ｙ）における高さを示すデータである試料測定面高さデータを生成する測定装置であって、
前記照射部（３）及び前記受光部（４）の走査域の受光情報である走査域受光情報（ｓｚｄ）の示す走査全域（ｓｚ）よりも狭い域枠であり、かつ、前記試料（Ｗ）の部位の全てが入る域枠である試料測定域枠（ｗｍｒ）を抽出する試料測定域枠抽出部を備えるとともに、
前記試料測定域枠抽出部は、
前記受光部（４）側を正面とし該正面から見た試料（Ｗ）側の表面を表す図である正面図において、
前記試料（Ｗ）の左側における最も外側に突出した部位である試料左側突出部位（１０１）を特定し、
前記試料（Ｗ）の右側における最も外側に突出した部位である試料右側突出部位（１０２）を特定し、
前記試料（Ｗ）の下側における最も外側に突出した部位である試料下側突出部位（１０３）を特定し、
前記試料（Ｗ）の上側における最も外側に突出した部位である試料上側突出部位（１０４）を特定し、
前記試料左側突出部位（１０１）を通る縦線を左縦線（ｌｙｒ）として特定し、
前記試料右側突出部位（１０２）を通る縦線を右縦線（ｒｙｒ）として特定し、
前記試料下側突出部位（１０３）を通る横線を下横線（ｎｘｒ）として特定し、
前記試料上側突出部位（１０４）を通る横線を上横線（ｐｘｒ）として特定し、
前記左縦線（ｌｙｒ）、前記右縦線（ｒｙｒ）、前記下横線（ｎｘｒ）及び前記上横線（ｐｘｒ）によって形成される域枠を前記試料測定域枠（ｗｍｒ）として抽出することを自動的に行う試料測定域枠抽出部であり、
以上のように構成されたことを特徴とする測定装置である。
＜第１の発明＞
透明テーブル（２）の下方に設けられた照射部（３）から、前記透明テーブル（２）の上面に載置した試料（Ｗ）に向けて前記透明テーブル（２）を透過する照射光を照射し、その照射光の前記試料（Ｗ）の測定面からの反射光である試料反射光を前記透明テーブル（２）の下方に設けられた受光部（４）で受光し、その受光情報である試料受光情報（Ｗｒｉ）を処理して、前記試料（Ｗ）の測定面の各座標位置（ｘ、ｙ）における高さを示すデータである試料測定面高さデータを生成する測定装置であって、
前記照射部（３）及び前記受光部（４）の走査域の受光情報である走査域受光情報（ｓｚｄ）の示す走査全域（ｓｚ）よりも狭い域枠であり、かつ、前記試料（Ｗ）の部位の全てが入る域枠である試料測定域枠（ｗｍｒ）を抽出する試料測定域枠抽出部を備えるとともに、
前記試料測定域枠抽出部は、
前記受光部（４）側を正面とし該正面から見た試料（Ｗ）側の表面を表す図である正面図において、
前記試料（Ｗ）の左側における最も外側に突出した部位である試料左側突出部位（１０１）を特定し、
前記試料（Ｗ）の右側における最も外側に突出した部位である試料右側突出部位（１０２）を特定し、
前記試料（Ｗ）の下側における最も外側に突出した部位である試料下側突出部位（１０３）を特定し、
前記試料（Ｗ）の上側における最も外側に突出した部位である試料上側突出部位（１０４）を特定し、
前記試料左側突出部位（１０１）を通る縦線を左縦線（ｌｙｒ）として特定し、
前記試料右側突出部位（１０２）を通る縦線を右縦線（ｒｙｒ）として特定し、
前記試料下側突出部位（１０３）を通る横線を下横線（ｎｘｒ）として特定し、
前記試料上側突出部位（１０４）を通る横線を上横線（ｐｘｒ）として特定し、
前記左縦線（ｌｙｒ）、前記右縦線（ｒｙｒ）、前記下横線（ｎｘｒ）及び前記上横線（ｐｘｒ）によって形成される域枠を前記試料測定域枠（ｗｍｒ）として抽出することを自動的に行う試料測定域枠抽出部であり、
以上のように構成されたことを特徴とする測定装置である。
【0008】
＜第２の発明＞
拡張試料測定域枠設定部が設けられ、
前記拡張試料測定域枠設定部は、
前記左縦線（ｌｙｒ）より所定の距離だけ外側に拡張した位置に設定された拡張左縦線（Ｌｙｒ）を設定し、
前記右縦線（ｒｙｒ）より所定の距離だけ外側に拡張した位置に設定された拡張右縦線（Ｒｙｒ）を設定し、
前記下横線（ｎｘｒ）より所定の距離だけ外側に拡張した位置に設定された拡張下横線（Ｎｘｒ）を設定し、
前記上横線（ｐｘｒ）より所定の距離だけ外側に拡張した位置に設定された拡張上横線（Ｐｘｒ）を設定し、
前記拡張左縦線（Ｌｙｒ）、前記拡張右縦線（Ｒｙｒ）、前記拡張下横線（Ｎｘｒ）および前記拡張上横線（Ｐｘｒ）によって形成された域枠である拡張試料測定域枠（Ｗｍｒ）を設定する拡張試料測定域枠設定部であり、
以上のように構成されたことを特徴とする前記第１の発明に記載の測定装置である。
拡張試料測定域枠設定部が設けられ、
前記拡張試料測定域枠設定部は、
前記左縦線（ｌｙｒ）より所定の距離だけ外側に拡張した位置に設定された拡張左縦線（Ｌｙｒ）を設定し、
前記右縦線（ｒｙｒ）より所定の距離だけ外側に拡張した位置に設定された拡張右縦線（Ｒｙｒ）を設定し、
前記下横線（ｎｘｒ）より所定の距離だけ外側に拡張した位置に設定された拡張下横線（Ｎｘｒ）を設定し、
前記上横線（ｐｘｒ）より所定の距離だけ外側に拡張した位置に設定された拡張上横線（Ｐｘｒ）を設定し、
前記拡張左縦線（Ｌｙｒ）、前記拡張右縦線（Ｒｙｒ）、前記拡張下横線（Ｎｘｒ）および前記拡張上横線（Ｐｘｒ）によって形成された域枠である拡張試料測定域枠（Ｗｍｒ）を設定する拡張試料測定域枠設定部であり、
以上のように構成されたことを特徴とする前記第１の発明に記載の測定装置である。
【0009】
＜第３の発明＞
透明テーブル（２）の下方に設けられた照射部（３）から、前記透明テーブル（２）の上面に載置した試料（Ｗ）に向けて前記透明テーブル（２）を透過する照射光を照射し、その照射光の前記試料（Ｗ）の測定面からの反射光である試料反射光を前記透明テーブル（２）の下方に設けられた受光部（４）で受光し、その受光情報である試料受光情報（Ｗｒｉ）を処理して、前記試料（Ｗ）の測定面の各座標位置（ｘ、ｙ）における高さを示すデータである試料測定面高さデータを生成する測定装置であって、
前記受光部（４）側を正面とし該正面から見た試料（Ｗ）側の表面を表す図である正面図において、
前記透明テーブル（２）の上部に設けられた、Ｘ軸方向の内壁であるＸ軸内壁又はＹ軸方向の内壁であるＹ軸内壁を有し、前記試料（Ｗ）を前記Ｘ軸内壁又は前記Ｙ軸内壁に当てた位置決め状態で、前記透明テーブル（２）の上面に載置可能としている位置決め部と、
前記Ｘ軸内壁の縁部位の位置をＸ軸縁位置線とし、又は、前記Ｙ軸内壁の縁部位の位置をＹ軸縁位置線とし、前記Ｘ軸縁位置線又は前記Ｙ軸縁位置線を予め記憶している縁線記憶部と、
前記照射部（３）及び前記受光部（４）の走査域の受光情報である走査域受光情報（ｓｚｄ）の示す走査域（ｓｚ）よりも狭い域枠であり、かつ、前記試料（Ｗ）の全ての部位が入る域枠である試料測定域枠（ｗｍｒ）を抽出する試料測定域枠抽出部と、を備えるとともに、
前記試料測定域枠抽出部は、
前記Ｘ軸内壁又は前記Ｙ軸内壁に当たっていない前記試料（Ｗ）の側の最も外側に突出した部位である試料突出部位を特定し、
前記試料突出部位を通る横線又は縦線を特定し、
前記横線又は前記縦線と前記Ｘ軸縁位置線又は前記Ｙ軸縁位置線とによって形成される域枠を前記試料測定域枠（ｗｍｒ）として抽出する試料測定域枠抽出部であり、
以上のように構成されたことを特徴とする測定装置である。
透明テーブル（２）の下方に設けられた照射部（３）から、前記透明テーブル（２）の上面に載置した試料（Ｗ）に向けて前記透明テーブル（２）を透過する照射光を照射し、その照射光の前記試料（Ｗ）の測定面からの反射光である試料反射光を前記透明テーブル（２）の下方に設けられた受光部（４）で受光し、その受光情報である試料受光情報（Ｗｒｉ）を処理して、前記試料（Ｗ）の測定面の各座標位置（ｘ、ｙ）における高さを示すデータである試料測定面高さデータを生成する測定装置であって、
前記受光部（４）側を正面とし該正面から見た試料（Ｗ）側の表面を表す図である正面図において、
前記透明テーブル（２）の上部に設けられた、Ｘ軸方向の内壁であるＸ軸内壁又はＹ軸方向の内壁であるＹ軸内壁を有し、前記試料（Ｗ）を前記Ｘ軸内壁又は前記Ｙ軸内壁に当てた位置決め状態で、前記透明テーブル（２）の上面に載置可能としている位置決め部と、
前記Ｘ軸内壁の縁部位の位置をＸ軸縁位置線とし、又は、前記Ｙ軸内壁の縁部位の位置をＹ軸縁位置線とし、前記Ｘ軸縁位置線又は前記Ｙ軸縁位置線を予め記憶している縁線記憶部と、
前記照射部（３）及び前記受光部（４）の走査域の受光情報である走査域受光情報（ｓｚｄ）の示す走査域（ｓｚ）よりも狭い域枠であり、かつ、前記試料（Ｗ）の全ての部位が入る域枠である試料測定域枠（ｗｍｒ）を抽出する試料測定域枠抽出部と、を備えるとともに、
前記試料測定域枠抽出部は、
前記Ｘ軸内壁又は前記Ｙ軸内壁に当たっていない前記試料（Ｗ）の側の最も外側に突出した部位である試料突出部位を特定し、
前記試料突出部位を通る横線又は縦線を特定し、
前記横線又は前記縦線と前記Ｘ軸縁位置線又は前記Ｙ軸縁位置線とによって形成される域枠を前記試料測定域枠（ｗｍｒ）として抽出する試料測定域枠抽出部であり、
以上のように構成されたことを特徴とする測定装置である。
【0010】
＜第４の発明＞
透明テーブル（２）の下方に設けられた照射部（３）から、前記透明テーブル（２）の上面に載置した試料（Ｗ）に向けて前記透明テーブル（２）を透過する照射光を照射し、その照射光の前記試料（Ｗ）の測定面からの反射光である試料反射光を前記透明テーブル（２）の下方に設けられた受光部（４）で受光し、その受光情報である試料受光情報（Ｗｒｉ）を処理して、前記試料（Ｗ）の測定面の各座標位置（ｘ、ｙ）における高さを示すデータである試料測定面高さデータを生成する測定装置であって、
前記受光部（４）側を正面とし該正面から見た試料（Ｗ）側の表面を表す図である正面図において、
前記透明テーブル（２）の上部に設けられた、Ｘ軸方向の内壁であるＸ軸内壁を有し、このＸ軸内壁に直交する形態で設けられたＹ軸方向の内壁であるＹ軸内壁を有し、前記試料（Ｗ）を前記Ｘ軸内壁と前記Ｙ軸内壁に当てた位置決め状態で前記透明テーブル（２）の上面に載置可能としている位置決め部と、
前記照射部（３）及び前記受光部（４）の走査域の受光情報である走査域受光情報（ｓｚｄ）の示す走査域（ｓｚ）よりも狭い域枠であり、かつ、前記試料（Ｗ）の全ての部位が入る域枠である試料測定域枠（ｗｍｒ）を抽出する試料測定域枠抽出部と、
前記Ｘ軸内壁の縁部位の位置をＸ軸縁位置線とし、かつ、前記Ｙ軸内壁の縁部位の位置をＹ軸縁位置線とし、前記Ｘ軸縁位置線及び前記Ｙ軸縁位置線を予め記憶している縁線記憶部と、を備えるとともに、
前記試料測定域枠抽出部は、
前記Ｘ軸内壁と前記Ｙ軸内壁に当たっていない前記試料（Ｗ）の側の最も外側に突出した部位である、Ｘ軸側の試料突出部位とＹ軸側の試料突出部位とを特定し、
前記Ｘ軸側の試料突出部位を通る縦線を特定し、
前記Ｙ軸側の試料突出部位を通る横線を特定し、
前記横線、前記縦線、前記Ｘ軸縁位置線及び前記Ｙ軸縁位置線によって形成される域枠を前記試料測定域枠（ｗｍｒ）として抽出する試料測定域枠抽出部であり、
以上のように構成されたことを特徴とする測定装置である。
透明テーブル（２）の下方に設けられた照射部（３）から、前記透明テーブル（２）の上面に載置した試料（Ｗ）に向けて前記透明テーブル（２）を透過する照射光を照射し、その照射光の前記試料（Ｗ）の測定面からの反射光である試料反射光を前記透明テーブル（２）の下方に設けられた受光部（４）で受光し、その受光情報である試料受光情報（Ｗｒｉ）を処理して、前記試料（Ｗ）の測定面の各座標位置（ｘ、ｙ）における高さを示すデータである試料測定面高さデータを生成する測定装置であって、
前記受光部（４）側を正面とし該正面から見た試料（Ｗ）側の表面を表す図である正面図において、
前記透明テーブル（２）の上部に設けられた、Ｘ軸方向の内壁であるＸ軸内壁を有し、このＸ軸内壁に直交する形態で設けられたＹ軸方向の内壁であるＹ軸内壁を有し、前記試料（Ｗ）を前記Ｘ軸内壁と前記Ｙ軸内壁に当てた位置決め状態で前記透明テーブル（２）の上面に載置可能としている位置決め部と、
前記照射部（３）及び前記受光部（４）の走査域の受光情報である走査域受光情報（ｓｚｄ）の示す走査域（ｓｚ）よりも狭い域枠であり、かつ、前記試料（Ｗ）の全ての部位が入る域枠である試料測定域枠（ｗｍｒ）を抽出する試料測定域枠抽出部と、
前記Ｘ軸内壁の縁部位の位置をＸ軸縁位置線とし、かつ、前記Ｙ軸内壁の縁部位の位置をＹ軸縁位置線とし、前記Ｘ軸縁位置線及び前記Ｙ軸縁位置線を予め記憶している縁線記憶部と、を備えるとともに、
前記試料測定域枠抽出部は、
