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特開2022-119977エチレン－ビニルアルコール共重合体およびその製造方法
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2022119977
(43)【公開日】2022-08-17
(54)【発明の名称】エチレン－ビニルアルコール共重合体およびその製造方法
(51)【国際特許分類】
C08J 3/12 20060101AFI20220809BHJP
B29B 13/02 20060101ALI20220809BHJP
【ＦＩ】
C08J3/12 CEX
B29B13/02
【審査請求】未請求
【請求項の数】24
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022091354
(22)【出願日】2022-06-06
(62)【分割の表示】P 2021129666の分割
【原出願日】2021-08-06
(31)【優先権主張番号】17/137,658
(32)【優先日】2020-12-30
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(71)【出願人】
【識別番号】591057290
【氏名又は名称】長春石油化學股▲分▼有限公司
(74)【代理人】
【識別番号】100121728
【弁理士】
【氏名又は名称】井関 勝守
(74)【代理人】
【識別番号】100165803
【弁理士】
【氏名又は名称】金子 修平
(74)【代理人】
【識別番号】100170900
【弁理士】
【氏名又は名称】大西 渉
(72)【発明者】
【氏名】梁 志傑
(72)【発明者】
【氏名】陳 家穎
(72)【発明者】
【氏名】林 文星
(72)【発明者】
【氏名】張 鴻銘
(57)【要約】 （修正有）
【課題】エチレン－ビニルアルコール共重合体およびその製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明は、エチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットを提供する。エチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットは、エチレン－ビニルアルコール共重合体のラメラスタックを有し、前記ラメラスタックが少なくとも８．３５ｎｍの小角Ｘ線散乱によって測定された場合に長周期Ｌを有する。エチレン－ビニルアルコール共重合体のラメラスタックは、少なくとも６ｎｍの平均結晶層厚ｌｃを有し得る。追加または代替として、エチレン－ビニルアルコール共重合体のラメラスタックは、少なくとも２．３５ｎｍの平均非晶層厚ｌａを有し得る。本発明は、例えば上記の好ましいラメラスタック特性を有するものなどのエチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットの製造方法も提供する。
【選択図】図１
【解決手段】本発明は、エチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットを提供する。エチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットは、エチレン－ビニルアルコール共重合体のラメラスタックを有し、前記ラメラスタックが少なくとも８．３５ｎｍの小角Ｘ線散乱によって測定された場合に長周期Ｌを有する。エチレン－ビニルアルコール共重合体のラメラスタックは、少なくとも６ｎｍの平均結晶層厚ｌｃを有し得る。追加または代替として、エチレン－ビニルアルコール共重合体のラメラスタックは、少なくとも２．３５ｎｍの平均非晶層厚ｌａを有し得る。本発明は、例えば上記の好ましいラメラスタック特性を有するものなどのエチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットの製造方法も提供する。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
少なくとも８．３５ｎｍの小角Ｘ線散乱によって測定された長周期のラメラスタックを
有するエチレン－ビニルアルコール共重合体を備える、エチレン－ビニルアルコール共重
合体ペレット。
有するエチレン－ビニルアルコール共重合体を備える、エチレン－ビニルアルコール共重
合体ペレット。
【請求項2】
前記エチレン－ビニルアルコール共重合体のラメラスタックの平均結晶層厚が、少なく
とも６ｎｍである、請求項１に記載のペレット。
とも６ｎｍである、請求項１に記載のペレット。
【請求項3】
前記エチレン－ビニルアルコール共重合体のラメラスタックの平均非晶層厚が、少なく
とも２．３５ｎｍである、請求項１に記載のペレット。
とも２．３５ｎｍである、請求項１に記載のペレット。
【請求項4】
融点温度Ｔｍ２、Ｔｍ３、および任意選択でＴｍ１を含み、前記３つの融点温度がＩＳ
Ｏ １１３５７－３：２０１１に従って示差走査熱量測定法（ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ
ｓｃａｎｎｉｎｇ ｃａｌｏｒｉｍｅｔｒｙ、ＤＳＣ）で測定され、かつ、
Ｔｍ１が存在する場合に、Ｔｍ１は１回目のＤＳＣ実行での２本の接線の第１交点を表
し、
Ｔｍ２は１回目のＤＳＣ実行での融解ピークの最高点を表し、
Ｔｍ３は２回目のＤＳＣ実行での融解ピークの最高点を表し、ここでＴｍ１＜Ｔｍ２＜
Ｔｍ３である請求項１に記載のペレット。
Ｏ １１３５７－３：２０１１に従って示差走査熱量測定法（ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ
ｓｃａｎｎｉｎｇ ｃａｌｏｒｉｍｅｔｒｙ、ＤＳＣ）で測定され、かつ、
Ｔｍ１が存在する場合に、Ｔｍ１は１回目のＤＳＣ実行での２本の接線の第１交点を表
し、
Ｔｍ２は１回目のＤＳＣ実行での融解ピークの最高点を表し、
Ｔｍ３は２回目のＤＳＣ実行での融解ピークの最高点を表し、ここでＴｍ１＜Ｔｍ２＜
Ｔｍ３である請求項１に記載のペレット。
【請求項5】
Ｔｍ１とＴｍ２との間の差が、６５℃以内である、請求項４に記載のペレット。
【請求項6】
Ｔｍ１とＴｍ２との間の差が、４０℃以内である、請求項４に記載のペレット。
【請求項7】
Ｔｍ２とＴｍ３との間の差が、４．５℃以内である、請求項４に記載のペレット。
【請求項8】
前記ペレットの全重量に対して０．３重量％以下の水分含有量を含む、請求項１に記載
のペレット。
のペレット。
【請求項9】
前記エチレン－ビニルアルコール共重合体のエチレン含有量が、２９～４４モル％であ
る、請求項８に記載のペレット。
る、請求項８に記載のペレット。
【請求項10】
エチレン－ビニルアルコール共重合体と、ペレットの全重量に対して０．３重量％以下
の水分含有量を含むエチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットであって、前記エチレ
ン－ビニルアルコール共重合体のエチレン含有量は、２９～４４モル％であり、
平均直径１００ｃｍ以下で、少なくとも８．３５ｎｍの小角Ｘ線散乱によって測定され
た長周期のラメラスタックを有するエチレン－ビニルアルコール共重合体を備える、エチ
レン－ビニルアルコール共重合体ペレットであって、
ＩＳＯ １１３５７－３：２０１１に従って示差走査熱量測定法（ＤＳＣ）で測定され
た融点温度Ｔｍ２、Ｔｍ３、ならびに任意選択でＴｍ１と、を含み、
Ｔｍ１が存在する場合に、Ｔｍ１は、１回目のＤＳＣ実行での２本の接線の第１交点を
表し、
Ｔｍ２は１回目のＤＳＣ実行での融解ピークの最高点を表し、
Ｔｍ３は２回目のＤＳＣ実行での融解ピークの最高点を表し、
ここでＴｍ１＜Ｔｍ２＜Ｔｍ３であり、
Ｔｍ１とＴｍ２との間の差は６５℃以内であり、
Ｔｍ２とＴｍ３との間の差は４．５℃以内である、
エチレン－ビニルアルコール共重合体ペレット。
の水分含有量を含むエチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットであって、前記エチレ
ン－ビニルアルコール共重合体のエチレン含有量は、２９～４４モル％であり、
平均直径１００ｃｍ以下で、少なくとも８．３５ｎｍの小角Ｘ線散乱によって測定され
た長周期のラメラスタックを有するエチレン－ビニルアルコール共重合体を備える、エチ
レン－ビニルアルコール共重合体ペレットであって、
ＩＳＯ １１３５７－３：２０１１に従って示差走査熱量測定法（ＤＳＣ）で測定され
た融点温度Ｔｍ２、Ｔｍ３、ならびに任意選択でＴｍ１と、を含み、
Ｔｍ１が存在する場合に、Ｔｍ１は、１回目のＤＳＣ実行での２本の接線の第１交点を
表し、
Ｔｍ２は１回目のＤＳＣ実行での融解ピークの最高点を表し、
Ｔｍ３は２回目のＤＳＣ実行での融解ピークの最高点を表し、
ここでＴｍ１＜Ｔｍ２＜Ｔｍ３であり、
Ｔｍ１とＴｍ２との間の差は６５℃以内であり、
Ｔｍ２とＴｍ３との間の差は４．５℃以内である、
エチレン－ビニルアルコール共重合体ペレット。
【請求項11】
次の工程（ａ）と工程（ｂ）と、を含む、請求項１に記載のエチレン－ビニルアルコー
ル共重合体ペレットの製造方法であって、
（ａ）は平均直径１００ｃｍ以下の粒子堆積厚を使用してエチレン－ビニルアルコール
共重合体粒子を３段階乾燥処理するエチレン－ビニルアルコール共重合体粒子の乾燥工程
であり；前記３段階乾燥処理が第１段階、第１段階後の第２段階、および第２段階後の第
３段階を含み、
（ｉ）第１段階には、予備乾燥された粒子を少なくとも６５℃の温度に少なくとも２
時間加熱することが含まれ；
（ｉｉ）第２段階には、予備乾燥された粒子を少なくとも９５℃の温度に少なくとも
１６時間加熱することが含まれ；
（ｉｉｉ）第３段階には、予備乾燥された粒子を少なくとも９５℃の温度に１２時間
加熱し；
ここで、第２段階の温度は第１段階の温度よりも高く、第３段階の温度が第２段階の温
度よりも高い；
（ｂ）はエチレン－ビニルアルコール共重合体粒子をペレット化して、エチレン－ビニ
ルアルコール共重合体のラメラスタック体を有するペレットを得る工程である、方法。
ル共重合体ペレットの製造方法であって、
（ａ）は平均直径１００ｃｍ以下の粒子堆積厚を使用してエチレン－ビニルアルコール
共重合体粒子を３段階乾燥処理するエチレン－ビニルアルコール共重合体粒子の乾燥工程
であり；前記３段階乾燥処理が第１段階、第１段階後の第２段階、および第２段階後の第
３段階を含み、
（ｉ）第１段階には、予備乾燥された粒子を少なくとも６５℃の温度に少なくとも２
時間加熱することが含まれ；
（ｉｉ）第２段階には、予備乾燥された粒子を少なくとも９５℃の温度に少なくとも
１６時間加熱することが含まれ；
（ｉｉｉ）第３段階には、予備乾燥された粒子を少なくとも９５℃の温度に１２時間
加熱し；
ここで、第２段階の温度は第１段階の温度よりも高く、第３段階の温度が第２段階の温
度よりも高い；
（ｂ）はエチレン－ビニルアルコール共重合体粒子をペレット化して、エチレン－ビニ
ルアルコール共重合体のラメラスタック体を有するペレットを得る工程である、方法。
【請求項12】
前記乾燥が、ベルト式乾燥機を使用して実施される、請求項１１に記載の方法。
【請求項13】
前記ベルト式乾燥機の気体流速が、少なくとも１５トン／時である、請求項１２に記載
の方法。
の方法。
【請求項14】
前記ペレットは、前記ペレットの全重量に対して０．３重量％以下の水分含有量を含む
、請求項１１に記載の方法。
、請求項１１に記載の方法。
【請求項15】
前記エチレン－ビニルアルコール共重合体のエチレン含有量が、２９～４４モル％であ
る、請求項１４に記載の方法。
る、請求項１４に記載の方法。
【請求項16】
前記エチレン－ビニルアルコール共重合体のラメラスタックが、少なくとも８．３５ｎ
ｍの小角Ｘ線散乱によって測定された場合に長周期を有する、請求項１１に記載の方法。
ｍの小角Ｘ線散乱によって測定された場合に長周期を有する、請求項１１に記載の方法。
【請求項17】
前記エチレン－ビニルアルコール共重合体のラメラスタックの平均結晶層厚が、少なく
とも６ｎｍである、請求項１６に記載の方法。
とも６ｎｍである、請求項１６に記載の方法。
【請求項18】
前記エチレン－ビニルアルコール共重合体のラメラスタックの平均非晶層厚が、少なく
とも２．３５ｎｍである、請求項１６に記載の方法。
とも２．３５ｎｍである、請求項１６に記載の方法。
【請求項19】
前記ペレットは融点温度Ｔｍ２、Ｔｍ３、および任意選択でＴｍ１を含み、前記３つの
融点温度がＩＳＯ １１３５７－３：２０１１に従って示差走査熱量測定法（ＤＳＣ）で
測定され、かつ、
Ｔｍ１が存在する場合に， Ｔｍ１は１回目のＤＳＣ実行での２本の接線の第１交点を
表し、
Ｔｍ２は１回目のＤＳＣ実行での融解ピークの最高点を表し、
Ｔｍ３は２回目のＤＳＣ実行での融解ピークの最高点を表し、ここでＴｍ１＜Ｔｍ２＜
