特開 2022-129303 真空ポンプ及び該真空ポンプに用いられるカバー

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2022129303

(43)【公開日】2022-09-05

(54)【発明の名称】真空ポンプ及び該真空ポンプに用いられるカバー

(51)【国際特許分類】

   F04D 19/04 20060101AFI20220829BHJP

【ＦＩ】

F04D19/04 D

【審査請求】未請求

【請求項の数】9

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2021027977

(22)【出願日】2021-02-24

(71)【出願人】

【識別番号】508275939

【氏名又は名称】エドワーズ株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100169960

【弁理士】

【氏名又は名称】清水 貴光

(72)【発明者】

【氏名】樺澤 剛志

【テーマコード（参考）】

3H131

【Ｆターム（参考）】

3H131AA02

3H131AA07

3H131BA03

3H131CA01

3H131CA04

3H131CA34

(57)【要約】

【課題】プロセスガスに起因するパーティクル等の異物が半導体ウエハの製造工程等に進入するのを抑制することができる真空ポンプを提供する。
【解決手段】吸気口１０１を有するケーシング１２７と、吸気口１０１に向けて開口する凹部２０１を有し、凹部２０１内に配置された緊締用ボルト２０５でロータ軸１１３に締結された回転体１０３と、を備え、回転体１０３の吸気口１０１に対向する上側端面１０３ａに外周部２０２ｂが接触し、かつ、吸気口１０１側に向けて凸状に形成された、凹部２０１を覆うカバー２０２を備える。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

吸気口を有するケーシングと、前記吸気口に向けて開口する凹部を有し、前記凹部内に配置されたボルトでロータ軸に締結された回転体と、を備えた真空ポンプであって、
前記回転体の前記吸気口に対向する端面に外周部が接触し、前記吸気口側に向けて凸状に形成され、前記凹部を覆うカバーを備えている、ことを特徴とする真空ポンプ。

【請求項2】

前記カバーは、前記外周部が前記端面と面状に接触可能な接触面積増加構造を有する、請求項１に記載の真空ポンプ。

【請求項3】

前記端面は、前記外周部を受けて前記カバーの拡開を規制する段差部を備えている、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の真空ポンプ。

【請求項4】

前記外周部の前記端面に対向する対向面は、前記端面に向けて凸状に湾曲して形成されている、ことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の真空ポンプ。

【請求項5】

前記カバーを挟持して前記カバーの拡開を規制する拘束部をさらに備えている、ことを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の真空ポンプ。

【請求項6】

前記カバーは、前記カバーの拡開を抑制するように剛性を増加させる剛性増加構造を備えている、ことを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の真空ポンプ。

【請求項7】

前記カバーは、耐腐食性及び防錆性を有している、ことを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の真空ポンプ。

【請求項8】

前記カバーは、表面に耐腐食性及び防錆性のコーティング処理が施されている、ことを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の真空ポンプ。

【請求項9】

吸気口を有するケーシングと、前記吸気口に向けて開口する凹部を有し、前記凹部内に配置されたボルトでロータ軸に締結された回転体と、を備えた真空ポンプに用いられるカバーであって、
前記回転体の前記吸気口に対向する端面に外周部が接触し、前記吸気口側に向けて凸状に形成され、前記凹部を覆うことを特徴とするカバー。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、低真空から超高真空に亘る圧力範囲で利用可能な真空ポンプ及び該真空ポンプに用いられるカバーに関するもので、特に真空ポンプ内に残留するパーティクルや発錆等に起因する異物等の発生を抑制することができる真空ポンプ及び該真空ポンプに用いられるカバーに関するものである。

【背景技術】

【0002】

従来、メモリや集積回路等の半導体を製造する際、空気中の塵等による影響を避けるために、高真空状態のチャンバ内で高純度の半導体基板（ウエハ）にドーピングやエッチングを行う必要がある。また、ここで使用したプロセスガスは、例えばターボ分子ポンプとネジ溝ポンプとを組み合わせた複合ポンプ等の真空ポンプによって排気している。

【0003】

このような真空ポンプとして、例えば、円筒状のケーシングと、ケーシング内に入れ子で固定されると共に、ネジ溝部が配設された円筒状のステータと、ステータ内で高速回転可能に支持されたロータ軸にボルトで締結された回転体と、を備えたものが知られている。プロセスガスは、ロータの回転翼によって下向きの運動量が与えられることにより、ネジ溝ポンプの上流に移送される。次いで、プロセスガスは、ネジ溝ポンプで圧縮された後に、外部に排気される。

【0004】

半導体を製造するチャンバでは、耐食性のプロセスガスを半導体ウエハに作用させる工程が数多くあるため、真空ポンプでチャンバ内のプロセスガスを排出する際に、プロセスガスがロータ軸の先端部や回転体とロータ軸とを締結するボルトの表面に腐食や錆びが発生し、または、プロセスガス中の成分の物理化学的変化により、パーティクル（微粒子、ダスト等）を発生させることがある。

【0005】

そして、チャンバ内の減圧と昇圧を繰り返すうちに、ボルト表面の錆やパーティクル等の異物を含むプロセスガス等がチャンバ内に逆流し、異物が半導体ウエハに付着して、半導体ウエハの加工品質を低下させる虞があった。そのような、異物を含むプロセスガス等がチャンバ内に逆流することを抑制するため、特許文献１には、ロータの凹部に嵌入されて、ロータ軸やボルトの締結部を覆うように配置されたカバーを備えた真空ポンプが開示されている。

【0006】

しかしながら、特許文献１に開示された真空ポンプでは、真空ポンプを組み立てる上で、部材の寸法誤差を吸収するために確保されたカバーと回転体との僅かの隙間をプロセスガスが通過可能なことにより、ボルト表面に生じた錆や凹部内に残留したパーティクルがチャンバ内に逆流することがあった。

【0007】

そこで、特許文献２には、例えば図１２に示すように、回転体１と可撓性カバー２との僅かの隙間からプロセスガスが凹部３に通過することがないように、回転体１の吸気口に対向する端面１ａに外周部が支持されると共に、回転体１の凹部３内に中央部２ａが弾性変形により陥入して、凹部３を覆うようにした可撓性カバー２を備えた真空ポンプが開示されている。この構成では、可撓性カバー２が、回転体１の凹部３を覆うことにより、回転体１を回転軸４に締結するボルト５がプロセスガスに曝されなくなり、ボルト５の腐食や発錆が抑制されるため、チャンバ内への異物の逆流を抑制することができる。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0008】

【特許文献1】特許第６１９０５８０号公報

【特許文献2】特許第６６４４８１３号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0009】

しかしながら、特許文献２に記載の発明は、可撓性カバー２は、回転体１の凹部３内に中央部２ａが弾性変形により陥入して凹部３を覆うようにして設けているので、凹部３内に陥入した中央部２ａとボルト５との間である部分６ｂ等にパーティクルが残留してしまう虞があった。また、中央部２ａを凹部３に嵌入させる変形に対して、適切な設計をしていないと、回転体１の凹部３を覆っている可撓性カバー２の外周部２ｂがまくれて、回転体１の端面１ａから浮き上がり、その浮き上がった部分６ａと回転体１の端面１ａとの間にパーティクルが残留してしまう虞があった、そして、残留したパーティクルがチャンバ内に逆流することがあるという問題点があった。

【0010】

そこで、プロセスガスに起因するパーティクル等の異物が半導体ウエハの製造工程等に進入するのを抑制するために解決すべき技術的課題が生じてくるのであり、本発明は、この課題を解決することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0011】