前記Ｘ軸内壁と前記Ｙ軸内壁に当たっていない前記試料（Ｗ）の側の最も外側に突出した部位である、Ｘ軸側の試料突出部位とＹ軸側の試料突出部位とを特定し、
前記Ｘ軸側の試料突出部位を通る縦線を特定し、
前記Ｙ軸側の試料突出部位を通る横線を特定し、
前記横線、前記縦線、前記Ｘ軸縁位置線及び前記Ｙ軸縁位置線によって形成される域枠を前記試料測定域枠（ｗｍｒ）として抽出する試料測定域枠抽出部であり、
以上のように構成されたことを特徴とする測定装置である。
【0011】
＜第５の発明＞
前記横線、前記縦線を所定の距離だけ外側に拡張した位置に設定してなる拡張試料測定域枠（Ｗｍｒ）を設定する拡張試料測定域枠設定部が設けられたことを特徴とする前記第３の発明又は第４の発明に記載の測定装置である。
前記横線、前記縦線を所定の距離だけ外側に拡張した位置に設定してなる拡張試料測定域枠（Ｗｍｒ）を設定する拡張試料測定域枠設定部が設けられたことを特徴とする前記第３の発明又は第４の発明に記載の測定装置である。
【0012】
＜第６の発明＞
前記試料（Ｗ）の濃淡画像をディスプレイに表示した表示形態において、前記Ｘ軸縁位置線及び前記Ｙ軸縁位置線を表示可能とした又は表示されることを特徴とする前記第３、第４の発明又は前記第５の発明に記載の測定装置である。
前記試料（Ｗ）の濃淡画像をディスプレイに表示した表示形態において、前記Ｘ軸縁位置線及び前記Ｙ軸縁位置線を表示可能とした又は表示されることを特徴とする前記第３、第４の発明又は前記第５の発明に記載の測定装置である。
【0013】
＜第７の発明＞
前記試料測定域枠（ｗｍｒ）及び前記試料（Ｗ）の濃淡画像をディスプレイに表示した表示形態において、
前記Ｘ軸縁位置線及び前記Ｙ軸縁位置線又はいずれか一方の縁線より外側に位置する前記位置決め部の画像は非表示である又は非表示にすることを可能としたことを特徴とする前記第３～第５又は第６の発明に記載の測定装置である。
前記試料測定域枠（ｗｍｒ）及び前記試料（Ｗ）の濃淡画像をディスプレイに表示した表示形態において、
前記Ｘ軸縁位置線及び前記Ｙ軸縁位置線又はいずれか一方の縁線より外側に位置する前記位置決め部の画像は非表示である又は非表示にすることを可能としたことを特徴とする前記第３～第５又は第６の発明に記載の測定装置である。
【0014】
＜第８の発明＞
透明テーブル（２）の下方に設けられた照射部（３）から、前記透明テーブル（２）の上面に載置した試料（Ｗ）に向けて前記透明テーブル（２）を透過する照射光を照射し、その照射光の前記試料（Ｗ）の測定面からの反射光である試料反射光を前記透明テーブル（２）の下方に設けられた受光部（４）で受光し、その受光情報である試料受光情報（Ｗｒｉ）を処理して、前記試料（Ｗ）の測定面の各座標位置（ｘ、ｙ）における高さを示すデータである試料測定面高さデータを生成する測定装置であって、
前記受光部（４）側を正面とし該正面から見た試料（Ｗ）側の表面を表す図である正面図において、
前記透明テーブル（２）の上部に設けられた、Ｘ軸方向の内壁であるＸ軸内壁を有し、このＸ軸内壁に直交する形態で設けられたＹ軸方向の内壁であるＹ軸内壁を有し、前記試料（Ｗ）を前記Ｘ軸内壁と前記Ｙ軸内壁に当てた位置決め状態で前記透明テーブル（２）の上面に載置可能としている位置決め部と、
前記Ｘ軸内壁の縁部位の位置をＸ軸縁位置線とし、前記Ｙ軸内壁の縁部位の位置をＹ軸縁位置線とし、前記Ｘ軸縁位置線及び前記Ｙ軸縁位置線を予め記憶している縁線記憶部と、を備えたことを特徴とする測定装置である。
透明テーブル（２）の下方に設けられた照射部（３）から、前記透明テーブル（２）の上面に載置した試料（Ｗ）に向けて前記透明テーブル（２）を透過する照射光を照射し、その照射光の前記試料（Ｗ）の測定面からの反射光である試料反射光を前記透明テーブル（２）の下方に設けられた受光部（４）で受光し、その受光情報である試料受光情報（Ｗｒｉ）を処理して、前記試料（Ｗ）の測定面の各座標位置（ｘ、ｙ）における高さを示すデータである試料測定面高さデータを生成する測定装置であって、
前記受光部（４）側を正面とし該正面から見た試料（Ｗ）側の表面を表す図である正面図において、
前記透明テーブル（２）の上部に設けられた、Ｘ軸方向の内壁であるＸ軸内壁を有し、このＸ軸内壁に直交する形態で設けられたＹ軸方向の内壁であるＹ軸内壁を有し、前記試料（Ｗ）を前記Ｘ軸内壁と前記Ｙ軸内壁に当てた位置決め状態で前記透明テーブル（２）の上面に載置可能としている位置決め部と、
前記Ｘ軸内壁の縁部位の位置をＸ軸縁位置線とし、前記Ｙ軸内壁の縁部位の位置をＹ軸縁位置線とし、前記Ｘ軸縁位置線及び前記Ｙ軸縁位置線を予め記憶している縁線記憶部と、を備えたことを特徴とする測定装置である。
【0015】
＜第９の発明＞
前記試料測定域枠抽出部は、
前記試料測定域枠（ｗｍｒ）又は前記拡張試料測定域枠（Ｗｍｒ）を表す域線を外域枠（Ｏｕｆ）として特定し、
前記試料（Ｗ）の内側の一部を非測定域とするための内域枠（Ｉｎｆ）を特定ないし指定し、かつ、前記内域枠（Ｉｎｆ）の内側部分を非測定域（Ｎｏｒ）とし、
前記外域枠（Ｏｕｆ）と前記内域枠（Ｉｎｆ）の間に形成される域枠部分を測定域（Ｍｅｒ）とした試料測定域枠（ｗｍｈ）を抽出する試料測定域枠抽出部であり、
以上のように構成されたことを特徴とする前記第１の発明～第７の発明又は第８の発明に記載の測定装置である。
前記試料測定域枠抽出部は、
前記試料測定域枠（ｗｍｒ）又は前記拡張試料測定域枠（Ｗｍｒ）を表す域線を外域枠（Ｏｕｆ）として特定し、
前記試料（Ｗ）の内側の一部を非測定域とするための内域枠（Ｉｎｆ）を特定ないし指定し、かつ、前記内域枠（Ｉｎｆ）の内側部分を非測定域（Ｎｏｒ）とし、
前記外域枠（Ｏｕｆ）と前記内域枠（Ｉｎｆ）の間に形成される域枠部分を測定域（Ｍｅｒ）とした試料測定域枠（ｗｍｈ）を抽出する試料測定域枠抽出部であり、
以上のように構成されたことを特徴とする前記第１の発明～第７の発明又は第８の発明に記載の測定装置である。
【0016】
＜第１０の発明＞
透明テーブル（２）の下方に設けられた照射部（３）から、前記透明テーブル（２）の上面に載置した試料（Ｗ）に向けて前記透明テーブル（２）を透過する照射光を照射し、その照射光の前記試料（Ｗ）の測定面からの反射光である試料反射光を前記透明テーブル（２）の下方に設けられた受光部（４）で受光し、その受光情報である試料受光情報（Ｗｒｉ）を処理して、前記試料（Ｗ）の測定面の各座標位置（ｘ、ｙ）における高さを示すデータである試料測定面高さデータを生成する測定装置であって、
前記照射部（３）及び前記受光部（４）の走査域の受光情報である走査域受光情報（ｓｚｄ）の示す走査域（ｓｚ）よりも狭い域枠であり、かつ、前記試料（Ｗ）の全ての部位が入る域枠である試料測定域枠（ｗｍｅｇ）を抽出する試料測定域枠抽出部を備え、
前記試料測定域枠抽出部は、前記試料（Ｗ）の画像情報におけるエッジを抽出し、前記エッジによってあらわされる域枠を前記試料測定域枠（ｗｍｅｇ）として抽出することを自動的に行う試料測定域枠抽出部であり、
以上のように構成されたことを特徴とする測定装置である。
透明テーブル（２）の下方に設けられた照射部（３）から、前記透明テーブル（２）の上面に載置した試料（Ｗ）に向けて前記透明テーブル（２）を透過する照射光を照射し、その照射光の前記試料（Ｗ）の測定面からの反射光である試料反射光を前記透明テーブル（２）の下方に設けられた受光部（４）で受光し、その受光情報である試料受光情報（Ｗｒｉ）を処理して、前記試料（Ｗ）の測定面の各座標位置（ｘ、ｙ）における高さを示すデータである試料測定面高さデータを生成する測定装置であって、
前記照射部（３）及び前記受光部（４）の走査域の受光情報である走査域受光情報（ｓｚｄ）の示す走査域（ｓｚ）よりも狭い域枠であり、かつ、前記試料（Ｗ）の全ての部位が入る域枠である試料測定域枠（ｗｍｅｇ）を抽出する試料測定域枠抽出部を備え、
前記試料測定域枠抽出部は、前記試料（Ｗ）の画像情報におけるエッジを抽出し、前記エッジによってあらわされる域枠を前記試料測定域枠（ｗｍｅｇ）として抽出することを自動的に行う試料測定域枠抽出部であり、
以上のように構成されたことを特徴とする測定装置である。
【0017】
＜第１１の発明＞
拡張試料測定域枠設定部が設けられ、
前記拡張試料測定域枠設定部は、
前記試料測定域枠（ｗｍｅｇ）を外側に所定の距離だけ拡張した拡張試料測定域枠（Ｗｍｅｇ）を設定する拡張試料測定域枠設定部であり、
以上のように構成されたことを特徴とする前記第１０の発明に記載の測定装置である。
拡張試料測定域枠設定部が設けられ、
前記拡張試料測定域枠設定部は、
前記試料測定域枠（ｗｍｅｇ）を外側に所定の距離だけ拡張した拡張試料測定域枠（Ｗｍｅｇ）を設定する拡張試料測定域枠設定部であり、
以上のように構成されたことを特徴とする前記第１０の発明に記載の測定装置である。
【0018】
＜第１２の発明＞
前記試料測定域枠抽出部は、
前記試料測定域枠（ｗｍｒ）または前記拡張試料測定域枠（Ｗｍｅｇ）の表す域線を外域枠（Ｏｕｆ）とし、
前記試料（Ｗ）の内側の一部を非測定域とするための内域枠（Ｉｎｆ）を特定し、
前記内域枠（Ｉｎｆ）の内側部分を非測定域（Ｎｏｒ）とし、
前記外域枠（Ｏｕｆ）と前記内域枠（Ｉｎｆ）の間に形成される域枠部分を測定域（Ｍｅｒ）とした試料測定域枠（ｗｍｈ）を抽出する試料測定域枠抽出部であり、
以上のように構成されたことを特徴とする前記第９の発明、第１０の発明又は前記第１１発明に記載の測定装置である。
前記試料測定域枠抽出部は、
前記試料測定域枠（ｗｍｒ）または前記拡張試料測定域枠（Ｗｍｅｇ）の表す域線を外域枠（Ｏｕｆ）とし、
前記試料（Ｗ）の内側の一部を非測定域とするための内域枠（Ｉｎｆ）を特定し、
前記内域枠（Ｉｎｆ）の内側部分を非測定域（Ｎｏｒ）とし、
前記外域枠（Ｏｕｆ）と前記内域枠（Ｉｎｆ）の間に形成される域枠部分を測定域（Ｍｅｒ）とした試料測定域枠（ｗｍｈ）を抽出する試料測定域枠抽出部であり、
以上のように構成されたことを特徴とする前記第９の発明、第１０の発明又は前記第１１発明に記載の測定装置である。
【0019】
＜第１３の発明＞
報知部（２９）が設けられ、
前記Ｘ軸内壁、前記Ｙ軸内壁のいずれかを有する形態においては、前記Ｘ軸内壁又は前記Ｙ軸内壁に前記試料（Ｗ）が当たっていないことを前記報知部（２９）は報知し、
前記Ｘ軸内壁及び前記Ｙ軸内壁を有する形態においては、前記Ｘ軸内壁及び前記Ｙ軸内壁に前記試料（Ｗ）が当たっていないことを前記報知部（２９）は報知し、
以上のように構成されたことを特徴とする前記第３の発明～第１０の発明又は第１１の発明に記載の測定装置である。
報知部（２９）が設けられ、
前記Ｘ軸内壁、前記Ｙ軸内壁のいずれかを有する形態においては、前記Ｘ軸内壁又は前記Ｙ軸内壁に前記試料（Ｗ）が当たっていないことを前記報知部（２９）は報知し、
前記Ｘ軸内壁及び前記Ｙ軸内壁を有する形態においては、前記Ｘ軸内壁及び前記Ｙ軸内壁に前記試料（Ｗ）が当たっていないことを前記報知部（２９）は報知し、
以上のように構成されたことを特徴とする前記第３の発明～第１０の発明又は第１１の発明に記載の測定装置である。
【0020】
＜第１４の発明＞
透明テーブル（２）の下方に設けられた照射部（３）から、前記透明テーブル（２）の上面に載置した試料（Ｗ）に向けて前記透明テーブル（２）を透過する照射光を照射し、その照射光の前記試料（Ｗ）の測定面からの反射光である試料反射光を前記透明テーブル（２）の下方に設けられた受光部（４）で受光し、その受光情報である試料受光情報（Ｗｒｉ）を処理して、前記試料（Ｗ）の測定面の各座標位置（ｘ、ｙ）における高さを示すデータである試料測定面高さデータを生成する測定装置であって、
前記受光部（４）側を正面とし該正面から見た試料（Ｗ）側の表面を表す図である正面図において、
前記透明テーブル（２）の上部に設けられた、Ｘ軸方向の内壁であるＸ軸内壁又はＹ軸方向の内壁であるＹ軸内壁を有し、前記試料（Ｗ）を前記Ｘ軸内壁又は前記Ｙ軸内壁に当てた位置決め状態で、前記透明テーブル（２）の上面に載置可能としている位置決め部と、
前記Ｘ軸内壁の縁部位の位置をＸ軸縁位置線とし、又は、前記Ｙ軸内壁の縁部位の位置をＹ軸縁位置線とし、前記Ｘ軸縁位置線又は前記Ｙ軸縁位置線を予め記憶している縁線記憶部と、
前記試料（Ｗ）の試料（Ｗ）の一部分の測定域枠である試料部分域枠（ｗｔｒ）を特定する試料部分域枠特定部と、
前記試料部分域枠（ｗｔｒ）の特定操作前又は自動特定前に、前記Ｘ軸内壁又は前記Ｙ軸内壁に前記試料（Ｗ）が当たっていないことを報知する報知部（２９）と、を備えたことを特徴とする測定装置である。