Ｔｍ３である請求項１１に記載の方法。
融点温度がＩＳＯ １１３５７－３：２０１１に従って示差走査熱量測定法（ＤＳＣ）で
測定され、かつ、
Ｔｍ１が存在する場合に， Ｔｍ１は１回目のＤＳＣ実行での２本の接線の第１交点を
表し、
Ｔｍ２は１回目のＤＳＣ実行での融解ピークの最高点を表し、
Ｔｍ３は２回目のＤＳＣ実行での融解ピークの最高点を表し、ここでＴｍ１＜Ｔｍ２＜
Ｔｍ３である請求項１１に記載の方法。
【請求項20】
Ｔｍ１とＴｍ２との間の差が、６５℃以内である、請求項１９に記載の方法。
【請求項21】
Ｔｍ１とＴｍ２との間の差が、４０℃以内である、請求項２０に記載の方法。
【請求項22】
Ｔｍ２とＴｍ３との間の差が、４．５℃以内である、請求項１８に記載の方法。
【請求項23】
（ｉ）第１段階には、予備乾燥された粒子を少なくとも６５℃の温度に少なくとも２時
間加熱することが含まれ；
（ｉｉ）第２段階には、予備乾燥された粒子を少なくとも９５℃の温度に少なくとも１
６時間加熱することが含まれ；
（ｉｉｉ）第３段階には、予備乾燥された粒子を少なくとも１１０℃の温度に１６時間
加熱することが含まれる、請求項１１の方法。
間加熱することが含まれ；
（ｉｉ）第２段階には、予備乾燥された粒子を少なくとも９５℃の温度に少なくとも１
６時間加熱することが含まれ；
（ｉｉｉ）第３段階には、予備乾燥された粒子を少なくとも１１０℃の温度に１６時間
加熱することが含まれる、請求項１１の方法。
【請求項24】
第１段階、第２段階、および第３段階のうちの少なくとも１つの間、温度が２０℃の範
囲内に維持される、請求項２３に記載の方法。
囲内に維持される、請求項２３に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、調整された第１の融点を有するエチレン－ビニルアルコール共重合体ペレッ
トに関する。本発明はまた、調整された第１の融点を有するＥＶＯＨペレットの製造方法
にも関する。
トに関する。本発明はまた、調整された第１の融点を有するＥＶＯＨペレットの製造方法
にも関する。
【背景技術】
【0002】
エチレン－ビニルアルコール共重合体樹脂は、腐敗しやすい物を保存するためにフィル
ムおよび積層体に広く応用されている。例えばエチレン－ビニルアルコール共重合体のフ
ィルムおよび積層体は、食品包装業、医療機器と消耗品業、製薬業、電子業、農業用化学
品工業でよく使用されている。エチレン－ビニルアルコール共重合体樹脂は、通常、酸素
バリア層として機能するため、ユニークな層として積層体に組み込まれる。
ムおよび積層体に広く応用されている。例えばエチレン－ビニルアルコール共重合体のフ
ィルムおよび積層体は、食品包装業、医療機器と消耗品業、製薬業、電子業、農業用化学
品工業でよく使用されている。エチレン－ビニルアルコール共重合体樹脂は、通常、酸素
バリア層として機能するため、ユニークな層として積層体に組み込まれる。
【0003】
エチレン－ビニルアルコール共重合体のフィルムおよび積層体は、通常押出法で製造さ
れ、エチレン－ビニルアルコール共重合体樹脂（通常はペレット形態）を押し出してエチ
レン－ビニルアルコール共重合体のフィルムを製造する。多層押出機は、異なる材料から
なる付加フィルムを含む積層体を製造するために用いられることができる。エチレン－ビ
ニルアルコール共重合体ペレットを溶融するため、押出機は、押出のために用いられる投
入材料の融点温度に等しいかまたはそれに近い温度を利用する。
れ、エチレン－ビニルアルコール共重合体樹脂（通常はペレット形態）を押し出してエチ
レン－ビニルアルコール共重合体のフィルムを製造する。多層押出機は、異なる材料から
なる付加フィルムを含む積層体を製造するために用いられることができる。エチレン－ビ
ニルアルコール共重合体ペレットを溶融するため、押出機は、押出のために用いられる投
入材料の融点温度に等しいかまたはそれに近い温度を利用する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】米国特許出願公開第２０１３／００５９９６７号明細書
【非特許文献】
【0005】
【非特許文献1】Ｓｔｒｏｂｌ，Ｇ．Ｒ．；Ｓｃｈｎｅｉｄｅｒ，Ｍ．Ｊ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍ．Ｐｈｙｓ．Ｅｄ．１９８０，１８，１３４３
【非特許文献2】Ｇｌａｔｔｅｒ，Ｏ．，Ｋｒａｔｋｙ，Ｏ．（Ｓｍａｌｌ Ａｎｇｌｅ Ｘ－ｒａｙ Ｓｃａｔｔｅｒｉｎｇ） （Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓ：Ｌｏｎｄｏｎ，１９８３）
【非特許文献3】ＡＳＴＭ国際規格Ｄ７０２８－０７の動的機械分析（ＤＭＡ）によるポリマーマトリックス複合材のガラス転移温度（ＤＭＡ Ｔｇ）の標準試験法（Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｔｅｓｔ ｆｏｒ Ｇｌａｓｓ Ｔｒａｎｓｉｔｉｏｎ Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｍａｔｒｉｘ Ｃｏｍｐｏｓｉｔｅｓ ｂｙ Ｄｙｎａｍｉｃ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ａｎａｌｙｓｉｓ）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
発明者は、エチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットの第１融点温度を調整して、
押出機に投入する前のペレットの第１融点温度を下げることで、エチレン－ビニルアルコ
ール共重合体のフィルムおよび／または積層体を大幅に改善できることを見出した。特定
の理論に限定されることなく、おそらくエチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットの
ラメラスタックを制御することによって例えば長周期、非晶層厚および／または結晶層厚
などの所望の特性を持たせることで、エチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットの部
分的な早期溶融の量を低減または除去できると考えられる。
押出機に投入する前のペレットの第１融点温度を下げることで、エチレン－ビニルアルコ
ール共重合体のフィルムおよび／または積層体を大幅に改善できることを見出した。特定
の理論に限定されることなく、おそらくエチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットの
ラメラスタックを制御することによって例えば長周期、非晶層厚および／または結晶層厚
などの所望の特性を持たせることで、エチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットの部
分的な早期溶融の量を低減または除去できると考えられる。
【課題を解決するための手段】
【0007】
通常、エチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットは、エチレン－ビニルアルコール
共重合体のラメラスタックを有し、前記ラメラスタックが、少なくとも８．３５ｎｍの小
角Ｘ線散乱によって測定された場合に長周期を有する。エチレン－ビニルアルコール共重
合体のラメラスタックは、少なくとも６ｎｍの平均結晶層厚を有し得る。追加または代替
として、エチレン－ビニルアルコール共重合体のラメラスタックは、少なくとも２．３５
ｎｍの平均非晶層厚を有し得る。
共重合体のラメラスタックを有し、前記ラメラスタックが、少なくとも８．３５ｎｍの小
角Ｘ線散乱によって測定された場合に長周期を有する。エチレン－ビニルアルコール共重
合体のラメラスタックは、少なくとも６ｎｍの平均結晶層厚を有し得る。追加または代替
として、エチレン－ビニルアルコール共重合体のラメラスタックは、少なくとも２．３５
ｎｍの平均非晶層厚を有し得る。
【0008】
場合によっては、ペレットは、融点温度Ｔｍ２、Ｔｍ３、ならびに任意選択でＴｍ１を
含み、融点温度がＩＳＯ １１３５７－３：２０１１に従って示差走査熱量測定法（ｄｉ
ｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ ｓｃａｎｎｉｎｇ ｃａｌｏｒｉｍｅｔｒｙ、ＤＳＣ）で測定さ
れる。Ｔｍ１が存在する場合に、Ｔｍ１は、１回目のＤＳＣ実行での２本の接線の第１交
点を表す。Ｔｍ２は、１回目のＤＳＣ実行での融解ピークの最高点を表し、Ｔｍ３は２回
目のＤＳＣ実行での融解ピークの最高点を表し、ここでＴｍ１＜Ｔｍ２＜Ｔｍ３である。
Ｔｍ１とＴｍ２との間の差は、好ましくは６５℃以内である。Ｔｍ１とＴｍ２との間の差
は、４０℃以内であり得る。場合によっては、Ｔｍ２とＴｍ３との間の差は、４．５℃以
内である。
含み、融点温度がＩＳＯ １１３５７－３：２０１１に従って示差走査熱量測定法（ｄｉ
ｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ ｓｃａｎｎｉｎｇ ｃａｌｏｒｉｍｅｔｒｙ、ＤＳＣ）で測定さ
れる。Ｔｍ１が存在する場合に、Ｔｍ１は、１回目のＤＳＣ実行での２本の接線の第１交
点を表す。Ｔｍ２は、１回目のＤＳＣ実行での融解ピークの最高点を表し、Ｔｍ３は２回
目のＤＳＣ実行での融解ピークの最高点を表し、ここでＴｍ１＜Ｔｍ２＜Ｔｍ３である。
Ｔｍ１とＴｍ２との間の差は、好ましくは６５℃以内である。Ｔｍ１とＴｍ２との間の差
は、４０℃以内であり得る。場合によっては、Ｔｍ２とＴｍ３との間の差は、４．５℃以
内である。
【0009】
本発明の別の態様は、本明細書に記載されるような好ましいラメラスタック特性を有す
るペレットなどのエチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットの製造方法を提供する。
エチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットの製造方法は、通常、以下の工程（ａ）と
工程（ｂ）を含み、
（ａ）は平均直径１００ｃｍ以下の粒子堆積厚を使用してエチレン－ビニルアルコール
共重合体粒子を３段階乾燥処理するエチレン－ビニルアルコール共重合体粒子の乾燥工程
であり；前記３段階乾燥処理が第１段階、第１段階後の第２段階、および第２段階後の第
３段階を含み、
（ｉ）第１段階には、予備乾燥された粒子を少なくとも６５℃の温度に少なくとも２
時間加熱することが含まれ；
（ｉｉ）第２段階には、予備乾燥された粒子を少なくとも９５℃の温度に少なくとも
１６時間加熱することが含まれ；
（ｉｉｉ）第３段階には、予備乾燥された粒子を少なくとも１０５℃の温度に１２時
間加熱することが含まれ；
前提は、第２段階の温度は第１段階の温度よりも高く、第３段階の温度が第２段階の温
度よりも高い；
（ｂ）はエチレン－ビニルアルコール共重合体粒子をペレット化して、エチレン－ビニ
ルアルコール共重合体のラメラスタック体を有するペレットを得る工程である。
るペレットなどのエチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットの製造方法を提供する。
エチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットの製造方法は、通常、以下の工程（ａ）と
工程（ｂ）を含み、
（ａ）は平均直径１００ｃｍ以下の粒子堆積厚を使用してエチレン－ビニルアルコール
共重合体粒子を３段階乾燥処理するエチレン－ビニルアルコール共重合体粒子の乾燥工程
であり；前記３段階乾燥処理が第１段階、第１段階後の第２段階、および第２段階後の第
３段階を含み、
（ｉ）第１段階には、予備乾燥された粒子を少なくとも６５℃の温度に少なくとも２
時間加熱することが含まれ；
（ｉｉ）第２段階には、予備乾燥された粒子を少なくとも９５℃の温度に少なくとも
１６時間加熱することが含まれ；
（ｉｉｉ）第３段階には、予備乾燥された粒子を少なくとも１０５℃の温度に１２時
間加熱することが含まれ；
前提は、第２段階の温度は第１段階の温度よりも高く、第３段階の温度が第２段階の温
度よりも高い；
（ｂ）はエチレン－ビニルアルコール共重合体粒子をペレット化して、エチレン－ビニ
ルアルコール共重合体のラメラスタック体を有するペレットを得る工程である。
【0010】
ペレットの製造方法は、予備乾燥されたペレットを少なくとも１１０℃の温度に１６時
間加熱することを含む、乾燥の第３段階を含み得る。第１段階、第２段階、および第３段
階のうちの少なくとも１つの間、温度は２０℃の範囲内に維持され得る。場合によっては
、（ａ）の乾燥はベルト式乾燥を使用して実施される。ベルト式乾燥機の気体流速は、少
なくとも１５トン／時にすることができる。
間加熱することを含む、乾燥の第３段階を含み得る。第１段階、第２段階、および第３段