本発明は上記目的を達成するために提案されたものであり、請求項１に記載の発明は、吸気口を有するケーシングと、前記吸気口に向けて開口する凹部を有し、前記凹部内に配置されたボルトでロータ軸に締結された回転体と、を備えた真空ポンプであって、前記回転体の前記吸気口に対向する端面に外周部が接触し、前記吸気口側に向けて凸状に形成され、前記凹部を覆うカバーを備えている、真空ポンプを提供する。

【0012】

この構成によれば、吸気口に向けて開口する回転体の凹部を、吸気側に向けて凸状をしたカバーで覆い、かつ、カバーの外周部を回転体の端面に接触させて取り付けられる。したがって、カバーの取付時に、カバーが回転体の端面に向けて押し付けられると、凸状をしたカバーは凸状を保持したまま、そのカバーの外周部が回転体の端面に強く押し付けられて、カバーの外周部が回転体の端面と平行になり、回転体の端面と密に当接した状態で配置される。これにより、カバーの中央部並びにカバーの外周部と回転体の端面との間に残留するパーティクル等の異物をなくすことができる。この結果、真空ポンプ内からチャンバ側に逆流するパーティクルがなくなる。

【0013】

請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の構成において、前記カバーは、前記外周部が前記端面と面状に接触可能な接触面積増加構造を有する、真空ポンプを提供する。

【0014】

この構成によれば、カバーの取付時に、ボルトの締結力でカバーが回転体に向けて強く押し付けられると、そのボルトの締結力に比例してカバーの外周部も回転体の端面に更に強く押し付けられる。これにより、カバーの外周部が回転体の端面と平行になる接触面積が増加し、カバーの外周部と回転体の端面との間が更に密に当接した状態で配置される。

【0015】

請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載の構成において、前記端面は、前記外周部を受けて前記カバーの拡開を規制する段差部を備えている、真空ポンプを提供する。

【0016】

この構成によれば、カバーの取付時に、カバーが回転体に向けて強く押し付けられて、カバーの外周部が外側に向かって拡開するとき、カバーの外周部が段差部とぶつかり、その段差部により外周部が外側に規定以上に拡がるのを抑える。また、回転体の端面に対するカバーの位置ずれ等も防げる。これにより、カバーの外周部が回転体の端面と離れる方向にカール等をすること、及び、カバーの回転体の端面に対する位置ずれ等を防ぐことができ、カバーの外周部と回転体の端面とを更に密に当接させることができる。

【0017】

請求項４に記載の発明は、請求項１から３のいずれか１項に記載の構成において、前記外周部の前記端面に対向する対向面は、前記端面に向けて凸状に湾曲して形成されている、真空ポンプを提供する。

【0018】

この構成によれば、カバーの取付時に、カバーが回転体に向けて強く押し付けられて、カバーの外周部が回転体の端面上を滑りながら外側に向かって拡開するとき、外周部の凸状に湾曲している部分が回転体の端面上を線接触状態で滑りながら移動し、回転体の端面上に傷を付けるのを防ぐ。

【0019】

請求項５に記載の発明は、請求項１から４のいずれか１項に記載の構成において、前記カバーを挟持して前記カバーの拡開を規制する拘束部をさらに備えている、記載の真空ポンプを提供する。

【0020】

この構成によれば、カバーの剛性が低いような場合に、拘束部で、カバーの所定の凸形状を保持したまま、カバー全体の広がりを規制することが可能になる。これにより、カバーの所定の形状を維持しながら、回転体の端面にカバーの外周部を押し付けることができる。

【0021】

請求項６に記載の発明は、請求項１から５のいずれか１項に記載の構成において、前記カバーは、前記カバーの拡開を抑制するように剛性を増加させる剛性増加構造を備えている、真空ポンプを提供する。

【0022】

この構成によれば、剛性増加構造により、カバーにおける柔軟性と剛性の両面を満足させて、カバーの所定の凸形状を保持したまま、カバー全体の広がり持たせることが可能になる。これにより、カバーの所定の形状を維持しながら、回転体の端面にカバーの外周部を押し付けることができる。

【0023】

請求項７に記載の発明は、請求項１から６のいずれか１項に記載の構成において、前記カバーは、耐腐食性及び防錆性がある、真空ポンプを提供する。

【0024】

この構成によれば、カバー自体は、耐腐食性及び防錆性を有するので、排気されるプロセスガスによるカバーの腐食及び発錆が抑制される。

【0025】

請求項８に記載の発明は、請求項１から７のいずれか１項に記載の構成において、前記カバーは、表面に耐腐食性及び防錆性のコーティング処理が施されている、真空ポンプを提供する。

【0026】

この構成によれば、カバーの表面には、耐腐食性及び防錆性のコーティング処理が施されているので、排気されるプロセスガスによるカバー表面の腐食及び発錆を効果的に防止することができる。

【0027】

請求項９に記載の発明は、吸気口を有するケーシングと、前記吸気口に向けて開口する凹部を有し、前記凹部内に配置されたボルトでロータ軸に締結された回転体と、を備えた真空ポンプに用いられるカバーであって、前記回転体の前記吸気口に対向する端面に外周部が接触し、前記吸気口側に向けて凸状に形成され、前記凹部を覆う、カバーを提供する。

【0028】

この構成によれば、真空ポンプにおける回転体の凹部周辺の端面を密に覆うことができるので、プロセスガスに起因するパーティクル等の回転体の凹部等に残留するのをなくして、例えば排気されるプロセスガスによる真空ポンプの腐食及び発錆を効果的に防止することができる。

【発明の効果】

【0029】

本発明によれば、吸気口に向けて開口する回転体の凹部を、吸気側に向けて凸状をしたカバーで覆い、かつ、カバーの外周部が回転体の端面と平行となるようにして、カバーの外周部を回転体の端面に接触させて取り付けるので、カバーの取付時に、カバーの外周部と回転体の端面とがより密に当接した状態で配置されて、回転体の凹部をカバーで塞ぐことができる。これにより、カバーの中央部並びにカバーの外周部と回転体の端面との間に残留するパーティクル等の異物をなくすことができるとともに、ボルトの腐食や発錆が抑制されるため、真空ポンプ内からチャンバ側に逆流する異物を無くすことができる。

【図面の簡単な説明】

【0030】

【図1】本発明の実施の形態に係る真空ポンプの実施例として示すターボ分子ポンプの縦断面図である。

【図2】同上ターボ分子ポンプにおけるアンプ回路の一例を示す図である。

【図3】同上ターボ分子ポンプにおけるアンプ回路で検出した電流指令値が検出値より大きい場合の一制御例を示すタイムチャートである。

【図4】同上ターボ分子ポンプにおけるアンプ回路で検出した電流指令値が検出値より小さい場合の一制御例を示すタイムチャートである。

【図5】図１に示すターボ分子ポンプのカバー周辺構造を示す一部拡大図で、（ａ）は平面図、（ｂ）は同図（ａ）のＡ－Ａ線概略断面図である。

【図6】図５に示したカバー周辺構造の分解側面図である。

【図7】図５に示したカバー単体を示し、（ａ）はそのカバーの平面図、（ｂ）は（ａ）のＢ－Ｂ線概略断面図、（ｃ）は（ｂ）の部分拡大図である。

【図8】図５に示したカバー単体の第１の変形例を示し、（ａ）はそのカバーの平面図、（ｂ）は（ａ）のＣ－Ｃ線概略断面図、（ｃ）は（ｂ）の部分拡大図、（ｄ）は第１の変形例を更に変形した例を説明する（ｃ）に相当する部分の拡大図である。