透明テーブル（２）の下方に設けられた照射部（３）から、前記透明テーブル（２）の上面に載置した試料（Ｗ）に向けて前記透明テーブル（２）を透過する照射光を照射し、その照射光の前記試料（Ｗ）の測定面からの反射光である試料反射光を前記透明テーブル（２）の下方に設けられた受光部（４）で受光し、その受光情報である試料受光情報（Ｗｒｉ）を処理して、前記試料（Ｗ）の測定面の各座標位置（ｘ、ｙ）における高さを示すデータである試料測定面高さデータを生成する測定装置であって、
前記受光部（４）側を正面とし該正面から見た試料（Ｗ）側の表面を表す図である正面図において、
前記透明テーブル（２）の上部に設けられた、Ｘ軸方向の内壁であるＸ軸内壁又はＹ軸方向の内壁であるＹ軸内壁を有し、前記試料（Ｗ）を前記Ｘ軸内壁又は前記Ｙ軸内壁に当てた位置決め状態で、前記透明テーブル（２）の上面に載置可能としている位置決め部と、
前記Ｘ軸内壁の縁部位の位置をＸ軸縁位置線とし、又は、前記Ｙ軸内壁の縁部位の位置をＹ軸縁位置線とし、前記Ｘ軸縁位置線又は前記Ｙ軸縁位置線を予め記憶している縁線記憶部と、
前記試料（Ｗ）の試料（Ｗ）の一部分の測定域枠である試料部分域枠（ｗｔｒ）を特定する試料部分域枠特定部と、
前記試料部分域枠（ｗｔｒ）の特定操作前又は自動特定前に、前記Ｘ軸内壁又は前記Ｙ軸内壁に前記試料（Ｗ）が当たっていないことを報知する報知部（２９）と、を備えたことを特徴とする測定装置である。
【0021】
＜第１５の発明＞
透明テーブル（２）の下方に設けられた照射部（３）から、前記透明テーブル（２）の上面に載置した試料（Ｗ）に向けて前記透明テーブル（２）を透過する照射光を照射し、その照射光の前記試料（Ｗ）の測定面からの反射光である試料反射光を前記透明テーブル（２）の下方に設けられた受光部（４）で受光し、その受光情報である試料受光情報（Ｗｒｉ）を処理して、前記試料（Ｗ）の測定面の各座標位置（ｘ、ｙ）における高さを示すデータである試料測定面高さデータを生成する測定装置であって、
前記受光部（４）側を正面とし該正面から見た試料（Ｗ）側の表面を表す図である正面図において、
前記透明テーブル（２）の上部に設けられた、Ｘ軸方向の内壁であるＸ軸内壁を有し、Ｙ軸方向の内壁であるＹ軸内壁を有し、前記試料（Ｗ）を前記Ｘ軸内壁及び前記Ｙ軸内壁に当てた位置決め状態で、前記透明テーブル（２）の上面に載置可能としている位置決め部と、
前記照射部（３）及び前記受光部（４）の走査域の受光情報である走査域受光情報（ｓｚｄ）の示す走査域（ｓｚ）よりも狭い域枠であり、かつ、前記試料（Ｗ）の全ての部位が入る域枠である試料測定域枠（ｗｍｒ）を抽出する試料測定域枠抽出部と、
前記Ｘ軸内壁の縁部位の位置をＸ軸縁位置線とし、前記Ｙ軸内壁の縁部位の位置をＹ軸縁位置線とし、前記Ｘ軸縁位置線及び前記Ｙ軸縁位置線を予め記憶している縁線記憶部と、を備えるとともに、
前記試料測定域枠抽出部は、
前記Ｘ軸縁位置線を、前記試料（Ｗ）の下側における最も外側に突出した部位である試料下側突出部位（１０３）の位置、又は、前記試料（Ｗ）の上側における最も外側に突出した部位である試料上側突出部位（１０４）の位置とし、
前記Ｙ軸縁位置線を、前記試料（Ｗ）の右側における最も外側に突出した部位である試料右側突出部位（１０２）の位置、又は、前記試料（Ｗ）の左側における最も外側に突出した部位である試料左側突出部位（１０１）の位置とし、
前記Ｘ軸内壁に当たっていない側に設定されたＸ軸線をＸ軸非縁線とし、
前記Ｙ軸内壁に当たっていない側に設定されたＹ軸線をＹ軸非縁線とし、
前記Ｘ軸縁位置線、前記Ｙ軸縁位置線、前記Ｘ軸非縁線及び前記Ｙ軸非縁線により、前記試料測定域枠を抽出する試料測定域枠抽出部であり、
前記Ｘ軸縁位置線及び前記Ｙ軸縁位置線を固定線として、前記Ｘ軸非縁線及び前記Ｙ軸非縁線が自動的に設定される又はオペレーターが手動操作により設定可能とした、
以上のように構成されたことを特徴とする測定装置である。
透明テーブル（２）の下方に設けられた照射部（３）から、前記透明テーブル（２）の上面に載置した試料（Ｗ）に向けて前記透明テーブル（２）を透過する照射光を照射し、その照射光の前記試料（Ｗ）の測定面からの反射光である試料反射光を前記透明テーブル（２）の下方に設けられた受光部（４）で受光し、その受光情報である試料受光情報（Ｗｒｉ）を処理して、前記試料（Ｗ）の測定面の各座標位置（ｘ、ｙ）における高さを示すデータである試料測定面高さデータを生成する測定装置であって、
前記受光部（４）側を正面とし該正面から見た試料（Ｗ）側の表面を表す図である正面図において、
前記透明テーブル（２）の上部に設けられた、Ｘ軸方向の内壁であるＸ軸内壁を有し、Ｙ軸方向の内壁であるＹ軸内壁を有し、前記試料（Ｗ）を前記Ｘ軸内壁及び前記Ｙ軸内壁に当てた位置決め状態で、前記透明テーブル（２）の上面に載置可能としている位置決め部と、
前記照射部（３）及び前記受光部（４）の走査域の受光情報である走査域受光情報（ｓｚｄ）の示す走査域（ｓｚ）よりも狭い域枠であり、かつ、前記試料（Ｗ）の全ての部位が入る域枠である試料測定域枠（ｗｍｒ）を抽出する試料測定域枠抽出部と、
前記Ｘ軸内壁の縁部位の位置をＸ軸縁位置線とし、前記Ｙ軸内壁の縁部位の位置をＹ軸縁位置線とし、前記Ｘ軸縁位置線及び前記Ｙ軸縁位置線を予め記憶している縁線記憶部と、を備えるとともに、
前記試料測定域枠抽出部は、
前記Ｘ軸縁位置線を、前記試料（Ｗ）の下側における最も外側に突出した部位である試料下側突出部位（１０３）の位置、又は、前記試料（Ｗ）の上側における最も外側に突出した部位である試料上側突出部位（１０４）の位置とし、
前記Ｙ軸縁位置線を、前記試料（Ｗ）の右側における最も外側に突出した部位である試料右側突出部位（１０２）の位置、又は、前記試料（Ｗ）の左側における最も外側に突出した部位である試料左側突出部位（１０１）の位置とし、
前記Ｘ軸内壁に当たっていない側に設定されたＸ軸線をＸ軸非縁線とし、
前記Ｙ軸内壁に当たっていない側に設定されたＹ軸線をＹ軸非縁線とし、
前記Ｘ軸縁位置線、前記Ｙ軸縁位置線、前記Ｘ軸非縁線及び前記Ｙ軸非縁線により、前記試料測定域枠を抽出する試料測定域枠抽出部であり、
前記Ｘ軸縁位置線及び前記Ｙ軸縁位置線を固定線として、前記Ｘ軸非縁線及び前記Ｙ軸非縁線が自動的に設定される又はオペレーターが手動操作により設定可能とした、
以上のように構成されたことを特徴とする測定装置である。
【発明の効果】
【0022】
以上の説明から明らかなように、本発明にあっては次に列挙する効果が得られる。
＜第１の発明の効果＞
試料（Ｗ）の各側部の最も外側に突出した部位を自動特定し、かつ、その軸線である左縦線（ｌｙｒ）、右縦線（ｒｙｒ）、下横線（ｎｘｒ）、上横線（ｐｘｒ）を自動特定し、左縦線（ｌｙｒ）、右縦線（ｒｙｒ）、下横線（ｎｘｒ）、上横線（ｐｘｒ）により試料（Ｗ）のすべての部位を測定域内とした最小域の試料測定域枠（ｗｍｒ）を効率的かつ正確に自動抽出するとい作用効果を奏するものであるので、オペレーターが試料（Ｗ）のすべての部位を含む域を指定する煩雑な手動操作を必要としない、高効率且つ正確な試料測定域抽出機能を有する測定装置を実現する。
また、試料（Ｗ）の域外にある埃、塵、汚れ、傷などのノイズを測定から除外できる。
＜第１の発明の効果＞
試料（Ｗ）の各側部の最も外側に突出した部位を自動特定し、かつ、その軸線である左縦線（ｌｙｒ）、右縦線（ｒｙｒ）、下横線（ｎｘｒ）、上横線（ｐｘｒ）を自動特定し、左縦線（ｌｙｒ）、右縦線（ｒｙｒ）、下横線（ｎｘｒ）、上横線（ｐｘｒ）により試料（Ｗ）のすべての部位を測定域内とした最小域の試料測定域枠（ｗｍｒ）を効率的かつ正確に自動抽出するとい作用効果を奏するものであるので、オペレーターが試料（Ｗ）のすべての部位を含む域を指定する煩雑な手動操作を必要としない、高効率且つ正確な試料測定域抽出機能を有する測定装置を実現する。
また、試料（Ｗ）の域外にある埃、塵、汚れ、傷などのノイズを測定から除外できる。
【0023】
＜第２の発明の効果＞
前記第１の発明と同様な効果を奏するとともに、試料（Ｗ）のすべての部位が入る最小域枠よりも、例えば僅かに大きな域枠にすることが可能であるので、試料（Ｗ）の全ての部分が入っているという安心感をオペレーターに与えることができる。
特に、後で測定する同一の試料の試料測定域枠として使用する場合、前の試料と後の試料とでは最も外側に突出した部位の位置及び突出長さが異なることが少なくないものであるので、前に記憶した試料測定域枠を拡張試料測定域枠（Ｗｍｒ）とすることで、同一試料において突出した部位のバラツキがあっても該試料の全域の測定を保証できる。
また、拡張試料測定域枠（Ｗｍｒ）の外に突出した部位が発見された試料は不良などと判定することも可能とできる。
前記第１の発明と同様な効果を奏するとともに、試料（Ｗ）のすべての部位が入る最小域枠よりも、例えば僅かに大きな域枠にすることが可能であるので、試料（Ｗ）の全ての部分が入っているという安心感をオペレーターに与えることができる。
特に、後で測定する同一の試料の試料測定域枠として使用する場合、前の試料と後の試料とでは最も外側に突出した部位の位置及び突出長さが異なることが少なくないものであるので、前に記憶した試料測定域枠を拡張試料測定域枠（Ｗｍｒ）とすることで、同一試料において突出した部位のバラツキがあっても該試料の全域の測定を保証できる。
また、拡張試料測定域枠（Ｗｍｒ）の外に突出した部位が発見された試料は不良などと判定することも可能とできる。
【0024】
＜第３の発明の効果＞
Ｘ軸内壁の縁部位の位置をＸ軸縁位置線とし、又は、Ｙ軸内壁の縁部位の位置をＹ軸縁位置線とし、Ｘ軸縁位置線又はＹ軸縁位置線を予め記憶しておき、位置決め部に当たっていない試料突出部位を通る横線又は縦線、Ｘ軸縁位置線又はＹ軸縁位置線によって形成された試料測定域枠（ｗｍｒ）を抽出するものであるから、固定されている位置決め部の内縁を表すＸ軸縁位置線及びＹ軸縁位置線は、一種の固定基準線であるので、位置決め部の内壁に当たっている試料（Ｗ）の突出部位の特定処理を行わない処理を実現するものであり、その分情報処理量を少なくでき、効率的かつ正確な試料測定域枠（ｗｍｒ）の抽出を実現する。
また、位置決め部の内壁に試料（Ｗ）が当たっているかを知ることを可能とできる。
Ｘ軸内壁の縁部位の位置をＸ軸縁位置線とし、又は、Ｙ軸内壁の縁部位の位置をＹ軸縁位置線とし、Ｘ軸縁位置線又はＹ軸縁位置線を予め記憶しておき、位置決め部に当たっていない試料突出部位を通る横線又は縦線、Ｘ軸縁位置線又はＹ軸縁位置線によって形成された試料測定域枠（ｗｍｒ）を抽出するものであるから、固定されている位置決め部の内縁を表すＸ軸縁位置線及びＹ軸縁位置線は、一種の固定基準線であるので、位置決め部の内壁に当たっている試料（Ｗ）の突出部位の特定処理を行わない処理を実現するものであり、その分情報処理量を少なくでき、効率的かつ正確な試料測定域枠（ｗｍｒ）の抽出を実現する。
また、位置決め部の内壁に試料（Ｗ）が当たっているかを知ることを可能とできる。
【0025】
＜第４の発明の効果＞
前記第３の発明と同様な効果を奏するとともに、Ｘ軸縁位置線及びＹ軸縁位置線が予め記憶されているものであるので、位置決め部の内壁に当たっている試料（Ｗ）の２箇所の突出部位の特定処理を行わない処理を実現するものであり、その分情報処理量を少なくできる。
前記第３の発明と同様な効果を奏するとともに、Ｘ軸縁位置線及びＹ軸縁位置線が予め記憶されているものであるので、位置決め部の内壁に当たっている試料（Ｗ）の２箇所の突出部位の特定処理を行わない処理を実現するものであり、その分情報処理量を少なくできる。
【0026】
＜第５の発明の効果＞
前記第３の３の発明又は前記第４の発明と同様な効果を奏するとともに、試料（Ｗ）のすべての部位が入る最小域枠よりも所定距離だけ大きな拡張試料測定域枠（Ｗｍｒ）とすることで、後でセット測定する試料（Ｗ）が突出部位のバラツキがあっても所定範囲のバラツキのものは拡張試料測定域枠（Ｗｍｒ）の範囲で全域を測定できる。
また、拡張試料測定域枠（Ｗｍｒ）からはみ出る突出部位を有する試料（Ｗ）を不良とすることを可能とする。
前記第３の３の発明又は前記第４の発明と同様な効果を奏するとともに、試料（Ｗ）のすべての部位が入る最小域枠よりも所定距離だけ大きな拡張試料測定域枠（Ｗｍｒ）とすることで、後でセット測定する試料（Ｗ）が突出部位のバラツキがあっても所定範囲のバラツキのものは拡張試料測定域枠（Ｗｍｒ）の範囲で全域を測定できる。
また、拡張試料測定域枠（Ｗｍｒ）からはみ出る突出部位を有する試料（Ｗ）を不良とすることを可能とする。
【0027】
＜第６の発明の効果＞
前記第３、４の発明又は前記第５の発明と同様な効果を奏するとともに、Ｘ軸内壁とＹ軸内壁に試料Ｗが当たっているのか、それとも当たっていないのかを、目視で確認することができるという作用効果を奏する。