階のうちの少なくとも１つの間、温度は２０℃の範囲内に維持され得る。場合によっては
、（ａ）の乾燥はベルト式乾燥を使用して実施される。ベルト式乾燥機の気体流速は、少
なくとも１５トン／時にすることができる。
【0011】
前記方法は、前記ペレットの全重量に対して０．３重量％以下の水分含有量を含むエチ
レン－ビニルアルコール共重合体ペレットを使用することができる。追加または代替とし
て、エチレン－ビニルアルコール共重合体は、２９～４４モル％のエチレン含有量を有し
得る。少なくとも８．３５ｎｍの小角Ｘ線散乱測定によって測定された場合、前記ペレッ
トのエチレン－ビニルアルコール共重合体のラメラスタックは長周期を持つことができる
。前記ペレットのエチレン－ビニルアルコール共重合体のラメラスタックは、好ましくは
、少なくとも６ｎｍの平均結晶層厚を有する。少なくともいくつかの好ましい場合におい
て、前記ペレットのエチレン－ビニルアルコール共重合体のラメラスタックは、少なくと
も２．３５ｎｍの平均非晶層厚を有する。
レン－ビニルアルコール共重合体ペレットを使用することができる。追加または代替とし
て、エチレン－ビニルアルコール共重合体は、２９～４４モル％のエチレン含有量を有し
得る。少なくとも８．３５ｎｍの小角Ｘ線散乱測定によって測定された場合、前記ペレッ
トのエチレン－ビニルアルコール共重合体のラメラスタックは長周期を持つことができる
。前記ペレットのエチレン－ビニルアルコール共重合体のラメラスタックは、好ましくは
、少なくとも６ｎｍの平均結晶層厚を有する。少なくともいくつかの好ましい場合におい
て、前記ペレットのエチレン－ビニルアルコール共重合体のラメラスタックは、少なくと
も２．３５ｎｍの平均非晶層厚を有する。
【0012】
前記ペレットは、融点温度Ｔｍ２、Ｔｍ３、ならびに任意選択でＴｍ１を含み、融点温
度がＩＳＯ １１３５７－３：２０１１に従って示差走査熱量測定法（ＤＳＣ）で測定さ
れる。場合によっては、Ｔｍ１が存在する場合に， Ｔｍ１は、１回目のＤＳＣ実行での
２本の接線の第１交点を表し、Ｔｍ２は１回目のＤＳＣ実行での融解ピークの最高点を表
し、Ｔｍ３は２回目のＤＳＣ実行での融解ピークの最高点を表し、ここでＴｍ１＜Ｔｍ２
＜Ｔｍ３である。Ｔｍ１とＴｍ２との間の差は、好ましくは６５℃以内である。追加また
は代替として、Ｔｍ１とＴｍ２との間の差は、４０℃以内であり得る。場合によっては、
Ｔｍ２とＴｍ３との間の差は、４．５℃以内である。
度がＩＳＯ １１３５７－３：２０１１に従って示差走査熱量測定法（ＤＳＣ）で測定さ
れる。場合によっては、Ｔｍ１が存在する場合に， Ｔｍ１は、１回目のＤＳＣ実行での
２本の接線の第１交点を表し、Ｔｍ２は１回目のＤＳＣ実行での融解ピークの最高点を表
し、Ｔｍ３は２回目のＤＳＣ実行での融解ピークの最高点を表し、ここでＴｍ１＜Ｔｍ２
＜Ｔｍ３である。Ｔｍ１とＴｍ２との間の差は、好ましくは６５℃以内である。追加また
は代替として、Ｔｍ１とＴｍ２との間の差は、４０℃以内であり得る。場合によっては、
Ｔｍ２とＴｍ３との間の差は、４．５℃以内である。
【0013】
以下に、添付図面および実施例を参照しつつ本発明の技術を詳細に説明する。
【図面の簡単な説明】
【0014】
【図1】本発明に係るエチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットに用いられるエチレン－ビニルアルコール共重合体のラメラスタックを示す概略図である。
【図2】本発明に係る例示的なエチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットの２θの１次元マップ（１Ｄ ｍａｐ）と散乱強度との対応関係を示す図である。
【図3】本発明による例示的なエチレン－ビニルアルコール共重合体粒子の非晶厚さおよび長周期の識別を示すグラフである。
【図4】本発明に係る例示的なエチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットの示差走査熱量測定グラフである。
【図5】本発明に係るエチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットを乾燥させるためのベルト式乾燥機を示す概略図である。
【図6】本発明に係るエチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットを乾燥させるためのタワー式乾燥機を示す概略図である。
【図7】エチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットを投入するためのホッパーを備えたスクリュー押出機の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0015】
様々な態様は、図面に示される配置および手段に限定されないことを理解されたい。
【0016】
発明者は、エチレン－ビニルアルコール（ｅｔｈｙｌｅｎｅ－ｖｉｎｙｌ ａｌｃｏｈ
ｏｌ，ＥＶＯＨ）共重合体ペレットの第１融点温度を調整して、押出機に投入する前のペ
レットの第１融点温度を下げることで、ＥＶＯＨフィルムまたは積層体を大幅に改善でき
ることを見出した。エチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットの第１融点温度を下げ
るかまたはなくしてから、ペレットを押出機に供給する時ホッパーネック部内でのペレッ
トがより少なく溶融するか、または溶融しない（図７）。特定の理論に限定されることな
く、おそらくエチレン－ビニルアルコール共重合体のラメラスタックを制御することによ
って例えば長周期、非晶層厚および／または結晶層厚などの所望の特性を持たせることで
、エチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットの部分的な早期溶融の量を低減または除
去できると考えられる。
ｏｌ，ＥＶＯＨ）共重合体ペレットの第１融点温度を調整して、押出機に投入する前のペ
レットの第１融点温度を下げることで、ＥＶＯＨフィルムまたは積層体を大幅に改善でき
ることを見出した。エチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットの第１融点温度を下げ
るかまたはなくしてから、ペレットを押出機に供給する時ホッパーネック部内でのペレッ
トがより少なく溶融するか、または溶融しない（図７）。特定の理論に限定されることな
く、おそらくエチレン－ビニルアルコール共重合体のラメラスタックを制御することによ
って例えば長周期、非晶層厚および／または結晶層厚などの所望の特性を持たせることで
、エチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットの部分的な早期溶融の量を低減または除
去できると考えられる。
【0017】
本発明の一態様は、ラメラスタックを有するエチレン－ビニルアルコール共重合体ペレ
ットを提供し、前記ラメラスタックが少なくとも８．３５ｎｍの小角Ｘ線散乱によって測
定された時に長周期を有する。本明細書において用いられる場合、用語「長周期」とは、
平均非晶層厚（Ｌａ）に加えて、小角Ｘ線散乱によって測定されるエチレン系ポリマーラ
メラスタックの平均結晶層厚（Ｌｃ）をいう。具体的にローレンツ補正（Ｌｏｒｅｎｔｚ
－ｃｏｒｒｅｃｔｅｄ）の小角Ｘ線散乱（ｓｍａｌｌ－ａｎｇｌｅ Ｘ－ｒａｙ ｓｃａ
ｔｔｅｒｉｎｇ、ＳＡＸＳ）プロファイルによって長周期が得られる。図１は、エチレン
－ビニルアルコール共重合体のラメラスタックの概略図を示す。
ットを提供し、前記ラメラスタックが少なくとも８．３５ｎｍの小角Ｘ線散乱によって測
定された時に長周期を有する。本明細書において用いられる場合、用語「長周期」とは、
平均非晶層厚（Ｌａ）に加えて、小角Ｘ線散乱によって測定されるエチレン系ポリマーラ
メラスタックの平均結晶層厚（Ｌｃ）をいう。具体的にローレンツ補正（Ｌｏｒｅｎｔｚ
－ｃｏｒｒｅｃｔｅｄ）の小角Ｘ線散乱（ｓｍａｌｌ－ａｎｇｌｅ Ｘ－ｒａｙ ｓｃａ
ｔｔｅｒｉｎｇ、ＳＡＸＳ）プロファイルによって長周期が得られる。図１は、エチレン
－ビニルアルコール共重合体のラメラスタックの概略図を示す。
【0018】
例えば、「Ｃｕ放射線」および面積検出器を備えたＲＩＧＡＫＵ ＭＩＣＲＯ ＳＯＵ
ＲＣＥＸ線発生装置でＳＡＸＳデータを収集することができる。ＰＣ（ＬＡＢ ＶＩＥＷ
ソフトウェア）を介して制御される精密ステッピングモーターでサンプルをビーム内に配
置できる。分析前に、空気バックグラウンド（Ｉ（ｑ）ｂ）に対して散乱データＩ（ｑ）
を補正でき、ここで、ｑは波数ベクトルであり、（４π／λ）ｓｉｎ（θ／２）に等しく
、ここで、λとθはそれぞれＸ線の波長と散乱角である。試験サンプルの厚さは約１ｍｍ
で、ペレットから切り取ることができ、その表面積がＸ線ビームのサイズによって決まる
と共にそれに応じて調整できる。
ＲＣＥＸ線発生装置でＳＡＸＳデータを収集することができる。ＰＣ（ＬＡＢ ＶＩＥＷ
ソフトウェア）を介して制御される精密ステッピングモーターでサンプルをビーム内に配
置できる。分析前に、空気バックグラウンド（Ｉ（ｑ）ｂ）に対して散乱データＩ（ｑ）
を補正でき、ここで、ｑは波数ベクトルであり、（４π／λ）ｓｉｎ（θ／２）に等しく
、ここで、λとθはそれぞれＸ線の波長と散乱角である。試験サンプルの厚さは約１ｍｍ
で、ペレットから切り取ることができ、その表面積がＸ線ビームのサイズによって決まる
と共にそれに応じて調整できる。
【0019】
エチレン－ビニルアルコール共重合体によって形成された形成された交互の結晶性およ
び非晶ラメラスタックの場合、長周期（Ｌ）は、平均非晶層厚（Ｌａ）および平均結晶層
厚（Ｌｃ）の合計である（（Ｌ）＝（Ｌａ）＋（Ｌｃ））であり、次の３つの方法で評価
できる。
び非晶ラメラスタックの場合、長周期（Ｌ）は、平均非晶層厚（Ｌａ）および平均結晶層
厚（Ｌｃ）の合計である（（Ｌ）＝（Ｌａ）＋（Ｌｃ））であり、次の３つの方法で評価
できる。
【0020】
［方法１］
方法１において、長周期Ｌは、ローレンツ補正の小角度散乱プロファイル「Ｉ（ｑ）ｑ
２およびｑ」によって測定され、ここでＩ（ｑ）は散乱強度、ｑは散乱ベクトルであり、
ｑ＝４πｓｉｎ（θ／２）／λで定義され、ここでλはＸ線の波長、θは散乱角である。
長周期は、次の式から得られる。
Ｌ＝２π／ｑ＊
ここで、ｑ＊は、ローレンツ補正のＳＡＸプロファイルのピーク位置である。例えば、
この方法は、特許文献１に記載されている。
方法１において、長周期Ｌは、ローレンツ補正の小角度散乱プロファイル「Ｉ（ｑ）ｑ
２およびｑ」によって測定され、ここでＩ（ｑ）は散乱強度、ｑは散乱ベクトルであり、
ｑ＝４πｓｉｎ（θ／２）／λで定義され、ここでλはＸ線の波長、θは散乱角である。
長周期は、次の式から得られる。
Ｌ＝２π／ｑ＊
ここで、ｑ＊は、ローレンツ補正のＳＡＸプロファイルのピーク位置である。例えば、
この方法は、特許文献１に記載されている。
【0021】
［方法２］
方法２において、良好な結晶－非晶交互スタッキングが存在する場合、長周期は、小角
Ｘ線散乱データで確定される相関関数によって決定される。一次元相関関数（γ（ｚ））
はＳＡＸＳデータから得られる。長周期（Ｌ）、平均非晶層厚（Ｌａ）、平均結晶層厚（
Ｌｃ）は、それぞれ、次の式を有する小角Ｘ線の生データから得られる１次元相関関数γ
（ｚ）によって決定される。
γ（ｚ）＝（１γ（０））∫０ ∞ｑ２［Ｉ（ｑ）－Ｉ（ｑ）ｂ］ｃｏｓ（ｑｚ）ｄｑ
ここで、ｚは、電子密度分布を測定する方向に沿った相対距離である。ｑ値の定義は上
記の通りである。Ｉ（ｑ）値は散乱強度である。実験的に得られるｑの範囲が限られてい
るため、データをより低いｑ値とより高いｑ値に拡張しなければならない。Ｉ（ｑ）ｂ値
は、バックグラウンド散乱強度である。「ｑに対する強度」データは、最小測定値のｑ値
からゼロ点まで線形外挿される。非特許文献１と非特許文献に記載されるように、Ｐｏｒ
ｏｄ－Ｒｕｌａｎｄ理論を使用して大きなｑ値を無限のｑに減衰させ、これらの文献はす
べて参照により本明細書に組み込まれる。
方法２において、良好な結晶－非晶交互スタッキングが存在する場合、長周期は、小角
Ｘ線散乱データで確定される相関関数によって決定される。一次元相関関数（γ（ｚ））
はＳＡＸＳデータから得られる。長周期（Ｌ）、平均非晶層厚（Ｌａ）、平均結晶層厚（
Ｌｃ）は、それぞれ、次の式を有する小角Ｘ線の生データから得られる１次元相関関数γ
（ｚ）によって決定される。
γ（ｚ）＝（１γ（０））∫０ ∞ｑ２［Ｉ（ｑ）－Ｉ（ｑ）ｂ］ｃｏｓ（ｑｚ）ｄｑ
ここで、ｚは、電子密度分布を測定する方向に沿った相対距離である。ｑ値の定義は上
記の通りである。Ｉ（ｑ）値は散乱強度である。実験的に得られるｑの範囲が限られてい
るため、データをより低いｑ値とより高いｑ値に拡張しなければならない。Ｉ（ｑ）ｂ値
は、バックグラウンド散乱強度である。「ｑに対する強度」データは、最小測定値のｑ値