【図9】図５に示したカバー単体の第２の変形例を示し、（ａ）はそのカバーの平面図、（ｂ）は（ａ）のＤ－Ｄ線概略断面図、（ｃ）は（ｂ）の部分拡大図である。

【図10】図５に示したカバー単体の第３の変形例を示し、（ａ）はそのカバーの平面図、（ｂ）は（ａ）のＥ－Ｅ線概略断面図、（ｃ）は（ｂ）の部分拡大図である。

【図11】図１に示すターボ分子ポンプのカバー周辺構造の一変形例を示す一部拡大図で、（ａ）図５（ａ）のＡ－Ａ線に相当する部分の概略断面図、（ｂ）は同図（ａ）の部分を分解して示した分解断面図である。

【図12】従来の真空ポンプの問題点を説明する断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0031】

本発明は、プロセスガスに起因するパーティクル等の異物が半導体ウエハの製造工程等に進入するのを抑制することができる真空ポンプを提供するという目的を達成するために、吸気口を有するケーシングと、前記吸気口に向けて開口する凹部を有し、前記凹部内に配置されたボルトでロータ軸に締結された回転体と、を備えた真空ポンプであって、前記回転体の前記吸気口に対向する端面に外周部が接触し、前記吸気口側に向けて凸状に形成され、前記凹部を覆うカバーを備える、構成として実現した。

【実施例0032】

以下、本発明の実施形態に係る一実施例を添付図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下の実施例において、構成要素の数、数値、量、範囲等に言及する場合、特に明示した場合及び原理的に明らかに特定の数に限定される場合を除き、その特定の数に限定されるものではなく、特定の数以上でも以下でも構わない。

【0033】

また、構成要素等の形状、位置関係に言及するときは、特に明示した場合及び原理的に明らかにそうでないと考えられる場合等を除き、実質的にその形状等に近似又は類似するもの等を含む。

【0034】

また、図面は、特徴を分かり易くするために特徴的な部分を拡大する等して誇張する場合があり、構成要素の寸法比率等が実際と同じであるとは限らない。また、断面図では、構成要素の断面構造を分かり易くするために、一部の構成要素のハッチングを省略することがある。

【0035】

また、以下の説明において、上下や左右等の方向を示す表現は、絶対的なものではなく、本発明の真空ポンプの各部が描かれている姿勢である場合に適切であるが、その姿勢が変化した場合には姿勢の変化に応じて変更して解釈されるべきものである。また、実施例の説明の全体を通じて同じ要素には同じ符号を付している。

【0036】

このターボ分子ポンプ１００の縦断面図を図１に示す。図１において、ターボ分子ポンプ１００は、円筒状の外筒１２７の上端に吸気口１０１が形成されている。そして、外筒１２７の内方には、ガスを吸引排気するためのタービンブレードである複数の回転翼１０２（１０２ａ、１０２ｂ、１０２ｃ・・・）を周部に放射状かつ多段に形成した回転体１０３が備えられている。この回転体１０３の中心にはロータ軸１１３が取り付けられており、このロータ軸１１３は、例えば５軸制御の磁気軸受により空中に浮上支持かつ位置制御されている。回転体１０３は、一般的に、アルミニウム又はアルミニウム合金などの金属によって構成されている。

【0037】

上側径方向電磁石１０４は、４個の電磁石がＸ軸とＹ軸とに対をなして配置されている。この上側径方向電磁石１０４に近接して、かつ上側径方向電磁石１０４のそれぞれに対応して４個の上側径方向センサ１０７が備えられている。上側径方向センサ１０７は、例えば伝導巻線を有するインダクタンスセンサや渦電流センサなどが用いられ、ロータ軸１１３の位置に応じて変化するこの伝導巻線のインダクタンスの変化に基づいてロータ軸１１３の位置を検出する。この上側径方向センサ１０７はロータ軸１１３、すなわちそれに固定された回転体１０３の径方向変位を検出し、制御装置２００に送るように構成されている。

【0038】

この制御装置２００においては、例えばＰＩＤ調節機能を有する補償回路が、上側径方向センサ１０７によって検出された位置信号に基づいて、上側径方向電磁石１０４の励磁制御指令信号を生成し、図２に示すアンプ回路１５０（後述する）が、この励磁制御指令信号に基づいて、上側径方向電磁石１０４を励磁制御することで、ロータ軸１１３の上側の径方向位置が調整される。

【0039】

そして、このロータ軸１１３は、高透磁率材（鉄、ステンレスなど）などにより形成され、上側径方向電磁石１０４の磁力により吸引されるようになっている。かかる調整は、Ｘ軸方向とＹ軸方向とにそれぞれ独立して行われる。また、下側径方向電磁石１０５及び下側径方向センサ１０８が、上側径方向電磁石１０４及び上側径方向センサ１０７と同様に配置され、ロータ軸１１３の下側の径方向位置を上側の径方向位置と同様に調整している。

【0040】

さらに、軸方向電磁石１０６Ａ、１０６Ｂが、ロータ軸１１３の下部に備えた円板状の金属ディスク１１１を上下に挟んで配置されている。金属ディスク１１１は、鉄などの高透磁率材で構成されている。ロータ軸１１３の軸方向変位を検出するために軸方向センサ１０９が備えられ、その軸方向位置信号が制御装置２００に送られるように構成されている。

【0041】

そして、制御装置２００において、例えばＰＩＤ調節機能を有する補償回路が、軸方向センサ１０９によって検出された軸方向位置信号に基づいて、軸方向電磁石１０６Ａと軸方向電磁石１０６Ｂのそれぞれの励磁制御指令信号を生成し、アンプ回路１５０が、これらの励磁制御指令信号に基づいて、軸方向電磁石１０６Ａと軸方向電磁石１０６Ｂをそれぞれ励磁制御することで、軸方向電磁石１０６Ａが磁力により金属ディスク１１１を上方に吸引し、軸方向電磁石１０６Ｂが金属ディスク１１１を下方に吸引し、ロータ軸１１３の軸方向位置が調整される。

【0042】

このように、制御装置２００は、この軸方向電磁石１０６Ａ、１０６Ｂが金属ディスク１１１に及ぼす磁力を適当に調節し、ロータ軸１１３を軸方向に磁気浮上させ、空間に非接触で保持するようになっている。なお、これら上側径方向電磁石１０４、下側径方向電磁石１０５及び軸方向電磁石１０６Ａ、１０６Ｂを励磁制御するアンプ回路１５０については、後述する。

【0043】

一方、モータ１２１は、ロータ軸１１３を取り囲むように周状に配置された複数の磁極を備えている。各磁極は、ロータ軸１１３との間に作用する電磁力を介してロータ軸１１３を回転駆動するように、制御装置２００によって制御されている。また、モータ１２１には図示しない例えばホール素子、レゾルバ、エンコーダなどの回転速度センサが組み込まれており、この回転速度センサの検出信号によりロータ軸１１３の回転速度が検出されるようになっている。

【0044】

さらに、例えば下側径方向センサ１０８近傍に、図示しない位相センサが取り付けてあり、ロータ軸１１３の回転の位相を検出するようになっている。制御装置２００では、この位相センサと回転速度センサの検出信号を共に用いて磁極の位置を検出するようになっている。

【0045】

回転翼１０２（１０２ａ、１０２ｂ、１０２ｃ・・・）とわずかの空隙を隔てて複数枚の固定翼１２３（１２３ａ、１２３ｂ、１２３ｃ・・・）が配設されている。回転翼１０２（１０２ａ、１０２ｂ、１０２ｃ・・・）は、それぞれ排気ガスの分子を衝突により下方向に移送するため、ロータ軸１１３の軸線に垂直な平面から所定の角度だけ傾斜して形成されている。固定翼１２３（１２３ａ、１２３ｂ、１２３ｃ・・・）は、例えばアルミニウム、鉄、ステンレス、銅などの金属、又はこれらの金属を成分として含む合金などの金属によって構成されている。