当たっていない場合は、試料（Ｗ）の位置決めをやり直して、再測定を行うことを可能とする。
前記第３、４の発明又は前記第５の発明と同様な効果を奏するとともに、Ｘ軸内壁とＹ軸内壁に試料Ｗが当たっているのか、それとも当たっていないのかを、目視で確認することができるという作用効果を奏する。
当たっていない場合は、試料（Ｗ）の位置決めをやり直して、再測定を行うことを可能とする。
【0028】
＜第７の発明の効果＞
前記第３～第５又は第６の発明と同様な効果を奏するとともに、試料（Ｗ）の濃淡画像と位置決め部の濃淡画像の境界が判別し難い、手動操作による位置決め部の濃淡画像の消し操作による誤消しなどの問題を解消するという作用効果を奏する。濃淡画像の誤削除等が無いのでオペレーターがその点について不安感を抱くことを解消する。
前記第３～第５又は第６の発明と同様な効果を奏するとともに、試料（Ｗ）の濃淡画像と位置決め部の濃淡画像の境界が判別し難い、手動操作による位置決め部の濃淡画像の消し操作による誤消しなどの問題を解消するという作用効果を奏する。濃淡画像の誤削除等が無いのでオペレーターがその点について不安感を抱くことを解消する。
【0029】
＜第８の発明の効果＞
Ｘ軸縁位置線及びＹ軸縁位置線を固定基準線とすることで、Ｘ軸内壁とＹ軸内壁に当たっている試料（Ｗ）の最も外側に突出した２箇所の部位をＸ軸縁位置線、Ｙ軸縁位置線とすることが可能とできるので、前記第４の発明と同様な作用効果を奏する。
Ｘ軸縁位置線及びＹ軸縁位置線を固定基準線とすることで、Ｘ軸内壁とＹ軸内壁に当たっている試料（Ｗ）の最も外側に突出した２箇所の部位をＸ軸縁位置線、Ｙ軸縁位置線とすることが可能とできるので、前記第４の発明と同様な作用効果を奏する。
【0030】
＜第９の発明の効果＞
前記第１の発明～第７の発明又は第８の発明と同様な作用効果を奏するとともに、測定不要の範囲の内域枠（Ｉｎｆ）の領域が非測定域とされるので、画像処理用域や演算処理域が小さくでき、よって画像処理量や演算処理量がより少なくできる。
前記第１の発明～第７の発明又は第８の発明と同様な作用効果を奏するとともに、測定不要の範囲の内域枠（Ｉｎｆ）の領域が非測定域とされるので、画像処理用域や演算処理域が小さくでき、よって画像処理量や演算処理量がより少なくできる。
【0031】
＜第１０の発明の効果＞
試料（Ｗ）の画像情報から抽出した試料（Ｗ）のエッジによってあらわされる試料測定域枠（ｗｍｅｇ）のみを、各座標位置（ｘ、ｙ）における高さ距離特定域とすることで、情報処理量を小さくできる。
試料（Ｗ）の画像情報から抽出した試料（Ｗ）のエッジによってあらわされる試料測定域枠（ｗｍｅｇ）のみを、各座標位置（ｘ、ｙ）における高さ距離特定域とすることで、情報処理量を小さくできる。
【0032】
＜第１１の発明の効果＞
前記第１０の発明と同様な効果を奏するとともに、試料（Ｗ）のすべての部位が入る最小域枠よりも所定距離だけ大きな拡張試料測定域枠（Ｗｍｅｇ）とすることで、突出部位のバラツキがあっても所定範囲のバラツキのものは拡張試料測定域枠（Ｗｍｅｇ）の範囲で全域を測定できる。
また、拡張試料測定域枠（Ｗｍｅｇ）からはみ出る突出部位を有する試料を不良とすることを可能とする。
前記第１０の発明と同様な効果を奏するとともに、試料（Ｗ）のすべての部位が入る最小域枠よりも所定距離だけ大きな拡張試料測定域枠（Ｗｍｅｇ）とすることで、突出部位のバラツキがあっても所定範囲のバラツキのものは拡張試料測定域枠（Ｗｍｅｇ）の範囲で全域を測定できる。
また、拡張試料測定域枠（Ｗｍｅｇ）からはみ出る突出部位を有する試料を不良とすることを可能とする。
【0033】
＜第１２の発明の効果＞
前記第９の発明、第１０の発明又は前記第１１発明と同様な効果を奏するとともに、測定不要の範囲の内域枠（Ｉｎｆ）の領域が非測定域とされるので、画像処理用域や演算処理域が小さくでき、よって画像処理量や演算処理量がより少なくできる。
前記第９の発明、第１０の発明又は前記第１１発明と同様な効果を奏するとともに、測定不要の範囲の内域枠（Ｉｎｆ）の領域が非測定域とされるので、画像処理用域や演算処理域が小さくでき、よって画像処理量や演算処理量がより少なくできる。
【0034】
＜第１３の発明の効果＞
前記第３の発明～第１０の発明又は第１１の発明と同様な効果を奏するとともに、位置決め部の内壁に試料（Ｗ）が当たっていないことを報知部（２９）の報知により知ることが可能となる。
前記第３の発明～第１０の発明又は第１１の発明と同様な効果を奏するとともに、位置決め部の内壁に試料（Ｗ）が当たっていないことを報知部（２９）の報知により知ることが可能となる。
【0035】
＜第１４の発明の効果＞
前記第１３の発明と同様な効果を奏するとともに、試料（Ｗ）の一部分の測定域枠である試料部分域枠（ｗｔｒ）の特定操作前又は自動特定前に報知されるので、試料部分域枠（ｗｔｒ）の特定操作又は自動特定を実行するかしないかの判断を可能とする。
前記第１３の発明と同様な効果を奏するとともに、試料（Ｗ）の一部分の測定域枠である試料部分域枠（ｗｔｒ）の特定操作前又は自動特定前に報知されるので、試料部分域枠（ｗｔｒ）の特定操作又は自動特定を実行するかしないかの判断を可能とする。
【0036】
＜第１５の発明の効果＞
前記第３の発明と同様な効果を奏するとともに、Ｘ軸縁位置線及びＹ軸縁位置線を固定線とした形態でＸ軸非縁線及びＹ軸非縁線の設定を、例えば、その測定目的等に応じてオペレーターが好みの位置に設定することを可能とする。
前記第３の発明と同様な効果を奏するとともに、Ｘ軸縁位置線及びＹ軸縁位置線を固定線とした形態でＸ軸非縁線及びＹ軸非縁線の設定を、例えば、その測定目的等に応じてオペレーターが好みの位置に設定することを可能とする。
【図面の簡単な説明】
【0037】
【図1】本発明の実施例１のブロック図。
【図2】本発明の実施例１の試料測定域枠抽出部の処理動作を示すフローチャート。
【図3】本発明の実施例１の透明テーブル上面に試料を載置した状態の正面図。
【図4】本発明の実施例１の走査域濃淡画像及び試料測定域枠の抽出をディスプレイに表示した例で示す正面図。
【図6】本発明の実施例１の拡張試料測定域枠の抽出をディスプレイに表示した例で示す正面図。
【図7】本発明の実施例１の試料部分域枠の抽出をディスプレイに表示した例で示す正面図。
【図8】本発明の実施例２のブロック図。
【図9】本発明の実施例２の試料測定域枠抽出部の処理動作を示すフローチャート。
【図10】本発明の実施例２の透明テーブル上面に試料を載置した状態の正面図。
【図11】本発明の実施例２の走査域濃淡画像をディスプレイに表示した例で示す正面図。
【図12】本発明の実施例２の走査域濃淡画像、試料測定域枠の抽出及び試料部分域枠の抽出をディスプレイに表示した例で示す正面図。
【図13】本発明の実施例２の試料を４個セットした状態の正面図。
【図16】本発明の実施例２の位置決め部の縁線を特定する方法例を示す正面図。
【図17】本発明の実施例３の試料測定域枠の抽出をディスプレイに表示した例で示す正面図。
【図18】本発明の実施例３の試料測定域枠抽出部の処理動作を示すフローチャート。
【図19】本発明の実施例４の拡張試料測定域枠の抽出をディスプレイに表示した例で示す正面図。
【図20】本発明の実施例４のブロック図。
【図21】本発明の実施例４の試料測定域枠抽出部の処理動作を示すフローチャート。
【図22】本発明の実施例５の拡大試料測定域枠の抽出をディスプレイに表示した例で示す正面図。
【図23】本発明の実施例５の試料測定域枠抽出部の処理動作を示すフローチャート。
【図24】本発明の実施例６の試料を載置した状態の正面図。
【図25】本発明の実施例６の試料測定域枠の抽出をディスプレイに表示した例で示す正面図。
【図26】本発明の実施例７の試料部分域枠の抽出をディスプレイに表示した例で示す正面図。
【図27】本発明の実施例８をディスプレイに表示した例で示す正面図。
【発明を実施するための形態】
【0038】
以下、本発明を実施するための最良の形態である実施例について説明する。但し、本発明をこれら実施例のみに限定する趣旨のものではない。また、後述する実施例の説明に当たって、前述した実施例の同一構成部分には同一符号を付して重複する説明を省略する。
【0039】
＜実施例及び図面による説明の定義＞
光センサユニット１７側を正面とし、光センサユニット１７側（正面）から試料Ｗ側（表面側）を見た図を正面図として説明する。
正面図における、Ｘ軸上の左側を「左」とし、Ｘ軸上の右側を「右」とし、Ｙ軸上の下側を「下」とし、Ｙ軸上の上側を「上」として、説明する。
また、ＸＹ平面とは、Ｘ軸とＹ軸が乗っている平面のことである。
光センサユニット１７側を正面とし、光センサユニット１７側（正面）から試料Ｗ側（表面側）を見た図を正面図として説明する。
正面図における、Ｘ軸上の左側を「左」とし、Ｘ軸上の右側を「右」とし、Ｙ軸上の下側を「下」とし、Ｙ軸上の上側を「上」として、説明する。
また、ＸＹ平面とは、Ｘ軸とＹ軸が乗っている平面のことである。
【実施例0040】
図１～図７に示す本発明の実施例１において、測定装置１は、透明テーブル２の下方に配置された光を照射する照射部３から、透明テーブル２の上面に載置した試料Ｗに向けて透明テーブル２を透過する照射光を照射し、その照射光の試料Ｗの測定面（表面）からの反射光である試料反射光を透明テーブル２の下方に設けられた受光部４で受光し、その受光情報である試料受光情報Ｗｒｉを処理して、試料Ｗの測定面（表面）の各座標位置（ｘ、ｙ）における高さを示すデータである試料測定面高さデータを生成する測定装置であって、
照射部３及び受光部４の走査全域の受光情報である走査域受光情報ｓｚｄの示す走査域ｓｚよりも狭い域枠であり、かつ、試料Ｗの全ての部位が入る域枠である試料測定域枠ｗｍｒを、自動的に形成して抽出する試料測定域枠抽出部５を備えた構成であるものである。
走査域ｓｚは走査全域の受光情報でなくてもよい。例えば、全走査域から予め決めてある該走査全域よりも狭い指定域の受光情報でもよい。
照射部３及び受光部４の走査全域の受光情報である走査域受光情報ｓｚｄの示す走査域ｓｚよりも狭い域枠であり、かつ、試料Ｗの全ての部位が入る域枠である試料測定域枠ｗｍｒを、自動的に形成して抽出する試料測定域枠抽出部５を備えた構成であるものである。
走査域ｓｚは走査全域の受光情報でなくてもよい。例えば、全走査域から予め決めてある該走査全域よりも狭い指定域の受光情報でもよい。
【0041】
透明テーブル２の透過度は、照射部３からの照射光（例えばレーザ光線）は透過してしまい、受光部４が受光するレベルの反射光が生じない透過度としているので、透明テーブル２の部分の受光データはデータ無し（存在しない）である。
【0042】
透明テーブル２を固定とし、受光部４と照射部３とを備えた光センサユニット１７が、透明テーブル２の下方にＸ軸方向及びＹ軸方向に移動走査するように設けられている。光センサユニット１７を固定とし、透明テーブル２がＸ軸方向及びＹ軸方向に移動する走査形態とするのもよい。
走査域受光情報ｓｚｄは走査域受光情報記憶部１８に記憶され、走査域受光情報ｓｚｄを処理して試料の各座標位置（ｘ、ｙ）における輝度レベルを表す濃淡画像情報、又は、高さレベルをあらわす濃淡画像情報（以下「濃淡画像」又は「濃淡画像情報」という。）である走査域濃淡画像情報ｓｚｉが試料測定域枠抽出部５に送られ、試料測定域枠抽出部５は走査域濃淡画像情報ｓｚｉの内の試料Ｗの濃淡画像情報である試料濃淡画像情報Ｗｉｄ（試料濃淡画像情報Ｗｉｄで表される画像は試料濃淡画像Ｗｉである。）を処理して試料の測定域枠である試料測定域枠ｗｍｒを、自動的に形成して抽出する。試料測定域枠ｗｍｒを表すデータである試料測定域枠データｗｍｄは試料測定域枠データ記憶部２０に記憶される。
前記高さレベルをあらわす濃淡画像情報は、カラー濃淡画像情報又は白黒濃淡画像情報（例えば２５６諧調ないしそれ以上の諧調）などである。
試料測定域枠ｗｍｒの抽出は、処理情報を可能な限り少なくすることを目的としているものであるので、条件の許される限り狭い抽出範囲域（抽出面積）とされる。
走査域受光情報ｓｚｄは走査域受光情報記憶部１８に記憶され、走査域受光情報ｓｚｄを処理して試料の各座標位置（ｘ、ｙ）における輝度レベルを表す濃淡画像情報、又は、高さレベルをあらわす濃淡画像情報（以下「濃淡画像」又は「濃淡画像情報」という。）である走査域濃淡画像情報ｓｚｉが試料測定域枠抽出部５に送られ、試料測定域枠抽出部５は走査域濃淡画像情報ｓｚｉの内の試料Ｗの濃淡画像情報である試料濃淡画像情報Ｗｉｄ（試料濃淡画像情報Ｗｉｄで表される画像は試料濃淡画像Ｗｉである。）を処理して試料の測定域枠である試料測定域枠ｗｍｒを、自動的に形成して抽出する。試料測定域枠ｗｍｒを表すデータである試料測定域枠データｗｍｄは試料測定域枠データ記憶部２０に記憶される。