からゼロ点まで線形外挿される。非特許文献１と非特許文献に記載されるように、Ｐｏｒ
ｏｄ－Ｒｕｌａｎｄ理論を使用して大きなｑ値を無限のｑに減衰させ、これらの文献はす
べて参照により本明細書に組み込まれる。
【0022】
Ｘ線散乱角データは、例えば両面カプトンテープ（Ｋａｐｔｏｎ ｔａｐｅ）（（黒色
耐熱テープ）を用いて、エチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットの粒子をサンプル
ホルダに固定することによって得られる。真空引き後、サンプルをＸ線に３００秒間照射
し、２Ｄ散乱スペクトルで分析することができる。２θの１Ｄマップは、相関関数変換式
で２Ｄ散乱スペクトルを積分することによって生成できる。例えば図２は、式Ｑ＝４πｓ
ｉｎθ／λと上記の一次元相関関数変換式を用いて得られた２θの１次元マップ（１Ｄ
ｍａｐ）と散乱強度との対応関係を示す図である。図３は、Ｚ＝０での接線と、最低点か
ら始まる曲線の最低点（非晶の厚さ（「ｌａ」））と見なされる）との交点を示している
。なお、図３の曲線の最高点は、長周期（「Ｌ」）と見なされ、Ｌから「ｌａ」を引いた
ものは、層厚（「ｌｃ」）に等しい。
耐熱テープ）を用いて、エチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットの粒子をサンプル
ホルダに固定することによって得られる。真空引き後、サンプルをＸ線に３００秒間照射
し、２Ｄ散乱スペクトルで分析することができる。２θの１Ｄマップは、相関関数変換式
で２Ｄ散乱スペクトルを積分することによって生成できる。例えば図２は、式Ｑ＝４πｓ
ｉｎθ／λと上記の一次元相関関数変換式を用いて得られた２θの１次元マップ（１Ｄ
ｍａｐ）と散乱強度との対応関係を示す図である。図３は、Ｚ＝０での接線と、最低点か
ら始まる曲線の最低点（非晶の厚さ（「ｌａ」））と見なされる）との交点を示している
。なお、図３の曲線の最高点は、長周期（「Ｌ」）と見なされ、Ｌから「ｌａ」を引いた
ものは、層厚（「ｌｃ」）に等しい。
【0023】
場合によっては、エチレン－ビニルアルコール共重合体のラメラスタックの長周期は、
少なくとも８．４０ｎｍ、少なくとも８．４５ｎｍ、少なくとも８．５ｎｍ、少なくとも
８．５５ｎｍ、少なくとも８．６ｎｍ、少なくとも８．６５ｎｍである。少なくとも８．
７ｎｍ、少なくとも８．７５ｎｍ、少なくとも８．８ｎｍ、少なくとも８．８５ｎｍ、少
なくとも８．９ｎｍ、または少なくとも８．９５ｎｍである。場合によっては、前記長周
期は、少なくとも９ｎｍ、少なくとも９．１ｎｍ、少なくとも９．２ｎｍ、少なくとも９
．３ｎｍ、少なくとも９．４ｎｍ、少なくとも９．５ｎｍ、少なくとも９．６ｎｍ、少な
くとも９．７ｎｍ、少なくとも９．８、少なくとも９．９ｎｍ、少なくとも１０ｎｍ、少
なくとも１０．１ｎｍ、少なくとも１０．２ｎｍ、少なくとも１０．３ｎｍ、少なくとも
１０．４ｎｍ、少なくとも１０．５ｎｍ、少なくとも１０．６ｎｍ、少なくとも１０．７
ｎｍ、少なくとも１０．８ｎｍ、少なくとも１０．９ｎｍ、少なくとも１１ｎｍ、少なく
とも１１．１ｎｍ、少なくとも１１．２ｎｍ、少なくとも１１．３ｎｍ、少なくとも１１
．４ｎｍ、少なくとも１１．５ｎｍ、少なくとも１１．６ｎｍ、少なくとも１１．７ｎｍ
、少なくとも１１．８ｎｍ、少なくとも１１．９ｎｍ、少なくとも１２ｎｍ、少なくとも
１２．１ｎｍ、少なくとも１２．２ｎｍ、または少なくとも１２．３ｎｍである。
少なくとも８．４０ｎｍ、少なくとも８．４５ｎｍ、少なくとも８．５ｎｍ、少なくとも
８．５５ｎｍ、少なくとも８．６ｎｍ、少なくとも８．６５ｎｍである。少なくとも８．
７ｎｍ、少なくとも８．７５ｎｍ、少なくとも８．８ｎｍ、少なくとも８．８５ｎｍ、少
なくとも８．９ｎｍ、または少なくとも８．９５ｎｍである。場合によっては、前記長周
期は、少なくとも９ｎｍ、少なくとも９．１ｎｍ、少なくとも９．２ｎｍ、少なくとも９
．３ｎｍ、少なくとも９．４ｎｍ、少なくとも９．５ｎｍ、少なくとも９．６ｎｍ、少な
くとも９．７ｎｍ、少なくとも９．８、少なくとも９．９ｎｍ、少なくとも１０ｎｍ、少
なくとも１０．１ｎｍ、少なくとも１０．２ｎｍ、少なくとも１０．３ｎｍ、少なくとも
１０．４ｎｍ、少なくとも１０．５ｎｍ、少なくとも１０．６ｎｍ、少なくとも１０．７
ｎｍ、少なくとも１０．８ｎｍ、少なくとも１０．９ｎｍ、少なくとも１１ｎｍ、少なく
とも１１．１ｎｍ、少なくとも１１．２ｎｍ、少なくとも１１．３ｎｍ、少なくとも１１
．４ｎｍ、少なくとも１１．５ｎｍ、少なくとも１１．６ｎｍ、少なくとも１１．７ｎｍ
、少なくとも１１．８ｎｍ、少なくとも１１．９ｎｍ、少なくとも１２ｎｍ、少なくとも
１２．１ｎｍ、少なくとも１２．２ｎｍ、または少なくとも１２．３ｎｍである。
【0024】
エチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットは、少なくとも６ｎｍの平均結晶層厚を
有するラメラスタックを有し得る。場合によっては、前記平均結晶層厚は、少なくとも６
．１ｎｍ、少なくとも６．２ｎｍ、少なくとも６．３ｎｍ、少なくとも６．４ｎｍ、少な
くとも６．５ｎｍ、少なくとも６．６ｎｍ、少なくとも６．７ｎｍ、少なくとも６．８ｎ
ｍまたは少なくとも６．９ｎｍである。他の場合において、前記平均結晶層厚は、少なく
とも７ｎｍ、少なくとも７．１ｎｍ、少なくとも７．２ｎｍ、少なくとも７．３ｎｍ、少
なくとも７．４ｎｍ、少なくとも７．５ｎｍ、少なくとも７．６ｎｍ、少なくとも７．７
ｎｍ、少なくとも７．８ｎｍ、または少なくとも７．９ｎｍである。また、他の場合にお
いて、前記平均結晶層厚は、少なくとも８ｎｍ、少なくとも８．１ｎｍ、少なくとも８．
２ｎｍ、または少なくとも８．３ｎｍである。
有するラメラスタックを有し得る。場合によっては、前記平均結晶層厚は、少なくとも６
．１ｎｍ、少なくとも６．２ｎｍ、少なくとも６．３ｎｍ、少なくとも６．４ｎｍ、少な
くとも６．５ｎｍ、少なくとも６．６ｎｍ、少なくとも６．７ｎｍ、少なくとも６．８ｎ
ｍまたは少なくとも６．９ｎｍである。他の場合において、前記平均結晶層厚は、少なく
とも７ｎｍ、少なくとも７．１ｎｍ、少なくとも７．２ｎｍ、少なくとも７．３ｎｍ、少
なくとも７．４ｎｍ、少なくとも７．５ｎｍ、少なくとも７．６ｎｍ、少なくとも７．７
ｎｍ、少なくとも７．８ｎｍ、または少なくとも７．９ｎｍである。また、他の場合にお
いて、前記平均結晶層厚は、少なくとも８ｎｍ、少なくとも８．１ｎｍ、少なくとも８．
２ｎｍ、または少なくとも８．３ｎｍである。
【0025】
好ましい実施例において、前記エチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットは、少な
くとも２．３５ｎｍの平均非晶層厚を有するラメラスタックを有する。前記平均非晶層厚
は、少なくとも２．４ｎｍ、少なくとも２．５ｎｍ、少なくとも２．６ｎｍ、少なくとも
２．７ｎｍ、少なくとも２．８ｎｍ、または少なくとも２．９ｎｍであり得る。例えば非
晶層厚は、少なくとも３ｎｍ、少なくとも３．１ｎｍ、少なくとも３．２ｎｍ、少なくと
も３．３ｎｍ、少なくとも３．４ｎｍ、少なくとも３．５ｎｍ、少なくとも３．６ｎｍ、
少なくとも３．７ｎｍ、少なくとも３．８ｎｍまたは少なくとも３．９ｎｍであり得る。
場合によっては、非晶層厚は、少なくとも４ｎｍ、少なくとも４．１ｎｍ、少なくとも４
．２ｎｍ、少なくとも４．３ｎｍ、少なくとも４．４ｎｍ、少なくとも４．５ｎｍ、少な
くとも４．６ｎｍ、少なくとも４．７ｎｍ、少なくとも４．８ｎｍ、または少なくとも４
．９ｎｍである。他の場合において、非晶層厚は、少なくとも５ｎｍ、少なくとも５．１
ｎｍ、少なくとも５．２ｎｍ、少なくとも５．３ｎｍ、少なくとも５．４ｎｍ、少なくと
も５．５ｎｍ、少なくとも５．６ｎｍ、少なくとも５．７ｎｍ、少なくとも５．８ｎｍ、
または少なくとも５．９ｎｍである。また、他の場合において、非晶層厚は、少なくとも
６ｎｍ、少なくとも６．１ｎｍ、少なくとも６．２ｎｍ、少なくとも６．３ｎｍ、少なく
とも６．４ｎｍ、少なくとも６．５ｎｍ、少なくとも６．６ｎｍ、６．７ｎｍ、少なくと
も６．８ｎｍ、または少なくとも６．９ｎｍである。
くとも２．３５ｎｍの平均非晶層厚を有するラメラスタックを有する。前記平均非晶層厚
は、少なくとも２．４ｎｍ、少なくとも２．５ｎｍ、少なくとも２．６ｎｍ、少なくとも
２．７ｎｍ、少なくとも２．８ｎｍ、または少なくとも２．９ｎｍであり得る。例えば非
晶層厚は、少なくとも３ｎｍ、少なくとも３．１ｎｍ、少なくとも３．２ｎｍ、少なくと
も３．３ｎｍ、少なくとも３．４ｎｍ、少なくとも３．５ｎｍ、少なくとも３．６ｎｍ、
少なくとも３．７ｎｍ、少なくとも３．８ｎｍまたは少なくとも３．９ｎｍであり得る。
場合によっては、非晶層厚は、少なくとも４ｎｍ、少なくとも４．１ｎｍ、少なくとも４
．２ｎｍ、少なくとも４．３ｎｍ、少なくとも４．４ｎｍ、少なくとも４．５ｎｍ、少な
くとも４．６ｎｍ、少なくとも４．７ｎｍ、少なくとも４．８ｎｍ、または少なくとも４
．９ｎｍである。他の場合において、非晶層厚は、少なくとも５ｎｍ、少なくとも５．１
ｎｍ、少なくとも５．２ｎｍ、少なくとも５．３ｎｍ、少なくとも５．４ｎｍ、少なくと
も５．５ｎｍ、少なくとも５．６ｎｍ、少なくとも５．７ｎｍ、少なくとも５．８ｎｍ、
または少なくとも５．９ｎｍである。また、他の場合において、非晶層厚は、少なくとも
６ｎｍ、少なくとも６．１ｎｍ、少なくとも６．２ｎｍ、少なくとも６．３ｎｍ、少なく
とも６．４ｎｍ、少なくとも６．５ｎｍ、少なくとも６．６ｎｍ、６．７ｎｍ、少なくと
も６．８ｎｍ、または少なくとも６．９ｎｍである。
【0026】
前記ペレットは、約２０～約６０モル％のエチレン含有量を有するエチレン－ビニルア
ルコール共重合体から形成され得る。例えば前記エチレン－ビニルアルコール共重合体の
エチレン含有量は、約２０～約６０モル％、約２０～約５５モル％、約２０～約５０モル
％、約２０～約４５モル％、約２０～約４４モル％、約２０～約４０モル％、約２０～約
３５モル％、約２０～約３０モル％、約２５～約６０モル％、約２５～約５５モル％、約
２５～約５０モル％、約２５～約４５モル％、約２５～約４４モル％、約２５～約４０モ
ル％、約２５～約３５モル％、約２９～約６０モル％、約２９～約５５モル％、約２９～
約５０モル％、約２９～約４５モル％、約２９～約４４モル％、約３５～約６０モル％％
、約３５～約５５モル％、約３５～約５０モル％、約３５～約４５モル％、約３５～約４
４モル％、約４０～約６０モル％、約４０～約５５モル％または約４０～約５０モル％で
あり得ると共にそれらの間の範囲およびサブ範囲を含む。前記エチレン－ビニルアルコー
ル共重合体のエチレン含有量は、好ましくは２９～４４モル％である。
ルコール共重合体から形成され得る。例えば前記エチレン－ビニルアルコール共重合体の
エチレン含有量は、約２０～約６０モル％、約２０～約５５モル％、約２０～約５０モル
％、約２０～約４５モル％、約２０～約４４モル％、約２０～約４０モル％、約２０～約
３５モル％、約２０～約３０モル％、約２５～約６０モル％、約２５～約５５モル％、約
２５～約５０モル％、約２５～約４５モル％、約２５～約４４モル％、約２５～約４０モ
ル％、約２５～約３５モル％、約２９～約６０モル％、約２９～約５５モル％、約２９～
約５０モル％、約２９～約４５モル％、約２９～約４４モル％、約３５～約６０モル％％
、約３５～約５５モル％、約３５～約５０モル％、約３５～約４５モル％、約３５～約４
４モル％、約４０～約６０モル％、約４０～約５５モル％または約４０～約５０モル％で
あり得ると共にそれらの間の範囲およびサブ範囲を含む。前記エチレン－ビニルアルコー
ル共重合体のエチレン含有量は、好ましくは２９～４４モル％である。
【0027】
好ましい実施例において、前記エチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットは、融点
温度Ｔｍ２、Ｔｍ３、および任意選択でＴｍ１を有し、ここで、融点温度は、ＩＳＯ １
１３５７－３：２０１１に従って示差走査熱量測定法（ＤＳＣ）で測定される。エチレン
－ビニルアルコール共重合体（およびエチレン－ビニルアルコール共重合体ペレット）の
融点は、ＩＳＯ １１３５７－３：２０１１に従って測定され、ＩＳＯ １１３５７－３
：２０１１の内容はすべて参照により本明細書に組み込まれる。例えば融点はＴＡ Ｉｎ
ｓｔｒｕｍｅｎｔ ＤＳＣ Ｑ２００で測定され得、ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｕ
ｎｉｖｅｒｓａｌ ａｎａｌｙｓｉｓ ２０００で分析でき、ここで、示差走査熱量測定
法（ＤＳＣ）は次のパラメータを利用し、
１．５０℃で平衡に達し；
２．１回目の加熱速度は５℃／分で、２５０℃に加熱し；
３．２５０℃で平衡に達し；
４．冷却速度は５℃／分で、５０℃まで冷却し；
５．５０℃で平衡に達し；