【0046】

また、固定翼１２３も、同様にロータ軸１１３の軸線に垂直な平面から所定の角度だけ傾斜して形成され、かつ外筒１２７の内方に向けて回転翼１０２の段と互い違いに配設されている。そして、固定翼１２３の外周端は、複数の段積みされた固定翼スペーサ１２５（１２５ａ、１２５ｂ、１２５ｃ・・・）の間に嵌挿された状態で支持されている。

【0047】

固定翼スペーサ１２５はリング状の部材であり、例えばアルミニウム、鉄、ステンレス、銅などの金属、又はこれらの金属を成分として含む合金などの金属によって構成されている。固定翼スペーサ１２５の外周には、わずかの空隙を隔てて外筒１２７が固定されている。外筒１２７の底部にはベース部１２９が配設されている。ベース部１２９には排気口１３３が形成され、外部に連通されている。チャンバ（真空チャンバ）側から吸気口１０１に入ってベース部１２９に移送されてきた排気ガスは、排気口１３３へと送られる。

【0048】

さらに、ターボ分子ポンプ１００の用途によって、固定翼スペーサ１２５の下部とベース部１２９の間には、ネジ付スペーサ１３１が配設される。ネジ付スペーサ１３１は、アルミニウム、銅、ステンレス、鉄、又はこれらの金属を成分とする合金などの金属によって構成された円筒状の部材であり、その内周面に螺旋状のネジ溝１３１ａが複数条刻設されている。ネジ溝１３１ａの螺旋の方向は、回転体１０３の回転方向に排気ガスの分子が移動したときに、この分子が排気口１３３の方へ移送される方向である。回転体１０３の回転翼１０２（１０２ａ、１０２ｂ、１０２ｃ・・・）に続く最下部には円筒部１０２ｄが垂下されている。この円筒部１０２ｄの外周面は、円筒状で、かつネジ付スペーサ１３１の内周面に向かって張り出されており、このネジ付スペーサ１３１の内周面と所定の隙間を隔てて近接されている。回転翼１０２および固定翼１２３によってネジ溝１３１ａに移送されてきた排気ガスは、ネジ溝１３１ａに案内されつつベース部１２９へと送られる。

【0049】

ベース部１２９は、ターボ分子ポンプ１００の基底部を構成する円板状の部材であり、一般には鉄、アルミニウム、ステンレスなどの金属によって構成されている。ベース部１２９はターボ分子ポンプ１００を物理的に保持すると共に、熱の伝導路の機能も兼ね備えているので、鉄、アルミニウムや銅などの剛性があり、熱伝導率も高い金属が使用されるのが望ましい。

【0050】

かかる構成において、回転翼１０２がロータ軸１１３と共にモータ１２１により回転駆動されると、回転翼１０２と固定翼１２３の作用により、吸気口１０１を通じてチャンバから排気ガスが吸気される。回転翼１０２の回転速度は通常２００００ｒｐｍ～９００００ｒｐｍであり、回転翼１０２の先端での周速度は２００ｍ／ｓ～４００ｍ／ｓに達する。吸気口１０１から吸気された排気ガスは、回転翼１０２と固定翼１２３の間を通り、ベース部１２９へ移送される。このとき、排気ガスが回転翼１０２に接触する際に生ずる摩擦熱や、モータ１２１で発生した熱の伝導などにより、回転翼１０２の温度は上昇するが、この熱は、輻射又は排気ガスの気体分子などによる伝導により固定翼１２３側に伝達される。

【0051】

固定翼スペーサ１２５は、外周部で互いに接合しており、固定翼１２３が回転翼１０２から受け取った熱や排気ガスが固定翼１２３に接触する際に生ずる摩擦熱などを外部へと伝達する。

【0052】

なお、上記では、ネジ付スペーサ１３１は回転体１０３の円筒部１０２ｄの外周に配設し、ネジ付スペーサ１３１の内周面にネジ溝１３１ａが刻設されているとして説明した。しかしながら、これとは逆に円筒部１０２ｄの外周面にネジ溝が刻設され、その周囲に円筒状の内周面を有するスペーサが配置される場合もある。

【0053】

また、ターボ分子ポンプ１００の用途によっては、吸気口１０１から吸引されたガスが上側径方向電磁石１０４、上側径方向センサ１０７、モータ１２１、下側径方向電磁石１０５、下側径方向センサ１０８、軸方向電磁石１０６Ａ、１０６Ｂ、軸方向センサ１０９などで構成される電装部に侵入することのないよう、電装部は周囲をステータコラム１２２で覆われ、このステータコラム１２２内はパージガスにて所定圧に保たれる場合もある。

【0054】

この場合には、ベース部１２９には図示しない配管が配設され、この配管を通じてパージガスが導入される。導入されたパージガスは、保護ベアリング１２０とロータ軸１１３間、モータ１２１のロータとステータ間、ステータコラム１２２と回転翼１０２の内周側円筒部の間の隙間を通じて排気口１３３へ送出される。

【0055】

ここに、ターボ分子ポンプ１００は、機種の特定と、個々に調整された固有のパラメータ（例えば、機種に対応する諸特性）に基づいた制御を要する。この制御パラメータを格納するために、上記ターボ分子ポンプ１００は、その本体内に電子回路部１４１を備えている。電子回路部１４１は、ＥＥＰ－ＲＯＭ等の半導体メモリ及びそのアクセスのための半導体素子等の電子部品、それらの実装用の基板１４３等から構成される。この電子回路部１４１は、ターボ分子ポンプ１００の下部を構成するベース部１２９の例えば中央付近の図示しない回転速度センサの下部に収容され、気密性の底蓋１４５によって閉じられている。

【0056】

ところで、半導体の製造工程では、チャンバに導入されるプロセスガスの中には、その圧力が所定値よりも高くなり、或いは、その温度が所定値よりも低くなると、固体となる性質を有するものがある。ターボ分子ポンプ１００内部では、排気ガスの圧力は、吸気口１０１で最も低く排気口１３３で最も高い。プロセスガスが吸気口１０１から排気口１３３へ移送される途中で、その圧力が所定値よりも高くなったり、その温度が所定値よりも低くなったりすると、プロセスガスは、固体状となり、ターボ分子ポンプ１００内部に付着して堆積する。

【0057】

例えば、Ａｌエッチング装置にプロセスガスとしてＳｉＣｌ４が使用された場合、低真空（７６０［ｔｏｒｒ］～１０－２かつ、低温（約２０［℃］）のとき、固体生成物（例えばＡｌＣｌ３）が析出し、ターボ分子ポンプ１００内部に付着堆積することが蒸気圧曲線からわかる。これにより、ターボ分子ポンプ１００内部にプロセスガスの析出物が堆積すると、この堆積物がポンプ流路を狭め、ターボ分子ポンプ１００の性能を低下させる原因となる。そして、前述した生成物は、排気口１３３付近やネジ付スペーサ１３１付近の圧力が高い部分で凝固、付着し易い状況にあった。

【0058】

そのため、この問題を解決するために、従来はベース部１２９等の外周に図示しないヒータや環状の水冷管１４９を巻着させ、かつ例えばベース部１２９に図示しない温度センサ（例えばサーミスタ）を埋め込み、この温度センサの信号に基づいてベース部１２９の温度を一定の高い温度（設定温度）に保つようにヒータの加熱や水冷管１４９による冷却の制御（以下ＴＭＳという。ＴＭＳ；Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ Ｍａｎａｇｅｍｅｎｔ Ｓｙｓｔｅｍ）が行われている。

【0059】

次に、このように構成されるターボ分子ポンプ１００に関して、その上側径方向電磁石１０４、下側径方向電磁石１０５及び軸方向電磁石１０６Ａ、１０６Ｂを励磁制御するアンプ回路１５０について説明する。このアンプ回路１５０の回路図を図２に示す。