前記高さレベルをあらわす濃淡画像情報は、カラー濃淡画像情報又は白黒濃淡画像情報（例えば２５６諧調ないしそれ以上の諧調）などである。
試料測定域枠ｗｍｒの抽出は、処理情報を可能な限り少なくすることを目的としているものであるので、条件の許される限り狭い抽出範囲域（抽出面積）とされる。
【0043】
＜試料測定域枠抽出部５の構成・処理動作＞
試料測定域枠ｗｍｒを抽出する試料測定域枠抽出部５の構成・処理動作を説明する。
［ｓｔｅｐ１］（図２、図３、図４、図５参照）
試料Ｗの左側における最も外側に突出した部位である試料左側突出部位１０１を、その試料濃淡画像Ｗｉの試料左側突出部位画像情報１０１ｉにより特定し、
［ｓｔｅｐ２］
試料Ｗの右側における最も外側に突出した部位である試料右側突出部位１０２を、その試料濃淡画像Ｗｉの試料右側突出部位画像情報１０２ｉにより特定し、
［ｓｔｅｐ３］
試料Ｗの下側における最も外側に突出した部位である試料下側突出部位１０３を、その試料濃淡画像Ｗｉの試料下側突出部位画像１０３ｉにより特定し、
［ｓｔｅｐ４］
試料Ｗの上側における最も外側に突出した部位である試料上側突出部位１０４を、その試料濃淡画像Ｗｉの試料上側突出部位画像１０４ｉにより特定し、
［ｓｔｅｐ５］
試料左側突出部位画像情報１０１ｉ（試料左側突出部位１０１）の位置を通るＹ軸線であらわした縦線を左縦線ｌｙｒとして特定し、
［ｓｔｅｐ６］
試料右側突出部位画像情報１０２ｉ（試料右側突出部位１０２）の位置を通るＹ軸線であらわした縦線を右縦線ｒｙｒとして特定し、
［ｓｔｅｐ７］
試料下側突出部位画像１０３ｉ（試料下側突出部位１０３）の位置を通るＸ軸線であらわした横線を下横線ｎｘｒとして特定し、
［ｓｔｅｐ８］
試料上側突出部位１０４（試料上側突出部位１０４）の位置を通るＸ軸線であらわした横線を上横線ｐｘｒとして特定し、
［ｓｔｅｐ９］（図２、図５等参照）
左縦線ｌｙｒ、右縦線ｒｙｒ、下横線ｎｘｒ及び上横線ｐｘｒによって形成される域枠（ここでは「閉じ域枠」）を試料測定域枠ｗｍｒとして抽出し、
［ｓｔｅｐ１０］（図１、図２、図６等参照）
拡張試料測定域枠設定部１３において拡張試料測定域枠の設定がされている場合は、所定の距離だけ外側に拡張した拡張試料測定域枠Ｗｍｒを形成して抽出し、
以上の［ｓｔｅｐ１］～［ｓｔｅｐ１０］は自動的に処理される。
試料測定域枠ｗｍｒ又は拡張試料測定域枠Ｗｍｒはディスプレイ１９に表示され、そこに試料濃淡画像Ｗｉも表示されるようになっている、ないし表示可能となっている。（図１、図４、図５、図６等参照）。
図５～図７は、ディスプレイに表示された測定域枠の抽出を示す画像である。このことは、後述する他の実施例についても同様である。
試料測定域枠ｗｍｒを抽出する試料測定域枠抽出部５の構成・処理動作を説明する。
［ｓｔｅｐ１］（図２、図３、図４、図５参照）
試料Ｗの左側における最も外側に突出した部位である試料左側突出部位１０１を、その試料濃淡画像Ｗｉの試料左側突出部位画像情報１０１ｉにより特定し、
［ｓｔｅｐ２］
試料Ｗの右側における最も外側に突出した部位である試料右側突出部位１０２を、その試料濃淡画像Ｗｉの試料右側突出部位画像情報１０２ｉにより特定し、
［ｓｔｅｐ３］
試料Ｗの下側における最も外側に突出した部位である試料下側突出部位１０３を、その試料濃淡画像Ｗｉの試料下側突出部位画像１０３ｉにより特定し、
［ｓｔｅｐ４］
試料Ｗの上側における最も外側に突出した部位である試料上側突出部位１０４を、その試料濃淡画像Ｗｉの試料上側突出部位画像１０４ｉにより特定し、
［ｓｔｅｐ５］
試料左側突出部位画像情報１０１ｉ（試料左側突出部位１０１）の位置を通るＹ軸線であらわした縦線を左縦線ｌｙｒとして特定し、
［ｓｔｅｐ６］
試料右側突出部位画像情報１０２ｉ（試料右側突出部位１０２）の位置を通るＹ軸線であらわした縦線を右縦線ｒｙｒとして特定し、
［ｓｔｅｐ７］
試料下側突出部位画像１０３ｉ（試料下側突出部位１０３）の位置を通るＸ軸線であらわした横線を下横線ｎｘｒとして特定し、
［ｓｔｅｐ８］
試料上側突出部位１０４（試料上側突出部位１０４）の位置を通るＸ軸線であらわした横線を上横線ｐｘｒとして特定し、
［ｓｔｅｐ９］（図２、図５等参照）
左縦線ｌｙｒ、右縦線ｒｙｒ、下横線ｎｘｒ及び上横線ｐｘｒによって形成される域枠（ここでは「閉じ域枠」）を試料測定域枠ｗｍｒとして抽出し、
［ｓｔｅｐ１０］（図１、図２、図６等参照）
拡張試料測定域枠設定部１３において拡張試料測定域枠の設定がされている場合は、所定の距離だけ外側に拡張した拡張試料測定域枠Ｗｍｒを形成して抽出し、
以上の［ｓｔｅｐ１］～［ｓｔｅｐ１０］は自動的に処理される。
試料測定域枠ｗｍｒ又は拡張試料測定域枠Ｗｍｒはディスプレイ１９に表示され、そこに試料濃淡画像Ｗｉも表示されるようになっている、ないし表示可能となっている。（図１、図４、図５、図６等参照）。
図５～図７は、ディスプレイに表示された測定域枠の抽出を示す画像である。このことは、後述する他の実施例についても同様である。
【0044】
＜試料表面の３Ｄデータの生成＞（図１等参照）
試料測定域枠データｗｍｄは、試料測定域枠高さ情報生成部２３に自動的に送られ、試料測定域枠高さ情報生成部２３は、試料測定域枠データｗｍｄのみにおける、試料Ｗの表面の各座標位置（ｘ、ｙ）における高さデータである試料高さデータｗｈｄを生成する。
試料高さデータｗｈｄにもとづいて平坦度判定部２６において、平坦度の良否を判定することが可能となっている。
試料高さデータｗｈｄは基準位置からの距離であるので、試料Ｗの表面の表面形状を３次元で表すことができる表面形状データＷ３Ｄｄであり、該表面形状データＷ３Ｄｄによりディスプレイ１９に試料Ｗの表面の３Ｄ画像を表示させることができる。
かかる３Ｄ画像は、高さ毎に色分けされた形態ないし濃度分けされた形態で表示される。
基準位置は、光センサユニット１７側の基準位置、透明テーブル上面位置の位置、テーブル上面に設けた反射部材の表面の位置、又は、試料Ｗの透明テーブル上面に当たっている部位の位置などである。この中で好ましいのは、図では示していないが、テーブル上面に設けた反射部材の表面の位置を基準位置とするのがよい。
試料測定域枠データｗｍｄは、試料測定域枠高さ情報生成部２３に自動的に送られ、試料測定域枠高さ情報生成部２３は、試料測定域枠データｗｍｄのみにおける、試料Ｗの表面の各座標位置（ｘ、ｙ）における高さデータである試料高さデータｗｈｄを生成する。
試料高さデータｗｈｄにもとづいて平坦度判定部２６において、平坦度の良否を判定することが可能となっている。
試料高さデータｗｈｄは基準位置からの距離であるので、試料Ｗの表面の表面形状を３次元で表すことができる表面形状データＷ３Ｄｄであり、該表面形状データＷ３Ｄｄによりディスプレイ１９に試料Ｗの表面の３Ｄ画像を表示させることができる。
かかる３Ｄ画像は、高さ毎に色分けされた形態ないし濃度分けされた形態で表示される。
基準位置は、光センサユニット１７側の基準位置、透明テーブル上面位置の位置、テーブル上面に設けた反射部材の表面の位置、又は、試料Ｗの透明テーブル上面に当たっている部位の位置などである。この中で好ましいのは、図では示していないが、テーブル上面に設けた反射部材の表面の位置を基準位置とするのがよい。
【0045】
＜試料部分域枠ｗｔｒの特定→平坦度判定＞（図１、図７等参照）
走査域受光情報ｓｚｄを試料部分域枠特定部２４に自動的ないし手動操作で送られる。
試料部分域枠特定部２４は、試料Ｗの一部分の測定域枠である試料部分域枠ｗｔｒを形成して抽出し、試料部分域枠ｗｔｒを表すデータである試料部分域枠データｗｔｄを記憶する。
試料部分域枠データｗｔｄは試料部分域枠代表値決定部２５に送られる。
試料部分域枠代表値決定部２５は試料部分域枠ｗｔｒ各々の代表値Ｒｖ（高さデータ）を決定し、各々の代表値Ｒｖの基準面からの平坦度が特定され、判定部２６において所定の平坦度範囲内にあるのかの良否判定がなされる。
試料部分域枠ｗｔｒの各々の高さ情報は、試料部分域枠ｗｔｒ部分のＸＹ平面における、試料Ｗの測定面（表面）の各座標位置（ｘ、ｙ）における高さを示すデータである。
代表値Ｒｖは、最高値、最低値、平均値などである。
走査域受光情報ｓｚｄを試料部分域枠特定部２４に自動的ないし手動操作で送られる。
試料部分域枠特定部２４は、試料Ｗの一部分の測定域枠である試料部分域枠ｗｔｒを形成して抽出し、試料部分域枠ｗｔｒを表すデータである試料部分域枠データｗｔｄを記憶する。
試料部分域枠データｗｔｄは試料部分域枠代表値決定部２５に送られる。
試料部分域枠代表値決定部２５は試料部分域枠ｗｔｒ各々の代表値Ｒｖ（高さデータ）を決定し、各々の代表値Ｒｖの基準面からの平坦度が特定され、判定部２６において所定の平坦度範囲内にあるのかの良否判定がなされる。
試料部分域枠ｗｔｒの各々の高さ情報は、試料部分域枠ｗｔｒ部分のＸＹ平面における、試料Ｗの測定面（表面）の各座標位置（ｘ、ｙ）における高さを示すデータである。
代表値Ｒｖは、最高値、最低値、平均値などである。
【0046】
試料部分域枠ｗｔｒの抽出には試料濃淡画像Ｗｉだけでもよいので、試料測定域枠データｗｍｄは試料部分域枠特定部２４に必ずしも送られなくてもよい。
試料部分域枠ｗｔｒの特定は、予め記憶してあるＣＡＤデータ又は事前に取得してあるデータなど既得データによる自動特定をするのもよい。ここでは、ディスプレイ１９に試料濃淡画像Ｗｉを画像表示し、オペレーターがマウス等の手動操作により、試料突起部分ｗｔの画像である試料突起部分画像ｗｔｉを一つ一つ囲い枠で囲う操作によって試料部分域枠ｗｔｒを特定し、該試料部分域枠ｗｔｒの複数による試料部分域枠群ｗｔｒｇを形成している（図１、図７等参照）。
試料突起部分ｗｔとそれ以外の箇所を濃淡画像やカラー画像で識別が困難である場合は、高さを色分けして表現した高さ情報にもとづいて試料突起部分ｗｔの各々の域枠である試料部分域枠ｗｔｒを特定する。
試料部分域枠ｗｔｒの特定は、予め記憶してあるＣＡＤデータ又は事前に取得してあるデータなど既得データによる自動特定をするのもよい。ここでは、ディスプレイ１９に試料濃淡画像Ｗｉを画像表示し、オペレーターがマウス等の手動操作により、試料突起部分ｗｔの画像である試料突起部分画像ｗｔｉを一つ一つ囲い枠で囲う操作によって試料部分域枠ｗｔｒを特定し、該試料部分域枠ｗｔｒの複数による試料部分域枠群ｗｔｒｇを形成している（図１、図７等参照）。
試料突起部分ｗｔとそれ以外の箇所を濃淡画像やカラー画像で識別が困難である場合は、高さを色分けして表現した高さ情報にもとづいて試料突起部分ｗｔの各々の域枠である試料部分域枠ｗｔｒを特定する。
【0047】
自動抽出された試料測定域枠ｗｍｒによって、試料Ｗ全体の各座標位置（ｘ、ｙ）における高さ測定（平坦度の測定を含む）を、試料測定域枠ｗｍｒ内のみの受光情報を処理して実現する。
試料部分域枠ｗｔｒ又は試料部分域枠群ｗｔｒｇによって、試料Ｗの一部分又は該一部分の複数からなる部分群の各座標位置（ｘ、ｙ）における高さ測定（平坦度の測定を含む）を、試料部分域枠ｗｔｒ又は試料部分域枠群ｗｔｒｇのみの受光情報を処理して実現する。
試料部分域枠ｗｔｒ又は試料部分域枠群ｗｔｒｇによって、試料Ｗの一部分又は該一部分の複数からなる部分群の各座標位置（ｘ、ｙ）における高さ測定（平坦度の測定を含む）を、試料部分域枠ｗｔｒ又は試料部分域枠群ｗｔｒｇのみの受光情報を処理して実現する。
【0048】
自動抽出された拡張試料測定域枠Ｗｍｒによって、試料Ｗ全体の各座標位置（ｘ、ｙ）における高さ測定（平坦度の測定を含む）を、拡張試料測定域枠Ｗｍｒ内のみの受光情報を処理して実現する。
【0049】
照射受光ユニット６は、メーカーから提供されている既成の照射受光ユニットを使用することができる。
＜位相シフト法の照射受光ユニット例＞
例えば、位相シフト法を測定手法とした、左右２つのプロジェクタからなる照射部とその中央に設けたカメラ（受光部・光検出部）を備えた、株式会社キーエンス製の「ＸＧ－８０００シリーズＸＲ－ＨＴ４０ＭＤ」の照射受光ユニットがある。これは、試料に対して、左右２つのプロジェクタから高速で投影される複数のストライプパターン（縞模様）を、中央のカメラ（光検出部・受光部）で撮影（受光）して、照射受光ユニット側の基準位置から試料の表面までの各座標位置（ｘ、ｙ）の高さを測定取得し、該各座標位置（ｘ、ｙ）の高さで表される３次元形状データと各座標位置（ｘ、ｙ）における輝度レベルを得ることができる。