６．２回目の加熱速度は５０℃／分で、２５０℃に加熱する。
温度Ｔｍ２、Ｔｍ３、および任意選択でＴｍ１を有し、ここで、融点温度は、ＩＳＯ １
１３５７－３：２０１１に従って示差走査熱量測定法（ＤＳＣ）で測定される。エチレン
－ビニルアルコール共重合体（およびエチレン－ビニルアルコール共重合体ペレット）の
融点は、ＩＳＯ １１３５７－３：２０１１に従って測定され、ＩＳＯ １１３５７－３
：２０１１の内容はすべて参照により本明細書に組み込まれる。例えば融点はＴＡ Ｉｎ
ｓｔｒｕｍｅｎｔ ＤＳＣ Ｑ２００で測定され得、ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｕ
ｎｉｖｅｒｓａｌ ａｎａｌｙｓｉｓ ２０００で分析でき、ここで、示差走査熱量測定
法（ＤＳＣ）は次のパラメータを利用し、
１．５０℃で平衡に達し；
２．１回目の加熱速度は５℃／分で、２５０℃に加熱し；
３．２５０℃で平衡に達し；
４．冷却速度は５℃／分で、５０℃まで冷却し；
５．５０℃で平衡に達し；
６．２回目の加熱速度は５０℃／分で、２５０℃に加熱する。
【0028】
融点温度Ｔｍ２、Ｔｍ３、ならびに任意選択でＴｍ１は、示差走査熱量測定法で測定さ
れる。Ｔｍ１（本明細書では第１融点温度とも呼ばれる）は、１回目のＤＳＣ実行での２
本の接線の第１交点を表す。図４は、例示的なエチレン－ビニルアルコール共重合体ペレ
ットの示差走査熱量測定グラフである。図４に示すように、示差走査熱量測定グラフから
Ｔｍ１をから２本の接線の交点として決定され得る。より具体的に図４を使用して、変曲
点から熱流降下のほぼ中間点まで第１接線を形成でき、かつ第１基準点の後に勾配が減少
し始めるところに第２接線を形成できる。これらの接線に基づいて、第１融点温度を計算
できる。場合によっては、例えばＴｍ１＝Ｔｍ２のように、第２接線が存在しない場合、
第１融点温度Ｔｍ１を除外できる。特定の理論に限定されることなく、ペレット格子がき
ちんとしていて均一である場合、Ｔｍ１はＴｍ２に等しくなることができると考えられる
。なお、格子の厚さが厚すぎると、Ｔｍ１とＴｍ２が類似および／または等しくなる可能
性がある。例えば乾燥温度が上昇すると、非晶層厚および結晶層厚が増加し、これもＴｍ
１を上げる。非晶層厚と結晶層厚が厚くなりすぎると、Ｔｍ１とＴｍ２との間の差が小さ
くなり、Ｔｍ１がＴｍ２と類似するか等しくなる。
れる。Ｔｍ１（本明細書では第１融点温度とも呼ばれる）は、１回目のＤＳＣ実行での２
本の接線の第１交点を表す。図４は、例示的なエチレン－ビニルアルコール共重合体ペレ
ットの示差走査熱量測定グラフである。図４に示すように、示差走査熱量測定グラフから
Ｔｍ１をから２本の接線の交点として決定され得る。より具体的に図４を使用して、変曲
点から熱流降下のほぼ中間点まで第１接線を形成でき、かつ第１基準点の後に勾配が減少
し始めるところに第２接線を形成できる。これらの接線に基づいて、第１融点温度を計算
できる。場合によっては、例えばＴｍ１＝Ｔｍ２のように、第２接線が存在しない場合、
第１融点温度Ｔｍ１を除外できる。特定の理論に限定されることなく、ペレット格子がき
ちんとしていて均一である場合、Ｔｍ１はＴｍ２に等しくなることができると考えられる
。なお、格子の厚さが厚すぎると、Ｔｍ１とＴｍ２が類似および／または等しくなる可能
性がある。例えば乾燥温度が上昇すると、非晶層厚および結晶層厚が増加し、これもＴｍ
１を上げる。非晶層厚と結晶層厚が厚くなりすぎると、Ｔｍ１とＴｍ２との間の差が小さ
くなり、Ｔｍ１がＴｍ２と類似するか等しくなる。
【0029】
Ｔｍ２（本明細書では第２融点温度とも呼ばれる）は、１回目のＤＳＣ実行での融解ピ
ークの最高点を表す。Ｔｍ３（本明細書では第３融点温度とも呼ばれる）は、２回目のＤ
ＳＣ実行での融解ピークの最高点を表す。Ｔｍ２、Ｔｍ３、ならびに任意選択でＴｍ１の
測定に関するその他の情報（本明細書に開示される方法の使用を含む）は、非特許文献３
に見出すことができ、すべての目のため、この文献全体が本明細書に組み込まれる。
ークの最高点を表す。Ｔｍ３（本明細書では第３融点温度とも呼ばれる）は、２回目のＤ
ＳＣ実行での融解ピークの最高点を表す。Ｔｍ２、Ｔｍ３、ならびに任意選択でＴｍ１の
測定に関するその他の情報（本明細書に開示される方法の使用を含む）は、非特許文献３
に見出すことができ、すべての目のため、この文献全体が本明細書に組み込まれる。
【0030】
第１融点温度Ｔｍ１と第２融点温度Ｔｍ２との間の差は、６５℃以内であることが好ま
しい。例えばＴｍ１とＴｍ２との間の差は、６０℃以内、５５℃以内、５０℃以内、４５
℃以内、４０℃以内、３５℃以内、３０℃以内、２５℃以内であり得る。場合によっては
、第１融点温度Ｔｍ１が第２部の融点温度Ｔｍ２と等しい場合、第１融点温度Ｔｍ１と第
２の融点温度Ｔｍ２との間の差は、０℃である。
しい。例えばＴｍ１とＴｍ２との間の差は、６０℃以内、５５℃以内、５０℃以内、４５
℃以内、４０℃以内、３５℃以内、３０℃以内、２５℃以内であり得る。場合によっては
、第１融点温度Ｔｍ１が第２部の融点温度Ｔｍ２と等しい場合、第１融点温度Ｔｍ１と第
２の融点温度Ｔｍ２との間の差は、０℃である。
【0031】
追加または代替として、第２融点温度Ｔｍ２と第３融点温度Ｔｍ３との間の差は、４．
５℃以内であり得る。場合によっては、Ｔｍ２とＴｍ３との間の差は、４．５℃以内、４
．３℃以内、４．１℃以内、４℃以内、３．８℃以内、３．６℃以内、３．４℃以内、３
．２℃以内、３℃以内、２．８℃以内、２．６℃以内、２．４℃以内、２．２℃以内、２
℃以内、１．８℃以内、１．６℃以内、１．４℃以内、１．２℃以内、１℃以内、０．８
℃以内、０．６℃以内または０．４℃以内であり得る。
５℃以内であり得る。場合によっては、Ｔｍ２とＴｍ３との間の差は、４．５℃以内、４
．３℃以内、４．１℃以内、４℃以内、３．８℃以内、３．６℃以内、３．４℃以内、３
．２℃以内、３℃以内、２．８℃以内、２．６℃以内、２．４℃以内、２．２℃以内、２
℃以内、１．８℃以内、１．６℃以内、１．４℃以内、１．２℃以内、１℃以内、０．８
℃以内、０．６℃以内または０．４℃以内であり得る。
【0032】
エチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットは、エチレン－ビニルアルコール共重合
体ペレットの全重量に対して０．３重量％以下の水分含有量を有し得る。例えばエチレン
－ビニルアルコール共重合体ペレットの総重量を基準としてエチレン－ビニルアルコール
共重合体ペレット中に存在する水分含有量は、約０．３重量％以下、約０．２８重量％以
下、約０．２６重量％以下、約０．２４重量％以下、約０．２２重量％以下、約０．２重
量％以下、約０．１８重量％以下、約０．１６重量％以下、約０．１４重量％以下、約０
．１２重量％以下、約０．１重量％以下、約０．０８重量％以下、約０．０６重量％以下
、約０．０４重量％以下、または約０．０２重量％以下であり得る。
体ペレットの全重量に対して０．３重量％以下の水分含有量を有し得る。例えばエチレン
－ビニルアルコール共重合体ペレットの総重量を基準としてエチレン－ビニルアルコール
共重合体ペレット中に存在する水分含有量は、約０．３重量％以下、約０．２８重量％以
下、約０．２６重量％以下、約０．２４重量％以下、約０．２２重量％以下、約０．２重
量％以下、約０．１８重量％以下、約０．１６重量％以下、約０．１４重量％以下、約０
．１２重量％以下、約０．１重量％以下、約０．０８重量％以下、約０．０６重量％以下
、約０．０４重量％以下、または約０．０２重量％以下であり得る。
【0033】
エチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットは、本質的にエチレン－ビニルアルコー
ル共重合体から形成され得る。例えば、エチレン－ビニルアルコール共重合体粒子は、約
５０重量％以上、約６０重量％以上、約７０重量％以上、約８０重量％以上、約９０重量
％以上、約９２．５重量％以上、約９５重量％以上、約９６重量％以上、約９７重量％以
上、約９８重量％以上、約９９重量％以上、または約９９．５重量％以上のエチレン－ビ
ニルアルコール共重合体を含み得る。場合によっては、エチレン－ビニルアルコール共重
合体ペレットは、非エチレンポリマーを実質的に含まないまたは含まない。
ル共重合体から形成され得る。例えば、エチレン－ビニルアルコール共重合体粒子は、約
５０重量％以上、約６０重量％以上、約７０重量％以上、約８０重量％以上、約９０重量
％以上、約９２．５重量％以上、約９５重量％以上、約９６重量％以上、約９７重量％以
上、約９８重量％以上、約９９重量％以上、または約９９．５重量％以上のエチレン－ビ
ニルアルコール共重合体を含み得る。場合によっては、エチレン－ビニルアルコール共重
合体ペレットは、非エチレンポリマーを実質的に含まないまたは含まない。
【0034】
エチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットは、１つ以上のエチレン－ビニルアルコ
ール共重合体を含み得る。前記１つ以上のエチレン－ビニルアルコール共重合体は、約１
０～約４５モル％、約１５～約４０モル％、約１８～約３７モル％、約２０～約３４モル
％、約２２～約３４モル％、約２４～約３４モル％、約２８～約３４モル％、約２０～約
３２モル％、約２２～約３２モル％、約２４～約３２モル％、約２８～約３２モル％、約
２０～約３０モル％、約２２～約３０モル％、約２４～約３０モル％、または約２８～約
３０モル％、または任意の間のエチレン含有量の範囲を有し得る。場合によっては、エチ
レン－ビニルアルコール共重合体のエチレン含有量は、約２５～約７５モル％、約３０～
約７０モル％、約３６～約６５モル％、約４０～約６５モル％、約４２～約６５モル％、約４４～約６５モル％、約３６～約６０モル％、約４０～約６０モル％、約４２～約６０モル％、約４４～約６０モル％、約３６～約５５モル％、約４０～約５５モル％、約４２
～約５５モル％、約４４～約５５モル％、約３６～約５０モル％、約４０～約５０モル％、約４２～約５０モル％、または約４４～約５０モル％、またはそれらの間の任意の範囲であり得る。
ール共重合体を含み得る。前記１つ以上のエチレン－ビニルアルコール共重合体は、約１
０～約４５モル％、約１５～約４０モル％、約１８～約３７モル％、約２０～約３４モル
％、約２２～約３４モル％、約２４～約３４モル％、約２８～約３４モル％、約２０～約
３２モル％、約２２～約３２モル％、約２４～約３２モル％、約２８～約３２モル％、約
２０～約３０モル％、約２２～約３０モル％、約２４～約３０モル％、または約２８～約
３０モル％、または任意の間のエチレン含有量の範囲を有し得る。場合によっては、エチ
レン－ビニルアルコール共重合体のエチレン含有量は、約２５～約７５モル％、約３０～
約７０モル％、約３６～約６５モル％、約４０～約６５モル％、約４２～約６５モル％、約４４～約６５モル％、約３６～約６０モル％、約４０～約６０モル％、約４２～約６０モル％、約４４～約６０モル％、約３６～約５５モル％、約４０～約５５モル％、約４２
～約５５モル％、約４４～約５５モル％、約３６～約５０モル％、約４０～約５０モル％、約４２～約５０モル％、または約４４～約５０モル％、またはそれらの間の任意の範囲であり得る。
【0035】
エチレン－ビニルアルコール共重合体の鹸化度は、好ましくは約９０モル％以上、約９
１モル％以上、約９２モル％以上、約９３モル％以上、約９４モル％以上、約９５モル％
以上、約９６モル％以上、約９７モル％以上、約９８モル％以上、約９９モル％以上、約
９９．５モル％以上、約９９．７モル％以上、約９９．８モル％以上、約９９．９モル％
、または約９９．９５モル％である。
１モル％以上、約９２モル％以上、約９３モル％以上、約９４モル％以上、約９５モル％
以上、約９６モル％以上、約９７モル％以上、約９８モル％以上、約９９モル％以上、約
９９．５モル％以上、約９９．７モル％以上、約９９．８モル％以上、約９９．９モル％
、または約９９．９５モル％である。
【0036】
エチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットは、約１５～約４００ｐｐｍのホウ素含
有量を含み得る。例えばエチレン－ビニルアルコール共重合体組成物のホウ素含有量は、
約２０～約３５０ｐｐｍ、約２５～約３００ｐｐｍ、約３０～約２５０ｐｐｍ、約５０～
約２００ｐｐｍ、または約６０～約２３０ｐｐｍの範囲内、またはそれらの間の任意の範
囲であり得る。追加または代替として、エチレン－ビニルアルコール共重合体組成物は、
１０～６００ｐｐｍのアルカリ金属を有し得る。場合によっては、エチレン－ビニルアル
コール共重合体組成物中のアルカリ金属含有量は、約２０～約５５０ｐｐｍ、約３０～約