【0060】

図２において、上側径方向電磁石１０４等を構成する電磁石巻線１５１は、その一端がトランジスタ１６１を介して電源１７１の正極１７１ａに接続されており、また、その他端が電流検出回路１８１及びトランジスタ１６２を介して電源１７１の負極１７１ｂに接続されている。そして、トランジスタ１６１、１６２は、いわゆるパワーＭＯＳＦＥＴとなっており、そのソース－ドレイン間にダイオードが接続された構造を有している。

【0061】

このとき、トランジスタ１６１は、そのダイオードのカソード端子１６１ａが正極１７１ａに接続されるとともに、アノード端子１６１ｂが電磁石巻線１５１の一端と接続されるようになっている。また、トランジスタ１６２は、そのダイオードのカソード端子１６２ａが電流検出回路１８１に接続されるとともに、アノード端子１６２ｂが負極１７１ｂと接続されるようになっている。

【0062】

一方、電流回生用のダイオード１６５は、そのカソード端子１６５ａが電磁石巻線１５１の一端に接続されるとともに、そのアノード端子１６５ｂが負極１７１ｂに接続されるようになっている。また、これと同様に、電流回生用のダイオード１６６は、そのカソード端子１６６ａが正極１７１ａに接続されるとともに、そのアノード端子１６６ｂが電流検出回路１８１を介して電磁石巻線１５１の他端に接続されるようになっている。そして、電流検出回路１８１は、例えばホールセンサ式電流センサや電気抵抗素子で構成されている。

【0063】

以上のように構成されるアンプ回路１５０は、一つの電磁石に対応されるものである。そのため、磁気軸受が５軸制御で、電磁石１０４、１０５、１０６Ａ、１０６Ｂが合計１０個ある場合には、電磁石のそれぞれについて同様のアンプ回路１５０が構成され、電源１７１に対して１０個のアンプ回路１５０が並列に接続されるようになっている。

【0064】

さらに、アンプ制御回路１９１は、例えば、制御装置２００の図示しないディジタル・シグナル・プロセッサ部（以下、ＤＳＰ部という）によって構成され、このアンプ制御回路１９１は、トランジスタ１６１、１６２のｏｎ／ｏｆｆを切り替えるようになっている。

【0065】

アンプ制御回路１９１は、電流検出回路１８１が検出した電流値（この電流値を反映した信号を電流検出信号１９１ｃという）と所定の電流指令値とを比較するようになっている。そして、この比較結果に基づき、ＰＷＭ制御による１周期である制御サイクルＴｓ内に発生させるパルス幅の大きさ（パルス幅時間Ｔｐ１、Ｔｐ２）を決めるようになっている。その結果、このパルス幅を有するゲート駆動信号１９１ａ、１９１ｂを、アンプ制御回路１９１からトランジスタ１６１、１６２のゲート端子に出力するようになっている。

【0066】

なお、回転体１０３の回転速度の加速運転中に共振点を通過する際や定速運転中に外乱が発生した際等に、高速かつ強い力での回転体１０３の位置制御をする必要がある。そのため、電磁石巻線１５１に流れる電流の急激な増加（あるいは減少）ができるように、電源１７１としては、例えば５０Ｖ程度の高電圧が使用されるようになっている。また、電源１７１の正極１７１ａと負極１７１ｂとの間には、電源１７１の安定化のために、通常コンデンサが接続されている（図示略）。

【0067】

かかる構成において、トランジスタ１６１、１６２の両方をｏｎにすると、電磁石巻線１５１に流れる電流（以下、電磁石電流ｉＬという）が増加し、両方をｏｆｆにすると、電磁石電流ｉＬが減少する。

【0068】

また、トランジスタ１６１、１６２の一方をｏｎにし他方をｏｆｆにすると、いわゆるフライホイール電流が保持される。そして、このようにアンプ回路１５０にフライホイール電流を流すことで、アンプ回路１５０におけるヒステリシス損を減少させ、回路全体としての消費電力を低く抑えることができる。また、このようにトランジスタ１６１、１６２を制御することにより、ターボ分子ポンプ１００に生じる高調波等の高周波ノイズを低減することができる。さらに、このフライホイール電流を電流検出回路１８１で測定することで電磁石巻線１５１を流れる電磁石電流ｉＬが検出可能となる。

【0069】

すなわち、検出した電流値が電流指令値より小さい場合には、図３に示すように制御サイクルＴｓ（例えば１００μｓ）中で１回だけ、パルス幅時間Ｔｐ１に相当する時間分だけトランジスタ１６１、１６２の両方をｏｎにする。そのため、この期間中の電磁石電流ｉＬは、正極１７１ａから負極１７１ｂへ、トランジスタ１６１、１６２を介して流し得る電流値ｉＬｍａｘ（図示せず）に向かって増加する。

【0070】

一方、検出した電流値が電流指令値より大きい場合には、図４に示すように制御サイクルＴｓ中で１回だけパルス幅時間Ｔｐ２に相当する時間分だけトランジスタ１６１、１６２の両方をｏｆｆにする。そのため、この期間中の電磁石電流ｉＬは、負極１７１ｂから正極１７１ａへ、ダイオード１６５、１６６を介して回生し得る電流値ｉＬｍｉｎ（図示せず）に向かって減少する。

【0071】

そして、いずれの場合にも、パルス幅時間Ｔｐ１、Ｔｐ２の経過後は、トランジスタ１６１、１６２のどちらか１個をｏｎにする。そのため、この期間中は、アンプ回路１５０にフライホイール電流が保持される。

【0072】

なお、本実施例に係る真空ポンプ、すなわちターボ分子ポンプ１００の構成では、回転体１０３の上側端面１０３ａには凹部２０１が形成されており、凹部２０１は可撓性カバー２０２により塞がれている。凹部２０１を可撓性カバー２０２で塞いでいる構造について、図５から図７の図面を加えて更に詳細に説明する。

【0073】

図５は、図１の要部拡大図、すなわちターボ分子ポンプ１００における可撓性カバー２０２の周辺構造を示す一部拡大図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は同図（ａ）のＡ－Ａ線概略断面図である。図６は、図５に示したカバー周辺構造の分解側面図である。図７は、図５に示した可撓性カバー２０２を示し、（ａ）は可撓性カバー２０２の平面図、（ｂ）は（ａ）のＢ－Ｂ線概略断面図、（ｃ）は（ｂ）の部分拡大図である。

【0074】

凹部２０１には、凹部２０１を覆う可撓性カバー２０２が、ステンレス製の締結用ボルト２０５を用いてロータ軸１１３に、座金２０３及びスリーブ２０４と共に一体に締結されている。

【0075】

可撓性カバー２０２は、薄い円板で円錐台状に形成されており、例えば、ステンレス製又はアルミ合金製であり、厚み１～３ｍｍ程度に形成されている。また、可撓性カバー２０２の外径は、回転体１０３の凹部２０１の内径より３～１０ｍｍ程度大きく設定され、中央部２０２ａは上方に向かって緩やか凸状をなす形に盛り上がり、中央部２０２ａから下る外周部２０２ｂは回転体１０３の上側端面１０３ａに接触している。また、中央部２０２ａの略中心には、締結用ボルト２０５が挿通される貫通孔２０６が形成されている。

【0076】

座金２０３は、締結用ボルト２０５と可撓性カバー２０２との間に介装されており、例えばステンレス製で、中央部には締結用ボルト２０５が取り付けられる貫通孔２０７が形成されている。