＜光切断法の照射受光ユニット例＞
例えば、光切断法を測定手法とした、株式会社キーエンス製の「ＬＪ-Ｖ７０００シリーズ」の照射受光ユニットがある。光切断法は、ライン状の切断面の形状（プロファイル）を取得する方法であるため、試料に対して、光切断を行う切断位置を一方向に連続的に変化させて連続的にプロファイル（ライン状の切断面の形状）を取得し、得られたプロファイルを合成することで３次元形状データを取得する。照射光は４０５ｎｍの青紫色レーザ光線である。
＜共焦点方式の照射受光ユニット例＞
例えば、共焦点方式を測定手法とした、株式会社キーエンス製の「ダブルスキャン高精度レーザ測定器ＬＴ－９０００ シリーズ」がある。これは、共焦点方式による同軸光学系を採用。対象物上で焦点の合った位置を測定する原理で対象物の高さを測定する。この照射受光ユニットをＸＹ方向に走査することで３次元形状データと各座標位置（ｘ、ｙ）における輝度レベルを得ることができる。
以上述べた照射受光ユニット例は一例であって、複数の企業から多様な照射受光ユニットおよびコントローラが提供されている。
これらの企業から提供されている照射受光ユニットおよびコントローラを使用することで、本発明は当業者であれば実施可能である。
＜位相シフト法の照射受光ユニット例＞
例えば、位相シフト法を測定手法とした、左右２つのプロジェクタからなる照射部とその中央に設けたカメラ（受光部・光検出部）を備えた、株式会社キーエンス製の「ＸＧ－８０００シリーズＸＲ－ＨＴ４０ＭＤ」の照射受光ユニットがある。これは、試料に対して、左右２つのプロジェクタから高速で投影される複数のストライプパターン（縞模様）を、中央のカメラ（光検出部・受光部）で撮影（受光）して、照射受光ユニット側の基準位置から試料の表面までの各座標位置（ｘ、ｙ）の高さを測定取得し、該各座標位置（ｘ、ｙ）の高さで表される３次元形状データと各座標位置（ｘ、ｙ）における輝度レベルを得ることができる。
＜光切断法の照射受光ユニット例＞
例えば、光切断法を測定手法とした、株式会社キーエンス製の「ＬＪ-Ｖ７０００シリーズ」の照射受光ユニットがある。光切断法は、ライン状の切断面の形状（プロファイル）を取得する方法であるため、試料に対して、光切断を行う切断位置を一方向に連続的に変化させて連続的にプロファイル（ライン状の切断面の形状）を取得し、得られたプロファイルを合成することで３次元形状データを取得する。照射光は４０５ｎｍの青紫色レーザ光線である。
＜共焦点方式の照射受光ユニット例＞
例えば、共焦点方式を測定手法とした、株式会社キーエンス製の「ダブルスキャン高精度レーザ測定器ＬＴ－９０００ シリーズ」がある。これは、共焦点方式による同軸光学系を採用。対象物上で焦点の合った位置を測定する原理で対象物の高さを測定する。この照射受光ユニットをＸＹ方向に走査することで３次元形状データと各座標位置（ｘ、ｙ）における輝度レベルを得ることができる。
以上述べた照射受光ユニット例は一例であって、複数の企業から多様な照射受光ユニットおよびコントローラが提供されている。
これらの企業から提供されている照射受光ユニットおよびコントローラを使用することで、本発明は当業者であれば実施可能である。
【0050】
また、本発明の測定手法として、共焦点法、モアレトポグラフィ法、干渉縞法、スポット光投影法、ライン光投影法、パターン投影法、光時間差法、光周波数差法、光位相差法、光コヒーレンス法などをあげることができる。
【実施例0051】
図８～図１６に示す本発明の実施例２において、前記実施例１と主に異なる点は、透明テーブル２の上部に四角枠形態の位置決め部６を固定形態で設け、該位置決め部６の底部に設けた凹部に透明テーブル２の上面に塗布形態で設けた反射部材３８を位置させ、試料測定域枠生抽出部を試料測定域枠抽出部１２とし、縁線記憶部１１を設け、試料測定域枠データ記憶部２０を設け、位置決め部６の内壁に試料Ｗが当たっていない（隙間がある）ことを報知（セットエラー報知ａｌａ）する報知部２９を設けた測定装置１５を形成した点にある。
【0052】
正面図である図１０において、位置決め部６は、上に位置する上Ｘ軸内壁７Ｎ、下に位置する下Ｘ軸内壁７Ｐ、左に位置する左Ｙ軸内壁８Ｌおよび右に位置する右Ｙ軸内壁８Ｒを有していて、ここでは、試料Ｗを下Ｘ軸内壁７Ｐと左Ｙ軸内壁８Ｌに当てた位置決め状態（セット位置）で透明テーブル２の上面に載置可能とした形態である。
位置決め部６の内壁１６面は透明テーブル２の上面に対して垂直壁面である。
位置決め部６及び透明テーブル２は石英ガラス製部材からなっていて、両方とも透過性のものであり、照射部３の照射光（ここではレーザ光線）は、位置決め部６及び透明テーブル２を透過して、そのわずかな反射光があったとしてもそれは受光部４が検知（検出）できない低レベルの反射光であるので、透明テーブル２及び透明な位置決め部６は検出されない。但し、位置決め部６の内壁も鏡面仕上（透過仕上）であるため縁部分の一部分に乱反射（拡散反射）が生じる場合があり、その場合は該縁部分が不鮮明ないし不明瞭な濃淡画像（わずかに点在する点的画像ないしノイズ的画像）となる。
位置決め部６の内壁１６面は透明テーブル２の上面に対して垂直壁面である。
位置決め部６及び透明テーブル２は石英ガラス製部材からなっていて、両方とも透過性のものであり、照射部３の照射光（ここではレーザ光線）は、位置決め部６及び透明テーブル２を透過して、そのわずかな反射光があったとしてもそれは受光部４が検知（検出）できない低レベルの反射光であるので、透明テーブル２及び透明な位置決め部６は検出されない。但し、位置決め部６の内壁も鏡面仕上（透過仕上）であるため縁部分の一部分に乱反射（拡散反射）が生じる場合があり、その場合は該縁部分が不鮮明ないし不明瞭な濃淡画像（わずかに点在する点的画像ないしノイズ的画像）となる。
【0053】
試料測定域枠抽出部１２は、走査域受光情報ｓｚｄの走査域ｓｚよりも狭い域枠であり、かつ、試料Ｗの全ての部位が入る域枠である試料測定域枠ｗｍｒを抽出する。試料測定域枠ｗｍｒの抽出は、処理情報を可能な限り少なくすることを目的としているものであるので、条件の許される限り狭い抽出範囲域（抽出面積）とされる。（図８、図１２、図１４等参照）
【0054】
＜縁線の記憶＞（図１１，図１２等参照）
縁線記憶部１１は、
上Ｘ軸内壁７Ｎの縁部位である上Ｘ軸縁７Ｎｉ、下Ｘ軸内壁７Ｐの縁部位である下Ｘ軸縁７Ｐｉ、左Ｙ軸内壁８Ｌの縁部位である左Ｙ軸縁８Ｌｉ、右Ｙ軸内壁８Ｒの縁部位である右Ｙ軸縁８Ｒｉにもとづいて特定されているところの、Ｘ軸縁位置線１０５ａ、１０５ｂ、Ｙ軸縁位置線１０６ａ、１０６ｂを有する縁線１０７が予め記憶されている。
縁線記憶部１１は、
上Ｘ軸内壁７Ｎの縁部位である上Ｘ軸縁７Ｎｉ、下Ｘ軸内壁７Ｐの縁部位である下Ｘ軸縁７Ｐｉ、左Ｙ軸内壁８Ｌの縁部位である左Ｙ軸縁８Ｌｉ、右Ｙ軸内壁８Ｒの縁部位である右Ｙ軸縁８Ｒｉにもとづいて特定されているところの、Ｘ軸縁位置線１０５ａ、１０５ｂ、Ｙ軸縁位置線１０６ａ、１０６ｂを有する縁線１０７が予め記憶されている。
【0055】
透明体である位置決め部６の縁部分の画像は不鮮明で不明瞭な画像（わずかに点在する点的な画像ないしノイズ的な画像）として検出されるので、縁線を特定することができ難い。
位置決め部６の縁線（縁部分）は設計上の理論値や実測値で明確となるので、当該理論値や実測値で得られた緑部分を予め記憶（登録）しておき、測定走査時の縁部分域を含む位置決め部６の域を情報除去域として自動的に除去して測定対象から除かれる（データが無い）、ないし除くことを可能とするのがよい。
また、設計上の理論値や実測値で縁部分は明確となるので予め記憶しておくことができ、該記憶されている縁部分から外域の位置決め部６の受光情報を自動的に除くことができる。
位置決め部６の縁線（縁部分）は設計上の理論値や実測値で明確となるので、当該理論値や実測値で得られた緑部分を予め記憶（登録）しておき、測定走査時の縁部分域を含む位置決め部６の域を情報除去域として自動的に除去して測定対象から除かれる（データが無い）、ないし除くことを可能とするのがよい。
また、設計上の理論値や実測値で縁部分は明確となるので予め記憶しておくことができ、該記憶されている縁部分から外域の位置決め部６の受光情報を自動的に除くことができる。
【0056】
縁線の実測方法の一例を、図１６を参照して説明する。
照射部３の照射光が透過する透過体（ここでは、石英ガラス）からなる位置決め部６の内縁部分は、該縁部分の乱反射が生じ難く不鮮明ないし不明瞭な画像となるので検出することが困難である。
この場合は図１６に示す、照射光が反射または乱反射する部材を使用した長方形の補助具５０ａ、５０ｂ、５０ｃ、５０ｄを、位置決め部６の４か所の内壁にそれぞれ当て置き、測定走査を行う。
補助具５０ａ、５０ｂ、５０ｃ、５０ｄの外縁線を検出して、該外縁線をＸ軸縁位置線１０５ａ、１０５ｂ、Ｙ軸縁位置線１０６ａ、１０６ｂとした縁線１０７を生成し記憶する。
補助具５０ａ、５０ｂ、５０ｃ、５０ｄの補助具本体４８の他方壁には、間隔をあけて設けた突出し部４９ａ、４９ｂを設けている。突出し部４９ａ、４９ｂを位置決め部６の４か所の内壁にそれぞれ当て置き、測定走査を行うことも可能としている。この場合は、補助具５０ａ、５０ｂ、５０ｃ、５０ｄの突出し部４９ａと突出し部４９ｂの先端を通る線を生成し、該先端を通る線をＸ軸縁位置線１０５ａ、１０５ｂ、Ｙ軸縁位置線１０６ａ、１０６ｂとした縁線１０７を生成し記憶する。突出し部４９ａ、４９ｂは、テーブル上面の接地面（最下部）が最も突き出した部位とされ、上部に行くにしたがって壁面から離れて行く傾斜面とするのがよい。
照射部３の照射光が透過する透過体（ここでは、石英ガラス）からなる位置決め部６の内縁部分は、該縁部分の乱反射が生じ難く不鮮明ないし不明瞭な画像となるので検出することが困難である。
この場合は図１６に示す、照射光が反射または乱反射する部材を使用した長方形の補助具５０ａ、５０ｂ、５０ｃ、５０ｄを、位置決め部６の４か所の内壁にそれぞれ当て置き、測定走査を行う。
補助具５０ａ、５０ｂ、５０ｃ、５０ｄの外縁線を検出して、該外縁線をＸ軸縁位置線１０５ａ、１０５ｂ、Ｙ軸縁位置線１０６ａ、１０６ｂとした縁線１０７を生成し記憶する。
補助具５０ａ、５０ｂ、５０ｃ、５０ｄの補助具本体４８の他方壁には、間隔をあけて設けた突出し部４９ａ、４９ｂを設けている。突出し部４９ａ、４９ｂを位置決め部６の４か所の内壁にそれぞれ当て置き、測定走査を行うことも可能としている。この場合は、補助具５０ａ、５０ｂ、５０ｃ、５０ｄの突出し部４９ａと突出し部４９ｂの先端を通る線を生成し、該先端を通る線をＸ軸縁位置線１０５ａ、１０５ｂ、Ｙ軸縁位置線１０６ａ、１０６ｂとした縁線１０７を生成し記憶する。突出し部４９ａ、４９ｂは、テーブル上面の接地面（最下部）が最も突き出した部位とされ、上部に行くにしたがって壁面から離れて行く傾斜面とするのがよい。
【0057】
位置決め部６を照射部３の照射光が乱反射する部材（例えば、非透明のセラミックス、曇りガラスなど）である乱反射部材とするのもよい。照射受光ユニットの特性に応じて反射する部材を選べば良い。
そうすることで、位置決め部６の縁を鮮明かつ明瞭な画像として検出することが可能となる。
位置決め部６を反射部材又は乱反射部材とする場合、反射部材３８との画像の識別が得られるように、反射部材３８を位置決め部６の外域に設ける。位置決め部６内に設ける場合には、位置決め部６の輝度とは異なる輝度の反射部材とする、又は、位置決め部６と反射部材の間に照射部３の照射光が透過する隙間を設けるようにするのがよい。
そうすることで、位置決め部６の縁を鮮明かつ明瞭な画像として検出することが可能となる。
位置決め部６を反射部材又は乱反射部材とする場合、反射部材３８との画像の識別が得られるように、反射部材３８を位置決め部６の外域に設ける。位置決め部６内に設ける場合には、位置決め部６の輝度とは異なる輝度の反射部材とする、又は、位置決め部６と反射部材の間に照射部３の照射光が透過する隙間を設けるようにするのがよい。
【0058】
＜試料測定域枠抽出部１２の構成・処理動作＞
試料測定域枠ｗｍｒを抽出する試料測定域枠抽出部１２の構成・処理動作を、正面図において試料Ｗの左側を位置決め部６の左内壁に当て、かつ、試料Ｗの下側を位置決め部６の下内壁に当てたセット形態で説明する。
［ｓｔｅｐ１］（図９、図１１、図１２、図１４等参照）
試料Ｗの右側における最も外側に突出した部位である試料右側突出部位１０２を、その試料Ｗの画像情報（例えば濃淡画像情報）である試料右側突出部位画像１０２ｉにより特定し、