５００ｐｐｍ、約４０～約４５０ｐｐｍ、約５０～約４００ｐｐｍ、約５０～約３８０ｐｐｍ、約８０～約３７０ｐｐｍ、約１４０～約３６０ｐｐｍ、約２５０～約３５０ｐｐｍ、約２６０～約３４０ｐｐｍ、約２７０～約３３０ｐｐｍ、約２８０～約３２０ｐｐｍ、または約２９０～約３１０ｐｐｍ、またはそれらの間の任意の範囲である。
有量を含み得る。例えばエチレン－ビニルアルコール共重合体組成物のホウ素含有量は、
約２０～約３５０ｐｐｍ、約２５～約３００ｐｐｍ、約３０～約２５０ｐｐｍ、約５０～
約２００ｐｐｍ、または約６０～約２３０ｐｐｍの範囲内、またはそれらの間の任意の範
囲であり得る。追加または代替として、エチレン－ビニルアルコール共重合体組成物は、
１０～６００ｐｐｍのアルカリ金属を有し得る。場合によっては、エチレン－ビニルアル
コール共重合体組成物中のアルカリ金属含有量は、約２０～約５５０ｐｐｍ、約３０～約
５００ｐｐｍ、約４０～約４５０ｐｐｍ、約５０～約４００ｐｐｍ、約５０～約３８０ｐｐｍ、約８０～約３７０ｐｐｍ、約１４０～約３６０ｐｐｍ、約２５０～約３５０ｐｐｍ、約２６０～約３４０ｐｐｍ、約２７０～約３３０ｐｐｍ、約２８０～約３２０ｐｐｍ、または約２９０～約３１０ｐｐｍ、またはそれらの間の任意の範囲である。
【0037】
別の態様において、本発明は、本明細書に記載されるような好ましいラメラスタック特
性を有するペレットなどのエチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットの製造方法を提
供する。エチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットの製造方法は、通常、以下の工程
（ａ）と工程（ｂ）を含み、
（ａ）は平均直径１００ｃｍ以下の粒子堆積厚を使用してエチレン－ビニルアルコール
共重合体粒子を３段階乾燥処理するエチレン－ビニルアルコール共重合体粒子の乾燥工程
であり；前記３段階乾燥処理が第１段階、第１段階後の第２段階、および第２段階後の第
３段階を含み、
（ｉ）第１段階には、予備乾燥された粒子を少なくとも６５℃の温度に少なくとも２
時間加熱することが含まれ；
（ｉｉ）第２段階には、予備乾燥された粒子を少なくとも９５℃の温度に少なくとも
１６時間加熱することが含まれ；
（ｉｉｉ）第３段階には、予備乾燥された粒子を少なくとも１０５℃の温度に１２時
間加熱することが含まれ；
前提は、第２段階の温度は第１段階の温度よりも高く、第３段階の温度が第２段階の温
度よりも高い；
（ｂ）はエチレン－ビニルアルコール共重合体粒子をペレット化して、エチレン－ビニ
ルアルコール共重合体のラメラスタック体を有するペレットを得る工程である。
性を有するペレットなどのエチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットの製造方法を提
供する。エチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットの製造方法は、通常、以下の工程
（ａ）と工程（ｂ）を含み、
（ａ）は平均直径１００ｃｍ以下の粒子堆積厚を使用してエチレン－ビニルアルコール
共重合体粒子を３段階乾燥処理するエチレン－ビニルアルコール共重合体粒子の乾燥工程
であり；前記３段階乾燥処理が第１段階、第１段階後の第２段階、および第２段階後の第
３段階を含み、
（ｉ）第１段階には、予備乾燥された粒子を少なくとも６５℃の温度に少なくとも２
時間加熱することが含まれ；
（ｉｉ）第２段階には、予備乾燥された粒子を少なくとも９５℃の温度に少なくとも
１６時間加熱することが含まれ；
（ｉｉｉ）第３段階には、予備乾燥された粒子を少なくとも１０５℃の温度に１２時
間加熱することが含まれ；
前提は、第２段階の温度は第１段階の温度よりも高く、第３段階の温度が第２段階の温
度よりも高い；
（ｂ）はエチレン－ビニルアルコール共重合体粒子をペレット化して、エチレン－ビニ
ルアルコール共重合体のラメラスタック体を有するペレットを得る工程である。
【0038】
前記方法は、エチレン－ビニルアルコール共重合体ペレットを得るため、粒子をペレッ
ト化する前に、ベルト式乾燥機、タワー式乾燥機などでエチレン－ビニルアルコール共重
合体の粒子を乾燥させる工程を含み得る。前記方法は、予備乾燥されたペレットから得ら
れた粒子を乾燥させる工程を含み得る。本明細書で使用される場合、予備乾燥された粒子
とは、当業者が理解する適切な方法で予備乾燥された粒子を意味する。図５は、ベルト式
乾燥機の非限定的な例の概略図である。図６は、タワー式乾燥機の非限定的な例の概略図
である。エチレン－ビニルアルコール共重合体ペットは、好ましくはベルト式乾燥機で乾
燥される。乾燥中の粒子堆積厚は、１００ｃｍ以下の平均直径を有し得る。例えば、粒子
堆積厚の平均直径は、約９０ｃｍ以下、約８０ｃｍ以下、約７０ｃｍ以下、約６０ｃｍ以
下、約５０ｃｍ以下、約４０ｃｍ以下、約３０ｃｍ以下、約２０ｃｍ以下、約１０ｃｍ以
下、または約５ｃｍ以下であり得る。
ト化する前に、ベルト式乾燥機、タワー式乾燥機などでエチレン－ビニルアルコール共重
合体の粒子を乾燥させる工程を含み得る。前記方法は、予備乾燥されたペレットから得ら
れた粒子を乾燥させる工程を含み得る。本明細書で使用される場合、予備乾燥された粒子
とは、当業者が理解する適切な方法で予備乾燥された粒子を意味する。図５は、ベルト式
乾燥機の非限定的な例の概略図である。図６は、タワー式乾燥機の非限定的な例の概略図
である。エチレン－ビニルアルコール共重合体ペットは、好ましくはベルト式乾燥機で乾
燥される。乾燥中の粒子堆積厚は、１００ｃｍ以下の平均直径を有し得る。例えば、粒子
堆積厚の平均直径は、約９０ｃｍ以下、約８０ｃｍ以下、約７０ｃｍ以下、約６０ｃｍ以
下、約５０ｃｍ以下、約４０ｃｍ以下、約３０ｃｍ以下、約２０ｃｍ以下、約１０ｃｍ以
下、または約５ｃｍ以下であり得る。
【0039】
エチレン－ビニルアルコール共重合体粒子を乾燥させるための気体流速は、エチレン－
ビニルアルコール共重合体のラメラスタックの特性に影響を与えると考えられている。場
合によっては、エチレン－ビニルアルコール共重合体粒子を乾燥させるための乾燥機（例
えばベルト式乾燥機）は、少なくとも１５トン／時の気体流速を用いる。場合によっては
、乾燥機が使用する気体流速は、少なくとも１５トン／時、少なくとも１７．５トン／時
、少なくとも２０トン／時、少なくとも２２．５トン／時、少なくとも２５トン／時、少
なくとも２７．５トン／時、少なくとも３０トン／時、少なくとも３２．５トン／時、ま
たは少なくとも３５トン／時である。その他の場合、乾燥機が使用する気体流速は、最大
１００トン／時、最大９７．５トン／時、最大９５トン／時、最大９２．５トン／時、最
大９０トン／時、最大８７．５トン／時、最大８５トン／時、最大８２．５トン／時、ま
たは最大８０トン／時である。前記ペレットの水分含有量（エチレン－ビニルアルコール
共重合体ペレットの全重量に対して）が約０．３重量％以下、約０．２８重量％以下、約
０．２６重量％以下、約０．２４重量％以下、約０．２２重量％以下、約０．２重量％以
下、約０．１８重量％以下、約０．１６重量％以下、約０．１４重量％以下、約０．１２
重量％以下、約０．１重量％以下、約０．０８重量％以下、約０．０６重量％以下、約０
．０４重量％以下、または約０．０２重量％以下になるまでエチレン－ビニルアルコール
共重合体粒子を乾燥させることができる。
ビニルアルコール共重合体のラメラスタックの特性に影響を与えると考えられている。場
合によっては、エチレン－ビニルアルコール共重合体粒子を乾燥させるための乾燥機（例
えばベルト式乾燥機）は、少なくとも１５トン／時の気体流速を用いる。場合によっては
、乾燥機が使用する気体流速は、少なくとも１５トン／時、少なくとも１７．５トン／時
、少なくとも２０トン／時、少なくとも２２．５トン／時、少なくとも２５トン／時、少
なくとも２７．５トン／時、少なくとも３０トン／時、少なくとも３２．５トン／時、ま
たは少なくとも３５トン／時である。その他の場合、乾燥機が使用する気体流速は、最大
１００トン／時、最大９７．５トン／時、最大９５トン／時、最大９２．５トン／時、最
大９０トン／時、最大８７．５トン／時、最大８５トン／時、最大８２．５トン／時、ま
たは最大８０トン／時である。前記ペレットの水分含有量（エチレン－ビニルアルコール
共重合体ペレットの全重量に対して）が約０．３重量％以下、約０．２８重量％以下、約
０．２６重量％以下、約０．２４重量％以下、約０．２２重量％以下、約０．２重量％以
下、約０．１８重量％以下、約０．１６重量％以下、約０．１４重量％以下、約０．１２
重量％以下、約０．１重量％以下、約０．０８重量％以下、約０．０６重量％以下、約０
．０４重量％以下、または約０．０２重量％以下になるまでエチレン－ビニルアルコール
共重合体粒子を乾燥させることができる。
【0040】
発明者は、エチレン－ビニルアルコール共重合体粒子を特定の温度で特定の時間にわた
って３段階乾燥工程で乾燥させると、ラメラスタックの特性などの造粒後の粒子の特性に
影響を与えることを見出した。特に、発明者は、乾燥の第３段階の温度および時間の長さ
を制御することが、ペレットの特性に影響を及ぼし得ると考えている。
って３段階乾燥工程で乾燥させると、ラメラスタックの特性などの造粒後の粒子の特性に
影響を与えることを見出した。特に、発明者は、乾燥の第３段階の温度および時間の長さ
を制御することが、ペレットの特性に影響を及ぼし得ると考えている。
【0041】
前記方法は、予備乾燥された粒子を少なくとも６５℃の温度に少なくとも２時間加熱す
る工程を含む、粒子を乾燥させる第１の段階を含み得る。場合によっては、乾燥の第１段
階において、ペレットを少なくとも６５℃、少なくとも７０℃、少なくとも７５℃、少な
くとも８０℃、少なくとも８５℃、少なくとも９０℃、少なくとも９５℃または少なくと
も１００℃の温度で加熱させる。乾燥の第１段階は、粒子を少なくとも２時間、少なくと
も２．５時間、少なくとも３時間、少なくとも３．５時間、少なくとも４時間、少なくと
も４．５時間、または少なくとも５時間に乾燥させる工程を含み得る。
る工程を含む、粒子を乾燥させる第１の段階を含み得る。場合によっては、乾燥の第１段
階において、ペレットを少なくとも６５℃、少なくとも７０℃、少なくとも７５℃、少な
くとも８０℃、少なくとも８５℃、少なくとも９０℃、少なくとも９５℃または少なくと
も１００℃の温度で加熱させる。乾燥の第１段階は、粒子を少なくとも２時間、少なくと
も２．５時間、少なくとも３時間、少なくとも３．５時間、少なくとも４時間、少なくと
も４．５時間、または少なくとも５時間に乾燥させる工程を含み得る。
【0042】
粒子を乾燥させる第２段階は、予備乾燥された粒子を少なくとも９５℃の温度に少なく
とも１６時間加熱する工程を含み得る。場合によっては、乾燥の第２段階の間に、粒子を
少なくとも９５℃、少なくとも１００℃、少なくとも１０５℃、少なくとも１１０℃、少
なくとも１１５℃、少なくとも１２０℃、少なくとも１２５℃、または少なくとも１３０
℃の温度で加熱させる。粒子を乾燥させるための第２段階の温度は、好ましくは粒子を乾
燥させるための第１段階の温度よりも高い。乾燥の第２段階は、粒子を少なくとも１６時
間、少なくとも１７時間、少なくとも１８時間、少なくとも１９時間、少なくとも２０時
間、少なくとも２１時間、または少なくとも２４時間に乾燥させる工程を含み得る。
とも１６時間加熱する工程を含み得る。場合によっては、乾燥の第２段階の間に、粒子を
少なくとも９５℃、少なくとも１００℃、少なくとも１０５℃、少なくとも１１０℃、少
なくとも１１５℃、少なくとも１２０℃、少なくとも１２５℃、または少なくとも１３０
℃の温度で加熱させる。粒子を乾燥させるための第２段階の温度は、好ましくは粒子を乾
燥させるための第１段階の温度よりも高い。乾燥の第２段階は、粒子を少なくとも１６時
間、少なくとも１７時間、少なくとも１８時間、少なくとも１９時間、少なくとも２０時
間、少なくとも２１時間、または少なくとも２４時間に乾燥させる工程を含み得る。
【0043】
粒子を乾燥させる第３段階は、予備乾燥された粒子を少なくとも１０５℃の温度に少な
くとも１２時間加熱する工程を含み得る。場合によっては、乾燥の第３段階の間に、粒子
を少なくとも１０５℃、少なくとも１１０℃、少なくとも１１５℃、少なくとも１２０℃
、少なくとも１２５℃、少なくとも１３０℃、少なくとも１３５℃、少なくとも１４０℃
、少なくとも１４５℃、少なくとも１５０℃、少なくとも１５５℃、少なくとも１６０℃
、少なくとも１６５℃、少なくとも１７０℃、少なくとも１７５℃、または少なくとも１
８０℃の温度で加熱させる。粒子を乾燥させるための第３段階の温度は、好ましくは粒子
を乾燥させるための第２段階の温度よりも高い。乾燥の第３段階は、粒子を少なくとも１
２時間、少なくとも１３時間、少なくとも１４時間、少なくとも１５時間、少なくとも１
６時間、少なくとも１７時間、少なくとも１８時間、少なくとも１９時間、少なくとも２