【0077】

スリーブ２０４は、可撓性カバー２０２とロータ軸１１３との間に配設される。スリーブ２０４は、略円筒状に形成されており、例えばステンレス製又はアルミ合金製である。スリーブ２０４は、中央部に締結用ボルト２０５が挿通される貫通孔２０８が形成されている。

【0078】

なお、可撓性カバー２０２、座金２０３、スリーブ２０４、締結用ボルト２０５には、耐腐食性及び耐錆性のコーティング処理が施されており、各部材の腐食及び発錆を抑制することができる。

【0079】

そして、締結用ボルト２０５は、図５の（ａ）及び（ｂ）に示すように、座金２０３の貫通孔２０７、可撓性カバー２０２の貫通孔２０６、スリーブ２０４の貫通孔２０８を順に通して、座金２０３、可撓性カバー２０２、スリーブ２０４を一体化される。また、この状態で、図１に示すように凹部２０１に挿入されてロータ軸１１３の上端に設けられたネジ穴１１３ａに取り付けられる。この場合、可撓性カバー２０２の外周部２０２ｂを回転体１０３の上側端面１０３ａに当接させて、可撓性カバー２０２で凹部２０１を覆って塞ぐと共に、上側端面１０３ａと外周部２０２ｂとの間が密になるまで、締結用ボルト２０５をロータ軸１１３に締め付け、座金２０３、スリーブ２０４と共に可撓性カバー２０２を回転体１０３に固定される。すなわち、可撓性カバー２０２は、吸気口１０１と対向する回転体１０３の上側端面１０３ａに外周部２０２ｂが接触し、かつ、凸状を形成する中央部２０２ａが吸気口１０１側を向いて取り付けられる。

【0080】

このようにして、本実施例に係るターボ分子ポンプ１００は、回転体１０３の凹部２０１を覆って塞ぐことにより、ロータ軸１１３や回転体１０３をロータ軸１１３に締結するボルト２０９がプロセスガスに曝されなくなり、ロータ軸１１３やボルト２０９の腐食や発錆を抑制することができる。

【0081】

また、可撓性カバー２０２の取付時に、可撓性カバー２０２が回転体１０３の上側端面１０３ａに向けて押し付けられると、凸状をした可撓性カバー２０２は凸状を保持したまま、可撓性カバー２０２の外周部２０２ｂの端が回転体１０３の上側端面１０３ａに強く押し付けられて、可撓性カバー２０２の外周部２０２ｂの端の部分が回転体１０３の上側端面１０３ａと平行な状態で接触される。すなわち、可撓性カバー２０２の外周部２０２ｂが回転体１０３の上側端面１０３ａに対して密に当接した状態で配置される。これにより、可撓性カバー２０２の外周部２０２ｂの端と回転体１０３の上側端面１０３ａとの間に残留するパーティクル等の異物をなくすことができる。この結果、ターボ分子ポンプ１００内からチャンバ側に逆流するパーティクルをなくすことができる。

【0082】

また、可撓性カバー２０２として、可撓性カバー２０２自体に柔軟性を持たせ、外周部２０２ｂの端が回転体１０３の上側端面１０３ａに強く押し付けられると、その可撓性カバー２０２の外周部２０２ｂの一部が撓み、回転体１０３の上側端面１０３ａに対して面状に接触して接触面積を増加させる構造、いわゆる可撓性カバー２０２自体に接触面積増加構造の作用を備えるようにした構成にしてもよい。この場合では、可撓性カバー２０２の取付時に、締結用ボルト２０５の締結力で可撓性カバー２０２が回転体１０３の上側端面１０３ａに向けて強く押し付けられると、締結用ボルト２０５の締結力に比例して撓み、その撓みに伴って外周部２０２ｂが上側端面１０３ａ上を滑りながら拡開し、可撓性カバー２０２の外周部２０２ｂが回転体１０３の上側端面１０３ａに更に強く押し付けられる。これにより、可撓性カバー２０２の中央部並びに可撓性カバー２０２の外周部２０２ｂと回転体１０３の上側端面１０３ａとの間における、互いに平行に当接する面積を増やしながら更に密に配置され、可撓性カバー２０２の外周部２０２ｂの端と回転体１０３の上側端面１０３ａとの間に残留するパーティクル等の異物を更になくすことができる。

【0083】

なお、可撓性カバー２０２の取付時に、締結用ボルト２０５の締結力で可撓性カバー２０２が回転体１０３の上側端面１０３ａに向けて強く押し付けられると、締結用ボルト２０５の締結力に比例して可撓性カバー２０２の外周部２０２ｂが回転体１０３の上側端面１０３ａと面状に接触可能となる接触面積増加手段を有する機械的な構造を備える可撓性カバー２０２としては、上記以外に、例えば図８及び図９のような構造がある。

【0084】

図８は、図５に示した可撓性カバー２０２の第１の変形例を示し、（ａ）はその可撓性カバー２０２の平面図、（ｂ）は（ａ）のＣ－Ｃ線概略断面図、（ｃ）は（ｂ）の部分拡大図である。図８に示す可撓性カバー２０２は、可撓性カバー２０２の取付時に、締結用ボルト２０５の締結力で可撓性カバー２０２が回転体１０３の上側端面１０３ａに向けて強く押し付けられると、締結用ボルト２０５の締結力に比例して外周部２０２ｂが上側端面１０３ａと面状に接触可能となる手段を有する機械的な接触面積増加構造を有するものである。

【0085】

ここでの可撓性カバー２０２も、薄い円板で円錐台状に形成されており、例えば、ステンレス製又はアルミ合金製であり、厚み１～３ｍｍ程度に形成され、更に耐腐食性及び耐錆性のコーティング処理が施されている。また、可撓性カバー２０２の外径は、回転体１０３の凹部２０１の内径より３～１０ｍｍ程度大きく設定され、中央部２０２ａは上方に向かって緩やか凸状をなす形に盛り上がり、中央部２０２ａから下る外周部２０２ｂは回転体１０３の上側端面１０３ａに接触している。さらに、中央部２０２ａの略中心には、締結用ボルト２０５が挿通される貫通孔２０６が形成されている。

【0086】

そして、図８に示す第１変形例の可撓性カバー２０２は、吸気口１０１と対向する回転体１０３の上側端面１０３ａに外周部２０２ｂが接触し、かつ、凸状を形成している中央部２０２ａが、吸気口１０１側を向いて取り付けられる構造である。また、外周部２０２ｂの外側には、外周部２０２ｂの外側を一周する形で、外周部２０２ｂから外側に向かって略水平に延びる環状をしたフランジ部２１０が一体に設けられている。

【0087】

図８に示す第１変形例の可撓性カバー２０２を用いた場合では、可撓性カバー２０２の取付時に、締結用ボルト２０５の締結力で、可撓性カバー２０２が回転体１０３の上側端面１０３ａに向けて強く押し付けられると、外周部２０２ｂの外側に設けられたフランジ部２１０が、締結用ボルト２０５の締結力に比例して上側端面１０３ａに面接触して押し付けられる。また更に押し付けられると、外周部２０２ｂとフランジ部２１０が撓んで上側端面１０３ａ上を滑りながら外側に拡開し、更に外周部２０２ｂの一部が撓んで上側端面１０３ａ上に面接触して、可撓性カバー２０２と回転体１０３の上側端面１０３ａとの間の面接触部分が増加して密なる接触が得られる。

【0088】

なお、可撓性カバー２０２の外周部２０２ｂが上側端面１０３ａの上を滑ることにより、回転体１０３の上側端面１０３ａに傷などの発生するのを防止するには、図８の（ｄ）に示すように、可撓性カバー２０２におけるフランジ部２１０の下面側に、断面が上側端面１０３ａに向かって凸状を呈する形状（凸状部２０２ｃ）を設けるように構成するとよい。