［ｓｔｅｐ２］
試料Ｗの上側における最も外側に突出した部位である試料上側突出部位１０４を、その試料Ｗの画像情報（例えば濃淡画像情報）である試料上側突出部位画像１０４ｉにより特定し、
［ｓｔｅｐ３］
試料右側突出部位１０２の位置を通るＹ軸線であらわした縦線を右縦線ｒｙｒとして特定し、
［ｓｔｅｐ４］
試料上側突出部位１０４の位置を通るＸ軸線であらわした横線を上横線ｐｘｒとして特定し、
［ｓｔｅｐ５］
予め記憶されているＸ軸縁位置線１０５を試料下側突出部位１０３部位とし、該Ｘ軸縁位置線１０５を下横線ｎｘｒとし、
［ｓｔｅｐ６］
予め記憶されているＹ軸縁位置線１０６を試料左側突出部位１０１部位とし、該Ｙ軸縁位置線１０６を左縦線ｌｙｒとし、
［ｓｔｅｐ７］（図８、図９、図１２等参照）
左縦線ｌｙｒ、右縦線ｒｙｒ、下横線ｎｘｒ及び上横線ｐｘｒによって形成される域枠を試料測定域枠ｗｍｒとして抽出し、
［ｓｔｅｐ８］（図８、図９、図１２等参照）
拡張試料測定域枠設定部１３において拡張試料測定域枠が設定されている場合又は設定された場合、試料測定域枠ｗｍｒの全てを又は一部を所定の距離だけ外側に拡張した拡張試料測定域枠Ｗｍｒを抽出し、
［ｓｔｅｐ９］（図８、図９等参照）
試料測定域枠ｗｍｒと拡張試料測定域枠Ｗｍｒは試料測定域枠データ記憶部２０に記憶される。
以上の［ｓｔｅｐ１］～［ｓｔｅｐ９］は自動的に処理される。
拡張試料測定域枠Ｗｍｒ及び試料濃淡画像Ｗｉはディスプレイ１９に画像表示される、又は表示させることができる（図８、図１２、図１４等参照）。
試料測定域枠ｗｍｒを抽出する試料測定域枠抽出部１２の構成・処理動作を、正面図において試料Ｗの左側を位置決め部６の左内壁に当て、かつ、試料Ｗの下側を位置決め部６の下内壁に当てたセット形態で説明する。
［ｓｔｅｐ１］（図９、図１１、図１２、図１４等参照）
試料Ｗの右側における最も外側に突出した部位である試料右側突出部位１０２を、その試料Ｗの画像情報（例えば濃淡画像情報）である試料右側突出部位画像１０２ｉにより特定し、
［ｓｔｅｐ２］
試料Ｗの上側における最も外側に突出した部位である試料上側突出部位１０４を、その試料Ｗの画像情報（例えば濃淡画像情報）である試料上側突出部位画像１０４ｉにより特定し、
［ｓｔｅｐ３］
試料右側突出部位１０２の位置を通るＹ軸線であらわした縦線を右縦線ｒｙｒとして特定し、
［ｓｔｅｐ４］
試料上側突出部位１０４の位置を通るＸ軸線であらわした横線を上横線ｐｘｒとして特定し、
［ｓｔｅｐ５］
予め記憶されているＸ軸縁位置線１０５を試料下側突出部位１０３部位とし、該Ｘ軸縁位置線１０５を下横線ｎｘｒとし、
［ｓｔｅｐ６］
予め記憶されているＹ軸縁位置線１０６を試料左側突出部位１０１部位とし、該Ｙ軸縁位置線１０６を左縦線ｌｙｒとし、
［ｓｔｅｐ７］（図８、図９、図１２等参照）
左縦線ｌｙｒ、右縦線ｒｙｒ、下横線ｎｘｒ及び上横線ｐｘｒによって形成される域枠を試料測定域枠ｗｍｒとして抽出し、
［ｓｔｅｐ８］（図８、図９、図１２等参照）
拡張試料測定域枠設定部１３において拡張試料測定域枠が設定されている場合又は設定された場合、試料測定域枠ｗｍｒの全てを又は一部を所定の距離だけ外側に拡張した拡張試料測定域枠Ｗｍｒを抽出し、
［ｓｔｅｐ９］（図８、図９等参照）
試料測定域枠ｗｍｒと拡張試料測定域枠Ｗｍｒは試料測定域枠データ記憶部２０に記憶される。
以上の［ｓｔｅｐ１］～［ｓｔｅｐ９］は自動的に処理される。
拡張試料測定域枠Ｗｍｒ及び試料濃淡画像Ｗｉはディスプレイ１９に画像表示される、又は表示させることができる（図８、図１２、図１４等参照）。
【0059】
試料測定域枠抽出部１２は、Ｘ軸内壁、Ｙ軸内壁に当たっていない試料（Ｗ）の側の最も外側に突出した部位である試料突出部位を自動的に抽出特定し、試料突出部位を通る上横線ｐｘｒ、右縦線ｒｙｒを自動的に特定し、上横線ｐｘｒ、右縦線ｒｙｒ、Ｘ軸縁位置線１０５ａ及びＹ軸縁位置線１０６ａによって形成される域枠を試料測定域枠ｗｍｒとして抽出することを自動的に行う試料測定域枠抽出部とすることができる。
また、オペレーターがディスプレイ上で画像を見ながら、上横線ｐｘｒ、右縦線ｒｙｒを手動操作により特定して試料測定域枠ｗｍｒを抽出特定することもできる。
このことは、後述する実施例６等でも言える。
また、オペレーターがディスプレイ上で画像を見ながら、上横線ｐｘｒ、右縦線ｒｙｒを手動操作により特定して試料測定域枠ｗｍｒを抽出特定することもできる。
このことは、後述する実施例６等でも言える。
【0060】
＜拡張試料測定域枠設定部１３の構成・動作処理（１）＞（図１２等参照）
左縦線ｌｙｒより所定の距離だけ外側に拡張した位置に拡張左縦線Ｌｙｒを設定し、
右縦線ｒｙｒより所定の距離だけ外側に拡張した位置に拡張右縦線Ｒｙｒを設定し、
下横線ｎｘｒより所定の距離だけ外側に拡張した位置に拡張下横線Ｎｘｒを設定し、
上横線ｐｘｒより所定の距離だけ外側に拡張した位置に拡張上横線Ｐｘｒを設定し、
拡張左縦線Ｌｙｒ、拡張右縦線Ｒｙｒ、拡張下横線Ｎｘｒおよび拡張上横線Ｐｘｒによって形成された閉じ域枠である拡張試料測定域枠Ｗｍｒを形成して抽出する。
左縦線ｌｙｒより所定の距離だけ外側に拡張した位置に拡張左縦線Ｌｙｒを設定し、
右縦線ｒｙｒより所定の距離だけ外側に拡張した位置に拡張右縦線Ｒｙｒを設定し、
下横線ｎｘｒより所定の距離だけ外側に拡張した位置に拡張下横線Ｎｘｒを設定し、
上横線ｐｘｒより所定の距離だけ外側に拡張した位置に拡張上横線Ｐｘｒを設定し、
拡張左縦線Ｌｙｒ、拡張右縦線Ｒｙｒ、拡張下横線Ｎｘｒおよび拡張上横線Ｐｘｒによって形成された閉じ域枠である拡張試料測定域枠Ｗｍｒを形成して抽出する。
【0061】
＜拡張試料測定域枠設定部１３の構成・動作処理（２）＞（図１３、図１４、図１５参照）
右縦線ｒｙｒより所定の距離だけ外側に拡張した位置に拡張右縦線Ｒｙｒを設定し、
上横線ｐｘｒより所定の距離だけ外側に拡張した位置に拡張上横線Ｐｘｒを設定し、
左縦線ｌｙｒ、下横線ｎｘｒ、拡張右縦線Ｒｙｒおよび拡張上横線Ｐｘｒによって形成された閉じ域枠である拡張試料測定域枠Ｗｍｒ（ここでは、拡張試料測定域枠Ｗｍｒ－１）を形成して抽出する。
左縦線ｌｙｒ、下横線ｎｘｒは位置決め部６の内縁位置を示すものであるので、固定された位置であり、拡張を行わずそのままの位置で拡張試料測定域枠Ｗｍｒ（ここでは、拡張試料測定域枠Ｗｍｒ－１）を形成するようにしている。
右縦線ｒｙｒより所定の距離だけ外側に拡張した位置に拡張右縦線Ｒｙｒを設定し、
上横線ｐｘｒより所定の距離だけ外側に拡張した位置に拡張上横線Ｐｘｒを設定し、
左縦線ｌｙｒ、下横線ｎｘｒ、拡張右縦線Ｒｙｒおよび拡張上横線Ｐｘｒによって形成された閉じ域枠である拡張試料測定域枠Ｗｍｒ（ここでは、拡張試料測定域枠Ｗｍｒ－１）を形成して抽出する。
左縦線ｌｙｒ、下横線ｎｘｒは位置決め部６の内縁位置を示すものであるので、固定された位置であり、拡張を行わずそのままの位置で拡張試料測定域枠Ｗｍｒ（ここでは、拡張試料測定域枠Ｗｍｒ－１）を形成するようにしている。
【0062】
位置決め部６の内壁に当たっていない側に設定された上横線ｐｘｒ（Ｘ軸線）及び拡張上横線Ｐｘｒ（Ｘ軸線）はＸ軸非縁線であり、右縦線ｒｙｒ（Ｙ軸線）及び拡張右縦線Ｒｙｒ（Ｙ軸線）はＹ軸非縁線である。
【0063】
位置決め部６の左Ｙ軸内壁８Ｌ及び下Ｘ軸内壁７Ｐに、前記試料（Ｗ）が当たっていない場合（隙間がある場合）は、報知部２９からセットエラー報知ａｌａが報知（通知）される。
具体的には、左縦線ｌｙｒ又は下横線ｎｘｒと濃淡画像（試料濃淡画像Ｗｉ）との間に隙間がある（位置決め部６の内壁に試料Ｗの当たっている部位が無い状態）、または、所定の隙間距離より隙間距離が大きい場合は、セットエラー報知ａｌａされるようになっている。セットエラー報知ａｌａは、該当箇所の点滅表示、点滅矢印による報知、「試料が壁に当たっていません」、「試料セットエラー」などのメッセージ報知、画面背景色の変化など、これらと報知音との組合せなど多様な形態がある。
具体的には、左縦線ｌｙｒ又は下横線ｎｘｒと濃淡画像（試料濃淡画像Ｗｉ）との間に隙間がある（位置決め部６の内壁に試料Ｗの当たっている部位が無い状態）、または、所定の隙間距離より隙間距離が大きい場合は、セットエラー報知ａｌａされるようになっている。セットエラー報知ａｌａは、該当箇所の点滅表示、点滅矢印による報知、「試料が壁に当たっていません」、「試料セットエラー」などのメッセージ報知、画面背景色の変化など、これらと報知音との組合せなど多様な形態がある。
【0064】
正面図である図１３、図１４、図１５は、４個の試料Ｗ（試料Ｗ－１、試料Ｗ－２、試料Ｗ－３、試料Ｗ－４）を位置決め部６の４隅に各々セットした状態と各々試料測定域を示したものである。１回の測定走査で４個の試料Ｗを同時に測定する。
これまでの説明では、試料Ｗ－１（画像は試料濃淡画像Ｗｉ－１）における試料測定域枠及び拡張試料測定域枠又はいずれか一方の設定について説明してきたが、試料Ｗ－２（画像は試料濃淡画像Ｗｉ－２）、試料Ｗ－３（画像は試料濃淡画像Ｗｉ－３）、試料Ｗ－４（画像は試料濃淡画像Ｗｉ－４）についても同様にして試料測定域枠及び拡張試料測定域枠又はいずれか一方が設定される。
試料濃淡画像Ｗｉ－２（試料Ｗ－２）の拡張試料測定域枠Ｗｍｒ－２は、試料下側突出部位１０３が当たっている位置のＸ軸線である上横線ｐｘｒ、試料右側突出部位１０２が当たっている位置のＹ軸線である下横線ｎｘｒ、拡張左縦線Ｌｙｒ、拡張上横線Ｐｘｒによって形成される。
試料濃淡画像Ｗｉ－３（試料Ｗ－３）の拡張試料測定域枠Ｗｍｒ－３は、試料左側突出部位１０１が当たっている位置のＹ軸線である左縦線ｌｙｒ、試料上側突出部位１０４が当たっている位置のＸ軸線である上横線ｐｘｒ、拡張右縦線Ｒｙｒ、拡張下横線Ｎｘｒによって形成される。
試料濃淡画像Ｗｉ－４（試料Ｗ－４）の拡張試料測定域枠Ｗｍｒ－４は、試料下側突出部位１０３が当たっている位置のＸ軸線である上横線ｐｘｒ、試料右側突出部位１０２が当たっている位置のＹ軸線である右縦線ｒｙｒ、拡張左縦線Ｌｙｒ、拡張下横線Ｎｘｒによって形成される。
これまでの説明では、試料Ｗ－１（画像は試料濃淡画像Ｗｉ－１）における試料測定域枠及び拡張試料測定域枠又はいずれか一方の設定について説明してきたが、試料Ｗ－２（画像は試料濃淡画像Ｗｉ－２）、試料Ｗ－３（画像は試料濃淡画像Ｗｉ－３）、試料Ｗ－４（画像は試料濃淡画像Ｗｉ－４）についても同様にして試料測定域枠及び拡張試料測定域枠又はいずれか一方が設定される。
試料濃淡画像Ｗｉ－２（試料Ｗ－２）の拡張試料測定域枠Ｗｍｒ－２は、試料下側突出部位１０３が当たっている位置のＸ軸線である上横線ｐｘｒ、試料右側突出部位１０２が当たっている位置のＹ軸線である下横線ｎｘｒ、拡張左縦線Ｌｙｒ、拡張上横線Ｐｘｒによって形成される。
試料濃淡画像Ｗｉ－３（試料Ｗ－３）の拡張試料測定域枠Ｗｍｒ－３は、試料左側突出部位１０１が当たっている位置のＹ軸線である左縦線ｌｙｒ、試料上側突出部位１０４が当たっている位置のＸ軸線である上横線ｐｘｒ、拡張右縦線Ｒｙｒ、拡張下横線Ｎｘｒによって形成される。
試料濃淡画像Ｗｉ－４（試料Ｗ－４）の拡張試料測定域枠Ｗｍｒ－４は、試料下側突出部位１０３が当たっている位置のＸ軸線である上横線ｐｘｒ、試料右側突出部位１０２が当たっている位置のＹ軸線である右縦線ｒｙｒ、拡張左縦線Ｌｙｒ、拡張下横線Ｎｘｒによって形成される。
【0065】
＜試料Ｗ－１（試料濃淡画像Ｗｉ－１）の測定域枠＞（図１３，図１４、図１５参照）
位置決め部６の内壁に当たっていない側に設定された拡張上横線Ｐｘｒ（Ｘ軸線）はＸ軸非縁線であり、拡張右縦線Ｒｙｒ（Ｙ軸線）はＹ軸非縁線である。
＜試料Ｗ－２（試料濃淡画像Ｗｉ－２）の測定域枠＞
位置決め部６の内壁に当たっていない側に設定された拡張上横線Ｐｘｒ（Ｘ軸線）はＸ軸非縁線であり、拡張左縦線Ｌｙｒ（Ｙ軸線）はＹ軸非縁線である。
＜試料Ｗ－３（試料濃淡画像Ｗｉ－３）の測定域枠＞
位置決め部６の内壁に当たっていない側に設定された拡張下横線Ｎｘｒ（Ｘ軸線）はＸ軸非縁線であり、拡張右縦線Ｒｙｒ（Ｙ軸線）はＹ軸非縁線である。
＜試料Ｗ－４（試料濃淡画像Ｗｉ－４）の測定域枠＞
位置決め部６の内壁に当たっていない側に設定された拡張下横線Ｎｘｒ（Ｘ軸線）はＸ軸非縁線であり、拡張左縦線Ｌｙｒ（Ｙ軸線）はＹ軸非縁線である。
位置決め部６の内壁に当たっていない側に設定された拡張上横線Ｐｘｒ（Ｘ軸線）はＸ軸非縁線であり、拡張右縦線Ｒｙｒ（Ｙ軸線）はＹ軸非縁線である。
＜試料Ｗ－２（試料濃淡画像Ｗｉ－２）の測定域枠＞