０時間、少なくとも２１時間、少なくとも２２時間、少なくとも２３時間、少なくとも２
４時間、少なくとも２５時間、少なくとも２６時間、少なくとも２７時間、少なくとも２
８時間、少なくとも２９時間、少なくとも３０時間、少なくとも３１時間、少なくとも３
２時間、少なくとも３３時間、少なくとも３４時間、少なくとも３５時間、少なくとも３
６時間、少なくとも３７時間、少なくとも３８時間、少なくとも３９時間、または少なく
とも４０時間に乾燥させる工程を含み得る。
くとも１２時間加熱する工程を含み得る。場合によっては、乾燥の第３段階の間に、粒子
を少なくとも１０５℃、少なくとも１１０℃、少なくとも１１５℃、少なくとも１２０℃
、少なくとも１２５℃、少なくとも１３０℃、少なくとも１３５℃、少なくとも１４０℃
、少なくとも１４５℃、少なくとも１５０℃、少なくとも１５５℃、少なくとも１６０℃
、少なくとも１６５℃、少なくとも１７０℃、少なくとも１７５℃、または少なくとも１
８０℃の温度で加熱させる。粒子を乾燥させるための第３段階の温度は、好ましくは粒子
を乾燥させるための第２段階の温度よりも高い。乾燥の第３段階は、粒子を少なくとも１
２時間、少なくとも１３時間、少なくとも１４時間、少なくとも１５時間、少なくとも１
６時間、少なくとも１７時間、少なくとも１８時間、少なくとも１９時間、少なくとも２
０時間、少なくとも２１時間、少なくとも２２時間、少なくとも２３時間、少なくとも２
４時間、少なくとも２５時間、少なくとも２６時間、少なくとも２７時間、少なくとも２
８時間、少なくとも２９時間、少なくとも３０時間、少なくとも３１時間、少なくとも３
２時間、少なくとも３３時間、少なくとも３４時間、少なくとも３５時間、少なくとも３
６時間、少なくとも３７時間、少なくとも３８時間、少なくとも３９時間、または少なく
とも４０時間に乾燥させる工程を含み得る。
【0044】
場合によっては、第１段階、第２段階、および第３段階のうちの少なくとも１つの間、
温度変化は２０℃の範囲内に維持される。換言すれば、場合によっては、温度が２０℃の
範囲を超えて上昇または下降しないため、第１段階、第２段階、および第２段階の少なく
とも１つの間の最高温度と最低温度との間の差を２０℃以下にさせる。その他の場合にお
いて、第１段階、第２段階、および第３段階の少なくとも２つまたはすべての間の温度変
化は、２０℃の範囲内に維持される。
温度変化は２０℃の範囲内に維持される。換言すれば、場合によっては、温度が２０℃の
範囲を超えて上昇または下降しないため、第１段階、第２段階、および第２段階の少なく
とも１つの間の最高温度と最低温度との間の差を２０℃以下にさせる。その他の場合にお
いて、第１段階、第２段階、および第３段階の少なくとも２つまたはすべての間の温度変
化は、２０℃の範囲内に維持される。
【実施例0045】
以下の非限定的な実施例は、主に、本発明の様々な態様によって奏する効果および特徴
を説明するために提供される。
を説明するために提供される。
【0046】
（実施例１）
（ＥＶＯＨペレットの製造）
異なるエチレン含有量を有するエチレン－ビニルアルコール共重合体を調製してから造
粒することで、エチレン－ビニルアルコール共重合体ペレット（本明細書では「ＥＶＯＨ
ペレット」とも呼ばれる）を形成する。より具体的にエチレンおよび酢酸ビニルモノマー
からエチレン酢酸ビニル（ｅｔｈｙｌｅｎｅ ｖｉｎｙｌ ａｃｅｔａｔｅ、ＥＶＡＣ）
を重合することで、エチレン－ビニルアルコール共重合体（本明細書では「ＥＶＯＨ共重
合体」とも呼ばれる）を調製する。ＥＶＡＣ共重合体を鹸化してＥＶＯＨ共重合体を形成
した。
（ＥＶＯＨペレットの製造）
異なるエチレン含有量を有するエチレン－ビニルアルコール共重合体を調製してから造
粒することで、エチレン－ビニルアルコール共重合体ペレット（本明細書では「ＥＶＯＨ
ペレット」とも呼ばれる）を形成する。より具体的にエチレンおよび酢酸ビニルモノマー
からエチレン酢酸ビニル（ｅｔｈｙｌｅｎｅ ｖｉｎｙｌ ａｃｅｔａｔｅ、ＥＶＡＣ）
を重合することで、エチレン－ビニルアルコール共重合体（本明細書では「ＥＶＯＨ共重
合体」とも呼ばれる）を調製する。ＥＶＡＣ共重合体を鹸化してＥＶＯＨ共重合体を形成
した。
【0047】
水中ペレット化工程を使用してＥＶＯＨ共重合体をペレット化させて、製品前のＥＶＯ
Ｈペレットを形成した。製品前のＥＶＯＨペレットを遠心分離して、ＥＶＯＨに分離した
。その後ＥＶＯＨ粒子を水で洗浄して乾燥工程にかけた。
Ｈペレットを形成した。製品前のＥＶＯＨペレットを遠心分離して、ＥＶＯＨに分離した
。その後ＥＶＯＨ粒子を水で洗浄して乾燥工程にかけた。
【0048】
３段階の乾燥工程でＥＶＯＨ粒子を乾燥した。下記の表１は、ＥＶＯＨ粒子に用いられ
る３つの乾燥段階のそれぞれの温度と期間を示している。
る３つの乾燥段階のそれぞれの温度と期間を示している。
【表1】
【0049】
続いて、実施例１～３０のＥＶＯＨ粒子および比較例１～２１のＥＶＯＨ粒子を、実施
例１～３０のＥＶＯＨペレットおよび比較例１～２１のＥＶＯＨペレットにそれぞれ形成
させた。
例１～３０のＥＶＯＨペレットおよび比較例１～２１のＥＶＯＨペレットにそれぞれ形成
させた。
【0050】
（実施例２）
（ＥＶＯＨペレットの評価）
実施例１に記載の３段階乾燥工程の後、ＥＶＯＨペレットの融点特性および性質を評価
した。具体的にＥＶＯＨペレットを評価して、ＥＶＯＨペレットの融点特性を確認した。
本実施例では、ＥＶＯＨペレットのラメラスタッキングの長周期、ラメラの厚さ、および
非晶厚さも評価した。なお、ＥＶＯＨペレットの水分含有量を測定した。
（ＥＶＯＨペレットの評価）
実施例１に記載の３段階乾燥工程の後、ＥＶＯＨペレットの融点特性および性質を評価
した。具体的にＥＶＯＨペレットを評価して、ＥＶＯＨペレットの融点特性を確認した。
本実施例では、ＥＶＯＨペレットのラメラスタッキングの長周期、ラメラの厚さ、および
非晶厚さも評価した。なお、ＥＶＯＨペレットの水分含有量を測定した。
【0051】
＜融点特性の評価＞
ＥＶＯＨペレットの融点特性は、ＩＳＯ １１３５７－３：２０１１に従って決定され
、ＩＳＯ １１３５７－３：２０１１の全内容があらゆる目的のために参照により本明細
書に組み込まれる。具体的にＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ ＤＳＣ Ｑ２００でＥＶＯＨ
ペレットの融点特性を測定し、ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｕｎｉｖｅｒｓａｌ ａ
ｎａｌｙｓｉｓ ２０００で分析し、ここで、示差走査熱量測定法（ＤＳＣ）は次のパラ
メータを利用した。
１．５０℃で平衡に達し；
２．１回目の加熱速度は５℃／分で、２５０℃に加熱し；
３．２５０℃で平衡に達し；
４．冷却速度は５℃／分で、５０℃まで冷却し；
５．５０℃で平衡に達し；
６．２回目の加熱速度は５０℃／分で、２５０℃に加熱する。
ＥＶＯＨペレットの融点特性は、ＩＳＯ １１３５７－３：２０１１に従って決定され
、ＩＳＯ １１３５７－３：２０１１の全内容があらゆる目的のために参照により本明細
書に組み込まれる。具体的にＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ ＤＳＣ Ｑ２００でＥＶＯＨ
ペレットの融点特性を測定し、ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｕｎｉｖｅｒｓａｌ ａ
ｎａｌｙｓｉｓ ２０００で分析し、ここで、示差走査熱量測定法（ＤＳＣ）は次のパラ
メータを利用した。
１．５０℃で平衡に達し；
２．１回目の加熱速度は５℃／分で、２５０℃に加熱し；
３．２５０℃で平衡に達し；
４．冷却速度は５℃／分で、５０℃まで冷却し；
５．５０℃で平衡に達し；
６．２回目の加熱速度は５０℃／分で、２５０℃に加熱する。
【0052】
実施例１～３０のＥＶＯＨペレットおよび比較例１～２１のＥＶＯＨペレットは、３つ
の融点温度を有し、本明細書においてＴｍ１、Ｔｍ２およびＴｍ３と呼ばれる。上記のよ
うに、乾燥温度が上昇すると、非晶層厚および結晶層厚が増加し、Ｔｍ１が上げる。場合
によっては、非晶層厚および結晶層厚が厚すぎると、Ｔｍ１とＴｍ２との間の差が小さく
なりすぎて、Ｔｍ１がＴｍ２と類似するか等しくなりすぎることがある。
の融点温度を有し、本明細書においてＴｍ１、Ｔｍ２およびＴｍ３と呼ばれる。上記のよ
うに、乾燥温度が上昇すると、非晶層厚および結晶層厚が増加し、Ｔｍ１が上げる。場合
によっては、非晶層厚および結晶層厚が厚すぎると、Ｔｍ１とＴｍ２との間の差が小さく
なりすぎて、Ｔｍ１がＴｍ２と類似するか等しくなりすぎることがある。
【0053】
Ｔｍ１は、１回目のＤＳＣ実行での２本の接線の第１交点を表す。Ｔｍ２は、１回目の
ＤＳＣ実行での融解ピークの最高点を表す。Ｔｍ３は、２回目のＤＳＣ実行での融解ピー
クの最高点を表す。ＤＳＣグラフで３つの融点温度（Ｔｍ１、Ｔｍ２、Ｔｍ３）を確認し
た。Ｔｍ１の場合、第１接線は変曲点から熱流降下のほぼ中間点まで形成され、第２接線
が第１接点の後に勾配が減少し始めるところに形成される。
ＤＳＣ実行での融解ピークの最高点を表す。Ｔｍ３は、２回目のＤＳＣ実行での融解ピー
クの最高点を表す。ＤＳＣグラフで３つの融点温度（Ｔｍ１、Ｔｍ２、Ｔｍ３）を確認し
た。Ｔｍ１の場合、第１接線は変曲点から熱流降下のほぼ中間点まで形成され、第２接線
が第１接点の後に勾配が減少し始めるところに形成される。
【0054】
＜長周期、ラメラの厚さおよび非晶厚さの評価＞
上記と類似する工程と機器でＥＶＯＨペレットの長周期、ラメラの厚さ、および非晶の
厚さを評価した。本実施例において、両側でカプトンテープ（Ｋａｐｔｏｎ ｔａｐｅ）
（（黒色の耐熱テープ）を使用して、実施例１～３０のＥＶＯＨペレットおよび比較例１
～２１のＥＶＯＨペレットの粒子をサンプルホルダに固定することで、Ｘ線散乱角度デー
タを得た。真空引き後、サンプルをＸ線に３００秒間照射し、２Ｄ散乱スペクトルで分析
した。２Ｄ散乱スペクトルを積分することで、２θの１Ｄマップを生成した。２層カプト
ンテープをブランクグループとして測定し、上記方法で２θの１Ｄマップに対するサンプ
ル強度をバックグラウンド値として得た。
上記と類似する工程と機器でＥＶＯＨペレットの長周期、ラメラの厚さ、および非晶の
厚さを評価した。本実施例において、両側でカプトンテープ（Ｋａｐｔｏｎ ｔａｐｅ）
（（黒色の耐熱テープ）を使用して、実施例１～３０のＥＶＯＨペレットおよび比較例１
～２１のＥＶＯＨペレットの粒子をサンプルホルダに固定することで、Ｘ線散乱角度デー
タを得た。真空引き後、サンプルをＸ線に３００秒間照射し、２Ｄ散乱スペクトルで分析
した。２Ｄ散乱スペクトルを積分することで、２θの１Ｄマップを生成した。２層カプト
ンテープをブランクグループとして測定し、上記方法で２θの１Ｄマップに対するサンプ
ル強度をバックグラウンド値として得た。
【0055】
ＥＶＯＨペレットの粒子データから得られたブランクデータを差し引いて、２θの１Ｄ
マップに対するサンプル強度を求めた。図２は、１次元相関関数の変換後の次の式Ｑ＝４
πｓｉｎθ／λを使用した散乱強度に対する２θの１Ｄマップを示している。次の式を使
用して、小角Ｘ線生データから１次元相関関数γ（ｚ）を得た。
γ（ｚ）＝（１γ（０））∫０ ∞ｑ２［Ｉ（ｑ）－Ｉ（ｑ）ｂ］ｃｏｓ（ｑｚ）ｄｑ
ここで、ｚは、電子密度分布を測定する方向に沿った相対距離である。Ｉ（ｑ）値は散
乱強度である。実験的に得られるｑの範囲が限られているため、データをより低いｑ値と
より高いｑ値に拡張しなければならない。Ｉ（ｑ）ｂ値は、バックグラウンド散乱強度で
ある。「ｑに対する強度」データは、最小測定値のｑ値からゼロ点まで線形外挿される。
マップに対するサンプル強度を求めた。図２は、１次元相関関数の変換後の次の式Ｑ＝４
πｓｉｎθ／λを使用した散乱強度に対する２θの１Ｄマップを示している。次の式を使
用して、小角Ｘ線生データから１次元相関関数γ（ｚ）を得た。
γ（ｚ）＝（１γ（０））∫０ ∞ｑ２［Ｉ（ｑ）－Ｉ（ｑ）ｂ］ｃｏｓ（ｑｚ）ｄｑ
ここで、ｚは、電子密度分布を測定する方向に沿った相対距離である。Ｉ（ｑ）値は散
乱強度である。実験的に得られるｑの範囲が限られているため、データをより低いｑ値と
より高いｑ値に拡張しなければならない。Ｉ（ｑ）ｂ値は、バックグラウンド散乱強度で
ある。「ｑに対する強度」データは、最小測定値のｑ値からゼロ点まで線形外挿される。
【0056】
図３は、Ｚ＝０での接線と、最低点から始まる曲線の最低点（非晶の厚さ（「ｌａ」）
）と見なされる）との交点を示している。図３の曲線の最高点は長周期（「Ｌ」）と見な
され、Ｌから「ｌａ」を引いたものはラメラの厚さ（「ｌｃ」）に等しくなる。
）と見なされる）との交点を示している。図３の曲線の最高点は長周期（「Ｌ」）と見な
され、Ｌから「ｌａ」を引いたものはラメラの厚さ（「ｌｃ」）に等しくなる。
【0057】