【0089】

また、締結用ボルト２０５の締結力で強く抑えられることにより、可撓性カバー２０２の外周部２０２ｂが所定量以上に拡開してしまうのを規制するには、可撓性カバー２０２が取り付けられる回転体１０３の上側端面１０３ａ上に、段差となる規制壁２１１を、可撓性カバー２０２の外側を一周囲むようにして設けると対応することができる。すなわち、外周部２０２ｂが所定量以上に外側へ拡がろうとしたときに、外周部２０２ｂが規制壁２１１にぶつかり、所定量以上に拡がるのを抑えることができる。また、規制壁２１１を設けると、上側端面１０３ａに対する可撓性カバー２０２の位置ずれを防ぐことが可能になる。

【0090】

更なる効果として、フランジ部２１０の底面と回転体１０３の上側端面１０３ａによる面接触にプラスして、フランジ部２１０の側面と規制壁２１１の側壁との接触で、密となる接触が得られ、面接触する面積部分を増加させることができる。

【0091】

図９は、図５に示した可撓性カバー２０２の第２の変形例を示し、（ａ）はその可撓性カバー２０２の平面図、（ｂ）は（ａ）のＤ－Ｄ線概略断面図、（ｃ）は（ｂ）の部分拡大図である。図９に示す可撓性カバー２０２は、可撓性カバー２０２の取付時に、可撓性カバー２０２が、締結用ボルト２０５の締結力で回転体１０３の上側端面１０３ａに向けて強く押し付けられると、締結用ボルト２０５の締結力に比例して外周部２０２ｂが撓んで上側端面１０３ａと面状に接触して接触面積を増加させる構造、すなわち機械的な接触面積増加構造としての内側フランジ部２１２を有するものである。

【0092】

更に詳述すると、図９に示す第２変形例の可撓性カバー２０２は、外周部２０２ｂの内側に、その外周部２０２ｂの内側を一周する形で、外周部２０２ｂから内側斜め下方に向かって拡がる環状をした内側フランジ部２１２を一体に設けたものである。ここでの可撓性カバー２０２も、薄い円板で円錐状に形成されており、例えば、ステンレス製又はアルミ合金製であり、厚み１～３ｍｍ程度に形成され、更に耐腐食性及び耐錆性のコーティング処理が施されている。また、可撓性カバー２０２の外径は、回転体１０３の凹部２０１の内径より３～１０ｍｍ程度大きく設定され、中央部２０２ａは上方に向かって緩やか凸状をなす形に盛り上がり、中央部２０２ａから下る外周部２０２ｂ及び内側フランジ部２１２は回転体１０３の上側端面１０３ａに接触可能になっている。さらに、中央部２０２ａの略中心には、締結用ボルト２０５が挿通される貫通孔２０６が形成されている。

【0093】

そして、第２の変形例の可撓性カバー２０２は、可撓性カバー２０２の取付時に、可撓性カバー２０２が、締結用ボルト２０５の締結力で回転体１０３の上側端面１０３ａに向けて強く押し付けられると、締結用ボルト２０５の締結力に比例して、まず内側フランジ部２１２が回転体１０３の上側端面１０３ａに押し付けられて、内側フランジ部２１２が回転体１０３の上側端面１０３ａに対して平行となり、上側端面１０３ａとの接触面積を増加させる。また、内側フランジ部２１２の略全体が上側端面１０３ａに接触し終わると、その後、外周部２０２ｂの一部が潰れて、上側端面１０３ａと平行になるようにして、可撓性カバー２０２に、上側端面１０３ａと接触可能となる機械的な接触面積増加構造を設けたものである。これにより、可撓性カバー２０２の内側フランジ部２１２及び外周部２０２ｂと回転体１０３の上側端面１０３ａとの間が、密に当接する面積を増やしながら配置され、可撓性カバー２０２の外周部２０２ｂの端と回転体１０３の上側端面１０３ａとの間に残留するパーティクル等の異物を更になくすことができる。

【0094】

図１０は、図５に示した可撓性カバー２０２の第３の変形例を示し、（ａ）はその可撓性カバー２０２の平面図、（ｂ）は（ａ）のＥ－ＥＤ線概略断面図、（ｃ）は（ｂ）の部分拡大図である。図１０に示す可撓性カバー２０２は、細長い棒状の、例えばステンレス製又はアルミ合金製の骨材２１３を複数本（本例では８本）、可撓性カバー２０２の内側に取り付けたものである。複数本の各骨材２１３は、凸状の頂点となる中央部２０２ａから外周部２０２ｂに向かって、また外周方向に略等間隔に配置されて放射状に設けられている。

【0095】

また、ここでの可撓性カバー２０２も、薄い円板で円錐台状に形成されており、例えば、ステンレス製又はアルミ合金製であり、厚み１～３ｍｍ程度に形成され、更に可撓性カバー２０２と骨材２１３にはそれぞれ耐腐食性及び耐錆性のコーティング処理が施されている。また、可撓性カバー２０２の外径は、回転体１０３の凹部２０１の内径より３～１０ｍｍ程度大きく設定され、中央部２０２ａは上方に向かって緩やか凸状をなす形に盛り上がり、中央部２０２ａから下る外周部２０２ｂは回転体１０３の上側端面１０３ａに接触している。さらに、中央部２０２ａの略中心には、締結用ボルト２０５が挿通される貫通孔２０６が形成されている。

【0096】

そして、図１０に示す第３の変形例の可撓性カバー２０２は、可撓性カバー２０２の取付時に、締結用ボルト２０５の締結力で可撓性カバー２０２が回転体１０３の上側端面１０３ａに向けて強く押し付けられると、締結用ボルト２０５の締結力に比例して、まず外周部２０２ｂが上側端面１０３ａに押し付けられて内側に撓み、その撓みにより接触面積を増加させる。次いで、可撓性カバー２０２と共に骨材２１３が内側に撓まされ、これに伴って可撓性カバー２０２の外周部２０２ｂが、回転体１０３の上側端面１０３ａと更に接触して、接触面積が増加されるようにした、機械的な接触面積増加構造を備えたものである。この場合では、可撓性カバー２０２の剛性が低いようなときに、骨材２１３の剛性を付加して、可撓性カバー２０２における柔軟性と骨材２１３の剛性の都を利用して、可撓性カバー２０２の外周部２０２ｂと回転体１０３の上側端面１０３ａとの間の当接する面積を増やすことができる。

【0097】

図１１は、図１に示すターボ分子ポンプ１００の可撓性カバー２０２の周辺構造の一変形例を示す一部拡大図で、（ａ）図５（ａ）のＡ－Ａ線に相当する部分の概略断面図、（ｂ）は同図（ａ）の部分を分解して示した分解断面図である。

【0098】

図１１に示す構造は、凹部２０１を覆う可撓性カバー２０２が、ステンレス製の締結用ボルト２０５を用いてロータ軸１１３に、第１の座金２０３ａと第２の座金２０３ｂ及びスリーブ２０４と共に、一体に締結されるようにしたものである。可撓性カバー２０２は、薄い円板で円錐台状に形成されており、例えば、ステンレス製又はアルミ合金製であり、厚み１～３ｍｍ程度に形成されている。また、可撓性カバー２０２の外径は、回転体１０３の凹部２０１の内径より３～１０ｍｍ程度大きく設定され、中央部２０２ａは上方に向かって緩やか凸状をなす形に盛り上がり、中央部２０２ａから下る外周部２０２ｂは回転体１０３の上側端面１０３ａに接触している。また、中央部２０２ａの略中心には、締結用ボルト２０５が挿通される貫通孔２０６が形成されている。