位置決め部６の内壁に当たっていない側に設定された拡張上横線Ｐｘｒ（Ｘ軸線）はＸ軸非縁線であり、拡張左縦線Ｌｙｒ（Ｙ軸線）はＹ軸非縁線である。
＜試料Ｗ－３（試料濃淡画像Ｗｉ－３）の測定域枠＞
位置決め部６の内壁に当たっていない側に設定された拡張下横線Ｎｘｒ（Ｘ軸線）はＸ軸非縁線であり、拡張右縦線Ｒｙｒ（Ｙ軸線）はＹ軸非縁線である。
＜試料Ｗ－４（試料濃淡画像Ｗｉ－４）の測定域枠＞
位置決め部６の内壁に当たっていない側に設定された拡張下横線Ｎｘｒ（Ｘ軸線）はＸ軸非縁線であり、拡張左縦線Ｌｙｒ（Ｙ軸線）はＹ軸非縁線である。
【0066】
＜同一試料の測定＞（図８等参照）
試料測定域枠ｗｍｒ又は拡張試料測定域枠Ｗｍｒの抽出以後の測定において、同一試料測定指示部２１で、試料測定域枠データ記憶部２０に記憶される同一の試料Ｗを指定することで、新たな同一試料Ｗをセットした状態で、例えば走査全域を走査して走査全域受光情報を取得し、ここでは試料測定域枠の抽出は行わず、走査全域受光情報における記憶済の試料測定域枠ｗｍｒ部分のみ又は記憶済みの拡張試料測定域枠Ｗｍｒのみの受光情報（以下「試料測定域受光情報ｗｓｓｉ」という。）を処理して、新たな同一試料Ｗの試料高さデータｗｈｄを生成する。
試料測定域枠ｗｍｒ又は拡張試料測定域枠Ｗｍｒの抽出以後の測定において、同一試料測定指示部２１で、試料測定域枠データ記憶部２０に記憶される同一の試料Ｗを指定することで、新たな同一試料Ｗをセットした状態で、例えば走査全域を走査して走査全域受光情報を取得し、ここでは試料測定域枠の抽出は行わず、走査全域受光情報における記憶済の試料測定域枠ｗｍｒ部分のみ又は記憶済みの拡張試料測定域枠Ｗｍｒのみの受光情報（以下「試料測定域受光情報ｗｓｓｉ」という。）を処理して、新たな同一試料Ｗの試料高さデータｗｈｄを生成する。
【0067】
また、記憶されている試料測定域枠ｗｍｒ又は拡張試料測定域枠Ｗｍｒの域のみを光センサユニット１７が移動走査するように走査ユニット制御部２２は光センサユニット１７を走査制御して試料測定域受光情報を取得するのもよい。この場合、そこでの試料測定域枠の抽出は行わず（必要ない）、走査域における試料高さデータｗｈｄを生成する。この場合、基準位置は、記憶してある前の基準位置を使用するのがよい。
【0068】
＜試料部分域枠ｗｔｒの特定→平坦度判定＞（図８、図１２等参照）
試料濃淡画像Ｗｉ及び試料測定域枠データｗｍｄは試料部分域枠特定部２４に自動的に送られ、試料部分域枠ｗｔｒが特定され（図１２等参照）、試料部分域枠ｗｔｒは試料部分域枠代表値決定部２５において試料部分域枠ｗｔｒ各々の代表値Ｒｖ（高さデータ）を決定し、各々の代表値Ｒｖの基準位置からの平坦度が特定され、判定部２６において所定の判定度の範囲に内にあるかの判定がなされる。ここでの基準位置は、反射部材３８の表面を基準とした反射部材基準面としている。
試料部分域枠ｗｔｒの高さ情報は、該試料部分域枠ｗｔｒ部分の試料Ｗの測定面（表面）の各座標位置（ｘ、ｙ）における高さを示すデータである。
代表値Ｒｖは、試料部分域枠ｗｔｒにおける各座標位置（ｘ、ｙ）の高さ値の最高値、最低値、平均値などである。
試料濃淡画像Ｗｉ及び試料測定域枠データｗｍｄは試料部分域枠特定部２４に自動的に送られ、試料部分域枠ｗｔｒが特定され（図１２等参照）、試料部分域枠ｗｔｒは試料部分域枠代表値決定部２５において試料部分域枠ｗｔｒ各々の代表値Ｒｖ（高さデータ）を決定し、各々の代表値Ｒｖの基準位置からの平坦度が特定され、判定部２６において所定の判定度の範囲に内にあるかの判定がなされる。ここでの基準位置は、反射部材３８の表面を基準とした反射部材基準面としている。
試料部分域枠ｗｔｒの高さ情報は、該試料部分域枠ｗｔｒ部分の試料Ｗの測定面（表面）の各座標位置（ｘ、ｙ）における高さを示すデータである。
代表値Ｒｖは、試料部分域枠ｗｔｒにおける各座標位置（ｘ、ｙ）の高さ値の最高値、最低値、平均値などである。
【0069】
試料部分域枠ｗｔｒの特定には試料濃淡画像Ｗｉだけでもよいので、試料測定域枠データｗｍｄは試料部分域枠特定部２４に必ずしも送られなくてもよい。
試料部分域枠ｗｔｒの特定は、ＣＡＤデータにより特定され予め記憶されているものを使用するのもよい。ここでは、ディスプレイ１９に試料濃淡画像Ｗｉ及び試料測定域枠ｗｍｒを表示し、オペレーターがマウス等の手動操作により試料突起部分画像ｗｔｉを一つ一つ囲い枠で囲う操作で試料部分域枠ｗｔｒを特定し、該試料部分域枠ｗｔｒの複数からなる試料部分域枠群ｗｔｒｇを形成している（図８、図１２等参照）。
試料突起部分ｗｔとそれ以外の箇所を濃淡画像やカラー画像で識別が困難である場合は、高さを色分けして表現した高さ情報にもとづいて試料突起部分ｗｔの各々の域枠である試料部分域枠ｗｔｒを特定する。
試料部分域枠ｗｔｒの特定は、ＣＡＤデータにより特定され予め記憶されているものを使用するのもよい。ここでは、ディスプレイ１９に試料濃淡画像Ｗｉ及び試料測定域枠ｗｍｒを表示し、オペレーターがマウス等の手動操作により試料突起部分画像ｗｔｉを一つ一つ囲い枠で囲う操作で試料部分域枠ｗｔｒを特定し、該試料部分域枠ｗｔｒの複数からなる試料部分域枠群ｗｔｒｇを形成している（図８、図１２等参照）。
試料突起部分ｗｔとそれ以外の箇所を濃淡画像やカラー画像で識別が困難である場合は、高さを色分けして表現した高さ情報にもとづいて試料突起部分ｗｔの各々の域枠である試料部分域枠ｗｔｒを特定する。
【0070】
＜同一試料の測定＞（図８等参照）
試料部分域枠群ｗｔｒｇの抽出以後の測定において、同一試料部分域枠測定指示部２８で、試料部分域枠特定部２４に記憶される同一の試料Ｗを指定することで、新たな同一試料Ｗをセットした状態で、例えば走査全域を走査して走査全域受光情報を取得し、新たには試料部分域枠ｗｔｒの特定は行わず、走査全域受光情報における記憶済の試料部分域枠群ｗｔｒｇ部分のみの受光情報（試料測定域受光情報ｗｓｓｉ）を処理して（記憶済の試料部分域枠ｗｔｒ外の受光情報は自動除去されデータ無しとされる。）、新たな同一試料Ｗの試料部分域枠ｗｔｒ各々の各座標位置（ｘ、ｙ）における高さ（距離）を表す試料部分域枠データｗｔｄを生成する。
試料部分域枠群ｗｔｒｇの抽出以後の測定において、同一試料部分域枠測定指示部２８で、試料部分域枠特定部２４に記憶される同一の試料Ｗを指定することで、新たな同一試料Ｗをセットした状態で、例えば走査全域を走査して走査全域受光情報を取得し、新たには試料部分域枠ｗｔｒの特定は行わず、走査全域受光情報における記憶済の試料部分域枠群ｗｔｒｇ部分のみの受光情報（試料測定域受光情報ｗｓｓｉ）を処理して（記憶済の試料部分域枠ｗｔｒ外の受光情報は自動除去されデータ無しとされる。）、新たな同一試料Ｗの試料部分域枠ｗｔｒ各々の各座標位置（ｘ、ｙ）における高さ（距離）を表す試料部分域枠データｗｔｄを生成する。
【0071】
また、記憶されている試料部分域枠群ｗｔｒｇの域のみを光センサユニット１７が移動走査するように走査ユニット制御部２２は光センサユニット１７を走査制御して試料測定域受光情報ｗｓｓｉを取得するのもよい。この場合、試料部分域枠ｗｔｒの抽出は行わず、試料測定域受光情報ｗｓｓｉを処理して新たな同一試料Ｗの、試料部分域枠ｗｔｒ毎の各座標位置（ｘ、ｙ）における高さ（距離）を表す試料部分域枠データｗｔｄを生成するのもよい。
【0072】
＜ディスプレイ１９における位置決め部の縁位置線の表示＞（図１２、図１４等参照）
試料Ｗの濃淡画像をディスプレイに表示した表示形態において、Ｘ軸縁位置線１０５及びＹ軸縁位置線１０６を表示することができ、また、自動的に表示されるようになっている。
これによって、左Ｙ軸内壁８Ｌ及び下Ｘ軸内壁７Ｐに試料Ｗが当たっているのか、それとも当たっていないのかを、目視で確認することを可能としている。
また、左Ｙ軸内壁８Ｌ及び下Ｘ軸内壁７Ｐと試料Ｗの間に隙間がある（試料Ｗが内壁に当たっていない）、または、所定の隙間距離より隙間距離が大きい場合は、報知部２９においてセットエラー報知ａｌａが自動的に報知されるようになっている。セットエラー報知ａｌａは、該当箇所の点滅表示、点滅矢印による報知、「試料が壁に当たっていません」などのメッセージ報知、これらと報知音との組合せなど多様な形態がある。
試料Ｗの濃淡画像をディスプレイに表示した表示形態において、Ｘ軸縁位置線１０５及びＹ軸縁位置線１０６を表示することができ、また、自動的に表示されるようになっている。
これによって、左Ｙ軸内壁８Ｌ及び下Ｘ軸内壁７Ｐに試料Ｗが当たっているのか、それとも当たっていないのかを、目視で確認することを可能としている。
また、左Ｙ軸内壁８Ｌ及び下Ｘ軸内壁７Ｐと試料Ｗの間に隙間がある（試料Ｗが内壁に当たっていない）、または、所定の隙間距離より隙間距離が大きい場合は、報知部２９においてセットエラー報知ａｌａが自動的に報知されるようになっている。セットエラー報知ａｌａは、該当箇所の点滅表示、点滅矢印による報知、「試料が壁に当たっていません」などのメッセージ報知、これらと報知音との組合せなど多様な形態がある。
【0073】
＜基準位置（基準面）を反射部材３８とした高さ測定＞（図１１等参照）
反射部材３８は、セラミックス系塗布剤、金属製塗布剤などの耐熱性塗布剤である。
反射部材３８の表面の濃淡画像である反射部材濃淡画像３８ｉの適宜な３箇所をオペレーターはマウス等の操作で小囲い枠を作成し、該３か所の小囲い枠のそれぞれの代表値（平均値、最大高さ値、最低高さ値など）を決定させ、３か所の代表値を結ぶ平面を反射部材基準面とし、ＸＹ平面における各座標位置（ｘ、ｙ）における、前記反射部材基準面からの試料Ｗの表面の高さであらわされる反射部材基準表面形状データを生成する。かかる反射部材基準表面形状データは３次元形状データであり、ディスプレイ１９に３Ｄ画像として表示可能とされている。
反射部材３８の形態は、例えば四角形や円形の形態のものを複数配列ないし不規則配置した形態などでもよい。
反射部材３８は、セラミックス系塗布剤、金属製塗布剤などの耐熱性塗布剤である。
反射部材３８の表面の濃淡画像である反射部材濃淡画像３８ｉの適宜な３箇所をオペレーターはマウス等の操作で小囲い枠を作成し、該３か所の小囲い枠のそれぞれの代表値（平均値、最大高さ値、最低高さ値など）を決定させ、３か所の代表値を結ぶ平面を反射部材基準面とし、ＸＹ平面における各座標位置（ｘ、ｙ）における、前記反射部材基準面からの試料Ｗの表面の高さであらわされる反射部材基準表面形状データを生成する。かかる反射部材基準表面形状データは３次元形状データであり、ディスプレイ１９に３Ｄ画像として表示可能とされている。
反射部材３８の形態は、例えば四角形や円形の形態のものを複数配列ないし不規則配置した形態などでもよい。
【実施例0074】
図１７、図１８に示す本発明の実施例３において、前記実施例２と主に異なる点は、試料測定域枠抽出部を、試料測定域枠ｗｍｈを抽出する試料測定域枠抽出部４０とした点にある。
試料測定域枠抽出部４０は、
［ｓｔｅｐ１］～［ｓｔｅｐ１０］
実施例１と同様であるので説明を省略する。
［ｓｔｅｐ１１］
試料測定域枠ｗｍｒ又は拡張試料測定域枠Ｗｍｒの域線を外域枠Ｏｕｆとし、
［ｓｔｅｐ１２］
試料Ｗの内側の一部を非測定域とするための内域枠Ｉｎｆを特定ないし指定し、かつ、内域枠Ｉｎｆの内側部分を非測定域Ｎｏｒとし、
［ｓｔｅｐ１３］
外域枠Ｏｕｆと内域枠Ｉｎｆの間に形成される域枠部分を測定域Ｍｅｒとした試料測定域枠ｗｍｈを形成して抽出する、構成である。
内域枠Ｉｎｆの領域が非測定域とされるので、画像処理用域や演算処理域が小さくでき、よって画像処理量や演算処理量をより少なくできる。
試料測定域枠抽出部４０は、
［ｓｔｅｐ１］～［ｓｔｅｐ１０］
実施例１と同様であるので説明を省略する。
［ｓｔｅｐ１１］
試料測定域枠ｗｍｒ又は拡張試料測定域枠Ｗｍｒの域線を外域枠Ｏｕｆとし、
［ｓｔｅｐ１２］
試料Ｗの内側の一部を非測定域とするための内域枠Ｉｎｆを特定ないし指定し、かつ、内域枠Ｉｎｆの内側部分を非測定域Ｎｏｒとし、
［ｓｔｅｐ１３］
外域枠Ｏｕｆと内域枠Ｉｎｆの間に形成される域枠部分を測定域Ｍｅｒとした試料測定域枠ｗｍｈを形成して抽出する、構成である。
内域枠Ｉｎｆの領域が非測定域とされるので、画像処理用域や演算処理域が小さくでき、よって画像処理量や演算処理量をより少なくできる。
【0075】
内域枠Ｉｎｆを特定する方法は、試料Ｗの内側の非測定域を予め記憶してあるデータ（例えばＣＡＤデータにより特定してある）を使用するのがよい。
また、ディスプレイに試料Ｗの濃淡画像を表示して、マウス等の操作で内域枠Ｉｎｆを特定ないし指定するのもよい。
また、ディスプレイに試料Ｗの濃淡画像を表示して、マウス等の操作で内域枠Ｉｎｆを特定ないし指定するのもよい。