＜ペレットの水分含有量＞
本明細書において用いられる場合、水分含有量は、ペレット中の揮発性成分の重量パー
セントを指す。ペレットの水分含有量は、以下の方法で測定される。まず、アルミカップ
１個の重量（重量：Ｃ１）を測定した。２ｇのペレットをアルミカップに入れ、ペレット
（重量：Ｐ１）が入っているアルミカップの重量（Ｃ１＋Ｐ１）をＭｅｔｔｌｅｒ ｔｏ
ｌｅｄｏ ＸＰＥ５０４を用いて測定した。次に、ペレットが入ったアルミカップをＦＤ
５６オーブン（Ｂｉｎｄｅｒから入手可能）に入れ、２１０℃の温度で３０分間加熱した
。
本明細書において用いられる場合、水分含有量は、ペレット中の揮発性成分の重量パー
セントを指す。ペレットの水分含有量は、以下の方法で測定される。まず、アルミカップ
１個の重量（重量：Ｃ１）を測定した。２ｇのペレットをアルミカップに入れ、ペレット
（重量：Ｐ１）が入っているアルミカップの重量（Ｃ１＋Ｐ１）をＭｅｔｔｌｅｒ ｔｏ
ｌｅｄｏ ＸＰＥ５０４を用いて測定した。次に、ペレットが入ったアルミカップをＦＤ
５６オーブン（Ｂｉｎｄｅｒから入手可能）に入れ、２１０℃の温度で３０分間加熱した
。
【0058】
ペレットを加熱した後、アルミカップおよびペレットを電子水分計に入れた。そしてア
ルミカップとペレットをデシケーターに３０分間入れてから、室温（２３℃など）に戻し
た。次に、ペレット（重量：Ｐ２）が入っているアルミカップの重量（Ｃ１＋Ｐ２）を測
定し、次の数式で水分含有量（重量％）を計算した。
水分含有量（重量％）＝［｛（Ｃ１＋Ｐ１）－（Ｃ１＋Ｐ２）｝／｛（Ｃ１＋Ｐ１）－
Ｃ１｝］×１００＝｛（Ｐ１－Ｐ２）／Ｐ１｝×１００
ルミカップとペレットをデシケーターに３０分間入れてから、室温（２３℃など）に戻し
た。次に、ペレット（重量：Ｐ２）が入っているアルミカップの重量（Ｃ１＋Ｐ２）を測
定し、次の数式で水分含有量（重量％）を計算した。
水分含有量（重量％）＝［｛（Ｃ１＋Ｐ１）－（Ｃ１＋Ｐ２）｝／｛（Ｃ１＋Ｐ１）－
Ｃ１｝］×１００＝｛（Ｐ１－Ｐ２）／Ｐ１｝×１００
【0059】
以下の表２は、ＥＶＯＨペレットの融点温度および特性を示している。
【表2】
【0060】
（実施例３）
（多層ＥＶＯＨフィルムの製造）
実施例１～３０のＥＶＯＨペレットおよび比較例１～２１のＥＶＯＨペレットによって
多層ＥＶＯＨフィルムを製造した。実施例１～３０のＥＶＯＨペレットおよび比較例１～
２１のＥＶＯＨペレットを乾燥させた後、ＥＶＯＨペレットを３層共押出機に投入して、
（Ｉ）／（ＩＩＩ）／（ＩＩ）の層状構造を有する多層ＥＶＯＨフィルムを製造した。層
Ｉは、実施例１～３０のＥＶＯＨペレットおよび比較例１～２１のＥＶＯＨペレットから
形成された。層ＩＩは、ポリエチレン（特にＬｏｔｒｅｎｅ ＦＤ０２７４）から形成さ
れた。層ＩＩＩは、ＡＤＭＥＲ ＮＦ４０８Ｅ（日本三井化学株式会社が独自に開発した
樹脂）から形成された。したがって、多層ＥＶＯＨフィルムは、実施例１～３０のＥＶＯ
Ｈペレットまたは比較例１～２１のＥＶＯＨペレットのうちの１つから成る外層も呼ばれ
る第１層を有し、ＡＤＭＥＲ ＮＦ４０８Ｅを中間層とも呼ばれる第２層とし、ポリエチ
レンを外層の構造も呼ばれる第３層とする。
（多層ＥＶＯＨフィルムの製造）
実施例１～３０のＥＶＯＨペレットおよび比較例１～２１のＥＶＯＨペレットによって
多層ＥＶＯＨフィルムを製造した。実施例１～３０のＥＶＯＨペレットおよび比較例１～
２１のＥＶＯＨペレットを乾燥させた後、ＥＶＯＨペレットを３層共押出機に投入して、
（Ｉ）／（ＩＩＩ）／（ＩＩ）の層状構造を有する多層ＥＶＯＨフィルムを製造した。層
Ｉは、実施例１～３０のＥＶＯＨペレットおよび比較例１～２１のＥＶＯＨペレットから
形成された。層ＩＩは、ポリエチレン（特にＬｏｔｒｅｎｅ ＦＤ０２７４）から形成さ
れた。層ＩＩＩは、ＡＤＭＥＲ ＮＦ４０８Ｅ（日本三井化学株式会社が独自に開発した
樹脂）から形成された。したがって、多層ＥＶＯＨフィルムは、実施例１～３０のＥＶＯ
Ｈペレットまたは比較例１～２１のＥＶＯＨペレットのうちの１つから成る外層も呼ばれ
る第１層を有し、ＡＤＭＥＲ ＮＦ４０８Ｅを中間層とも呼ばれる第２層とし、ポリエチ
レンを外層の構造も呼ばれる第３層とする。
【0061】
（実施例４）
（多層ＥＶＯＨフィルムの評価）
多層ＥＶＯＨフィルムを評価して、各多層ＥＶＯＨフィルムの外観、均一性、および電
流安定性を判定した。各多層ＥＶＯＨフィルムの１０ｃｍ×１０ｃｍのサイズの５つの部
分に対し、上記の特性の評を実施した。
（多層ＥＶＯＨフィルムの評価）
多層ＥＶＯＨフィルムを評価して、各多層ＥＶＯＨフィルムの外観、均一性、および電
流安定性を判定した。各多層ＥＶＯＨフィルムの１０ｃｍ×１０ｃｍのサイズの５つの部
分に対し、上記の特性の評を実施した。
【0062】
各多層ＥＶＯＨフィルムの外観を評価するため、多層ＥＶＯＨフィルムの５つの部分に
おけるゲルスポット（ｇｅｌ ｓｐｏｔ）の数およびサイズを測定した。多層ＥＶＯＨフ
ィルムの５つの部分でゲルスポットのない高い透明度が観察された場合、多層ＥＶＯＨフ
ィルムに以下の「Ｏ」で示される高いグレードを付ける。５つの部分のいずれかにゲルス
ポットが現れ、ゲルスポットの平均サイズが２５μｍ～１ｍｍの場合、前記多層ＥＶＯＨ
フィルムに以下の「Δ」で示される受入可能なグレードを付ける。５つの部分のいずれか
にゲルスポットが現れ、ゲルスポットの平均サイズが１ｍｍを超える場合、前記多層ＥＶ
ＯＨフィルムに以下の「Ｘ」で示される低いグレードを付ける。
おけるゲルスポット（ｇｅｌ ｓｐｏｔ）の数およびサイズを測定した。多層ＥＶＯＨフ
ィルムの５つの部分でゲルスポットのない高い透明度が観察された場合、多層ＥＶＯＨフ
ィルムに以下の「Ｏ」で示される高いグレードを付ける。５つの部分のいずれかにゲルス
ポットが現れ、ゲルスポットの平均サイズが２５μｍ～１ｍｍの場合、前記多層ＥＶＯＨ
フィルムに以下の「Δ」で示される受入可能なグレードを付ける。５つの部分のいずれか
にゲルスポットが現れ、ゲルスポットの平均サイズが１ｍｍを超える場合、前記多層ＥＶ
ＯＨフィルムに以下の「Ｘ」で示される低いグレードを付ける。
【0063】
多層ＥＶＯＨフィルムの均一性を評価するため、各多層ＥＶＯＨフィルムの５つの部分
のそれぞれの厚さ標準偏差を測定した。多層ＥＶＯＨフィルムの５つの部分の厚さの標準
偏差が５％以内である場合、多層ＥＶＯＨフィルムに以下の「◎」で示される優れたグレ
ードを付ける。多層ＥＶＯＨフィルムの５つの部分のいずれかの厚さ標準偏差が５％を超
え、５つの部分の厚さ標準偏差がすべて１０％以下の場合、多層ＥＶＯＨフィルムに以下
の「Ｏ」で示される高いグレードを付ける。多層ＥＶＯＨフィルムの５つの部分のいずれ
かの厚さ標準偏差が１０％を超え、５つの部分の厚さ標準偏差がすべて２０％以下である
場合、多層ＥＶＯＨフィルムに以下の「Δ」で表される受入可能なグレードを付ける。多
層ＥＶＯＨフィルムの５つの部分のいずれかの厚さの標準偏差が２０％を超える場合、多
層ＥＶＯＨフィルムに以下の「Ｘ」で示される低いグレードを付ける。
のそれぞれの厚さ標準偏差を測定した。多層ＥＶＯＨフィルムの５つの部分の厚さの標準
偏差が５％以内である場合、多層ＥＶＯＨフィルムに以下の「◎」で示される優れたグレ
ードを付ける。多層ＥＶＯＨフィルムの５つの部分のいずれかの厚さ標準偏差が５％を超
え、５つの部分の厚さ標準偏差がすべて１０％以下の場合、多層ＥＶＯＨフィルムに以下
の「Ｏ」で示される高いグレードを付ける。多層ＥＶＯＨフィルムの５つの部分のいずれ
かの厚さ標準偏差が１０％を超え、５つの部分の厚さ標準偏差がすべて２０％以下である
場合、多層ＥＶＯＨフィルムに以下の「Δ」で表される受入可能なグレードを付ける。多
層ＥＶＯＨフィルムの５つの部分のいずれかの厚さの標準偏差が２０％を超える場合、多
層ＥＶＯＨフィルムに以下の「Ｘ」で示される低いグレードを付ける。
【0064】
多層ＥＶＯＨフィルムの電流安定性を評価するため、押出機モータ（ｅｘｔｒｕｄｅ
ｍｏｔｏｒ）の電流を１時間以内に１０分ごとに（すなわち７回）記録した。多層ＥＶＯ
Ｈフィルムの電流の標準偏差が５％以下の場合、前記多層ＥＶＯＨフィルムに以下の「◎
」で示される優れたグレードを付ける。多層ＥＶＯＨフィルムの電流の標準偏差が５％を
超えて１０％未満の場合、多層ＥＶＯＨフィルムに以下の「Ｏ」で示される高いグレード
を付ける。多層ＥＶＯＨフィルムの電流の標準偏差が１０％を超えて２０％以下の場合、
多層ＥＶＯＨフィルムに以下の「Δ」で表される受入可能なグレードを付ける。多層ＥＶ
ＯＨフィルムの電流の標準偏差が２０％を超える場合、多層ＥＶＯＨフィルムに以下の「
Ｘ」で示される低いグレードを付ける。
ｍｏｔｏｒ）の電流を１時間以内に１０分ごとに（すなわち７回）記録した。多層ＥＶＯ
Ｈフィルムの電流の標準偏差が５％以下の場合、前記多層ＥＶＯＨフィルムに以下の「◎
」で示される優れたグレードを付ける。多層ＥＶＯＨフィルムの電流の標準偏差が５％を
超えて１０％未満の場合、多層ＥＶＯＨフィルムに以下の「Ｏ」で示される高いグレード
を付ける。多層ＥＶＯＨフィルムの電流の標準偏差が１０％を超えて２０％以下の場合、
多層ＥＶＯＨフィルムに以下の「Δ」で表される受入可能なグレードを付ける。多層ＥＶ
ＯＨフィルムの電流の標準偏差が２０％を超える場合、多層ＥＶＯＨフィルムに以下の「
Ｘ」で示される低いグレードを付ける。
【0065】
以下の表３は、各多層ＥＶＯＨフィルムの外観、均一性、および電流安定性の評価結果
を示している。
を示している。
【表3】
【0066】
本明細書において提供されるすべての範囲は、所定の範囲内の各特定の範囲、および所
定の範囲間のサブ範囲の組み合わせを含むことが意図されている。また、本明細書に明確
に記載されるあらゆる範囲は、特に明示されていない限り、その終点を含む。したがって
、１～５の範囲には、特に１、２、３、４、および５と、２～５、３～５、２～３、２～
４、１～４などのサブ範囲が含まれる。
定の範囲間のサブ範囲の組み合わせを含むことが意図されている。また、本明細書に明確
に記載されるあらゆる範囲は、特に明示されていない限り、その終点を含む。したがって
、１～５の範囲には、特に１、２、３、４、および５と、２～５、３～５、２～３、２～
４、１～４などのサブ範囲が含まれる。
【0067】
本明細書で引用されるすべての刊行物および特許出願は、参照により本明細書に組み込
まれ、ありとあらゆる目的のために、各個々の刊行物または特許出願は、参照により本明
細書に組み込まれることが具体的かつ個別に示されている。本明細書と、参照により本明
細書に組み込まれている刊行物または特許出願との間に矛盾がある場合、本明細書が優先
される。
まれ、ありとあらゆる目的のために、各個々の刊行物または特許出願は、参照により本明
細書に組み込まれることが具体的かつ個別に示されている。本明細書と、参照により本明
細書に組み込まれている刊行物または特許出願との間に矛盾がある場合、本明細書が優先
される。
【0068】
本明細書で使用される「備える／含む」、「有する」および「含有する」という用語は
、オープンエンドで非限定的な意味を有する。「１つの」および「前記」という用語は、
文脈上明らかに単数形であることが示されない限り、複数形も同様に含むことを意図する
場合がある。「１つ以上」という用語は、「少なくとも１つ」を意味し、したがって、単
一の特徴または混合物／組み合わせを含むことができる。
、オープンエンドで非限定的な意味を有する。「１つの」および「前記」という用語は、
文脈上明らかに単数形であることが示されない限り、複数形も同様に含むことを意図する
場合がある。「１つ以上」という用語は、「少なくとも１つ」を意味し、したがって、単
一の特徴または混合物／組み合わせを含むことができる。
【0069】
明細書記載の実施例以外で、または特に明記されていない限り、成分の量および／また
は反応条件を表すすべての数値は、すべての場合に「約」という用語で修飾できる。これ
は、示された数値の±５％以内を意味する。本明細書で使用する場合、「基本的に含まな
い」または「実質的に含まない」という用語は、特定の特徴が約２％未満であることを意
味する。本明細書に明確に記載されているすべての要素または特徴は、特許請求の範囲か
ら否定的に除外することができる。
は反応条件を表すすべての数値は、すべての場合に「約」という用語で修飾できる。これ
は、示された数値の±５％以内を意味する。本明細書で使用する場合、「基本的に含まな
い」または「実質的に含まない」という用語は、特定の特徴が約２％未満であることを意
味する。本明細書に明確に記載されているすべての要素または特徴は、特許請求の範囲か
ら否定的に除外することができる。
【符号の説明】
【0070】
Ｌ 長周期
ｌａ 平均非晶層厚
ｌｃ 平均結晶層厚
ｌａ 平均非晶層厚
ｌｃ 平均結晶層厚
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