【0099】

このように厚みが薄い材料で緩やかな凸状に形成された可撓性カバー２０２では、可撓性カバー２０２の剛性が低いような場合う、締結用ボルト２０５で締め付けたときに、凸形状をしている中央部２０２ａが大きく潰れて、可撓性カバー２０２の形状が大きく破損する虞がある。そこで、この変形例では、可撓性カバー２０２を挟んで、その上下に第１の座金２０３ａと第２の座金２０３ｂを配置して、適切な凸形状を保持しながら締め付ける構造としたものである。

【0100】

第１の座金２０３ａは、締結用ボルト２０５と可撓性カバー２０２との間に介装されており、例えばステンレス製で、中央部には締結用ボルト２０５が取り付けられる貫通孔２０７が形成されている。また、可撓性カバー２０２と対向する下面２０３ａａは、可撓性カバー２０２における中央部２０２ａの上面形状に倣い、可撓性カバー２０２における中央部２０２ａと略対応した曲面形状で形成されており、可撓性カバー２０２を第２の座金２０３ｂと共に挟むときに、下面２０３ａａが可撓性カバー２０２の上面に、略密着して当接されるようになっている。

【0101】

第２の座金２０３ｂは、スリーブ２０４と可撓性カバー２０２との間に介装されており、例えばステンレス製で、中央部には締結用ボルト２０５が取り付けられる貫通孔２０７が形成されている。また、可撓性カバー２０２と対向する上面２０３ｂａは、可撓性カバー２０２における中央部２０２ａの下面（内面）形状に倣い、可撓性カバー２０２の中央部２０２ａと略対応した曲面形状で形成されており、可撓性カバー２０２を第１の座金２０３ａと共に挟むとき、上面２０３ｂａが可撓性カバー２０２の下面に、略密着して当接されるようになっている。

【0102】

なお、ここでの可撓性カバー２０２、第１の座金２０３ａ、第２の座金２０３ｂにも、耐腐食性及び耐錆性のコーティング処理が施されており、各部材の腐食及び発錆を抑制することができる。

【0103】

そして、締結用ボルト２０５は、図１１の（ａ）及び（ｂ）に示すように、第１の座金２０３ａの貫通孔２０７、可撓性カバー２０２の貫通孔２０６、第２の座金２０３ｂの貫通孔２０７、スリーブ２０４の貫通孔２０８を順に通して、第１の座金２０３ａ、可撓性カバー２０２、第２の座金２０３ｂ、スリーブ２０４を一体化する。ここでは、可撓性カバー２０２の上面は第１の座金２０３ａの下面２０３ａａと密着し、可撓性カバー２０２の下面（内面）は第２の座金２０３ｂの上面２０３ｂａに密着して一体化される。

【0104】

この状態で、締結用ボルト２０５は、図１に示すように凹部２０１に挿入されてロータ軸１１３の上端に設けられたネジ穴１１３ａに、第１の座金２０３ａ、可撓性カバー２０２、第２の座金２０３ｂ、スリーブ２０４と共に取り付けられる。この場合、可撓性カバー２０２の外周部２０２ｂを回転体１０３の上側端面１０３ａに当接させて、可撓性カバー２０２で凹部２０１を覆って塞ぐと共に、上側端面１０３ａと外周部２０２ｂとの間が密になるまで、締結用ボルト２０５をロータ軸１１３に締め付け、座金２０３、スリーブ２０４と共に可撓性カバー２０２を回転体１０３に固定される。すなわち、可撓性カバー２０２は、吸気口１０１と対向する回転体１０３の上側端面１０３ａに外周部２０２ｂが密に接触し、かつ、凸状を形成する中央部２０２ａが吸気口１０１側を向いて取り付けられる。

【0105】

そして、図１１に示す実施例の構造では、可撓性カバー２０２の上下の面を、可撓性カバー２０２における中央部２０２ａの形状に倣った第１の座金２０３ａの下面２０３ａａと第２の座金２０３ｂの上面２０３ｂａで密に挟んでいるので、可撓性カバー２０２が回転体１０３の上側端面１０３ａに向けて押し付けられても、凸状をした可撓性カバー２０２は、その凸形状を保持したまま、可撓性カバー２０２の外周部２０２ｂが回転体１０３の上側端面１０３ａに強く押し付けられ、可撓性カバー２０２の外周部２０２ｂの一部と回転体１０３の上側端面１０３ａとが互いに平行に当接した状態で密に配置される。これにより、可撓性カバー２０２の中央部並びに可撓性カバー２０２の外周部２０２ｂと回転体１０３の上側端面１０３ａとの間に残留するパーティクル等の異物をなくすことができ、真空ポンプ内からチャンバ側に逆流するパーティクルがなくなる。

【0106】

また、スリーブ２０４の上部に、第２の座金２０３ｂの上面２０３ｂａの構造を持たせてもよい。

【産業上の利用可能性】

【0107】

なお、本発明は、本発明の精神を逸脱しない限り種々の改変を成すことができ、そして、本発明が該改変されたものに及ぶことは当然である。

【符号の説明】

【0108】

１００ ：ターボ分子ポンプ
１０１ ：吸気口
１０２ ：回転翼
１０２ｄ ：円筒部
１０３ ：回転体
１０３ａ ：上側端面
１０４ ：上側径方向電磁石
１０５ ：下側径方向電磁石
１０６Ａ ：軸方向電磁石
１０６Ｂ ：軸方向電磁石
１０７ ：上側径方向センサ
１０８ ：下側径方向センサ
１０９ ：軸方向センサ
１１１ ：金属ディスク
１１３ ：ロータ軸
１１３ａ ：ネジ穴
１２０ ：保護ベアリング
１２１ ：モータ
１２２ ：ステータコラム
１２３ ：固定翼
１２５ ：固定翼スペーサ
１２７ ：外筒
１２９ ：ベース部
１３１ ：ネジ付スペーサ
１３１ａ ：ネジ溝
１３３ ：排気口
１４１ ：電子回路部
１４３ ：基板
１４５ ：底蓋
１４９ ：水冷管
１５０ ：アンプ回路
１５１ ：電磁石巻線
１６１ ：トランジスタ
１６１ａ ：カソード端子
１６１ｂ ：アノード端子
１６２ ：トランジスタ
１６２ａ ：カソード端子
１６２ｂ ：アノード端子
１６５ ：ダイオード
１６５ａ ：カソード端子
１６５ｂ ：アノード端子
１６６ ：ダイオード
１６６ａ ：カソード端子
１６６ｂ ：アノード端子
１７１ ：電源
１７１ａ ：正極
１７１ｂ ：負極
１８１ ：電流検出回路
１９１ ：アンプ制御回路
１９１ａ ：ゲート駆動信号
１９１ｂ ：ゲート駆動信号
１９１ｃ ：電流検出信号
２００ ：制御装置
２０１ ：凹部
２０２ ：可撓性カバー
２０２ａ ：中央部
２０２ａ ：中央部
２０２ｂ ：外周部
２０２ｃ ：凸状部
２０３ ：座金
２０３ａ ：第１の座金
２０３ａａ ：下面
２０３ｂ ：第２の座金
２０３ｂａ ：上面
２０４ ：スリーブ
２０５ ：締結用ボルト
２０６ ：貫通孔
２０７ ：貫通孔
２０８ ：貫通孔
２０９ ：ボルト
２１０ ：フランジ部
２１１ ：規制壁
２１２ ：内側フランジ部
２１３ ：骨材
Ｔｐ１ ：パルス幅時間
Ｔｐ２ ：パルス幅時間
Ｔｓ ：制御サイクル
ｉＬ ：電磁石電流
ｉＬｍａｘ ：電流値
ｉＬｍｉｎ ：電流値

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】